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JP4585206B2 - 基板の貼り合わせ方法及び貼り合わせ装置 - Google Patents
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JP4585206B2 - 基板の貼り合わせ方法及び貼り合わせ装置 - Google Patents

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Description

この発明は液晶表示パネルなどのように2枚の基板を貼り合わせる基板の貼り合わせ方法及び貼り合わせ装置に関する。
周知のように液晶表示パネルの製造に際しては、2枚の透明な基板を、シール剤によって貼り合わせるとともに、これら基板間に液状物質である液晶を介在させる、基板の組立てが行なわれる。
従来、2枚の基板を組立てるには、一方の基板に粘弾性材からなるシール剤を矩形枠状に塗布する工程と、一方若しくは他方の基板に所定量の液晶を滴下する工程と、上記2枚の基板を減圧雰囲気下で上記シール剤によって貼り合わせる工程とによって行なわれている。
貼り合わされる2枚の基板の間隔をμmオーダで確保するため、その間隔にはスペーサが設けられる。スペーサとしては、一方の基板の内面(貼り合される面)に粒径が数μmの球形樹脂を散布するボールスペーサや一方の基板の内面に高さが数μmの突起を設けるフォトスペーサなどが知られている。
2枚の基板を貼り合わせる場合、まず、2枚の基板を所定間隔で離間させて撮像し、その撮像結果に基いてこれら基板を粗位置合わせする。ついで、2枚の基板を上記シール剤によって貼り合わせ、その状態でさらに2枚の基板を撮像し、その撮像結果に基いて一方の基板を所定方向に所定量移動させることで、2枚の基板を精密位置合わせするということが行なわれている。その場合の基板の移動量は、撮像結果から求められたずれ量と等しくしている。
貼り合わされた2枚の基板を精密位置合わせする場合、一方の基板を移動させると、その基板の移動にスペーサが連動することになる。スペーサがボールスペーサの場合、基板の移動によって転動するため、基板間に作用する摩擦抵抗が比較的小さくてすむ。しかしながら、スペーサがフォトスペーサの場合、そのスペーサが基板に対して面接触状態で摺接するため、摩擦抵抗が大きくなる。
基板間の摩擦抵抗が大きいと、移動側の基板を所定量移動さる際、移動させる基板に作用する摩擦抵抗がその基板を保持した保持力よりも大きくなることがある。その場合、基板の保持手段を撮像結果に基くずれ量に等しい移動量で移動させても、基板の実際の移動量はずれ量よりも小さくなるから、2枚の基板の位置合わせを高精度に行なうことができない。
そのため、2枚の基板を許容精度内に精密に位置合わせするためには、上述した位置合わせ作業を多数回にわたって行なわなければならなくなるため、生産性の低下を招くということがある。
しかも、撮像結果に基く2枚の基板の位置ずれ量が小さい場合には、その小さな位置ずれ量に応じて基板を移動させても、実際には摩擦抵抗によって基板がずれを補正される方向に移動しないことがあるため、そのような場合には精密位置合わせ困難なことがある。
この発明は、貼り合わされた2枚の基板の位置合わせを迅速に、しかも精密に行なうことができるようにした基板の貼り合わせ方法及び貼り合わせ装置を提供することにある。
この発明は、シール剤又は液状物質を介して2枚の基板を接触させる工程と、
接触された2枚の基板の位置ずれ量を求める工程と、
上記位置ずれ量に補正係数を乗じた補正移動量で上記2枚の基板の少なくとも一方を移動させてこれら2枚の基板の位置ずれを補正する工程を具備し
接触された2枚の基板の位置ずれの補正を複数回にわたって行なう場合、上記補正係数をK、前回の基板の補正移動量をM、2枚の基板の前回のずれ量をδn、少なくとも一方の基板を補正移動量Mで移動させた後の今回のずれ量をδmとすると、
上記補正係数Kは、K=M/(δn−δm)であることを特徴とする基板の貼り合わせ方法にある。
この発明は、2枚の基板のどちらか一方に液状物質を封止するためのシール剤を塗布し、このシール剤によって上記2枚の基板を貼り合わせる貼り合わせ方法であって、
一方の基板と他方の基板とを上下方向に離間させて保持する工程と、
保持された2枚の基板を撮像しその撮像結果に基いてこれら2枚の基板の位置ずれ量を求める工程と、
上記位置ずれ量に基いて2枚の基板を位置合わせしその後これら基板を上記シール剤又は液状物質を介して接触させる工程と、
接触された2枚の基板を撮像しこれら2枚の基板の位置ずれ量を求める工程と、
接触された2枚の基板の位置ずれ量に補正係数を乗じた補正移動量で上記2枚の基板の少なくとも一方を移動させてこれら基板の位置ずれを補正する工程を具備し、
接触された2枚の基板の位置ずれの補正を複数回にわたって行なう場合、上記補正係数をK、前回の基板の補正移動量をM、2枚の基板の前回のずれ量をδn、少なくとも一方の基板を補正移動量Mで移動させた後の今回のずれ量をδmとすると、
上記補正係数Kは、K=M/(δn−δm)であることを特徴とする基板の貼り合わせ方法にある。
この発明は、2枚の基板のどちらか一方に液状物質を封止するためのシール剤を塗布し、このシール剤によって上記2枚の基板を貼り合わせる貼り合わせ装置であって、
一方の基板と他方の基板とをそれぞれ上下方向に離間させて保持するとともにこれら基板を相対的にX,Y,Z及びθ方向に駆動して上記2枚の基板を貼り合わせる保持装置と、
この保持装置によって保持された2枚の基板を撮像する撮像装置と、
この撮像装置の撮像結果に基いて2枚の基板の位置ずれ量を求めるとともに、この位置ずれ量に補正係数を乗じた補正移動量で上記2枚の基板の少なくとも一方を移動させてこれら基板の位置ずれを補正する制御装置を具備し、
上記制御装置は、上記補正係数をK、前回の基板の補正移動量をM、2枚の基板の前回のずれ量をδn、少なくとも一方の基板を補正移動量Mで移動させた後の今回のずれ量をδmとすると、
上記補正係数Kを、K=M/(δn−δm)の式に基いて算出することを特徴とする基板の貼り合わせ装置にある。
この発明によれば、シール剤又は液状物質を介して接触した2枚の基板のうちの一方を、他方の基板とのずれ量に補正係数を乗じた補正移動量で移動させるようにした。そのため、他方の基板との間の摩擦抵抗によってどちらか一方の基板と保持装置との間にずれが生じても、そのずれ量が補償されるため、2枚の基板の位置合わせを迅速かつ精密に行なうことが可能となる。
以下、図面を参照しながらこの発明の実施の形態を説明する。
図1乃至図6はこの発明の一実施の形態を示し、図1は液晶表示パネルの組立て装置1の概略的構成を示す説明図である。この組立て装置1は、シール剤の塗布装置2を有する。この塗布装置2には図6に示す液晶表示パネルPを構成する第1、第2の基板3,4のうちの一方である、第1の基板3が供給される。
上記塗布装置2は、第1の基板3が供給載置されるテーブル及びこのテーブルの上方に配置された塗布ノズル(ともに図示せず)を有し、この塗布ノズルが上記第1の基板3に対して相対的にX、Y及びZ方向に駆動されることで、この第1の基板3の内面には粘弾性材からなるシール剤5(図6に示す)が矩形枠状に塗布される。
シール剤5が塗布された第1の基板3は滴下装置7に供給される。この滴下装置7は第1の基板3が載置されるテーブル及びこのテーブルの上方に配置された滴下ノズル(ともに図示せず)を有し、この滴下ノズルが上記第1の基板3に対して相対的にX、Y及びZ方向に駆動される。それによって、この第1の基板3の内面のシール剤5によって囲まれた領域内に液状物質としての液滴状の液晶が所定の配置パターン、たとえば行列状に滴下供給される。
液晶が滴下された第1の基板3は貼り合わせ装置11に供給される。この貼り合わせ装置11には上記第1の基板3とともに上記第2の基板4が供給される。そして、上記第1の基板3と第2の基板4とが後述するごとく位置決めされて貼り合わされる。それによって、図6に示すように上記液晶8が一対の基板3,4間に充填された液晶表示パネルPが組立てられる。
貼り合わせ装置11は図2に示すようにチャンバ12を有する。このチャンバ12内は減圧ポンプ10によって所定の圧力、たとえば1Pa程度に減圧されるようになっている。チャンバ12の一側にはシャッタ13によって開閉される出し入れ口14が形成され、この出し入れ口14から上記第1の基板3と第2の基板4とが出し入れされるようになっている。
上記チャンバ12内には第1の保持テーブル15が設けられている。この第1の保持テーブル15は第1の駆動源16によってX、Y及びθ方向に駆動されるようになっているとともに、保持面15a(上面)にはシール剤5が塗布されるとともに液晶8が滴下された上記第1の基板3が、液晶8が滴下された内面(貼り合される面)を上方に向けて供給される。保持面15aに供給された第1の基板3は、外面(下面)がたとえば真空吸着などによって上記保持面15aに所定の保持力で保持される。
上記第1の保持テーブル15の上方には、第2の駆動源17によって第1の保持テーブル15に対して接離するZ方向に駆動される第2の保持テーブル18が配設されている。この第2の保持テーブル18の下面の保持面18aには、上記第2の基板4が外面(上面)を接触させて静電気力によって保持される。なお、上記第1の保持テーブル15と第2の保持テーブル18によって保持装置を構成している。
後述するごとく、上記チャンバ12内を減圧ポンプ10で減圧すると、真空吸着による第1の基板3の保持力が静電気による第2の基板4の保持力よりも小さくなる。なお、上記第2の基板4の内面(下面)には図6に示すようにスペーサSが形成されている。
第1の保持テーブル15の保持面15aに保持された第1の基板3と第2の保持テーブル18の保持面18aに保持された第2の基板4とは、四隅部がそれぞれ上記チャンバ12の下方に配設された4組の撮像装置21(2組のみ図示)によって撮像される。各撮像装置21は第1の撮像カメラ22と、この第1の撮像カメラ22よりも撮像倍率の高い第2の撮像カメラ23を有する。
各撮像装置21の第1、第2の撮像カメラ22,23は、X、Y及びZテーブルを有する位置決め装置24によってX、Y、及びZ方向に駆動されるようになっており、各位置決め装置24は上記チャンバ12の下方に配置された載置板25上に設置されている。
上記チャンバ12の底壁の少なくとも各位置決め装置24が対向する部位は透明窓26に形成されている。上記チャンバ12内に配置された第1の保持テーブル15の上記透明窓26に対応する部位は空洞部27に形成されている。この空洞部27は、第1の保持テーブル15の保持面15aに保持された第1の基板3の四隅部及びこの第1の基板3を介して上記第2の保持テーブル18の保持面18aに保持された第2の基板4の四隅部を上記第1、第2の撮像カメラ22,23によって撮像可能とする。
上記第1の基板3と第2の基板4との上記シール剤5よりも外方の四隅部には、図示しないがそれぞれ粗位置合わせマークと精密位置合わせマークとが設けられている。各基板3,4の粗位置合わせマークを一致させることで、第1の基板3と第2の基板4とを粗位置合わせすることができ、各基板の精密位置合わせマークを一致させることで、一対の基板3,4を精密に位置合わせすることができる。
なお、第1、第2の基板3,4を撮像するために、第1の保持テーブル15に空洞部27を形成したが、空洞部27を形成せずに、第1の保持テーブル15を全体を透光性の材料で形成してもよい。
図3に示すように、4組の第1の撮像カメラ22と第2の撮像カメラ23(図3では1組のみ図示)の撮像信号は画像処理部31に入力されて座標信号に変換処理される。画像処理部31で変換処理された座標信号は制御装置32に設けられた演算処理部33に入力される。この演算処理部33では4組の第1の撮像カメラ22と第2の撮像カメラ23とが撮像した第1、第2の基板3,4の四隅部の各一対の粗位置合わせマーク或いは精密位置合わせマークの座標から、これ基板3,4のX、Y及びθ方向の相対的な位置ずれ量を算出する。
上記演算処理部33によって一対の基板3,4の位置ずれ量が算出されると、その位置ずれ量が記憶部34に記憶される一方、駆動部35にも出力される。それによって、駆動部35は、第1の保持テーブル15を駆動する第1の駆動源16に駆動信号を出力し、上記第1の保持テーブル15をX方向、Y方向及びθ方向に駆動して第1の基板3と第2の基板4とを位置合わせする。
第1の基板3と第2の基板4との位置合わせは、第1の撮像カメラ22からの撮像信号に基く粗位置合わせと、第2の撮像カメラ23からの撮像信号に基く精密位置合わせとによって行なわれる。
粗位置合わせは、第1の基板3に対して第2の基板4を所定間隔で離間させた状態で行なわれ、精密位置合わせは第1の基板3に第2の基板4がシール剤5によって接触された状態で行なわれる。精密位置合わせを行なう場合、第2の基板4の内面にはスペーサSが突出している。
そのため、そのスペーサSと第1の基板3との摩擦抵抗が第1、第2の基板3,4の保持力よりも大きくなり、これら基板3,4がずれ動くことがある。この実施の形態では、第1の基板3を第1の保持テーブル15の保持面15aに真空吸着するようにしているので、チャンバ12内を減圧すると、第1の基板3の保持力が低下する。それによって、上記摩擦抵抗で第1の基板3が第1の保持テーブル15の保持面15a上でずれ動くことがある。
そこで、第2の撮像カメラ23の撮像信号によって第1の基板3と第2の基板4との位置ずれ量を求めたならば、第1の保持テーブル15によって第1の基板3を移動させる補正移動量を、上記位置ずれ量に1よりも大きな補正係数Kを乗じた値に設定して位置合わせを行ない、摩擦抵抗による第1の保持テーブル15に対する第1の基板3のずれにともなう位置合わせ精度の低下を補償するようにしている。
たとえば、第2の撮像カメラ23によって求めた第1の基板3と第2の基板4との位置ずれ量がδn(μm)の場合、その位置ずれ量δnに基いて第1の保持テーブル15の補正移動量をM(μm)として位置合わせした後、再度、第2の撮像カメラ23によって位置ずれ量を測定したところ、位置ずれ量がδm(μm)であった場合、上記補正係数Kは、
K=f(S) …(1)式
として設定される。なお、S=M/(δn−δm)である。
つまり、上記演算処理部33では第2の撮像カメラ23の撮像信号によって求められた第1、第2の基板3,4の位置ずれ量に上記補正係数Kを乗じた値が算出され、その算出結果に基いて駆動部35から上記第1の駆動源16に駆動信号が出力されることになる。
精密位置合わせが複数回にわたって行なわれる場合、第2の撮像カメラ23によって撮像されて演算処理部33で算出された一対の基板3,4の位置ずれ量は上記記憶部34に記憶される。
そのため、精密位置合わせを行なう毎に、上記記憶部34に記憶された前回の位置ずれ量δnを用いて上記(1)式に基く補正係数Kを算出することができる。
なお、上記制御装置32の駆動部35は、上記第2の駆動源17及び上記位置決め装置24に対しても駆動信号を出力するようになっている。
つぎに、上記構成の貼り合わせ装置11によって第1の基板3と第2の基板4とを貼り合わせる工程を図4と図5のフローチャートを参照して説明する。
まず、S1では第1の基板3が貼り合わせ装置11のチャンバ12内に図示しないロボットによって供給されて第1の保持テーブル15の保持面15aに吸着保持される。S2では、チャンバ12内に第2の基板4が供給され、第2の保持テーブル18の保持面18aに吸着保持される。第2の保持テーブル18が第2の基板4を保持すると、この第2の保持テーブル18が所定の高さまで下降した後、減圧ポンプ10が作動してチャンバ12内を減圧する。なお、シャッタ13は減圧ポンプ10の作動前に閉じられる。
チャンバ12内が所定の圧力まで減圧されると、S3では、第1の撮像カメラ22によって第1の基板3と第2の基板4との四隅部に設けられた粗位置合わせマークを撮像する。第1の撮像カメラ22の撮像信号は画像処理部31でデジタル信号に変換された後、演算処理部33に入力される。それによって、第1の基板3と第2の基板4との位置ずれ量が算出される。
S4では、上記演算処理部33で算出された位置ずれ量に基き、駆動部35から第1の駆動源16に駆動信号が出力され、第1の保持テーブル15がθ及びX、Y方向に駆動される。それによって、第1の基板3が第2の基板4に対して粗位置決めされる。
S5では、S4での粗位置決めに続いて第2の保持テーブル18が下降方向(近接方向)に駆動され、第1の保持テーブル15に保持された第1の基板3に第2の基板4がシール剤5を介して接触される。S6ではシール剤5を介して接触された第1、第2の基板3,4の四隅部の精密位置合わせマークを高倍率の第2の撮像カメラ23によって撮像する。このとき、第2の撮像カメラ23は位置決め装置24によって精密位置合わせマークを撮像できる位置に位置決めされる。
制御装置32では、第2の撮像カメラ23の撮像信号によって第1の基板3と第2の基板4との位置ずれ量が求められ、S7では第2の撮像カメラ23によって求められた位置ずれ量に応じた補正移動量で第1の基板3を位置ずれがなくなる方向に駆動する。その際、第1の基板3には、第2の基板4に形成されたスペーサSが摺接するため、その摩擦力によって第2の基板4よりも保持力の弱い第1の基板3が第1の保持テーブル15の保持面15a上で第1の保持テーブル15の移動方向と逆方向にずれ動いてしまうことがある。
したがって、S8では1回目の精密位置ずれ補正を行なったならば、第2の撮像カメラ23によって再度、第1、第2の基板3,4の精密位置合わせマークを撮像し、これらの基板3,4の位置ずれ量を測定する。
S8で第2の撮像カメラ23によって得られた撮像信号から位置ずれ量が測定されると、S9では、その位置ずれ量に基いて補正係数Kが求められ、その補正係数Kによって新たな補正移動量Mが算出される。
たとえば、補正前の位置ずれ量(前回のずれ量)δnが5μmで、最初の補正移動量Mを5μmに設定して第1の基板3の位置ずれ量を補正し、その補正後に測定した今回の位置ずれ量δmが4μmであったとすると、補正係数Kは、
K=5/(5−4)=5
となる。したがって、次回(2回目)の補正移動量Mは1回目の補正後に測定した位置ずれ量に補正係数Kを乗じた値となるから、その補正移動量Mは、
M=4×5=20(μm)
となる。
S10では2回目の補正移動を行なう。2回目の補正移動は、S9で算出された補正移動量Mに基いて第1の基板3を移動させる。つまり、2回目の精密位置合わせ時には、第1の基板3と第2の基板4との位置ずれ量が4μmであるのに対し、補正移動量を20μmとして位置合わせを行なう。
2回目の精密位置合わせ時にも、第2の基板4に形成されたスペーサSとの間の摩擦抵抗によって第1の基板3が第1の保持面15a上でずれ動く。しかしながら、第1の基板3の補正移動量Mは、精密位置合わせ時に第1の基板3が第1の保持面15a上でずれ動くずれ量を補償する値に設定されているから、第1の基板3を第2の基板4に対して高精度に位置決めすることができる。
理論上、S9で求められた補正移動量Mで第1の基板3を補正移動すれば、第1、第2の基板3,4を高精度に位置合わせすることができる。しかしながら、種々の条件によって第1の基板3の補正を2回行なうだけでは、第2の基板4に対する位置合わせ精度が十分に得られないことがある。
そこで、S11では2回目の位置合わせを行なった後、第2の撮像カメラ23によって第1、第2の基板3,4の精密位置合わせマークを再度撮像し、これらの基板3,4間に位置ずれがあるか否かを測定する。
仮に位置ずれがあった場合には、S12によって制御装置32の記憶部34に記憶された前回の測定時(2回目の測定)の位置ずれ量δnと、今回の測定(3回目)による位置ずれ量δm及び前回の補正移動量Mとから再度補正係数Kを求め、その補正係数Kに3回目に測定された位置ずれ量δmを乗じた補正移動量M1で第1の基板3を移動させて位置合わせを行なう。
たとえば、3回目の位置ずれ量δmが1μmであったとすると、前回の位置ずれ量δnは4μm、前回の補正移動量Mは20μmであるから、今回の補正係数Kは、
K=20/(4−1)≒6.67
となる。したがって、3回目の補正移動量Mは、
M=1×6.67≒6.67(μm)
となる。
S13では、S12で算出された補正移動量Mに基いて第1の基板3を移動させる。それによって、第1の基板3と第2の基板4とを精密に位置合わせすることが可能となる。
しかも、3回目の精密位置合わせでは、調整する位置ずれ量が1μmであり、2回目の位置ずれ量4μmに対して小さい。しかし、このときの第1の保持テーブル15の補正移動量Mは1μmの位置ずれ量に対して約6.67倍であるから、第1の基板3の位置ずれ量が小さくても、この第1の基板3を所定方向に確実に移動させることが可能となる。
第1の基板3と第2の基板4との位置合わせをさらに高精度に行ないたい場合には、上述した工程を複数回にわたって繰り返して行なえばよいが、通常、精密位置合わせは2回繰り返して行うことで高精度に位置合わせすることが可能である。しかし、3回行なえばより一層、高精度に高い位置合わせ精度を得ることができる。
すなわち、制御装置32の記憶部34に演算処理部33で算出された位置ずれ量を記憶させるようにしたため、この記憶部34に記憶された前回の位置ずれ量δnを使用して補正係数Kを算出することが可能となる。
なお、精密位置合わせを2回或いはそれ以上行なっても、最後に精密位置合わせを行なった後、第1の基板3と第2の基板4とに位置ずれがあるか否かを第2の撮像カメラ23によって確認する工程を設けてもよい。
第1の基板3と第2の基板4とは粘弾性剤からなるシール剤5を介して接触されている。そのため、第1の基板3を所定量ずらして位置決めしても、上記シール剤5の復元力によって第1の基板3が移動方向と逆方向に戻り、ずれが生じてしまうことがある。
そのため、シール剤5の弾力性による戻りが生じる虞がある場合、精密位置合わせ時における補正移動量を、上記シール剤5の戻りによって生じるずれ量を補償する値に設定する。たとえば、上記(1)式によって補正係数を求める際、今回のずれ量δmを、上記シール剤5の弾力性による戻り量を加えた値にすれば、位置合わせ後に第1の基板3がシール剤5の弾力性によって戻ることで、第1の基板3と第2の基板4とを精密に位置合わせすることができる。
精密位置合わせを行なうと、上述したように第1の基板3が第1の保持テーブル15の保持面15a上で、第1の保持テーブル15の移動方向と逆方向にずれることがある。第1の基板3がずれ動くと、第1の基板3に形成された精密位置合わせマークが第2の撮像カメラ23の視野から外れることが考えられる。
したがって、第1の基板3と第2の基板4とを精密位置合わせする場合、第1の保持テーブル15を所定の補正移動量Mで移動させながら、上記第2の撮像カメラ23をX、Y、Z方向に移動可能に支持した位置決め装置24によって第2の撮像カメラ23をその視野中心に保持テーブル18に保持された第2の基板4の精密位置合わせマークを位置させるように移動させる。このようにすることで、補正移動量Mでの保持テーブル15の移動完了後に、第2の撮像カメラ23の視野領域内において、第2の基板4の精密位置合わせマークの周囲には、少なくとも撮像カメラ23の視野範囲の半分の大きさの領域が存在することとなる。しかも、保持テーブル15が補正移動量Mの移動を完了した後は、2枚の基板3,4の精密位置合わせマーク間の相対距離は、補正移動量Mでの保持テーブル15の移動前に比べて短くなっていると考えられるので、そもそも第2の撮像カメラ23の視野範囲内に位置していた2枚の基板3,4の精密位置合わせマークが補正移動量Mによる移動後に視野範囲から外れることを極力防止することができる。
上記一実施の形態では、第1の基板の補正移動量を設定するための補正係数を、前回の基板の補正移動量、2枚の基板の前回の位置ずれ量、前回の補正移動量で第1の基板を移動させた後の今回の2枚の基板の位置ずれ量によって求めるようにしている。
しかしながら、2枚の基板を同一の条件によって貼り合わせるような場合には、最初に補正係数を設定したならば、以後、同一の補正係数によって補正移動量を決定し、位置合わせを行なうようにしてもよい。つまり、補正係数は、上記一実施の形態のようにその都度算出せず、予め設定された設定値であってもよく、その都度算出するか、設定値を用いるかは、基板の品質やロットに応じて決定すればよい。たとえば、基板の厚みのばらつきが大きい基板の場合、基板の厚みのばらつきの影響でその都度基板間に作用する摩擦力の大きさが変化することが考えられるので、補正係数をその都度算出するものとし、基板の厚みのばらつきが少ない品種の基板の場合、上述とは反対に基板間に作用する摩擦力の大きさはほぼ一定と考えられるので、補正係数を設定値とすればよい。したがって、これらを基板の品種やロットに応じて切換えて用いることも可能である。
このように、この第1の実施の形態の発明によれば、シール剤又は液状物質を介して接触した2枚の基板のうちの一方を、他方の基板とのずれ量よりも大きな補正移動量で移動させるようにした。
そのため、他方の基板との間の摩擦抵抗によってどちらか一方の基板と保持手段との間にずれが生じても、そのずれ量が補償されるため、2枚の基板の位置合わせを迅速かつ精密に行なうことが可能となる。
上記実施の形態では、求めた補正係数Kを第1、第2の基板3,4間の位置ずれ量にそのまま乗じる例であったが、それに代わって補正係数Kに下限値と上限値、或いはいずれか一方を設定し、求めた補正係数Kが下限値よりも小、または上限値よりも大となったときは、補正係数Kを下限値、または上限値の値としてもよい。
たとえば、補正係数Kの下限値を“3”、上限値を“8”とした場合、求めた補正係数がK=5であるなら、補正係数Kが上限値と下限値との間であるから、K=5をそのまま用いる。求めた補正係数がK=2であるなら、補正係数Kが下限値より小であるから、K=3とする。また、求めた補正係数がK=10であるなら、補正係数Kが上限値より大であるから、K=8とする。
このようにすることで、補正係数Kが小さすぎ、精密位置合わせ時に第1の基板3が第1の保持ステージ15の保持面15a上でずれ動くずれ量を補償しきれなかったり、反対に補正係数Kが大きすぎ、第1の基板3と保持面15aとの間のずれ量以上に第1の基板3を第2の基板4に対して移動させすぎてしまい、第1、第2の基板3,4間の位置ずれ量を増大させてしまったりする虞を防止することができる。
第1、第2の基板3,4間の位置ずれの大きさに応じて、予め設定された補正係数、または上記(1)式を用いて算出した補正係数のいずれかを選択することもできる。
たとえば、しきい値を設定しておき、上記位置ずれ量がしきい値よりも大であれば、記憶部34に予め設定されている補正係数を用い、上記位置ずれ量がしきい値以下であれば、上記(1)式の計算式を用いて補正係数を算出して用いる。
すなわち、第2の基板4に対する第1の基板3の補正移動量が増加するにつれて第1の基板3と第1の保持テーブル15の保持面15aとの間の位置ずれ量の増加の割合が減少する場合があることが実験により確認されている。
このような場合、たとえば、第2の基板4に対して第1の基板3を補正移動量5μmで移動させたときは、第1の基板3と保持面15aとの間に4μmの位置ずれが生じ、第1の基板3は第2の基板4に対して1μm程度しか移動しない。しかし、第2の基板4に対して第1の基板3を補正移動量が30μmで移動させたときは、第1の基板3と保持面15aとの間の位置ずれ量は5μm程度で、第1の基板3は第2の基板4に対して25μm程度移動するということになる。
したがって、第1、第2の基板3,4間の位置ずれ量が30μm程度のときに、上記(1)式を用いて求めた補正係数Kが“3”や“4”となった場合、この補正係数Kを用いて算出した補正移動量で第1の基板3を第2の基板4に対して移動させると、第1の基板3を第2の基板4に対して必要以上に補正移動させてしまう結果が起こり得る。
そこで、第1、第2の基板3,4間の位置ずれ量に対してしきい値(たとえば20μm)を設定し、位置ずれ量がしきい値を超えた場合には、記憶部34に予め設定された補正係数K(たとえばK=1.2)を用いて補正移動量を算出する。
このようにすることで、上述の場合でも、第1の基板3を第2の基板4に対して必要以上に補正移動させる不具合を防止して位置合わせを迅速に行なうことができる。
なお、第1、第2の基板3,4間の位置ずれ量の算出、位置ずれ量としきい値との比較、比較結果に基く選択、つまり設定された補正係数を用いるか、上記(1)式による補正係数を用いるかの選択は、制御装置32の演算処理部33で行なうことができる。
補正係数Kも求め方の別の例として以下の方法がある。つまり、過去の複数回分のデータに基いて補正係数Kを求める方法である。データとは補正係数、第1、第2の基板3,4間の位置ずれ、第1の基板3を第2の基板4に位置合わせするための補正移動量などが考えられる。
たとえば、過去5回分のデータを用いる場合には、第1、第2の基板3,4間の位置合わせ回数が6回までは上述した実施の形態と同じ要領、つまり1回目は補正係数を用いないで位置合わせを行なう。そして、7回目以降の位置合わせに際しては、第1、第2の基板3,4間の位置ずれを測定する毎に、上記実施の形態と同じ要領で新たに補正係数を求めるとともに、この補正係数と今回以前の過去5回分の各補正係数とを用いて補正係数の平均値を算出し、算出された補正係数の平均値を用いて補正移動量を算出すればよい。
なお、上記第1の実施の形態では、補正係数Kが1よりも大きな数値を用いる例で説明したが、1よりも小さな数値を用いてもよい。
すなわち、基板を保持テーブルに弾性部材を介して保持した場合、2枚の基板間の位置合わせを行なうときに基板間のシール剤や液晶等による接触抵抗によって弾性部材が位置合わせ方向である水平方向に弾性変形することがある。そして、変形した弾性性部材には復元力が生じ、この復元力は、両基板の位置合わせ中作用する。
そのため、位置合わせを複数回繰り返し、弾性部材の変形が蓄積され、しかも両基板間の補正移動量が小さくなったときには、1回の位置合わせが完了して基板間の位置ずれを再度検出するまでの間に、弾性部材の復元力によって両基板が相対的に移動し、補正移動量以上に基板が相対移動することも考えられる。そして、このように両基板が補正移動量以上に相対移動した場合には、上記(1)式によって求められた補正係数が、1よりも小さな数値となり得る。
また、上述を考慮して、基板間の位置合わせ回数や基板間の位置ずれ量にしきい値を設定し、位置合わせ回数がしきい値を超えたら、或いは基板間の位置ずれがしきい値以下になったときには、記憶部等に予め設定した1よりも小さな補正係数を用いるようにしてもよい。
上述した実施の形態では、第1、第2の基板3,4間の1回の位置合わせが完了する毎に、基板3,4間に位置ずれがあるか否かを測定するようにしたが、位置ずれがあるか否かに係わらず、基板3,4間の位置ずれが予め設定した許容値を外れているか否かを測定し、位置ずれが許容値を越えている場合にだけ再度、位置合わせを行なうようにしてもよい。
上述した説明では、第1の基板3を第2の基板4に対して位置合わせしたが、第1、第2の基板3,4の位置決めは相対的なものである。したがって、第2の基板4を第1の基板3に対して位置合わせしてもよい。
上記実施の形態では、2枚の基板の間にスペーサによる位置合わせ方向の摩擦力が作用する状態で行なわれる位置合わせでの位置ずれ補正の例で説明したが、2枚の基板が液晶のみを介して接触する状態での位置合わせや、2枚の基板が液晶とシール剤の両方に接触して重なった状態での位置合わせにも適用することができる。要するに、この発明は、2枚の基板の間に位置合わせ方向の摩擦力が作用する状態で行なわれる位置合わせであれば適用可能である。
また、上記一実施の形態では、第1の基板に液晶を予め滴下しておき、この第1の基板と第2の基板とを減圧されたチャンバ内で貼り合わせるようにしたが、2枚の基板を大気圧下で貼り合わせた後、これら基板間の隙間に液晶を注入して液晶表示パネルを製造する場合でも、この発明を適用することができる。
また、画像処理部を制御装置と別に設けたが、制御装置内に設けるようにしても差し支えない。
また、第1の保持テーブルに第1の基板を真空吸着で保持するようにしたが、第1の保持テーブルの保持面と第1の基板との間の摩擦力のみで保持するようにしてもよい。
また、真空減圧下のチャンバ内で2枚の基板を貼り合わせるため、貼り合わせ時には真空吸着された第1の基板の保持力が低くなり、第1の基板が第1の保持テーブル上でずれ動いたが、2枚の基板をともに静電気力で、しかもほぼ同じ保持力で保持するようにすれば、位置合わせ時にどちらかの基板がずれ動くことになるが、いずれの基板がずれ動いたとしても相対的なずれ量は同じになるから、その位置ずれ量に基いて補正移動量を算出すれば、上記実施の形態と同様、高精度に位置合わせする事が可能である。
なお、どちらか一方の基板の保持力を他方の基板の保持力よりも弱くしておけば、位置合わせ時にずれ動く基板を特定することが可能である。
また、第1の基板と第2の基板の2枚の基板を貼り合わせる例で説明したが、これに限られるものでなく、貼り合わされた2枚の基板にさらに一枚以上の他の基板をシール剤を用いて間に液晶を封入した状態で貼り合わせるものにもこの発明を適用することが可能である。
この発明の一実施の形態に係る液晶表示パネルの組立て装置の概略的構成を示す説明図。 2枚の基板を貼り合わせる貼り合わせ装置の断面図。 制御系統のブロック図。 2枚の基板を貼り合わせるときの工程の一部を示すフローチャート。 図4の続きの工程を示すフローチャート。 レジストパターンによってスペーサを形成した液晶表示パネルの一部を示す拡大断面図。
符号の説明
3…第1の基板、4…第2の基板、5…シール剤、8…液晶、11…貼り合わせ装置、15…第1の保持テーブル(保持装置)、18…第2の保持テーブル(保持装置)、21…撮像装置、22…第1の撮像カメラ、23…第2の撮像カメラ、31…画像処理部、32…制御装置、33…演算処理部、34…記憶部、35…駆動部。

Claims (9)

  1. シール剤又は液状物質を介して2枚の基板を接触させる工程と、
    接触された2枚の基板の位置ずれ量を求める工程と、
    上記位置ずれ量に補正係数を乗じた補正移動量で上記2枚の基板の少なくとも一方を移動させてこれら2枚の基板の位置ずれを補正する工程を具備し
    接触された2枚の基板の位置ずれの補正を複数回にわたって行なう場合、上記補正係数をK、前回の基板の補正移動量をM、2枚の基板の前回のずれ量をδn、少なくとも一方の基板を補正移動量Mで移動させた後の今回のずれ量をδmとすると、
    上記補正係数Kは、K=M/(δn−δm)であることを特徴とする基板の貼り合わせ方法。
  2. 2枚の基板のどちらか一方に液状物質を封止するためのシール剤を塗布し、このシール剤によって上記2枚の基板を貼り合わせる貼り合わせ方法であって、
    一方の基板と他方の基板とを上下方向に離間させて保持する工程と、
    保持された2枚の基板を撮像しその撮像結果に基いてこれら2枚の基板の位置ずれ量を求める工程と、
    上記位置ずれ量に基いて2枚の基板を位置合わせしその後これら基板を上記シール剤又は液状物質を介して接触させる工程と、
    接触された2枚の基板を撮像しこれら2枚の基板の位置ずれ量を求める工程と、
    接触された2枚の基板の位置ずれ量に補正係数を乗じた補正移動量で上記2枚の基板の少なくとも一方を移動させてこれら基板の位置ずれを補正する工程を具備し、
    接触された2枚の基板の位置ずれの補正を複数回にわたって行なう場合、上記補正係数をK、前回の基板の補正移動量をM、2枚の基板の前回のずれ量をδn、少なくとも一方の基板を補正移動量Mで移動させた後の今回のずれ量をδmとすると、
    上記補正係数Kは、K=M/(δn−δm)であることを特徴とする基板の貼り合わせ方法。
  3. 2枚の基板の少なくとも一方を移動させてこれら基板の位置ずれを補正した後、上記2枚の基板にずれがあるか否かを確認するための測定工程を有することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の基板の貼り合わせ方法。
  4. 2枚の基板の少なくとも一方を移動させてこれら基板の位置ずれを補正する際の基板の補正移動量は、この補正移動の後で上記2枚の基板間にずれが生じる場合には、そのずれ量を相殺する移動量とすることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の基板の貼り合わせ方法。
  5. 上記補正係数Kに上限値と下限値を設定し、上記補正係数Kが下限値よりも小、又は上限値よりも大となったときには、補正係数Kとして上記下限値または上限値を用いることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の基板の貼り合わせ方法。
  6. 少なくとも一方の基板が弾性部材を介して保持される場合に、位置合わせの回数が閾値に達したときには補正係数Kに代えて予め設定された1よりも小さな補正係数を用いることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の基板の貼り合わせ方法。
  7. 2枚の基板のどちらか一方に液状物質を封止するためのシール剤を塗布し、このシール剤によって上記2枚の基板を貼り合わせる貼り合わせ装置であって、
    一方の基板と他方の基板とをそれぞれ上下方向に離間させて保持するとともにこれら基板を相対的にX,Y,Z及びθ方向に駆動して上記2枚の基板を貼り合わせる保持装置と、
    この保持装置によって保持された2枚の基板を撮像する撮像装置と、
    この撮像装置の撮像結果に基いて2枚の基板の位置ずれ量を求めるとともに、この位置ずれ量に補正係数を乗じた補正移動量で上記2枚の基板の少なくとも一方を移動させてこれら基板の位置ずれを補正する制御装置を具備し、
    上記制御装置は、上記補正係数をK、前回の基板の補正移動量をM、2枚の基板の前回のずれ量をδn、少なくとも一方の基板を補正移動量Mで移動させた後の今回のずれ量をδmとすると、
    上記補正係数Kを、K=M/(δn−δm)の式に基いて算出することを特徴とする基板の貼り合わせ装置。
  8. 上記補正係数Kに上限値と下限値を設定し、上記補正係数Kが下限値よりも小、又は上限値よりも大となったときには、補正係数Kとして上記下限値または上限値を用いることを特徴とする請求項7記載の基板の貼り合わせ装置。
  9. 少なくとも一方の基板が弾性部材を介して保持される場合に、位置合わせの回数が閾値に達したときには、補正係数Kに代えて予め設定された1よりも小さな補正係数を用いることを特徴とする請求項7記載の基板の貼り合わせ装置。
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