JP4328066B2 - Film thickness inspection apparatus and film thickness inspection method - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば、電子部品に形成された皮膜の厚さを検査する膜厚検査装置および膜厚検査方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
小型電子機器等に使用されるチップ抵抗器は、通常、セラミック基板上に抵抗体を積層し、その電極については、これら積層体の端部にニッケルメッキ層を配し、さらに、ニッケル層の上に、はんだ層を設けるという構造を有している。すなわち、ニッケルメッキ層がはんだ層で覆われているため、外観選別によっては、ニッケルメッキ層の有無やその厚さを検査することはできない。
【0003】
図15は、角型チップ抵抗器500の断面構造を示しており、同図の(a)は、抵抗体のニッケルメッキ層502に、そのメッキ厚が非常に薄い部分(メッキ不良箇所)520を有する例であり、(b)は、(a)のチップ抵抗器をプリント基板515に実装したときの様子を示している。
【0004】
図15の(a)から分かるように、チップ抵抗器のメッキ層が薄く、切れ目があっても、はんだ層505は、一見正常に形成される。そのため、(b)に示すように、チップ抵抗器500を実装後、加熱によってはんだ層505が溶け、ニッケル層の切れ目530で、はんだが抵抗器の端面から消失し、その部分において導通不良を起こすことがある。
【0005】
そこで、このような不具合をなくすため、従来、ニッケルが磁性体であることを利用して、磁石を使用した不良品の吸引選別検査が行われている。この方法は、チップ抵抗器の電極近傍に磁石を配し、その抵抗器のニッケル層が正常な厚さで形成されているときには、抵抗器が磁石に引き寄せられるが、ニッケルメッキ厚が薄いか、あるいはメッキ層がない場合には、抵抗器が磁石に吸引されないことを選別の基本原理とするものである。
【0006】
また、他の測定方法として、従来より、うず電流損を利用した膜厚測定方法がある。例えば、特開昭62−144002号公報には、自励発振したコイルからの交番磁界を金属薄膜に当てることで、うず電流を発生させ、それに伴うコイルのQ値の低下させて、それを発振振幅の大きさとして取り出す膜厚測定装置が開示されている。
【0007】
さらに、特開2001−289606号公報は、うず電流損を利用した従来の測定方法の問題点、つまり、測定対象の形状の影響を受けやすいという点に鑑みて、うず電流を検出原理としているものの、膜厚測定用と曲率測定用のコイルを設けることで、曲面に対する膜厚測定を可能にした方法、装置に関するものである。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の検査方法(磁石を使用した不良品の吸引選別検査方法)には、以下の問題がある。すなわち、▲1▼電極端面(磁石に向いている面)のニッケルメッキ層が薄くても、電極上下面(一辺が上記の端面につながり、その面方向が磁石に対して90度回転した面)のニッケルメッキ層が厚いと、抵抗器が磁石に吸引され、不良品が良品と誤判定されてしまう。▲2▼機器の小型化に伴いチップ抵抗のチップサイズが小さくなっているため、素子そのものの重量が非常に軽く、検査対象素子が、磁力ではなく、静電気や汚れ等で磁石に付着してしまい、小型軽量の部品には、この方法を使用できない。▲3▼磁石に付くか、付かないかだけの判定であるため、ニッケルメッキの厚さのばらつきが、どの程度であるかの判断ができない。従って、抵抗器の製造上、ニッケルメッキ厚の管理幅が甘くなる。▲4▼最初から被検査品が帯磁(着磁)している場合、良否判定に誤差が生じる。
【0009】
また、複数個の製品についてその断面を削って、ニッケルメッキ層の厚さを測定すれば、正確にニッケル層の状態と、そのばらつき分布とを知ることができても、それには、必然的に被検査品の破壊を伴う。その結果、手間と時間がかかり、抜き取り検査方法として実用的ではないという問題がある。
【0010】
一方、うず電流損を測定原理とする上記の方法では、ニッケルとはんだが層状になった構造を持つ抵抗器の電極部において、ニッケルとはんだの区別ができないという問題がある。
【0011】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上述した課題に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、検査対象について非破壊でその膜厚を測定する膜厚検査装置および膜厚検査方法を提供することである。
【0012】
また、本発明の他の目的は、被検査物の膜厚を定量的に測定する膜厚検査装置および膜厚検査方法を提供することである。
【0013】
かかる目的を達成し、上述した課題を解決する一手段として、例えば、以下の構成を備える。すなわち、電子部品の電極を構成する被膜の膜厚を検査する電子部品の電極膜厚検査装置であって、各々が有限長ソレノイドで構成され、所定間隔離隔して配置された送信コイルおよび受信コイルと、上記送信コイルと受信コイルとの間で交番磁界を発生させる高周波信号発生回路と、上記受信コイルに誘起する電圧の振幅を測定する高周波信号振幅測定回路と、上記送信コイルと受信コイルとの間に上記電子部品を配置するための位置決め機構とを備え、上記電子部品の電極は磁性体からなる磁性体金属層を含み、上記位置決め機構により、上記送信コイルと受信コイルを構成するソレノイドの中心軸が上記磁性体金属層の厚さ方向とほぼ直交する方向に上記送信コイルと受信コイルを配置するとともに、これら送信コイルと受信コイルとの間に検査対象である上記磁性体金属層の一部が位置するように上記電子部品を配置し、上記高周波信号振幅測定回路によって測定された電圧の振幅より上記磁性体金属層の膜厚における不良を識別することを特徴とする。
【0015】
例えば、上記送信コイルと上記高周波信号発生回路とを結ぶ導電パターンと、上記受信コイルと上記高周波信号振幅測定回路とを結ぶ導電パターンとが、上記交番磁界の磁束の中心軸と平行に走るように回路基板上に形成されていることを特徴とする。
【0016】
また、上述した課題を解決する他の手段として、例えば、以下の構成を備える。すなわち、電子部品の電極を構成する被膜の膜厚を検査する電子部品の電極膜厚検査方法であって、上記電極は、磁性を有する磁性体金属層と、その磁性体金属層を覆う非磁性金属層とで構成され、交番磁界を発生させる送信コイルと受信コイルを構成する有限長ソレノイドの中心軸が上記磁性体金属層の厚さ方向とほぼ直交する方向に上記送信コイルと受信コイルを所定間隔離隔して配置するとともに、検査対象である上記磁性体金属層の一部がこれら送信コイルと受信コイルとの間に位置するように上記電子部品を配置し、上記受信コイルに誘起する電圧の振幅より上記磁性体金属層の膜厚における不良を識別することを特徴とする。
【0017】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照して、本発明に係る実施の形態例を詳細に説明する。図1は、本実施の形態例に係る皮膜検査装置の構成を示すブロック図である。同図に示す皮膜検査装置(以下、単に検査装置と呼ぶ)は、後述する送信コイルを励磁するための高周波信号を発生する高周波信号発生回路2、検査ヘッド1、および、被検査物を介して、後述する受信コイルで受信した高周波信号の振幅を測定する高周波信号振幅測定回路3を備える。
【0018】
検査ヘッド1は、高周波信号発生回路2から送信された信号を送信コイル12へ導くための検査ヘッドパターンA16と、受信コイル13で受信した高周波信号を高周波信号振幅測定回路3へ送るための検査ヘッドパターンB17、そして、送信コイル12と受信コイル13との間における、被検査物である被検査抵抗器11の相対的な位置を一定に保つ位置決め機構15a,15b,15cを備える。
【0019】
なお、送信コイル12と受信コイル13は、その中心部に、それぞれコア12a,13bが配された構造になっている。また、図示する被検査抵抗器11は、その上面図であり、符号18で示す部分は、抵抗器の内部ニッケルメッキ層の厚さを検査したい側の端面電極である。
【0020】
高周波信号発生回路2からは、数MHz〜数10MHzの検査信号(正弦波)が発生され、その信号が、同軸ケーブル4および減衰器5を介して、検査ヘッド1内の検査ヘッドパターンA16へ導かれる。その結果、その高周波検査信号によって、送信コイル12が励磁される。
【0021】
被検査抵抗器11の検査したい電極を挟むように配された送信コイル12と受信コイル13は、磁束により相互に結合している。受信コイル13に鎖交する、送信コイル12からの磁束によって誘起された起電力は、受信信号として、同軸ケーブル6を介して、高周波信号振幅測定回路3へと導かれる。
【0022】
送信コイル12と受信コイル13間に磁性体があれば、送信コイル12から受信コイル13に鎖交する磁束が、コイル間に磁性体がないときに比べて増加するため、受信信号の振幅が大きくなる。送信コイル12への励磁電流が一定で、コイルやニッケルメッキ層に磁気飽和等による非線形性を生じない範囲において、被検査抵抗器の端面電極と送受信コイルの相対的な位置が一定であれば、端面電極内のニッケルメッキ層の厚さと、受信される高周波信号の振幅は、略比例する関係にある。
【0023】
従って、ニッケルメッキ層の厚さが既知のサンプルにより、ニッケルメッキ層の厚さと受信高周波信号振幅との相関をあらかじめ測定しておけば、受信信号振幅より、被検査抵抗器11の端面電極内のニッケルメッキ層の厚さを測定できる。また、受信高周波信号振幅によりニッケルメッキ厚の良否を判定し、検査することができる。
【0024】
次に、本実施の形態例に係る検査装置の各部の詳細構成を説明する。
【0025】
<高周波信号発生回路>
高周波信号発生回路2より発生する正弦波信号の周波数の上限は、ニッケルが磁性体として作用する周波数範囲にあること、また、検査ヘッド1の受信コイル12の自己共振周波数より10倍程度以上低い周波数であることが必要となる。一方、正弦波信号の周波数の下限は、検査ヘッド1の受信コイル12に誘起する電圧が、高周波信号振幅測定回路3、あるいは他の測定機器に必要なS/N比(信号対雑音比)以上で受信できる周波数以上であることが、目的とする測定を行うための条件となる。
【0026】
なお、必要なS/N比は、被検査抵抗器11が送信コイル12と受信コイル13間に挿入されている場合と、されていない場合の検出電圧差ΔVと、ニッケルメッキ層の厚さの分解能で決まる。
【0027】
例えば、ニッケルメッキ層の厚さが10μmの場合のΔVが1パーセント(1/100)であり、分解能として1μmが必要ならば、ノイズによる変動は、1/100×1/10=1/1000以下、つまり、S/N比として60dB以上でなければならない。
【0028】
抵抗器の素子として、ニッケルメッキとニッケル以外の磁性体が使用されている場合、それぞれの磁性体としての特性に応じて使用周波数を選ぶ。例えば、磁性体として、図2に示す特性を有する場合、低周波数領域においてニッケル以外の磁性体の比透磁率が、ニッケルの比透磁率よりも大きくても、本発明に係る検査装置による検査方法により、ニッケル層の厚さを検査できる。この場合、図2の周波数領域A内の周波数を用いる。
【0029】
一方、振幅の上限は、検査ヘッド1の送信コイル12、受信コイル13、およびニッケルが磁気飽和を起こさない範囲であることが必要となり、振幅の下限は、検査ヘッド1の受信コイル13に誘起する電圧が、高周波信号振幅測定回路3、あるいは他の測定機器に必要なS/N比以上で受信できることが条件となる。
【0030】
以上の条件は、必要な分解能を得た上で、ニッケル層の厚さと受信高周波信号振幅の間に、略線形性を保つために必要となるものである。
【0031】
<高周波信号振幅測定回路>
高周波信号振幅測定回路3が具備すべき条件は、受信コイル13の誘起電圧振幅を、必要とするS/N比以上で受信できることである。本実施の形態例では、後述するように、加算平均(アベレージング)によりS/N比を改善できるデジタル・サンプリング・オシロスコープを受信信号振幅測定機器として使用した。
【0032】
<検査ヘッド>
検査ヘッド1を構成する送信コイル12および受信コイル13は、上述したように、検査周波数で自己共振を起こさず、磁気飽和しないことが前提となる。そこで、送信コイル12および受信コイル13と、被検査抵抗器との位置関係等、検査ヘッド1に、さらに要求される条件について詳細に説明する。
【0033】
図3、図4は、送信コイルおよび受信コイルと、被検査抵抗器との位置関係を説明するための図である。図3は、コイルと被検査抵抗器とが望ましい位置関係を有する場合を模式的に表している。同図に示すように、送信コイル32から発せられた磁束のうち、送信コイル32から受信コイル33へ直接、到達する磁束31よりも、被検査抵抗器11の端面電極内部のニッケル層37を通過する磁束35,36の割合を多くする位置関係を保持する。
【0034】
図3に示す位置関係が維持されると、送信コイル32は、送信コイル32と受信コイル33間の被検査抵抗器11の電極が挿入される部分に磁束を集中させることができ、受信コイル33は、被検査抵抗器11の端面電極のニッケル層37を通過した磁束を効果的にとらえることができる。
【0035】
一方、図4は、被検査抵抗器の検査精度が低い位置関係を模式的に示している。同図に示すように、送信コイル42と受信コイル43間における直接磁束の割合が、被検査抵抗器11の端面電極内部のニッケル層37を通過する磁束45,46の割合よりも多くなる位置関係では、上述したΔVが小さくなる。その結果、必要なS/N比が、場合によっては実現不可能なほど大きくなってしまう。また、ニッケルメッキ厚と検出電圧の比例関係が成り立たなくなる。
【0036】
なお、図3、図4において、送信コイル32,42と受信コイル33,43に付した白抜き矢印は、コイルの磁束通過方向を示している。
【0037】
図5は、検査対象である被検査抵抗器11の検査部分を詳細に示す断面図である。同図に示す抵抗器11は、セラミック基板51上に抵抗体52を積層し、その両端部各々を覆うように、ニッケルメッキ層55,56と、はんだ層53,54からなる電極が配された構造を有する。
【0038】
抵抗器11の内部ニッケルメッキ層55,56の厚さを検査する場合、検査対象部位が、抵抗器の端面にあるニッケル層56bであって、抵抗器の上下面にあるニッケル層56a,56cではない場合、検査のための磁束を、抵抗器の端面に集中させる必要がある。そのときの様子を、図6〜図8を参照して説明する。
【0039】
図6は、送信コイル62と受信コイル63、および、これらのコイル間に挿入された被検査抵抗器11の位置関係を示す斜視図である。また、図7、図8は、送信コイルと受信コイルに対するニッケル層の位置を示す断面図(図6のB−B’矢視図)である。なお、図7、図8において、コイルによる磁束の向きは、紙面の裏から表の方向である。
【0040】
被検査抵抗器の端面ニッケル層へ送信コイル62からの磁束を集中させるためには、図7に示すように、その磁束が、検査したい端面ニッケル層56bを通過するよう、コイル断面71の位置決定をする。つまり、コイル断面71が、検査したい端面ニッケル層56bにかかり、検査に影響させたくない上面および下面ニッケル層56a,56c(図8参照)にはかからないようにする必要がある。
【0041】
従って、図8に示すように、コイル断面81が、検査したい端面ニッケル層56bと、検査に影響させたくない上面および下面ニッケル層56a,56cの両方にかかる位置に磁束を通過させると、上面および下面ニッケル層56a,56cを通る磁束の割合が多くなり、抵抗器の端面のみのニッケル層の厚さを検査することができなくなる。
【0042】
端面のニッケル層を精度良く検査するには、図7において、抵抗基板51の厚さTに対して、コイル断面71の半径rが小さいほうがよい。また、送信コイルと受信コイル間に被検査抵抗器11がないときの磁束集中部分(ここでは、コイルの中心軸)から端面ニッケル層までの距離dを調整して、上述した検出電圧差ΔVに端面ニッケル層の影響が最大となる条件で検査を行う。
【0043】
なお、上記の条件は、図1に示す位置決め機構15a,15b,15cが具備すべき条件でもあり、これらの条件が満たされることで、コイル62,63に対する被検査抵抗器11の相対的な位置が一定に保たれる。
【0044】
<検査ヘッドパターン>
本実施の形態例に係る皮膜検査装置で実行する検査では、送信コイルと受信コイル間の磁束を媒介として、抵抗器のニッケル層の厚さを測定している。従って、送信コイルへの高周波電流の供給経路である供給パターン(図1の検査ヘッドパターンA16)と、受信コイル側における受信信号送信用パターン(図1の検査ヘッドパターンB17)とが、直接、電磁的に結合等することは、測定誤差の原因となる。
【0045】
特に、高周波を使用する場合、自己共振周波数の制限により、送信コイルと受信コイルのインダクタンスをあまり大きくできない。従って、相対的にコイルへのパターンの自己インダクタンスや、送受信間のパターンの相互インダクタンスが、送信コイルと受信コイルのインダクタンスに対して無視できなくなる。
【0046】
[第1のヘッドパターン例]
図9は、検査ヘッドパターンの一例であり、同図の(a)は、検査ヘッド1の上面図、(b)は側面図、そして、(c)は、下面図である。図9において、一点鎖線は、送信コイルの実装位置111と受信コイルの実装位置112とにそれぞれ実装される送信コイルと受信コイルの磁束中心軸を示している。そして、これらのコイルは、実装位置111,112それぞれに設けた送信コイル実装パッド103,105、および、受信コイル実装パッド104,106上に実装される。
【0047】
よって、図9に示す検査ヘッド1における検査ヘッドパターンは、図1に示す検査ヘッドパターンA16と対比すると、以下のような構成を有する。すなわち、検査ヘッドパターンA16は、プリント基板絶縁層120上において、上述した磁束中心軸に平行に走る表パターン93と、実装位置111に配される送信コイルと、磁束中心軸に平行に走る裏パターン(裏グランドパターン)95とによって構成される。
【0048】
なお、表パターン93と裏パターン95の一方の端部は、プリント基板の端部において、上述した同軸ケーブル等との電気的な接続を行うため、SMAコネクタ91に接続されている。また、表パターン93と裏パターン95は、ビアホール101を介して、相互に接続される。
【0049】
同様に、検査ヘッドパターンB17は、プリント基板絶縁層120上において、磁束中心軸に平行に走る表パターン94と、実装位置112に配される送信コイルと、磁束中心軸に平行に走る裏パターン(裏グランドパターン)96とによって構成される。
【0050】
また、表パターン94と裏パターン96の一端は、プリント基板の端部において、同軸ケーブル等との電気的な接続を行うため、SMAコネクタ92に接続されている。表パターン94と裏パターン96は、ビアホール102を介して、相互に接続されている。
【0051】
このように検査ヘッドパターンを構成することで、往復のパターン間をなるべく短い距離で磁気的に結合させ、パターンから発生する磁束、および送信コイル12と受信コイルのパターン間の磁気結合を減少させている。
【0052】
[第2のヘッドパターン例]
図10は、検査ヘッドパターンの他の例であり、同図の(a)は、検査ヘッド1の上面図、(b)は側面図である。図10に示す検査ヘッド1に特徴的なことは、高周波電流の供給経路である供給パターンと受信信号送信用パターンが、プリント基板絶縁層260の上面側のみにおいて形成されていることである。
【0053】
なお、図10においても、一点鎖線は、送信コイルの実装位置211と受信コイルの実装位置212とにそれぞれ実装される送信コイルと受信コイルの磁束中心軸である。これらのコイルは、実装位置211,212それぞれに設けた送信コイル実装パッド203,205、および、受信コイル実装パッド204,206上に実装される
【0054】
図10に示す検査ヘッドにおいて、図1の検査ヘッドパターンA16に対応するパターンは、プリント基板絶縁層260上において、磁束中心軸(一点鎖線で示す)に平行に走る中央信号パターン231と、実装位置211に配される送信コイルと、磁束中心軸と平行に、中央信号パターン231を囲むようにして走る周囲グランドパターン235とによって構成される。
【0055】
周囲グランドパターン235には、均等にリターン電流を流すため、2つの抵抗(同一抵抗)221,222が挿入されている。これらの抵抗器の抵抗値は、グランドパターンの自己インダクタンスによる検査周波数でのインピーダンスより十分に大きければよい。具体的には、パターンの自己インダクタンスによる検査周波数でのインピーダンスは、数10MHzにおいて数Ω以下程度なので、この場合に必要な抵抗値は、数Ω〜数10Ω程度となる。
【0056】
同様に、図1の検査ヘッドパターンB17に対応するパターンは、プリント基板絶縁層260上において、磁束中心軸に平行に走る中央信号パターン232と、実装位置212に配される送信コイルと、磁束中心軸と平行に、中央信号パターン232を囲むようにして走る周囲グランドパターン236とによって構成される。周囲グランドパターン236には、均等にリターン電流を流すため、2つの抵抗(同一抵抗)223,224が挿入されている。
【0057】
【実施例】
以下、本発明の実施例について詳細に説明する。ここでは、被検査抵抗器として、1.6mm×0.8mmサイズの角形チップ抵抗器を検査対象とし、その検査のために、検査ヘッドの送信コイル、および受信コイルとして、インダクタンスが100nH〜1μH、大きさが約2mm×1.25mm、透磁率が4〜10の角柱形状のコアを使用したものを採用した。
【0058】
また、送信コイルと受信コイルとの間隔を1.0mmとし、高周波電流には、周波数10MHz、振幅10dBm(10dB減衰器前の送信端での測定値)の信号を使用した。このように、送信コイルとして、被検査抵抗器よりも小さいコイルを使用することで、さらなるΔVの向上により、検査精度を上げることができる。
【0059】
一方、検査ヘッドの受信信号振幅測定機器として、アベレージングによりS/N比を改善できるデジタル・サンプリング・オシロスコープを使用し、S/N比80dB程度を得た。上述のように、ニッケルメッキ層の厚さが10μmの場合のΔVが1パーセント(1/100)であり、分解能として1μmが必要ならば、S/N比は、60dB以上でなければならない。よって、この検査ヘッドでは、そのΔVが1パーセント程度であるから、S/N比80dBの場合、分解能は、0.1μmとなる。
【0060】
図12〜図14は、実施例に係る検査結果を示すグラフである。これらのうち、図12は、測定データから得られた被検査抵抗器(角形チップ抵抗器)の電極部ニッケルメッキ厚と検出電圧との相関を示している。このグラフから明らかなように、磁界強度とニッケルメッキ厚は、相関を有する。
【0061】
すなわち、10μm以下のメッキ厚に関しては、検出電圧とメッキ厚は、図12に示すように略比例するが、メッキ厚が10μmよりも大きくなると、図12には示していないが、検出電圧の増加に比して指数関数的にメッキ厚が増大する傾向にある。このように、メッキ厚の範囲によって傾向が異なるが、本発明において測定対象とするメッキの厚さは、2μmあるいは3μm程度の膜厚が主であるため、かかる範囲で検出電圧と膜厚との相関が明らかになれば、十分にメッキ厚の測定が可能である。
【0062】
図13は、複数個のサンプルのデータであり、この結果から、「正常品」「メッキ薄品」「不具合品」について、そのメッキ厚に起因する検出電圧に顕著な差異があることが分かる。よって、図13に示す“良否境界線”をもとに、良品と不良品の識別が容易にできる。なお、「メッキ薄品」には、不良品も含まれている。
【0063】
また、図14は、サンプルの検査結果について、そのばらつき(標準偏差)を求めてグラフ化したものである。同図によると、平均値(av)に対する±3σの範囲における検出電圧において、「正常品」「メッキ薄品」「不具合品」に顕著な差があることが分かる。
【0064】
以上説明したように、本実施の形態例によれば、抵抗器の電極部におけるニッケルメッキ厚部分を、従来のように磁石に吸引されるか否かという判定ではなく、発信コイルからの磁束が、検査対象を通過して受信コイルで捕えられた受信高周波信号振幅という連続した数値で把握できる。そのため、受信信号の振幅値を測定することで、チップ抵抗器等の端面電極のはんだ層下にあるニッケルメッキ層のように、非磁性金属に覆い隠された、きわめて狭い範囲に配された磁性体層の厚さを非破壊、かつ高精度で検査できる。
【0065】
また、得られるデータが連続量であるため、同一ロット内の複数のサンプルについて、そのロットにおけるニッケルメッキ厚の分布等をも知ることができ、ロット単位のメッキ厚管理が可能になる。
【0066】
また、ニッケル厚の測定に交番磁界を使用することで、被検査品が帯磁していても、誤差なく検査を行うことができる。
【0067】
さらには、検査の際、被検査抵抗器を送信コイルと受信コイル間に挿入するだけであるため、短時間に全数検査ができ、また、測定に伴う抵抗器の破損がないため、全数検査をしても、被検査品をそのまま製品として顧客に提供できる。
【0068】
また、磁界強度とメッキの厚さとの相関が強いことから、計測結果の信頼性が高く、かかる結果に基づいて、抵抗器の端面電極のニッケル層の厚さを製品仕様書上で保証することができる。
【0069】
<変形例>
本発明は、上述した実施の形態例に限定されるものではなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変形が可能である。
【0070】
上述した実施の形態例では、送信コイルと受信コイルをそれぞれ独立に設けているが、これらを、共通コアを用いた単一のコイルとしてもよい。例えば、図11に示すように、空隙(ギャップ)310を有する共通コア301において、その空隙310に面する一端にコイルを巻き付けて送信コイル302を形成し、同じく、空隙310に面する他端にコイルを巻き付けて受信コイル303を形成することで、送受信一体型のコイルとする。
【0071】
測定時には、空隙310へ被検査抵抗器350を挿入するが、この抵抗器350のニッケル層と共通コア301とを介して、閉磁路が形成される。なお、抵抗器350のニッケル層測定時における、抵抗器350と上記コイルの断面との位置関係については、上述した実施の形態例における、それらの関係と同様である。
【0072】
このように、送受信コイルとして、一定の空隙を有する共通コアを採用し、上記閉磁路の形成によって、送信コイルから受信コイルへの磁束の伝達効率が向上するため、ΔVを大きくとることができる。同時に、検査ヘッド周囲の電磁ノイズに対しても、S/N比を向上させることが可能である。
【0073】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、抵抗器端面の磁性体層の厚さを、非破壊で、かつ高精度に検査することができる。
【0074】
また、本発明によれば、短時間に製品の全数検査ができ、測定に伴う製品破損もないため、被検査品をそのまま製品として顧客に提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態例に係る皮膜検査装置の構成を示すブロック図である。
【図2】磁性体の特性を示す図である。
【図3】送信コイルおよび受信コイルと、被検査抵抗器との望ましい位置関係を説明するための図である。
【図4】送信コイルおよび受信コイルと、被検査抵抗器とにおける、検査精度が低くなる位置関係を説明するための図である。
【図5】被検査抵抗器の検査部分を詳細に示す断面図である。
【図6】送信コイルと受信コイル、これらのコイル間に挿入された被検査抵抗器の位置関係を示す斜視図である。
【図7】送信コイルと受信コイルに対するニッケル層の適正な位置を示す断面図である。
【図8】送信コイルと受信コイルに対するニッケル層について、測定誤差を生じる位置を示す断面図である。
【図9】検査ヘッドパターンの一例を示す図である。
【図10】検査ヘッドパターンの他の例を示す図である。
【図11】共通コアを用いた単一のコイルの構造例を示す図である。
【図12】実施例に係る、測定データから得られた被検査抵抗器の電極部ニッケルメッキ厚と検出電圧との相関を示す図である。
【図13】複数個のサンプルのデータを示す図である。
【図14】サンプルの検査結果についてのばらつきをグラフ化して示す図である。
【図15】角型チップ抵抗器、および実装時の断面構造を示す図である。
【符号の説明】
1 検査ヘッド
2 高周波信号発生回路
3 高周波信号振幅測定回路
4 同軸ケーブル
5 減衰器
11 被検査抵抗器
12,32,42,62 送信コイル
12a,13b コア
13,33,43,63 受信コイル
15a,15b,15c 位置決め機構
16 検査ヘッドパターンA
17 検査ヘッドパターンB
18 端面電極
37 ニッケル層
51 セラミック基板
52 抵抗体
53,54 はんだ層
55,56 ニッケルメッキ層
103,105 送信コイル実装パッド
104,106 受信コイル実装パッド
111,112 実装位置
120 プリント基板絶縁層[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a film thickness inspection apparatus and a film thickness inspection method for inspecting the thickness of a film formed on an electronic component, for example.
[0002]
[Prior art]
A chip resistor used in a small electronic device or the like usually has a resistor laminated on a ceramic substrate, and the electrodes are provided with a nickel plating layer at the end of the laminate, and further on the nickel layer. In addition, a solder layer is provided. That is, since the nickel plating layer is covered with the solder layer, the presence or absence of the nickel plating layer and its thickness cannot be inspected depending on the appearance selection.
[0003]
FIG. 15 shows a cross-sectional structure of a
[0004]
As can be seen from FIG. 15A, even if the plated layer of the chip resistor is thin and there is a cut, the
[0005]
Therefore, in order to eliminate such problems, conventionally, suction sorting inspection of defective products using magnets has been performed by utilizing the fact that nickel is a magnetic material. In this method, when a magnet is arranged near the electrode of the chip resistor and the nickel layer of the resistor is formed with a normal thickness, the resistor is attracted to the magnet, but the nickel plating thickness is thin, Alternatively, when there is no plating layer, the basic principle of selection is that the resistor is not attracted to the magnet.
[0006]
As another measurement method, there is a conventional film thickness measurement method using eddy current loss. For example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-144002, an eddy current is generated by applying an alternating magnetic field from a self-excited coil to a metal thin film, thereby reducing the Q value of the coil and oscillating it. A film thickness measuring device that is extracted as the magnitude of the amplitude is disclosed.
[0007]
Furthermore, Japanese Patent Laid-Open No. 2001-289606 uses eddy current as a detection principle in view of the problem of the conventional measurement method using eddy current loss, that is, it is easily influenced by the shape of the measurement target. Further, the present invention relates to a method and an apparatus that enable film thickness measurement on a curved surface by providing a film thickness measurement coil and a curvature measurement coil.
[0008]
[Problems to be solved by the invention]
However, the above conventional inspection method (defective product suction selection inspection method using a magnet) has the following problems. That is, (1) even if the nickel plating layer on the electrode end surface (surface facing the magnet) is thin, the upper and lower surfaces of the electrode (one surface connected to the above end surface and the surface direction rotated 90 degrees with respect to the magnet) If the nickel plating layer is thick, the resistor is attracted to the magnet, and a defective product is erroneously determined as a good product. (2) Since the chip size of the chip resistor has been reduced with the miniaturization of the device, the weight of the element itself is very light, and the element to be inspected adheres to the magnet due to static electricity, dirt, etc. instead of magnetic force. This method cannot be used for small and lightweight parts. (3) Since it is only determined whether the magnet is attached or not, it is not possible to determine how much the nickel plating thickness variation is. Therefore, the control range of the nickel plating thickness is reduced in manufacturing the resistor. (4) When the product to be inspected is magnetized (magnetized) from the beginning, an error occurs in the quality determination.
[0009]
In addition, if the thickness of the nickel plating layer is measured by cutting the cross section of a plurality of products, the state of the nickel layer and its variation distribution can be known accurately, Involves destruction of the inspected product. As a result, it takes time and effort, and there is a problem that it is not practical as a sampling inspection method.
[0010]
On the other hand, the above-described method using eddy current loss as a measurement principle has a problem in that nickel and solder cannot be distinguished in an electrode portion of a resistor having a layered structure of nickel and solder.
[0011]
[Means for Solving the Problems]
This invention is made | formed in view of the subject mentioned above, The place made into the objective is providing the film thickness inspection apparatus and film thickness inspection method which measure the film thickness non-destructively about a test object.
[0012]
Another object of the present invention is to provide a film thickness inspection apparatus and a film thickness inspection method for quantitatively measuring the film thickness of an object to be inspected.
[0013]
As a means for achieving this object and solving the above-mentioned problems, for example, the following configuration is provided. That is, Coating that constitutes the electrode of electronic parts Inspect the film thickness of Electrode electrode A film thickness inspection apparatus, Each of which is composed of a finite-length solenoid and is arranged at a predetermined interval, a transmission coil and a reception coil, a high-frequency signal generation circuit for generating an alternating magnetic field between the transmission coil and the reception coil, and induction in the reception coil High-frequency signal amplitude measuring circuit for measuring the amplitude of the voltage to be applied, and a positioning mechanism for arranging the electronic component between the transmitting coil and the receiving coil And The electrode of the electronic component includes a magnetic metal layer made of a magnetic material, and the positioning mechanism causes the central axis of the solenoid constituting the transmitting coil and the receiving coil to be substantially perpendicular to the thickness direction of the magnetic metal layer. The electronic coil is arranged so that a part of the magnetic metal layer to be inspected is located between the transmitting coil and the receiving coil, and the high-frequency signal amplitude Identification of defects in the thickness of the magnetic metal layer from the amplitude of the voltage measured by the measurement circuit It is characterized by doing.
[0015]
For example, A conductive pattern connecting the transmitting coil and the high-frequency signal generating circuit, and a conductive pattern connecting the receiving coil and the high-frequency signal amplitude measuring circuit. Runs parallel to the central axis of the magnetic flux of the alternating magnetic field. So that it is formed on the circuit board It is characterized by that.
[0016]
As another means for solving the above-described problem, for example, the following configuration is provided. That is, Coating that constitutes the electrode of electronic parts Inspect the film thickness of Electrode electrode A film thickness inspection method, The electrode is composed of a magnetic metal layer having magnetism and a nonmagnetic metal layer covering the magnetic metal layer, and the central axis of a finite-length solenoid that constitutes a transmission coil and a reception coil that generate an alternating magnetic field is the above-mentioned The transmitting coil and the receiving coil are arranged at a predetermined interval in a direction substantially perpendicular to the thickness direction of the magnetic metal layer, and a part of the magnetic metal layer to be inspected is arranged between the transmitting coil and the receiving coil. The electronic component is placed so that it is located between the two, and defects in the thickness of the magnetic metal layer are identified from the amplitude of the voltage induced in the receiving coil. It is characterized by doing.
[0017]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Embodiments according to the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a film inspection apparatus according to the present embodiment. A film inspection apparatus (hereinafter simply referred to as an inspection apparatus) shown in FIG. 1 passes through a high-frequency
[0018]
The
[0019]
The
[0020]
An inspection signal (sine wave) of several MHz to several tens of MHz is generated from the high frequency
[0021]
The transmitting
[0022]
If there is a magnetic body between the
[0023]
Therefore, if the correlation between the thickness of the nickel plating layer and the received high-frequency signal amplitude is measured in advance using a sample having a known nickel-plated layer thickness, it is determined from the received signal amplitude in the end face electrode of the
[0024]
Next, a detailed configuration of each part of the inspection apparatus according to the present embodiment will be described.
[0025]
<High-frequency signal generation circuit>
The upper limit of the frequency of the sine wave signal generated by the high-frequency
[0026]
The required S / N ratio is determined by the difference between the detected voltage difference ΔV when the
[0027]
For example, if ΔV is 1 percent (1/100) when the thickness of the nickel plating layer is 10 μm and 1 μm is required as the resolution, the fluctuation due to noise is 1/100 × 1/10 = 1/1000 or less. That is, the S / N ratio must be 60 dB or more.
[0028]
When a magnetic material other than nickel plating and nickel is used as the resistor element, the frequency used is selected according to the characteristics of each magnetic material. For example, when the magnetic material has the characteristics shown in FIG. 2, even if the relative magnetic permeability of the magnetic material other than nickel is larger than the relative magnetic permeability of nickel in the low frequency region, the inspection method by the inspection apparatus according to the present invention. Thus, the thickness of the nickel layer can be inspected. In this case, the frequency in the frequency region A in FIG. 2 is used.
[0029]
On the other hand, the upper limit of the amplitude needs to be a range in which the
[0030]
The above conditions are necessary to maintain a substantially linearity between the thickness of the nickel layer and the received high-frequency signal amplitude after obtaining the necessary resolution.
[0031]
<High-frequency signal amplitude measurement circuit>
The condition that the high-frequency signal
[0032]
<Inspection head>
As described above, the
[0033]
3 and 4 are diagrams for explaining the positional relationship between the transmission coil and the reception coil and the resistor to be inspected. FIG. 3 schematically shows a case where the coil and the resistor to be inspected have a desirable positional relationship. As shown in the figure, among the magnetic fluxes generated from the
[0034]
If the positional relationship shown in FIG. 3 is maintained, the
[0035]
On the other hand, FIG. 4 schematically shows a positional relationship in which the inspection accuracy of the resistor to be inspected is low. As shown in the figure, the positional relationship in which the ratio of the direct magnetic flux between the transmitting
[0036]
In FIGS. 3 and 4, white arrows attached to the transmission coils 32 and 42 and the reception coils 33 and 43 indicate the magnetic flux passage directions of the coils.
[0037]
FIG. 5 is a cross-sectional view showing in detail the inspection portion of the
[0038]
When inspecting the thickness of the internal nickel plating layers 55 and 56 of the
[0039]
FIG. 6 is a perspective view showing the positional relationship between the
[0040]
In order to concentrate the magnetic flux from the
[0041]
Therefore, as shown in FIG. 8, when the
[0042]
In order to accurately inspect the nickel layer on the end face, the radius r of the
[0043]
The above condition is also a condition that the
[0044]
<Inspection head pattern>
In the inspection performed by the film inspection apparatus according to this embodiment, the thickness of the nickel layer of the resistor is measured using the magnetic flux between the transmission coil and the reception coil as a medium. Therefore, the supply pattern (inspection head pattern A16 in FIG. 1) that is a supply path of the high-frequency current to the transmission coil and the reception signal transmission pattern (inspection head pattern B17 in FIG. 1) on the reception coil side are directly electromagnetic. Coupling or the like causes measurement errors.
[0045]
In particular, when a high frequency is used, the inductance of the transmission coil and the reception coil cannot be increased so much due to the limitation of the self-resonance frequency. Accordingly, the self-inductance of the pattern relative to the coil and the mutual inductance of the pattern between transmission and reception cannot be ignored with respect to the inductance of the transmission coil and the reception coil.
[0046]
[First head pattern example]
FIG. 9 is an example of an inspection head pattern. FIG. 9A is a top view of the
[0047]
Therefore, the inspection head pattern in the
[0048]
Note that one end of the
[0049]
Similarly, the inspection head pattern B17 includes a
[0050]
In addition, one end of the
[0051]
By configuring the inspection head pattern in this manner, the reciprocating patterns are magnetically coupled with each other at a distance as short as possible, and the magnetic flux generated from the patterns and the magnetic coupling between the patterns of the
[0052]
[Second head pattern example]
10A and 10B show another example of the inspection head pattern. FIG. 10A is a top view of the
[0053]
In FIG. 10, the alternate long and short dash lines are the magnetic flux central axes of the transmission coil and the reception coil that are respectively mounted at the transmission
[0054]
In the inspection head shown in FIG. 10, the pattern corresponding to the inspection head pattern A16 in FIG. 1 includes a
[0055]
Two resistors (same resistors) 221 and 222 are inserted into the surrounding
[0056]
Similarly, the pattern corresponding to the inspection head pattern B17 of FIG. 1 includes a
[0057]
【Example】
Examples of the present invention will be described in detail below. Here, as a resistor to be inspected, a rectangular chip resistor having a size of 1.6 mm × 0.8 mm is to be inspected, and for the inspection, a transmission coil and a reception coil of the inspection head have an inductance of 100 nH to 1 μH, The one using a prismatic core having a size of about 2 mm × 1.25 mm and a permeability of 4 to 10 was employed.
[0058]
The interval between the transmission coil and the reception coil was 1.0 mm, and a signal having a frequency of 10 MHz and an amplitude of 10 dBm (measured value at the transmission end before the 10 dB attenuator) was used as the high-frequency current. Thus, by using a coil smaller than the resistor to be inspected as the transmission coil, the inspection accuracy can be increased by further improving ΔV.
[0059]
On the other hand, a digital sampling oscilloscope capable of improving the S / N ratio by averaging was used as a reception signal amplitude measuring device for the inspection head, and an S / N ratio of about 80 dB was obtained. As described above, when the thickness of the nickel plating layer is 10 μm and ΔV is 1 percent (1/100) and 1 μm is required as the resolution, the S / N ratio must be 60 dB or more. Therefore, in this inspection head, the ΔV is about 1 percent, and therefore the resolution is 0.1 μm when the S / N ratio is 80 dB.
[0060]
12-14 is a graph which shows the test result based on an Example. Among these, FIG. 12 shows the correlation between the electrode part nickel plating thickness of the resistor to be inspected (square chip resistor) obtained from the measurement data and the detected voltage. As is apparent from this graph, the magnetic field strength and the nickel plating thickness have a correlation.
[0061]
That is, for a plating thickness of 10 μm or less, the detection voltage and the plating thickness are approximately proportional as shown in FIG. 12, but when the plating thickness is larger than 10 μm, it is not shown in FIG. The plating thickness tends to increase exponentially as compared to. As described above, although the tendency varies depending on the range of the plating thickness, the thickness of the plating to be measured in the present invention is mainly about 2 μm or 3 μm. If the correlation becomes clear, the plating thickness can be measured sufficiently.
[0062]
FIG. 13 shows data of a plurality of samples, and it can be seen from this result that there is a significant difference in the detection voltage due to the plating thickness for “normal product”, “plated thin product”, and “defective product”. Therefore, it is possible to easily identify a non-defective product and a defective product based on the “good / bad boundary line” shown in FIG. The “plated thin product” includes defective products.
[0063]
FIG. 14 is a graph showing the variation (standard deviation) of the sample inspection results. According to the figure, it can be seen that there is a significant difference between “normal product”, “plated thin product”, and “defective product” in the detected voltage in the range of ± 3σ with respect to the average value (av).
[0064]
As described above, according to the present embodiment, it is not determined whether the nickel-plated thick portion in the electrode portion of the resistor is attracted to the magnet as in the prior art, but the magnetic flux from the transmitting coil is It can be grasped by a continuous numerical value of the received high-frequency signal amplitude passed through the inspection object and captured by the receiving coil. For this reason, by measuring the amplitude of the received signal, a magnetic layer placed in a very narrow area covered with nonmagnetic metal, such as a nickel plating layer under the solder layer of the end electrode of a chip resistor or the like. Nondestructive and highly accurate inspection of body layer thickness.
[0065]
Further, since the obtained data is a continuous amount, it is possible to know the distribution of nickel plating thickness in the lot for a plurality of samples in the same lot, and it is possible to manage the plating thickness in lot units.
[0066]
Further, by using an alternating magnetic field for measuring the nickel thickness, even if the product to be inspected is magnetized, the inspection can be performed without error.
[0067]
Furthermore, since only the resistors to be inspected are inserted between the transmitting coil and the receiving coil at the time of inspection, 100% inspection can be performed in a short time. Even so, the inspected product can be provided to the customer as it is.
[0068]
In addition, since the correlation between magnetic field strength and plating thickness is strong, the reliability of the measurement results is high, and based on such results, the thickness of the nickel layer of the end electrode of the resistor is guaranteed in the product specifications. Can do.
[0069]
<Modification>
The present invention is not limited to the embodiment described above, and various modifications can be made without departing from the spirit of the invention.
[0070]
In the embodiment described above, the transmission coil and the reception coil are provided independently, but these may be a single coil using a common core. For example, as shown in FIG. 11, in the
[0071]
At the time of measurement, the
[0072]
As described above, a common core having a certain gap is adopted as the transmission / reception coil, and the formation of the closed magnetic path improves the transmission efficiency of the magnetic flux from the transmission coil to the reception coil. Therefore, ΔV can be increased. At the same time, it is possible to improve the S / N ratio against electromagnetic noise around the inspection head.
[0073]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, the thickness of the magnetic layer on the resistor end face can be inspected nondestructively and with high accuracy.
[0074]
In addition, according to the present invention, all the products can be inspected in a short time, and there is no product damage accompanying the measurement, so that the inspected product can be provided to the customer as it is.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a film inspection apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a diagram showing characteristics of a magnetic material.
FIG. 3 is a diagram for explaining a desirable positional relationship between a transmission coil and a reception coil and a resistor to be inspected.
FIG. 4 is a diagram for explaining a positional relationship in which inspection accuracy is lowered in a transmission coil, a reception coil, and a resistor to be inspected.
FIG. 5 is a cross-sectional view showing in detail an inspection portion of a resistor to be inspected.
FIG. 6 is a perspective view showing a positional relationship between a transmitting coil, a receiving coil, and a resistor to be inspected inserted between these coils.
FIG. 7 is a cross-sectional view showing an appropriate position of a nickel layer with respect to a transmission coil and a reception coil.
FIG. 8 is a cross-sectional view showing a position where a measurement error occurs in a nickel layer for a transmission coil and a reception coil.
FIG. 9 is a diagram illustrating an example of an inspection head pattern.
FIG. 10 is a diagram showing another example of an inspection head pattern.
FIG. 11 is a diagram showing a structure example of a single coil using a common core.
FIG. 12 is a diagram showing the correlation between the electrode part nickel plating thickness of the resistor to be inspected and the detection voltage obtained from the measurement data according to the example.
FIG. 13 is a diagram showing data of a plurality of samples.
FIG. 14 is a graph showing the variation in the inspection result of the sample.
FIG. 15 is a diagram showing a square chip resistor and a cross-sectional structure when mounted.
[Explanation of symbols]
1 Inspection head
2 High-frequency signal generation circuit
3 High frequency signal amplitude measurement circuit
4 Coaxial cable
5 Attenuator
11 Resistor to be tested
12, 32, 42, 62 Transmitting coil
12a, 13b core
13, 33, 43, 63 Receiver coil
15a, 15b, 15c Positioning mechanism
16 Inspection head pattern A
17 Inspection head pattern B
18 End face electrode
37 Nickel layer
51 Ceramic substrate
52 resistors
53, 54 Solder layer
55,56 Nickel plating layer
103,105 Transmitting coil mounting pad
104,106 Receiver coil mounting pad
111,112 mounting position
120 Printed circuit board insulation layer
Claims (3)
各々が有限長ソレノイドで構成され、所定間隔離隔して配置された送信コイルおよび受信コイルと、
前記送信コイルと受信コイルとの間で交番磁界を発生させる高周波信号発生回路と、
前記受信コイルに誘起する電圧の振幅を測定する高周波信号振幅測定回路と、
前記送信コイルと受信コイルとの間に前記電子部品を配置するための位置決め機構とを備え、
前記電子部品の電極は磁性体からなる磁性体金属層を含み、
前記位置決め機構により、前記送信コイルと受信コイルを構成するソレノイドの中心軸が前記磁性体金属層の厚さ方向とほぼ直交する方向に前記送信コイルと受信コイルを配置するとともに、これら送信コイルと受信コイルとの間に検査対象である前記磁性体金属層の一部が位置するように前記電子部品を配置し、
前記高周波信号振幅測定回路によって測定された電圧の振幅より前記磁性体金属層の膜厚における不良を識別することを特徴とする電子部品の電極膜厚検査装置。 An electronic part electrode film thickness inspection apparatus for inspecting the film thickness of a coating film constituting an electrode of an electronic part ,
A transmitting coil and a receiving coil, each of which is composed of a finite-length solenoid and spaced apart by a predetermined distance;
A high-frequency signal generating circuit for generating an alternating magnetic field between the transmitting coil and the receiving coil;
A high-frequency signal amplitude measuring circuit for measuring an amplitude of a voltage induced in the receiving coil;
A positioning mechanism for placing the electronic component between the transmission coil and the reception coil ;
The electrode of the electronic component includes a magnetic metal layer made of a magnetic material,
By the positioning mechanism, the transmitting coil and the receiving coil are arranged in a direction in which the central axis of the solenoid constituting the transmitting coil and the receiving coil is substantially perpendicular to the thickness direction of the magnetic metal layer. Arranging the electronic component so that a part of the magnetic metal layer to be inspected is located between the coil and the coil,
An electrode film thickness inspection apparatus for an electronic component, wherein a defect in the film thickness of the magnetic metal layer is identified from the amplitude of the voltage measured by the high frequency signal amplitude measurement circuit .
前記電極は、磁性を有する磁性体金属層と、その磁性体金属層を覆う非磁性金属層とで構成され、
交番磁界を発生させる送信コイルと受信コイルを構成する有限長ソレノイドの中心軸が前記磁性体金属層の厚さ方向とほぼ直交する方向に前記送信コイルと受信コイルを所定間隔離隔して配置するとともに、検査対象である前記磁性体金属層の一部がこれら送信コイルと受信コイルとの間に位置するように前記電子部品を配置し、
前記受信コイルに誘起する電圧の振幅より前記磁性体金属層の膜厚における不良を識別することを特徴とする電子部品の電極膜厚検査方法。 An electronic component electrode film thickness inspection method for inspecting a film thickness of a coating film constituting an electrode of an electronic component ,
The electrode is composed of a magnetic metal layer having magnetism and a nonmagnetic metal layer covering the magnetic metal layer,
The transmission coil and the reception coil are arranged at a predetermined distance from each other in a direction in which the central axis of the finite-length solenoid constituting the transmission coil and the reception coil that generates the alternating magnetic field is substantially perpendicular to the thickness direction of the magnetic metal layer. The electronic component is arranged so that a part of the magnetic metal layer to be inspected is located between the transmitting coil and the receiving coil,
An electrode thickness inspection method for an electronic component, wherein a defect in the thickness of the magnetic metal layer is identified from an amplitude of a voltage induced in the receiving coil .
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