JP4498769B2 - Tetrahydroxybicyclohexane di (meth) acrylic acid esters, compositions thereof, and cured molded bodies - Google Patents
Tetrahydroxybicyclohexane di (meth) acrylic acid esters, compositions thereof, and cured molded bodies Download PDFInfo
- Publication number
- JP4498769B2 JP4498769B2 JP2004054350A JP2004054350A JP4498769B2 JP 4498769 B2 JP4498769 B2 JP 4498769B2 JP 2004054350 A JP2004054350 A JP 2004054350A JP 2004054350 A JP2004054350 A JP 2004054350A JP 4498769 B2 JP4498769 B2 JP 4498769B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- meth
- weight
- component
- resin composition
- curable resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Description
本発明は、光及び/又は熱硬化性を有する新規なテトラヒドロキシビシクロヘキサンジ(メタ)アクリル酸エステル類、その製造方法、それを含む硬化性樹脂組成物、及び該組成物を硬化してなる成形体に関し、該成形体は耐熱性に優れ、高い屈折率を有する。 The present invention is a novel tetrahydroxybicyclohexanedi (meth) acrylic acid ester having light and / or thermosetting properties, a production method thereof, a curable resin composition containing the same, and a composition obtained by curing the composition. With respect to the molded body, the molded body is excellent in heat resistance and has a high refractive index.
従来から機能性高分子材料として、エポキシ樹脂にアクリル酸を反応させて得られたエポキシ/アクリレート樹脂が汎用されてきた。この樹脂は、例えば、感光性材料、光学材料、歯科材料、各種高分子架橋剤などの分野で使用されてきた。しかし、一般にアクリル系樹脂は耐熱性および耐候性が不十分であり、例えば、高いレベルの耐熱性が要求される分野においては不充分であった。
これに対して、種々の樹脂が提案されている。例えば、特開平8−278629号公報にはフルオレン骨格を有するエポキシ化合物と(メタ)アクリル酸との反応物を含む硬化性組成物が開示されている(例えば特許文献1参照。)。その硬化物は比較的耐熱性に優れており、上記の問題をある程度解決することが可能となったものの、現在における高いレベルでの要求性能を十分満足させ得るとは言えない。
Conventionally, epoxy / acrylate resins obtained by reacting acrylic acid with epoxy resins have been widely used as functional polymer materials. This resin has been used in the fields of photosensitive materials, optical materials, dental materials, various polymer crosslinking agents, and the like. However, in general, acrylic resins have insufficient heat resistance and weather resistance. For example, they are insufficient in a field where a high level of heat resistance is required.
In contrast, various resins have been proposed. For example, JP-A-8-278629 discloses a curable composition containing a reaction product of an epoxy compound having a fluorene skeleton and (meth) acrylic acid (see, for example, Patent Document 1). Although the cured product is relatively excellent in heat resistance and can solve the above-mentioned problems to some extent, it cannot be said that the required performance at the current high level can be sufficiently satisfied.
本発明の目的は、高硬度で、高耐熱性を有する硬化物、それに使用する硬化性樹脂組成物、それに使用する新規化合物を得ることである。 An object of the present invention is to obtain a cured product having high hardness and high heat resistance, a curable resin composition used for the cured product, and a novel compound used for the cured product.
本発明者らは、テトラヒドロキシビシクロヘキサンジ(メタ)アクリル酸エステル類を含む硬化性樹脂組成物を硬化させて得られる成形体が、かかる問題点を解決し得ることを見い出し、本発明を完成するに至った。 The present inventors have found that a molded product obtained by curing a curable resin composition containing tetrahydroxybicyclohexanedi (meth) acrylic acid esters can solve such problems, and completed the present invention. It came to do.
即ち、本発明の第1は、下記一般式(I)で表されるテトラヒドロキシビシクロヘキサンジ(メタ)アクリル酸エステル類を提供する。
CH2=CR−COO−X−OCO−CR=CH2 (I)
(式中、Rは水素原子又はメチル基を表し、二つのRは同じでも異なってもよい。Xは下記式 (II)で表される二価のビシクロヘキシレン基である。)
本発明の第2は、下記一般式(III)で示されるジエポキシビシクロヘキサン類と(メタ)アクリル酸を反応させる本発明の第1に記載のテトラヒドロキシビシクロヘキサンジ(メタ)アクリル酸エステル類の製造方法を提供する。
本発明の第3は、本発明の第1に記載のテトラヒドロキシビシクロヘキサンジ(メタ)アクリル酸エステル類((A)成分という)を含有する硬化性樹脂組成物を提供する。
本発明の第4は、光(放射線を含む)及び/又は熱により硬化可能な本発明の第3に記載の硬化性樹脂組成物を提供する。
本発明の第5は、さらに、(A)成分以外の硬化可能な(メタ)アクリレート化合物((B)成分という)を含有し、(A)成分30〜100重量%及び(B)成分70〜0重量%((A)成分と(B)成分の合計は100重量%である。)である本発明の第3又は4に記載の硬化性樹脂組成物を提供する。
本発明の第6は、さらに光重合開始剤(P)を含有し、該光重合開始剤(P)が、組成物中の光硬化可能な成分の合計量100重量部に対して、1〜10重量部の割合で含有される本発明の第3〜5のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物を提供する。
本発明の第7は、さらにラジカル重合開始剤(T)を含有し、該ラジカル重合開始剤(T)が、組成物中の熱硬化可能な成分の合計量100重量部に対して、0.1〜10重量部の割合で含有される本発明の第3〜5のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物を提供する。
本発明の第8は、本発明の第3〜7のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物を硬化させてなる成形体を提供する。
That is, the first of the present invention provides tetrahydroxybicyclohexane di (meth) acrylic acid esters represented by the following general formula (I).
CH 2 = CR-COO-X -OCO-CR = CH 2 (I)
(In the formula, R represents a hydrogen atom or a methyl group, and two Rs may be the same or different. X represents a divalent bicyclohexylene group represented by the following formula (II).)
A second aspect of the present invention is the tetrahydroxybicyclohexane di (meth) acrylic acid ester according to the first aspect of the present invention in which a diepoxybicyclohexane represented by the following general formula (III) is reacted with (meth) acrylic acid. A manufacturing method is provided.
