JP4800972B2 - メルカプト官能化ラジカル重合可能モノマーを有する平版印刷版前駆体 - Google Patents
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Description
a) 処理されていないか又は前処理されている基板、及び、
b) (i)水性アルカリ性現像剤中に可溶性又は膨潤性の1種以上の高分子バインダー;
(ii)1つ以上の非芳香族C-C二重結合と1つ以上のSH基とを分子中に含む1種以上のラジカル重合可能モノマー及び/又はオリゴマー;及び
(iii)ラジカル重合のための輻射線感受性開始剤又は開始剤系
を含む輻射線感受性塗膜
を含んで成る平版印刷版前駆体であって、
成分(ii)が下記式(I):
HS-Z-(Z1-CR1a=CR1bR1c)c (I)
[上記式中、各R1a、R1b、及びR1cは独立して、H、C1-C6アルキル、C2-C8アルケニル、アリール、ハロゲン、CN及びCOOR1dから選択され、ここでR1dは、H、C1-C18アルキル、C2-C8アルケニル、C2-C8アルキニル、又はアリールであり;そして、
Zは脂肪族、複素環式又は複素芳香族スペーサー、又はこれらのうち2つ又は3つ以上の組み合わせであり、Zは随意選択的に、1つもしくは2つ以上の追加のSH基、及び/又は1つもしくは2つ以上の追加の非芳香族C-C二重結合を含むことができ;そして、各Z1は独立して、単結合、
(上記式中、R2a、R2b、及びR2cは独立して、H、C1-C6アルキル、及びアリールから選択され、
Z2は、単結合、O、S及びNR2cから選択され、
Z3は、Zに結合された単結合であり、
bは、整数1〜10であり、そして
cは、整数1〜3である)]
を有する平版印刷版前駆体によって達成される。
上述の基板前処理の詳細は当業者によく知られている。
HS-Z-(Z1-CR1a=CR1bR1c)c (I)
によって表される。
Zは脂肪族、複素環式又は複素芳香族スペーサー、又はこれらのうち2つ又は3つ以上の組み合わせであり、Zは随意選択的に、1つもしくは2つ以上の追加のSH基、及び/又は1つもしくは2つ以上の追加の非芳香族C-C二重結合を含むことができ;そして、各Z1は独立して、単結合、
上記式中、R2a、R2b、及びR2cは独立して、H、C1-C6アルキル、及びアリールから選択され、
Z2は、単結合、O、S及びNR2cから選択され、
Z3は、Zに結合された単結合であり、
bは、整数1〜10であり、そして
cは、整数1〜3である。
cに応じて、Zは二価、三価又は四価基を表す。
R1dは好ましくは、H、C1-C6アルキル、C2-C6アルケニル、特に好ましくは水素、メチル又は-CH2-CH=CH2である。
R2cは好ましくは、水素、C1-C3アルキル又はフェニル、特に好ましくは水素又はメチルである。
cは好ましくは1又は2、特に好ましくは1である。
2-チオ(4-エテニル)ベンジル-5-メルカプト-1,3,4-チアジアゾール
2-チオ(4-メチル-クロトナト)-5-メルカプト-1,3,4-チアジアゾール
2-チオ(4-エテニル)ベンジル-4,6-ジメルカプト-1,3,5-トリアジン
2,4-ジ-チオ(4-エテニル)ベンジル-6-メルカプト-1,3,5-トリアジン
2-チオ(4-メタクロイルメチレン)ベンジル-5-メルカプト-1,3,4-チアジアゾール
3-チオ(4-エテニル)ベンジル-5-メルカプト-1,2,4-トリアゾール。
(a) UV、VIS又はIR線を吸収するが、しかしそれ自体でフリーラジカルを形成することはできない増感剤、及び
(b) UV、VIS又はIR線それ自体を吸収することは本質的にできないが、しかし増感剤と一緒にフリーラジカルを形成する共開始剤
を含む開始剤系が特に好ましい。
R2及びR3は独立して、随意選択的に置換型のアルキル基、随意選択的に置換型のアリール基、CN及び水素原子から選択され、
R4及びR5は独立して、-C(O)OR7、-C(O)R7、-C(O)NR8R9、及びCNから選択され、
又は、R2とR4とが結合して、随意選択的に置換型のフェニル環又は5〜7員炭素環又は複素環を形成し、単位
