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JP4462271B2 - PTC element - Google Patents
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JP4462271B2 - PTC element - Google Patents

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Description

本発明は、PTC素子に関する。   The present invention relates to a PTC element.

従来のPTC素子として、例えば特許文献1に記載されているように、高分子系導電性組成物のシート体(PTC素体)の表裏に、金属部材(電極)を接着したものが知られている。
特開2005−11847号公報
As a conventional PTC element, for example, as described in Patent Document 1, a metal member (electrode) bonded to the front and back of a sheet body (PTC element body) of a polymer conductive composition is known. Yes.
JP 2005-11847 A

しかし、従来のPTC素子は、製造後に長期間経過した後に熱履歴を受けると、PTC素体が劣化して室温抵抗値が大きく増大してしまうという問題があった。室温抵抗値が大きくなると非動作時と動作時との抵抗変化率が小さくなるため、PTC素子として正常に機能しない状態となり得る。従来のPTC素子においては、製造後に長期間経過すると、PTC素体中に周囲から酸素が侵入すると考えられる。そして、その状態でPTC素子が熱履歴を受けると、PTC素体中の樹脂や導電性粒子が侵入した酸素によって酸化され、この酸化によってPTC素体が劣化して室温抵抗値の増大が引き起こされると考えられる。   However, when a conventional PTC element receives a thermal history after a long period of time after manufacture, the PTC element body deteriorates and the room temperature resistance value is greatly increased. When the room temperature resistance value increases, the rate of change in resistance between non-operation and operation decreases, so that the PTC element may not function normally. In the conventional PTC element, it is considered that oxygen enters from the surroundings into the PTC element body after a long period of time after manufacture. When the PTC element receives a thermal history in this state, the resin and conductive particles in the PTC element body are oxidized by oxygen that has entered, and this oxidation causes the PTC element body to deteriorate and increase the room temperature resistance value. it is conceivable that.

そこで、本発明は、製造してから長期間経過後に熱履歴を受けたときのPTC素体の劣化が十分に抑制されたPTC素子を提供することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a PTC element in which the deterioration of the PTC element body is sufficiently suppressed when it receives a thermal history after a long period of time since its manufacture.

本発明に係るPTC素子は、高分子マトリックスおよび導電性粒子を含むPTC素体と、PTC素体と接合する第1の主面と、当該第1の主面に対向する第2の主面とを有する電極と、PTC素体の外面のうち電極の第1の主面と接合する第1の外面を除く第2の外面を覆う保護層と、を備え、保護層が、電極の第2の主面までわたっており、且つ、当該第2の主面のうち第2の外面近傍の周縁部分のみを覆うことを特徴とする。   A PTC element according to the present invention includes a PTC element body including a polymer matrix and conductive particles, a first main surface bonded to the PTC element body, and a second main surface facing the first main surface. And a protective layer covering a second outer surface excluding the first outer surface joined to the first main surface of the electrode among the outer surfaces of the PTC element body, and the protective layer includes a second layer of the electrode It extends to the main surface and covers only the peripheral portion in the vicinity of the second outer surface of the second main surface.

本発明のPTC素子では、保護層がPTC素体の第2の外面、すなわちPTC素体の露出面、を覆っている。PTC素体の露出面は保護層に覆われることにより、外気に触れることがなくなる。保護層は電極の第2の主面までわたっているため、PTC素体の露出面と電極の第2の主面との間に位置する、PTC素体と電極との界面も、保護層に覆われることとなる。よって、PTC素体と電極との界面も外気に触れることがなくなる。   In the PTC element of the present invention, the protective layer covers the second outer surface of the PTC element body, that is, the exposed surface of the PTC element body. The exposed surface of the PTC element body is covered with a protective layer, so that it does not come into contact with outside air. Since the protective layer extends to the second main surface of the electrode, the interface between the PTC element body and the electrode, which is located between the exposed surface of the PTC element body and the second main surface of the electrode, is also included in the protective layer. It will be covered. Therefore, the interface between the PTC element body and the electrode is not exposed to the outside air.

保護層は、電極の第2の主面のうちPTC素体の露出面近傍の周縁部分のみを覆う。このように比較的狭い範囲に形成された保護層は、表面張力の効果により盛り上がっている。したがって、第2の主面の周縁部分は、十分な厚さの保護層で覆われることとなる。第2の主面の周縁部分を十分な厚さの保護層で覆った場合には、第2の主面の周縁部分の近傍、すなわち電極とPTC素体との界面付近もまた、十分な厚さの保護層で覆われることとなる。よって、電極とPTC素体との界面周辺が外気に触れる可能性を顕著に抑制できる。   The protective layer covers only the peripheral portion in the vicinity of the exposed surface of the PTC element body in the second main surface of the electrode. Thus, the protective layer formed in the comparatively narrow range is rising by the effect of surface tension. Therefore, the peripheral edge portion of the second main surface is covered with a sufficiently thick protective layer. When the peripheral portion of the second main surface is covered with a sufficiently thick protective layer, the vicinity of the peripheral portion of the second main surface, that is, the vicinity of the interface between the electrode and the PTC element body is also sufficiently thick. It will be covered with a protective layer. Therefore, the possibility that the vicinity of the interface between the electrode and the PTC element body is exposed to the outside air can be significantly suppressed.

露出面だけでなく、電極との界面付近も外気と接触しないようになっているPTC素体は、ガスバリア性が極めて良好であり、酸化しにくいものとなる。PTC素体を酸化しにくいものとすることにより、製造してから長期間経過後に熱履歴を受けたときのPTC素体の劣化を、十分に抑制することができる。また、電極の第2の主面にまでわたるよう保護層を形成することにより、保護層と電極との密着性を向上させることができる。その結果、保護層は剥離しにくいものとなり、PTC素体を確実に保護することが可能となる。   A PTC element body that is not in contact with outside air not only on the exposed surface but also in the vicinity of the interface with the electrode has extremely good gas barrier properties and is difficult to oxidize. By making the PTC element body difficult to oxidize, it is possible to sufficiently suppress the deterioration of the PTC element body when it is subjected to a thermal history after a long period of time since its manufacture. Further, by forming the protective layer so as to extend to the second main surface of the electrode, the adhesion between the protective layer and the electrode can be improved. As a result, the protective layer is difficult to peel off, and the PTC element body can be reliably protected.

本発明のPTC素子では、電極の第2の主面側からみたときに、当該第2の主面上に位置する保護層の端部からPTC素体の最も張り出した部分までの最短距離が1mm未満であることが好ましい。この場合、電極とPTC素体との界面付近は、保護層によっていっそう確実に保護されることとなる。その結果、PTC素体はより酸化されにくくなるため、製造してから長期間経過後に熱履歴を受けたときのPTC素体の劣化を更に抑制することができる。   In the PTC element of the present invention, when viewed from the second main surface side of the electrode, the shortest distance from the end portion of the protective layer located on the second main surface to the most protruding portion of the PTC element body is 1 mm. It is preferable that it is less than. In this case, the vicinity of the interface between the electrode and the PTC element body is more reliably protected by the protective layer. As a result, since the PTC element body is less likely to be oxidized, it is possible to further suppress the deterioration of the PTC element body when subjected to a thermal history after a long period of time since the manufacture.

本発明によれば、製造してから長期間経過後に熱履歴を受けたときのPTC素体の劣化が十分に抑制されたPTC素子を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a PTC element in which the deterioration of the PTC element body when the thermal history is received after a long period of time has been sufficiently suppressed.

以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には、同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the description, the same reference numerals are used for the same elements or elements having the same function, and redundant description is omitted.

図1は本実施形態に係るPTC素子の斜視図である。図1に示されるように、PTC素子1は、PTC素体10と、一対の電極12,14と、保護層20とを備えている。電極12,14は第1の主面120,140を有しており、第1の主面120および第1の主面140の一部は対向している。第1の主面120,140の対向している部分はPTC素体10と接合している。これにより、電極12,14はPTC素体10を挟むこととなる。電極12,14は、第1の主面120,140に対向する第2の主面121,141と、第1の主面120,140及び第2の主面121,141の間に位置する側面122,142とを有している。   FIG. 1 is a perspective view of a PTC element according to this embodiment. As shown in FIG. 1, the PTC element 1 includes a PTC element body 10, a pair of electrodes 12 and 14, and a protective layer 20. The electrodes 12 and 14 have first main surfaces 120 and 140, and the first main surface 120 and a part of the first main surface 140 are opposed to each other. Opposing portions of the first main surfaces 120 and 140 are joined to the PTC element body 10. As a result, the electrodes 12 and 14 sandwich the PTC element body 10. The electrodes 12, 14 are second main surfaces 121, 141 facing the first main surfaces 120, 140, and side surfaces located between the first main surfaces 120, 140 and the second main surfaces 121, 141. 122, 142.

電極12,14は金属等の導電性材料からなり、厚み0.1mm程度に成形されている。電極12,14を構成する導電性材料としてはNi又はNi合金が好ましい。また、第1の主面120,140のうち、少なくともPTC素体10と接する部分は粗面化されていることが好ましい。この部分が粗面化されていると、アンカー効果によってPTC素体10に対して電極12,14がより強く固定されることとなる。電極12,14には、図示しないリードが接続される。接続されたリードを介して、電極12,14から外部に対して電荷を放出又は注入することが可能となる。   The electrodes 12 and 14 are made of a conductive material such as metal and are formed to a thickness of about 0.1 mm. As the conductive material constituting the electrodes 12 and 14, Ni or Ni alloy is preferable. Moreover, it is preferable that at least a portion in contact with the PTC element body 10 in the first main surfaces 120 and 140 is roughened. When this portion is roughened, the electrodes 12 and 14 are more strongly fixed to the PTC element body 10 by the anchor effect. Leads (not shown) are connected to the electrodes 12 and 14. Charges can be discharged or injected from the electrodes 12 and 14 to the outside through the connected leads.

電極12の第1の主面120と電極14の第1の主面140との間には、正の抵抗温度特性を有するPTC素体10が配置されている。PTC素体10は、高分子マトリックスと導電性粒子とを含んでいる。より具体的には、PTC素体10においては、高分子マトリックス中に導電性粒子が分散している。ここで、高分子マトリックスは熱可塑性樹脂であってもよいし、熱硬化性樹脂の硬化物であってもよいが、結晶性又は非晶性の熱可塑性樹脂であるときに本発明による効果がより顕著に得られる。なお、本明細書において、「熱可塑性樹脂」は、熱可塑性樹脂中の高分子鎖同士が架橋された状態のものも含むこととする。   Between the first main surface 120 of the electrode 12 and the first main surface 140 of the electrode 14, the PTC element body 10 having a positive resistance temperature characteristic is disposed. The PTC element body 10 includes a polymer matrix and conductive particles. More specifically, in the PTC element body 10, conductive particles are dispersed in a polymer matrix. Here, the polymer matrix may be a thermoplastic resin or a cured product of a thermosetting resin. However, when the polymer matrix is a crystalline or amorphous thermoplastic resin, the effect of the present invention can be obtained. More noticeable. In the present specification, the “thermoplastic resin” includes those in which polymer chains in the thermoplastic resin are crosslinked.

PTC素体10が後述する低分子有機化合物を含有している場合、高分子マトリックスを構成する熱可塑性樹脂の融点又は軟化点は、低分子化合物の融点よりも高いことが好ましい。これにより、動作時の低分子有機化合物の融解による流動やPTC素体10の変形を防止することができる。熱可塑性樹脂の融点又は軟化点は、低分子化合物の融点よりも30℃以上高いことがより好ましく、30℃以上110℃以下の範囲で高いことが更に好ましい。また、熱可塑性樹脂の融点又は軟化点は70℃〜200℃であることが好ましい。これにより、動作時の低分子有機化合物の流動やPTC素体10の変形をより確実に防止することができる。   When the PTC element body 10 contains a low-molecular organic compound described later, it is preferable that the melting point or softening point of the thermoplastic resin constituting the polymer matrix is higher than the melting point of the low-molecular compound. Thereby, the flow by the melting | fusing of the low molecular organic compound at the time of operation | movement and the deformation | transformation of the PTC element | base_body 10 can be prevented. The melting point or softening point of the thermoplastic resin is more preferably 30 ° C. or more higher than the melting point of the low molecular compound, and more preferably in the range of 30 ° C. or more and 110 ° C. or less. Moreover, it is preferable that melting | fusing point or softening point of a thermoplastic resin is 70 to 200 degreeC. Thereby, the flow of the low molecular organic compound during the operation and the deformation of the PTC element body 10 can be more reliably prevented.

熱可塑性樹脂の分子量は、重量平均分子量Mwが1万〜500万程度であることが好ましい。また、熱可塑性樹脂のASTM D1238で定義されるメルトフローレートは0.1〜30g/10分であることが好ましい。   As for the molecular weight of the thermoplastic resin, the weight average molecular weight Mw is preferably about 10,000 to 5,000,000. Moreover, it is preferable that the melt flow rate defined by ASTM D1238 of a thermoplastic resin is 0.1-30 g / 10min.

高分子マトリックスとして好適な熱可塑性樹脂としては、ポリオレフィン(例えばポリエチレン)、1種又は2種以上のオレフィン(例えばエチレン、プロピレン)と極性基を含有する1種又は2種以上のオレフィン性不飽和モノマーとのコポリマー(例えばエチレン−酢酸ビニルコポリマー)、ポリハロゲン化ビニル又はポリハロゲン化ビニリデン(例えばポリビニルクロライド、ポリビニリデンクロライド、ポリビニルフルオライド、ポリビニリデンフルオライド)、ポリアミド(例えば12−ナイロン)、ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、熱可塑性エラストマー、ポリエチレンオキサイド、ポリアセタール、熱可塑性変性セルロース、ポリスルホン類、ポリメチル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。これらの中でもポリオレフィンが好ましく、ポリオレフィンの中でもポリエチレンが特に好ましい。   Examples of the thermoplastic resin suitable as the polymer matrix include polyolefin (for example, polyethylene), one or more olefins (for example, ethylene, propylene), and one or more olefinically unsaturated monomers containing polar groups. Copolymer (eg ethylene-vinyl acetate copolymer), polyvinyl halide or polyvinylidene halide (eg polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl fluoride, polyvinylidene fluoride), polyamide (eg 12-nylon), polystyrene, Examples include polyacrylonitrile, thermoplastic elastomer, polyethylene oxide, polyacetal, thermoplastic modified cellulose, polysulfones, and polymethyl (meth) acrylate. Among these, polyolefin is preferable, and among polyolefin, polyethylene is particularly preferable.

熱可塑性樹脂のより具体的な例としては、高密度ポリエチレン(例えば、「ハイゼックス2100JP」(商品名、三井石油化学製)、「Marlex6003」(商品名、フィリップ社製))、低密度ポリエチレン(例えば、LC500(商品名、日本ポリケム製)、「DYNH−1」(商品名、ユニオンカーバイド社製))、中密度ポリエチレン(例えば、「2604M」(商品名、ガルフ社製))、エチレン−エチルアクリレートコポリマー(例えば、「DPD6169」(商品名、ユニオンカーバイド社製))、エチレン−アクリル酸コポリマー(例えば、「EAA455」(商品名、ダウケミカル社製))、ヘキサフルオロエチレン−テトラフルオロエチレンコポリマー(例えば、「FEP100」(商品名、デュポン社製))、ポリビニリデンフルオライド(例えば、「Kynar461」(商品名、ペンバルト社製))が挙げられる。   More specific examples of the thermoplastic resin include high-density polyethylene (for example, “Hi-Zex 2100JP” (trade name, manufactured by Mitsui Petrochemical), “Marlex 6003” (trade name, manufactured by Philippe)), low-density polyethylene (for example, LC500 (trade name, manufactured by Nippon Polychem), “DYNH-1” (trade name, manufactured by Union Carbide), medium density polyethylene (for example, “2604M” (trade name, manufactured by Gulf)), ethylene-ethyl acrylate Copolymer (for example, “DPD6169” (trade name, manufactured by Union Carbide)), ethylene-acrylic acid copolymer (for example, “EAA455” (trade name, manufactured by Dow Chemical)), hexafluoroethylene-tetrafluoroethylene copolymer (for example, , "FEP100" (trade name, manufactured by DuPont)), Li polyvinylidene fluoride (for example, "Kynar461" (trade name, manufactured by Penbaruto Co., Ltd.)), and the like.

以上のような熱可塑性樹脂は1種で又は2種以上を組み合わせて用いられる。また、高分子マトリックスは熱可塑性樹脂のみで構成されることが好ましいが、場合によってはエラストマー、熱硬化性樹脂の硬化物又はそれらの混合物を含んでいてもよい。   The above thermoplastic resins are used alone or in combination of two or more. In addition, the polymer matrix is preferably composed of only a thermoplastic resin, but in some cases, may contain an elastomer, a cured product of a thermosetting resin, or a mixture thereof.

PTC素体10に含まれる導電性粒子は、高分子マトリックスと組み合わせたときにPTC特性が発現するようなものであれば特に制限はないが、その材質としては、Niが特に好ましい。導電性粒子としてNi粒子を用いた場合、酸化によってPTC素体10の劣化が生じ易くなるため、保護層20が特に有用となる。   The conductive particles contained in the PTC body 10 are not particularly limited as long as they exhibit PTC characteristics when combined with a polymer matrix, but Ni is particularly preferable as the material. When Ni particles are used as the conductive particles, the protective layer 20 is particularly useful because the PTC element body 10 is likely to be deteriorated by oxidation.

導電性粒子は、その表面にスパイク状の突起が複数(通常10〜500個)形成されていることが好ましい。この場合、スパイク状の突起の高さは、典型的には粒径の1/3〜1/50程度であることが好ましい。   It is preferable that a plurality of spike-like protrusions (usually 10 to 500) are formed on the surface of the conductive particles. In this case, it is preferable that the height of the spike-like protrusion is typically about 1/3 to 1/50 of the particle diameter.

導電性粒子は、一次粒子が個別に存在する粉体であってもよいが、一次粒子が10〜1000個程度連なった鎖状の二次粒子を形成していることが好ましい。前者の例としては、スパイク状の突起をもつ球状のNi粒子である「INCOType123ニッケルパウダ」(商品名、インコ社製)がある。このNi粒子の平均粒径は3〜7μm程度、見かけの密度は1.8〜2.7g/cm3程度、比表面積は0.34〜0.44m2/g程度である。鎖状の二次粒子を形成している導電性粒子の例としては、フィラメント状Ni粒子である「INCOType255ニッケルパウダ」、「INCO Type270ニッケルパウダ」、「INCO Type287ニッケルパウダ」又は「INCO Type210ニッケルパウダ」(以上商品名、インコ社製)があるが、特にINCO Type255、270及び287が好ましい。これらフィラメント状Ni粒子の見かけの密度は0.3〜1.0g/cm3程度であり、比表面積は0.4〜2.5m2/g程度である。   The conductive particles may be a powder in which primary particles are individually present, but preferably form chain-like secondary particles in which about 10 to 1000 primary particles are connected. As an example of the former, there is “INCOType 123 nickel powder” (trade name, manufactured by Inco Corporation), which is a spherical Ni particle having spike-like protrusions. The average particle diameter of the Ni particles is about 3 to 7 μm, the apparent density is about 1.8 to 2.7 g / cm 3, and the specific surface area is about 0.34 to 0.44 m 2 / g. Examples of conductive particles forming chain-like secondary particles include “INCO Type 255 Nickel Powder”, “INCO Type 270 Nickel Powder”, “INCO Type 287 Nickel Powder” or “INCO Type 210 Nickel Powder” which are filamentary Ni particles. "(The above-mentioned trade name, manufactured by Inco Corporation), INCO Type 255, 270 and 287 are particularly preferable. The apparent density of these filamentous Ni particles is about 0.3 to 1.0 g / cm 3 and the specific surface area is about 0.4 to 2.5 m 2 / g.

フィラメント状Ni粒子を構成する一次粒子の平均粒径(フィッシュー・サブシーブ法で測定される値)は、0.1μm以上が好ましく、0.5μm以上4.0μm以下がより好ましく、1.0μm以上4.0μm以下が更に好ましい。更に、平均粒径が1.0μm以上4.0μm以下の一次粒子が連なってなるフィラメント状Ni粒子に、平均粒径が0.1μm以上1.0μm未満の一次粒子が連なってなるフィラメント状Ni粒子を導電性粒子全体の50質量%以下の割合で組み合わせてもよい。   The average particle size (value measured by the fish-subsieve method) of the primary particles constituting the filament Ni particles is preferably 0.1 μm or more, more preferably 0.5 μm or more and 4.0 μm or less, and 1.0 μm or more 4 More preferably, it is 0.0 μm or less. Furthermore, filamentous Ni particles in which primary particles having an average particle diameter of not less than 1.0 μm and not more than 4.0 μm are connected to primary particles having an average particle diameter of not less than 0.1 μm and less than 1.0 μm. May be combined at a ratio of 50% by mass or less of the entire conductive particles.

PTC素体10における導電性粒子の含有割合は、PTC特性が発現するように適宜決めることができる。具体的には、この導電性粒子の含有割合はPTC素体10の全体体積に対して20〜50体積%であることが好ましい。   The content ratio of the conductive particles in the PTC element body 10 can be determined as appropriate so that the PTC characteristics are exhibited. Specifically, the content ratio of the conductive particles is preferably 20 to 50% by volume with respect to the entire volume of the PTC element body 10.

PTC素体10は、高分子マトリックス及び導電性粒子に加えて、低分子有機化合物を更に含有していることが好ましい。この場合の低分子有機化合物としては、分子量1000以下の結晶性化合物が好ましく用いられる。この低分子有機化合物は、常温(25℃程度)で固体であることが好ましい。また、低分子有機化合物は融点(mp)が40〜100℃であることが好ましい。   The PTC element body 10 preferably further contains a low-molecular organic compound in addition to the polymer matrix and the conductive particles. As the low molecular organic compound in this case, a crystalline compound having a molecular weight of 1000 or less is preferably used. This low molecular organic compound is preferably solid at room temperature (about 25 ° C.). The low molecular organic compound preferably has a melting point (mp) of 40 to 100 ° C.

低分子有機化合物の好適な具体例としては、炭化水素(例えば、炭素数22以上のアルカン系の直鎖炭化水素)、脂肪酸(例えば、炭素数22以上のアルカン系の直鎖炭化水素の脂肪酸)、脂肪酸エステル(例えば、炭素数20以上の飽和脂肪酸とメチルアルコール等の低級アルコールとから得られる飽和脂肪酸のメチルエステル)、脂肪酸アミド(例えば、炭素数10以下の飽和脂肪酸第1アミドやオレイン酸アミド、エルカ酸アミドなどの不飽和脂肪酸アミド)、脂肪族アミン(例えば、炭素数16以上の脂肪族第1アミン)、高級アルコール(具体的には、炭素数16以上のn−アルキルアルコール)が挙げられる。低分子有機化合物は、動作温度等に応じて1種で2種以上を適宜組み合わせて用いられる。   Preferred specific examples of the low molecular weight organic compound include hydrocarbons (for example, alkane-based linear hydrocarbons having 22 or more carbon atoms), fatty acids (for example, alkane-based linear hydrocarbon fatty acids having 22 or more carbon atoms). Fatty acid esters (for example, methyl esters of saturated fatty acids obtained from saturated fatty acids having 20 or more carbon atoms and lower alcohols such as methyl alcohol), fatty acid amides (for example, saturated fatty acid primary amides or oleic acid amides having 10 or less carbon atoms) , Unsaturated fatty acid amides such as erucic acid amide), aliphatic amines (for example, aliphatic primary amines having 16 or more carbon atoms), higher alcohols (specifically, n-alkyl alcohols having 16 or more carbon atoms). It is done. The low molecular organic compound is used alone or in combination of two or more depending on the operating temperature.

なお、低分子有機化合物は、これらを成分として含むワックス又は油脂の状態で用いることができる。これら低分子有機化合物を含むワックスとしては、パラフィンワックスやマイクロクリスタリンワックス等の石油系ワックスをはじめとする植物系ワックス、動物系ワックス、鉱物系ワックスのような天然ワックスが挙げられる。また、これら低分子有機化合物を含む油脂としては、脂肪又は固体脂と称されるものが挙げられる。   In addition, a low molecular organic compound can be used in the state of the wax or fats and oils which contain these as a component. Examples of the wax containing these low-molecular organic compounds include natural waxes such as plant waxes, animal waxes, and mineral waxes, including petroleum waxes such as paraffin wax and microcrystalline wax. Moreover, what is called fat or solid fat is mentioned as fats and oils containing these low molecular organic compounds.

低分子有機化合物又はこれらを含むワックスや油脂は、市販品として入手することが可能である。パラフィンワックスの市販品としては、例えば、「テトラコサンC24H50」(mp49〜52℃)、「ヘキサトリアコンタンC36H74」(mp73℃)、「HNP−10」(商品名、日本精蝋社製、mp75℃)、「HNP−3」(商品名、日本精蝋社製、mp66℃))がある。マイクロクリスタリンワックスの市販品としては、例えば、「Hi−Mic−1080」(商品名、日本精蝋社製、mp83℃)、「Hi−Mic−1045」(商品名、日本精蝋社製、mp70℃)、「Hi−Mic2045」(商品名、日本精蝋社製)、mp64℃)、「Hi−Mic3090」(商品名、日本精蝋社製、mp89℃)、「セラッタ104」(商品名、日本石油精製社製、mp96℃)、「155マイクロワックス」(商品名、日本石油精製社製、mp70℃)がある。脂肪酸の市販品としては、例えば、ベヘン酸(日本精化製、mp81℃)、ステアリン酸(日本精化製、mp72℃)、パルミチン酸(日本精化製、mp64℃)がある。脂肪酸エステルの市販品としては、例えば、アラキン酸メチルエステル(東京化成製、mp48℃)がある。脂肪酸アミドの市販品としては、例えば、オレイン酸アミド(日本精化製、mp76℃)がある。   Low molecular organic compounds or waxes and fats and oils containing them can be obtained as commercial products. Examples of commercially available paraffin wax include “Tetracosane C24H50” (mp 49-52 ° C.), “Hexatriacontane C36H74” (mp 73 ° C.), “HNP-10” (trade name, manufactured by Nippon Seiwa Co., Ltd., mp 75 ° C.). “HNP-3” (trade name, manufactured by Nippon Seiwa Co., Ltd., mp 66 ° C.)). Examples of commercially available microcrystalline waxes include “Hi-Mic-1080” (trade name, manufactured by Nippon Seiwa Co., Ltd., mp 83 ° C.), “Hi-Mic-1045” (trade name, manufactured by Nippon Seiwa Co., Ltd., mp 70). ° C), “Hi-Mic 2045” (trade name, manufactured by Nippon Seiwa Co., Ltd., mp 64 ° C.), “Hi-Mic 3090” (trade name, manufactured by Nippon Seiwa Co., Ltd., mp 89 ° C.), “Selatta 104” (trade name, Nippon Oil Refinery, mp 96 ° C.) and “155 Micro Wax” (trade name, Nippon Oil Refinery, mp 70 ° C.). Examples of commercially available fatty acids include behenic acid (Nippon Seika, mp 81 ° C.), stearic acid (Nippon Seika, mp 72 ° C.), and palmitic acid (Nippon Seika, mp 64 ° C.). Examples of commercially available fatty acid esters include arachidic acid methyl ester (manufactured by Tokyo Chemical Industry, mp 48 ° C.). Examples of commercially available fatty acid amides include oleic acid amide (Nippon Seika Co., Ltd., mp 76 ° C.).

PTC素子1は、保護層20を備えている。保護層20は、PTC素体10の露出面(第2の外面)100を覆っている。PTC素体10の露出面100とは、PTC素体10の外面のうち、電極12,14の第1の主面120,140と接合する面(第1の外面)を除く部分を指す。   The PTC element 1 includes a protective layer 20. The protective layer 20 covers the exposed surface (second outer surface) 100 of the PTC element body 10. The exposed surface 100 of the PTC element body 10 refers to a portion of the outer surface of the PTC element body 10 excluding the surface (first outer surface) that joins the first main surfaces 120 and 140 of the electrodes 12 and 14.

保護層20は、電極12,14の第2の主面121,141までわたっている。より具体的にいうと、保護層20は、PTC素体10の露出面100だけでなく、電極12,14の側面122,142および第1の主面120,140を覆い、且つ、電極12,14の第2の主面121,141に伸びている。ただし、電極12,14の側面122,142および第1の主面120,140において保護層20に覆われるのは、PTC素体10の露出面100の周辺に位置する部分である。また、電極12,14の第2の主面121,141において保護層20に覆われるのは、PTC素体10の露出面100近傍の周縁部分のみとなっている。   The protective layer 20 extends to the second main surfaces 121 and 141 of the electrodes 12 and 14. More specifically, the protective layer 20 covers not only the exposed surface 100 of the PTC element body 10 but also the side surfaces 122 and 142 of the electrodes 12 and 14 and the first main surfaces 120 and 140. It extends to 14 second main surfaces 121 and 141. However, the portions of the side surfaces 122 and 142 of the electrodes 12 and 14 and the first main surfaces 120 and 140 that are covered with the protective layer 20 are portions located around the exposed surface 100 of the PTC element body 10. Further, the second main surfaces 121 and 141 of the electrodes 12 and 14 are covered with the protective layer 20 only in the peripheral portion near the exposed surface 100 of the PTC element body 10.

図2は、PTC素子1を電極12の第2の主面121側からみたときの側面図である。図3は図1のIII−III線に沿ったPTC素子1の断面図であり、図4は図1のIV−IV線に沿ったPTC素子1の断面図である。保護層20は、図3に示されるように、電極12の第2の主面121の周縁部分から電極14の第1の主面140にわたり、且つ、電極14の第2の主面141の周縁部分から電極12の第1の主面120にわたっている。また、図4に示されるように、電極12の第2の主面121の周縁部分から電極14の第2の主面141の周縁部分にわたっている。   FIG. 2 is a side view of the PTC element 1 as viewed from the second main surface 121 side of the electrode 12. 3 is a cross-sectional view of the PTC element 1 taken along line III-III in FIG. 1, and FIG. 4 is a cross-sectional view of the PTC element 1 taken along line IV-IV in FIG. As shown in FIG. 3, the protective layer 20 extends from the peripheral portion of the second main surface 121 of the electrode 12 to the first main surface 140 of the electrode 14, and the peripheral edge of the second main surface 141 of the electrode 14. The portion extends from the first main surface 120 of the electrode 12. Further, as shown in FIG. 4, it extends from the peripheral portion of the second main surface 121 of the electrode 12 to the peripheral portion of the second main surface 141 of the electrode 14.

図2に示されるように、PTC素子1を電極12,14の第2の主面121,141側からみたときに、第2の主面121,141上に位置する保護層20の端部200からPTC素体10の最も張り出した部分までの最短距離Wは、1mm未満であることが好ましい。以下、Wについてより具体的に述べる。図3および図4に示されるようにPTC素体10の露出面100が電極12,14の側面122,142と揃っている場合、第2の主面141上に位置する保護層20の端部200からPTC素体10の側面122,142までの最短距離が、Wに相当する。一方、図5に示されるようにPTC素体10の露出面100が第1の主面120,140からはみ出ている場合には、第2の主面121,141上に位置する保護層20の端部200からPTC素体10の露出面100のうち最もはみ出ている所までの最短距離が、Wに相当する。   As shown in FIG. 2, when the PTC element 1 is viewed from the second main surfaces 121 and 141 side of the electrodes 12 and 14, the end portion 200 of the protective layer 20 located on the second main surfaces 121 and 141. The shortest distance W from the most protruding portion of the PTC element body 10 to the PTC element body 10 is preferably less than 1 mm. Hereinafter, W will be described more specifically. As shown in FIGS. 3 and 4, when the exposed surface 100 of the PTC element body 10 is aligned with the side surfaces 122 and 142 of the electrodes 12 and 14, the end portion of the protective layer 20 located on the second main surface 141. The shortest distance from 200 to the side surfaces 122 and 142 of the PTC element body 10 corresponds to W. On the other hand, as shown in FIG. 5, when the exposed surface 100 of the PTC element body 10 protrudes from the first main surfaces 120 and 140, the protective layer 20 positioned on the second main surfaces 121 and 141. The shortest distance from the end portion 200 to the most protruding portion of the exposed surface 100 of the PTC element body 10 corresponds to W.

保護層20は、エポキシ樹脂及びチオール系硬化剤を含有するエポキシ樹脂組成物の硬化物で形成されている。保護層20の硬化物を形成しているエポキシ樹脂組成物中のエポキシ樹脂としては、一段法、二段法、酸化法等の方法で得られるもの等を、特に制限なく用いることができるが、芳香族アミンのグリシジルエーテルや、極性基を有するか又は硬化時に極性基を生成するものが好ましい。好適なエポキシ樹脂の具体例としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂や、テトラグリシジルm−キシレンジアミンのような脂肪族アミンのグリリジル化物、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタンのような芳香族アミンのグリリジ化物、アミノフェノール型エポキシ樹脂がある。   The protective layer 20 is formed of a cured product of an epoxy resin composition containing an epoxy resin and a thiol-based curing agent. As the epoxy resin in the epoxy resin composition forming the cured product of the protective layer 20, one obtained by a method such as a one-step method, a two-step method, an oxidation method, etc. can be used without particular limitation. Preferred are glycidyl ethers of aromatic amines and those having a polar group or generating a polar group upon curing. Specific examples of suitable epoxy resins include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, glycidylated aliphatic amines such as tetraglycidyl m-xylenediamine, and aromatic amines such as tetraglycidyldiaminodiphenylmethane. There are glycidized products and aminophenol type epoxy resins.

チオール系硬化剤としては、チオール基を2個以上有しているチオール化合物であれば、特に制限なく用いることができる。好適なチオール系硬化剤の具体例としては、ペンタエリストールテトラチオグリコレート及びトリメチロールプロパントリスチオプロピオートのような脂肪族ポリチオエステルや、脂肪族ポリチオエーテル、芳香環含有ポリチオエーテルがある。エポキシ樹脂組成物中のチオール系硬化剤の量は、当業者には理解されるように、エポキシ樹脂との当量比等を考慮して適宜決定される。   As the thiol-based curing agent, any thiol compound having two or more thiol groups can be used without particular limitation. Specific examples of suitable thiol-based curing agents include aliphatic polythioesters such as pentaerythritol tetrathioglycolate and trimethylolpropane tristhiopropionate, aliphatic polythioethers, and aromatic ring-containing polythioethers. As understood by those skilled in the art, the amount of the thiol-based curing agent in the epoxy resin composition is appropriately determined in consideration of the equivalent ratio with the epoxy resin.

エポキシ樹脂組成物は、2級アミノ基又は3級アミノ基を有するアミン化合物を更に含有することが好ましい。このアミン化合物としては、芳香族アミン及び脂肪族アミン、アミンーエポキシアダクト、イミダゾール、イミダゾールアダクト等が好ましく用いられる。   The epoxy resin composition preferably further contains an amine compound having a secondary amino group or a tertiary amino group. As this amine compound, aromatic amine and aliphatic amine, amine-epoxy adduct, imidazole, imidazole adduct and the like are preferably used.

エポキシ樹脂組成物は、上記の成分の他、シリカ、マイカ、タルク粒子等のフィラーや、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム等の無機塩、カルボン酸及びフェノール等の他の硬化剤又は硬化促進剤、樹脂組成物の粘度調整を目的とした溶剤を更に含有していてもよい。   In addition to the above components, the epoxy resin composition includes fillers such as silica, mica and talc particles, inorganic salts such as magnesium hydroxide and aluminum hydroxide, other curing agents or curing accelerators such as carboxylic acid and phenol, A solvent for the purpose of adjusting the viscosity of the resin composition may further be contained.

続いて、上述した構成を有するPTC素子1の製造方法について説明する。   Then, the manufacturing method of the PTC element 1 which has the structure mentioned above is demonstrated.

PTC素体10中の高分子マトリックスが熱可塑性樹脂を含むものである場合、PTC素子1は、例えば、熱可塑性樹脂及び導電性粒子を含有する混合物を混練してこれらを含有する混練物を得る工程と、混練物をシート状に成形して熱可塑性樹脂を含む高分子マトリックス中に導電性粒子が分散しているPTC素体10を形成させる工程と、PTC素体10に対して1対の電極12,14を熱圧着により固定する工程と、PTC素体10の露出面および電極12,14において露出面100の周辺に位置する部分を一体的に覆う保護層20を形成させる工程とを備える製造方法により、得ることができる。   When the polymer matrix in the PTC element body 10 includes a thermoplastic resin, the PTC element 1 includes, for example, a step of kneading a mixture containing a thermoplastic resin and conductive particles to obtain a kneaded material containing these. A step of forming the kneaded material into a sheet to form a PTC element body 10 in which conductive particles are dispersed in a polymer matrix containing a thermoplastic resin, and a pair of electrodes 12 for the PTC element body 10. , 14 are fixed by thermocompression bonding, and a manufacturing method is provided that includes forming a protective layer 20 that integrally covers the exposed surface of the PTC element body 10 and the portions of the electrodes 12, 14 located around the exposed surface 100. Can be obtained.

混練物を得る工程は、各成分を混合した混合物を、熱可塑性樹脂の融点又は軟化点以上の温度(好ましくは融点又は軟化点よりも5〜40℃高い温度)に加熱しながら行うことができる。あるいは、熱可塑性樹脂を溶解する溶剤を加えて混合物を低粘度化した状態で混練することにより、加熱することなく熱可塑性樹脂中に導電性粒子を分散させることもできる。混練は、ミル、加圧ニーダ、二軸押出機等の公知の方法で行うことができる。   The step of obtaining the kneaded product can be performed while heating the mixture obtained by mixing the respective components to a temperature equal to or higher than the melting point or softening point of the thermoplastic resin (preferably a temperature higher by 5 to 40 ° C. than the melting point or softening point). . Alternatively, it is possible to disperse the conductive particles in the thermoplastic resin without heating by adding a solvent that dissolves the thermoplastic resin and kneading the mixture with a reduced viscosity. The kneading can be performed by a known method such as a mill, a pressure kneader, or a twin screw extruder.

得られた混練物を熱プレス等の方法によってシート状に成形することにより、PTC素体10として形成される。この段階で打ち抜き等によりPTC素体10を所定のサイズに切り出してもよい。   The obtained kneaded material is formed into a sheet shape by a method such as hot pressing to form the PTC element body 10. At this stage, the PTC element body 10 may be cut into a predetermined size by punching or the like.

PTC素体10を1対の電極12,14の間に挟んだ挟持体を熱プレスすることにより、PTC素体10に対して1対の電極12,14が固定される。電極12,14を固定した後、放射線照射等によって高分子マトリックス中の熱可塑性樹脂を架橋させることが好ましい。この架橋によりPTC素子1の熱に対する安定性がより良好になる。   The pair of electrodes 12 and 14 are fixed to the PTC element body 10 by hot pressing a sandwiched body in which the PTC element body 10 is sandwiched between the pair of electrodes 12 and 14. After fixing the electrodes 12 and 14, it is preferable to crosslink the thermoplastic resin in the polymer matrix by irradiation or the like. This cross-linking improves the stability of the PTC element 1 against heat.

保護層20は、上述のエポキシ樹脂組成物をPTC素体10の露出面100および第1の主面120,140、第2の主面121,141、側面122,142に付着し、付着しているエポキシ樹脂組成物を加熱してその硬化反応を進行させることにより形成される。エポキシ樹脂組成物を付着させる方法は特に制限されず、例えば、治具を用いてPTC素体10および電極12,14の表面にエポキシ樹脂組成物を転写させる方法や、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、ディスペンサー印刷法等を用いることができる。なお、エポキシ樹脂組成物を溶媒に溶解又は分散した状態でPTC素体10等に付着させてから乾燥により溶媒を除去してもよい。この場合、乾燥及び硬化を同時に又は連続的に行うこともできる。   The protective layer 20 adheres the above-mentioned epoxy resin composition to the exposed surface 100 and the first main surfaces 120 and 140, the second main surfaces 121 and 141, and the side surfaces 122 and 142 of the PTC element body 10. It is formed by heating the epoxy resin composition which is being heated to advance the curing reaction. The method for attaching the epoxy resin composition is not particularly limited. For example, a method of transferring the epoxy resin composition to the surfaces of the PTC element body 10 and the electrodes 12 and 14 using a jig, a dip coating method, and a spray coating method. Further, a screen printing method, a dispenser printing method, or the like can be used. In addition, after making an epoxy resin composition melt | dissolve or disperse | distribute to a solvent and making it adhere to PTC body 10 grade | etc., You may remove a solvent by drying. In this case, drying and curing can be performed simultaneously or continuously.

エポキシ樹脂組成物の硬化の条件は、チオール系硬化剤の種類やこれに組み合わせる硬化促進剤(3級アミン等)等に応じて適宜決定すればよいが、PTC素子1の動作温度以下に加熱して保護層20を形成させることが好ましい。動作温度を超える温度での加熱による保護層20を形成させると、常温に戻したときのPTC素子1の抵抗値が、エポキシ樹脂を硬化する前のPTC素子1の抵抗値よりも上がってしまう場合がある。ここで、動作温度は、PTC素子1を2℃/分の昇温速度で昇温したときの抵抗値の変化を示す抵抗−温度曲線において、PTC特性を示す領域よりも低い温度領域で抵抗値がほぼ一定である部分の接線と、抵抗値が温度上昇とともに急激に立ち上がる部分の接線との交点の温度のことをいう。具体的には、チオール系硬化剤を用いているエポキシ樹脂組成物の場合、50〜90℃に加熱して保護層20を形成することが好ましい。この場合、加熱時間は5〜120分が好ましい。   The curing conditions of the epoxy resin composition may be appropriately determined according to the type of thiol-based curing agent and the curing accelerator (tertiary amine, etc.) combined therewith, but are heated below the operating temperature of the PTC element 1. The protective layer 20 is preferably formed. When the protective layer 20 is formed by heating at a temperature exceeding the operating temperature, the resistance value of the PTC element 1 when the temperature is returned to room temperature is higher than the resistance value of the PTC element 1 before curing the epoxy resin. There is. Here, the operating temperature is a resistance value in a temperature region lower than a region showing the PTC characteristic in a resistance-temperature curve showing a change in resistance value when the temperature of the PTC element 1 is increased at a rate of temperature increase of 2 ° C./min. Is the temperature at the intersection of the tangent of the part where the resistance is almost constant and the tangent of the part where the resistance value rises rapidly as the temperature rises. Specifically, in the case of an epoxy resin composition using a thiol-based curing agent, it is preferable to form the protective layer 20 by heating to 50 to 90 ° C. In this case, the heating time is preferably 5 to 120 minutes.

このようにして製造されたPTC素子1では、PTC素体10の露出面100を保護層20が覆っている。そのため、PTC素体10の露出面100は外気にさらされることがなくなる。保護層20は、PTC素体10の露出面100と共に、電極12,14の側面122,142および第1の主面120,140の一部分を覆っている。かかる一部分とは、PTC素体10の露出面100の周辺に位置する部分である。そのため、電極12,14とPTC素体10との界面は保護層20で覆われることとなり、外気にさらされることがなくなる。   In the PTC element 1 manufactured in this way, the protective layer 20 covers the exposed surface 100 of the PTC element body 10. Therefore, the exposed surface 100 of the PTC element body 10 is not exposed to the outside air. The protective layer 20 covers the exposed surfaces 100 of the PTC element body 10 and the side surfaces 122 and 142 of the electrodes 12 and 14 and a part of the first main surfaces 120 and 140. The part is a part located around the exposed surface 100 of the PTC element body 10. Therefore, the interface between the electrodes 12 and 14 and the PTC element body 10 is covered with the protective layer 20 and is not exposed to the outside air.

保護層20は電極12,14の第2の主面121,141にわたっている。ただし第2の主面121,141のうち、保護層20に覆われるのは、PTC素体10の露出面100近傍の周縁部分のみである。このように比較的狭い範囲に形成された保護層20は、表面張力の効果によって盛り上がり、十分な厚さとなる。第2の主面121,141の周縁部分にて十分な厚さを有する保護層20は、この周縁部分の近傍、すなわち電極12,14とPTC素体10との界面付近、においても、十分な厚さを有することとなる。その結果、PTC素体10と電極12,14との界面付近が外気にさらされる可能性を、更に抑制できる。   The protective layer 20 extends over the second main surfaces 121 and 141 of the electrodes 12 and 14. However, of the second main surfaces 121 and 141, only the peripheral portion near the exposed surface 100 of the PTC element body 10 is covered with the protective layer 20. Thus, the protective layer 20 formed in a relatively narrow range rises due to the effect of the surface tension and has a sufficient thickness. The protective layer 20 having a sufficient thickness at the peripheral portions of the second main surfaces 121 and 141 is sufficient even in the vicinity of the peripheral portions, that is, in the vicinity of the interface between the electrodes 12 and 14 and the PTC element body 10. It will have a thickness. As a result, the possibility that the vicinity of the interface between the PTC element body 10 and the electrodes 12 and 14 is exposed to the outside air can be further suppressed.

このように、保護層20によって外気との接触を極力抑制されたPTC素体10は、ガスバリア性が極めて良好であり、酸化しにくいものとなる。PTC素体10を酸化しにくいものとすることにより、製造してから長期間経過後に熱履歴を受けたときのPTC素体の劣化を、十分に抑制することができる。   Thus, the PTC element body 10 whose contact with the outside air is suppressed as much as possible by the protective layer 20 has extremely good gas barrier properties and is difficult to oxidize. By making the PTC element body 10 difficult to oxidize, it is possible to sufficiently suppress the deterioration of the PTC element body when it receives a thermal history after a long period of time since its manufacture.

また、電極12,14の第2の主面121,141にわたるよう保護層20を形成することにより、保護層20と電極12,14との密着性を向上させることができる。その結果、保護層20の剥離が生じにくくなるため、PTC素体10を保護層20によって確実に保護することが可能となる。また、第2の主面121,141のうち、周縁部分以外の部分、すなわち第2の主面121,141の中央部は、保護層20に覆われていない。そのため、第2の主面121,141の中央部にレーザーマーキング等を施すことが容易となる。この部分に施したレーザーマーキングは、保護層20に隠れることがないので、外観から容易に判別できる。   Further, by forming the protective layer 20 so as to extend over the second main surfaces 121 and 141 of the electrodes 12 and 14, the adhesion between the protective layer 20 and the electrodes 12 and 14 can be improved. As a result, it is difficult for the protective layer 20 to peel off, so that the PTC element body 10 can be reliably protected by the protective layer 20. Further, portions of the second main surfaces 121 and 141 other than the peripheral portion, that is, the central portions of the second main surfaces 121 and 141 are not covered with the protective layer 20. Therefore, it becomes easy to perform laser marking or the like on the central portions of the second main surfaces 121 and 141. Since the laser marking applied to this portion is not hidden by the protective layer 20, it can be easily distinguished from the appearance.

更に、第2の主面121,141上に位置する保護層20の端部200からPTC素体10の最も張り出した部分までの最短距離Wは、1mm未満であることが好ましい。最短距離Wを1mm未満とした場合、電極12,14とPTC素体10との界面付近は、保護層20によって確実に保護されることとなる。その結果、PTC素体10はいっそう酸化されにくくなるため、製造してから長期間経過後に熱履歴を受けたときのPTC素体10の劣化を更に抑制することができる。   Furthermore, it is preferable that the shortest distance W from the end portion 200 of the protective layer 20 located on the second main surfaces 121 and 141 to the most protruding portion of the PTC element body 10 is less than 1 mm. When the shortest distance W is less than 1 mm, the vicinity of the interface between the electrodes 12 and 14 and the PTC element body 10 is surely protected by the protective layer 20. As a result, since the PTC element body 10 becomes more difficult to be oxidized, it is possible to further suppress the deterioration of the PTC element body 10 when it receives a thermal history after a long period of time since its manufacture.

ここで、上述の最短距離Wを1mm未満とした場合にPTC素体10がいっそう酸化されにくくなることを確認するため、以下の実験を行った。すなわち、PTC素子1に対して熱衝撃試験およびトリップ動作試験を行い、試験前後における室温抵抗値の変化を調べた。   Here, in order to confirm that the PTC element body 10 becomes more difficult to be oxidized when the shortest distance W is less than 1 mm, the following experiment was performed. That is, a thermal shock test and a trip operation test were performed on the PTC element 1, and changes in the room temperature resistance value before and after the test were examined.

まず、保護層20の厚さTが異なるPTC素子1を数種類用意し、熱衝撃試験を行った。なお保護層20の厚さTは、PTC素体10の露出面100、及び、PTC素体1と電極12,14との界面付近において、保護層20が最も薄くなっているところの厚さを指す。用意した各PTC素子1は、製造後180日間、空気中に放置されたものである。熱衝撃試験を行う前に、用意した各PTC素子1の室温抵抗値を測定して初期値の確認をした。確認後、各PTC素子1に対し、100℃で5時間熱衝撃を与えた。熱衝撃を付与した後の各PTC素子1の室温抵抗値を測定し、熱衝撃前と熱衝撃後における各PTC素子1の室温抵抗値の変化を調べた。その結果を図6および図7に示す。実施例1〜13は、保護層20の厚さT(図6ではT_MINとして記載)が3μm以上のPTC素子1である。実施例14〜20は、保護層20の厚さT(図6ではT_MINとして記載)が3μm未満のPTC素子1である。   First, several types of PTC elements 1 having different thicknesses T of the protective layer 20 were prepared, and a thermal shock test was performed. The thickness T of the protective layer 20 is the thickness at which the protective layer 20 is thinnest in the vicinity of the exposed surface 100 of the PTC element body 10 and the interface between the PTC element body 1 and the electrodes 12 and 14. Point to. Each prepared PTC element 1 was left in the air for 180 days after manufacture. Before conducting the thermal shock test, the room temperature resistance value of each prepared PTC element 1 was measured to confirm the initial value. After confirmation, each PTC element 1 was subjected to thermal shock at 100 ° C. for 5 hours. The room temperature resistance value of each PTC element 1 after applying the thermal shock was measured, and the change in the room temperature resistance value of each PTC element 1 before and after the thermal shock was examined. The results are shown in FIGS. Examples 1 to 13 are PTC elements 1 in which the thickness T (described as T_MIN in FIG. 6) of the protective layer 20 is 3 μm or more. Examples 14 to 20 are PTC elements 1 in which the thickness T (described as T_MIN in FIG. 6) of the protective layer 20 is less than 3 μm.

実施例1〜13のPTC素子1では、室温抵抗値の変化量(図6ではΔRとして記載)が20mΩ以下であった。それに対して、実施例14〜20のPTC素子1では、室温抵抗値の変化量が50mΩ以上のものが多くみられた。熱衝撃試験では、PTC素体10の酸化が進むと、室温抵抗値の変化量が大きくなることが知られている。したがって、保護層20の厚さTを3μm以上とした場合には、PTC素体10はより酸化されにくくなることがわかった。   In the PTC elements 1 of Examples 1 to 13, the amount of change in the room temperature resistance value (described as ΔR in FIG. 6) was 20 mΩ or less. On the other hand, in the PTC elements 1 of Examples 14 to 20, there were many cases where the amount of change in the room temperature resistance value was 50 mΩ or more. In the thermal shock test, it is known that the amount of change in the room temperature resistance value increases as the oxidation of the PTC element body 10 progresses. Therefore, it was found that when the thickness T of the protective layer 20 is 3 μm or more, the PTC element body 10 is more difficult to be oxidized.

次に、保護層20の厚さTが異なるPTC素子1を数種類用意し、トリップ動作試験を行った。用意した各PTC素子1は、製造後180日間、空気中に放置されたものである。トリップ動作試験を行う前に、各PTC素子1の室温抵抗値を測定して初期値の確認をした。確認後、各PTC素子1を電気回路(電源6V、20A)に接続してトリップ動作させた。トリップ動作後の各PTC素子1の室温抵抗値を測定し、トリップ動作前後における各PTC素子1の室温抵抗値の変化を調べた。その結果を図8および図9に示す。なお、実施例1〜13は、保護層20の厚さT(図8ではT_MINとして記載)が3μm以上のPTC素子1を示す。実施例14〜20は、保護層20の厚さT(図8ではT_MINとして記載)が3μm未満のPTC素子1を示す。   Next, several types of PTC elements 1 having different thicknesses T of the protective layer 20 were prepared, and a trip operation test was performed. Each prepared PTC element 1 was left in the air for 180 days after manufacture. Prior to the trip operation test, the room temperature resistance value of each PTC element 1 was measured to confirm the initial value. After confirmation, each PTC element 1 was connected to an electric circuit (power supply 6V, 20A) and tripped. The room temperature resistance value of each PTC element 1 after the trip operation was measured, and the change in the room temperature resistance value of each PTC element 1 before and after the trip operation was examined. The results are shown in FIGS. In addition, Examples 1-13 show the PTC element 1 whose thickness T (it describes as T_MIN in FIG. 8) of the protective layer 20 is 3 micrometers or more. Examples 14 to 20 show PTC elements 1 in which the thickness T of the protective layer 20 (described as T_MIN in FIG. 8) is less than 3 μm.

実施例1〜13のPTC素子1では、抵抗値の変化量(図8ではΔRとして記載)が5mΩ以下のものが多くみられた。それに対して、実施例14〜20のPTC素子1では、室温抵抗値の変化量が5mΩ以上のものが多くみられた。熱衝撃試験と同様に、トリップ動作試験においても、PTC素体10の酸化に応じて室温抵抗値の変化量が大きくなることが知られている。したがって、トリップ動作試験の結果からも、保護層20の厚さTを3μm以上とした場合、PTC素体10はより酸化されにくくなることがわかった。   In the PTC elements 1 of Examples 1 to 13, the resistance change amount (described as ΔR in FIG. 8) was often 5 mΩ or less. On the other hand, in the PTC elements 1 of Examples 14 to 20, there were many cases where the amount of change in the room temperature resistance value was 5 mΩ or more. Similar to the thermal shock test, it is known that the change amount of the room temperature resistance value also increases in the trip operation test according to the oxidation of the PTC element body 10. Therefore, from the result of the trip operation test, it was found that when the thickness T of the protective layer 20 is 3 μm or more, the PTC element body 10 is more difficult to be oxidized.

続いて、上述の最短距離Wが異なるPTC素子1を数種類用意した。そして、各PTC素子1において、保護層20の厚さTを測定した。その結果を図10および図11に示す。実施例21〜31は、上述の最短距離Wが50μm以上1mm未満となっているPTC素子1を示す。実施例32〜40は、上述の最短距離Wが0mmであるPTC素子1および1mm以上であるPTC素子1を示す。   Subsequently, several types of PTC elements 1 having different shortest distances W were prepared. And in each PTC element 1, the thickness T of the protective layer 20 was measured. The results are shown in FIG. 10 and FIG. Examples 21-31 show the PTC element 1 in which the shortest distance W is 50 μm or more and less than 1 mm. Examples 32 to 40 show the PTC element 1 having the shortest distance W of 0 mm and the PTC element 1 having a length of 1 mm or more.

実施例21〜31のPTC素子1では、保護層20の厚さTが3.2μm以上であった。それに対して、実施例32〜40のPTC素子1では、保護層20の厚さTが2.8μm以下であった。この結果から、保護層20の端部200からPTC素体10の露出面100までの最短距離Wを1mm未満とすれば、保護層20の厚さTが3μm以上となることがわかる。   In the PTC elements 1 of Examples 21 to 31, the thickness T of the protective layer 20 was 3.2 μm or more. On the other hand, in the PTC element 1 of Examples 32 to 40, the thickness T of the protective layer 20 was 2.8 μm or less. From this result, it is understood that if the shortest distance W from the end portion 200 of the protective layer 20 to the exposed surface 100 of the PTC element body 10 is less than 1 mm, the thickness T of the protective layer 20 is 3 μm or more.

以上の試験結果から、第2の主面121,141上に位置する保護層20の端部200からPTC素体10の露出面100までの最短距離Wを1mm未満とすれば、保護層20の厚さTが3μm以上となるため、PTC素体10はより酸化されにくくなることが確認された。   From the above test results, if the shortest distance W from the end portion 200 of the protective layer 20 located on the second main surface 121, 141 to the exposed surface 100 of the PTC element body 10 is less than 1 mm, the protective layer 20 Since the thickness T was 3 μm or more, it was confirmed that the PTC element body 10 was less likely to be oxidized.

ところで、本実施形態の第2の主面121,141をみると、保護層20で覆われているのはPTC素体10の露出面100近傍の周縁部分のみとなっている。ここで、かかる周縁部分だけでなく、第2の主面121,141においてPTC素体10と重なる領域全体を保護層20で覆った場合について考える。PTC素体10と重なる領域全体を保護層20で覆うということは、図2に示されるPTC素子1において、最短距離WがPTC素体10の幅あるいは長さと同一となるように保護層20を広げるということである。先述した試験によって、最短距離Wが1mm以上になるとPTC素体10が酸化されやすくなることが確認されている。このことから、上述の場合、すなわち第2の主面121,141においてPTC素体10と重なる領域全体を保護層20で覆った場合には、PTC素体10は酸化されやすくなってしまうことが容易に理解されよう。なお、第2の主面121,141のうちPTC素体10と重なる領域全体に保護層20を重ね付けした場合には、保護層20の厚さTが厚くなるためPTC素体1と電極12,14との界面が露出しにくくなり、PTC素体10の酸化が抑制されることが考えられる。しかしながらこの場合には、第2の主面121,141に保護層20の表面張力による凸部が形成されるため、実装時におけるPTC素子1の安定性が悪くなってしまう。また、PTC素子1の寸法も大きくなってしまう。更に、保護層20を重ね付けする工程が発生するため、製造コストが上昇するおそれもある。以上のことから、第2の主面121,141のうちPTC素体10と重なる領域全体に保護層20を重ね付けすることは、PTC素体10の酸化を防ぐための有効な手立てとは言いがたい。   By the way, when the second main surfaces 121 and 141 of the present embodiment are viewed, only the peripheral portion near the exposed surface 100 of the PTC element body 10 is covered with the protective layer 20. Here, not only the peripheral portion but also the case where the entire region overlapping the PTC element body 10 on the second main surfaces 121 and 141 is covered with the protective layer 20 will be considered. Covering the entire region overlapping the PTC element body 10 with the protection layer 20 means that in the PTC element 1 shown in FIG. 2, the protection layer 20 is arranged so that the shortest distance W is the same as the width or length of the PTC element body 10. It is to spread. It has been confirmed by the above-described test that the PTC element body 10 is easily oxidized when the shortest distance W is 1 mm or more. Therefore, in the above case, that is, when the entire region overlapping the PTC element body 10 on the second main surfaces 121 and 141 is covered with the protective layer 20, the PTC element body 10 is likely to be oxidized. Easy to understand. In addition, when the protective layer 20 is overlaid on the entire region of the second main surfaces 121 and 141 that overlap the PTC element body 10, the thickness T of the protective layer 20 increases, so the PTC element body 1 and the electrode 12. , 14 is less likely to be exposed, and oxidation of the PTC element body 10 is suppressed. However, in this case, since the convex portions due to the surface tension of the protective layer 20 are formed on the second main surfaces 121 and 141, the stability of the PTC element 1 at the time of mounting is deteriorated. Moreover, the dimension of the PTC element 1 will also become large. Furthermore, since the process of laminating the protective layer 20 occurs, the manufacturing cost may increase. From the above, it is said that overlaying the protective layer 20 on the entire region of the second main surfaces 121 and 141 that overlaps the PTC element body 10 is an effective means for preventing the oxidation of the PTC element body 10. It ’s hard.

本実施形態に係るPTC素子の斜視図である。It is a perspective view of the PTC element concerning this embodiment. 本実施形態に係るPTC素子を電極の第2の主面側からみたときの側面図である。It is a side view when the PTC element concerning this embodiment is seen from the 2nd principal surface side of an electrode. 図1のIII−III線に沿ったPTC素子の断面図である。It is sectional drawing of the PTC element along the III-III line of FIG. 図1のIV−IV線に沿ったPTC素子の断面図である。It is sectional drawing of the PTC element along the IV-IV line of FIG. 本実施形態に係る他のPTC素子の断面図である。It is sectional drawing of the other PTC element which concerns on this embodiment. 熱衝撃試験の結果を示す表である。It is a table | surface which shows the result of a thermal shock test. 熱衝撃試験の結果を示すグラフである。It is a graph which shows the result of a thermal shock test. トリップ動作試験の結果を示す表である。It is a table | surface which shows the result of a trip operation test. トリップ動作試験の結果を示すグラフである。It is a graph which shows the result of a trip operation test. 最短距離Wと厚さTとの関係を示す表である。It is a table | surface which shows the relationship between the shortest distance W and thickness T. 最短距離Wと厚さTとの関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the shortest distance W and thickness T.

符号の説明Explanation of symbols

1・・・PTC素子、10・・・PTC素体、12,14・・・電極、20・・・保護層、100・・・露出面、120,140・・・第1の主面、121,141・・・第2の主面、122,142・・・側面、200・・・端部。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... PTC element, 10 ... PTC element | base_body, 12, 14 ... Electrode, 20 ... Protective layer, 100 ... Exposed surface, 120, 140 ... 1st main surface, 121 141, second main surface, 122, 142, side surfaces, 200, end portions.

Claims (1)

高分子マトリックスおよび導電性粒子を含むPTC素体と、
前記PTC素体と接合する第1の主面と、当該第1の主面に対向する第2の主面とを有し、前記PTC素体を挟むように一部で対向する一対の電極と、
前記PTC素体の外面のうち前記電極の前記第1の主面と接合する第1の外面を除く第2の外面を覆う保護層と、を備え、
一の前記電極における前記PTC素体を挟まない部分は一方に延び、他の前記電極における前記PTC素体を挟まない部分は他方に延びており、
前記保護層が、前記電極の前記第2の主面までわたっており、且つ、当該第2の主面のうち前記第2の外面近傍の周縁部分のみを覆い、
前記電極の前記第2の主面側からみたときに、当該第2の主面上に位置する前記保護層の端部から前記PTC素体の最も張り出した部分までの最短距離が50μm以上、1mm未満であり、
前記PTC素体と前記電極との界面付近において、前記保護層が最も薄くなっているところの厚さが3.2μm以上、20.8μm以下であることを特徴とするPTC素子。
A PTC element body including a polymer matrix and conductive particles;
A first main surface to be bonded to the PTC element body, said first have a second major surface opposite the major surface, said pair of electrodes opposed to each other in some so as to sandwich the PTC element body When,
A protective layer covering a second outer surface excluding a first outer surface joined to the first main surface of the electrode among the outer surfaces of the PTC element body,
The part of the one electrode that does not sandwich the PTC element body extends to one side, and the part of the other electrode that does not sandwich the PTC element body extends to the other,
The protective layer extends to the second main surface of the electrode, and covers only a peripheral portion of the second main surface near the second outer surface;
When viewed from the second main surface side of the electrode, the shortest distance from the end portion of the protective layer located on the second main surface to the most protruding portion of the PTC element body is 50 μm or more, 1 mm Is less than
A PTC element having a thickness of 3.2 μm or more and 20.8 μm or less where the protective layer is thinnest in the vicinity of the interface between the PTC element body and the electrode.
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