JP4397604B2 - マイクロガス捕集器の製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 46
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 30
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 29
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 27
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 23
- -1 polydimethylsiloxane Polymers 0.000 claims description 21
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 claims description 18
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 claims description 18
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 8
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 claims description 5
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 claims description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 98
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 15
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 description 12
- QSZMOZPZBXFCDN-UHFFFAOYSA-L acetyloxy-[5'-(acetyloxymercurio)-3',6'-dihydroxy-3-oxospiro[2-benzofuran-1,9'-xanthene]-4'-yl]mercury Chemical compound O1C(=O)C2=CC=CC=C2C21C1=CC=C(O)C([Hg]OC(C)=O)=C1OC1=C2C=CC(O)=C1[Hg]OC(=O)C QSZMOZPZBXFCDN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 7
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 7
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 3
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 2
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 2
- PISDRBMXQBSCIP-UHFFFAOYSA-N trichloro(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctyl)silane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CC[Si](Cl)(Cl)Cl PISDRBMXQBSCIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000002939 deleterious effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 description 1
- 230000007096 poisonous effect Effects 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000005373 porous glass Substances 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
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Description
【産業上の利用分野】
本発明はガス捕集器、特に、微量ガスの検出に好適なマイクロガス捕集器の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
大気中に含まれる成分を化学発光や紫外線蛍光などいわゆるドライな方法で測定する分析計は装置化しやすく排ガスモニターなどへ応用されている。しかし,装置が比較的大きく、電源の制約もあり、設置場所が限られている。また比較的高濃度のガスは赤外線吸収を利用した計測も可能であるが、環境レベルのガスを計測するには感度が不十分である。固体素子や湿式のガスセンサも便利であるが選択性や感度の点で劣る。
【0003】
これに対し、吸収液に大気成分を取り込みケミカルに計測する手法は簡便で吉くからも用いられている。この方法では、従来は図4のような吸収液を設置したバブラーに空気試料を通気して、目的成分を吸収液に捕集する。その後適当な試薬を添加、反応させ生成物の量を吸光度や蛍光を利用して測定するものである。この方法に依れば、吸収液や反応試薬の組み合わせによりその用途は無限に広がる。このようなバブリング法では、バブラーの吸収液は10〜50ml程度必要である。せっかく捕集してもこの吸収液の体積が大きければそれだけ捕集した成分が希薄になってしまう。そこでppbレベルの成分を計測するには数十分から数時聞もの長時間ガスをサンプリングした後測定する必要があった。また、毒物あるいは劇物を含む多量の吸取液や反応液を用いれば、その廃棄や処理の問題も考慮しなければならない。
【0004】
ガス捕集・化学反応・検出の一連の操作を白動的にかつ連続して行なうため、ガス捕集器を小型化する研究もなされている。例えば、特許文献1にはブロツクに設けたマイクロチャネルを用いることにより小型化したガス捕集器を用いる技術が開示されている。特許文献1には更にマイクロチャネルの表面に多孔質材を用いることも開示されている。
【0005】
【待許文献1】
特開平2001−74724号公報
【0006】
しかし、特許文献1に記載されている多乳質材は、板状の多孔ガラスであり、0.5〜2mm程度の厚さを有する。このように多孔質材の厚さが厚いと、透過材を通過してガスが吸収液表面に到達する速度が遅く、そのため、吸収液に吸収されるガスの量が少なくなる。また、吸収液に到達する前に透過材中にトラッブされてしまうガスの量が無視できなくなり、かつ透過材中に捕らえられた物質が大きなテーリングの原因となる。このため、特許文献1の方法では、吸収液の流量を減らしたり、高い感度と速い応答を得るには限界があった。
【0007】
また、通常ガス吸収部やその下流で検出部へ導かれる間、成分の流れ方向への拡散が起こる。このためガス濃度の急激な変化があってもピークがブロードになったり、ピーク高さが低くなったり、応答速度が遅くなったりする。このような問題は、ガス吸収部や流路が太いほど拡大する。
【0008】
【発明が解決しようとする謀題】
本発明は上記従来技術の欠点を解消することを目的としている。本発明の第一の日的は、多様なガスの量を測定できるガス捕集器を提供することを目的とする。本発明の第二の目的は、微量のガス成分を高感度に測定しうるガス捕集器を提供することを日的とする。本発明の第三の目的は、ガス成分を迅速に測定することのできるガス捕集器を提供することを日的とする。本発明の第四の日的は、設置場所を考慮する必要がなく、かつ吸収液の消費量を懸念する必要のないガス捕集器を提供することを目的とする。
【0009】
【謀題を解決するための手段】
すなわち本発明に係る第1の発明は、ガス吸収液が流れるマイクロチャネルを表面側に形成したブロックと、該ブロックの表面側に取り付けたガス透過膜とからなるマイクロガス捕集器の製造方法において、矩形状のポリジメチルシロキサンで前記ブロックを形成し、表面をフッ素化シランで上面処理した平滑な基板上でスピンコーティング法により、厚さ30μm以下のポリジメチルシロキサン薄膜を形成し、前記ポリジメチルシロキサン薄膜を前記ブロックの前記表面側に熱接着した後に基板上から剥離することによって、前記表面側にポリジメチルシロキサンからなるガス透過膜を取り付けることを特徴とするマイクロガス捕集器の製造方法である。
【0010】
前記マイクロチャネルは、ブロック上にフオトリソグラフィー法により形成されることが好ましい。
【0011】
前記マイクロチャネルは、ジグザグ状に形成されることが好ましい。
【0012】
前記マイクロチャネルの深さは10〜200μmで、巾は40〜2000μmに形成されることが好ましい。
【0013】
【発明を実施するための態様】
本発明につき具体的な実施の態様に基づいて説明する。
【0014】
本発明のガス捕集器の一実施例を図1に基づき説明する。図1は、本発明のガス捕集器の一例を示した模式図である。図1において、1はガス透過膜、3はマイクロチャネルを形成するブロック、2はブロック上に形成されたマイクロチャネル、4は吸収液入口、5は吸収液出口である。
【0015】