又は、R2及びR4、並びにR3及びR5は、随意選択的に置換型のフェニル環又は5〜7員炭素環又は複素環を形成し、単位
又は、R2/R4対、及びR3/R5対のうちの一方は、5〜7員炭素環又は複素環を形成し、単位
又は、R2及びR1、又はR3及びR1は、5〜7員複素環を形成し、該複素環は随意選択的に、1つ又は2つ以上の置換基を含むことができ、そして該窒素原子に加えてこれを該1,4-ジヒドロピリジン環と共有し、随意選択的に、追加の窒素原子、-NR13基、-S-又は-O-を含み、
R13は、水素原子、アルキル基、アリール基及びアラルキル基から選択され、
R6は、随意選択的にハロゲン原子又は-C(O)基で置換されたアルキル基、随意選択的に置換型のアリール基、随意選択的に置換型のアラルキル基、随意選択的に置換型の複素環式基、及び基
そして、R8及びR9は独立して、水素原子、随意選択的に置換型のアルキル基、随意選択的に置換型のアリール基、及び随意選択的に置換型のアラルキル基から選択される。
好ましい態様によれば、R1は、水素原子である。
R7は好ましくは、C1-C5アルキル基から選択され、そしてR6がメチル基を表すことが特に好ましい。
基R8a〜R8d及びR9a〜R9dは独立して、水素原子、アルキル基及びアリール基から選択され、隣接環炭素原子の2つの基R9又R8は、飽和型又は不飽和型の炭素環又は複素環又は縮合芳香族環を一緒に形成することもでき、
各Uは独立して、CR13 2、O、S及びNR13から選択され、そして
各R13は独立して、水素原子、アルキル、アラルキル又はアリール基を表す)、
基R10a〜R10d及びR11a〜R11dは独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)、CN、NR13 2、-C(O)OR13、及びOR13(各R13は独立して、水素原子、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す)から選択され、隣接環炭素原子の2つの基R11又はR10は、不飽和型の炭素環又は複素環又は縮合芳香族環を一緒に形成することもできる]、
の誘導体である。
R'''は、随意選択的に置換型のアルキル、アリール又はアラルキル基又は水素原子であり、そしてk, m及びnは独立して、0又は整数1〜5である。
k, m及びnは好ましくは独立して0又は1である。
式(III)のオキサゾール誘導体において、Rd、Re及びRfの1つ以上は基-NR'R''を表し、R'及びR''は好ましくは独立して、水素原子及びC1-C6アルキルから選択され、そして、R'=R''=C1-C6アルキルであることが特に好ましい。
好ましくはV=Wであり、そしてO又はNRを表す。
Rは、好ましくはC1-C12アルキルである。
各R16基は独立して、水素原子又はアルキル基であり、そして基R17は独立して、水素原子、及びアルキル基及びアリール基から選択され、そしてX及びRは上に定義された通りである。
R16は好ましくはC1-C10アルキル基である。
R17は好ましくはC1-C10アルキル基である。
各D3は独立して、S、O、NR12又はC(アルキル)2を表し;
各R18は独立して、アルキル基を表し;
R19はハロゲン原子、SR12、OR12、又はNR12 2を表し;
各R20は独立して、水素原子、アルキル基、OR12、SR12、又はNR12 2又はハロゲン原子を表し;R20はベンゾ縮合環であってもよく;
A-はアニオンを表し;
---は、任意に存在する炭素環式5員又は6員環を表し;
R12は、アルキル又はアリール基を表し;NR12 2の場合、一方のR12はHを表すこともでき;
各rは独立して、0、1、2又は3であることが可能である。
R18は好ましくは、炭素原子数1〜4のアルキル基である。
R19は好ましくはSR12である。
R20は好ましくは水素原子である。
R12は好ましくはフェニル基である。
破線は、炭素原子数5又は6の環基を表すことが好ましい。
対イオンA-は好ましくは、塩化物イオン又はトシレート・アニオンである。
対称的な構造(V)を有するIR吸収剤が特に好ましい。
