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JP4043077B2 - Magnetron sputtering device and magnet unit used therefor - Google Patents
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JP4043077B2
JP4043077B2 JP20510797A JP20510797A JP4043077B2 JP 4043077 B2 JP4043077 B2 JP 4043077B2 JP 20510797 A JP20510797 A JP 20510797A JP 20510797 A JP20510797 A JP 20510797A JP 4043077 B2 JP4043077 B2 JP 4043077B2
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hole
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敏行 末光
政秀 横山
賢治 丸山
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、真空中で薄膜を形成するマグネトロンスパッタ装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
ターゲットと対向して配置された基板の上に薄膜を形成するスパッタ装置では、膜厚のバラツキの精度向上、ターゲット材料の利用効率向上、ハイレート化などの目的から、マグネトロンスパッタ装置が多く用いられている。
【0003】
マグネトロンスパッタ装置は、図8に示すように構成されている。
スパッタ室31にはターゲット32と基板33とを対向して配置し、ターゲット32の背面側にマグネットユニット34を配置している。35はバッキングプレート、36は基板ホルダー、37はアースシールドである。
【0004】
このスパッタ室31には、希ガス導入バルブ38を介してアルゴンガス39が導入され、またスパッタ室31の雰囲気は真空排気バルブ40を介して高真空ポンプユニット41に接続されて排気されている。42は高電圧電源である。
【0005】
このようなマグネトロンスパッタ装置では、ターゲット32の裏面側に配置したマグネットユニット34により構成される磁界の影響により、電力印加時にターゲット32の表面上に高密度プラズマ領域43が形成される。
【0006】
このようにマグネットユニット34の磁界の作用を受けることによりターゲット表面上のプラズマ密度が高くでき、マグネットユニット34を使用しないスパッタ工法と比較して、スパッタレートが10〜30倍早いという特徴がある。
【0007】
また、所望していた磁場分布を得ようとマグネットユニット34におけるマグネット片の配置の形状が複雑になってきており、マグネット片の配置を決定しマグネットユニットを作成しても、所望していた磁場分布が得られないことも多い。
【0008】
この時、従来のようにマグネット片をマグネットホルダーに接着剤で接着した場合には修正するのが困難である。そこで、図9の(a)に示すように非磁性材のマグネットホルダー13と磁性材のヨーク11とを張り合わせ、マグネットホルダー13の孔14aにマグネット片15′を挿入し、マグネット片15′をヨーク11に吸着させると共に、隣接するマグネット片15′とマグネット片15′との磁気の反発力で孔14aの内周面に押し付けられて保持されている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
このようなマグネットユニット4において、マグネット片15′の配置を修正する必要が発生した場合には、図9の(b)に示すように孔14aから引き抜こうとするマグネット片15′に手持ちのマグネット20を合わせて引き抜くのであるが、磁力が強力になるほど、また、マグネット片15′の配置が密になるほど、取り外したいマグネットの周辺の他のマグネット片15′の磁力の影響を受けて、取り外したいマグネット片15′にマグネット20を合わせることが困難になって、マグネット片15′の配置の修正作業の作業性が悪い。
【0010】
本発明はマグネット片15′の配置の修正作業の作業性が良好なマグネットユニットとこのマグネットユニットを有するマグネトロンスパッタ装置を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】
本発明のマグネットユニットは、ヨークに穿設した貫通孔から操作棒を差し込んでマグネットホルダーからマグネット片を取り出しやすくしたことを特徴とする。
【0012】
この本発明によると、マグネット片の配置の修正作業の作業性が良好なマグネットユニットとこのマグネットユニットを有するマグネトロンスパッタ装置を実現できる。
【0013】
【発明の実施の形態】
本発明の請求項1記載のマグネットユニットは、対向して配置されたターゲットと基板のうちの少なくとも一方の背面側に配置され、ターゲット表面上のプラズマ密度を高くするように作用するマグネットユニットであって、複数のマグネット片と、前記マグネット片を挿入するための複数の第1の貫通孔が並列に穿設された非磁性材料からなるマグネットホルダーと、前記マグネットホルダーの片面に配設され前記第1の貫通孔に連通する第2の貫通孔が穿設されたヨークとを備え、かつマグネットホルダーの前記第1の貫通孔の数は前記マグネット片の数よりも多く、前記第1の貫通孔がマグネットホルダーに千鳥足配列に配置されたことを特徴とする。