A third aspect of the present invention provides a curable resin composition containing the tetrahydroxybicyclohexanedi (meth) acrylic acid ester (referred to as component (A)) according to the first aspect of the present invention.
A fourth aspect of the present invention provides the curable resin composition according to the third aspect of the present invention, which can be cured by light (including radiation) and / or heat.
The fifth of the present invention further contains a curable (meth) acrylate compound (referred to as the component (B)) other than the component (A), the component (A) 30 to 100% by weight and the component (B) 70 to 70%. The curable resin composition according to the third or fourth aspect of the present invention is 0% by weight (the total of the component (A) and the component (B) is 100% by weight).
6th of this invention contains a photoinitiator (P) further, and this photoinitiator (P) is 1 to 1 part with respect to 100 weight part of total amounts of the photocurable component in a composition. The curable resin composition according to any one of Nos. 3 to 5 of the present invention, which is contained in a proportion of 10 parts by weight.
The seventh of the present invention further contains a radical polymerization initiator (T), and the radical polymerization initiator (T) is added in an amount of 0.001 part by weight relative to 100 parts by weight of the total amount of thermosetting components in the composition. The curable resin composition according to any one of Nos. 3 to 5 of the present invention, which is contained at a ratio of 1 to 10 parts by weight.
8th of this invention provides the molded object formed by hardening | curing the curable resin composition in any one of 3rd-7 of this invention.
本発明によれば、光硬化性及び/又は熱硬化性の性質を有する新規なエポキシ/アクリレート樹脂であるテトラヒドロキシビシクロヘキサンジ(メタ)アクリル酸エステル類およびその製造方法が提供される。この樹脂を含む組成物から得られる硬化物(例えばそれ自体でなる成形体あるいは基材上に形成された塗膜)は高い硬度を有し、耐熱性に極めて優れ、さらに、高い屈折率を有する。 According to the present invention, tetrahydroxybicyclohexanedi (meth) acrylic acid esters, which are novel epoxy / acrylate resins having photocurable and / or thermosetting properties, and a method for producing the same are provided. A cured product obtained from a composition containing this resin (for example, a molded article formed on itself or a coating film formed on a substrate) has high hardness, extremely excellent heat resistance, and also has a high refractive index. .
本発明の前記一般式(I)で表されるテトラヒドロキシビシクロヘキサンジ(メタ)アクリル酸エステル類(以下、(A)成分という)は、前記一般式(III)で示されるジエポキシビシクロヘキサン類の2個のエポキシ基に、2分子の(メタ)アクリル酸を反応させて得られるものであり、テトラヒドロキシビシクロヘキサンの各シクロ環の各1個のヒドロキシ基と(メタ)アクリル酸のカルボキシル基とがエステルを形成した構造のものである。 The tetrahydroxybicyclohexane di (meth) acrylates represented by the general formula (I) of the present invention (hereinafter referred to as the component (A)) are diepoxybicyclohexanes represented by the general formula (III). It is obtained by reacting two (meth) acrylic acids with two epoxy groups, and each one hydroxy group of each cyclo ring of tetrahydroxybicyclohexane and the carboxyl group of (meth) acrylic acid. And have a structure in which an ester is formed.
上記一般式(III)で示されるジエポキシビシクロヘキサン類は、例えば、一般式(IV)で表わされるビシクロヘキシル−3,3’−ジエン骨格を持つ化合物の二重結合を、有機過カルボン酸または過酸化水素水によってエポキシ化して製造される。 The diepoxy bicyclohexanes represented by the general formula (III) include, for example, a double bond of a compound having a bicyclohexyl-3,3′-diene skeleton represented by the general formula (IV), an organic percarboxylic acid or Produced by epoxidation with hydrogen peroxide.
上記一般式(IV)で表わされるビシクロヘキシル−3,3’−ジエン骨格を持つ化合物としては、具体的には、ビシクロヘキシル−3,3’−ジエン等が挙げられる。 Specific examples of the compound having a bicyclohexyl-3,3'-diene skeleton represented by the general formula (IV) include bicyclohexyl-3,3'-diene.
上記ジエポキシビシクロヘキサン類(III)と(メタ)アクリル酸との反応は、通常、50〜120℃で、3〜10時間行なわれる。必要に応じて適切な溶媒を用いて、50〜120℃で、5〜30時間行なわれる。上記溶媒としては、メチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3−メトキシブチル−1−アセテート等のアルキレンモノアルキルエーテルアセテート類、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン等のケトン類などがある。これらの内、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3−メトキシブチル−1−アセテートが好適である。 The reaction between the diepoxybicyclohexane (III) and (meth) acrylic acid is usually carried out at 50 to 120 ° C. for 3 to 10 hours. The reaction is performed at 50 to 120 ° C. for 5 to 30 hours using an appropriate solvent as necessary. Examples of the solvent include alkylene monoalkyl ether acetates such as methyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, and 3-methoxybutyl-1-acetate, and ketones such as methyl ethyl ketone and methyl amyl ketone. Of these, propylene glycol monomethyl ether acetate and 3-methoxybutyl-1-acetate are preferred.
本発明の硬化性樹脂組成物は、(A)成分を含有し、光及び/又は熱硬化性であり、(A)成分は、1種のみを単独で使用できるほか、2種以上の混合物としても使用することができる。 The curable resin composition of the present invention contains the component (A) and is light and / or thermosetting, and the component (A) can be used alone or as a mixture of two or more. Can also be used.
さらに上記組成物には、(A)成分以外の光及び/又は熱硬化可能な(メタ)アクリレート化合物((B)成分)が含まれてもよい。
上記(B)成分は、硬化性組成物が必要とされる物性に応じて、粘度調整剤あるいは架橋剤として所定の範囲内で配合される。(B)成分としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレートなどの水酸基を有する1価のアクリレート;およびエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスルトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)アクリレートなどの多価アルコールとの(メタ)アクリル酸エステルを挙げることができる。
これらの化合物は、その1種のみを単独で使用できるほか、2種以上を併用して使用することもできる。
Further, the composition may contain a light and / or thermosetting (meth) acrylate compound (component (B)) other than the component (A).