2-[2-[2-フェニルスルホニル-3-[2-(1,3-ジヒドロ-1,3,3-トリメチル-2H-インドール-2-イリデン)-エチリデン]-1-シクロヘキセン-1-イル]-エテニル]-1,3,3-トリメチル-3H-インドリウムクロリド、
2-[2-[2-チオフェニル-3-[2-(1,3-ジヒドロ-1,3,3-トリメチル-2H-インドール-2-イリデン)-エチリデン]-1-シクロヘキセン-1-イル]-エテニル]-1,3,3-トリメチル-3H-インドリウムクロリド、
2-[2-[2-チオフェニル-3-[2-(1,3-ジヒドロ-1,3,3-トリメチル-2H-インドール-2-イリデン)-エチリデン]-1-シクロペンテン-1-イル]-エテニル]-1,3,3-トリメチル-3H-インドリウムトシレート、
2-[2-[2-クロロ-3-[2-(1,3-ジヒドロ-1,3,3-トリメチル-2H-ベンゾ[e]-インドール-2-イリデン)-エチリデン]-1-シクロヘキセン-1-イル]-エテニル]-1,3,3-トリメチル-1H-ベンゾ[e]-インドリウム-トシレート、及び、
2-[2-[2-クロロ-3-[2-エチル-3H-ベンズチアゾル-2-イリデン)-エチリデン]-1-シクロヘキセン-1-イル]-エテニル]-3-エチル-ベンズチアゾリウム-トシレート
を含む。
上記式中、Aは、O、S又はNR24から選択され、R24は、水素原子、C1-C6アルキル基、基CH2CH2COOH、又は-COOHで置換されたC1-C5アルキル基を表し;
R21、R22及びR23は独立して、水素原子、C1-C6アルキル基、置換型又は無置換型アリール基、-COOH又はNR25CH2COOHから選択され、R25は、-CH2COOH、-CH2OH及び-(CH2)N(CH2)COOHから選択され;そして
aは0、1、2又は3であり、
ただし、A、R21、R22及びR23は、式(VI)の酸が、式(VI)に示されたCOOH基に加えて、1つ以上の別のCOOH基を含むように選択される。
のN-アリール-ポリカルボン酸が特に好ましい。
式(VIb)において、vは好ましくは1であり、そしてR26は好ましくは水素原子を表す。
(4-アセトアミドフェニルイミノ)二酢酸
3-(ビス(カルボキシメチル)アミノ)安息香酸
4-(ビス(カルボキシメチル)アミノ)安息香酸
2-[(カルボキシメチル)フェニルアミノ]安息香酸
2-[(カルボキシメチル)フェニルアミノ]-5-メトキシ安息香酸
3-[ビス(カルボキシメチル)アミノ]-2-ナフタレンカルボン酸
N-(4-アミノフェニル)-N-(カルボキシメチル)グリシン
N,N'-1,3-フェニレン-ビスグリシン
N,N'-1,3-フェニレン-ビス[N-(カルボキシメチル)]グリシン
N,N'-1,2-フェニレン-ビス[N-(カルボキシメチル)]グリシン
N-(カルボキシメチル)-N-(4-メトキシフェニル)グリシン
N-(カルボキシメチル)-N-(3-メトキシフェニル)グリシン
N-(カルボキシメチル)-N-(3-ヒドロキシフェニル)グリシン
N-(カルボキシメチル)-N-(3-クロロフェニル)グリシン
N-(カルボキシメチル)-N-(4-ブロモフェニル)グリシン
N-(カルボキシメチル)-N-(4-クロロフェニル)グリシン
N-(カルボキシメチル)-N-(4-エチルフェニル)グリシン
N-(カルボキシメチル)-N-(2,3-ジメチルフェニル)グリシン
N-(カルボキシメチル)-N-(3,4-ジメチルフェニル)グリシン
N-(カルボキシメチル)-N-(3,5-ジメチルフェニル)グリシン
N-(カルボキシメチル)-N-(2,4-ジメチルフェニル)グリシン
N-(カルボキシメチル)-N-(2,6-ジメチルフェニル)グリシン
N-(カルボキシメチル)-N-(4-ホルミルフェニル)グリシン
N-(カルボキシメチル)-N-エチルアントラニル酸
N-(カルボキシメチル)-N-プロピルアントラニル酸
N-(カルボキシメチル)-N-ベンジルグリシン
N-(2-カルボキシフェニル)グリシン
o-ジアニシジン-N,N,N',N'-四酢酸
4-カルボキシフェノキシ酢酸
カテコール-O,O'-二酢酸
4-メチルカテコール-O,O'-二酢酸
レゾルシノール-O,O'-二酢酸
ヒドロキノン-O,O'-二酢酸
