JP4320802B2 - Microscope with electric stage - Google Patents
Microscope with electric stage Download PDFInfo
- Publication number
- JP4320802B2 JP4320802B2 JP24211298A JP24211298A JP4320802B2 JP 4320802 B2 JP4320802 B2 JP 4320802B2 JP 24211298 A JP24211298 A JP 24211298A JP 24211298 A JP24211298 A JP 24211298A JP 4320802 B2 JP4320802 B2 JP 4320802B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- wafer
- semiconductor wafer
- movable range
- microscope
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、シリコンウエハなどの被検査物を観察するための電動ステージ付きの顕微鏡に関し、特に、複数種類の形状、大きさを有する被検査物に対して最適なステージ可動範囲を設定可能にした顕微鏡に関する。
【0002】
【従来の技術】
ウエハ検査装置は、ウエハキャリアから取り出したウエハを例えば上下反転するなどして全体を観察するマクロ検査部と、ウエハを光学的に拡大して検査するミクロ検査用の顕微鏡部分とで構成される。従来のウエハ検査装置での顕微鏡部分は、被検査物であるウエハをステージ上に載置し、電動で或いは手動でステージを移動させ、被検査物の観察希望部位を顕微鏡の視野内に移動させることが必要である。
【0003】
その場合、電動で駆動されるステージは、一般に、予め仕様で決められた可動範囲を有し、その可動範囲は固定であり、多くの場合最大被検査物の全範囲をカバーする程度の四角形の範囲に設定される。そして、オペレータがジョイスティックなどのステージ操作手段を操作することに応答して、ステージが上記の可動範囲内でX方向とY方向に移動する。また、手動の場合も、可動範囲内でのステージの移動は自由に行うことができる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、ステージの可動範囲に比べて被検査物のサイズが小さい場合は、ジョイスティックによりステージを移動させると、視野範囲が被検査物の外になってしまうことがあるので、オペレータは注意深くステージを移動させる必要がある。特に、高倍率で被検査物を観察したい場合、顕微鏡の視野範囲が被検査物の外にはみ出てしまうと、再度被検査物上の所望の部位に位置するようにステージを移動することは、高倍率の光学系を介して観察する限り困難である。また、高倍率のままジョイスティックを操作する場合は、ステージの移動速度を低速に設定しておかなければ観察希望部位の位置にスムーズに操作することは困難であり、ステージ移動速度を低速に設定すると移動時間が長くなる。そのため、一旦低倍率で観察しながらジョイスティックを操作してステージを移動し、観察希望部位近傍に移動したことを確認してから、高倍率に切り換えて、微小範囲の移動を行って調整する必要があり、操作が煩雑になる。
【0005】
更に、シリコンウエハを観察する場合、ステージの可動範囲は例えば最大形状である8インチのウエハ用に設定される。かかる顕微鏡で、6インチや4インチのウエハを観察する場合、視野範囲がウエハ形状の外にはみ出るまでステージが駆動可能となり、上記と同様の課題が残る。
【0006】
更に、ウエハの観察の中に、ウエハの周囲に沿って観察を行う要求や、ウエハ内のパターンが焼き付けられたチップの端部に沿って観察を行う要求などが存在する。かかる場合も、その観察すべき端部や周囲の形状よりもステージの可動範囲が広いと、観察すべき端部や周囲に沿って観察を行う為には、高倍率で観察しながら低速でステージを移動するか、低倍率で移動しては高倍率に切り換える操作を繰り返すかを行う必要がある。
【0007】
パーソナルコンピュータなどを利用して、モニタ画面上に被検査物を表示し、観察すべき範囲、部位を指定することで、その観察範囲または部位への移動を自動で行うシステムが開発されているが、そのようなシステムは大がかりであり、検査装置の価格を上げてしまうことになる。
【0008】
そこで、本発明の目的は、コストアップを伴わずに、被検査物のサイズ、形状あるいは所定の検査範囲に応じてステージの可動範囲を可変設定することができ、オペレータによる操作性を向上させた電動ステージつき顕微鏡を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明は、XY方向に駆動可能なステージと、前記ステージ上に載置された被検査物を拡大する光学系とを有する顕微鏡において、