The said (B) component is mix | blended within the predetermined range as a viscosity modifier or a crosslinking agent according to the physical property for which a curable composition is required. Examples of the component (B) include monovalent acrylates having a hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl (meth) acrylate; and ethylene glycol di (meth) ) Acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, tetramethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethanetri (Meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipenta Squirrel Le Thor tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, of polyhydric alcohols such as glycerol (meth) acrylate (meth) acrylic acid ester.
These compounds can be used alone or in combination of two or more.
(A)成分と(B)成分に比率は、(A)成分30〜100重量%及び(B)成分70〜0重量%、好ましくは(A)成分30〜90重量%及び(B)成分70〜10重量%、さらに好ましくは(A)成分35〜85重量%及び(B)成分65〜15重量%((A)成分と(B)成分の合計量は100重量%である。)である。
(B)成分が上記範囲より多すぎると耐熱性が下がりすぎ、上記範囲より少なすぎると靭性が低下しすぎる。
The ratio of the component (A) to the component (B) is 30 to 100% by weight of the component (A) and 70 to 0% by weight of the component (B), preferably 30 to 90% by weight of the component (A) and 70% of the component (B). 10% by weight, more preferably 35 to 85% by weight of component (A) and 65 to 15% by weight of component (B) (the total amount of component (A) and component (B) is 100% by weight). .
When the component (B) is more than the above range, the heat resistance is lowered too much, and when it is less than the above range, the toughness is lowered too much.
本発明の硬化性樹脂組成物が光硬化性である場合には、該硬化性樹脂組成物には、光重合開始剤(P)が加えられてもよく、熱硬化性樹脂組成物である場合にはラジカル重合開始剤(T)が加えられてもよい。
該光重合開始剤(P)は、組成物中の光硬化可能な成分の合計量100重量部に対して、10重量部以下、好ましくは0.1〜10重量部、さらに好ましくは1〜8重量部の割合で添加される。
該ラジカル重合開始剤(T)は、組成物中の熱硬化可能な成分の合計量100重量部に対して、10重量部以下、好ましくは0.1〜10重量部、さらに好ましくは1〜8重量部の割合で添加される。
When the curable resin composition of the present invention is photocurable, a photopolymerization initiator (P) may be added to the curable resin composition, and the curable resin composition is a thermosetting resin composition. A radical polymerization initiator (T) may be added to.
The photopolymerization initiator (P) is 10 parts by weight or less, preferably 0.1 to 10 parts by weight, more preferably 1 to 8 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the photocurable components in the composition. Added in parts by weight.
The radical polymerization initiator (T) is 10 parts by weight or less, preferably 0.1 to 10 parts by weight, more preferably 1 to 8 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of thermosetting components in the composition. Added in parts by weight.
上記光重合開始剤(P)は、上記(A)成分と光硬化可能な(B)成分の光重合開始剤として働く化合物および/または増感効果を有する化合物である。このような光重合開始剤(P)としては、例えばアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、p−tert−ブチルアセトフェノンなどのアセトフェノン類;ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、p,p'−ビスジメチルアミノベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類;ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテルなどのベンゾインエーテル類;ベンジルジメチルケタール、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントンなどのイオウ化合物;2−エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2−ベンズアントラキノン、2,3−ジフェニルアントラキノンなどのアントラキノン類;および2−メルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−メルカプトベンゾチアゾールなどのチオール化合物等が挙げられる。 The photopolymerization initiator (P) is a compound that functions as a photopolymerization initiator of the component (A) and the photocurable component (B) and / or a compound having a sensitizing effect. Examples of such a photopolymerization initiator (P) include acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, dichloroacetophenone, trichloroacetophenone, p-tert-butylacetophenone, and the like. Benzophenones such as benzophenone, 2-chlorobenzophenone, p, p'-bisdimethylaminobenzophenone; benzoin ethers such as benzyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether; benzyldimethyl ketal, Io such as thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone Compounds; anthraquinones such as 2-ethylanthraquinone, octamethylanthraquinone, 1,2-benzanthraquinone, 2,3-diphenylanthraquinone; and thiols such as 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzothiazole Compounds and the like.
これらの化合物は、その1種を単独で使用してもよく、また、2種以上を組み合わせて使用することもできる。また、それ自体では光重合開始剤として作用しないが、上記の化合物と組み合わせて用いることにより、光重合開始剤の能力を増大させ得るような化合物を添加することもできる。このような化合物としては、例えば、ベンゾフェノンと組み合わせて使用すると効果のあるトリエタノールアミンなどの第三級アミンを挙げることができる。 These compounds may be used individually by 1 type, and can also be used in combination of 2 or more type. In addition, a compound that does not act as a photopolymerization initiator per se, but that can increase the ability of the photopolymerization initiator by using it in combination with the above-mentioned compound can also be added. Examples of such compounds include tertiary amines such as triethanolamine which are effective when used in combination with benzophenone.
上記熱硬化性樹脂組成物に含有され得るラジカル重合開始剤(T)としては、ケトンパーオキサイド系、ジアシルパーオキサイド系、ハイドロパーオキサイド系、ジアルキルパーオキサイド系、パーオキシケタール系、アルキルパーエステル系、パーカーボネート系、アゾビス系などのラジカル開始剤が用いられる。特に、ジアシルパーオキサイド系あるいはアゾビス系のラジカル開始剤が好適であり、例えば過酸化ベンゾイル、α,α’−アゾビス(イソブチロニトリル)などが汎用される。 Examples of the radical polymerization initiator (T) that can be contained in the thermosetting resin composition include ketone peroxides, diacyl peroxides, hydroperoxides, dialkyl peroxides, peroxyketals, and alkyl peresters. In addition, radical initiators such as percarbonate and azobis are used. In particular, diacyl peroxide type or azobis type radical initiators are suitable, and for example, benzoyl peroxide, α, α'-azobis (isobutyronitrile), etc. are widely used.
本発明の硬化性樹脂組成物に含有され得る添加剤としては、該組成物の使用目的に応じて、熱重合禁止剤、密着助剤、消泡剤、界面活性剤、可塑剤などが用いられる。
上記熱重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、tert−ブチルカテコール、フェノチアジンなどが挙げられる。
上記密着助剤は、得られる組成物が基材に塗布される場合に、基材との接着性を向上させる目的で添加される。該密着助剤としては、好ましくは、カルボキシル基、メタクリロイル基、イソシアネート基、エポキシ基などの反応性置換基を有するシラン化合物(官能性シランカップリング剤)が用いられる。このような官能性シランカップリング剤の具体例としては、トリメトキシシリル安息香酸、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β-(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランなどが挙げられる。
上記消泡剤としては、例えば、シリコーン系、フッ素系、アクリル系などの化合物が挙げられる。
上記界面活性剤は、得られる組成物を塗布しやすくすること、得られる塗膜の平坦度を向上させることなどの目的で添加される。界面活性剤としては、例えば、シリコーン系、フッ素系、およびアクリル系の化合物が挙げられる。具体的には例えば、BM−1000[BMへミー社製];メガファックF142D、同F172、同F173および同F183[大日本インキ化学工業(株)製];フロラードFC−135、同FC−170C、フロラードFC−430および同FC−431[住友スリーエム(株)製];サーフロンS−112、同S−113、同S−131、同S−141および同S−145[旭硝子(株)製];SH−28PA、SH−190、SH−193、SZ−6032、SF−8428、DC−57およびDC−190[東レシリコーン(株)製]などが挙げられる。
上記可塑剤としては、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、トリクレジルなどが挙げられる。
As an additive that can be contained in the curable resin composition of the present invention, a thermal polymerization inhibitor, an adhesion assistant, an antifoaming agent, a surfactant, a plasticizer, and the like are used depending on the purpose of use of the composition. .
Examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, pyrogallol, tert-butylcatechol, phenothiazine and the like.
The adhesion assistant is added for the purpose of improving the adhesion to the substrate when the resulting composition is applied to the substrate. As the adhesion assistant, a silane compound (functional silane coupling agent) having a reactive substituent such as a carboxyl group, a methacryloyl group, an isocyanate group, or an epoxy group is preferably used. Specific examples of such functional silane coupling agents include trimethoxysilylbenzoic acid, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxysilane, γ-isocyanatopropyltriethoxysilane, γ -Glycidoxypropyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane and the like.
Examples of the antifoaming agent include silicone, fluorine, and acrylic compounds.
The surfactant is added for the purpose of facilitating application of the obtained composition and improving the flatness of the obtained coating film. Examples of the surfactant include silicone-based, fluorine-based, and acrylic compounds. Specifically, for example, BM-1000 [manufactured by BM Hemy Co., Ltd.]; Mega-Fac F142D, F172, F173, and F183 [Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.]; Florard FC-135, FC-170C FLORARD FC-430 and FC-431 [manufactured by Sumitomo 3M Co.]; Surflon S-112, S-113, S-131, S-141 and S-145 [Asahi Glass Co., Ltd.] SH-28PA, SH-190, SH-193, SZ-6032, SF-8428, DC-57 and DC-190 [manufactured by Toray Silicone Co., Ltd.] and the like.
Examples of the plasticizer include dibutyl phthalate, dioctyl phthalate, and tricresyl.
本発明の硬化性組成物を光硬化させるために用いられる光(放射線を含む活性エネルギー線の意味である。)としては、可視光線、紫外線、電子線、X線、γ線などが使用される。経済性および効率的であるなどの点から紫外線が好適である。紫外線照射には、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、アーク灯、キセノンランプなどが利用される。 As light used for photocuring the curable composition of the present invention (meaning active energy rays including radiation), visible light, ultraviolet rays, electron beams, X-rays, γ rays, and the like are used. . Ultraviolet rays are preferable from the viewpoints of economy and efficiency. For ultraviolet irradiation, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, an arc lamp, a xenon lamp, or the like is used.
このほかに必要に応じて、本発明の硬化性樹脂組成物には各種溶剤が含有されていてもよい。このような溶剤としては、例えば、メタノール、エタノールなどのアルコール類;テトラヒドロフランなどのエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルなどのグリコールエーテル類;メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、3−メトキシブチル−1−アセテートなどのアルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン、シクロヘキサノン、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノンなどのケトン類;並びに2−ヒドロキシプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルブタン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチルなどのエステル類等が挙げられる。これらの溶剤は1種を単独で用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよい。 In addition, various solvents may be contained in the curable resin composition of the present invention as necessary. Examples of such solvents include alcohols such as methanol and ethanol; ethers such as tetrahydrofuran; ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, and diethylene glycol monoethyl. Glycol ethers such as ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether and diethylene glycol monobutyl ether; alkylene glycol such as methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, propylene glycol methyl ether acetate, 3-methoxybutyl-1-acetate Monoalkyl ether acetates; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl amyl ketone, cyclohexanone, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone; and 2-hydroxy Ethyl propionate, methyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, methyl 2-hydroxy-2-methylbutanoate, methyl 3-methoxypropionate And esters such as ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl lactate and ethyl lactate. These solvents may be used alone or in a combination of two or more.
本発明の硬化性樹脂組成物は、目的に応じた成形体とされる。この成形体は、組成物自体の硬化物でなる所望の形状の製品、あるいは基材上に形成された該組成物の硬化物でなる塗膜であってもよい。 The curable resin composition of the present invention is a molded product according to the purpose. The molded body may be a product having a desired shape made of a cured product of the composition itself, or a coating film made of a cured product of the composition formed on a substrate.
例えば、上記(A)成分、および必要に応じて加えられる(B)成分、光重合開始剤(P)(光硬化性樹脂組成物の場合)、ラジカル重合開始剤(T)(熱硬化性樹脂組成物の場合)、各種添加剤などを混合し、あるいは適当な溶媒中に分散もしくは溶解することにより、光硬化性あるいは熱硬化性の樹脂組成物が得られる。
例えば溶媒を含む液状の組成物を基材上に塗布・乾燥し、次いで光照射しあるいは加熱することにより、基材上に硬化膜を形成することができる。あるいは、上記光硬化性あるいは熱硬化性の組成物は、必要に応じて加熱溶融し、所定の型に流し込んで光照射しあるいは加熱することにより、所望の形状の成形体が得られる。
本発明の硬化性樹脂組成物により形成された成形体(塗膜を含む)は、高い硬度を有し、耐熱性に極めて優れることを利用して、各種コーティング剤、特に高い硬度と耐熱性とを要求されるコーティング剤として使用される。さらに、高い屈折率を有すること、および基材との密着性が良好であることを利用して、光学製品用成形材料、光学材料用コーティング剤、接着剤などとして使用される。
For example, the component (A) and the component (B) added as necessary, a photopolymerization initiator (P) (in the case of a photocurable resin composition), a radical polymerization initiator (T) (thermosetting resin) In the case of a composition), various additives and the like are mixed, or dispersed or dissolved in an appropriate solvent to obtain a photocurable or thermosetting resin composition.
For example, a cured film can be formed on a substrate by applying and drying a liquid composition containing a solvent on the substrate, and then irradiating with light or heating. Alternatively, the photocurable or thermosetting composition is heated and melted as necessary, poured into a predetermined mold, irradiated with light, or heated to obtain a molded article having a desired shape.
A molded body (including a coating film) formed from the curable resin composition of the present invention has high hardness and is extremely excellent in heat resistance. Various coating agents, particularly high hardness and heat resistance, Used as a coating agent. Furthermore, it is used as a molding material for optical products, a coating agent for optical materials, an adhesive, etc. by utilizing its high refractive index and good adhesion to a substrate.
本発明の硬化性樹脂組成物は、具体的には、カラーフィルター用レジストインク材料;電子部品の保護膜用材料(例えば、カラーフィルターを包含する液晶表示素子、集積回路素子、固体撮像素子などに用いられる保護膜の形成材料);層間絶縁および/または平坦化膜の形成材料;プリント配線板の製造に用いられるソルダーレジスト;液晶表示素子におけるビーズスペーサーの代替となる柱状スペーサーの形成に好適な感光性組成物;各種光学部品(レンズ、LED、プラスチックフィルム、基板、光ディスクなど)の材料;該光学部品の保護膜形成用のコーティング剤;光学部品用接着剤(光ファイバー用接着剤など);偏光板製造用のコーティング剤;ホログラム記録用感光性樹脂組成物原料などとして好適に利用される。 Specifically, the curable resin composition of the present invention can be used for resist ink materials for color filters; materials for protective films for electronic components (for example, liquid crystal display elements including color filters, integrated circuit elements, solid-state imaging elements, etc. Material for forming protective film used); Material for forming interlayer insulating and / or planarizing film; Solder resist used for manufacturing printed wiring board; Photosensitive suitable for forming columnar spacer as substitute for bead spacer in liquid crystal display device Composition; materials for various optical components (lenses, LEDs, plastic films, substrates, optical discs, etc.); coating agents for forming protective films on the optical components; adhesives for optical components (adhesives for optical fibers, etc.); polarizing plates It is suitably used as a coating agent for production; a photosensitive resin composition raw material for hologram recording.
(実施例)
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、以下において「部」は「重量部」を示す。
(Example)
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In the following, “part” means “part by weight”.
[合成例1]
反応器に、前記一般式(IV)で表される脂環式オレフィン化合物としてビシクロヘキシル−3,3’−ジエン406g、酢酸エチル1217gを仕込み、窒素を気相部に吹き込みながら、かつ、反応系内の温度を37.5℃になるようにコントロールしながら約3時間かけて過酢酸を30重量%含む酢酸エチル溶液457gを滴下し、滴下終了後40℃で1時間熟成し反応を終了した。生成粗液を30℃で水洗し、70℃/20mmHg(2660Pa)で低沸点化合物の除去を行い、3,4,3’,4’−ジエポキシ−ビシクロヘキサン415gを得、その収率は85%であった。
得られた化合物は、下記の分析結果により、3,4,3’,4’−ジエポキシ−ビシクロヘキサンであると同定した。
オキシラン酸素濃度:14.7重量%(エポキシ当量108.8)
1HNMR(溶媒:CDCl3、内部標準:TMS):4.5〜5ppm付近の内部二重結合(ジエン)に由来するピークが消失し、2.9〜3.1ppm付近にエポキシ基に由来するピークが確認された。
[Synthesis Example 1]
A reactor is charged with 406 g of bicyclohexyl-3,3′-diene and 1217 g of ethyl acetate as an alicyclic olefin compound represented by the above general formula (IV), and nitrogen is blown into the gas phase portion, and the reaction system While controlling the internal temperature to be 37.5 ° C., 457 g of an ethyl acetate solution containing 30% by weight of peracetic acid was added dropwise over about 3 hours. After completion of the dropwise addition, the mixture was aged at 40 ° C. for 1 hour to complete the reaction. The resulting crude liquid was washed with water at 30 ° C., and low boiling point compounds were removed at 70 ° C./20 mmHg (2660 Pa) to obtain 415 g of 3,4,3 ′, 4′-diepoxy-bicyclohexane, and the yield was 85%. Met.
The obtained compound was identified as 3,4,3 ′, 4′-diepoxy-bicyclohexane from the following analysis results.
Oxirane oxygen concentration: 14.7% by weight (epoxy equivalent 108.8)
1 HNMR (solvent: CDCl?, Internal standard: TMS): and a peak derived from internal double bond (diene) in the vicinity 4.5~5ppm disappeared, a peak derived from the epoxy group was observed in the vicinity 2.9~3.1Ppm.
[合成例2]
ビシクロヘキシル−3,3’−ジエン243g、酢酸エチル730gを仕込み、過酢酸を30重量%含む酢酸エチル溶液274gを滴下した以外は合成例1と同様に反応、熟成、水洗、低沸点化合物の除去を行い、3,4,3’,4’−ジエポキシ−ビシクロヘキサン270gを得、その収率は93%であった。
分析結果は、オキシラン酸素濃度15.3重量%(エポキシ当量231)、1HNMRの測定は、合成例1と同様であった。
[Synthesis Example 2]
Reaction, ripening, washing with water, removal of low-boiling compounds in the same manner as in Synthesis Example 1 except that 243 g of bicyclohexyl-3,3′-diene and 730 g of ethyl acetate were added and 274 g of ethyl acetate solution containing 30% by weight of peracetic acid was added dropwise. And 270 g of 3,4,3 ′, 4′-diepoxy-bicyclohexane was obtained, and the yield was 93%.
As a result of the analysis, the oxirane oxygen concentration was 15.3% by weight (epoxy equivalent 231), and the measurement of 1 HNMR was the same as in Synthesis Example 1.
[実施例1]テトラヒドロキシビシクロヘキサンジアクリル酸エステル(A1)の合成
1000mlの四つ口フラスコ中に、合成例1で得られた3,4,3’,4’−ジエポキシ−ビシクロヘキサン200g、トリエチルベンジルアンモニウムブロマイド450mg、2,6−ジイソブチルフェノール100mg、およびアクリル酸135.0g、さらに溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(MMPG-ACと略す。)500gを仕込んで攪拌し、反応中、空気を25ml/分で吹き込みながら105〜115℃に加熱した。経時的に酸価の測定を行ない、酸価が2.0mgKOH/g未満になるまで同温度で加熱攪拌を継続し、酸価が目標に達するまで16時間を要した。反応終了後、減圧下にMMPG-ACを留去し、室温まで冷却して、式(I)で表される(A)成分として、淡黄色透明なビシクロヘキシルジアクリレート(A1)を得た。
次にその分析結果を示す。
1HNMR(溶媒:CDCl3、内部標準:TMS、単位ppm)
エポキシ基由来のピーク3.1〜3.3ppmが消失し、アクリル酸エステル由来の二重結合ピーク5.8ppm(2H)、6.05ppm(2H)、6.4ppm(2H)、およびアクリル酸とエポキシ基が反応して生成したメチンプロトンのピーク4.6〜4.8ppm(2H)が確認された。
IR(KBr):1,720cm-1(エステル基:C=O)、1,620cm-1(ビニル基:C=C)、3,070cm-1(シクロアルキル:C-H)、3500cm-1(水酸基:O-H)
IRよりエポキシ基とカルボン酸の反応により生成した水酸基およびアクリル酸由来のビニル基が確認された。
[Example 1] Synthesis of tetrahydroxybicyclohexane diacrylic acid ester (A1) In a 1000 ml four-necked flask, 200 g of 3,4,3 ', 4'-diepoxy-bicyclohexane obtained in Synthesis Example 1 Triethylbenzylammonium bromide 450 mg, 2,6-diisobutylphenol 100 mg, acrylic acid 135.0 g, and propylene glycol monomethyl ether acetate (abbreviated as MMPG-AC) 500 g as a solvent were added and stirred. During the reaction, 25 ml of air was added. The mixture was heated to 105 to 115 ° C. while blowing at a rate of 1 minute. The acid value was measured over time, and heating and stirring were continued at the same temperature until the acid value became less than 2.0 mgKOH / g. It took 16 hours for the acid value to reach the target. After completion of the reaction, MMPG-AC was distilled off under reduced pressure, and the mixture was cooled to room temperature to obtain a light yellow transparent bicyclohexyl diacrylate (A1) as the component (A) represented by the formula (I).
The analysis results are shown below.
1 HNMR (solvent: CDCl3, internal standard: TMS, unit ppm)
Epoxy group-derived peak 3.1-3.3ppm disappeared, acrylic acid ester-derived double bond peaks 5.8ppm (2H), 6.05ppm (2H), 6.4ppm (2H), and acrylic acid and epoxy group reacted A peak of 4.6 to 4.8 ppm (2H) of the produced methine proton was confirmed.
IR (KBr): 1,720 cm -1 (ester group: C = O), 1,620 cm -1 (vinyl group: C = C), 3,070 cm -1 (cycloalkyl: CH), 3500 cm -1 (hydroxyl group: OH)
From IR, a hydroxyl group produced by the reaction of an epoxy group and a carboxylic acid and a vinyl group derived from acrylic acid were confirmed.
[実施例2]テトラヒドロキシビシクロヘキサンジアクリル酸エステル(A2)の合成
1000mlの四つ口フラスコ中に、合成例2で得られた3,4,3’,4’−ジエポキシ−ビシクロヘキサン200g、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド450mg、2,6−ジイソブチルフェノール100mgおよびアクリル酸141.8g、さらに溶媒としてMMPG-ACを500g仕込んで攪拌し、反応中、空気を25ml/分で吹き込みながら90〜100℃に加熱した。その後、内温120℃で加熱撹拌を継続し、経時的に酸価の測定を行ない、酸価が2.0mgKOH/g未満になるまで12時間を要した。反応終了後、減圧下にMMPG-ACを留去し、室温まで冷却して、テトラヒドロキシビシクロヘキサンジアクリル酸エステル(A2)を得た。
[Example 2] Synthesis of tetrahydroxybicyclohexanediacrylate (A2) In a 1000 ml four-necked flask, 200 g of 3,4,3 ', 4'-diepoxy-bicyclohexane obtained in Synthesis Example 2; 450 mg of triethylbenzylammonium chloride, 100 mg of 2,6-diisobutylphenol and 141.8 g of acrylic acid, and 500 g of MMPG-AC as a solvent were stirred and heated to 90-100 ° C. while blowing air at 25 ml / min during the reaction. did. Thereafter, heating and stirring were continued at an internal temperature of 120 ° C., and the acid value was measured over time. It took 12 hours until the acid value became less than 2.0 mgKOH / g. After completion of the reaction, MMPG-AC was distilled off under reduced pressure and cooled to room temperature to obtain tetrahydroxybicyclohexane diacrylic acid ester (A2).
[実施例3]光硬化性組成物の調製および性能評価
実施例1で得られたテトラヒドロキシビシクロヘキサンジアクリル酸エステル(A1)39重量部に、光重合開始剤としてイルガキュア184を1重量部加えて混合し、さらにMMPG-AC60重量部を加えて溶解させた。得られた混合物を、ガラス基材上に、乾燥後の膜厚が50μmとなるようにバーコーターにより塗膜を形成させ、塗膜の物性を測定した。
(1)感光性:高圧水銀灯により紫外線を照射して、塗膜を硬化させた。照射光量は、300mJ/cm2であった。
(2)耐熱性:硬化塗膜の熱重量分析(TG)(JIS 7120に準じ測定した。)による重量減少開始温度は258℃であった。
(3)光学特性:上記硬化膜のアッべ屈折計による屈折率は1.605であった。
これらの結果より、本発明のエポキシアクリレート樹脂は高感度であり、硬化して得られた塗膜は高い耐熱性および屈折率を有していることがわかる。
[Example 3] Preparation and performance evaluation of photocurable composition 1 part by weight of Irgacure 184 as a photopolymerization initiator was added to 39 parts by weight of tetrahydroxybicyclohexane diacrylate (A1) obtained in Example 1. Then, 60 parts by weight of MMPG-AC was further added and dissolved. The obtained mixture was formed on a glass substrate with a bar coater so that the film thickness after drying was 50 μm, and the physical properties of the paint film were measured.
(1) Photosensitivity: The coating film was cured by irradiating ultraviolet rays with a high-pressure mercury lamp. The amount of irradiation light was 300 mJ / cm 2 .
(2) Heat resistance: The weight decrease starting temperature by thermogravimetric analysis (TG) (measured according to JIS 7120) of the cured coating film was 258 ° C.
(3) Optical characteristics: The refractive index of the cured film as measured by an Abbe refractometer was 1.605.
From these results, it can be seen that the epoxy acrylate resin of the present invention has high sensitivity, and the coating film obtained by curing has high heat resistance and refractive index.
[実施例4〜7]
(A)成分として実施例1で得られたテトラヒドロキシビシクロヘキサンジアクリル酸エステル(A1)と、必要に応じて(B)成分を加え、光重合開始剤(P)を配合して、表1に示す組成(単位:重量部)の硬化性樹脂組成物を得た。
なお、表1及び表2における(B)成分等の略号は次の通りである。
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)
ペンタエリスリトールテトラアクリレート(PETA)
ネオペンチルグリコールジアクリレート(NPDA)
ビスフェノールA・EO付加物ジアクリレート(BPA・EO・DA)
エチレングリコールジメタクリレート(EGDMA)
得られた塗膜表面特性を以下の試験法に従って測定し、結果を表1に示す。
(1)耐磨耗性(耐擦傷性):基材上の硬化塗膜面を、#1000のスチールウールで軽く押さえながら、該スチールウールを30往復させて摩擦し、塗膜表面の傷の程度を次の基準で判断し、耐摩耗性を評価した。○:傷がつかない、△:傷はつくが光沢は保たれている、×:無数に傷がつき、光沢が失われる。
(2)接着性(密着性):JIS Z1552に準じ、碁盤目剥離試験により評価した。
(3)鉛筆硬度:JIS K5400に準じ、鉛筆硬度を測定した。
[Examples 4 to 7]
As the component (A), the tetrahydroxybicyclohexane diacrylic acid ester (A1) obtained in Example 1 and the component (B) are added as necessary, and a photopolymerization initiator (P) is blended. A curable resin composition having the composition shown in (unit: parts by weight) was obtained.
In addition, abbreviations, such as (B) component in Table 1 and Table 2, are as follows.
Dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA)
Pentaerythritol tetraacrylate (PETA)
Neopentyl glycol diacrylate (NPDA)
Bisphenol A / EO adduct diacrylate (BPA / EO / DA)
Ethylene glycol dimethacrylate (EGDMA)
The obtained coating film surface characteristics were measured according to the following test methods, and the results are shown in Table 1.
(1) Abrasion resistance (abrasion resistance): While lightly pressing the cured coating surface on the substrate with # 1000 steel wool, the steel wool was rubbed back and forth 30 times to rub the coating surface. The degree was judged according to the following criteria, and the wear resistance was evaluated. ○: No scratch, Δ: Scratch is maintained but gloss is maintained, ×: Countless scratches and gloss is lost.
(2) Adhesiveness (adhesiveness): evaluated by a cross-cut peel test in accordance with JIS Z1552.
(3) Pencil hardness: Pencil hardness was measured according to JIS K5400.
[比較例1]
実施例1で得られた(A1)を用いる代りに、ビスフェノールA・EO付加物のジアクリレート(大阪有機化学工業(株)製、V#700)を用いた以外は、実施例4と同様の条件で試料を作成し、評価を行なった。結果を表1に示す。
[Comparative Example 1]
Instead of using (A1) obtained in Example 1, the same as in Example 4 except that diacrylate (Osaka Organic Chemical Co., Ltd., V # 700) of bisphenol A / EO adduct was used. Samples were prepared under conditions and evaluated. The results are shown in Table 1.
[比較例2]
実施例1で得られた(A1)を用いる代りに、ネオペンチルグリコールジアクリレート(共栄社製、ライトアクリレートNP-A)を用いた以外は、実施例5と同様の条件で試料を作成し、評価を行なった。結果を表1に示す。
[Comparative Example 2]
A sample was prepared and evaluated under the same conditions as in Example 5 except that neopentyl glycol diacrylate (manufactured by Kyoeisha, Light Acrylate NP-A) was used instead of using (A1) obtained in Example 1. Was done. The results are shown in Table 1.
[実施例8〜10]
(A)成分として実施例2で得られたテトラヒドロキシビシクロヘキサンジアクリル酸エステル(A2)と、必要に応じて(B)成分を加え、加熱溶融して液状にし、これにラジカル開始剤として過酸化ベンゾイル、ナフテン酸マンガンを加えて混合し、表2に示す組成(単位:重量部)の硬化性樹脂組成物を得た。これを、テフロン(登録商標)製の型に注ぎ入れ、100℃のオーブン中で30分間、次いで170℃で1時間加熱し、熱硬化させた。得られた成形体を用い、次の項目について評価を行なった。結果を表2に示す。
(1)鉛筆硬度:JIS K5400に準じ測定した。
(2)Tg(TMA):JIS 7196に準じ測定した。
(3)可視光線透過率:分光光度計(日立製作所製U−2000)により800〜380nmの範囲で測定を行なった。
[Examples 8 to 10]
As the component (A), the tetrahydroxybicyclohexanediacrylate (A2) obtained in Example 2 and the component (B) as necessary are added, heated and melted to form a liquid, and this is used as a radical initiator. Benzoyl oxide and manganese naphthenate were added and mixed to obtain a curable resin composition having the composition (unit: parts by weight) shown in Table 2. This was poured into a mold made of Teflon (registered trademark), heated in an oven at 100 ° C. for 30 minutes, and then at 170 ° C. for 1 hour to be thermally cured. Using the obtained molded body, the following items were evaluated. The results are shown in Table 2.
