JP4544150B2 - Near-field optical probe - Google Patents
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Description
本発明は、表面分析などに使用可能な近接場光プローブに関する。 The present invention relates to a near-field optical probe that can be used for surface analysis and the like.
表面ナノ化学構造解析に有効な近接場分光(赤外、ラマン、蛍光)は、高い空間分解能を得ることができる点が特徴である。具体的には、図7に示すように、プローブ先端100に向けて赤外光IRを照射すると、プローブ先端100から照射光波長より小さい範囲に近接場光が発生する。これを試料200に照射し、試料からの反射光Rを検出器で分光分析することで、散乱型の近接場分光分析が可能となる。近接場分光分析はより精密な表面分析が可能である点で非常に有用性が高い。
Near-field spectroscopy (infrared, Raman, fluorescence) effective for surface nanochemical structural analysis is characterized by high spatial resolution. Specifically, as shown in FIG. 7, when infrared light IR is irradiated toward the
しかし、実際は図8に示すように、赤外光IRが照射されたプローブ先端100の側面では、この照射光の乱反射により、試料200からの反射光Rを効率よく検出できない。そのため、理論通りの分解能を得ることが難しいといわれている。これは、図9に示すようにプローブ先端の径が大きくなるほど顕著で、実測値との誤差が大きくなってしまう。
However, actually, as shown in FIG. 8, the reflected light R from the
そこで、プローブの先鋭化により空間分解能の向上を図ることが提案されている(例えば、特許文献1および2参照)。しかし、プローブの先鋭化のみにより空間分解能の向上を図ろうとしても、多少の改善は見られるものの、依然、理論値通りの空間分解能を得ることができない。
本発明は、上記従来の問題を解決することを目的とする。すなわち、本発明は、理論値に近い空間分解能を実現させることが可能な近接場光プローブを提供することを目的とする。 An object of the present invention is to solve the above-described conventional problems. That is, an object of the present invention is to provide a near-field optical probe capable of realizing a spatial resolution close to a theoretical value.
上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、本発明者らは、理論値に近い空間分解能を得られない原因が、下記のような現象にあると考えた。すなわち、近接場赤外分光法は、外部光源からプローブ先端に光を照射するといった散乱型システムを採用しているため、プローブ側面で照射光が反射し、これがプローブ先端近傍の試料表面に当たることで、空間分解能が低下すると推察した。そして、かかる推察をもとに、本発明者らは、下記本発明に想到し当該課題を解決できることを見出した。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have considered that the following phenomenon is the cause of failure to obtain a spatial resolution close to the theoretical value. In other words, the near-field infrared spectroscopy employs a scattering system that irradiates light to the probe tip from an external light source, so that the irradiated light is reflected by the side of the probe and hits the sample surface near the probe tip. I guessed that the spatial resolution would decrease. And based on this guess, the present inventors came up with the following this invention, and discovered that the said subject could be solved.
すなわち、本発明は、先端のコア部に金属コート層が形成され、該先端における頂部以外の側面の前記金属コート層にナノホールもしくはナノグルーブが形成されていることを特徴とする散乱型近接場光プローブである。 That is, the present invention provides a scattered near-field light characterized in that a metal coat layer is formed on the core portion at the tip, and nanoholes or nanogrooves are formed in the metal coat layer on the side surface other than the top portion at the tip. It is a probe.
側面に照射された赤外光は、金属コート層にナノホールもしくはナノグルーブに到達すると、これらナノホールもしくはナノグルーブで反射・散乱する。反射・散乱した赤外光はプローブ先端近傍の試料表面には到達しなくなる。その結果、空間分解能の低下が抑制され、理論値に近い空間分解能を実現させることができる。 When the infrared light irradiated on the side surface reaches the nanohole or nanogroove on the metal coating layer, the infrared light is reflected and scattered by the nanohole or nanogroove. The reflected / scattered infrared light does not reach the sample surface near the probe tip. As a result, a decrease in spatial resolution is suppressed, and a spatial resolution close to the theoretical value can be realized.
特に、ナノグルーブ頂部(凸部)に当たった赤外光は、エバネッセント光として頂部を伝播し、プローブ先端で近接場光に変換されるため、近接場光発生効率をより向上させることができる。 In particular, since the infrared light hitting the nanogroove top (convex portion) propagates through the top as evanescent light and is converted into near-field light at the probe tip, the near-field light generation efficiency can be further improved.
本発明の近接場光プローブによれば、理論値に近い空間分解能を実現させることができる。 According to the near-field optical probe of the present invention, a spatial resolution close to the theoretical value can be realized.
以下、本発明の近接場光プローブを第1〜第3の実施形態に分けて説明する。 Hereinafter, the near-field optical probe of the present invention will be described by dividing it into first to third embodiments.
[第1の実施形態]
第1の実施形態に係る散乱型近接場光プローブは、その先端のコア部に金属コート層が形成され、該先端における頂部以外の側面の金属コート層にナノホールもしくはナノグルーブが形成されている。ここで、「先端」とは、近接場光プローブ末端、または先端方向(分析試料に向かう方向)でその径もしくは幅が小さくなる箇所から末端までをいう(後述の第2および第3の実施形態についても同様)。
[First Embodiment]
In the scattering near-field optical probe according to the first embodiment, a metal coat layer is formed on the core portion at the tip, and nanoholes or nanogrooves are formed on the metal coat layer on the side surface other than the top portion at the tip . Here, the “tip” refers to the end of the near-field optical probe, or from the position where the diameter or width decreases in the tip direction (direction toward the analysis sample) to the end (second and third embodiments described later). The same applies to.
コア部の材料としては、SiO2を使用することができる。金属コート層としては、Fe、Cr、Al、Ni、Au、Pt、およびAgからなる群から選択される少なくとも1種を含有する金属であることが好ましい。金属コート層の厚みは50〜500nmとすることが好ましい。金属コート層は真空蒸着法などにより形成することができる。 As the material for the core, SiO 2 can be used. The metal coat layer is preferably a metal containing at least one selected from the group consisting of Fe, Cr, Al, Ni, Au, Pt, and Ag. The thickness of the metal coat layer is preferably 50 to 500 nm. The metal coat layer can be formed by a vacuum deposition method or the like.
金属コート層にナノホールが形成されている近接場光プローブを図1に示す。近接場光プローブの先端部には、コア部10に形成された金属コート層12に複数のナノホール14が形成されている。このナノホール14に照射された赤外光は、ナノホール14の曲面で反射・散乱を繰り返し、プローブ先端近傍の試料表面に到達することがない。その結果、空間分解能の低下が抑制され、理論値に近い空間分解能を実現させることができる。
FIG. 1 shows a near-field optical probe in which nanoholes are formed in a metal coat layer. At the tip of the near-field optical probe, a plurality of
ナノホール14の開口部の形状は特に限定されない。ナノホール14の開口部における平均円相当径Xは、近接場光プローブ先端曲率直径Dの1/10〜1/2(または10nm〜2μm)であることが好ましい。ナノホール14の平均深さYは、上記開口部における平均円相当径Xの1/20〜1/4(または5nm〜1μm)であることが好ましい。
The shape of the opening of the
また、下記式(1)で求められるナノホール14の面積率は、5〜80%であることが好ましい。なお、下記式(1)中、nはナノホール14の数であり、Lは先端部の軸方向の長さである。
Moreover, it is preferable that the area ratio of the
式(1):面積率=nX2/4DL Formula (1): Area ratio = nX 2 / 4DL
平均円相当径や後述のナノグルーブ幅、平均深さ、および面積率は、SEM(走査型電子顕微鏡)により測定したい部分を真上から観察し、拡大倍率を勘案のうえ、測定すればよい。このようなナノホールの形成は、電子線もしくは(フェムト秒)レーザーを照射して行うことができる。 The average equivalent circle diameter, nanogroove width, average depth, and area ratio, which will be described later, may be measured by observing a portion to be measured with an SEM (scanning electron microscope) from directly above and taking the magnification into consideration. Such nanoholes can be formed by irradiating an electron beam or a (femtosecond) laser.
図2に、コア部10に形成された金属コート層12にナノグルーブ16が形成されている近接場光プローブを示す。当該近接場光プローブの先端には、螺旋状のナノグルーブ16が形成されている。ナノグルーブ16を形成することで、ナノホールを設けた場合と同様の効果が得られる。また、ナノグルーブ頂部(凸部)に当たった赤外光は、エバネッセント光として頂部を伝播し、プローブ先端で近接場光に変換されるため、近接場光発生効率をより向上させることができる。
FIG. 2 shows a near-field optical probe in which
ナノグルーブ16の平均幅Zは、近接場光プローブ先端曲率直径Dの1/20〜1/2(または5nm〜1μm)であることが好ましい。平均深さは、近接場光プローブ先端曲率直径Dの1/40〜1/4(または2nm〜1μm)であることが好ましい。
The average width Z of the
ナノグルーブの形成は、近接場光プローブの軸を中心に回転させながら電子線もしくは(フェムト秒)レーザーを照射して行うことができる。 The nanogroove can be formed by irradiating an electron beam or a (femtosecond) laser while rotating around the axis of the near-field optical probe.
なお、図2は、ナノグルーブ16が螺旋状に形成されているが、ナノグルーブ16を同心円状に複数設けた構成としてもよい。かかる構成は当該ナノグルーブ16の形成がしやすいという点で有意である。
In FIG. 2, the
ナノホールおよびナノグルーブの断面形状は、図3に示すように、半円形(図3(A))、V字形(図3(C))、および四角形(図3(B))といった多角形状など種々の形状とすることができるが、ナノホールもしくはナノグルーブでの反射・散乱効率をより高めることを考慮すると、少なくとも、図3(D)および(E)に示すように、開口部よりも深さ方向に向かって径が大きくなる大径部を有する形状とすることが好ましい。 As shown in FIG. 3, the cross-sectional shapes of the nanoholes and nanogrooves are various, such as a polygonal shape such as a semicircle (FIG. 3A), a V-shape (FIG. 3C), and a quadrangle (FIG. 3B). However, in consideration of further improving the reflection / scattering efficiency of the nanohole or nanogroove, at least as shown in FIGS. 3D and 3E, the depth direction is larger than the opening. It is preferable to have a shape having a large-diameter portion whose diameter increases toward.
[第2の実施形態]
第2の実施形態に係る近接場光プローブは、先端に金属球が設けられており、近接場光プローブ先端の幅方向断面の形状が円形もしくは扁平形状となっている。
[Second Embodiment]
In the near-field optical probe according to the second embodiment, a metal sphere is provided at the tip, and the shape of the cross-section in the width direction of the tip of the near-field light probe is circular or flat.
先端に設けられた金属球は、プローブ全体からは孤立した状態にあるため、側面からの赤外光反射の影響を無視することができる。その結果、空間分解能の低下が抑制され、理論値に近い空間分解能を実現させることができる。また、一方向ながら高い分解能と走査時のプローブ安定性(強度)を同時に確保することが可能となる。また、ほぼ金属球の球形に近い分解能を得ることができる。 Since the metal sphere provided at the tip is in an isolated state from the entire probe, the influence of infrared light reflection from the side surface can be ignored. As a result, a decrease in spatial resolution is suppressed, and a spatial resolution close to the theoretical value can be realized. In addition, it is possible to simultaneously ensure high resolution and probe stability (strength) during scanning in one direction. Also, a resolution close to that of a metal sphere can be obtained.
金属球の材質としては、その反射率や誘電率を考慮して、Fe、Cu、Al、Ni、Au、Pt、およびAgからなる群から選択される少なくとも1種を含有する金属であることが好ましい。金属球の直径は、50nm〜500nmであることが好ましい。 The material of the metal sphere is a metal containing at least one selected from the group consisting of Fe, Cu, Al, Ni, Au, Pt, and Ag in consideration of its reflectance and dielectric constant. preferable. The diameter of the metal sphere is preferably 50 nm to 500 nm.
近接場光プローブ先端の幅方向断面の形状が円形の場合の例を図4に示す。近接場光プローブ20の先端(末端)には、金属球22が設けられている。当該近接場光プローブ20は、照射光に対し断面積の小さいものを使用すること有意である点、および良好な剛性を保持する点を考慮して、多層カーボンナノチューブを使用することが好ましい。この多層カーボンナノチューブに金属球を設けるには、金属蒸気中でカーボンナノチューブを遠心回転させながらその一端に金属を凝縮させる方法を採用すればよい。
FIG. 4 shows an example in which the shape of the cross section in the width direction at the tip of the near-field optical probe is circular. A
また、近接場光プローブ先端の幅方向断面の形状が扁平形状の場合の例を図5に示す。図5(A)は、近接場光プローブ先端の正面図であり、図5(B)は近接場光プローブ先端の側面図である。図5に示す近接場光プローブ先端である扁平チップホールド部30に金属球22が設けられている。
FIG. 5 shows an example in which the shape of the cross section in the width direction at the tip of the near-field optical probe is a flat shape. FIG. 5A is a front view of the tip of the near-field optical probe, and FIG. 5B is a side view of the tip of the near-field optical probe. A
図5に示す扁平チップホールド部30の材質としては、Al、Cu、およびFeからなる群から選択される少なくとも1種を含有する金属であることが好ましい。断面形状としては、当該断面のアスペクト比が高ければ、楕円形の他、三角形や台形などの多角形でもよい。
As a material of the flat chip hold
扁平チップホールド部30の成形は、プレス加工により行うことができる。金属球の材質や直径、および金属球を付与する方法は、図4で説明した近接場光プローブの例と同様である。
The flat tip hold
[第3の実施形態]
第3の実施形態に係る近接場光プローブは、図5に示すように、第1の金属コート層(不図示)が形成された先端のコア部40に、さらに、赤外不活媒質を含有する媒質層42が、先端(末端)に向かって拡径した後さらに先端(末端)に向かって縮径するように形成され、縮径する領域の少なくとも一部に第2の金属コート層44が形成されている。そして、図6に示すように、近接場光プローブの先端は、わずかに赤外不活性媒質面から突出している。赤外不活性媒質面の上部は、第2の金属コート層44による金属被覆はなく凹面を形成している。実際の試料を測定する際には、最先端部ではなく、この凹面部に赤外線IRを照射する。
[Third Embodiment]
As shown in FIG. 5, the near-field optical probe according to the third embodiment further includes an infrared inactive medium in the
凹面に照射された赤外光IRは、媒質層42中を透過する。透過した赤外光IRはコア部で反射・散乱するが、より先端側に形成された媒質層42の外側に設けられた第2の金属コート層44によって、当該反射・散乱する赤外光がブロックされてプローブ先端近傍への赤外光の到達が防がれる。その結果、空間分解能の低下が抑制され、理論値に近い空間分解能を実現させることができる。
The infrared light IR irradiated on the concave surface is transmitted through the
また、ブロックされた赤外光は、有効にプローブ先端に送られることになるので、これらの赤外光は高効率で近接場光に変換される。その結果、近接場光の発生効率をより向上させることができる。 In addition, since the blocked infrared light is effectively sent to the probe tip, the infrared light is converted into near-field light with high efficiency. As a result, the generation efficiency of near-field light can be further improved.
第1の金属コート層(不図示)が形成された先端のコア部40としては、SiO2ファイバーにAu、Ag、Cr、Al、Pt、およびFeの少なくとも1種を含有する金属を被覆したものを使用することができる。
As the
赤外線不活媒質を構成する赤外線不活物質としては、KBr、TaBr(KRS−5)、ZnSe、Ge、およびCaFなどが挙げられる。そして、媒質層の平均厚みは、プローブの平均幅の同等以上で5倍程度以下とすることが好ましい。 Examples of the infrared inactive material constituting the infrared inactive medium include KBr, TaBr (KRS-5), ZnSe, Ge, and CaF. The average thickness of the medium layer is preferably not less than about 5 times the average width of the probe.
以上のような本発明の近接場光プローブは、分光分析装置や光記録装置のプローブとして利用することができるが、特に、分光分析装置に適用することが好ましい。当該分析装置としては、特開2005−227160号公報、特開2003−294618号公報、および特開2001−330546号公報に記載の装置などが挙げられる。 The near-field optical probe of the present invention as described above can be used as a probe for a spectroscopic analysis apparatus or an optical recording apparatus, but is particularly preferably applied to a spectroscopic analysis apparatus. Examples of the analyzer include the devices described in JP-A-2005-227160, JP-A-2003-294618, and JP-A-2001-330546.
10,40・・・コア部
12・・・金属コート層
14・・・ナノホール
16・・・ナノグルーブ
20・・・近接場光プローブ
22・・・金属球
30・・・扁平チップホールド部
42・・・媒質層
44・・・第2の金属コート層
100・・・プローブ先端
200・・・試料
D・・・曲率直径
X・・・平均円相当径
Y・・・平均深さ
Z・・・平均幅
IR・・・赤外光
R・・・反射光
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