α-カルボキシ-o-アニス酸
2,2'-(ジベンゾフラン-2,8-ジイルジオキシ)二酢酸
2-(カルボキシメチルチオ)安息香酸
5-アミノ-2-(カルボキシメチルチオ)安息香酸
3-[(カルボキシメチル)チオ]-2-ナフタレンカルボン酸
エチレンジアミノ四酢酸
ニトリロ三酢酸。
最も好ましいポリカルボン酸は、アニリノ二酢酸である。
随意選択的に前処理された乾燥基板を、有機溶剤又は溶剤混合物から得られた輻射線感受性組成物でコーティングすることにより、好ましくは0.5〜4 g/m2、より好ましくは0.8〜3 g/m2の乾燥層重量を得る。これらの値は、UV感受性組成物であろうと、VIS感受性組成物であろうと、IR感受性組成物であろうと、本発明の全ての輻射線感受性組成物に当てはまる。共通のコーティング法、例えばドクターブレードを用いたコーティング、噴霧コーティング、浸漬コーティング及びスピン・コーティングをこの目的に用いることができる。
(米国特許第6,569,603号明細書に基づく)
2-チオ(4-エテニル)ベンジル-5-メルカプト-1,3,4-チアジアゾール
75 g(0.5 モル)の2.5-ジメルカプト-1,3,4-チアジアゾール(Aldrichから入手可能)を、300 mlのメタノール中に分散し、そして懸濁液を外部から氷で5℃まで冷却した。次いで、温度を5〜10℃に保ちながら、50.5 g(0.5 モル)のトリエチルアミンを撹拌しながら添加した。透明な淡色の溶液を得、これに76.3 g(0.5モル)の4-クロロメチルスチレン(Aldrichから入手可能)を、15分間にわたって撹拌しながら液滴状に添加した。次いで、4時間にわたって室温で溶液を撹拌した。その時間中、形成された沈殿物を濾過し、水で洗浄し、そして40℃で1日間にわたって真空炉内で乾燥させた。収量:103 g(77.4 %)。
3073, 2892, 1628
2-チオ(4-メチルクロトナト)-5-メルカプト-1,3,4-チアジアゾール
15 g(0.1 モル)の2.5-ジメルカプト-1,3,4-チアジアゾール(Aldrichから入手可能)を、60 mlのメタノール中に分散し、そして懸濁液を外部から氷で5℃まで冷却した。次いで、温度を5〜10℃に保ちながら、10.1 g(0.1 モル)のトリエチルアミンを撹拌しながら添加した。結果として得られた透明な淡色の溶液に、23.3 g(0.1モル)のメチル-4-ブロモクロトネート(純度80 wt.%の生成物、Lancasterから入手可能)を、15分間にわたって撹拌しながら液滴状に添加した。次いで、14時間にわたって室温で溶液を撹拌し、そして40 mlの水を撹拌しながら添加した。結果として生じた沈殿物を濾過し、水で洗浄し、そして40℃で1日間にわたって真空炉内で乾燥させた。収量:23.7 g(85.9 %)。
3053, 2855, 1703, 1655
融点:100-102℃
2-チオ(4-エテニル)ベンジル-4,6-ジメルカプト-1,3,5-トリアジン
18.6 g(0.1 モル)のトリチオシアヌル酸(Aldrichから入手可能)を、70 mlのメタノール中に分散し、そして懸濁液を外部から氷で5℃まで冷却した。次いで、温度を5〜10℃に保ちながら、10.1 g(0.1 モル)のトリエチルアミンを30分間にわたって撹拌しながら添加した。結果として得られた黄味を帯びた懸濁液に、15.3 g(0.1モル)の4-クロロメチルスチレン(Aldrichから入手可能)を、15分間にわたって撹拌しながら液滴状に添加した。次いで、14時間にわたって室温で溶液を撹拌した。結果として生じた沈殿物を濾過し、水で洗浄し、そして40℃で1日間にわたって真空炉内で乾燥させた。収量:25.5 g(84.4 %)。
3053, 2901, 1627
2-チオベンジル-5-メルカプト-1,3,4-チアジアゾール
30 g(0.2 モル)の2.5-ジメルカプト-1,3,4-チアジアゾール(Aldrichから入手可能)を、120 mlのメタノール中に分散し、そして懸濁液を外部から氷で5℃まで冷却した。次いで、温度を5〜10℃に保ちながら、20.2 g(0.2 モル)のトリエチルアミンを撹拌しながら添加した。結果として得られた透明な淡色の溶液に、25.2 g(0.2モル)の塩化ベンジル(Aldrichから入手可能)を、15分間にわたって撹拌しながら液滴状に添加した。次いで、14時間にわたって室温で溶液を撹拌し、そして70 mlの水を撹拌しながら添加した。結果として得られた沈殿物を濾過し、水で洗浄し、そして40℃で1日間にわたって真空炉内で乾燥させた。収量:47 g(91.1 %)。
融点:112-115℃
下記成分からコーティング溶液を調製した:
6.3 gのIoncryl 683(商標)(SC Johnson & Son Inc.社製の、酸価175 mg KOH/gのアクリル酸コポリマー)
9.0 gのAC 50(商標)(PCAS/France社製の、酸価48 mg KOH/gのメタクリル酸コポリマー、エチレングリコールモノメチルエーテル中の70 wt.%溶液)
16.8 gの、ウレタンアクリレートの80%メチルエチルケトン溶液[1-メチル-2,4-ビス-イソシアネートベンゼン(Bayer社のDesmodur 100(商標))と、ヒドロキシエチルアクリレート及びペンタエリトリトールトリアクリレートとを反応させることにより調製され、全てのイソシアネート基が完全に反応させられたときの二重結合含有率は0.50 二重結合/100 gである]
1.8 gの調製例1の2-チオ(4-エテニル)ベンジル-5-メルカプト-1,3,4-チアジアゾール
2.5 gの2-(4-メトキシフェニル)-4,6-ビス-(トリクロロメチル)-s-トリアジン
0.4 gのBasonyl Violet 610(Basic Violet 3, C.I. 42555、Bayerから入手可能)
0.45 gの2-[2-[2-チオフェニル-3-[2-(1,3-ジヒドロ-1,3,3-トリメチル-2H-インドール-2-イリデン)-エチリデン]-1-シクロヘキセン-1-イル]-エテニル]-1,3,3-トリメチル-3H-インドリウムクロリド。
90容積部の1-メトキシ-2-プロパノールと
10容積部のアセトンと
から成る混合物200 ml中に撹拌しながら溶解した。
7.5 gのポリビニルイミダゾール、
42.5 gのポリビニルアルコール(Airproducts社製のAirvol 203(商標);12 wt.%の残留アセチル基)、
170 gの水、
の溶液でコーティングすることにより、乾燥層重量2.0 g/m2を有する酸素不透過性層を同様に塗布した。
90℃で5分間にわたって乾燥させた。
速度 120 cm/分
予加熱 630 ディジット
予洗率 0.5 l/印刷版1m2
現像剤浴の温度23±1℃
2-[2-[2-チオフェニル-3-[2-(1,3-ジヒドロ-1,3,3-トリメチル-2H-インドール-2-イリデン)-エチリデン]-1-シクロヘキセン-1-イル]-エテニル]-1,3,3-トリメチル-3H-インドリウムクロリドの代わりに、ポリエメチン色素である0.45 gのIRT色素(Showa Denko K.K., 日本国から入手可能)を使用し、そして、調製例1の1.8 gの2-チオ(4-エテニル)ベンジル-5-メルカプト-1,3,4-チアジアゾールの代わりに、調製例3の1.85 gの2-チオ(4-エテニル)ベンジル-4,6-ジメルカプト-1,3,5-トリアジンを使用することによって、例1のコーティング溶液を改質した。こうして得られた組成物を、例1に記載されたように塗布し、露光し、そして現像した。下記露光エネルギーが良好な再現に必要であった:
ベタに対して32 mJ/cm2、及び
1画素要素に対して42 mJ/cm2 。
1.8 gの2-チオ(4-エテニル)ベンジル-5-メルカプト-1,3,4-チアジアゾールの代わりに、調製例2の1.8 gの2-チオ(4-(メチルクロトナト))-5-メルカプト-1,3,4-チアジアゾールを使用することによって、例1のコーティング溶液を改質した。コーティング組成物を、例1に記載されたように塗布し、露光し、そして現像した。下記露光エネルギーが良好な再現に必要であった:
ベタに対して34 mJ/cm2、及び
1画素要素に対して45 mJ/cm2 。
0.45 gのアニリノ二酢酸(Synton, 独国から入手可能)を添加し、そして1.4 gのジペンタエリトリトールペンタアクリレートを除外することにより、例1のコーティング溶液を改質した。コーティング組成物を、例1に記載されたように塗布し、露光し、そして現像した。下記露光エネルギーが良好な再現に必要であった:
ベタに対して56 mJ/cm2、及び
1画素要素に対して79 mJ/cm2。
電気化学的(HCl中)砂目立て処理・陽極処理済アルミニウム・フォイルに、ポリビニルホスホン酸(PVPA)の水溶液による処理を施し、そしてこのフォイルを、乾燥後、下記成分から調製されたコーティング溶液でコーティングした。
2.0 gの調製例1の2-チオ(4-エテニル)ベンジル-5-メルカプト-1,3,4-チアジアゾール
6.9 gの、ウレタンアクリレートの80%メチルエチルケトン溶液[Desmodur N 100(商標)(Bayer社から入手可能)と、ヒドロキシエチルアクリレート及びペンタエリトリトールトリアクリレートとを反応させることにより調製され、全てのイソシアネート基がヒドロキシ基を含有するアクリレートと完全に反応したときの二重結合量:0.5 二重結合/100 gである]
4.4 gの1-メトキシ-2-プロパノール中分散体 (10 wt%の銅フタロシアニンと、39.9モル%のビニルアルコール基、1.2モル%のビニルアセテート基、アセトアルデヒドから誘導された15.4モル%のアセタール基、ブチルアルデヒドから誘導された36.1モル%のアセタール基、及び4-ホルミル安息香酸から誘導された7.4モル%のアセタール基を含む5 wt%のポリビニルアセタール・バインダーとを含む)
1.0 gの1,4-ジヒドロ-2,6-ジメチル-3,5-ジ(メトキシカルボニル)-4-フェニルピリジン
0.75 gの2,2-ビス(2-クロロフェニル)-4,5,4',5'-テトラフェニル-2'H-[1,2]-ビイミダゾール
115 mlの1-メトキシ-2-プロパノール
90 mlのメタノール
130 mlのメチルエチルケトン
露光直後に、印刷版を90℃で1分間にわたって炉内で加熱した。
黒化グレースケールの6つのベタステップ。
ステップ9がインクを受容しない最初のステップであった。
2-チオ(4-エテニル)ベンジル-5-メルカプト-1,3,4-チアジアゾールの添加なしで、例1を繰り返し、そして結果として生じる組成物を、例1に記載されたように塗布し、露光し、そして現像した。ベタの最大濃度を達成するためには、最小露光エネルギー約300 mJ/cm2が必要であり、そして1画素要素の良好な再現のためには、約350 mJ/cm2が必要であった。この結果は、エチレン系不飽和型二重結合を有するメルカプト置換型モノマー化合物が存在しないと、本発明の組成物における感受性よりも、感受性が著しく低くなることを示す。
例1を繰り返すが、しかし2-チオ(4-エテニル)ベンジル-5-メルカプト-1,3,4-チアジアゾールの代わりに、調製例4の2-チオベンジル-5-メルカプト-1,3,4-チアジアゾールを使用し、そして結果として生じる組成物を、例1に記載されたように塗布し、照射し、そして現像した。ベタのためには、最小エネルギー約88 mJ/cm2が必要であり、そして1画素要素の良好な再現のためには、約120 mJ/cm2が必要であった。これは、エチレン系不飽和型二重結合を有するメルカプト置換型モノマー化合物の代わりに、エチレン系不飽和型二重結合なしのメルカプト置換型モノマー化合物を使用する結果、感受性が著しく低くなることを示す。
2-チオ(4-エテニル)ベンジル-5-メルカプト-1,3,4-チアジアゾールの添加なしで、例5を繰り返し、そして結果として生じる組成物を、例5に記載されたようにリソグラフィ基板に塗布し、露光し、加熱し、そして現像した。下記感光性結果が得られた:
黒化グレースケールの3つのベタステップ。
ステップ6がインクを受容しない最初のステップであった。
Claims (5)
- a) 処理されていないか又は前処理されている基板、及び
b) (i)水性アルカリ性現像剤中に可溶性又は膨潤性の1種以上の高分子バインダー;
(ii)1つ以上の非芳香族C-C二重結合と1つ以上のSH基とを分子中に含む1種以上のラジカル重合可能モノマー及び/又はオリゴマー;及び
