JP4598755B2 - オキサゾール誘導体を含む輻射線感受性組成物、及び該組成物に基づく画像形成性要素 - Google Patents
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Description
(a) 遊離基重合されやすい1つ以上のエチレン系不飽和型基をそれぞれが含む、1種又は2種以上のタイプのモノマー及び/又はオリゴマー及び/又はポリマー、
(b) 1つ以上の増感剤、
(c) 該増感剤(b)と一緒に遊離基を形成することができ、そして下記クラスの化合物:メタロセン、1〜3つのCX3基(Xは塩素又は臭素を表す)を有する1,3,5-トリアジン誘導体;過酸化物;ヘキサアリールビイミダゾール;オキシムエーテル;オキシムエステル;N-アリールグリシン及びこれらの誘導体;チオール化合物;2つ以上のカルボキシル基を有するN-アリール、S-アリール及びO-アリールポリカルボン酸であって、該カルボキシル基のうちの1つ以上が、該アリール単位のN、S又はO原子に結合されているもの;アルキルトリアリールボレート;ベンゾインエーテル;ベンゾインエステル;トリハロゲノメチルアリールスルホン;アミン;N,N-ジアルキルアミノ安息香酸エステル;芳香族スルホニルハロゲン化物;トリハロゲノメチルスルホン;イミド;ジアゾスルホネート;9,10-ジヒドロアントラセン誘導体;α-ヒドロキシ及びα-アミノアセトフェノンから選択される1つ以上の共開始剤、及び
(d) アルカリ可溶性バインダー、着色剤、露光指示薬、可塑剤、連鎖移動剤、ロイコ色素、界面活性剤、無機充填剤及び熱重合抑制剤から選択された1種又は2種以上の随意選択的な成分
を含む輻射線感受性組成物であって、
該1つ以上の増感剤が式(I)
(ここで、R4及びR5は独立して、水素原子、アルキル、アリール又はアラルキル基から選択され、
R6はアルキル、アリール又はアラルキル基、又は水素原子である)から選択され、そして
k、m及びnは独立して、0又は1〜5の整数である]
のオキサゾール誘導体であることを特徴とする輻射線感受性組成物によって達成される。
本発明において、式(I)
上記式中、それぞれのR1、R2及びR3は独立して、ハロゲン原子、必要に応じて置換されているアルキル基、縮合されていてもよい必要に応じて置換されているアリール基、必要に応じて置換されているアラルキル基、基-NR4R5及び基-OR6から選択され、
R4及びR5は独立して、水素原子、アルキル、アリール又はアラルキル基から選択され、
R6は必要に応じて置換されているアルキル、アリール又はアラルキル基、又は水素原子であり、そしてk、m及びnは独立して、0又は1〜5の整数である。
R1、R2及びR3のうちの1つ以上が基-NR4R5(ここで、R4及びR5が好ましくは、独立して水素原子及びC1-C6アルキルから選択され、そして特に好ましくはR4= R5=C1-C6アルキルである)を表す式(I)のオキサゾール誘導体が特に好ましい。
増感剤の量は特に制限されることはないが、組成物から生成される塗膜の固形分又は乾燥層重量を基準として、好ましくは0.2〜25重量%であり、特に好ましくは0.5〜15重量%である。
本発明において、上記共開始剤のうちの1つ又はこれらの混合物を使用することができる。
輻射線感受性要素を製造するために、本発明の輻射線感受性組成物は、共通の方法(例えばスピン・コーティング、浸漬コーティング、ドクター・ブレードによるコーティング)によって、基体の表面に塗布される。基体の両側に輻射線感受性組成物を塗布することも可能ではあるが、本発明の要素のためには、輻射線感受性塗膜は基体の一方の側に塗布されるのが好ましい。
好適な溶剤は、低級アルコール(例えば、メタノール、エタノール、プロパノール及びブタノール)、グリコールエーテル誘導体(例えばエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル)、ケトン(例えばジアセトンアルコール、アセチルアセトン、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン)、エステル(例えばメチルラクテート、エチルラクテート、エチルアセテート、3-メトキシプロピルアセテート及びブチルアセテート)、芳香族(例えばトルエン及びキシレン)、シクロヘキサン、3-メトキシ-2-プロパノール、1-メトキシ-2-プロパノール、メトキシメトキシエタノール、γ-ブチロラクトン及び双極性非プロトン性溶媒(例えばTHF、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド及びN-メチルプロピロリドン)を含む。塗布されるべき輻射線感受性混合物の固形分含有率は、用いられるコーティング法に依存し、好ましくは1〜50重量%である。
好適なオーバコートは例えば国際公開第99/06890号パンフレットに記載されている。
例1〜3及び比較例1〜6
電気化学的に(HCl中で)砂目立て処理され、陽極処理されたアルミニウム・フォイルをポリビニルホスホン酸(PVPA)の水溶液で処理し、そして乾燥後、表1に記載された溶液で被覆し、そして乾燥させた。
3.4重量部のRewopol NLS 28(登録商標)(REWOから入手可能)
1.1重量部のジエタノールアミン
1.0重量部のTexapon 842(登録商標)(Henkelから入手可能)
0.6重量部のNekal BX Paste(登録商標)(BASFから入手可能)
0.2重量部の4-トルエンスルホン酸、及び
93.7重量部の水
を含む現像液で30秒間にわたって処理した。
3)2-フェニル-4-(2-クロロフェニル)-5-(4-N,N-ジエチルアミノフェニル)-オキサゾール-1,3
5)2,5-ビス-4,4'-ジエチルアミノフェニル-1,3,4-オキサジアゾール
6)2,2'-(2,5-チオフェンジイル)ビス(tert-ブチルベンゾオキサゾール)
7)2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニルホスフィンオキシド
8)2-(4-メトキシフェニル)-4,6-ビス-(トリクロロメチル)-1,3,5-トリアジン
9)4-フェニル-1-メトキシピリジウムテトラフルオロボレート
10)2,2',5-トリス(2-クロロフェニル)-4-(3,4-ジメトキシフェニル)-4,5'-ジフェニルビイミダゾール
Claims (15)
- (a) 遊離基重合によって重合可能な1つ以上のエチレン系不飽和型基をそれぞれが含む、1種又は2種以上のタイプのモノマー及び/又はオリゴマー及び/又はポリマー、
(b) 1つ以上の増感剤、及び
(c) 該増感剤(b)と一緒に遊離基を形成することができ、そして下記クラスの化合物:メタロセン、1〜3つのCX3基(Xは塩素又は臭素を表す)を有する1,3,5-トリアジン誘導体;過酸化物;ヘキサアリールビイミダゾール;オキシムエーテル;オキシムエステル;N-アリールグリシン及びこれらの誘導体;チオール化合物;2つ以上のカルボキシル基を有するN-アリール、S-アリール及びO-アリールポリカルボン酸であって、該カルボキシル基のうちの1つ以上が、該アリール単位のN、S又はO原子に結合されているもの;アルキルトリアリールボレート;ベンゾインエーテル;ベンゾインエステル;トリハロゲノメチルアリールスルホン;アミン;N,N-ジアルキルアミノ安息香酸エステル;芳香族スルホニルハロゲン化物;トリハロゲノメチルスルホン;イミド;ジアゾスルホネート;9,10-ジヒドロアントラセン誘導体;α-ヒドロキシ及びα-アミノアセトフェノンから選択される1つ以上の共開始剤
を含む輻射線感受性組成物であって、
該1つ以上の増感剤が式(I)
[上記式中、それぞれのR1、R2及びR3は独立して、ハロゲン原子、置換されているか又は置換されていないアルキル基、置換されているか又は置換されていないアリール基(縮合されていてもよい)、置換されているか又は置換されていないアラルキル基、基-NR4R5及び基-OR6
(ここで、R4及びR5は独立して、水素原子、アルキル、アリール又はアラルキル基から選択され、基R1、R2及びR3のうちの1つ以上が、基-NR4R5であり、
R6はアルキル、アリール又はアラルキル基、又は水素原子である)から選択され、そしてk、m及びnは独立して、0又は1〜5の整数である(但し、k、m及びnが何れも0である場合を除く)]
の1,3-オキサゾール誘導体であることを特徴とする輻射線感受性組成物。 - 式(I)のオキサゾール誘導体が増感剤として使用され、そしてk、m及びnが独立して、0及び1から選択される、請求項1に記載の輻射線感受性組成物。
- 該共開始剤(c)が、メタロセン、トリアリールイミダゾリル二量体、及びこれらの混合物から選択される、請求項1又は2に記載の輻射線感受性組成物。
- さらに、1種又は2種以上のオニウム塩を含む、請求項1から3までのいずれか一項に記載の輻射線感受性組成物。
- 輻射線感受性要素であって、
(a) 基体と、
(b) 該基体上に適用された、請求項1から4までのいずれか一項に記載の組成物から成る輻射線感受性塗膜と
を含む輻射線感受性要素。 - 該基体がアルミニウム・フォイル又はプレートである、請求項5に記載の輻射線感受性要素。
- 塗布前に、該アルミニウム・フォイル又はプレートが、砂目立て処理、陽極処理、及び親水性処理から選択された1つ以上の処理を施される、請求項6に記載の輻射線感受性要素。
- 該要素がさらに、酸素不透過性オーバコートを含む請求項5から7までのいずれか一項に記載の輻射線感受性要素。
- (a) 請求項5から8までのいずれか一項に記載の輻射線感受性要素を準備すること;
(b) 300 nmを超えるUV線を用いる該要素の像様照射、
(c) 必要に応じて、照射した該要素を加熱すること;
(d) 水性アルカリ性現像剤によって、該塗膜の非照射領域を除去すること;
(e) 必要に応じて、該現像済要素を加熱し、及び/又は、該現像済要素に全体露光を施すこと
を含む輻射線感受性要素を画像形成させる方法。 - 該像様照射が、波長範囲350〜450nmのUV線で行われる請求項9に記載の方法。
- 画像形成済要素であって、請求項9又は10に記載の方法に従って得ることができる、画像形成済要素。
- 該要素が平版印刷版である、請求項11に記載の画像形成済要素。
- (a) 基体を準備すること、
(b) (i) 遊離基重合によって重合可能な1つ以上のエチレン系不飽和型基をそれぞれが含む、1種又は2種以上のタイプのモノマー及び/又はオリゴマー及び/又はポリマー、
(ii) 1つ以上の増感剤、
(iii) 該増感剤(b)と一緒に遊離基を形成することができ、そして下記クラスの化合物:メタロセン、1〜3つのCX3基(Xは塩素又は臭素を表す)を有する1,3,5-トリアジン誘導体;過酸化物;ヘキサアリールビイミダゾール;オキシムエーテル;オキシムエステル;N-アリールグリシン及びこれらの誘導体;チオール化合物;2つ以上のカルボキシル基を有するN-アリール、S-アリール及びO-アリールポリカルボン酸であって、該カルボキシル基のうちの1つ以上が、該アリール単位のN、S又はO原子に結合されているもの;アルキルトリアリールボレート;ベンゾインエーテル;ベンゾインエステル;トリハロゲノメチルアリールスルホン;アミン;N,N-ジアルキルアミノ安息香酸エステル;芳香族スルホニルハロゲン化物;トリハロゲノメチルスルホン;イミド;ジアゾスルホネート;9,10-ジヒドロアントラセン誘導体;α-ヒドロキシ及びα-アミノアセトフェノンから選択される1つ以上の共開始剤、及び
(iv) 1つ以上の溶剤
を含み、該増感剤が式(I)
[上記式中、それぞれのR1、R2及びR3は独立して、ハロゲン原子、置換されているか又は置換されていないアルキル基、置換されているか又は置換されていないアリール基(縮合されていてもよい)、置換されているか又は置換されていないアラルキル基、基-NR4R5及び基-OR6
(ここで、R4及びR5は独立して、水素原子、アルキル、アリール又はアラルキル基から選択され、基R1、R2及びR3のうちの1つ以上が、基-NR4R5であり、
R6はアルキル、アリール又はアラルキル基、又は水素原子である)から選択され、そしてk、m及びnは独立して、0又は1〜5の整数である(但し、k、m及びnが何れも0である場合を除く)]
の1,3-オキサゾール誘導体であることを特徴とする
輻射線感受性組成物を準備すること、
(c) 工程(b)で準備された該輻射線感受性組成物を、工程(a)で準備された該基体上に適用すること、
(d) 乾燥すること
を含んでなる輻射線感受性要素の製造方法。 - 工程(a)で準備された該基体が、砂目立て処理、陽極処理、及び親水性化層の適用から選択された1つ以上の処理を施されたアルミニウム基体である、請求項13に記載の方法。
- 平版印刷版前駆体を製造するための、請求項1から4までのいずれか一項に記載の輻射線感受性組成物の使用。
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