ブロック3は本発明のガス捕集器において、ベースとなる構造物である。このブロックはガスや吸収液と反応しない性状を有し、剛性が高く衝撃に耐える強度を有する材質からなっていることが好ましい。
【0016】
ブロック3を構成する素材としては、特に限定されないが、例えば、ポリジメチルシロキサン、ポリシリコーン、アクリル樹脂、ボリ塩化ビニル樹脂、フツ素樹脂などの樹脂製ブロック、あるいは石英、ガラス、シリコン、アルミナなどの無機系の基板等を挙げることができる。これらのうちでは、耐食性が比較的優れており、下記透過膜1との熱接着性があるポリジメチルシロキサンが最も好ましい。マイクロチャネル用のブロック3はガス透過膜と同じ材料でなくともかまわないが、ガス透過膜1と同じ材質であると熱接着が答易であるため好ましい。
【0017】
マイクロチャネル用のブロック3の形状としては、特に限定されないが、マイクロチヤネル2を形成しやすいためには矩形であることが好ましい。ブロック3のサイズとしては、限定されないが、通常、5〜100mm角、好ましくは20〜40mm角、厚さは、樹脂製ブロックの場合1〜20mm、好ましくは3〜10mm程度であり、無機系基板の場合、0.2〜2mm、好ましくは0.4〜lmm程度である。
【0018】
上記ブロック3の表面には、ガス吸着液を蓄えるあるいはガス吸収液を流すためのマイクロチャネル2が設けられている。マイクロチャネル2の流路の深さは、好ましくは10〜200μm、特に好ましくは30〜60μm、巾が好ましくは40〜2000μm、特に好ましくは120〜240μmである。設けられたマイクロチャネル2はガス吸収面積や吸収時間を大きくするようジグザグ状のパターンに形成されることが好ましい。
【0019】
マイクロチャネル2を形成する方法としては、各種の公知の方法を採用することができる。例えば、フオトリソグラフー法とケミカルエッチング法によってブロック3上にマイクロチャネル2を作製する方法等を採用することができる。リソグラフィー法では、まず紫外線感光性樹脂を塗布し、その上にマスクを載せて紫外線を当てる。紫外線が当たった部分のフオトレジストを除去し、その除去された部分を薬品でエッチングする方法、あるいはサンドブラストする方法等によりマイクロチャネル2を形成することができる。
【0020】
他の方法としては、ガスレーザー、エキシマレーザー等のレーザー光線、イオンビーム等のエネルギー線をコンピュータプログラムにより制御しつつ走査・照射することにより所定の溝を形成する方法を挙げることができる。
【0021】
他の方法としては、上記方法で製造したマイクロチャネル2、もしくは凸型のマイクロチャネルを有する基板を鋳型とし、そこへ硬化前の樹脂を流し込んで硬化する方法でマイクロチャネル2を有するブロック3を製造することができる。
【0022】
更に他の方法としては、精巧な金型を用い、樹脂製の板を軟化しておき、プレス加工してもよい。
【0023】
本発明では、マイクロチャネル2を流れる吸収液を保持し、かつ吸収液にガスを供給するために、ブロック3のマイクロチャネル2上にガス透過膜を設ける。このガス透過膜1として用いることのできる素材としては、ボリジメチルシロキサン、(PDMS)、非晶質フッ素樹脂(例えばテフロンAF(登録商標))、ポリイミド、ナフイオンやシリコーンなどを用いても良い。これらを硬化したものはガス透過性がある材料として知られている。上記液状樹脂の中ではポリジメチルシロキサンが取り扱いが客易で、かつ熱接着しうるため、最も好ましい。また、市販の疎水性の多孔性膜、例えばポリテトラフルオロエチレンやポリプロピレン製のものをそのまま貼り付けてもよい。
【0024】
本発明の装置で用いるガス透過膜1は厚さが30μm以下、好ましくは20μm以下、特に好ましくは15μm以下で、ガス透過性が良好な膜である。このようなガス透過膜1を製造する方法は特に限定されないが、例えば、次のような方法により製造することが出来る。
【0025】
まず液状の高分子材料を用意する。この液状高分子は(i)熱硬化性樹脂オリゴマー、(ii)熱硬化性樹脂または熱可塑性樹脂のエマルジョン、(iii)熱硬化性樹脂または熱可塑性樹脂の溶液等でありうる。これらの中では、得られる膜の強度が高く、膜のガス透過性が優れ、かつ粘度が低くスピンコートに適した粘度の液が得られる点で、熱硬化性樹脂オリゴマーの溶剤希釈溶液が好ましい。使用する液状高分子材料には膜化する前に、有機パーオキサイド等の硬化剤、硬化助剤を含有せしめておくことが好ましい。
【0026】
次に平滑な面を有する膜形成用平滑基板を用意する。膜形成用平滑基板は、例えば、シリコン、ガラス、石英等であればよい。
【0027】
膜形成用平滑基板は、予め平滑基板表面を易離型用材料、例えばフッ素化シラン等で処理しておくとよい。これには、例えば(トリデカフロロ−1,1,2,2−テトラハイドロオクチル)−1−トリクロロシランの蒸気で表面処理をすればよい。この表面処理によって、平滑基板ごとガス透過膜をブロックへ熱接着した後、平滑基板をガス透過膜から容易に剥離することができる。
【0028】
次に、スピンコーターにより上記液状高分子を膜形成用平滑基板上にスピンコーティングして塗布することにより薄膜を製造する。膜の厚さは回転数、液状高分子の粘度を調整することにより調節することができる。
【0029】
塗布した膜が膜形成用平滑基板上で半乾き状態で、塗布した膜の上にマイクロチャネル用のブロック3をかぶせ、膜形成用平滑基板とマイクロチャネル用のブロック3とで膜をサンドイッチ状に加圧下で保持する状態にする。
【0030】
次いで、両ブロックを高温雰囲気、好ましくはオーブンの中に入れて、透過膜をベークし硬化させる。上記のように、膜を加圧下に保持する状態で硬化・乾燥させることにより膜の平滑性が優れ、極めて薄い膜を製造することができる。乾燥工程で溶剤が蒸発してガス透過性に優れた多孔膜を得ることもできる。
【0031】
本発明のガス捕集器においては、ガス吸収液がチャネルから漏洩しないようガス透過膜1とマイクロチャネル用のブロック3とが固着されている。ガス透過膜1とブロック3とを接着する方法としては、ガス透過膜1と膜形成用平滑基板とをプリベークしてお互いに半乾きの状態でこの膜をブロックごとマイクロチャネル2にかぶせて接合させる方法を挙げることが出来る。
【0032】
その後、更にマイクロチャネル用のブロック3と膜形成用平滑基板を加熱することからなるポストベークにより両者を強固に接合する。膜をチャネルに接合した後、膜形成用平滑基板を取り除く。この際、先に述べたように平滑基板表面を予めフッ素化シラン処理を行なっておけば、膜を破損することなく、膜から基板を取り外すことができる。以上の方法によりマイクロチャネル用のブロック3に極めて薄いガス透過膜1を熱接着することができる。
【0033】
本発明のガス捕集器ではマイクロチャネル2内にガス吸収液を流す。このようなガス吸収液は、捕集目的のガスの種類によって異なる。例えぱ、硫化水素ガスの濃度を測定する場合は、アルカリ性のフルオレッセイン酢酸水銀(FMA)を用いることができる。ガス吸収液の総量は24時問あたりでも0.1〜数mlの範囲とすることができる。
【0034】
本発明のガス捕集器は、更に吸収液をマイクロチャネル2内に流すためのマイクロポンプ、吸収液に吸収されたガスを定量化するため公知の装置を具備することができる。ガス吸収後に反応する物質を川いて定量する場合は、反応液供給装置、反応液、反応後の液を比色するための小型吸光度測定計等を備えておくこともできる。
【0035】
また、別のガス量定量装置としては、マイクロチャネル用のブロック3を固化するときに、LEDのような発光素了とフオトダイオードのような受光素子も一結にモールドすると蛍光や吸光度の検出器を集積化することができる。発光素子や受光素子を直接挿入してもよいし、光ファイバーを介して設置しても良い。図3は、吸収液出口に発光LEDと受光用の光ファイバーを取り付けた蛍光を測定するシステムを示した斜視図である。
【0036】
《本発明のガス捕集器による吸収理論》
本発明において吸収部をマイクロチャネル化して形状を小さくするメリットの理論的根拠は次の通りである。すなわち、ガス透過性Pの膜でチャネルを覆ったとき、この透過膜の面積、チャネル内の吸収液体積及びその厚みをそれぞれA、V、dとすると、膜の外側に濃度Cgのガスを時間Tの間接触させたときに取り込まれる成分の吸収液中濃度Csは次式1のようになる。
【式1】
すなわち、チャネルの厚みdを小さくすればするほど高い濃縮率が得られる、と言うことである。従ってマイクロチャネル2をガス吸収に利用すれば非常に性能の高いスクラバーが可能になる。
【0037】
先の説明は、チャネル内に吸収液を蓄えてガスを取り込んだ、いわゆるストップトフロー法におけるものである。実際には、吸収液の流れを止めず、連続的にチャネル内に流す方が簡便であり、よく用いられる。この連続フロー法では吸取液中濃度Csは、前記式1と同じ条件、但しVの代わりに吸収液の流量Qまたは線連度v及び時間Tの代わりにチャネル長さlを用いて次式2のように表せる。
【式2】
従って、連続フローの場合でも高い透過率Pを持つガス透過膜1と深さdの小さなマイクロチャネル2を組み合わすことが重要となる。
【0038】
【発明の効果】
本発明のガス捕集器によれば、従来用いられている捕集器よりはるかに少ない吸収液に取り込み、かつ透過率の高いガス透過膜を便用するため、ガスの検出特性を従来のものより100倍〜1000倍程度向上し、極めて高感度にしかも時間分解能高く分析することが可能となる。本発明では非常に高い濃縮効率を得るため、連続的な高感度計測を可能にするものである。
【0039】
【実施例】
次に実施例を挙げて本発明につき更に詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら制約されるものではない。
【0040】
【実施例1】
ガラス基板に幅200μm、深さ50μmのジグザグ状の凸型の溝をフオトリゾグラフィー法により作成した。このガラス基板を鋳型にしてそこへ液状ポリジメチルシロキサンを硬化剤と混合後、流し込んで固めることによってマイクロチャネルブロックを作製した。このマイクロチャネルブロックの大きさは縦30mm、横30mm、厚さ3mmであった。
【0041】
一方、予め(トリデカフロロ−1,1,2,2−テトラハイドロオクチル)−1−トリクロロシランの蒸気で表面処理を施した平滑な膜形成用シリコン基板の上に低粘度液状ポリジメチルシロキサンに硬化剤を添加して混合後スピンコーティングすることにより薄膜を形成した。
【0042】
ポリジメチルシロキサン膜を塗布した膜形成用平滑基板を恒温槽で65℃でプリベークした後,ポリジメチルシロキサン製樹脂ブロックを膜の上に置き、両者を合体して、再び恒温槽内に65℃に放置して、膜に含有されていた溶媒を除去し、さらに150℃で硬化を完了させた。このようにして、厚さ7μmのポリジメチルシロキサン膜をポリジメチルシロキサン樹脂ブロックのマイクロチャネルの上に形成した。以上の方法により製造したガス捕集器の断面を図2に示す。
【0043】
【実施例2】
上記方法で製造したマイクロチャネルガス捕集器に吸収液としてアルカリ性の1μmol/dm3のFMA溶液を2μl/minの流量で流しつつ硫化水素( H2S)を30ppb含有する空気中に暴露させた。実施例1で製造したマイクロチャネルの体積は2μlであり、吸収液は1分間ガスを吸収した後排出された。マイクロチャネルのすぐ下流で図3のようにして蛍光を検出することにより、排出された吸収液中に残存するFMA濃度に応じた蛍光シグナルの変化を測定した。なお、FMAは硫化物と反応して消費されるので、硫化水素の吸収によってFMAの蛍光強度が減少し、蛍光消光から硫化水素濃度を求めることができる。
【0044】
測定結果を図6に示す。硫化水素濃度を0→30→0ppbと変えたときに蛍光シグナルが大きく変わっている。この実施例で吸収液中FMAの約3分の2が30ppb硫化水素で消費されていることが分かる。
【0045】
【比較例1】
図5に示した公知の直方(rectangular)型ガス拡散スクラバーを用いて、吸収液を100μl/minの速度で流す以外は実施例2と同様に行った。吸取液流量を変えたのは、実施例2と同じ吸収時問、同じ反応速度を得るためである。
また、ガス透過膜は実施例2と同じにした。結果を図6に併記する。図6から明らかなように、従束のガス捕集器ではほとんど応答していないが、本発明のガス捕集器では大きく応答しているのがわかる。
【0046】
【参考例1】
ガス捕集器の透過膜の膜厚を色々と変える以外は実施例1と同様に行った。結果を図7に示す。図7から分かるように、ガス透過率は透過膜の膜厚にほぼ反比例する関係が得られた。特に20μmより膜厚を小さくすると急激にガス透過率が上昇することがわかるが、30μmまでは好ましい使用可能の範囲である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例のガス捕集器の部晶を示した模式図である。
【図2】本発明の一実施例に係るガス捕集器の断両を示すものである。
【図3】本発明の他の実施例で,検出器を一体化したガス捕集器に係る斜視図である。
【図4】従来の方法で、エアーポンプで通気瓶(バフラー)に通気して大気成分を吸収液に取り込む方式のガス捕葉器を示した模式図である。
【図5】直方(rectangular)型と呼ばれる厚み数百μm〜数mmのガスケツト等を利用して吸収液層が設けられている従来のガス捕集器を示した模式図である。
【図6】実施例1および比較例1におけるガスへの応答の違いを示したグラフである。
【図7】ガス透過膜の膜厚とガス透過率の関係について調べた実験結果を示したグラフである。
【符号の説明】
1 ガス透過膜
2 マイクロチャネル
3 マイクロチャネル用のブロック
4 吸収液入ロ
5 吸収液出ロ
6 発光素子LED
7 受光用光ファイバー
8 ガス入ロ
9 フイルター
10 ガス通気瓶(バブラー)
11 吸収液
12 エアーポンプ
13 二一ドルバルプ
14 流量計
15 ガス出ロ
16 ガスケット
Claims (4)
- ガス吸収液が流れるマイクロチャネルを表面側に形成したブロックと、該ブロックの表面側に取り付けたガス透過膜とからなるマイクロガス捕集器の製造方法において、
矩形状のポリジメチルシロキサンで前記ブロックを形成し、
表面をフッ素化シランで上面処理した平滑な基板上でスピンコーティング法により、厚さ30μm以下のポリジメチルシロキサン薄膜を形成し、
前記ポリジメチルシロキサン薄膜を前記ブロックの前記表面側に熱接着した後に基板上から剥離することによって、前記表面側にポリジメチルシロキサンからなるガス透過膜を取り付けること
を特徴とするマイクロガス捕集器の製造方法。 - 前記マイクロチャネルは、ブロック上にフオトリソグラフィー法により形成されることを特徴とする請求項1に記載のマイクロガス捕集器の製造方法。
- 前記マイクロチャネルは、ジグザグ状に形成されることを特徴とする請求項1乃至2に記載のマイクロガス捕集器の製造方法。
- 前記マイクロチャネルの深さは10〜200μmで、巾は40〜2000μmに形成されることを特徴とする請求項1乃至3に記載のマイクロガス捕集器の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003045742A JP4397604B2 (ja) | 2003-02-24 | 2003-02-24 | マイクロガス捕集器の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003045742A JP4397604B2 (ja) | 2003-02-24 | 2003-02-24 | マイクロガス捕集器の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004257748A JP2004257748A (ja) | 2004-09-16 |
| JP4397604B2 true JP4397604B2 (ja) | 2010-01-13 |
Family
ID=33112476
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003045742A Expired - Lifetime JP4397604B2 (ja) | 2003-02-24 | 2003-02-24 | マイクロガス捕集器の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4397604B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007139733A (ja) * | 2005-11-14 | 2007-06-07 | Takashi Toda | マイクロチャネルスクラバー |
| JP4911592B2 (ja) * | 2006-11-01 | 2012-04-04 | 財団法人生産技術研究奨励会 | エマルジョンの製造方法及びその製造装置 |
| NO20074747L (no) * | 2007-09-17 | 2009-03-18 | Sinvent As | Screening av en absorbent blanding og system derav |
| US20090081768A1 (en) * | 2007-09-21 | 2009-03-26 | Applera Corporation | Devices and Methods for Thermally Isolating Chambers of an Assay Card |
| CN102095745B (zh) * | 2010-11-19 | 2012-10-03 | 聚光科技(杭州)股份有限公司 | 一种气态流体中元素的监测方法及系统 |
| JP2014021081A (ja) * | 2012-07-24 | 2014-02-03 | Hitachi High-Technologies Corp | 分析用マイクロ流路チップの製造方法 |
| CN112326370B (zh) * | 2020-10-15 | 2024-03-22 | 辽宁大学 | 一种黑臭水体中挥发性气体的采集装置及检测方法 |
-
2003
- 2003-02-24 JP JP2003045742A patent/JP4397604B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2004257748A (ja) | 2004-09-16 |
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| A072 | Dismissal of procedure [no reply to invitation to correct request for examination] |
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| A977 | Report on retrieval |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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