(iii)ラジカル重合のための輻射線感受性開始剤又は開始剤系
を含む輻射線感受性塗膜
を含んで成る平版印刷版前駆体であって、
成分(ii)が下記式(I):
HS-Z-(Z1-CR1a=CR1bR1c)c (I)
[上記式中、R 1a は、H、C 1 -C 6 アルキル、C 2 -C 8 アルケニル、アリール、ハロゲン、CN及びCOOR 1d から選択され、R1b 及びR1cは独立して、H、C1-C6アルキル、C2-C8アルケニル、ハロゲン、CN及びCOOR1dから選択され、ここでR1dは、H、C1-C18アルキル、C2-C8アルケニル、C2-C8アルキニル、又はアリールであり;そして、
Zは脂肪族、複素環式又は複素芳香族スペーサー、又はこれらのうち2つ又は3つ以上の組み合わせであり、Zは随意選択的に、1つもしくは2つ以上の追加のSH基、及び/又は1つもしくは2つ以上の追加の非芳香族C-C二重結合を含むことができ;そして、各Z1は独立して、単結合、
から選択される
(上記式中、R2a、R2b、及びR2cは独立して、H、C1-C6アルキル、及びアリールから選択され、
Z2は、単結合、O、S及びNR2cから選択され、
Z3は、Zに結合された単結合であり、
bは、整数1〜10であり、そして
cは、整数1〜3である)]
を有する平版印刷版前駆体。 - 該輻射線感受性塗膜が、SH基を含まない1種以上のラジカル重合可能モノマー及び/又はオリゴマーをさらに含む、請求項1に記載の平版印刷版前駆体。
- 該塗膜が、波長750超〜1,200 nmの輻射線を吸収することができる1種以上のIR吸収剤、並びに、ポリハロゲンアルキル置換型化合物、オニウム化合物、及びポリハロゲンアルキル置換型化合物とオニウム化合物との混合物から選択された1種以上の共開始剤を含む開始剤系を含む、請求項1又は2に記載の平版印刷版前駆体。
- a) 処理されていないか又は前処理されている基板を用意すること、
b) (i)水性アルカリ性現像剤中に可溶性又は膨潤性の1種以上の高分子バインダー;
(ii)1つ以上の非芳香族C-C二重結合と1つ以上のSH基とを分子中に含む1種以上のラジカル重合可能モノマー及び/又はオリゴマー;及び
(iii)ラジカル重合のための輻射線感受性開始剤又は開始剤系
を含む輻射線感受性塗膜を塗布すること、
ここで成分(ii)は下記式(I)を有する:
HS-Z-(Z1-CR1a=CR1bR1c)c (I)
[上記式中、R 1a は、H、C 1 -C 6 アルキル、C 2 -C 8 アルケニル、アリール、ハロゲン、CN及びCOOR 1d から選択され、R1b 及びR1cは独立して、H、C1-C6アルキル、C2-C8アルケニル、ハロゲン、CN及びCOOR1dから選択され、ここでR1dは、H、C1-C18アルキル、C2-C8アルケニル、C2-C8アルキニル、又はアリールであり;そして、
Zは脂肪族、複素環式又は複素芳香族スペーサー、又はこれらのうち2つ又は3つ以上の組み合わせであり、Zは随意選択的に、1つもしくは2つ以上の追加のSH基、及び/又は1つもしくは2つ以上の追加の非芳香族C-C二重結合を含むことができ;そして、各Z1は独立して、単結合、
から選択される
(上記式中、R2a、R2b、及びR2cは独立して、H、C1-C6アルキル、及びアリールから選択され、
Z2は、単結合、O、S及びNR2cから選択され、
Z3は、Zに結合された単結合であり、
bは、整数1〜10であり、そして
cは、整数1〜3である)]
(c) 乾燥させること、及び
(d) 随意選択的に、酸素不透過性オーバーコートを塗布し、そして乾燥させる
ことを含んで成る、請求項1から3までのいずれか1項に記載の平版印刷版前駆体の製造方法。 - (a) 請求項1から3までのいずれか1項に記載の平版印刷版前駆体を用意し、
(b) 該前駆体内で使用された該開始剤又は該開始剤系に適した波長の輻射線で、該前駆体に像様露光を施し、そして
(c) 続いて、工程(b)で得られた該露光済前駆体を水性アルカリ性現像剤で現像する
ことを含む、平版印刷フォームを提供する方法。
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