JP4574868B2 - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4574868B2 JP4574868B2 JP2001004433A JP2001004433A JP4574868B2 JP 4574868 B2 JP4574868 B2 JP 4574868B2 JP 2001004433 A JP2001004433 A JP 2001004433A JP 2001004433 A JP2001004433 A JP 2001004433A JP 4574868 B2 JP4574868 B2 JP 4574868B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor device
- island
- inner lead
- semiconductor chip
- semiconductor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/01—Manufacture or treatment
- H10W72/0198—Manufacture or treatment batch processes
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/071—Connecting or disconnecting
- H10W72/0711—Apparatus therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/071—Connecting or disconnecting
- H10W72/0711—Apparatus therefor
- H10W72/07141—Means for applying energy, e.g. ovens or lasers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/071—Connecting or disconnecting
- H10W72/075—Connecting or disconnecting of bond wires
- H10W72/07521—Aligning
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/071—Connecting or disconnecting
- H10W72/075—Connecting or disconnecting of bond wires
- H10W72/07551—Connecting or disconnecting of bond wires characterised by changes in properties of the bond wires during the connecting
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/50—Bond wires
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/50—Bond wires
- H10W72/531—Shapes of wire connectors
- H10W72/536—Shapes of wire connectors the connected ends being ball-shaped
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/50—Bond wires
- H10W72/531—Shapes of wire connectors
- H10W72/5363—Shapes of wire connectors the connected ends being wedge-shaped
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W74/00—Encapsulations, e.g. protective coatings
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W90/00—Package configurations
- H10W90/701—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
- H10W90/751—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
- H10W90/756—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked lead frame, conducting package substrate or heat sink
Landscapes
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本願発明は、半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体装置としては種々の形態のものがあるが、たとえば面実装型として構成された半導体装置としては図11に示したようなものがある。この図に示した半導体装置9は、アイランド90に半導体チップ91が実装されており、この半導体チップ91と、アイランド90に対峙するインナーリード92との間がワイヤ93を介して接続されている。そして、半導体チップ91、ワイヤ93、およびアイランド90とインナーリード92の上面90a,92a側に樹脂パッケージ94が形成されている。アイランド90およびインナーリード92の下面90b,92bは、樹脂パッケージ94の底面94aから露出しており、それが外部接続用の端子となっている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