(1) Pencil hardness: measured according to JIS K5400.
(2) Tg (TMA): Measured according to JIS 7196.
(3) Visible light transmittance: Measurement was performed in the range of 800 to 380 nm with a spectrophotometer (U-2000, manufactured by Hitachi, Ltd.).
[比較例3]
実施例2で得られた(A2)を用いる代りに、ネオペンチルグリコールジアクリレート(共栄社製、ライトアクリレートNP-A)を用いた以外は、実施例8と同様の条件で試料を作成し、評価を行なった。結果を表2に示す。
[Comparative Example 3]
Instead of using (A2) obtained in Example 2, a sample was prepared and evaluated under the same conditions as in Example 8 except that neopentyl glycol diacrylate (manufactured by Kyoeisha, Light Acrylate NP-A) was used. Was done. The results are shown in Table 2.
Claims (8)
CH2=CR−COO−X−OCO−CR=CH2 (I)
(式中、Rは水素原子又はメチル基を表し、二つのRは同じでも異なってもよい。Xは下記式 (II)で表される二価のビシクロヘキシレン基である。)
CH 2 = CR-COO-X -OCO-CR = CH 2 (I)
(In the formula, R represents a hydrogen atom or a methyl group, and two Rs may be the same or different. X represents a divalent bicyclohexylene group represented by the following formula (II).)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004054350A JP4498769B2 (en) | 2004-02-27 | 2004-02-27 | Tetrahydroxybicyclohexane di (meth) acrylic acid esters, compositions thereof, and cured molded bodies |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004054350A JP4498769B2 (en) | 2004-02-27 | 2004-02-27 | Tetrahydroxybicyclohexane di (meth) acrylic acid esters, compositions thereof, and cured molded bodies |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005239673A JP2005239673A (en) | 2005-09-08 |
| JP4498769B2 true JP4498769B2 (en) | 2010-07-07 |
Family
ID=35021778
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004054350A Expired - Fee Related JP4498769B2 (en) | 2004-02-27 | 2004-02-27 | Tetrahydroxybicyclohexane di (meth) acrylic acid esters, compositions thereof, and cured molded bodies |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4498769B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4563053B2 (en) * | 2004-03-08 | 2010-10-13 | ダイセル化学工業株式会社 | Poly (meth) acrylate resin, method for producing the same, and curable resin composition |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61213204A (en) * | 1985-03-19 | 1986-09-22 | Sanyo Kokusaku Pulp Co Ltd | Ultraviolet-curable resin composition |
| JP3583843B2 (en) * | 1995-11-24 | 2004-11-04 | 本州化学工業株式会社 | Unsaturated carboxylic diester of bicyclohexyl-4,4'-diol |
| JP4454101B2 (en) * | 2000-05-25 | 2010-04-21 | 株式会社Adeka | Novel alicyclic epoxy resin, process for producing the same, and curable resin composition containing the resin |
| JP4743736B2 (en) * | 2001-08-31 | 2011-08-10 | 株式会社Adeka | Optical three-dimensional modeling resin composition and optical three-dimensional modeling method using the same |
-
2004
- 2004-02-27 JP JP2004054350A patent/JP4498769B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2005239673A (en) | 2005-09-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6093766B2 (en) | Photopolymerizable unsaturated resin, photosensitive resin composition containing the same, and light shielding spacer and liquid crystal display device formed therefrom | |
| JP4847006B2 (en) | New fluorene-containing resin | |
| JP5685803B2 (en) | Radiation-sensitive resin composition, spacer for liquid crystal display element and production method thereof | |
| JP2004083855A (en) | Fluorene-containing resin | |
| JP2016071359A (en) | Photosensitive resin composition for touch panel, cured film thereof, and touch panel having the cured film | |
| US8178279B2 (en) | Negative radiation-sensitive resin composition | |
| JPWO2012050201A1 (en) | Photosensitive resin composition and method for producing the same | |
| JP2019133196A (en) | Photosensitive resin composition containing silica sol and cured product using the same | |
| JP4530565B2 (en) | Monoacrylate fluorene compound, composition containing the compound, and cured product thereof | |
| JP2024174046A (en) | Method for manufacturing substrate with cured film, substrate with cured film, photosensitive resin composition, cured film obtained by curing the photosensitive resin composition, and display device having the cured film or substrate with the cured film | |
| JP2000119472A (en) | Thermosetting resin composition | |
| JP6234065B2 (en) | Photosensitive resin composition for forming touch panel insulating film and touch panel obtained using the same | |
| JP4353009B2 (en) | Photocurable resin composition | |
| JP4498769B2 (en) | Tetrahydroxybicyclohexane di (meth) acrylic acid esters, compositions thereof, and cured molded bodies | |
| KR20150122597A (en) | Resin composition for trasparent plastic substrate | |
| JP2016103015A (en) | Photosensitive resin composition for forming insulation film and/or protective film of touch panel, and cured film and touch panel using the same | |
| JP5625280B2 (en) | Curable resin composition, cured product thereof, and plastic lens | |
| TW201900710A (en) | Alkali soluble resin | |
| JP4216009B2 (en) | Fluorene-containing resin | |
| JP2009203344A (en) | Thermosetting resin composition, method for producing color filter protective film, and color filter protective film | |
| JP2002105168A (en) | Epoxyacrylate resin and resin composition containing the resin | |
| JP5517022B2 (en) | Condensed ring structure-containing alcohol compound | |
| JP2005154543A (en) | Transparent resin material | |
| TWI306463B (en) | Resin composition containing fluorene | |
| JP4563053B2 (en) | Poly (meth) acrylate resin, method for producing the same, and curable resin composition |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20050912 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20050815 |
|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20051017 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051021 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060912 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20070704 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100127 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100202 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100325 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100413 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100414 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130423 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130423 Year of fee payment: 3 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130423 Year of fee payment: 3 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130423 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140423 Year of fee payment: 4 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |