JP4265170B2 - 高分子ｅｌ素子の製造方法 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機薄膜のエレクトロルミネッセンス現象を利用した有機薄膜ＥＬ素子、特に有機発光層が高分子蛍光体材料からなる高分子エレクトロルミネッセンス素子（以下、高分子ＥＬ素子とする）に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
有機ＥＬ素子は、透光性基板上に透明導電層、有機発光媒体層、対向電極を順次積層した構造を有するもので、自発光型素子である。
【０００３】
有機ＥＬ素子を構成する有機発光媒体層の典型的な例としては、正孔注入層に銅フタロシアニン、正孔輸送層にＮ，Ｎ’−ジ（１−ナフチル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン、蛍光体層にトリス（８−キノリノール）アルミニウムをそれぞれ用いたものが挙げられる。これらの有機発光媒体層はいずれも低分子の化合物であり、各層は１０〜１００ｎｍ程度の厚みで抵抗加熱方式などの真空蒸着法などによって積層される。このため、低分子材料を用いる有機薄膜ＥＬ素子の製造のためには、複数の蒸着釜を連結した真空蒸着装置を必要とし、生産性が低く製造コストが高い。
【０００４】
これに対し、有機発光媒体層として高分子材料を用いた高分子ＥＬ素子がある。高分子発光層を構成する蛍光体層としては、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾールなどの高分子中に低分子の蛍光色素を溶解させたものや、ポリフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリアルキルフルオレン誘導体（ＰＡＦ）等の高分子蛍光体が用いられる。これら高分子材料は、溶液に可溶とすることでスピンコート、フレキソ印刷等の湿式法で製膜することができる。前述の低分子材料を用いた有機ＥＬ素子と比較して、大気圧下での成膜が可能であり設備コストが安い、という利点がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
有機発光媒体層（高分子発光媒体層）は、文字や図形等のパターン発光素子を作製する場合に、あるいは、電極の取り出し等のために、あるパターン状に形成する必要がある。有機発光媒体層として高分子材料を用いた場合、パターン状に形成するためにはインクジェット法や、グラビア、フレキソ等の印刷法を用いることができる。しかし、前者においては隔壁を作る必要があったり、ある程度の塗布面積がある場合にピンホールが生じたり、インクジェット特有の噴射跡が残り均一塗布面が得られない、といった問題があった。後者においては、均一な塗布面を得るために使用可能な溶剤の種類や粘度等が狭く限定されてしまう、といった問題があった。
一方、パターン状には形成できないが、スピンコート、ロールコート、ダイコート等のコーティング法では、印刷法に比べ使用できる溶液の範囲が広く、均一な高分子発光媒体層を形成できるという利点がある。
【０００６】
パターン発光素子を作製するには、高分子発光媒体層をパターニングする方法以外に、透明導電層（陽極）あるいは対向電極（陰極）をパターニングする方法や、非発光部としたいところに絶縁層をパターン状に設ける方法がある。しかし透明導電層あるいは対向電極は、電極取り出しのための構造設計や、複雑な文字や図形等のパターン発光素子を作製するためには、複数の端子が必要になったりし、形成可能な発光パターンが限られてしまう。また、非発光部としたいところに絶縁層をパターニングして設ける方法は、ＥＬ素子の電極取り出し部分には、絶縁層等の不要な層があってはならないので利用することができない。
【０００７】
高分子発光媒体層を印刷法以外でパターニングする方法としては、特開２０００−１６４３５３号公報に開示されている方法がある。これは、非発光部としたいところに離型層をパターン状に設け、その上に有機発光媒体層および陰極を積層し、さらに接着層を積層しサーマルヘッドで熱を加えることで、離型層の一部と、離型層と接着層に挟まれた有機発光媒体層および陰極と、を接着層に付着させて取りのぞく方法である。しかしこの場合、ＥＬ素子基板側に残存した離型層の一部が絶縁層であるために電極取り出し等に邪魔になってしまうという問題がある。また、陰極である金属薄膜部分を完全に覆う封止ができず、その部分からの水分の進入により素子劣化が進行してしまう恐れがある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明は、溶液の許容範囲が広く均一な膜面が得られるコーティング法を利用して、高分子発光媒体層を形成し、その高分子発光媒体層を簡便にパターニングすることを可能にし、電極取り出し部の形成や、文字や図形等のパターン状発光可能な高分子ＥＬ素子を製造することを目的とするものである。
【０００９】
請求項１に係る第１の発明は、透光性基板上に、少なくとも透明導電層と高分子発光媒体層と対向電極を含む複数の層を有し、これらの層の一層または複数の層がパターニングされている高分子ＥＬ素子の製造工程において、
１．パターニングしたい層を形成した後に、パターン状の粘着層、および剥離用フィルムを設け、
２．前記剥離用フィルムとともに粘着層と、該粘着層の下にあるパターニングしたい層の一部を取り除く、
工程を含み、且つ、前記粘着層を、前記パターニングしたい層の上に、印刷法により前記取り除く部分にのみ積層して形成することを特徴とする高分子ＥＬ素子の製造方法である。
【００１０】
請求項２に係る第２の発明は、前記パターニングしたい層が高分子発光媒体層であることを特徴とする請求項１に記載の高分子ＥＬ素子の製造方法である。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明のパターニング方法により高分子発光媒体層の一部をパターニングした場合の高分子ＥＬ素子の製造方法の一例を、図１及び２に基づいて説明するが、本発明はこれに限られるものではない。
また、必要に応じて本発明以外のエッチングやマスク蒸着等のパターニング方法と組み合わせて、より複雑なパターンを有する高分子ＥＬ素子とすることも可能である。
【００１４】
本発明の製造方法の一例を、図２に従って簡単に説明する。
所定のパターンの透明導電層２が形成された透光性基板１に、高分子発光体層を構成する層の一つである正孔輸送層３をコーティング等の方法で形成する。これがパターニングしたい層である。次いで粘着層４ａを印刷等の方法により非発光部としたいパターンに形成し、その上に剥離用フィルム５ａを貼り合わせる（図２（ａ））。この剥離用フィルムが貼られた高分子ＥＬ素子フィルムに加熱工程を施すと、正孔輸送層３への粘着層４ａの粘着を強めることができる。剥離用フィルム５ａを剥離することで、パターニングされた粘着層４と、その下の正孔輸送層３が剥離用フィルムと一緒に取り除かれ、発光部となるパターンとして基板に正孔輸送層３が残される（図２（ｂ））。続いて、やはり高分子発光体層を構成する層の一つである高分子蛍光体層６を、コーティング等の方法で形成する。前工程と同様にして、粘着層４ｂを非発光部のパターン状に形成し、その上に剥離用フィルム５ｂを貼り合わせた後（図２（ｃ））、剥離用フィルム５ｂを剥離することで粘着層４ｂとそのしたの高分子蛍光体層６ｂを同時に取り除き、高分子蛍光体層６に対してパターニングを行う（図２（ｄ））。続いて、陰極層７を形成して、高分子ＥＬ素子を作製する（図２（ｅ））。
【００１５】
本発明における透光性基板１としては、ガラス基板やプラスチック製のフィルムまたはシートを用いることができる。プラスチック製のフィルムを用いれば、巻き取りにより高分子ＥＬ素子の製造が可能となり、安価に素子を提供することができる。プラスチックフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー、ポリアミド、ポリエーテルサルフォン、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート等を用いることができる。また、透明導電層を成膜しない側にセラミック蒸着フィルムやポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、エチレン−酢酸ビニル共重合体鹸化物等の他のガスバリア性フィルムを積層しても良い。
【００１６】
透明導電層２としては、インジウムと錫の複合酸化物（以下ＩＴＯという）を用いることができ、前記基板上に蒸着またはスパッタリング法により製膜することができる。また、オクチル酸インジウムやアセトンインジウムなどの前駆体を基材上に塗布後、熱分解により酸化物を形成する塗布熱分解法等により形成することもできる。あるいは、アルミニウム、金、銀等の金属が半透明状に蒸着されたものを用いることができる。あるいはポリアニリン等の有機半導体も用いることができる。
【００１７】
上記、透明導電層が積層されたガラスまたはプラスチック基材は、本発明のために特別に製造する必要はなく、導電層の抵抗率や光線透過率に合わせて市販の基材を用いることができる。
【００１８】
透明導電層は、必要に応じてエッチングによりパターニングを行ったり、ＵＶ処理、プラズマ処理などにより表面の活性化を行ってもよい。
【００１９】
本発明の高分子ＥＬ素子を構成する高分子発光媒体層は、高分子蛍光体層のみからなるものでもよく、さらに正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、電子注入層などの層を複数積層してなるものでも、これらの性質を併せ持つ層を含んでなるものであってもよいが、ここでは絶縁層等の、最終的に透明導電層と対向電極の間に挟持された単数または複数の層をまとめて高分子発光媒体層と呼ぶこととし、例えば図１の例では透明導電層２とその対向電極である陰極層７との間に挟持された、正孔輸送層３と高分子蛍光体層６が高分子発光媒体層にあたる。
【００２０】
高分子発光媒体層を構成する正孔輸送層３に用いる正孔輸送材料としては、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリビニルカルバゾール、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との混合物等広く知られた高分子材料を用いることができる。
これらの正孔輸送材料は、トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、酢酸エチル、酢酸ブチル、水等の単独または混合溶媒に溶解または分散させ、スピンコート、スプレーコート、ロールコート、ダイコート等のコーティング法等により塗布できる。特にロールコート、ダイコートにより製膜することが、プラスチックフィルム基板へ薄膜の形成を、巻き取りにより大量生産することができるため好ましい。必要に応じて、界面活性剤、酸化防止剤、粘度調製剤、紫外線吸収剤などを添加してもよい。膜厚は、５０〜２００ｎｍの範囲であるとよい。
【００２１】
次いで正孔輸送層３の上に粘着層４を設ける。次いで積層される剥離用フィルムと正孔輸送材料に接着し、剥離用フィルムを剥離したときに所定のパターンが得られるような接着可能な粘着力を有する粘着剤から任意に選択することができる。ここで粘着層４に用いられる材料としては、ゴム系、アクリル系、シリコン系等が挙げられる。
【００２２】
粘着層４は、続く剥離作業により正孔輸送層３が所定のパターンに剥離されるようなパターン状に設ければよい。また、粘着層４をパターン状に設けるパターニング方法に制限は特にないが、印刷法を用いた方法が作業工程が少なくより好ましい。なお、粘着層の厚さとしては特に制限がないが、剥離用フィルムを設けた時に、上に粘着層の設けられていない正孔輸送層部分と剥離用フィルムが接着し、パターニング後に基板上に残る正孔輸送層３ａの表面を傷つけることを防ぐことができる厚さに設けることが好ましい．
図２においては正孔輸送層３及び高分子蛍光体層６について、それぞれ、本発明の方法でパターニングを行っているが、ここでは図示されていないものの高分子発光媒体層に含まれる可能性のある電子輸送層などの層や、陰極層の上に粘着層４及び剥離用フィルム５を設け剥離除去することで、その下の層すなわち他の発光媒体層や陰極層のパターニングを行うことができる。さらに、図３に示すように複数の層を同時にパターニングすることもできる。
【００２３】
剥離用フィルム５は前記粘着層４に十分に接着するものであれば特に制限はなく、具体的にはポリエチレン、ポリプロピレン等の薄膜のプラスチックフィルムを用いることができる。これらはラミネート法により基板上に形成され粘着層４と密着し、続いて剥離フィルムを剥離した時に、粘着層およびその下に積層されていた正孔輸送層３ｂが所定のパターンに取り除かれる（図２（１）及び（２））。また、正孔輸送層３を設けてから剥離用フィルム５を設けるまでの工程の間に加熱工程を設けると、粘着層４と、当該粘着層４と隣接するパターニングされる層（ここでは正孔輸送層３）との接着力が向上し、正孔輸送層３ｂがより効率良く剥離されやすくなる。
【００２４】
粘着層４および剥離用フィルム５は、前述のように粘着層４をまず高分子発光媒体層のうちパターニングしたい層の上に部分的に形成し、続いて剥離用フィルム５を設けるという方法ではなく、あらかじめ剥離用フィルム５に粘着層４をパターン状に設け、これを、粘着層４側がパターニングしたい任意の層の上に来るようにラミネートするという方法をとってもよい。
【００２５】
高分子発光媒体層を構成する高分子蛍光体層６に用いる高分子蛍光体としては、クマリン系、ペリレン系、ピラン系、アンスロン系、ポルフィレン系、キナクリドン系、Ｎ，Ｎ’−ジアルキル置換キナクリドン系、ナフタルイミド系、Ｎ，Ｎ’−ジアリール置換ピロロピロール系等の蛍光性色素をポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール等の高分子中に溶解させたものや、ポリアリールビニレン系やポリフルオレン系等の高分子蛍光体を用いることができる。
【００２６】
これらの高分子蛍光体は、トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、酢酸エチル、酢酸ブチル、水等の単独または混合溶媒に溶解し、スピンコート、スプレーコート、ロールコート、ダイコート等のコーティング法等により塗布できる。特にロールコート、ダイコートにより製膜することが、プラスチックフィルム基板へ薄膜の形成を、巻き取りにより大量生産することができるため好ましい。
また、高分子蛍光体層には必要に応じて、界面活性剤、酸化防止剤、粘度調製剤、紫外線吸収剤などを添加してもよい。膜厚は、単層または図２（ｂ）のように正孔輸送層と２層構造等の複数層積層する場合においても、合わせて１０００ｎｍ以下であり、好ましくは合わせて５０〜１５０ｎｍである。
【００２７】
高分子蛍光体層６をパターニングするために、前述の正孔輸送層の場合と同様に、粘着層４ｂを所定のパターン状に形成し剥離用フィルム５ｂを設ける（図２（ｄ））。続いて剥離される時に粘着層およびその下に積層されていた高分子蛍光体層６ｂが所定のパターンに取り除かれる（図２（ｅ））。
【００２８】
対向電極である陰極層７としてはＭｇ，Ａｌ，Ｙｂ等の金属単体を用いたり、発光媒体と接する界面にＬｉやＬｉＦ等の化合物を１ｎｍ程度はさんで、安定性・導電性の高いＡｌやＣｕを積層して用いる。または、電子注入効率と安定性を両立させるため、仕事関数の低い金属と安定な金属との合金系、例えばＭｇＡｇ，ＡｌＬｉ，ＣｕＬｉ等の合金が使用できる。陰極の形成方法は材料に応じて、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム法、スパッタリング法を用いることができる。陰極（層）の厚さは、１０ｎｍ〜１０００ｎｍ程度が望ましい。
【００２９】
引き続き、高分子ＥＬ素子を長持ちさせるために外部からの酸素・水分の進入を防ぐ封止工程をおこなう。封止方法としては、乾燥剤を入れ金属缶やガラス板で封止する方法等があるが、例えば図２（６）のように接着層８と封止板９を用いると薄型のＥＬ素子を作製することができる。接着層８に用いる接着剤としては、上に積層する封止板９が長期保存によってはがれないような接着能を持つものであれば何を用いてもよく、例えば熱硬化型のエポキシ接着剤等を用いることができる。また、接着層８には乾燥剤を混入させてもよい。封止板９としては、ガラス板やアルミ箔等の膜厚が薄いものを用いることができる。
【００３０】
以上、図１及び図２に基づいて正孔輸送層３および高分子蛍光体層６を本発明による方法でパターニングして、図１の高分子ＥＬ素子を作製する方法を説明したが、同様の方法で高分子発光媒体層に含まれるその他の層や、陰極層７のパターニングをすることもできる。つまり、陰極層を設けた後に、前述の方法で、粘着層を所定のパターン状に形成し剥離用フィルムを張り合わせこれを剥離除去することで、パターニングすることが可能である。
【００３１】
剥離用フィルムは、高分子ＥＬ素子基板上に設けた後剥離除去をするまでは、保護フィルムとしての役割もなすことができる。たとえば、作成中の高分子ＥＬ素子基板に剥離用フィルムを貼り合わせた後であれば、次の作業工程までのあいだに前記高分子ＥＬ素子基板フィルムの巻き取りを行っても、剥離用フィルムの存在により高分子発光媒体層あるいは陰極層表面などが傷つくのを防ぐ事ができる。
【００３２】
本発明における高分子ＥＬ素子の高分子発光媒体層は、図１及び図２で示す正孔輸送層と高分子蛍光体層の２層構造に限らず、高分子蛍光体層のみの単層構造であったり電荷輸送層等を設けた多層構造であってもよい。多層構造の場合は任意の層を本発明の方法でパターニングすればよい。複数層をパターニングする場合は所定のパターンが得られれば、上記（１）粘着層と剥離用フィルムを設ける工程、と（２）剥離用フィルムを剥離する工程、を繰り返し、パターニングをおこなっても良い。また、本発明のパターニング方法では一層ずつのパターニングが前提であるが、複数の高分子発光媒体層は一度にパターニングすることも可能である。
【００３３】
本発明による方法で高分子発光媒体層または陰極を剥離し、パターニングする場合、剥離能をあげるために剥離したい層の粘着層とは反対側に易剥離層を設けてもよい。この易剥離層は電極の取り出し部でなければ、剥離用フィルムによりパターニングした後に、高分子ＥＬ素子の基板側に残ってもよく、易剥離層にＵＶ吸収剤や乾燥剤を混入させておくことで、素子の劣化を防ぐことのできる効果のある層として利用することが可能である。
【００３４】
以下、実施例により本発明を具体的に述べるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３５】
【実施例】
〈実施例１〉
実施例１における高分子ＥＬ素子を以下図３に従って説明する。
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム基板と、その表面に設けられた、所定のパターンにエッチングされたＩＴＯをそれぞれ透光性基板１、透明導電層２とした。その表面にＵＶ／Ｏ３処理を施し、正孔輸送層３として、下記化学式（１）で表されるポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）を厚み０．１μｍの層となるよう、ロールコート法により形成した。更に、高分子蛍光体層６として、下記化学式（２）で表されるＭＥＨ−ＰＰＶをトルエンに１．５ｗｔ％溶解させた溶液を用いて、ロールコート法でコーティングし膜厚０．１μｍの層を形成した。続いて、粘着層４ａとしてシリコーン樹脂をグラビア法により厚み１μｍで所定のパターンに印刷した。これに剥離用フィルム５ａとしてポリプロピレンフィルム１６をラミネートした（図３（ａ））。この剥離用フィルム５ａがラミネートされた高分子ＥＬ素子フィルムを９０℃オーブンによる加熱工程を通した後に、剥離用フィルム５ａを剥離除去することで、パターニングされた粘着層４ａの下に積層されていた高分子蛍光体層６ｂおよび正孔輸送層３ｂも同時に取り除かれ、所定のパターニングがおこなえた（図３（ｂ））。最後に対向電極である陰極層７としてフッ化リチウム、アルミニウムを真空蒸着により０．５ｎｍ、２００ｎｍ形成し、図３（ｃ）で示す高分子ＥＬ素子を作製した。
【００３６】
【化１】

【００３７】
【化２】

【００３８】
得られた高分子ＥＬ素子は、輝度は８Ｖで８０ｃｄ／ｍ２、輝度ムラは±５％であった。
【００３９】
〈実施例２〉
実施例２における高分子ＥＬ素子を以下図４に従って説明する。
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム基板と、その表面に設けられた、所定のパターンにエッチングされたＩＴＯをそれぞれ透光性基板１、透明導電層２とした。その表面にＵＶ／Ｏ３処理を施し、正孔輸送層３として、下記化学式（３）で表されるポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸の１ｗｔ％分散型水溶液（以下ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳという）を用いてダイコートにより厚み０．１μｍの層を形成した。この上に、実施例１と同様に粘着層４ａとしてシリコーン樹脂をグラビア印刷法により厚み１μｍで所定のパターンに印刷し、剥離用フィルム５ａとしてポリプロピレンフィルム２０をラミネートした（図４（ａ））。この剥離用フィルム５ａがラミネートされた高分子ＥＬ素子フィルムを９０℃オーブンによる加熱工程を通した後に、剥離用フィルム５ａを剥離除去することで正孔輸送層３の所定のパターニングがおこなえた（図４（ｂ））。更に、高分子蛍光体層６として、ＭＥＨ−ＰＰＶをトルエンに１．５ｗｔ％溶解させた溶液を用いて、ロールコート法によりコーティングし膜厚０．１μｍの層を形成した。正孔輸送層３のパターニングと同様に、粘着層４ｂをグラビア印刷し、剥離用フィルム５ｂをラミネートした後（図４（ｃ））、加熱工程を通し、剥離用フィルム５ｂを剥離することで高分子蛍光体層６のパターニングがおこなえた（図４（ｄ））。最後に対向電極である陰極層７としてフッ化リチウム、アルミニウムを真空蒸着により０．５ｎｍ、２００ｎｍ形成して、高分子ＥＬ素子を作製した（図４（ｅ））。
【００４０】
【化３】

【００４１】
得られた高分子ＥＬ素子は、輝度は８Ｖで１００ｃｄ／ｍ２、輝度ムラは±５％であった。
【００４２】
〈比較例１〉
実施例２において、正孔輸送層と高分子蛍光体層について、実施例２と同じ溶液を用い、インクジェット法でパターニングしたこと以外は、同様にして同じ構造の高分子ＥＬ素子を作製した。
【００４３】
得られた高分子ＥＬ素子は、高分子発光媒体層にピンホールがあり、その箇所でＩＴＯと陰極が接触したために、電圧を印加するとショートしてしまい、発光しなかった。
【００４４】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、均一な膜面が得られるコーティング法により塗布した高分子発光媒体層を、粘着層と剥離フィルムを使用することで所定のパターニングをすることができ、文字や図形等のパターンの均一発光をする高分子ＥＬ素子の作製が可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の製造方法で製造された高分子ＥＬ素子の断面図である。
【図２】本発明の高分子ＥＬ素子の製造方法の一例を示した説明図である。
【図３】実施例１の高分子ＥＬ素子の製造方法を示した説明図である。
【図４】実施例２の高分子ＥＬ素子の製造方法を示した説明図である。
【符号の説明】
１ …透光性基板
２ …透明導電層
３ …正孔輸送層
３ａ…（基板上に残った）正孔輸送層
３ｂ…（基板から取り除かれた）正孔輸送層
４ …粘着層
４ａ…（１回目のパターニングを行った）粘着層
４ｂ…（２回目のパターニングを行った）粘着層
５ …剥離用フィルム
５ａ…（１回目のパターニングを行った）剥離用フィルム
５ｂ…（２回目のパターニングを行った）剥離用フィルム
６ …高分子蛍光体層
６ａ…（基板上に残った）高分子蛍光体層
６ｂ…（基板から取り除かれた）高分子蛍光体層
７ …陰極
８ …接着層
９ …封止板

Claims (2)

1. 透光性基板上に、少なくとも透明導電層と高分子発光媒体層と対向電極を含む複数の層を有し、これらの層の一層または複数の層がパターニングされている高分子ＥＬ素子の製造工程において、
   １．パターニングしたい層を形成した後に、パターン状の粘着層、および剥離用フィルムを設け、
   ２．前記剥離用フィルムとともに粘着層と、該粘着層の下にあるパターニングしたい層の一部を取り除く、
   工程を含み、且つ、前記粘着層を、前記パターニングしたい層の上に、印刷法により前記取り除く部分にのみ積層して形成することを特徴とする高分子ＥＬ素子の製造方法。
2. 前記パターニングしたい層が高分子発光媒体層であることを特徴とする請求項１に記載の高分子ＥＬ素子の製造方法。

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