このような構成の半導体装置9では、互いに対峙するアイランド90とインナーリード92との間の放電を回避すべく、これらの間隔L6を一定以上確保しておく必要がある。また、面実装型として構成されたトランジスタなどの半導体装置9について言えば、半導体装置9のサイズに応じて、端子の数や大きさが一般に定格化されている。
【0004】
そのため、半導体装置9の大きさ(たとえば半導体装置9の一片長さL7)や樹脂パッケージ94の底面94aから露出する端子の面積(たとえば端子の一辺長さL8)を定格化された通りに確保する場合に、図11に示したようにインナーリード92側の部分を直線的に貫通させれば、自ずとアイランド90の面積(アイランドの一辺長さL9)を小さくしなければならない。その結果、アイランド90に搭載される半導体チップ91のサイズ(半導体チップの一辺長さL10)が制約されてしまうといった問題が生じる。
【0005】
本願発明は、このような事情のもとに考えだされたものであって、固定化された半導体装置サイズおよび端子サイズにおいて、アイランドの面積を大きく確保して、アイランドに搭載できるチップサイズの制約を小さくすることを課題としている。
【0006】
【発明の開示】
本願発明では、上記した課題を解決すべく、次の技術的手段を講じている。
【0007】
すなわち、本願発明により提供される半導体装置は、同じ側に面する表面と、その反対側の裏面とをそれぞれが有するとともに、空間を介して対峙するアイランドおよびインナーリードと、上記アイランドの表面に搭載された半導体チップと、この半導体チップと上記インナーリードの表面との間を接続するワイヤと、上記半導体チップおよび上記ワイヤを封止する樹脂パッケージと、を備えた半導体装置であって、上記アイランドは、上記インナーリードと対峙する部位における裏面が表面に比べて厚み方向に大きく凹入し、上記インナーリードは、上記アイランドに対峙する部位における表面が裏面に比べて厚み方向に大きく凹入していることを特徴としている。
【0009】
好ましい実施の形態においては、上記アイランドおよび上記インナーリードの裏面は、上記樹脂パッケージから露出している。
【0010】
本願発明によれば、アイランドにおけるインナーリードと対峙する端部の裏面が、表面に比べて厚み方向に大きく凹入し、インナーリードにおけるアイランドに対峙する端部の表面が、裏面に比べて厚み方向に大きく凹入した半導体装置が提供される。つまり、アイランドおよびインナーリードの相互に対峙する端部に着目すれば、表面側(上層)についてはアイランド側がインナーリード側にせりだすとともにインナーリード側がアイランド側から退避した格好とされており、裏面側(下層)についてはインナーリード側がアイランド側にせりだすとともにアイランド側がリード側から退避した格好とされている。
【0011】
そのため、半導体チップが搭載されるアイランド表面の面積を大きく確保しつつも、外部接続用端子となるインナーリード裏面の面積を大きく確保できる。したがって、本願発明では、同一サイズの半導体装置において、外部接続用端子を定格化された通りに確保しつつも、従来よりも大きな半導体チップをアイランドに搭載できるようになる。その結果、アイランドに搭載できるチップサイズの制約が小さくなる。
【0012】
本願発明のその他の利点および特徴については、以下に行う発明の実施の形態の説明から、より明らかとなるであろう。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、本願発明の好ましい実施の形態について、図面を参照して具体的に説明する。
【0014】
図1は本願発明に係る半導体装置の一例を示す全体斜視図、図2は図1の半導体装置の底面図、図3は図1のIII−III線に沿う断面図である。
【0015】
図1ないし図3に示した半導体装置Xは、外部接続用端子22a,31を4つ有する面実装型として構成されたものであり、半導体チップ1、アイランド2、2つのインナーリード3、2本のワイヤ4、および樹脂パッケージ5を有している。
【0016】
半導体チップ1は、トランジスタ素子などの半導体素子であり、上面10および下面11のそれぞれに電極(図示略)が形成されている。半導体チップ1は、下面11側の電極がアイランド2と導通するように、半導体チップ1の下面11がアイランド2の表面20に対して、導電性接着剤や金属ペーストを用いて接合されている。
【0017】
アイランド2は、表面20に半導体チップ1が搭載されるために表面20が平坦面とされているのに対して、裏面側21は横並びした2つの膨出部22が設けられて凹凸状とされている。このような膨出部22は、膨出部22を形成すべき領域以外をアイランド2を裏面側からハーフエッチすることにより形成される。このアイランド2は、空間6を介してインナーリード3と対峙している。アイランド2におけるインナーリード3と対峙する端部23は、表面20が平坦面とされているとともに、膨出部22に比べて肉薄とされている。つまり、端部23は、表面20側(上層)がインナーリード3側にむけてせりだし、裏面側21(下層)がインナーリード3から退避した格好とされている。
【0018】
2つのインナーリード3は、底面視長矩形状の形態とされており、図2に良く表れているように2つの膨出部22とともに矩形領域のコーナに配置された格好とされている。つまり、2つのインナーリード3は、幅方向に互いに横並びするとともに、長手方向の同一直線上に対応するが配置されている。各インナーリード3のアイランド2と対峙する端部30は、表面側が下方に大きく凹入して肉薄とされており、端部30の裏面側(下層)がアイランド2側にせりだし、表面側(上層)がアイランド2から退避した格好とされている。
【0019】
各ワイヤ4は、たとえば金などの金属製のものであり、半導体チップ1の上面10に形成された電極(図示略)とインナーリード3との間を接続している。このようなワイヤ接続は、既存のワイヤボンダーを用いて行うことができる。
【0020】
樹脂パッケージ5は、たとえばエポキシ樹脂などにより構成されており、半導体チップ1、アイランド2、各インナーリード3および各ワイヤ4を封止している。この樹脂パッケージ5の底面50からは、アイランド2における各膨出部22の裏面22a、および各インナーリード3の裏面31がそれぞれ露出しており、これらが外部接続用端子とされている。このような樹脂パッケージ5は、たとえばトランスファーモールド法により形成することができる。
【0021】
以上の構成を有する半導体装置Xでは、アイランド2およびイナンーリード3の相互に対峙する端部23,30に着目すれば、表面側(上層)についてはアイランド2側がインナーリード3側にせりだすとともにインナーリード3側がアイランド2側から退避した格好とされており、裏面側(下層)についてはインナーリード3側がアイランド2側にせりだすとともにアイランド2側がインナーリード3側から退避した格好とされている。
【0022】
そのため、アイランド2とインナーリード3との間の距離L1を一定以上確保しつつも、半導体チップ1が搭載されるアイランド2の表面20の面積(正確には図3の距離L2)を大きく確保し、かつ外部接続用端子となるインナーリード3の裏面31の面積(正確には図3の距離L3)を大きく確保できる。したがって、同一サイズ(正確には図3の距離L4が同一)の半導体装置Xにおいて、外部接続用端子22a,31の大きさを定格化された通りに確保しつつも、従来よりも大きな半導体チップ1をアイランド2に搭載できるようになる。その結果、アイランド2に搭載できるチップサイズ(正確には図3の距離L5)の制約が小さくなる。
【0023】
次に、上記半導体装置Xの製造方法の一例を図4ないし図10を参照して説明する。
【0024】
上記半導体装置Xは、たとえば図4および図5に示したリードフレーム7を用いて製造される。なお、図4および図5にはリードフレーム7の要部を示す平面図および底面図を示したが、これらの図においてクロスハッチィングを施した部分がエッチング処理を施していない部分、シングルハッチィングを施した部分がハーフエッチング処理を施した部分、白抜き部分は両面からエッチング処理を施して貫通した部分を表している。
【0025】
リードフレーム7には、一対のサイドメンバ70A,70Bおよび一対のクロスメンバ71A,71Bにより規定される枠内に、アイランド2およびリード3となるべき第1および第2部分72,73が複数形成されている。図4および図5に示したリードフレーム7では、一方のサイドメンバ70Aから他方のサイドメンバ70Bに向けて複数の第1部分72が横並びして延出し、他方のサイドメンバ70Bから一方のサイドメンバ70Aに向けて複数の第2部分73が横並びして延出している。各第1部分72と各第2部分73との間の領域には、第1部分72および第2部分73の双方に相当する部分を有する第3部分74が形成されている。
【0026】
各第1部分72は、表面72Aが平坦面とされているとともに、裏面72Bに一対の膨出部72aが設けられて凹凸状とされて、半導体装置Xのアイランド2と同様な形態とされている(図1ないし図3参照)。このような形態を有する各第1部分72は、一方のサイドメンバ70Aに対して一対の橋絡部75Aを介して繋げられ、隣合う第1部分どうしは橋絡部75Bを介して繋げられ、最端に位置する第1部分72は橋絡部75Cを介してクロスメンバ71A,71Bに繋げられている。これらの橋絡部75A,75B,75Cは、それぞれ裏面側からハーフエッチング処理が施されて薄肉状とされている。
【0027】
各第2部分73は、全体としてインナーリード3と同様な形態とされており(図1ないし図3参照)、2個を一組みとして第3部分74に対峙している。各第2部分73は、第3部分74に対峙する端部73aが表面側からハーフエッチング処理されて肉薄とされており、反対側がサイドメンバ70Bに対して橋絡部75Dを介して繋げられている。この橋絡部75Dも、裏面側からハーフエッチング処理が施されて薄肉状とされている。
【0028】
各第3部分74は、裏面側からハーフエッチング処理された橋絡部75Eを介して、第1部分72と第2部分73とが繋げられた形態を有している。その結果、第3部分74の表面74Aは平坦面とされ、裏面74B側は4つの膨出部74aが形成されて凹凸状とされている。このような形態を有する第3部分74は、隣り合うものどうしが橋絡部75Fを介して相互に繋げられており、最端に位置するものがクロスメンバ71A,71Bに対して橋絡部75Gを介して繋げられている。
【0029】
このようなリードフレーム7では、図4および図5に一点鎖線で囲んだ領域が後において1個の半導体装置Xを構成する領域xとなる。そして、図6(a)〜(d)に示した各過程を経て製造される。
【0030】
リードフレーム7の製造に際しては、まず図6(a)および(b)に示したように、CuあるいはNi製などの金属板7′の表面7A′および裏面7B′のそれぞれに対してマスク8A,8Bを形成する。これらのマスク8A,8Bには、金属板7′におけるエッチング処理すべき領域に対応して開口80,81がそれぞれ設けられている。マスク8A,8Bは、たとえば金属板7′の表面7A′および裏面7B′に感光性樹脂層を形成した後に、露光・現像処理を施して開口80,81を設けることにより形成される。
【0031】
次いで、金属板7′の構成成分を溶解するエッチング液中にマスク8A,8Bを形成した金属板7′を浸漬することにより、図6(c)に示したように開口80,81に対応する部位をエッチング処理する。つまり、金属板7′おいて開口80,81を介して露出する部位はハーフエッチング処理されるが、一方の開口80の直下に他方の開口81が形成された部位は貫通する。そして、マスク8A,8Bを除去すれば、マスク8A,8Bの形態に対応して、図6(d)に示したように、全くエッチング処理されない部位、表面7A′あるいは裏面7B′の一方側からのみハーフエッチング処理がされた部位、および貫通した部位を有するリードフレーム7が得られる。
【0032】
このようにして製造されるリードフレーム7を用いる場合には、図7ないし図10を参照して説明する工程を経て、個々の半導体装置Xが得られる。
【0033】
まず、図7に示したように、リードフレーム7の第1部分72および第3部分74(後において半導体装置Xのアイランド2となるべき部位)に半導体チップ1を実装する。第1部分72および第3部分74には、予め導電性接着剤や金属ペーストが塗布されており、既存のチップマウンタの吸着コレットCにより半導体チップ1を移送して接着剤等の塗布領域に対して半導体チップ1を載置した後、接着剤等を固化させることにより半導体チップ1が第1部分72および第3部分74に接合される。
【0034】
次いで、図8に示したように、半導体チップ1の上面に形成された電極(図示略)とリードフレーム7の第2部分73あるいは第3部分74(半導体装置のインナーリード3となるべき部位)との間をワイヤ4を介して接続する。
【0035】
ワイヤ4による接続は、既存のワイヤボンダを用いて行うことができ、半導体チップ1に対して行うファーストボンディングと、第2部分73あるいは第3部分に対して行うセカンドボンディングとによって行われる。ファーストボンディングは、ワイヤボンダのキャピラリKに挿通されたワイヤ4の先端部をキャピラリKから突出させ、この部位をアーク放電や水素炎により溶融させてから半導体チップ1の電極パッドに圧し付けることにより行われる。セカンドボンディグは、キャピラリKからワイヤ4を引き出しつつ、キャピラリKを第2あるいは第3部分73,74に移動させ、キャピラリKの先端部をセカンドボンディング部位に圧し付けつつキャピラリKをスライドさせてワイヤ4を切断することにより行われる。
【0036】
続いて、図9に示したように半導体チップ1およびワイヤ4を樹脂により封止する。樹脂封止は、型締め状態においてキャビティ80を形成する上下の金型8A,8Bを用いて、各半導体装置形成領域x(図4および図5参照)に対して一括して行われる。具体的には、まず、上金型8Aおよび下金型8Bを型締めし、これらの金型8A,8Bにより形成されるキャビティ80内に半導体チップ1およびワイヤ4を一括して収容するとともにリードフレーム7を挟持した状態とする。次いで、キャビティ80内にエポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂を充填した後にこれを熱硬化させ、上下の金型8A,8Bを離型することにより樹脂パッケージ5′が形成される。
【0037】
もちろん、樹脂封止は、型締め状態において複数のキャビティを形成する金型を用いて、各半導体装置形成領域x毎に個別に行ってもよい。
【0038】
最後に、図10に示したように橋絡部75A〜75Gに対応する部分を沿って(図4および図5参照)、ダイヤモンドカッタDCなどを用いて切断することにより、図1ないし図3に示したような個々の半導体装置Xが得られる。
【0039】
なお、本実施形態においては、端子を4つ有する半導体装置Xを例にとって説明したが、本願発明の技術思想は、4端子型のものに限らず、その他の半導体装置についても適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本願発明に係る半導体装置の一例を示す全体斜視図である。
【図2】 図1の半導体装置の底面図である。
【図3】 図1のIII−III線に沿う断面図である。
【図4】 本願発明に係る半導体装置の製造に用いるリードフレームの一例を示す要部平面図である。
【図5】 図4のリードフレームの要部底面図である。
【図6】 図4および図5に示したリードフレームの製造方法を説明するための工程図である。
【図7】 図1ないし図3に示した半導体装置の製造工程におけるチップボンディング工程を説明するための断面図である。
【図8】 図1ないし図3に示した半導体装置の製造工程におけるワイヤボンディング工程を説明するための断面図である。
【図9】 図1ないし図3に示した半導体装置の製造工程における樹脂モールド工程を説明するための断面図である。
【図10】 図1ないし図3に示した半導体装置の製造工程におけるカッティング工程を説明するための断面図である。
【図11】 従来の半導体装置の一例を示す断面図である。
【符号の説明】
X 半導体装置
1 半導体チップ
2 アイランド
3 インナーリード
4 ワイヤ
5 樹脂パッケージ
6 空間(アイランドとインナーリードとの間の)
7 リードフレーム
72 第1部分(アイランドに相当する)
73 第2部分(リードに相当する)
Claims (13)
- 同じ側に面する表面と、その反対側の裏面とをそれぞれが有するとともに、空間を介して対峙するアイランドおよびインナーリードと、上記アイランドの表面に搭載された半導体チップと、この半導体チップと上記インナーリードの表面との間を接続するワイヤと、上記半導体チップおよび上記ワイヤを封止する樹脂パッケージと、を備えた半導体装置であって、
上記アイランドは、上記インナーリードと対峙する部位における裏面が表面に比べて厚み方向に大きく凹入し、上記インナーリードは、上記アイランドに対峙する部位における表面が裏面に比べて厚み方向に大きく凹入していることを特徴とする、半導体装置。 - 上記アイランドおよび上記インナーリードの裏面は、上記樹脂パッケージから露出している、請求項1に記載の半導体装置。
- 上記樹脂パッケージの裏面に露出する4つの外部接続用端子を有する、請求項2に記載の半導体装置。
- 面実装型である、請求項1ないし3のいずれかに記載の半導体装置。
- 上記インナーリードは、2つである、請求項1ないし4のいずれかに記載の半導体装置。
- 上記インナーリードは、それぞれ、上記ワイヤを介して上記半導体チップと接続されている、請求項5に記載の半導体装置。
- 上記半導体チップは、トランジスタ素子を有する、請求項1ないし6のいずれかに記載の半導体装置。
- 上記アイラントの裏面側には、膨出部が形成されており、この膨出部が上記樹脂パッケージの裏面に露出して上記外部接続用端子の一部を形成している、請求項3ないし7のいずれかに記載の半導体装置。
- 上記膨出部は、2つ形成されている、請求項8に記載の半導体装置。
- 上記アイランドにおける上記インナーリードと対峙する端部は、表面が平坦面とされているとともに、上記膨出部に比べて肉薄とされている、請求項8または9に記載の半導体装置。
- 上記インナーリードは、底面視長矩形状である、請求項5に記載の半導体装置。
- 上記2つのインナーリードは、当該半導体装置の平面視矩形領域のコーナに配置されている、請求項5または11に記載の半導体装置。
- 上記ワイヤは、金属製のものであり、上記半導体チップの上面に形成された電極と上記インナーリードの表面との間を接続している、請求項1ないし12のいずれかに記載の半導体装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001004433A JP4574868B2 (ja) | 2001-01-12 | 2001-01-12 | 半導体装置 |
| US10/044,231 US6734536B2 (en) | 2001-01-12 | 2002-01-11 | Surface-mounting semiconductor device and method of making the same |
| US10/786,403 US6989585B2 (en) | 2001-01-12 | 2004-02-23 | Surface-mounting semiconductor device and method of making the same |
| US11/256,553 US7238549B2 (en) | 2001-01-12 | 2005-10-21 | Surface-mounting semiconductor device and method of making the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001004433A JP4574868B2 (ja) | 2001-01-12 | 2001-01-12 | 半導体装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002208664A JP2002208664A (ja) | 2002-07-26 |
| JP4574868B2 true JP4574868B2 (ja) | 2010-11-04 |
Family
ID=18872625
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001004433A Expired - Lifetime JP4574868B2 (ja) | 2001-01-12 | 2001-01-12 | 半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4574868B2 (ja) |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101037246B1 (ko) | 2004-10-18 | 2011-05-26 | 스태츠 칩팩, 엘티디. | 멀티 칩 리드 프레임 패키지 |
| JP2010067955A (ja) * | 2008-08-13 | 2010-03-25 | Seiko Instruments Inc | 半導体装置およびその製造方法 |
| WO2011122665A1 (ja) | 2010-03-30 | 2011-10-06 | 大日本印刷株式会社 | Led用リードフレームまたは基板、半導体装置、およびled用リードフレームまたは基板の製造方法 |
| US8933548B2 (en) * | 2010-11-02 | 2015-01-13 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Lead frame for mounting LED elements, lead frame with resin, method for manufacturing semiconductor devices, and lead frame for mounting semiconductor elements |
| JP6209826B2 (ja) * | 2013-02-22 | 2017-10-11 | 大日本印刷株式会社 | リードフレーム、樹脂付きリードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体 |
| JP6052734B2 (ja) | 2013-03-18 | 2016-12-27 | Shマテリアル株式会社 | 半導体素子搭載用リードフレーム及びその製造方法 |
| JP6352009B2 (ja) * | 2013-04-16 | 2018-07-04 | ローム株式会社 | 半導体装置 |
| JP6026397B2 (ja) * | 2013-12-10 | 2016-11-16 | 大日本印刷株式会社 | 樹脂付リードフレームの製造方法 |
| JP5817894B2 (ja) * | 2014-07-18 | 2015-11-18 | 大日本印刷株式会社 | リードフレームおよびその製造方法、ならびに半導体装置およびその製造方法 |
| JP6115836B2 (ja) * | 2015-03-10 | 2017-04-19 | 大日本印刷株式会社 | 樹脂付リードフレーム、リードフレーム、半導体装置および樹脂付リードフレームの製造方法 |
| JP6065081B2 (ja) * | 2015-10-01 | 2017-01-25 | 大日本印刷株式会社 | リードフレームおよびその製造方法、ならびに半導体装置およびその製造方法 |
| JP6115671B2 (ja) * | 2016-04-12 | 2017-04-19 | 日亜化学工業株式会社 | リードフレーム、樹脂付きリードフレーム、光半導体装置 |
| CN107799498A (zh) | 2016-09-06 | 2018-03-13 | 精工半导体有限公司 | 半导体装置的制造方法 |
| JP2017076806A (ja) * | 2016-11-28 | 2017-04-20 | 大日本印刷株式会社 | 樹脂付リードフレーム、リードフレーム、半導体装置および樹脂付リードフレームの製造方法 |
| JP7073637B2 (ja) * | 2017-06-16 | 2022-05-24 | 大日本印刷株式会社 | リードフレームおよび半導体装置 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63210284A (ja) * | 1987-02-26 | 1988-08-31 | Nippon Fuirukon Kk | エツチング方法 |
| JPH02105559A (ja) * | 1988-10-14 | 1990-04-18 | Toppan Printing Co Ltd | リードフレームおよびその製造方法 |
| JPH06232305A (ja) * | 1993-02-05 | 1994-08-19 | Toshiba Corp | リ−ドフレ−ムの製造方法 |
| JP2902918B2 (ja) * | 1993-11-25 | 1999-06-07 | 三洋電機株式会社 | 表面実装型半導体装置 |
-
2001
- 2001-01-12 JP JP2001004433A patent/JP4574868B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2002208664A (ja) | 2002-07-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6410979B2 (en) | Ball-grid-array semiconductor device with protruding terminals | |
| JP4574868B2 (ja) | 半導体装置 | |
| JP2875139B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| US6225146B1 (en) | Lead frame, method of manufacturing lead frame, semiconductor device and method of manufacturing semiconductor device | |
| JP3704304B2 (ja) | リードフレーム及びその製造方法並びに該リードフレームを用いた半導体装置の製造方法 | |
| JP2001036000A (ja) | チップサイズスタックパッケージ及びメモリモジュールとその製造方法 | |
| JPH11195742A (ja) | 半導体装置及びその製造方法とそれに用いるリードフレーム | |
| US6893898B2 (en) | Semiconductor device and a method of manufacturing the same | |
| JP2000294715A (ja) | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 | |
| KR20040100997A (ko) | 반도체 장치 및 그 제조 방법 | |
| JP3839178B2 (ja) | 半導体装置 | |
| JP3540793B2 (ja) | 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法 | |
| JP3072291B1 (ja) | リ―ドフレ―ムとそれを用いた樹脂封止型半導体装置およびその製造方法 | |
| JP2004247613A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
| CN222720429U (zh) | 混合四方扁平无引线qfn和四方扁平封装qfp集成电路封装 | |
| JP2021170679A (ja) | 半導体装置 | |
| CN217507315U (zh) | 半导体器件和引线框 | |
| US20020048851A1 (en) | Process for making a semiconductor package | |
| JP2000150725A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
| JPH10303350A (ja) | リードフレーム | |
| JPH11233709A (ja) | 半導体装置およびその製造方法ならびに電子装置 | |
| JPH08130267A (ja) | 樹脂封止型半導体パッケージ、それを用いた樹脂封止型半導体装置およびその製造方法 | |
| JP2001196401A (ja) | 半導体装置の樹脂パッケージ形成方法 | |
| JP2010056325A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
| JPH0366150A (ja) | 半導体集積回路装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071228 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100517 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100525 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100726 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100817 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100819 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4574868 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130827 Year of fee payment: 3 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |