JP4494832B2 - アライメント装置及び成膜装置 - Google Patents

Description

本発明は、基板とマスクとを精度良く位置合わせするためのアライメント装置及びこれを備えた成膜装置に関する。

基板にマスクを重ねて成膜する成膜装置においては、基板とマスクを高精度に位置合わせするアライメント技術が重要とされている。例えば、有機薄膜を用いた有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置の製造においては、三原色の各色の光を発生させる三種類の有機薄膜を同一の基板上に形成する際、所定のマスクパターン（開口）が形成されたマスクを基板の成膜面に高精度に位置決めして蒸着あるいはスパッタ等の所定の成膜処理が行われている。

ところで、従来より、有機ＥＬ表示装置の製造に用いられる成膜装置においては、マスクとして磁性材料製のメタルマスクが用いられており、マスクの上に基板を位置合わせした後、基板の上にマグネットを重ね、このマグネットとマスクとの間で基板を挟むことによって、互いに位置合わせされた基板とマスクの密着状態を保持している（特許文献１，２参照）。

特開２００１−３５８２０２号公報 特開２００２−３６７７８１号公報

しかしながら、従来の成膜装置においては、基板を支持する基板ホルダは単に基板の下面を支持するだけの構成であるので、マスクと位置合わせされた基板に対してマグネットを下降させた時に、マグネットの磁力によりマスクが基板を押し上げるようにして上方へ撓み変形する場合があり、これが原因で基板が位置ズレし、マスクと基板のアライメント状態に狂いが生じるという問題がある。

また、従来の成膜装置では、成膜済の基板とマスクを分離する際、基板に対してマグネットを上昇させる時に、マグネットの磁力によりマスクが基板を押し上げるようにして上方へ撓み変形する結果、基板が位置ズレして基板成膜面上の形成膜がマスクの開口エッジにより削り落とされる場合があり、基板成膜面の保護が図れなかった。

本発明は上述の問題に鑑みてなされ、マグネット昇降時における基板の位置ズレを防止して、基板とマスクとの間のアライメント精度の向上と成膜済の基板成膜面の保護を図ることができるアライメント装置及びこれを備えた成膜装置を提供することを課題とする。

以上の課題を解決するに当たり、本発明のアライメント装置は、マスクホルダに支持されている磁性材料製のマスクに対して基板を昇降自在に保持する基板保持機構と、前記マスクと前記基板とを位置合わせするアライメント機構と、前記マスクと前記基板とを密着させるマグネットを前記基板に対して昇降させるマグネット昇降機構とを備え、前記基板保持機構は、前記基板の周縁を挟持する一対の第１，第２フックを有する基板保持ユニットを複数備えてなることを特徴とする。

また、本発明の成膜装置は、成膜室を区画する真空チャンバと、この真空チャンバ内に配置された成膜手段と、この成膜手段の対向位置に配置された基板の成膜面にマスクを位置合わせするアライメント装置とを備えた成膜装置において、前記アライメント装置は、マスクホルダに支持されている磁性材料製の前記マスクに対して前記基板を昇降自在に保持する基板保持機構と、前記マスクと前記基板とを位置合わせするアライメント機構と、前記マスクと前記基板とを密着させるマグネットを前記基板に対して昇降させるマグネット昇降機構とを備え、前記基板保持機構は、前記基板の周縁を挟持する一対の第１，第２フックを有する基板保持ユニットを複数備えてなることを特徴とする。

本発明では、基板保持ユニットによって基板の周縁を上下から挟持する構成とされているので、マグネット昇降時に、マグネットの磁力によるマスクの撓み変形によって基板に位置ズレが生じるのを抑止することができる。これにより、マスクと基板との間のアライメント精度の悪化を回避することができると共に、成膜済の基板にあってはその成膜面上の形成膜がマスクの開口エッジによって損壊されることが防止されて成膜面の保護が図れる。

