JP4223666B2 - Plating equipment - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明はめっき装置、特に好ましくは密閉型高速めっき装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来は図4のように、上部に開口部1のあるめっき槽2が使用されており、搬送機構としては、めっき槽2の上方にある図4の紙面と直角方向に延びるレール(図示せず)に沿って、ワークWを治具に懸架したハンガー(共に図示せず)を掛け、これらのハンガーをプッシャー等で水平に移動させる機構が一般的である。ワークWはめっき室3のめっき液4内に浸漬している。可溶性アノード5はアノードケース6、金属片7、アノードバッグ8からなり、アノードケース6に設けられているフック9がめっき槽2の側壁内面から僅かに離れた位置に設置されている給電バー10に上方から係合し、従って個々のアノード5は容易に上方へ取外し可能である。めっき作業中にアノード5の金属片7から出るスライム(粘液)やごみが被めっき物(ワークW)に付着しないようにするため、アノードケース6の外側にアノードバッグ8を設けると共に、更に被めっき物とアノード5との間に図4の紙面と直角方向に延びる大きい隔膜11を設け、陽極室12とめっき室3を隔離した構造とし、陽極室12のめっき液を流路13を介して抜き出して、陽極室12のめっき液からスライムやごみを除去するように構成している。
【0003】
しかし、その場合は以下の不利があった。
▲1▼ 開口部1から上方の搬送機構で生ずる粉塵や大気中の粉塵等の不純物がめっき液4中に入り、被めっき物への不純物の付着によるめっき皮膜品質の低下が避けられない。
▲2▼ 隔膜11は一般的に疎水性であり、めっき装置へ設置する場合には、事前にアルコール等になじませて、液が通り易くなるように処理しておかなければならず、手間がかかる。
▲3▼ 高速めっきにおいては、高電流密度で処理されるため、アノード5からのスライムの発生がより多くなり、隔膜11で隔離した陽極室12全体から液を抜き出しても、充分にはスライムやごみの除去ができず、隔膜11の交換、清掃やアノードバッグ8の交換、清掃等の時期が早まり、又は陽極室12の汚れによりアノード5の金属片7が充分に溶解しない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、着脱に手間のかかる隔膜を不要にすると共に、特に高電流密度での処理に対応できるように、アノードのメンテナンスの頻度を少なくし、かつアノードのメンテナンスを容易にすることを目的としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】
請求項1の発明は、めっき槽(16)内でワーク(W)に対向して起立した上端開放のアノードケース(6)をスライム(36)を通し得る有底の内側アノードバッグ(38)とこの内側アノードバッグ(38)に対して間隔を隔てかつ溶解金属(33)とめっき液(4)のみを通しスライム(34)を通さない細かい外側アノードバッグ(36)で覆い、内側アノードバッグ(36)の側面部と底面部の目の粗さを異ならせて内側アノードバッグ(38)の側面部からスライムが出て行きにくくし底面部からスライムが出て行き易くし、外側アノードバッグ(36)底部のドレン孔(22)をポンプ(P)とフィルター(F)を介してめっき槽(16)に接続したことを特徴とする、めっき装置である。
【0006】
請求項2の発明は、少なくとも外側アノードバッグの上端部をアノードケースに固縛した、請求項1に記載のめっき装置である。
【0007】
請求項3の発明は、外側アノードバッグの内側に外側アノードバッグの内側アノードバッグへの密着を防ぐセパレータを配置した、請求項1に記載のめっき装置である。
【0008】
請求項4の発明は、セパレータが上開きカップ状の液の流通のあるものである、請求項3に記載のめっき装置である。
【0009】
【発明の実施の形態】
図1は、図4に対応する本発明によるめっき装置の縦断正面図、図2は図1の部分拡大略図であり、図4中の符号と同一符号は同一または対応部材を示している。図1のめっき槽16は上端が着脱可能な蓋17により閉塞されており(高速めっき用の密閉型めっき槽であり)、蓋17はアノードケース6の上端開口直上にアノード金属投入口18を備え、投入口18は例えば左ヒンジ式の蓋19により閉塞されている。投入口18は図1の紙面と直角方向に例えば10〜20cm間隔に多数設けてある。めっき槽16の底板20は本発明によるアノード21の下端のドレン筒22の嵌合するドレン孔23を備え、このドレン孔23は流路24を介してポンプPの吸込口に接続し、ポンプPの吐出口は途中にフィルターFを有する流路25を介してめっき室3の底部のヘッダー26に接続し、ヘッダー26から起立している左右各複数の噴射ノズル27は夫々ワークWの左右側面に指向している。窓蓋28はアノード21のメンテナンス時に使用するめっき槽側壁の窓の蓋であり、補助貯槽29はめっき液面30が図示のレベルを超えた時に図示されていない孔から溢れためっき液を収容する部分であり、この補助貯槽29は貯槽31に接続し、貯槽31はポンプP1、フィルターF1を有する流路32を介してヘッダー26に接続している。
【0010】
アノードケース6は図2のように目の粗い網状のチタン筒であり、図3のように金属片7からの溶解金属33(丸印)と液中に浮遊するスライム34やごみ(四角印)とめっき液の自由な通過を許容する粗さと金属片7の重力に耐え得る強度を備えている。内側アノードバッグ38は例えばポリプロピレンの不織布、普通の布等で形成された有底のバッグで、溶解金属33(丸印)と液中に浮遊するスライム34やごみ(四角印)の自由な通過を許容する粗さを備えている。内側アノードバッグ38の目の粗さは、例えば5〜50cc/cm2/sec程度である。ネット35は内側アノードバッグ38と外側アノードバッグ36との間に両者の密着を阻止するためのセパレーターとして機能するように配置されたカップ状部材であり、耐食性プラスチックの目の粗い網状のもの、垂直な多数のプラスチック棒をすだれ筒状に形成したもの等のような液の流通のあるものを採用可能である。外側アノードバッグ36は溶解金属33(丸印)とめっき液のみの通過を許容する目の細かい(例えば0〜5cc/cm2/sec、好ましくは2〜5cc/cm2/secの)ポリプロピレン不織布、普通の布等からなり、底部中央の孔37(図2)がネット35の底部中央の樹脂製のドレン筒22に嵌合し、ドレン筒22の厚肉の雄ねじ部22aに螺合したナット39によりネット35の底板下面に締着される。図2はナット39を上方へ捩じ込む途中段階を示している。なお、内側アノードバッグ38、外側アノードバッグ36の材質、織り方は上記に限定されず、例えばポリエチレンやテトロン、電気ニッケルめっきではアクリルが使用できる。
【0011】
外側アノードバッグ36の上端部36aは図2のようにネット35の上端部を越えて上方へ延び、ファスナーテープ40(商品名:マジックテープ)または紐により内側アノードバッグ38と共にアノードケース6の外周面に固縛されており、これによりアノード21は一体化されている。
【0012】
図1の42は搬送機構で、ワークW(例えばプリント基板)の下端縁両側面を対向するベルトコンベヤ(図示せず)で挟持し、図1の紙面と直角方向水平に駆動する機能を備え、本件出願人の特開平7−316890号「プリント基板の垂直搬送装置」、特開平7−323909号「垂直板の下端支持搬送装置」の何れかを採用可能である。また、ワークWは、例えば図1の手前側側壁のスライドシール(図示せず)を経てめっき室3内に入り、図1の裏面側のスライドシール(図示せず)を経てめっき槽16外に出て次の例えば洗浄槽に供給される。
【0013】
めっき作業中には、給電バー10(プラス電源)はフック9、アノードケース6を経て金属片7に接続される。一方、ワークWは搬送機構42内のマイナス給電機構に接続し、かつ搬送機構42により図1の紙面と直角方向に搬送される。その間に図3のアノード21の部分ではポンプPの吸引力によりハッチング付きの太い矢印のようなめっき液の流れが生ずると共に、金属片7からの溶解金属33(丸印)はアノードケース6、内側アノードバッグ38、ネット35、外側アノードバッグ36を経てワークW方向へ吸引され、ワークWにめっきされる。金属片7から出た液中に浮遊するスライム34やごみ(四角印)はアノードケース6、内側アノードバッグ38、ネット35を通り、外側アノードバッグ36から外に出ることなく、ドレン筒22、流路24を経てポンプPで吸引され、加圧されてフィルターFでろ過された後、流路25、ヘッダー26を経て、噴射ノズル27からワークWの左右側面全体に供給される。金属片7から出て液中に浮遊しないスライム41(図3の三角印)はアノードケース6の底部に沈殿する。図3の44は沈殿スライムである。図1の貯槽31内のめっき液もポンプP1、フィルターF1を有する流路32からヘッダー26へ供給され、図1の液面30が保持される。なお、図3には示されていないが、内側アノードバッグ38の底面部を通しても液流が生じており、その場合、沈殿スライム44の一部が溶け出して、ドレン筒22へ吸引される。このスライム除去効果を高めるために、内側アノードバッグ38の側面部と底面部の目の粗さを異ならせてもよい。例えば、側面部:8cc/cm2/sec、底面部:29cc/cm2/secとする。これにより、側面部からスライムが出ていきにくくし、ワークへの付着する確立を低くし、ドレン孔に近い底面部からスライムを出て行き易くし、スライムの除去効率を高めることができる。外側アノードバッグ36からの液の吸引量は、好ましくは、2〜20L/minである。2L/min未満では、スライムを充分には除去できない。また、20L/minを超えると、外側・内側アノードバッグ36、38内の液面が下がり、基板上部が露出し、めっきがつかず膜厚が低下したり、めっき槽内の電圧上昇が発生する。
【0014】
例えば3〜4日に1回、蓋19を明けてアノードケース6内に所定量の金属片7を補給する。数箇月に1回、蓋17を開き、アノード21を上方へ抜き、構成部品の清掃、交換を行う。または、窓蓋28を開き、アノード21を取り外し、構成部品の清掃、交換を行う。
【0015】
なお、本発明を実施する際には、内側アノードバッグ38を省略してもよいが、図示のように内側アノードバッグ38を採用し、かつ目をやや細かくして、スライムの一部(例えば1/5程度)を捕獲するようにすると、ある程度のろ過効率の向上を期待できると共に、フィルターFのメンテナンス期間を延ばすことができ、好ましい。一般にフィルターは、アノードバッグよりも高価であり、フィルターの交換頻度が高い場合は、コスト高になるが、内側アノードバッグ38に上記の配慮を施すことにより、アノードの取外しの頻度を下げると共に、フィルターの交換頻度が極端に高くならないようにすることが可能である。また、外側アノードバッグ36を上方から見て概ね円形でかつ略半径方向にギザギザになるように屈曲させたフィルターエレメント(エンジン用エヤクリーナエレメント状)として形成できる場合は、ネット35のような間隔保持用のセパレーターは不要となる。更に、内側アノードバッグ38と外側アノードバッグ36が図2に実線で示すようにそれ自体で起立状態を保持し得るように形成されている場合は、ファスナーテープ40のような固縛手段は不要となる。外側アノードバッグ36の通水性は、ポンプの吸引力により、アノード内の液面が低くなることによる通電不良が生じないように設計されることは当然である。
【0016】
【発明の効果】
請求項1の発明によると、隔膜を使用しないため、隔膜の脱着やアルコールによる前処理等のメンテナンスが不要になる。アノードケース6からは、スライム34やごみが出ていき易いため、アノードの金属片7周辺の液が新鮮な液となり、金属片7の充分な溶解が促進される。また、当該スライムやごみがめっき液4中へ出て行くことを外側アノードバッグ36で防止し、被めっき物(ワークW)へ付着することを防止するため、めっき品質が向上する。特に高速めっきにおいては、高電流密度で処理されるため、アノードからのスライムの発生がより多くなるが、アノード21の1本、1本から、液を抜き出し、フィルターFを介して不純物をろ過し、めっき槽16のめっき室3へ戻すようにしたので、スライムの除去効率が向上し、かつアノード21のメンテナンスの頻度を少なくすることができ、アノードのメンテナンスも容易になり、密閉型の高速電気めっき装置の実用化が可能になる。内側アノードバッグ38の側面部と底面部の目の粗さを異ならせて内側アノードバッグ38の側面部からスライムが出て行きにくくし底面部からスライムが出て行き易くすることにより、アノードケース6の沈殿スライム44ばかりでなく内側アノードバッグ38の側面部内側のスライムの除去効率を高めることができる。図示のように内側アノードバッグ38を採用し、かつ目をやや細かくして、スライムの一部(例えば1/5程度)を捕獲するようにすると、ある程度のろ過効率の向上を期待できると共に、フィルターFのメンテナンス期間を延ばすことができ、好ましい。一般にフィルターは、アノードバッグよりも高価であり、フィルターの交換頻度が高い場合は、コスト高になるが、内側アノードバッグ38に上記の配慮を施すことにより、アノードの取外しの頻度を下げると共に、フィルターの交換頻度が極端に高くならないようにすることが可能である。
【0017】
請求項2の発明によると、めっき作業中に外側アノードバッグ36の被覆姿勢を確実に保持することができ、これによりスライム除去効率を長期間高く保ち得る利点が生ずる。しかもアノード21を一体物として着脱することも容易になる。
【0018】
請求項3の発明によると、外側アノードバッグ36の底部にポンプPから負圧が作用しても、外側アノードバッグ36が収縮してアノードケース6(実施例では内側アノードバッグ38)の外周面に付着することによるろ過機能の低下を確実に防止することができる。
【0019】
請求項4の発明によると、ネット35のような液の流通のあるものが構造簡単なセパレータの機能を果たすため、安価にまとまる利点が生ずる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明によるめっき装置の縦断正面図である。
【図2】 図1の部分拡大略図である。
【図3】 作動説明図である。
【図4】 従来のめっき装置の縦断正面図である。
【符号の説明】
6 アノードケース
16 めっき槽
33 溶解金属
34 スライム
35 ネット
36 外側アノードバッグ
37 ドレン孔
40 ファスナーテープ
F フィルター
P ポンプ
W ワーク[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a plating apparatus, particularly preferably a sealed high-speed plating apparatus.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, as shown in FIG. 4, a plating tank 2 having an opening 1 at the top is used, and as a transport mechanism, a rail (not shown) extending in a direction perpendicular to the paper surface of FIG. 4 above the plating tank 2. ) And a hanger (both not shown) that suspends the workpiece W on a jig and moves these hangers horizontally with a pusher or the like. The workpiece W is immersed in the
[0003]
However, there were the following disadvantages.
{Circle around (1)} Impurities such as dust generated by the transport mechanism above the opening 1 and dust in the atmosphere enter the
(2) The
(3) In high-speed plating, since processing is performed at a high current density, more slime is generated from the
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
An object of the present invention is to eliminate the need for a diaphragm that is troublesome to attach and detach, and to reduce the frequency of maintenance of the anode and facilitate the maintenance of the anode so that it can cope with processing at a particularly high current density. Yes.
[0005]
[Means for Solving the Problems]
The invention of claim 1 includes a bottomed inner anode bag (38) capable of passing a slime (36) through an anode case (6) having an open upper end that stands up against a work (W) in a plating tank (16) . covered with the inner anode bag (38) with respect to spaced intervals and dissolved metal (33) and plating solution (4) was passed through slime (34) to pass a narrow end paddle outer anode bag only (36), an inner anode The bag (36) has a side surface and a bottom surface that have different roughness, so that the slime does not easily come out from the side surface portion of the inner anode bag (38) and the slime easily comes out from the bottom surface portion. (36) A plating apparatus in which the drain hole (22) at the bottom is connected to the plating tank (16) through a pump (P) and a filter (F) .
[0006]
The invention according to claim 2 is the plating apparatus according to claim 1, wherein at least an upper end portion of the outer anode bag is secured to the anode case.
[0007]
The invention of claim 3, was placed a separator to prevent adhesion to the inner Anodoba' grayed outer anode bag inside the outer anode bag, a plating apparatus according to claim 1.
[0008]
A fourth aspect of the present invention is the plating apparatus according to the third aspect, wherein the separator has an upward opening cup-shaped liquid.
[0009]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
1 is a longitudinal front view of a plating apparatus according to the present invention corresponding to FIG. 4, FIG. 2 is a partially enlarged schematic view of FIG. 1, and the same reference numerals as those in FIG. 4 indicate the same or corresponding members. The
[0010]
As shown in FIG. 2, the anode case 6 is a net-like titanium cylinder having a coarse mesh. As shown in FIG. 3, the molten metal 33 (circle mark) from the
[0011]
The upper end portion 36a of the
[0012]
[0013]
During the plating operation, the power supply bar 10 (plus power source) is connected to the
[0014]
For example, once every 3 to 4 days, the
[0015]
In carrying out the present invention, the
[0016]
【The invention's effect】
According to the invention of claim 1, since the diaphragm is not used, maintenance such as desorption of the diaphragm and pretreatment with alcohol becomes unnecessary. Since the slime 34 and dust are likely to come out from the anode case 6, the liquid around the
[0017]
According to the second aspect of the present invention, the covering posture of the
[0018]
According to the invention of claim 3, even when negative pressure is applied to the bottom of the
[0019]
According to the invention of
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a longitudinal front view of a plating apparatus according to the present invention.
FIG. 2 is a partially enlarged schematic view of FIG. 1;
FIG. 3 is an operation explanatory diagram.
FIG. 4 is a longitudinal front view of a conventional plating apparatus.
[Explanation of symbols]
6
Claims (4)
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