駆動操作入力に応答して前記ステージの駆動を指示すると共に、前記ステージの位置情報を受け、前記被検査物の検査範囲に関する入力情報に応じてステージ可動範囲を決定し、当該ステージ可動範囲外への移動を指示する前記駆動操作入力に対して前記ステージの駆動を禁止するステージ駆動制御部を有することを特徴とする。
【0010】
上記発明によれば、被検査物の検査範囲に応じて、ステージの可動範囲が設定され、その範囲外への移動が禁止されるので、高倍率で観察しながら操作しても、顕微鏡の視野範囲が被検査物の検査範囲外に移動することが防止され、操作性を向上させることができる。また、検査範囲の周辺部に沿って検査を行う必要がある場合は、更に操作性が向上する。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態例を説明する。しかしながら、かかる実施の形態例が、本発明の技術的範囲を限定するものではない。
【0012】
図1は、本発明の電動ステージ付き顕微鏡を有するウエハ検査装置の全体構成図である。ウエハ検査装置100は、ウエハキャリア21を載置するキャリア載置機構部20と、ウエハ60の表面や裏面を目視検査するマクロ検査機構部30と、ウエハ60の表面を拡大してミクロ検査する顕微鏡10とで構成される。図1に示されたウエハ検査装置100は、通常作業机の上に置かれ、オペレータが顕微鏡の前に座って、操作部50のボタンやジョイスティック52を操作する。
【0013】
ウエハキャリア21内に収納された複数のウエハは、第1の搬送機構34により取り出され、吸着部を有するバッファ部32上に載置される。バッファ部32は、必要に応じてウエハ60の表面或いは裏面をオペレータ側に向ける。その状態が、照明装置62により照らされ、オペレータは顕微鏡の位置に座ったままマクロ検査を行うことができる。その後、第2の搬送機構36がバッファ部32からウエハ60を受け取り、顕微鏡10のステージ12の図示しないシリンジ上に載置する。ウエハは、シリンジによって吸着、固定され、ステージ12の移動により、ウエハの所望の観察位置が顕微鏡の視野範囲内に移動する。
【0014】
顕微鏡10に設けられたステージは、図示しない電動駆動手段によりX方向とY方向に移動可能である。オペレータがジョイスティック52を所望の方向に操作することで、図示しないステージ駆動制御部がステージ12をその方向に移動させる。
【0015】
図2は、本実施の形態例におけるステージとステージ駆動制御部を示す図である。ステージ12には、X方向の駆動を行う駆動モータとその移動距離を検出するロータリーエンコーダを有するX駆動手段13X、Y方向の駆動を行う駆動モータとその移動距離を検出するロータリーエンコーダを有するY駆動手段13Y、ステージのX方向の原点を検出するセンサ14X、ステージのY方向の原点を検出するセンサ14Y、及びシリンジ15に載置される被検査物であるウエハ60のサイズを検出する反射型センサ16とが設けられる。
【0016】
図1に示した第2の搬送機構36に載せられたウエハ60が、ステージ12のシリンジ15上に、ウエハ中心がほぼシリンジの中心に位置するように載置される。
【0017】
ステージ駆動制御部70は、例えばマイクロコンピュータを利用した制御部である。即ち、ステージ駆動制御プログラムが記録されたメモリ部73とそのプログラムを実行するCPU72とが、共通のバス71を介して接続される。また、ステージのセンサ14X、14Y、16と駆動手段13X、13Yに接続されるインターフェース74と、操作部のジョイスティック52や操作ボタン53などと接続されるインターフェース76も、バス71を介して接続される。
【0018】
ステージ駆動制御プログラムに従い、ステージ駆動制御部70は、後述する通り、センサ14X、14Yからのステージ原点の位置情報及び駆動手段13X、13Yからの移動量情報を受信し、常にステージ12の現在位置を認識し、メモリ部73内に記録する。また、センサ16からの検出信号に従ってウエハ60の直径を検出し、操作ボタン53からのステージの可動範囲の形状を指定する検査範囲指定情報に従って、ステージの可動範囲を決定し、必要な情報をメモリ部73に記録する。そして、ジョイスティック52からの所定方向の操作信号に応答して、上記決定したステージ可動範囲内でステージの駆動を駆動手段13X、13Yに指示する。
【0019】
ウエハ60の直径の情報は、図1に示したマクロ検査機構部30内のウエハ搬送機構34,36によりウエハが搬送される途中で検出されてもよい。その場合は、マクロ検査機構30からのウエハサイズ情報が、通信回線及びインターフェース75を介して供給される。