更に、マグネット昇降機構が、昇降軸の下端に固定されマグネットを保持するマグネットホルダと、このマグネットホルダに対して相対移動自在に吊り下げられ基板の上面に対向配置される基板押えとを有する構成とすることにより、マグネットの下降時、基板押えがマグネットよりも先に基板上面に到達し、自重により基板上面を押圧する作用を行う。これにより、マグネットの磁力によるマスクの撓み変形に伴う基板の位置ズレが確実に防止される。また、マグネットの上昇時にも同様に、マグネットが基板から離れても基板押えの自重により基板の位置ズレが確実に防止される。

以上、本発明によれば、基板を保持する基板保持機構を、基板の周縁を挟持する複数の基板保持ユニットで構成したので、基板とマスクとの密着を図るマグネットの昇降時において基板の位置精度を確保してマスク−基板間のアライメント精度の悪化を防止できると共に、基板成膜面上の形成膜がマスクにより損壊されるのを防止して基板成膜面の保護を図ることができる。

以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。

図１〜図３は、本発明の実施の形態によるアライメント装置１を備えた成膜装置２の概略構成を示しており、図１はその要部の正面断面図、図２はその要部側面図、図３はその要部平面図である。

成膜装置２は、成膜室３を区画する真空チャンバ４の上部に、基板５とマスク６を位置合わせしその状態を保持するアライメント装置２が設けられた構成となっている。以下、アライメント装置１の構成について説明する。

アライメント装置１は、基板５を支持する基板保持ユニット１０と、マスク６を支持するマスクホルダ１１と、基板５とマスク６とを密着させるマグネット７を昇降させるマグネット昇降機構１２とを備えている。

基板保持ユニット１０は、基板５を囲むように計４箇所に配置され（図４）、基板５の周縁を挟持する一対の第１，第２フック２１，２２をそれぞれ有している。これら第１、第２フック２１，２２はそれぞれ昇降自在とされており、本実施の形態では、第１フック２１の昇降軸２１Ａの軸心位置に、第２フック２２の昇降軸２２Ａを位置させている。基板５は、ガラスやセラミック、半導体基板等が適用される。

具体的には、第１フック２１は昇降軸２１Ａの下端に形成され、この昇降軸２１Ａは鉛直方向に延在する中空軸で構成されている。また、第２フック２２は昇降軸２２Ａの下端に形成され、この昇降軸２２Ａは昇降軸２１Ａの軸心位置に相対移動自在に挿通されている。第１、第２フック２１，２２のそれぞれの基板挟持面には、図示せずとも滑り止め層がコーティングされており、基板５に対して適度に弾接されて、適正な挟持作用が確保されている。

これら各基板保持ユニット１０は、第１，第２フック２１，２２を同時に昇降させる第１昇降機構部３１と、第１フック２１に対して第２フック２２を相対的に昇降させる第２昇降機構部３２とをそれぞれ備えている。

第１昇降機構３１は、第１フック２１の昇降軸２１Ａの外周部に一体固定されたガイドブロック２３と、真空チャンバ４の天板部４ａの上に取り付けられた支持プレート１３上に立設されたガイドレール２４と、ガイドブロック２３をガイドレール２４に沿って移動させるリニア軸受２５とを有している。

ガイドブロック２３は、互いに隣接する一対の基板保持ユニット１０，１０の昇降軸２１Ａ，２１Ａをそれぞれ支持しており、このガイドブロック２３には、ボールネジ１４の回転運動を当該ガイドブロック２３の昇降運動に変換するブロック部材１５が取り付けられている（図２）。ボールネジ１４は、ガイドレール２４の上端に取り付けられるベースプレート１６と支持プレート１３とに支持されて鉛直方向に延在している。

ベースプレート１６には更に、ボールネジ１４を回転駆動するロータリーアクチュエータ等でなる第１駆動部４１が取り付けられている（図２）。この第１駆動部４１の駆動軸４１ａにはプーリ４１ｂが固定されており、これとボールネジ１４の上端に固定されたプーリ１４ａとの間にベルト２６Ａが張設されている。

なお、第１駆動部４１側のプーリ４１ｂは一対設けられ、他方のプーリ４１ｂは、図２に示す方向とは反対側に位置する残余の基板保持ユニット１０の昇降軸２１Ａを支持するガイドブロック２３を昇降させるためのボールネジ１４を回転駆動させるベルト２６Ｂが張設されている（図３）。

一方の第２昇降機構部３２は、第２フック２２の昇降軸２２Ａの上端部にブラケット２７を介して連結された第２駆動部４２を有している。この第２駆動部４２は、第１フック２１の昇降軸２１Ａの外周部に固定された支持台２８に対し、取付部材２９及び３０を介して固定されている。このため、第２フック２２の昇降軸２２Ａは、上述した第１昇降機構部３１の駆動により、第１フック２１の昇降軸２１Ａと共に昇降移動されるようになっている。

第２駆動部４２は、空気圧又は油圧往復シリンダで構成され、駆動軸４２ａを伸縮させることにより、第２フック２２の昇降軸２２Ａを第１フック２１の昇降軸２１Ａに対して相対的に昇降自在としている。この第２駆動部４２の駆動により、基板保持ユニット１０による基板５の挟持作用及び挟持解除作用が行われる。

なお、以上のように構成される第１，第２昇降機構部３１，３２においては、真空チャンバ４の天板部４ａとガイドブロック２３の間、及び、第１フック２１の昇降軸２１Ａ上端とブラケット２７との間には、密閉性のベローズ３３及び３４が取り付けられている。

更に、これら各基板保持ユニット１０には、第１，第２フック２１，２２を第１フック２１の昇降軸２１Ａの周りに同時に旋回させる旋回機構部３５が設けられている。

旋回機構部３５は、各々の基板保持ユニット１０の支持台２８にそれぞれ取り付けられたロータリーアクチュエータ等でなる第３駆動部４３と、この第３駆動部４３の回転軸４３ａに固定されたプーリ４３ｂと、第１フック２１の昇降軸２１Ａの外周部に固定されたプーリ２１ａと、これらプーリ４３ｂとプーリ２１ａとの間に張設されたベルト２６Ｃとで構成され、第３駆動部４３の駆動によりベルト２６Ｃを介して昇降軸２１Ａが回転されることにより、第１，第２フック２１，２２が昇降軸２１Ａの周りに旋回されるようになっている。このとき、各基板保持ユニット１０は、第１，第２フック２１，２２を基板５の周縁に対して、例えば図４に示すように旋回するようになっている。

なお、第１フック２１の旋回による第２フック２２の連れ回りに関しては、昇降軸２１Ａの周面の一部に形成した切欠き部２１ｂ（図１）から突出する第２フック２２が、当該切欠き部２１ｂの切欠き面と当接することによって第１フック２１と一体的に旋回されるようにしている。

基板保持ユニット１０は以上のように構成され、これらにより本発明に係る「基板保持機構」が構成される。基板５は、この基板保持機構によって真空チャンバ４の内部において、その直下方位置でマスクホルダ１１に支持されるマスク６に対して相対的に昇降移動自在とされている。

次に、このマスクホルダ１１の構成について説明する。

マスクホルダ１１は、磁性金属でなるマスク６の周縁の例えば四隅下面を各々支持する複数の支持爪５１と、これら支持爪５１を下端部で各々支持する複数本の支持ロッド５２と、これら支持ロッド５２が取り付けられる取付プレート５３と、この取付プレート５３を支持する中空軸５４とを備えている。

支持爪５１の上面には、マスク６の周縁に穿設された位置決め孔に嵌合する位置決めピン５１ａが突設されており、支持爪５１に対するマスク６の相対移動が規制されている。

中空軸５４は、支持プレート１３上に設けられたケーシング５５内に配置されており、モータ５６により回転自在とされていると共に、磁性流体シール５７を介してＸ−Ｙ方向移動部５８に連結されている。これらモータ５６及びＸ−Ｙ方向移動部５８の各駆動により、マスクホルダ１１及びこれに支持されるマスク６は、ケーシング５５脇に配置されたＣＣＤ（Charge Coupled Device）カメラ５９による基板５及びマスク６間の位置合わせ画像に基づき、基板保持ユニット１０に支持されている基板５に対してＸ，Ｙ及びθ方向に相対移動可能とされている。

なお、モータ５６、Ｘ−Ｙ方向移動部５８、ＣＣＤカメラ５９等により、本発明の「アライメント機構」が構成されている。このアライメント機構は、磁性流体シール５７と支持プレート１３との間に密閉性のベローズ６０が中空軸５４を被覆するように取り付けられている。

そして、マグネット昇降機構１２は、上述のアライメント機構により互いに精密アライメントした基板５及びマスク６を密着させるマグネット７を下面に保持するマグネットホルダ６１と、このマグネットホルダ６１を昇降させるマグネット昇降軸６２とを備えている。マグネット昇降軸６２は、マスクホルダ１１の中空軸５４の軸心部に対して相対移動自在に挿通され、その上端部は、ケーシング５５に支持された油圧又は空圧シリンダ等でなる第４駆動部４４の伸縮ロッドに連結されている。

図５は、マグネットホルダ６１の構成を示す斜視図である。マグネットホルダ６１は、マスクホルダ１１の各支持ロッド５２がそれぞれ挿通される複数のガイド孔６３を周縁に有し、マグネット昇降軸６２の軸方向への移動がガイドされるように構成されている。

マグネットホルダ６１には、基板５に対してマグネット７を着脱する際に、基板５の位置ズレを規制する基板押え６４が取り付けられている。この基板押え６４は、マグネットホルダ６１に形成された複数の挿通孔６８にそれぞれ挿通される複数の段付きピン６５を有しており、これら複数の段付ピン６５を介して、マグネットホルダ６１に対し、相対的に所定距離だけ昇降移動自在に吊り下げられている。

基板押え６４は例えばアルミニウム等の非磁性金属材料でなり、図５に示すように、略長方形状の薄板部材６４ａと、段付ピン６５を支持する一対の第１枠体６４ｂ，６４ｂと、これら一対の第１枠体６４ｂ，６４ｂの端部間を跨るように取り付けられる一対の第２枠体６４ｃ，６４ｃとで構成されている。また、薄板部材６４ａの第２枠体６４ｃ，６４ｃ側の周縁部には、基板５の周縁上面を挟持する基板保持ユニット１０の第２フック２２との干渉を防止するためのニゲ６４ｄが形成されている。

なお、マグネットホルダ６１の所定位置には、切欠き６１ｄが設けられている。この切欠き６１ｄは、基板５に対するマグネット７の取付時、マグネットホルダー６１と基板押え６４の第２枠体６４ｃとの干渉を避けるためのニゲである。

本実施の形態のアライメント装置１は以上のように構成されている。このアライメント装置１は、全体的に、真空チャンバ４の天板部４ａの上に載置された支持プレート１３上に構成されており、真空チャンバ４の内外の圧力差等に起因する天板部４ａの変形でアライメント動作が影響を受けないようにしている。そして、アライメント装置１は、成膜室３内において、基板保持ユニット１０、マスクホルダ１１及びマグネット昇降機構１２により、基板５に対するマスク６の位置合わせ作用と、位置合わせした基板５及びマスク６の密着保持作用を行う。

以下、このアライメント装置１及び成膜装置２の動作について図６及び図７を参照して説明する。図６及び図７は、図１に示したアライメント装置１を簡略化して示した図で、図１において対応する部分については同一の符号を付している。

図示しないロボットにより、成膜面を下向きにして真空チャンバ内に搬入された基板５は、図６Ａに示すように、各基板保持ユニット１０の第１，第２フック２１，２２により周縁部が挟持される。基板保持ユニット１０に保持された基板５の成膜面（下面）側はマスクホルダ１１に支持されたマスク６と対向し、反対側の非成膜面（上面）側はマグネットホルダ６１から吊り下げられた基板押え６４の薄板部材６４ａに対向している。

次に、図６Ａに示す状態で、アライメント機構により基板５とマスク６の位置合わせが行われる。基板５とマスク６の位置合わせは、基板保持ユニット１０によって静止されている基板５に対し、マスク６を支持するマスクホルダ１１を、上述したアライメント機構に介して相対移動させることによって基板５とマスク６のアライメントが行われる。

具体的には、ＣＣＤカメラ５９によって基板５のアライメントマークとマスク６のアライメントマークの各画像を取得し、これらのアライメントマークに基づいてモータ５６及びＸ−Ｙ方向移動部５８を駆動し、マスクホルダ１１をθ、Ｘ及びＹの各方向に移動させる。

以上のようにして基板５とマスク６のアライメントが行われた後、第１昇降機構部３１の駆動により各基板保持ユニット１０が同時に下降し、図６Ｂに示すように基板５がマスク６の上に重ね合わされる。このとき、基板５は、基板保持ユニット１０の第１，第２フック２１，２２により挟持されることによって支持されているので、基板５が薄厚のものであってもこれを撓ませることなくマスク６の上に重ねることができ、これにより基板５の位置ズレが防止される。

続いて、マグネット昇降機構１２を駆動して、基板５の非成膜面（上面）側にマグネット７が重ね合わされる。この動作は、図７Ａに示すように、第４駆動部４４の駆動によりマグネット昇降軸６２を下降させ、支持ロッド５２のガイド作用を経て、マグネット７を支持するマグネットホルダ６１を基板５の非成膜面に向けて移動させる。

このとき、各基板保持ユニット１０は、第１，第２フック２１，２２で基板５の周縁を上下から挟持しているので、マグネット７の下降時に、マグネット７の磁力によるマスク６の撓み変形によって基板５に位置ズレが生じるのを抑止することができる。

また、本実施の形態においては、マグネットホルダ６１に吊り下げられた基板押え６４はマグネット７よりも先に基板５の上面に到達し、この基板押え６４の自重により基板５をマスク６側へ押圧する作用を行う。そして、マグネット７の磁力によるマスク６のマグネット７側への変形を抑止しながら、マグネット７を基板５に当接した基板押え６４の薄板部材６４ａ上に重ねる。これにより、基板５とマスク６との間の精密アライメント及び密着を図ることができる（図７Ｂ）。

以上のように、基板５の成膜面にマスク６が重ね合わされた後、同じ成膜室３において基板５の成膜面と対向するように配置された図示しない蒸発源あるいはスパッタターゲット等の成膜手段によって、基板５の成膜面にマスク６を介して所定の成膜材料が形成される。これにより、基板５の成膜面に、マスク６の開口パターンに対応した形状の成膜パターンが形成される。

なお、この成膜装置２においては、モータ５６により中空軸５４を回転駆動し、基板５をマスク６及びマグネット７と共に回転させながら成膜することも可能である。この場合には、基板保持ユニット１０による基板５の挟持作用を解除し、第１，第２フック２１，２２を図４に示したように基板５の回転を阻害しない位置まで旋回退避させる。

成膜後、基板５とマスク６とを分離するべく、まず、第４駆動部４４の駆動によりマグネット昇降軸６２を上昇させ、マグネット７を基板押え６４から分離する（図７Ａ）。

このとき、基板５は、各基板保持ユニット１０の第１，第２フックにより周縁が挟持されているので、マグネット７の磁力によるマスク６の撓み変形を抑止でき、基板５とマスク６との間の位置ズレが防止される。また、基板押え６４により基板５がマスク６側へ押さえ付けられているので、マグネット７の磁力によるマスク６の撓み変形が抑止され、基板５とマスク６との間の位置ズレが防止される。これにより、基板５とマスク６の位置ズレによる基板５の成膜面に形成されたパターンの損傷を回避でき、基板５の成膜面を保護することができる。

続いて、第１昇降機構３１により、各基板保持ユニット１０を上昇させて、基板５をマスク６から分離する（図６Ａ）。そして、第２昇降機構３２により第２フック２２を上昇させて基板５の挟持作用を解除し、第１フック２１のみによって基板５が支持される。そして、図示しないロボットが基板５の下方に進入し、真空チャンバ４の外部へ搬出されると共に、次に処理するべき新しい基板５が第１フック２１上へ載置される。

以上のように、本実施の形態によれば、複数の基板保持ユニット１０が基板５の周縁を挟持する構成とされているので、基板５の撓みを規制してマスク６に対する高精度なアライメントを実現することができる。また、マグネット７の昇降時におけるマスク６の撓み変形による基板５の位置ズレを抑止して、基板５とマスク６との間のアライメント精度の悪化を回避することができる。

また、本実施の形態によれば、基板５とマスク６とを高精度に位置合わせするアライメント装置１が成膜室３内に臨んで構成されているので、アライメント工程後、迅速に成膜工程に移行することができ、これにより生産性の向上を図ることが可能となる。

以上、本発明の実施の形態について説明したが、勿論、本発明はこれに限定されることなく、本発明の技術的思想に基づいて種々の変形が可能である。

例えば、上述した構成の基板保持ユニット１０を用いてマスクホルダ１１に保持されたマスク６の交換作用を行わせることも可能である。この場合、例えば図８に示すように、第１フック２１の先端にマスク係合用の突出片２１ｔを形成すると共に、マスク６の周縁所定位置には、この第１フック２１の突出片２１ｔと係合する係合爪（図示略）を形成しておく。そして、第１フック２１を旋回機構部３５の駆動により旋回させた際、これら突出片２１ｔと係合爪を互いに係合させ、マスク６をマスクホルダ１１から分離し、ロボット等の搬送手段を介して当該マスクをチャンバ外部へ搬出したり、新しいマスクをマスクホルダ１１へセットする。

また、以上の実施の形態では、本発明に係るアライメント装置１を成膜装置２へ適用した例について説明したが、これに限らず、例えばステンシルマスクを用いるイオン注入、プラズマエッチング処理等の他の真空処理装置にも、本発明は適用可能である。

本発明の実施の形態によるアライメント装置１を備えた成膜装置２の概略構成図である。 図１に示したアライメント装置１の要部側面図である。 図１に示したアライメント装置１の要部平面図である。 基板保持ユニット１０の一作用を説明する平面図である。 マグネットホルダ６１の構成を示す斜視図である。 アライメント装置１の動作を説明する図である。 アライメント装置１の動作を説明する図である。 基板保持ユニットの第１，第２フックの構成例を示す図である。

符号の説明

１ アライメント装置
２ 成膜装置
３ 成膜室
４ 真空チャンバ
５ 基板
６ マスク
７ マグネット
１０ 基板保持ユニット
１１ マスクホルダ
１２ マグネット昇降機構
１３ 支持プレート
２１ 第１フック
２１Ａ 昇降軸
２２ 第２フック
２２Ａ 昇降軸
３１ 第１昇降機構部
３２ 第２昇降機構部
３５ 旋回機構部
４１ 第１駆動部
４２ 第２駆動部
４３ 第３駆動部
４４ 第４駆動部
５４ 中空軸
５６ モータ
５８ Ｘ−Ｙ方向移動部
５９ ＣＣＤカメラ
６１ マグネットホルダ
６２ マグネット昇降軸
６４ 基板押え

Claims (11)

1. 磁性材料製のマスクを支持するマスクホルダと、
   第１，第２フックを含み、前記第１，第２フックが基板の周縁を挟持する第１の状態と、前記第１，第２のフックが前記基板の回転を阻害しない位置に退避した第２の状態とをそれぞれ有する複数の基板保持ユニットを有し、前記マスクホルダに支持されている前記マスクに対して前記基板を昇降自在に保持可能な基板保持機構と、
   前記基板保持機構に支持されている前記基板に対して前記マスクホルダを回転させるモータと、前記基板に対して前記マスクホルダを水平方向に移動させる移動部とを有し、前記マスクと前記基板とを位置合わせするアライメント機構と、
   前記マスクと前記基板とを密着させるマグネットを有し、前記マグネットを前記基板に対して昇降させるマグネット昇降機構と
   を備えることを特徴とするアライメント装置。
2. 前記マグネット昇降機構は、
   昇降軸と、
   前記昇降軸の下端に固定され前記マグネットを保持するマグネットホルダと、
   前記マグネットホルダに対して相対移動自在に吊り下げられ前記基板の上面に対向配置される基板押えとをさらに有している請求項１に記載のアライメント装置。
3. 前記各基板保持ユニットは、
   前記第１，第２フックを各々同時に昇降させる第１昇降機構部と、
   前記第１フックに対して前記第２フックを相対的に昇降させる第２昇降機構部とをそれぞれ有している請求項１に記載のアライメント装置。
4. 前記第２フックの昇降軸は、前記第１フックの昇降軸の軸心位置に配置されている請求項３に記載のアライメント装置。
5. 前記各基板保持ユニットには、前記第１，第２フックを前記第１フックの昇降軸の周りに同時に旋回させる旋回機構部が設けられている請求項３に記載のアライメント装置。
6. 成膜室を区画する真空チャンバと、この真空チャンバ内に配置された成膜手段と、この成膜手段の対向位置に配置された基板の成膜面にマスクを位置合わせするアライメント装置とを備え、
   前記アライメント装置は、
   磁性材料製のマスクを支持するマスクホルダと、
   第１，第２フックを含み、前記第１，第２フックが基板の周縁を挟持する第１の状態と、前記第１，第２のフックが前記基板の回転を阻害しない位置に退避した第２の状態とをそれぞれ有する複数の基板保持ユニットを有し、前記マスクホルダに支持されている前記マスクに対して前記基板を昇降自在に保持可能な基板保持機構と、
   前記基板保持機構に支持されている前記基板に対して前記マスクホルダを回転させるモータと、前記基板に対して前記マスクホルダを水平方向に移動させる移動部とを有し、前記マスクと前記基板とを位置合わせするアライメント機構と、
   前記マスクと前記基板とを密着させるマグネットを有し、前記マグネットを前記基板に対して昇降させるマグネット昇降機構と
   を備えることを特徴とする成膜装置。
7. 前記マグネット昇降機構は、
   昇降軸と、
   前記昇降軸の下端に固定され前記マグネットを保持するマグネットホルダと、
   前記マグネットホルダに対して相対移動自在に吊り下げられ前記基板の上面に対向配置される基板押えとを有している請求項６に記載の成膜装置。
8. 前記各基板保持ユニットは、
   前記第１，第２フックを各々同時に昇降させる第１昇降機構部と、
   前記第１フックに対して前記第２フックを相対的に昇降させる第２昇降機構部とをそれぞれ有している請求項６に記載の成膜装置。
9. 前記第２フックの昇降軸は、前記第１フックの昇降軸の軸心位置に配置されている請求項８に記載の成膜装置。
10. 前記各基板保持ユニットは、前記第１，第２フックを前記第１フックの昇降軸の周りに同時に旋回させる旋回機構部をそれぞれ有している請求項８に記載の成膜装置。
11. 前記各基板保持ユニットは、前記真空チャンバの天板上に配置された支持プレート上に共通に支持されている請求項６に記載の成膜装置。

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