【0014】
請求項2記載のマグネットユニットは、請求項1において、第2の貫通孔に雌ねじを形成したことを特徴とする。
請求項3記載のマグネットユニットは、請求項1または請求項2において、マグネットホルダーの第1の貫通孔のうちのマグネット片が挿入されていない貫通孔のうちの少なくとも一部に、非磁性材料からなる錘を設けたことを特徴とする。
【0015】
請求項4記載のマグネットユニットは、請求項2において、マグネットホルダーの第1の貫通孔のうちのマグネット片が挿入されていない貫通孔のうちの少なくとも一部に、非磁性材料からなり端部にヨークの第2の貫通孔に形成されている雌ねじに螺合する雄ねじが形成された錘を設けたことを特徴とする。
【0016】
請求項5記載のマグネトロンスパッタ装置は、請求項1〜請求項4の何れかのマグネットユニットを設けたことを特徴とする。
以下、本発明の実施の形態を図1〜図6に基づいて説明する。
【0017】
(実施の形態1)
図5は本発明のマグネットユニット50を使用したマグネトロンスパッタ装置を示す。
【0018】
スパッタ室31にはターゲット32と基板33とを対向して配置し、ターゲット32の背面側にマグネットユニット50を配置している。
このスパッタ室31には、図8と同様に希ガス導入バルブ38を介してアルゴンガス39が導入され、またスパッタ室31の雰囲気は真空排気バルブ40を介して高真空ポンプユニット41に接続されて排気されている。
【0019】
マグネットユニット50はモータ51によって支持軸52の軸芯53の回りに回転駆動されている。
マグネットユニット50は図1と図2に示すように構成されている。
【0020】
マグネットホルダー13は、図9に示した場合と同様に非磁性材料でマグネット片15′を挿入する複数の第1の貫通孔14aが並列に穿設されている。具体的には、マグネットホルダー13はジュラルミン製で、第1の貫通孔14aの大きさは直径が8mmで深さが24mmである。第1の貫通孔14aの配列は、図1に示すように千鳥足配列でマグネットホルダー13のほぼ全面に形成されており、ピッチは9mmである。
【0021】
マグネットホルダー13の片面に接合され第1の貫通孔14aに連通する第2の貫通孔11aが穿設されたヨーク11は、裏面への磁場の影響を遮蔽すると共に表面への磁場強度を強めるために磁性材料の鉄で構成されている。第2の貫通孔11aの直径は第1の貫通孔14aよりも小径であり、この第2の貫通孔11aの内周面には雌ねじ11bが形成されている。
【0022】
マグネットホルダー13の第1の貫通孔14aのうちの一部には図1に示す極性でマグネット片15′が挿入されている。Nはマグネット片15′のN極、Sはマグネット片15′のS極を表しており、NまたはSが記されていない第1の貫通孔14aにはマグネット片15′は挿入されていない。
【0023】
具体的には、マグネットホルダー13の第1の貫通孔14aの大きさが直径が8mmで深さが24mmの場合に、マグネット片15′はほぼ直径が8mmで高さが24mmである。マグネット片15′はネオジュウム製である。
【0024】
マグネットホルダー13の第1の貫通孔14aのうちのマグネット片15′が挿入されていない貫通孔の全てには、図4に示すように錘21がセットされている。錘21は非磁性材料で形成されており、下端にはヨーク11の雌ねじ11bに螺合する雄ねじ21aが形成されている。具体的には、錘21は真鍮製であり、その1個の重量はマグネット片15′の1個と同等の重さに調整されている。
【0025】
このようにマグネットホルダー13の第1の貫通孔14aにマグネット片15′を所定の磁気分布を形成するように挿入することによって、各孔14aに配置したマグネット片15′は隣接するマグネット片15′同士の磁力によって吸着し、かつマグネット片15′の基底にあるヨーク11とも磁力によって吸着してしている。さらに、隣接する孔14に配置されたマグネット片との反発力により孔14の内壁と面接触をしているため、マグネットユニット50を逆さにしてもマグネット15′が落下することはない。
【0026】
マグネット片15′の配置の修正作業が発生した場合には、図3の(b)に示すようにヨーク11に穿設した第2の貫通孔11aから操作棒としてのボルトを差し込んでマグネットホルダー13からマグネット片15′を取り出しやすくなっている。
【0027】
具体的には、図3の(a)に示すようにマグネットホルダー13にセットされたマグネット片15′を取り出す場合には、図3の(b)に示すようにヨーク11の雌ねじ11bに螺合する雄ねじ22aが形成されたボルト22を、ヨーク11の裏面からねじ込んで、取り出そうとするマグネット15′を押し上げて他のマグネット15′よりもマグネットホルダー13の表面から突出させた状態で、図3の(c)に示すように取り外したいマグネット15′に他の手持ちのマグネット20を吸着させて、互いの磁力で引き合わせながら引き抜く。
【0028】
このように、図3の(b)のように取り外したいマグネット片15′を周辺の他のマグネット片15′よりも押し上げた状態で手持ちのマグネット20を合わせるので、周辺の他のマグネット片15′の磁力の影響を受けずに、マグネット20をマグネットホルダー13から取り外そうとする目的のマグネット片15′に容易に押し当てて引き上げることができる。
【0029】
したがって、マグネットホルダー13におけるマグネット片15′の配置の修正作業が容易である。
また、錘21をマグネットホルダー13にセットしたことによって、図5に示したようにマグネットホルダー13を垂直に立てて回転させる場合でも安定した等速度回転が得られる。
【0030】
(実施の形態2)
図6は(実施の形態2)を示す。マグネットユニット50は(実施の形態1)のそれと同一である。
【0031】
(実施の形態1)ではマグネットユニット50は内部が真空のスパッタ室31の外部に設けられていたが、この(実施の形態2)ではターゲット32と基板33とが対向して配置されている真空の第1のチャンバー31aに隣接して真空の第2のチャンバー31bを設け、この第2のチャンバー31bにマグネットユニット50を配設し、第2のチャンバー31bから外部に引き出された駆動軸52を回転させてマグネットユニット50をターゲット32の背面で回転させている。
【0032】
この(実施の形態2)ではターゲット32と基板33とが上下方向に配置されて対向しているため、マグネットユニット50をターゲット32の背面で水平方向に回転させたが、図5に示したようにターゲット32と基板33とが横方向に配置されて対向してマグネットユニット50をターゲット32の背面で垂直回転させ場合にも同様に真空のチャンバー内でマグネットユニット50を回転駆動することができる。
【0033】
上記の各実施の形態では、マグネットホルダー13の第1の貫通孔14の内の前記マグネット片15′がセットされていない貫通孔の全てに錘21をセットしたが、マグネット片15′がセットされていない貫通孔の全てに錘21をセットしなくても、回転バランスを見ながら必要最小限の貫通孔にだけ錘21をセットしてマグネットユニット50を構成することもできる。
【0034】
上記の各実施の形態では、マグネットホルダー13の第1の貫通孔14aの必要なものには各1個のマグネット片15′をセットしたとして説明したが、図7に示すように複数のマグネット片15′a,15′b,15′cしても同様である。具体的には、第1の貫通孔14の大きさが直径が8mmで深さが24mmの場合に、マグネット片15′a,15′b,15′cはネオジュウム製で、ほぼ直径が8mmで高さが8mmである。
【0035】
上記の各実施の形態では、ヨーク11に穿設された第2の貫通孔11aの内周面には雌ねじを形成したが、このような雌ねじを形成していない場合であっても第2の貫通孔11aから操作棒を差し込んでマグネットホルダー13からマグネット片15′を押し上げることができる。
【0036】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、ヨークに穿設した貫通孔から操作具を押し込んでマグネット片を押し上げることができるので、取り外したいマグネット片に他の手持ちのマグネットを合わせて引き抜く際に、マグネットホルダーに埋められたマグネット片の磁力が強力であっても、マグネット片の配置が密であっても、マグネットホルダーに埋められた取り外したいマグネット片の周辺の他のマグネット片の磁力の影響を受けずに、取り外したいマグネットに他の手持ちのマグネットを合わせることが容易にできる。故に、マグネットの交換が今までよりも容易に交換可能となる。
【0037】
また、ヨークに穿設された貫通孔に雌ねじを形成した場合には、この雌ねじにボルトを螺合させることによってマグネット片の押し上げを安定して行える。
また、ヨークに穿設された貫通孔に雌ねじを形成した場合には、この雌ねじを利用して、錘の雄ねじをマグネットホルダーのマグネット片セットされていない貫通孔に埋め込むことにより、回転バランスを容易にとることができ、マグネットホルダーを垂直に立てて回転させる場合でも安定した等速度回転が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の(実施の形態1)のマグネットユニットの平面図
【図2】同実施の形態のマグネットユニットの断面側面図
【図3】同実施の形態のマグネットユニットのマグネットホルダーの孔内で保持されたマグネット片を取り出す場合の説明図
【図4】同実施の形態のマグネットユニットのマグネットホルダーの孔に錘を取り付ける場合の説明図
【図5】同実施の形態のマグネットユニットを採用したマグネトロンスパッタ装置の断面図
【図6】別の実施の形態のマグネットユニットを採用したマグネトロンスパッタ装置の断面図
【図7】別の実施の形態のマグネットユニットの断面図
【図8】従来のマグネトロンスパッタ装置の断面図
【図9】従来のマグネットホルダーの断面図
【符号の説明】
11 ヨーク
11a 第2の貫通孔
11b 雌ねじ
13 マグネットホルダー
14a 第1の貫通孔
15’ マグネット片
21 錘
21a 雄ねじ
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a magnetron sputtering apparatus for forming a thin film in a vacuum.
[0002]
[Prior art]
In a sputtering apparatus for forming a thin film on a substrate placed opposite to a target, a magnetron sputtering apparatus is often used for the purpose of improving the accuracy of film thickness variation, improving the use efficiency of the target material, and increasing the rate. Yes.
[0003]
The magnetron sputtering apparatus is configured as shown in FIG.
A target 32 and a substrate 33 are arranged facing each other in the sputtering chamber 31, and a magnet unit 34 is arranged on the back side of the target 32. 35 is a backing plate, 36 is a substrate holder, and 37 is a ground shield.
[0004]
Argon gas 39 is introduced into the sputtering chamber 31 through a rare gas introduction valve 38, and the atmosphere in the sputtering chamber 31 is exhausted by being connected to a high vacuum pump unit 41 through a vacuum exhaust valve 40. Reference numeral 42 denotes a high voltage power source.
[0005]
In such a magnetron sputtering apparatus, a high-density plasma region 43 is formed on the surface of the target 32 when power is applied due to the influence of a magnetic field formed by the magnet unit 34 disposed on the back side of the target 32.
[0006]
As described above, the plasma density on the target surface can be increased by receiving the magnetic field of the magnet unit 34, and the sputtering rate is 10 to 30 times faster than the sputtering method without using the magnet unit 34.
[0007]
Further, the shape of the arrangement of the magnet pieces in the magnet unit 34 has become complicated in order to obtain the desired magnetic field distribution. Even if the arrangement of the magnet pieces is determined and the magnet unit is created, the desired magnetic field is obtained. In many cases, a distribution cannot be obtained.
[0008]
At this time, when the magnet piece is bonded to the magnet holder with an adhesive as in the prior art, it is difficult to correct. Therefore, as shown in FIG. 9A, the magnet holder 13 made of non-magnetic material and the yoke 11 made of magnetic material are bonded together, the magnet piece 15 'is inserted into the hole 14a of the magnet holder 13, and the magnet piece 15' is attached to the yoke. 11 and is held by being pressed against the inner peripheral surface of the hole 14a by the magnetic repulsive force between the adjacent magnet piece 15 'and the magnet piece 15'.
[0009]
[Problems to be solved by the invention]
In such a magnet unit 4, when it is necessary to correct the arrangement of the magnet piece 15 ', as shown in FIG. 9B, the magnet 20 on the hand of the magnet piece 15' to be pulled out from the hole 14a. However, the stronger the magnetic force is, and the denser the arrangement of the magnet pieces 15 'is, the more affected the magnetic force of the other magnet pieces 15' around the magnet to be removed. It becomes difficult to align the magnet 20 with the piece 15 ', and the workability of the work of correcting the arrangement of the magnet piece 15' is poor.
[0010]
It is an object of the present invention to provide a magnet unit with good workability for correcting the arrangement of the magnet piece 15 'and a magnetron sputtering apparatus having the magnet unit.
[0011]
[Means for Solving the Problems]
The magnet unit of the present invention is characterized in that an operation rod is inserted from a through hole formed in a yoke so that a magnet piece can be easily taken out from a magnet holder.
[0012]
According to the present invention, it is possible to realize a magnet unit having good workability in the work of correcting the arrangement of the magnet pieces and a magnetron sputtering apparatus having the magnet unit.
[0013]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The magnet unit according to claim 1 of the present invention is a magnet unit that is arranged on the back side of at least one of the target and the substrate that are arranged to face each other and acts to increase the plasma density on the target surface. A plurality of magnet pieces, a magnet holder made of a non-magnetic material in which a plurality of first through holes for inserting the magnet pieces are formed in parallel, and the first magnet holder disposed on one side of the magnet holder. A yoke having a second through hole communicating with the one through hole, and the number of the first through holes of the magnet holder is larger than the number of the magnet pieces, and the first through holes Are arranged in a staggered arrangement on a magnet holder.
[0014]
According to a second aspect of the present invention, the magnet unit according to the first aspect is characterized in that a female screw is formed in the second through hole.
A magnet unit according to a third aspect is the magnet unit according to the first or second aspect, wherein at least a part of the through hole in which the magnet piece is not inserted in the first through hole of the magnet holder is made of a nonmagnetic material. A weight is provided.
[0015]
A magnet unit according to a fourth aspect is the magnet unit according to the second aspect, wherein at least a part of the first through hole of the magnet holder into which the magnet piece is not inserted is made of a nonmagnetic material at the end. It is characterized in that a weight is provided on which a male screw that is screwed into a female screw formed in the second through hole of the yoke is formed.
[0016]
A magnetron sputtering apparatus according to a fifth aspect is characterized in that the magnet unit according to any one of the first to fourth aspects is provided.
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS.
[0017]
(Embodiment 1)
FIG. 5 shows a magnetron sputtering apparatus using the magnet unit 50 of the present invention.
[0018]
A target 32 and a substrate 33 are arranged facing each other in the sputtering chamber 31, and a magnet unit 50 is arranged on the back side of the target 32.
As in FIG. 8, argon gas 39 is introduced into the sputtering chamber 31 through a rare gas introduction valve 38, and the atmosphere of the sputtering chamber 31 is connected to a high vacuum pump unit 41 through a vacuum exhaust valve 40. It is exhausted.
[0019]
The magnet unit 50 is rotationally driven around the axis 53 of the support shaft 52 by a motor 51.
The magnet unit 50 is configured as shown in FIGS.
[0020]
As in the case shown in FIG. 9, the magnet holder 13 has a plurality of first through-holes 14a for inserting the magnet pieces 15 'made of a nonmagnetic material in parallel. Specifically, the magnet holder 13 is made of duralumin, and the first through hole 14a has a diameter of 8 mm and a depth of 24 mm. As shown in FIG. 1, the first through holes 14a are arranged in a staggered pattern on almost the entire surface of the magnet holder 13, and the pitch is 9 mm.
[0021]
The yoke 11 that is joined to one surface of the magnet holder 13 and has the second through hole 11a communicating with the first through hole 14a shields the influence of the magnetic field on the back surface and increases the magnetic field strength on the surface. It is made of iron, a magnetic material. The diameter of the second through hole 11a is smaller than that of the first through hole 14a, and a female screw 11b is formed on the inner peripheral surface of the second through hole 11a.
[0022]
A magnet piece 15 'is inserted into a part of the first through hole 14a of the magnet holder 13 with the polarity shown in FIG. N represents the N pole of the magnet piece 15 ', and S represents the S pole of the magnet piece 15'. The magnet piece 15 'is not inserted into the first through hole 14a where N or S is not marked.
[0023]
Specifically, when the size of the first through hole 14a of the magnet holder 13 is 8 mm in diameter and 24 mm in depth, the magnet piece 15 ′ is approximately 8 mm in diameter and 24 mm in height. The magnet piece 15 'is made of neodymium.
[0024]
As shown in FIG. 4, weights 21 are set in all the through holes in which the magnet pieces 15 ′ are not inserted in the first through holes 14 a of the magnet holder 13. The weight 21 is formed of a non-magnetic material, and a male screw 21a that is screwed into the female screw 11b of the yoke 11 is formed at the lower end. Specifically, the weight 21 is made of brass, and the weight of one of the weights 21 is adjusted to the same weight as one of the magnet pieces 15 '.
[0025]
In this way, by inserting the magnet pieces 15 'into the first through holes 14a of the magnet holder 13 so as to form a predetermined magnetic distribution, the magnet pieces 15' arranged in the holes 14a are adjacent to the adjacent magnet pieces 15 '. They are attracted by the magnetic force between them, and are also attracted by the magnetic force to the yoke 11 at the base of the magnet piece 15 '. Furthermore, since the surface is in contact with the inner wall of the hole 14 by a repulsive force with the magnet piece disposed in the adjacent hole 14, the magnet 15 'does not fall even if the magnet unit 50 is turned upside down.
[0026]
When the work of correcting the arrangement of the magnet piece 15 'occurs, as shown in FIG. 3B, a bolt as an operation rod is inserted from the second through hole 11a formed in the yoke 11, and the magnet holder 13 is inserted. It is easy to take out the magnet piece 15 'from the head.
[0027]
Specifically, when the magnet piece 15 'set in the magnet holder 13 is taken out as shown in FIG. 3A, it is screwed into the female screw 11b of the yoke 11 as shown in FIG. The bolt 22 on which the male screw 22a to be formed is screwed in from the back surface of the yoke 11, the magnet 15 'to be taken out is pushed up and protruded from the surface of the magnet holder 13 rather than the other magnets 15'. As shown in (c), another hand-held magnet 20 is attracted to the magnet 15 'to be removed and pulled out while being attracted by the mutual magnetic force.
[0028]
Thus, as shown in FIG. 3 (b), the magnet piece 15 'to be removed is pushed up above the other magnet pieces 15' in the vicinity, so that the hand-held magnet 20 is aligned. Without being affected by the magnetic force, the magnet 20 can be easily pressed against the target magnet piece 15 ′ to be removed from the magnet holder 13 and pulled up.
[0029]
Therefore, it is easy to correct the arrangement of the magnet pieces 15 ′ in the magnet holder 13.
In addition, by setting the weight 21 on the magnet holder 13, a stable constant speed rotation can be obtained even when the magnet holder 13 is rotated upright as shown in FIG.
[0030]
(Embodiment 2)
FIG. 6 shows (Embodiment 2). The magnet unit 50 is the same as that in the first embodiment.
[0031]
In (Embodiment 1), the magnet unit 50 is provided outside the vacuum sputtering chamber 31 inside, but in this (Embodiment 2), a vacuum in which the target 32 and the substrate 33 are arranged to face each other. A vacuum second chamber 31b is provided adjacent to the first chamber 31a, a magnet unit 50 is disposed in the second chamber 31b, and a drive shaft 52 pulled out from the second chamber 31b is provided. The magnet unit 50 is rotated on the back surface of the target 32 by rotating.
[0032]
In this (Embodiment 2), since the target 32 and the substrate 33 are arranged in the vertical direction and face each other, the magnet unit 50 is rotated in the horizontal direction on the back surface of the target 32, but as shown in FIG. Similarly, when the target 32 and the substrate 33 are arranged in the horizontal direction and face each other and the magnet unit 50 is rotated vertically on the back surface of the target 32, the magnet unit 50 can be rotationally driven in a vacuum chamber.
[0033]
In each of the above embodiments, the weight 21 is set in all the through holes in which the magnet piece 15 'is not set in the first through hole 14 of the magnet holder 13, but the magnet piece 15' is set. Even if the weights 21 are not set in all the through holes that are not, the magnet unit 50 can be configured by setting the weights 21 only in the minimum necessary through holes while observing the rotational balance.
[0034]
In each of the above-described embodiments, it has been described that one magnet piece 15 'is set for each necessary one of the first through holes 14a of the magnet holder 13. However, as shown in FIG. The same applies to 15'a, 15'b, 15'c. Specifically, when the first through hole 14 has a diameter of 8 mm and a depth of 24 mm, the magnet pieces 15 ′ a, 15 ′ b and 15 ′ c are made of neodymium and have a diameter of about 8 mm. The height is 8 mm.
[0035]
In each of the above embodiments, a female screw is formed on the inner peripheral surface of the second through hole 11a formed in the yoke 11, but even if such a female screw is not formed, the second screw is formed. An operating rod can be inserted from the through hole 11a and the magnet piece 15 'can be pushed up from the magnet holder 13.
[0036]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, the magnet can be pushed up by pushing the operating tool through the through-hole formed in the yoke. Therefore, when pulling out another magnet on hand with the magnet piece to be removed, the magnet Even if the magnetic force of the magnet piece buried in the holder is strong or the magnet pieces are arranged densely, it is affected by the magnetic force of other magnet pieces around the magnet piece to be removed buried in the magnet holder. Without changing, you can easily match the magnet you want to remove with other magnets. Therefore, the magnet can be replaced more easily than before.
[0037]
Further, when a female screw is formed in the through hole formed in the yoke, the magnet piece can be pushed up stably by screwing a bolt into the female screw.
In addition, when a female screw is formed in the through-hole drilled in the yoke, the balance of rotation is facilitated by embedding the male screw of the weight in the through-hole that is not set on the magnet piece of the magnet holder. Even when the magnet holder is set up vertically and rotated, a stable constant speed rotation can be obtained.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a plan view of a magnet unit according to (Embodiment 1) of the present invention. FIG. 2 is a sectional side view of the magnet unit according to the embodiment. FIG. 3 is a hole of a magnet holder of the magnet unit according to the embodiment. Fig. 4 is an explanatory diagram for removing a magnet piece held in the magnet. Fig. 4 is an explanatory diagram for attaching a weight to the hole of the magnet holder of the magnet unit of the embodiment. Fig. 5 Adopts the magnet unit of the embodiment. FIG. 6 is a sectional view of a magnetron sputtering apparatus employing a magnet unit according to another embodiment. FIG. 7 is a sectional view of a magnet unit according to another embodiment. FIG. 8 is a conventional magnetron. Cross section of sputtering equipment [Fig. 9] Cross section of conventional magnet holder [Explanation of symbols]
11 Yoke 11a Second through hole 11b Female screw 13 Magnet holder 14a First through hole 15 'Magnet piece 21 Weight 21a Male screw

Claims (5)

対向して配置されたターゲットと基板のうちの少なくとも一方の背面側に配置され、ターゲット表面上のプラズマ密度を高くするように作用するマグネットユニットであって、
複数のマグネット片と、
前記マグネット片を挿入するための複数の第1の貫通孔が並列に穿設された非磁性材料からなるマグネットホルダーと、
前記マグネットホルダーの片面に配設され前記第1の貫通孔に連通する第2の貫通孔が穿設されたヨークと
を備え、かつマグネットホルダーの前記第1の貫通孔の数は
前記マグネット片の数よりも多く、前記第1の貫通孔がマグネットホルダーに千鳥足配列に配置された
マグネットユニット。
A magnet unit that is disposed on the back side of at least one of a target and a substrate that are disposed to face each other and acts to increase the plasma density on the target surface,
A plurality of magnet pieces;
A magnet holder made of a nonmagnetic material in which a plurality of first through holes for inserting the magnet pieces are formed in parallel;
A yoke disposed on one side of the magnet holder and having a second through hole communicating with the first through hole, and the number of the first through holes of the magnet holder is the number of the magnet pieces. A magnet unit in which the first through holes are arranged in a staggered arrangement in a magnet holder, more than the number.
第2の貫通孔に雌ねじを形成した請求項1記載のマグネットユニット。  The magnet unit according to claim 1, wherein an internal thread is formed in the second through hole. マグネットホルダーの第1の貫通孔のうちのマグネット片が挿入されていない貫通孔のうちの少なくとも一部に、非磁性材料からなる錘を設けた請求項1または請求項2記載のマグネットユニット。  3. The magnet unit according to claim 1, wherein a weight made of a nonmagnetic material is provided in at least a part of the through hole in which the magnet piece is not inserted in the first through hole of the magnet holder. マグネットホルダーの第1の貫通孔のうちのマグネット片が挿入されていない貫通孔のうちの少なくとも一部に、非磁性材料からなり端部にヨークの第2の貫通孔に形成されている雌ねじに螺合する雄ねじが形成された錘を設けた請求項2記載のマグネットユニット。  A female screw made of a non-magnetic material and formed at the end of the second through hole of the yoke in at least a part of the through hole in which the magnet piece is not inserted in the first through hole of the magnet holder. The magnet unit according to claim 2, further comprising a weight on which a male screw to be screwed is formed. 請求項1〜請求項4の何れかのマグネットユニットを設けたマグネトロンスパッタ装置。  A magnetron sputtering apparatus provided with the magnet unit according to claim 1.
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