JP4434779B2 - 高純度1,3−ジメチルナフタレンの製造方法 - Google Patents
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Description
A属 1,5−、1,6−、2,6−
B属 1,8−、1,7−、2,7−
C属 1,4−、1,3−、2,3−
D属 1,2−
即ち本発明は、フッ化水素及び三フッ化ホウ素を触媒として用いてジメチルナフタレンの異性化反応を行い、1,3−ジメチルナフタレンを製造する方法であって、五員環または六員環構造を持つ炭素数5〜10の脂環式飽和炭化水素との共存下、液相にて異性化することを特徴とする高純度1,3−ジメチルナフタレンの製造方法に関する。
尚、1,4−DMNとしては、公知の方法でエチルベンゼンと1,3−ブタジエンをアルケニル化し、環化、脱水素して得られたもの(ガスクロ分析(無極性カラム使用)による純度99.0%)を使用した。
温度を制御できる内容積500mlの電磁撹拌装置付オートクレーブ(SUS316L製)に、無水HFを150g(7.5mol)、BF3を22g(0.32mol)仕込み、液温を−10℃に冷却し、メチルシクロペンタンを0.8g加えた1,4−DMN39g(0.25mol)を、オートクレーブ内容物を撹拌しながら供給した。その後、同温度に60分間保った後、氷の中に内容物を採取し、ヘキサンで希釈後、中和処理をして得られた油層をガスクロマトグラフィーで分析して反応成績を求めた。反応成績を表1に示す。
メチルシクロペンタンの代わりにシクロヘキサン0.8gを1,4−DMNに添加した以外は、実施例1と同様にして異性化反応と反応液の処理を行った。反応成績を表1に示す。
メチルシクロペンタンの代わりにメチルシクロヘキサン0.8gを1,4−DMNに添加した以外は、実施例1と同様にして異性化反応と反応液の処理を行った。反応成績を表1に示す。
メチルシクロペンタンの代わりに、メチルシクロペンタンを1重量%含むn−ヘキサンを78g用いた以外は、実施例1と同様にして異性化反応と反応液の処理を行った。反応成績を表1に示す。
メチルシクロペンタンを添加しない以外は、実施例1と同様にして異性化反応と反応液の処理を行った。反応成績を表1に示す。実施例1に比べて、1,3−DMNの異性体比が低く、不満足な結果であった。
メチルシクロペンタンの代わりに脂環式飽和炭化水素ではないn−ヘプタン0.8gを用いた以外は、実施例1と同様にして異性化反応を行った。反応成績を表1に示す。実施例1に比べて、1,3−DMNの異性体比が低く、不満足な結果であった。
Claims (4)
- フッ化水素及び三フッ化ホウ素を触媒として用いてジメチルナフタレンの異性化反応を行い、1,3−ジメチルナフタレンを製造する方法であって、五員環または六員環構造を持つ炭素数5〜10の脂環式飽和炭化水素との共存下、液相にて異性化することを特徴とする高純度1,3−ジメチルナフタレンの製造方法。
- 前記脂環式飽和炭化水素の量が、ジメチルナフタレンに対する重量比(炭化水素/ジメチルナフタレン)として0.005〜0.2の範囲である請求項1記載の高純度1,3−ジメチルナフタレンの製造方法。
- 異性化温度が−40〜0℃の範囲である請求項1または2記載の高純度1,3−ジメチルナフタレンの製造方法。
- 原料として用いるジメチルナフタレンが、1,4−ジメチルナフタレンおよび/または2,3−ジメチルナフタレンを含むものである請求項1〜3のいずれかに記載の高純度1,3−ジメチルナフタレンの製造方法。
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