JP4456731B2

JP4456731B2 - 感光材固定装置およびレーザビーム露光装置

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Publication number: JP4456731B2
Application number: JP2000186675A
Authority: JP
Inventors: 修一清水
Original assignee: Orc Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Orc Manufacturing Co Ltd
Priority date: 2000-06-21
Filing date: 2000-06-21
Publication date: 2010-04-28
Anticipated expiration: 2020-06-21
Also published as: JP2002006511A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、レーザビーム露光装置、特にプラズマディスプレイ等の表示部を製作する際に用いるレーザビーム露光装置において、感光材を所定位置に固定する感光材固定装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
プラズマディスプレイの表示部は、表面パネルと裏面パネルとの２枚の所定の同一規格を有するパネルを重ね合わせて製作する。この表示部を製作するにあたり、まず表面パネルには、透明電極（ＩＴＯ）を描画し、さらに透明電極を描画した方向と平行な方向にバス電極を描画する。裏面パネルには、アドレス電極を描画するとともに、アドレス電極を描画した方向と平行な方向にリブを形成する。ここで表面パネルにおける透明電極とバス電極とは、微細な複数の直線として描かれる。裏面パネルにおけるアドレス電極とリブも同様である。
【０００３】
さらに、上記表面パネルと上記裏面パネルとの描画内容は、両者を重ね合わせたときに互いに直交するように描画されている。例えば、表面パネルにおける透明電極とバス電極とが、該パネルの長手方向に平行な状態で描画される場合、裏面パネルにおけるアドレス電極やリブは、該パネルの長手方向に垂直な状態で描画される。
【０００４】
図１と図２は、従来のレーザビーム露光装置によって、平行な複数本の直線を描いた状態を表している。図１は、レーザビームを連続してオン／オフさせて、パネル上では副走査方向に平行な方向に複数の直線を描いた場合を示しており、図２は、１回の走査中はレーザビームを常にオン状態にさせて、パネル上では主走査方向に平行な方向に複数の直線を描いた場合を示している。図１に示すように、副走査方向に平行な方向に直線を描画する場合、各直線間は、主走査方向においてほぼ等しい幅になり、ムラのない描画結果が得られる。しかし、従来のレーザビーム露光装置は、パネルを副走査方向に移動するにあたり、その副走査方向への送りが一定にならない場合がある。この場合、図２に示すように、主走査方向に平行な方向に直線を描画すると、副走査方向における直線間の幅が均等でなくなり、描画結果にムラが生じてしまう。
【０００５】
上述したように、プラズマディスプレイの表示部を構成する表面パネルと裏面パネルとは、互いに直交する直線を描画しなければならない。しかし従来のレーザ描画装置では、パネルは描画部上の所定の方向にしか配置することができない。従って、従来のレーザビーム露光装置では、表面パネルまたは裏面パネルいずれか一方は、必ず図２に示す描画を行わねばならず、描画結果に必ずムラが生じてしまう。
【０００６】
表面、裏面を問わず、電極の配置にごくわずかでもムラがあるパネルにより製作されたプラズマディスプレイによって表示される画像は、スジ状の明るさの濃淡が発生してしまうため、非常に見づらいという問題点がある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
そこで本発明は上記の事情に鑑み、ムラのない描画結果が得られる任意の向きに、感光材を載置、固定することができる感光材固定装置および、ムラが発生せず常に精度の高い描画をすることができるレーザビーム露光装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【問題を解決するための手段】
このため、請求項１の記載の感光材固定装置は、レーザビーム露光装置において、感光材を固定する感光材固定装置であって、１辺の長さが少なくとも感光材の長辺よりも長く、前記感光材を主走査方向と直交する方向に長手方向が沿う第１の状態で表面に載置できるとともに、前記感光材を主走査方向と平行な方向に長手方向が沿う第２の状態で表面に載置できる描画テーブルと、前記感光材が前記第１の状態または前記第２の状態で前記描画テーブルに載置された状態で、前記感光材の２辺に位置決めするように当て付けられる複数の位置決め手段と、前記感光材を介して前記位置決め手段と対向する位置に配置され、対向する前記位置決め手段の方向へ前記描画テーブル表面と平行に前記感光材を付勢する複数の付勢手段と、を備え、前記付勢手段のうち、少なくとも、前記第１の状態または前記第２の状態で前記感光材を固定する際に前記感光材の固定の妨げとなる位置に配置されるものは、前記描画テーブルの表面以外の場所に配置されることを特徴とする。
【０００９】
上記の構成によれば、レーザビームを連続してオン／オフさせて副走査方向に平行な方向に複数の直線を描くような位置に感光材を配置することができる。つまり、常にムラのない描画結果が得られるような任意の向きに、感光材を載置、固定することができる。
【００１１】
さらに、例えば、第２の状態に固定する時に必要となる付勢手段の配置が、第１の状態に感光材を固定しようとする場合の妨げになる場合であっても、第２の状態に固定する時に必要となる付勢手段は、描画テーブル上にないため、何ら問題なく感光材を任意の向きに固定することが可能になる。
【００１２】
ここで上記付勢手段のうち、少なくとも、上記第１の状態または上記第２の状態で感光材を固定する際にその固定の妨げとなる位置に配置されるものは、描画テーブル下部に格納しておくことが可能である。そして、感光材を付勢する時には、まず、描画テーブルの表面に突出するまで上昇し、描画テーブル表面に付勢手段の少なくとも一部分が突出した後に、感光材を付勢する（請求項３）。
【００１３】
また請求項４に記載の発明によれば、付勢手段として、エアシリンダを使用することが可能である。
【００１４】
請求項５に記載のレーザビーム露光装置は、請求項１ないし４の何れか一項に記載の感光材固定装置を有することを特徴とする。請求項５に記載のレーザビーム露光装置によれば、感光材固定装置によって固定された感光材の状態に応じて描画位置の補正を行うことができる。従って、プラズマディスプレイの表示部のような高い精度が要求される描画内容であっても描画することができる。
【００１５】
請求項６に記載のレーザビーム露光装置は、感光材上における所定位置描画が行われるように描画位置を補正する位置補正手段を有することを特徴とする。上記位置補正手段は、位置決め手段および付勢手段によって固定された感光材の描画テーブル上における位置を計測する位置計測手段を有し、位置計測手段による計測結果に応じて、感光材におけるレーザビームの描画開始位置を補正することが望ましい（請求項７）。
【００１６】
上記位置補正手段は、さらに、感光材の水平方向における傾きを補正するθ補正手段と、主走査方向における描画開始位置を補正するＸ方向補正手段と、主走査方向と直交する方向における描画開始位置を補正するＹ方向補正手段と、を有することが望ましい（請求項８）。上記感光材固定装置とこの３種の補正手段によって、さらに精度の高い描画内容が実現可能になる。
【００１７】
具体的には、θ補正手段は、感光材の水平方向における傾きがなくなるまで描画テーブルを水平方向に回転させる回転手段を少なくとも有する（請求項９）。またＸ方向補正手段は、レーザビームの変調タイミングを変更する変調タイミング変更手段を有する（請求項１０）。Ｙ方向補正手段は、描画テーブルの駆動タイミングを変更する駆動タイミング変更手段を有する（請求項１１）。あるいは、レーザビームの変調タイミングを変更する変調タイミング変更手段を有する（請求項１２）。
【００１８】
請求項１３に記載のレーザビーム露光装置によれば、リニアゲージを上記位置計測手段に使用することができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
図３は本発明の感光材固定装置を搭載するレーザビーム露光装置１００の概略図である。レーザビーム露光装置１００は、感光材固定装置を備える描画部１０、光源部２０、走査光学部３０、そして基台Ａを有する。レーザビーム露光装置１００は、床面上に基台Ａを据え付けることにより、安定した状態で設置されている。
【００２０】
プラズマディスプレイ表示部の製作過程において、透明電極やアドレス電極等を描画する場合、まず後述する方法により、描画部１０に描画対象である感光材（ここではパネル）を固定する。
【００２１】
パネルが所定の位置に固定されると、描画が開始される。光源部２０から照射されるレーザビームは、走査光学部３０に入射する。走査光学部３０においてレーザビームは、描画データに基づいて生成される変調信号に同期してオン／オフ制御されつつ、ポリゴンミラー等の偏向器によって、偏向される。そしてレーザビームは、描画部１０上で固定されたパネルを所定の方向に走査する。レーザビーム露光装置では、レーザビームを走査させると同時に、露光されるパネルをレーザビームの走査方向と直交する方向へ平行移動させる。これにより所望の描画が行われる。なお、本明細書では前者を主走査方向（各図中、Ｘ方向）、後者を副走査方向（各図中、Ｙ方向）と定義する。また各図中において、Ｘ方向、Ｙ方向いずれにも直交する方向、換言すればレーザビームがパネルに入射する方向をＺ方向で示す。
【００２２】
次に、パネルを描画部１０に固定する方法について詳説する。描画部１０は、走査光学部３０から射出されるレーザビームが描画テーブル４上に垂直に入射する状態（Ｘ−Ｙ平面上）で基台Ａ上に設置されている。描画部１０は、一対のレール１、Ｙテーブル２、θテーブル３、描画テーブル４を有しており、一対のレール１は、基台Ａ上で副走査方向（Ｙ方向）に平行に延びる状態で配設される。一対のレール１上には、Ｙテーブル２が搭載されており、Ｙテーブル２上には、θテーブル３を介して描画テーブル４が設置されている。Ｙテーブル２は、図示しないモータを駆動させることにより、一対のレール１上をＹ方向に移動する。このＹテーブル２の副走査方向への移動に伴って、描画テーブル４は、θテーブル３と共に副走査方向に移動する。これにより、描画時にパネルを副走査方向に移動させることができる。なおθテーブル３は、描画テーブル４の水平面内での回転位置を微調整する。
【００２３】
図４は、描画テーブル４をＺ方向から見た拡大図である。描画テーブル４は、本発明にかかる感光材固定装置を構成する１部材であり、所定の規格を有するパネルを縦置き、横置きいずれの状態でも載置することができる。そのため、描画テーブル４は、Ｘ方向、Ｙ方向ともに少なくともパネルの長辺と同一もしくはそれ以上の長さを有する。本実施形態における描画テーブル４は、一辺がパネルの長辺と同一の長さを有する正方形状を有している。ここで、縦置きとは、パネルをその長手方向を副走査方向に沿わせて載置した状態をいい、横置きとは、該長手方向を主走査方向に沿わせて載置した状態をいうものとする。図４中、破線で描かれた四角形が縦置きしたパネルを示し、一点鎖線で描かれた四角形が横置きしたパネルを示す。なお、パネルは、図示しない搬送手段によって、縦置きまたは横置きのいずれかの向きで描画テーブル４上に載置される。
【００２４】
感光材固定装置は、上記描画テーブル４、および描画テーブル４上に設けられる付勢機構４１ａ〜４１ｆ、当て付けピン４２ａ〜４２ｆを有する。付勢機構４１ａ〜４１ｆ、当て付けピン４２ａ〜４２ｆの各符号において、ａからｃまでのアルファベットが付されたものは、パネルを縦置きするときに使用される部材であり、ｄからｆまでのアルファベットが付されたものがパネルを横置きするときに使用される部材である。さらに感光材固定装置は、リニアゲージ４３ｐ〜４３ｔを有する。
【００２５】
感光材固定装置のうち、各付勢機構４１ａ〜４１ｆは、精度の高い描画が行われるような所定の位置にパネルを固定するために用いられる付勢手段であり、載置した状態にあるパネルにおける一方の長辺部の両端近傍に２つ（縦置きであれば４１ａ、４１ｂ、横置きであれば４１ｄ、４１ｅ）設けられ、該パネルの一方の短辺部の略中央に１つ（縦置きであれば４１ｃ、横置きであれば４１ｆ）設けられている。
【００２６】
ここで、パネルの短辺部を付勢する付勢機構４１ｃ、４１ｆは、どちらも描画テーブル４の周縁部に設けられる。従って、付勢機構４１ｃ、４１ｆは、従来のレーザビーム露光装置で使用しているものと同一の型を使用しており、所定の方向（当て付けピン４２ｃ、４２ｆの方向）へパネルを付勢することができる。
【００２７】
しかし、パネルの長辺部を付勢する付勢機構４１ａ、４１ｂ、４１ｄ、４１ｅは、描画テーブル４の表面上に設けられるため上記従来のものを使用すると、描画方法によっては、パネルの載置の妨げになる場合がある。例えば、縦置き用の付勢機構４１ａは、パネルを横置きする際の妨げとなる。そこで、付勢機構４１ａ、４１ｂ、４１ｄ、４１ｅは図５や図６に示す構造を有する。
【００２８】
図５は、付勢機構４１ａを拡大した斜視図である。図５中に示す矢印Ｐ_ｎは、符号ｎを付した部材の移動方向を示す。また図６は、付勢機構４１ａの構造を表した側面図である。なお、付勢機構４１ｂ、４１ｄ、４１ｅは、配置方向が異なるものの、構造は図５や図６に示す付勢機構４１ａと同一であるため、ここでは説明を省略する。
【００２９】
図５および図６に示すように、付勢機構４１ａは、θテーブル３上に固定されるエアシリンダ８１、断面形状が凸型である凸型支持材８２、断面形状が凹型である凹型支持材８３、スライドテーブル８４、当て付け部８６、ガイド板８７、プッシャ８９を有する。また描画テーブル４には、当て付け部８６が突出するための開口４４が設けられている。
【００３０】
図６Ａは付勢を行わない、すなわち使用されない時の付勢機構４１ａの状態を表している。図６Ａに示すように、付勢機構４１ａは、描画テーブル４上で行われる描画（この場合パネルを横置きにして行われる描画）の妨げにならぬよう、θテーブル３と描画テーブル４との間に設けられている。
【００３１】
凸型支持材８２は、凸面を凹型支持材８３に対向させ、凸面と逆の面をエアシリンダ８１に面するように配置されている。その凸面と逆の面には、プッシャ８９が接合されている。プッシャ８９は、エアシリンダ８１にエアが注入されないときには、エアシリンダ８１内部に収まっている。凹型支持材８３は、スライドテーブル８４と一体化しており、垂直方向（図６中、Ｚ方向またはＺ方向の逆方向）に移動できる状態で凸型支持材８２と嵌合している（図５中、Ｐ_８３参照）。
【００３２】
スライドテーブル８４は、凹型支持材８３が一体化している面と逆の面に当て付け部８６を有し、またガイドピン８５を両側面（Ｘ−Ｚ面）に有する。ガイド板８７は、スライドテーブル８４を挟む状態でＸ−Ｚ面上に一対設けられており、θテーブル３上に固定されている。ガイド板８７は、各々カム溝８８を有する。カム溝８８は、ガイド板８７の略中央部においてエアシリンダ８１方向から描画テーブル４の開口４４に向かって斜めに所定長さ分延びた後、エアシリンダ８１の付勢方向と平行な方向に所定長さ分延びる形状になっている。カム溝８８にはガイドピン８５が挿入されており、スライドテーブル８４がカム溝８８の形状に沿って移動できるようにしてある。
【００３３】
図６Ｂは、付勢を行う時の付勢機構４１ａの状態を表している。ちなみに他の付勢機構との関係について述べると、縦置きの描画を行う時には、付勢機構４１ａ、４１ｂは図６Ｂの状態にあり、付勢機構４１ｄ、４１ｅは、図６Ａの状態にある。パネルを付勢する場合、走査光学部３０内の制御部３１（図７参照）から送信される信号によって、まずエアシリンダ８１にエアが注入される。これにより、エアシリンダ８１内部にあるプッシャ８９がＸ方向の逆方向（図５中、Ｐ_８９）に平行移動し、支持板８２を同方向（図５中、Ｐ_８２）に移動させる。
【００３４】
凸型支持材８２の移動に伴い、スライドテーブル８４（凹型支持材８３、当て付け部８６）も移動を開始する。ここで、ガイドピン８５がカム溝８８の形状に沿って移動（図５中、Ｐ_８５）することから、スライドテーブル８４は、当て付け部８６が開口４４から突出するまで描画テーブル４に向かって斜めにスライドする。このとき凹型支持材８３は、スライドテーブル８４のスライドを妨げないように、凸型支持材８２の凸面に沿って描画テーブル４方向に移動する（図５中、Ｐ_８３）。
【００３５】
ガイドピン８５がカム溝８８におけるエアシリンダ８１の付勢方向と平行な部分まで移動すると、描画テーブル４上では、当て付け部８６が開口４４から突出する状態になる。この状態になると、スライドテーブル８４はカム溝８８の形状に沿って水平方向（図６中、Ｘ方向またはＸ方向の逆方向）に移動する。これにより描画テーブル４表面では、当て付け部８６が当て付けピン４２ａ方向へ水平移動して載置されたパネルを付勢し続け、当て付け部８６が付勢している辺に対向する辺が当て付けピン４２ａに当接するまでパネルを移動させることができる。
【００３６】
図４に示すように各当て付けピン４２ａ〜４２ｆは、描画テーブル４周縁部にあって、載置されたパネルを挟んで各付勢機構４１ａ〜４１ｆとほぼ対向する位置に隣接して配置されている。従って、当て付けピン４２ａ〜４２ｆは、パネルを、長辺部では少なくとも２箇所で短辺部では少なくとも１箇所で固定する。
【００３７】
当て付けピン４２ａ〜４２ｆは、付勢機構４１ａ〜４１ｆによって描画テーブル４上を移動するパネルを固定する。これにより描画テーブル４上でのパネルの位置決めが行われる。例えば、パネルを縦置きする場合、当て付けピン４２ａ、４２ｂ、４２ｃの全てにパネルを当接させることで位置決めが行われる。
【００３８】
一般にパネルはガラス製が多いため、パネルを傷つけないように当て付けピン４２ａ〜４２ｆには弾力性ある材料を使用する。そのため当て付けピン４２ａ〜４２ｆは、付勢により弾性変形を生じる。上記理由から、付勢機構４１ａ〜４１ｆと当て付けピン４２ａ〜４２ｆとによる位置決めでは、±数１０μｍ〜数１００μｍ程度の位置精度しか得ることができない。該位置精度では、パネルと走査光学系３０との位置関係において描画位置（レーザビームがパネルに入射する位置）が微妙にずれてしまい、プラズマディスプレイの表示部製作時に要求される精度の高い描画を得ることはできない。そこで付勢機構４１ａ〜４１ｆと当て付けピン４２ａ〜４２ｆとによる位置決めが行われると、次に、より精度の高い描画を可能にするため、リニアゲージ４３ｐ〜４３ｔを用いた補正処理が行われる。
【００３９】
図７は、描画位置の補正処理を行う制御系を表すブロック図である。該制御系は、リニアゲージ４３ｐ〜４３ｔ、制御部３１、θテーブル３、駆動モータ３４、音響光学素子（ＡＯＭ）３６を有する。θテーブル３、駆動モータ３４、ＡＯＭ３６は、各々ドライバ３２、３３、３５を介して制御部３１に接続されている。
【００４０】
制御部３１は、ドライバ３２に駆動信号を与えることにより、θテーブル３を水平方向に所定量回転させる。またドライバ３３に駆動信号を与えることにより、駆動モータ３４を駆動させ、描画テーブル４をＹ方向に移動させる。制御部３１は、所定の描画データに従って変調信号をドライバ３５に与えることによりＡＯＭ３６を動作させ、光源部２０から照射されるレーザビームを所定のタイミングでオンオフするように変調制御する。
【００４１】
リニアゲージ４３ｐ〜４３ｔは、所定位置に固定されたパネルの辺の位置を基準として、実際に固定されたパネルの辺のＸ方向またはＹ方向の位置を計測する。リニアゲージ４３ｐ〜４３ｔは、縦、横いずれかの状態で固定されたパネルの長辺部では少なくとも２箇所、短辺部では少なくとも１箇所で固定位置を計測できるように配置される。例えば図４に示すように、描画テーブル４上でリニアゲージ４３ｐ〜４３ｔは、当て付けピン４２ａ〜４２ｆと隣接する位置に配置される。なお図４に示す当て付けピン４２ｃと当て付けピン４２ｄのように、２以上の当て付けピンが近接して配置される場合には、どちらか一方と隣接する位置にのみリニアゲージ（図４ではリニアゲージ４３ｒ）を配置し、部材数を減らすことも可能である。この場合、リニアゲージ４３ｒは、縦置き時では短辺部の固定位置を計測し、横置き時では長辺部の一端の固定位置を計測する。
【００４２】
図７に示すように、リニアゲージ４３ｐ〜４３ｔは、パネルの辺の位置を計測すると、制御部３１に計測結果を送信する。制御部３１は、まず計測結果からパネルの水平方向における傾きを計算する。そして計算結果に基づいて生成した駆動信号をドライバ３２に送信し、θテーブル３を水平方向に所定量回転させる。これにより、描画テーブル４上にあるパネルの水平方向における傾きをなくす補正が行われる。
【００４３】
また制御部３１は、計測結果からパネルの副走査方向（Ｙ方向）における位置ずれを計算する。そして計算結果に基づいて描画テーブルの副走査方向の駆動タイミングを変更した駆動信号を生成し、その駆動信号をドライバ３３に送信して駆動モータ３４を駆動させる。これにより、Ｙ方向のパネルのずれをなくす補正が行われる。
【００４４】
さらに制御部３１は、描画時に、計測結果に基づいて生成した変調信号をドライバ３５に送信しＡＯＭ３６を動作させる。該変調信号は、光源部２０から照射されるレーザビームが描画テーブル４上に固定されたパネルの所定位置で描画を行うように変調タイミングを変更した内容になっている。ＡＯＭ３６が該変調信号に応じてレーザビームをオンオフすることにより、Ｘ方向のパネルのずれをなくす補正が行われる。
【００４５】
上記の補正処理により、描画テーブル４上に固定されるパネルの位置精度を数μｍ程度にまで高めることができる。すなわち、精度の高い描画を行うことができる。
【００４６】
パネルが所定位置に固定されると、上記位置精度に関する補正処理が行われつつ、以下のように描画が行われる。
【００４７】
光源２０から照射されたレーザビームは、走査光学部３０において、常に連続的、かつ規則的にオン／オフするように変調制御される。このとき、制御部３１はＸ方向のパネルのずれをなくすような変調信号をドライバ３５に送信し、Ｘ方向の補正を行っている。該変調制御により、１回の走査の描画内容は、露光した箇所と露光していない箇所とが連続的かつ規則的に続く破線模様になる。ここで、走査光学部３０により偏向されたレーザビームは、描画テーブル４上において横置きしたパネル全体を走査できる程度の走査幅を有する。従って、パネルが縦置きされている場合には、１回の走査における走査終了位置付近はオフ制御して、パネルが載置されていない領域にレーザビームが入射することがないようにする。
【００４８】
上記のように変調制御されたレーザビームが走査するとともに、描画テーブル４が駆動モータ３４の駆動により副走査方向に移動する。このとき、制御部３１は、Ｙ方向のパネルのずれをなくすような駆動信号をドライバ３３に送信し、Ｙ方向の補正を行っている。結果として、縦置き、横置きを問わず、パネルには、図１に示すような副走査方向に平行であって、各直線間の幅が主走査方向にほぼ均等である複数の直線を描画することができる。
【００４９】
以上が本発明の実施形態である。本発明はこれらの実施形態に限定されるものではなく趣旨を逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。
【００５０】
上述した付勢機構、当て付けピン、リニアゲージの数は、使用するパネルの規格すなわち各辺の長さによって変えることができる。但し、当て付けピンは、パネルを挟んで付勢機構と対向する位置にあることが必要とされる。
【００５１】
本実施形態では、描画テーブル４周縁部に設けられる付勢機構４１ｃ、４１ｆは従来型のものを使用し、描画テーブル４表面に設けられる付勢機構４１ａ、４１ｂ、４１ｄ、４１ｅは、図５や図６に示すような構造によって当て付け部８６がスライドするものを使用している。しかし、描画テーブル４表面に設けられる付勢機構のうち、少なくとも描画方法によってパネルの載置の妨げになるおそれがある付勢機構（図４中、４１ａ、４１ｆ）のみが、上記当て付け部がスライドするもの（図５、図６）であれば、本発明を実施することが可能である。
【００５２】
また描画テーブル４の形状や大きさによっては、全ての付勢機構をθテーブル３と描画テーブル４との間に設置し、付勢時に当て付け部８６がスライドする構成（図５、図６）にして部材の統一を図ることも可能である。
【００５３】
さらに描画テーブル４表面に設けられる付勢機構は、パネルの載置の妨げとならないよう、付勢しない時に当て付け部８６が描画テーブル４上に突出した状態になければ、上記構造に限定されなくてもよい。例えば描画テーブル４に対し着脱可能な付勢機構を使用し、描画方法によりパネルの載置の妨げになる場合には描画テーブル４から取り外しておき、付勢時にのみ描画テーブル４上の所定位置に固定することも可能である。また、上記実施形態では、当て付け部８６の描画テーブル４上への突出、および該当て付け部８６によるパネルの付勢は、どちらもエアシリンダ８１からの押圧によって行われているが、エアシリンダ８１とは別の駆動手段を用いて、付勢機構全体を描画テーブル４上に上昇（図６中、Ｚ方向の逆方向）させた後、エアシリンダ８１の押圧によって当て付け部８６でパネルを付勢することも可能である。
【００５４】
上記実施形態では、リニアゲージ４３ｐ〜４３ｔを使用することにより、より正確にパネルの描画テーブルにおける位置の検出を行っているが、該パネルの位置検出手段は、リニアゲージに限定されない。
【００５５】
上記実施形態では、パネルの水平方向の傾きはθテーブル３を回転させることで補正する。パネルにおけるＸ方向の描画位置はＡＯＭ３６での変調タイミングを変更することにより補正する。Ｙ方向の描画位置は駆動モータ３４の駆動タイミングを変更することにより補正する。しかし、補正方法はこれに限定されるものではない。例えば、パネルにおけるＹ方向の描画位置の補正は、計測結果に基づいて修正しつつ変調信号を生成することによっても可能である。
【００５６】
さらに本発明は、上述したように、プラズマディスプレイの表示部を構成するパネルを描画することを主目的としているが、複数の平行な直線であって、各直線間の幅が均等であるものを描画することが要求される感光材であれば、該パネルでなくとも、非常に効果的である。但し、この場合、描画テーブルの大きさや付勢機構等の配置は、描画する感光材に適応させる必要がある。
【００５７】
【発明の効果】
以上のように、本発明は、レーザビーム露光装置に、該感光材が縦横いずれの向きでも載置、固定できる感光材固定装置を使用することにより、感光材に副走査方向と平行な方向に延びる直線であって各直線間の幅が均等である内容を高い精度で描画できるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図１】感光材のレーザビームによる描画状態を表す。
【図２】感光材のレーザビームの描画状態を表す。
【図３】本発明のレーザビーム露光装置の概略構成図である。
【図４】本発明のレーザビーム露光装置の描画テーブルを表す。
【図５】本発明のレーザビーム露光装置の付勢機構の斜視図である。
【図６】本発明のレーザビーム露光装置の付勢機構の側面図である。
【図７】描画位置の補正処理を行う制御系を表すブロック図である。
【符号の説明】
１０描画部
３ θテーブル
４描画テーブル
２０光源部
３０走査光学部
４１ａ〜４１ｆ付勢機構
４２ａ〜４２ｆ当て付けピン
４３ｐ〜４３ｔリニアゲージ

Claims

レーザビーム露光装置において、感光材を固定する感光材固定装置であって、
１辺の長さが少なくとも感光材の長辺よりも長く、前記感光材を主走査方向と直交する方向に長手方向が沿う第１の状態で表面に載置できるとともに、前記感光材を主走査方向と平行な方向に長手方向が沿う第２の状態で表面に載置できる描画テーブルと、
前記感光材が前記第１の状態または前記第２の状態で前記描画テーブルに載置された状態で、前記感光材の２辺に位置決めするように当て付けられる複数の位置決め手段と、
前記感光材を介して前記位置決め手段と対向する位置に配置され、対向する前記位置決め手段の方向へ前記描画テーブル表面と平行に前記感光材を付勢する複数の付勢手段と、
を備え、
前記付勢手段のうち、少なくとも、前記第１の状態または前記第２の状態で前記感光材を固定する際に前記感光材の固定の妨げとなる位置に配置されるものは、前記描画テーブルの表面以外の場所に配置されることを特徴とする感光材固定装置。
前記付勢手段のうち、少なくとも、前記第１の状態または前記第２の状態で前記感光材を固定する際に前記感光材の固定の妨げとなる位置に配置されるものは、前記描画テーブルから取り外し可能な構造とすることを特徴とする請求項１に記載の感光材固定装置。
前記付勢手段のうち、少なくとも、前記第１の状態または前記第２の状態で前記感光材を固定する際に前記感光材の固定の妨げとなる位置に配置されるものは、前記描画テーブル下部に格納されており、前記感光材を付勢する時には、まず、前記描画テーブルの表面に突出するまで上昇し、前記描画テーブル表面に前記付勢手段の少なくとも一部分が突出した後に、前記感光材を付勢することを特徴とする請求項１に記載の感光材固定装置。
前記付勢手段は、エアシリンダを有することを特徴とする請求項１ないし３の何れか１項に記載の感光材固定装置。
請求項１ないし４の何れか１項に記載の感光材固定装置を有することを特徴とするレーザビーム露光装置。
前記感光材上における所定位置で描画が行われるように描画位置を補正する位置補正手段をさらに有することを特徴とする請求項５に記載のレーザビーム露光装置。
前記位置補正手段は、前記位置決め手段および前記付勢手段によって固定された前記感光材の前記描画テーブル上における位置を計測する位置計測手段を有し、前記位置計測手段による計測結果に応じて、前記位置補正手段が前記感光材におけるレーザビームの描画開始位置を補正することを特徴とする請求項６に記載のレーザビーム露光装置。
前記位置補正手段は、さらに、前記感光材の水平方向における傾きを補正するθ補正手段と、主走査方向における描画開始位置を補正するＸ方向補正手段と、主走査方向と直交する方向における描画開始位置を補正するＹ方向補正手段と、を有することを特徴とする請求項６または７に記載のレーザビーム露光装置。
前記θ補正手段は、前記感光材の水平方向における傾きがなくなるまで前記描画テーブルを水平方向に回転させる回転手段を少なくとも有することを特徴とする請求項８に記載のレーザビーム露光装置。
前記Ｘ方向補正手段は、レーザビームの変調タイミングを変更する変調タイミング変更手段を有することを特徴とする請求項８に記載のレーザビーム露光装置。
前記Ｙ方向補正手段は、前記描画テーブルの駆動タイミングを変更する駆動タイミング変更手段を有することを特徴とする請求項８に記載のレーザビーム露光装置。
前記Ｙ方向補正手段は、レーザビームの変調タイミングを変更する変調タイミング変更手段を有することを特徴とする請求項８に記載のレーザビーム露光装置。
前記位置計測手段はリニアゲージを含むことを特徴とする請求項６から請求項１２の何れか１項に記載のレーザビーム露光装置。