【0020】
図3は、ステージ可動範囲の例を示す図である。例えば8インチのウエハがステージ上に載せられると、センサ16によりウエハサイズが検出される。センサ16からの情報に従って、ステージ駆動制御部70では、ステージ可動範囲を8インチの円形の領域64と設定する。ここでは、操作ボタンなどから特に指示がない場合は、ステージ可動範囲は円形の領域になるものとする。そして、常に監視している現在のステージの位置とジョイスティック52からの操作信号とから、移動後の位置がステージ可動範囲64を超えるか否かが判断され、超える場合は、ステージ12の駆動が禁止される。即ち、オペレータがジョイスティック52を操作しても、視野範囲がステージ可動範囲64を超える方向にステージが駆動されない。
【0021】
次に、6インチのウエハ61がステージに載せられると、反射型のセンサ16がそのサイズを検出する。センサ16からの情報に従って、ステージ駆動制御部70では、ステージ可動範囲を6インチの円形の領域62と設定する。そして、上記と同様に、ステージの駆動が、設定されたステージ可動範囲62内に限定される。
【0022】
図4は、ステージ可動範囲の形状が異なる別の例を示す図である。図3ではウエハの外周に沿った円形の領域をステージ可動範囲に設定したのに対して、図4の例では、ウエハ内の露光パターンが焼き付けられたダイパターン65の周囲を囲む矩形形状66に、ステージ可動範囲が設定される。そのために、オペレータが顕微鏡の視野内に4つの点a,b,c,dを移動させ、それぞれの点の座標をステージ駆動制御部70に供給する。そして、操作ボタン53などにより、ステージ可動範囲を矩形にすることが指定されると、4つの点の座標から、図4に示されるステージ可動範囲66が設定される。
【0023】
あるいは、ウエハの形状に対して、焼き付けられるダイパターンの位置が予め分かっている場合は、検出されるウエハの直径サイズに応じて、自動的に上記矩形領域を設定することができる。
【0024】
この様に、オペレータのステージ駆動により、検査範囲を画定する所定の点の座標が供給される場合は、被検査物であるウエハ内の所定の領域を検査領域と指定して、顕微鏡の視野がその検査領域から外れないようにステージ可動範囲を設定することが可能になる。図4の例では、ダイパターン65が形成されている領域にステージ可動範囲が設定される。従って、ダイパターン65の周辺のパターンを中心に検査したい場合などに、操作性を向上させることができる。
【0025】
図5は、ステージ駆動制御プログラムのフローチャート図である。このフローチャートに従って、ステージの駆動がステージ可動範囲内に限られる点を説明する。電源投入後に、電動ステージ12はX、Y駆動手段13により可動範囲の所定の一端に駆動され、ステージ駆動制御部70は、センサ14からの信号によってステージ12の基準点(原点)を検出し、メモリ部73に記録する(S10)。また、ステージ駆動制御部70は、センサ16からの信号によりステージ12に載置されたウエハ60の直径を検出する(S12)。ウエハ60の直径の種類は、例えば8インチ、6インチ、5インチ及び4インチなどと決められているので、図2に示される通り、各サイズのウエハの外周縁をはさむ位置に反射型のセンサ16を配置することで、いずれの直径のウエハかを検出することができる。
【0026】
図5の例では、ウエハが6インチの場合は、工程S14以下が、ウエハが8インチの場合は、工程S16以下がそれぞれ実行されるが、いずれのサイズでもない場合は、終了する。今仮に、ウエハサイズが6インチの場合とすると、ステージ駆動制御部70は、例えば、ステージの可動範囲を図3の62の円形に設定する。即ち、半径R=3インチというステージ可動範囲設定データが、メモリ部73に記録される。或いは、前述した通り、オペレータの操作により、ウエハ内における所定の4点の位置が供給され矩形範囲に設定する旨の操作信号が供給された場合は、ステージの可動範囲は、図4の66の如き矩形領域に設定される。即ち、X座標はAからBまで、Y座標はCからDまでというステージ可動範囲設定データが、メモリ部73に記録される(S18)。図5のパターン1は、上記の可動領域62或いは可動領域66を意味する。
【0027】
そこで、オペレータによるジョイスティック52によるステージ駆動操作が行われると(S20)、ステージ駆動制御部70は、現在のステージの座標からステージ駆動操作信号の方向に移動した場合に、ステージ座標(X、Y)がパターン1のステージ可動範囲を超えるか否かの判断を行う(S22)。例えば、ステージ可動範囲が半径Rの円形に設定されているとすると、X2+Y2<R2か否かが判断される。また、ステージ可動範囲が上記の矩形範囲に設定されているとすると、A<X<B、C<Y<Dか否かが判断される。可動範囲を超えない場合は、供給されたステージ駆動操作信号に応答して、指示された方向にステージ12を駆動するよう駆動信号を駆動手段13に与える(S24)。また、可動範囲を超える場合は、供給されたステージ駆動操作信号にかかわらず、ステージ駆動が停止される(S26)。
【0028】
上記の工程S20、S22、S24、S26は、所定のサンプリング期間毎に繰り返される。従って、駆動操作信号に応答して一旦ステージが駆動され始めても、途中からそれ以上駆動するとステージ可動範囲(パターン1)を超えることになると、それ以上のステージの駆動は停止される。即ち、オペレータはジョイスティックを所望の方向に操作し続けると、ステージをステージ可動範囲の終端位置まで移動させて自動的に停止させることができる。そして、それ以上の駆動は、駆動操作にかかわらず禁止される。
【0029】
ウエハのサイズが8インチの場合も、上記6インチの場合の駆動制御と同じである。ウエハサイズが8インチの場合に対応するウエハ可動範囲であるパターン2に設定され、現在の位置から移動した場合のステージの座標(X、Y)がステージ可動範囲(パターン2)を超えるか否かがチェックされ(S32)、超える場合は、それ以上のステージの駆動動作が停止される(S26)。
【0030】
【発明の効果】
以上、本発明によれば、被検査物のサイズに応じた検査範囲あるいは所望の検査範囲にステージ可動範囲を設定することができ、その設定した可動範囲を超える操作が与えられた場合は、ステージの駆動が停止されるので、オペレータはジョイスティックを利用した操作を行っても、顕微鏡の視野範囲が被検査物の外にあるいは所望の検査範囲の外にはずれてしまうことがなく、操作性を向上することができる。また、被検査物の周辺を観察したい場合や、特定の検査範囲の周囲を観察したい場合は、顕微鏡の視野範囲がその周囲の位置で停止するので、操作性を上げることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の電動ステージ付き顕微鏡を有するウエハ検査装置の全体構成図である。
【図2】本実施の形態例におけるステージとステージ駆動制御部を示す図である。
【図3】ステージ可動範囲の例を示す図である。
【図4】ステージ可動範囲の別の例を示す図である。
【図5】ステージ駆動制御プログラムのフローチャート図である。
【符号の説明】
10 顕微鏡
12 ステージ
13 ステージ駆動手段
14、16 センサ
52 ステージ駆動操作用ジョイスティック
70 ステージ駆動制御部[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a microscope with an electric stage for observing an inspection object such as a silicon wafer, and in particular, it is possible to set an optimum stage movable range for an inspection object having a plurality of types and sizes. It relates to a microscope.
[0002]
[Prior art]
The wafer inspection apparatus includes a macro inspection unit that observes the entire wafer taken upside down, for example, by inverting the wafer taken out of the wafer carrier, and a micro inspection microscope unit that optically enlarges and inspects the wafer. The microscope part in the conventional wafer inspection apparatus is to place the wafer as the inspection object on the stage, and move the stage electrically or manually to move the desired observation part of the inspection object into the field of view of the microscope. It is necessary.
[0003]
In that case, the stage driven by electric power generally has a movable range determined in advance by the specification, and the movable range is fixed, and in many cases, the stage is a square that covers the entire range of the maximum inspection object. Set to range. Then, in response to the operator operating the stage operation means such as a joystick, the stage moves in the X direction and the Y direction within the above movable range. Also in the case of manual operation, the stage can be freely moved within the movable range.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
However, if the size of the object to be inspected is smaller than the movable range of the stage, moving the stage with the joystick may cause the visual field range to be outside the object to be inspected, so the operator carefully moves the stage. It is necessary to let In particular, when it is desired to observe the inspection object at a high magnification, when the field of view of the microscope protrudes outside the inspection object, the stage is moved again so as to be positioned at a desired site on the inspection object. It is difficult as long as observation is performed through a high-magnification optical system. Also, when operating the joystick with a high magnification, it is difficult to smoothly operate to the position of the desired observation site unless the stage moving speed is set to a low speed, and if the stage moving speed is set to a low speed, Travel time is longer. Therefore, it is necessary to operate the joystick while observing at a low magnification once, move the stage, confirm that it has moved to the vicinity of the desired observation site, switch to a high magnification, and move and adjust the minute range. Yes, the operation becomes complicated.
[0005]
Further, when observing a silicon wafer, the movable range of the stage is set for an 8-inch wafer having a maximum shape, for example. When a 6-inch or 4-inch wafer is observed with such a microscope, the stage can be driven until the field of view is outside the wafer shape, and the same problem as described above remains.
[0006]
Further, in the observation of the wafer, there are a request for observation along the periphery of the wafer, a request for observation along the edge of the chip on which the pattern in the wafer is printed, and the like. Even in such a case, if the movable range of the stage is wider than the end or surrounding shape to be observed, in order to perform observation along the end or surrounding to be observed, the stage is moved at a low speed while observing at a high magnification. Or moving at a low magnification and repeating the operation of switching to a high magnification.
[0007]
A system has been developed that automatically moves to the observation range or part by displaying the object to be inspected on a monitor screen using a personal computer and specifying the range and part to be observed. Such a system is large and increases the cost of the inspection device.
[0008]
Therefore, the object of the present invention is to variably set the movable range of the stage according to the size, shape or predetermined inspection range of the object to be inspected without increasing the cost, thereby improving the operability by the operator. The object is to provide a microscope with an electric stage.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, the present invention provides a microscope having a stage that can be driven in the XY directions and an optical system that expands an object to be inspected placed on the stage.
In response to a driving operation input, the stage is instructed to be driven, the stage position information is received, the stage movable range is determined according to the input information related to the inspection range of the inspection object, and the stage is moved out of the stage movable range. A stage drive control unit for prohibiting the drive of the stage in response to the drive operation input instructing movement of the stage.
[0010]
According to the above invention, the movable range of the stage is set according to the inspection range of the object to be inspected, and movement outside the range is prohibited. The range is prevented from moving outside the inspection range of the object to be inspected, and the operability can be improved. In addition, when it is necessary to perform inspection along the periphery of the inspection range, the operability is further improved.
[0011]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. However, such an embodiment does not limit the technical scope of the present invention.
[0012]
FIG. 1 is an overall configuration diagram of a wafer inspection apparatus having a microscope with an electric stage according to the present invention. The
[0013]
The plurality of wafers housed in the
[0014]
The stage provided in the
[0015]
FIG. 2 is a diagram showing a stage and a stage drive control unit in the present embodiment. The
[0016]
The
[0017]
The stage drive control unit 70 is a control unit using a microcomputer, for example. That is, the
[0018]
In accordance with the stage drive control program, the stage drive control unit 70 receives the position information of the stage origin from the
[0019]
Information on the diameter of the
[0020]
FIG. 3 is a diagram illustrating an example of the stage movable range. For example, when an 8-inch wafer is placed on the stage, the
[0021]
Next, when the 6-inch wafer 61 is placed on the stage, the
[0022]
FIG. 4 is a diagram illustrating another example in which the shape of the stage movable range is different. In FIG. 3, a circular area along the outer periphery of the wafer is set as the stage movable range, whereas in the example of FIG. 4, a rectangular shape 66 surrounding the die pattern 65 on which the exposure pattern in the wafer is printed is formed. The stage movable range is set. For this purpose, the operator moves the four points a, b, c, and d within the field of view of the microscope, and supplies the coordinates of each point to the stage drive controller 70. When the stage movable range is designated to be rectangular by the
[0023]
Alternatively, when the position of the die pattern to be baked is known in advance with respect to the shape of the wafer, the rectangular area can be automatically set according to the detected wafer diameter size.
[0024]
In this way, when the coordinates of a predetermined point that defines the inspection range are supplied by the operator's stage drive, a predetermined region in the wafer as the inspection object is designated as the inspection region, and the field of view of the microscope is The stage movable range can be set so as not to deviate from the inspection area. In the example of FIG. 4, the stage movable range is set in the region where the die pattern 65 is formed. Therefore, the operability can be improved when it is desired to inspect around the pattern around the die pattern 65.
[0025]
FIG. 5 is a flowchart of the stage drive control program. The point that the drive of the stage is limited within the stage movable range will be described according to this flowchart. After the power is turned on, the
[0026]
In the example of FIG. 5, if the wafer is 6 inches, step S <b> 14 and the subsequent steps are executed, and if the wafer is 8 inches, the steps S <b> 16 and the subsequent steps are executed. Assuming that the wafer size is 6 inches, the stage drive controller 70 sets the movable range of the stage to a
[0027]
Therefore, when the stage drive operation is performed by the operator using the joystick 52 (S20), the stage drive control unit 70 moves to the stage drive operation signal direction from the current stage coordinates, and the stage coordinates (X, Y). Is determined to exceed the stage movable range of pattern 1 (S22). For example, if the stage movable range is set to a circle having a radius R, it is determined whether X 2 + Y 2 <R 2 . If the stage movable range is set to the rectangular range, it is determined whether A <X <B and C <Y <D. If the movable range is not exceeded, in response to the supplied stage drive operation signal, a drive signal is given to the drive means 13 to drive the
[0028]
Said process S20, S22, S24, S26 is repeated for every predetermined sampling period. Therefore, even if the stage starts to be driven once in response to the drive operation signal, if the stage is further driven halfway, the stage is stopped when it exceeds the stage movable range (pattern 1). In other words, when the operator continues to operate the joystick in a desired direction, the stage can be moved to the end position of the stage movable range and automatically stopped. Further driving is prohibited regardless of the driving operation.
[0029]
Even when the wafer size is 8 inches, the drive control is the same as in the case of 6 inches. Whether or not the coordinates (X, Y) of the stage when it is moved from the current position exceeds the stage movable range (pattern 2) is set to the
[0030]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, the stage movable range can be set to the inspection range according to the size of the inspection object or a desired inspection range, and when an operation exceeding the set movable range is given, the stage The operation of the microscope is stopped, so that even if the operator performs an operation using a joystick, the field of view of the microscope is not shifted outside the inspection object or outside the desired inspection range, improving operability. can do. Further, when it is desired to observe the periphery of the object to be inspected, or when it is desired to observe the periphery of a specific inspection range, the field of view of the microscope stops at the peripheral position, so that the operability can be improved.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an overall configuration diagram of a wafer inspection apparatus having a microscope with an electric stage according to the present invention.
FIG. 2 is a diagram showing a stage and a stage drive control unit in the embodiment.
FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a stage movable range.
FIG. 4 is a diagram showing another example of the stage movable range.
FIG. 5 is a flowchart of a stage drive control program.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF
Claims (3)
前記半導体ウエハのサイズを検出する手段と、
駆動操作入力に応答して前記ステージの駆動を指示すると共に、前記半導体ウエハの形状に対する前記露光パターンの位置情報を有し、前記ステージの位置情報と前記検出されたウエハサイズ情報と前記半導体ウエハの形状に対する前記露光パターンの位置情報とに基づき、前記半導体ウエハ上の前記露光パターンに対応する領域が前記顕微鏡の視野範囲となるようにステージ可動範囲を決定し、当該ステージ可動範囲外への移動を指示する前記駆動操作入力に対して前記ステージの駆動を禁止するステージ駆動制御部を有することを特徴とする電動ステージ付き顕微鏡。In a microscope having a stage that can be driven in the XY direction and an optical system that expands a semiconductor wafer that is placed on the stage and has an exposure pattern ,
Means for detecting the size of the semiconductor wafer;
In response to a drive operation input, the drive of the stage is instructed, and the position information of the exposure pattern with respect to the shape of the semiconductor wafer is included. The position information of the stage, the detected wafer size information, and the semiconductor wafer Based on the position information of the exposure pattern with respect to the shape, the stage movable range is determined so that the region corresponding to the exposure pattern on the semiconductor wafer becomes the visual field range of the microscope, and the movement outside the stage movable range is performed. An electric stage-equipped microscope, comprising: a stage drive control unit that prohibits driving of the stage in response to the drive operation input to be instructed.
前記半導体ウエハを前記ステージ上に搬送する搬送機構を有し、
前記半導体ウエハのサイズを検出する手段は、前記半導体ウエハが前記ステージ上に載置されるまでの間に前記半導体ウエハのサイズを検出することを特徴とする電動ステージ付き顕微鏡。In claim 1 ,
A transport mechanism for transporting the semiconductor wafer onto the stage;
It said means for detecting the size of the semiconductor wafer, the semiconductor wafer is motorized stage with a microscope, characterized by detecting the size of the semiconductor wafer until placed on the stage.
前記半導体ウエハは略円形であり、
前記ステージ可動範囲は、前記半導体ウエハ内の矩形形状からなる前記露光パターンを囲む範囲であることを特徴とする電動ステージ付き顕微鏡。In claim 1 or 2 ,
The semiconductor wafer is substantially circular;
The stage-movable range is a range surrounding the exposure pattern having a rectangular shape in the semiconductor wafer.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24211298A JP4320802B2 (en) | 1998-08-27 | 1998-08-27 | Microscope with electric stage |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24211298A JP4320802B2 (en) | 1998-08-27 | 1998-08-27 | Microscope with electric stage |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000075215A JP2000075215A (en) | 2000-03-14 |
| JP4320802B2 true JP4320802B2 (en) | 2009-08-26 |
Family
ID=17084485
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24211298A Expired - Lifetime JP4320802B2 (en) | 1998-08-27 | 1998-08-27 | Microscope with electric stage |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4320802B2 (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005266083A (en) * | 2004-03-17 | 2005-09-29 | Olympus Corp | Device and method for observation |
| JP5070074B2 (en) * | 2008-02-01 | 2012-11-07 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | Scanning electron microscope |
| JP5174693B2 (en) * | 2009-01-22 | 2013-04-03 | オリンパス株式会社 | Microscope system |
-
1998
- 1998-08-27 JP JP24211298A patent/JP4320802B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000075215A (en) | 2000-03-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US10482587B2 (en) | Apparatus having transfer control based on imaged image | |
| JP5002961B2 (en) | Defect inspection apparatus and defect inspection method | |
| JP5529039B2 (en) | Method and system for controllably scanning a cell sample | |
| JP2008091476A (en) | Device for inspecting appearance | |
| JP7219879B2 (en) | Auxiliary method and auxiliary equipment | |
| JP4320802B2 (en) | Microscope with electric stage | |
| TW200822260A (en) | Visual inspection apparatus and visual inspection method | |
| JP2013191618A (en) | Processing device | |
| JP2005266083A (en) | Device and method for observation | |
| US20160189989A1 (en) | Processing apparatus | |
| JP2007234932A (en) | Device for checking external appearance | |
| JP7441131B2 (en) | Method for setting setting information used for monitoring substrate processing, method for monitoring substrate processing equipment, and substrate processing equipment | |
| JP2003114201A (en) | X-ray fluoroscope | |
| JP4981703B2 (en) | Appearance inspection apparatus and appearance inspection method | |
| JP2004202634A (en) | Centering device | |
| JP2014075439A (en) | Processing apparatus | |
| JP3439932B2 (en) | Peripheral exposure equipment | |
| JP3979484B2 (en) | Dicing machine | |
| TW202210972A (en) | Processing apparatus | |
| KR102864219B1 (en) | Processing apparatus | |
| JP2023046458A (en) | processing equipment | |
| JP4158027B2 (en) | X-ray fluoroscopy system | |
| US12411600B2 (en) | Touch panel | |
| JP2025062688A (en) | Processing Equipment | |
| JP7499664B2 (en) | Processing System |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050701 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20071002 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080805 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081003 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081111 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20081216 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090213 |
|
| A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20090408 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090512 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090525 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120612 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20190612 Year of fee payment: 10 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |