JP4452061B2 - プラズマ発生装置用アンテナの整合方法及びプラズマ発生装置 - Google Patents
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Description
10 プラズマ発生装置
11 チャンバー
12 基板台
20 アンテナ
21 アンテナ素子
21a 電極
21b 誘電体シース
22 グランド
30 給電部
41 給電ケーブル(同軸フイーダー)
50 インピーダンス整合装置
51 第1可変コンデンサ
52 第2可変コンデンサ
53 第3可変コンデンサ
E アース部(アース位置)
G 処理ガス
L アンテナの有効長さ
L1 アンテナ部長さ
L2 アース長さ
Claims (4)
- 表面を誘電体で覆った柱状の導電体からなる複数のアンテナ素子を、先端を開放して後端を接地し、前記先端と前記後端の間で給電するように、交互に給電方向を逆にして平行に配置した面状のアンテナを備え、通気性を有する導電体で形成された面状のグランドを、前記アンテナと平行に配設したプラズマ発生装置において、
前記グランドと前記アンテナ素子との距離Hと、隣接するアンテナ素子相互間の距離Dとの関係を2H<Dとすると共に、
前記先端からアース位置までのアンテナの長さを、nを正数とした時に、前記アンテナに供給する高周波電力の波長λの(2n−1)/4倍とすることができるように、前記アンテナ素子の前記後端と給電部の間に移動可能なアース部を設け、前記アンテナ素子の前記先端と前記アース部の間の長さを調整可能に構成し、
前記アンテナ素子の前記後端側部分と前記給電部からの給電ケーブルとの接合部の部分に設けられ、かつ、前記アンテナ素子の前記先接合部より前記先端側で前記接合部の近傍に設けた可変コンデンサ又は可変インダクタを備えたインピーダンス整合装置で、前記アンテナ素子のインピーダンスと給電ケーブルのインピーダンスを整合することを特徴とするプラズマ発生装置用アンテナの整合方法。 - 前記プラズマ発生装置が、前記グランドと前記アンテナ素子を同一チャンバー内に設けて、処理ガスが、前記グランドと前記アンテナを通過して被処理材に供給されるように構成されていることを特徴とする請求項1記載のプラズマ発生装置用アンテナの整合方法。
- 表面を誘電体で覆った柱状の導電体からなる複数のアンテナ素子を、先端を開放して後端を接地し、前記先端と前記後端の間で給電するように、交互に給電方向を逆にして平行に配置した面状のアンテナを備え、通気性を有する導電体で形成された面状のグランドを、前記アンテナと平行に配設したプラズマ発生装置において、
前記グランドと前記アンテナ素子との距離Hと、隣接するアンテナ素子相互間の距離Dとの関係を2H<Dとすると共に、
前記先端からアース位置までのアンテナの長さを、nを正数とした時に、前記アンテナに供給する高周波電力の波長λの(2n−1)/4倍とすることができるように、前記アンテナ素子の前記後端と給電部の間に移動可能なアース部を設け、前記アンテナ素子の前記他端と前記アース部の間の長さを調整可能に構成し、
前記アンテナ素子の前記後端側部分と前記給電部からの給電ケーブルとの接合部の部分に、前記アンテナ素子の前記先接合部より前記先端側で前記接合部の近傍に設けた可変コンデンサ又は可変インダクタを備えたインピーダンス整合装置を設けたことを特徴とするプラズマ発生装置。 - 前記グランドと前記アンテナ素子を同一チャンバー内に設けて、処理ガスが、前記グランドと前記アンテナを通過して被処理材に供給されるように構成したことを特徴とする請求項3記載のプラズマ発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003385075A JP4452061B2 (ja) | 2003-11-14 | 2003-11-14 | プラズマ発生装置用アンテナの整合方法及びプラズマ発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003385075A JP4452061B2 (ja) | 2003-11-14 | 2003-11-14 | プラズマ発生装置用アンテナの整合方法及びプラズマ発生装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005149887A JP2005149887A (ja) | 2005-06-09 |
| JP4452061B2 true JP4452061B2 (ja) | 2010-04-21 |
Family
ID=34693276
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003385075A Expired - Fee Related JP4452061B2 (ja) | 2003-11-14 | 2003-11-14 | プラズマ発生装置用アンテナの整合方法及びプラズマ発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4452061B2 (ja) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007258570A (ja) * | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | プラズマ処理装置 |
| JP4817923B2 (ja) * | 2006-03-29 | 2011-11-16 | 三井造船株式会社 | プラズマ生成装置及びプラズマ生成方法 |
| JP2007273752A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | プラズマ処理装置およびプラズマ生成装置 |
| JP4554712B2 (ja) * | 2007-03-30 | 2010-09-29 | 三井造船株式会社 | プラズマ処理装置 |
| TW200845833A (en) * | 2007-05-01 | 2008-11-16 | Delta Electronics Inc | Plasma generating device |
| JP4554694B2 (ja) * | 2008-03-26 | 2010-09-29 | 三井造船株式会社 | プラズマ処理装置 |
| JP5398632B2 (ja) * | 2010-04-30 | 2014-01-29 | 三菱重工業株式会社 | 真空処理装置 |
| JP6104817B2 (ja) * | 2010-12-30 | 2017-03-29 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | マイクロ波プラズマを用いた薄膜堆積 |
| JP5874854B1 (ja) * | 2015-06-12 | 2016-03-02 | 日新電機株式会社 | プラズマ処理装置 |
| JP6310601B1 (ja) | 2017-06-07 | 2018-04-11 | 日新電機株式会社 | スパッタリング装置 |
| JP7001958B2 (ja) * | 2018-03-06 | 2022-01-20 | 日新電機株式会社 | プラズマ処理装置 |
| JP7001959B2 (ja) * | 2018-03-16 | 2022-02-04 | 日新電機株式会社 | プラズマ処理装置、プラズマ処理方法、及びプラズマ処理装置用プログラム |
| JP7394632B2 (ja) * | 2020-01-16 | 2023-12-08 | 東京エレクトロン株式会社 | アレーアンテナ及びプラズマ処理装置 |
-
2003
- 2003-11-14 JP JP2003385075A patent/JP4452061B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2005149887A (ja) | 2005-06-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060322 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080912 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081007 |
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| A521 | Written amendment |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A521 | Written amendment |
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| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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