JP4634353B2 - Circuit pattern inspection device - Google Patents
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Description
本発明は、絶縁性を有する例えば、ガラス基板上に形成された回路パターンに対して良否を検査する回路パターン検査装置に関する。 The present invention relates to a circuit pattern inspection apparatus for inspecting pass / fail for a circuit pattern formed on, for example, a glass substrate having insulating properties.
一般に、画像表示を行うための液晶表示パネルには、絶縁性を有するガラス基板上に半導体製造技術を用いて、同一面上に導電体からなる複数の配線が平行に配列される回路パターン(走査線又はデータ線からなるバスライン等)が形成されている。製造工程として、基板上に形成された回路パターンにおける断線や短絡を検査するパターン検査工程が含まれている。 In general, a liquid crystal display panel for performing image display has a circuit pattern (scanning) in which a plurality of wirings made of conductors are arranged in parallel on the same surface using a semiconductor manufacturing technique on an insulating glass substrate. Lines or data lines). As a manufacturing process, a pattern inspection process for inspecting a disconnection or a short circuit in a circuit pattern formed on a substrate is included.
一般的には、検査装置のステージに載置した基板上に形成された回路パターンの両端にそれぞれプローブを押し当て、一端に検査信号を印加し、他端から検出された電流値や信号波形により、断線や短絡の有無を検出している。このパターン検査方法は、尖端形状を成す金属プローブを回路パターンに直接的に接触させるピンコンタクト方式が主流である。この方式は、金属プローブを回路パターンに接触させているため、回路パターンに少なからず傷などの損傷を与えている。 Generally, a probe is pressed against both ends of a circuit pattern formed on a substrate placed on a stage of an inspection apparatus, an inspection signal is applied to one end, and a current value or signal waveform detected from the other end Detects disconnection and short circuit. In this pattern inspection method, a pin contact method in which a metal probe having a pointed shape is brought into direct contact with a circuit pattern is mainly used. In this method, since the metal probe is brought into contact with the circuit pattern, the circuit pattern is damaged to some extent, such as a scratch.
このプローブ接触時に発生する回路パターンへの損傷を回避するものとして、例えば特許文献1には、非接触方式の回路パターン検査装置が開示されている。
For example,
この回路パターン検査装置は、非接触の2つの検査用センサ電極を有している。これらの検査用センサ電極を回路パターンの両端にそれぞれ所定間隔を空けて対向するように近接して配置する。このような配置により、それぞれの検査用センサ電極は、回路パターンと電気的に容量結合された状態となる。この状態で一端の検査用センサ電極に検査信号を印加し、他端の検査用センサ電極から検出信号を検出して、得られた検出信号から回路パターンにおける断線や短絡を判断している。 This circuit pattern inspection apparatus has two non-contact inspection sensor electrodes. These inspection sensor electrodes are arranged close to each other so as to be opposed to both ends of the circuit pattern at a predetermined interval. With such an arrangement, each inspection sensor electrode is electrically capacitively coupled to the circuit pattern. In this state, an inspection signal is applied to the inspection sensor electrode at one end, a detection signal is detected from the inspection sensor electrode at the other end, and a disconnection or a short circuit in the circuit pattern is determined from the obtained detection signal.
具体的には、この回路パターン検査装置における検出回路の電気的な構成は、図9に示すような等価回路となる。ここで、キャパシタC1,C2は、回路パターンの一端に検査信号の印加(送信)を行う送信センサ電極及び、回路パターンの他端から検出信号を受信する受信センサ電極と、それぞれ空間(大気)を挟んで対向する回路パターンとの間に生じる容量成分である。これらのキャパシタC1,C2は、100fF(但し、f:femto 10−15とする)程度の微小な容量値である。また、抵抗値R1は回路パターンの抵抗成分であり、抵抗値R2は検出回路の内部抵抗分である。回路パターンは、絶縁体であるガラス基板を介して接地電位となっている検査用ステージと対向することとなる。このため、絶縁体(ガラス基板)を回路パターン及びステージ(金属)で両側から挟んだ容量結合構成となり、キャパシタC3,C4が生じる。つまり、キャパシタC3,C4は、絶縁性を有する基板の厚さを挟んで対向する回路パターンと接地電位の検査用ステージ(金属)の容量結合における容量成分である。これらのキャパシタC3,C4は、10pF(但し、p:pico 10−12とする)程度の容量を有していると想定する。電源Eは、検査信号を生成して送信センサ電極に印加する。 Specifically, the electrical configuration of the detection circuit in this circuit pattern inspection apparatus is an equivalent circuit as shown in FIG. Here, the capacitors C1 and C2 have a space (atmosphere) in each of a transmission sensor electrode that applies (transmits) an inspection signal to one end of the circuit pattern, and a reception sensor electrode that receives a detection signal from the other end of the circuit pattern. It is a capacitance component generated between the circuit patterns opposed to each other. These capacitors C1 and C2 have minute capacitance values of about 100 fF (where f is femto 10 −15 ). The resistance value R1 is a resistance component of the circuit pattern, and the resistance value R2 is an internal resistance component of the detection circuit. The circuit pattern is opposed to the inspection stage having the ground potential through the glass substrate which is an insulator. For this reason, it becomes a capacitive coupling structure which pinched | interposed the insulator (glass substrate) with the circuit pattern and the stage (metal) from both sides, and capacitor C3, C4 arises. That is, the capacitors C3 and C4 are capacitive components in capacitive coupling between the circuit pattern and the ground potential inspection stage (metal) that are opposed to each other with the thickness of the insulating substrate interposed therebetween. These capacitors C3 and C4 are assumed to have a capacity of about 10 pF (p: pico 10 −12 ). The power source E generates an inspection signal and applies it to the transmission sensor electrode.
図10に示すように、回路パターン79上では検出信号が得られるが、回路パターンが形成されていない基板78上では検出信号が理想的には、略0になる。検査信号は、容量結合する受信センサ電極(キャパシタC2)を通じて検出していた信号の微細な電流変化として受け取る。この受信センサ電極に接続する検査部は、内部抵抗値R2により検出信号を電圧信号の変化として検出する。
As shown in FIG. 10, the detection signal is obtained on the
さらに、回路パターン検査装置においては、検出信号に対して例えば、検出信号の所定期間の変動に対して最小二乗法を用いて、図11に示すような判断基準に用いるための上限閾値及び下限閾値(共に、例えば|0.5|V程度)を演算処理により求めて設定している。これらの閾値と検出信号の変化を比較して、回路パターンの断線や短絡の有無が判断される。ここでは、検出信号が上限閾値を越える(上回る)箇所及び下限閾値を越える(下回る)箇所があり、これらの信号の位置に対応する回路パターンに欠陥を生じていると判断される。
前述した非接触方式の回路パターン検査装置は、検査対象となる基板を接地電位(GND)の検査用ステージ上に載置固定した状態で検査を実施している。検査用ステージの間に生じるキャパシタC3,C4の容量値と比較して、直接的に検出信号に関わる回路パターンとセンサ電極との間に生じるキャパシタC1,C2の容量値は極めて小さな数値であり、検出される検出信号の変化も極めて小さい値となっている。 The non-contact type circuit pattern inspection apparatus described above performs an inspection in a state where a substrate to be inspected is placed and fixed on an inspection stage having a ground potential (GND). Compared with the capacitance values of the capacitors C3 and C4 generated between the inspection stages, the capacitance values of the capacitors C1 and C2 generated directly between the circuit pattern related to the detection signal and the sensor electrode are extremely small numerical values. The change in the detected signal detected is also a very small value.
前述したように、検出信号に対する上限閾値及び下限閾値によりパターンの良否判定を行っている。実際に検出される検出信号は、ガラス基板の歪みや載置状態等の外的要因の影響により、図11に示すようなうねりを有している。また、キャパシタC3,C4の容量の変化は、検出信号の値に大きな影響を与えており、急峻な容量変化が生じると、直接的に検出信号の変化として検出される。通常、検査用ステージ71は、載置面71aが全面に亘って平坦であるというものではなく、図12に示すように、リフトピン72のための孔73や基板吸着のための吸気口74、+型吸着溝75、基板搬送のための昇降する搬送ローラが配設される溝76及びネジ止め用の穴等が設けられている。
As described above, the quality of the pattern is determined based on the upper and lower thresholds for the detection signal. The detection signal actually detected has a swell as shown in FIG. 11 due to the influence of external factors such as distortion of the glass substrate and the mounting state. Further, the change in capacitance of the capacitors C3 and C4 has a great influence on the value of the detection signal, and when a sudden change in capacitance occurs, it is directly detected as a change in the detection signal. Normally, the
これらの溝や穴等による窪み部分は、例えば、図13(b)に示すように、載置された基板裏面(非検査面)78aが載置面71aと密着した状態であっても、基板裏面78aとは接しない空間80を発生させる。従って、キャパシタC3,C4において、回路パターン79が基板78とこの空間80を含んでステージ71と対向したときのキャパシタと、前述したように回路パターン79が基板78を挟んでステージ71の載置面に密着している状態のキャパシタとは、大きく容量が異なってくる。
For example, as shown in FIG. 13 (b), the recessed portions due to these grooves and holes are formed even when the substrate back surface (non-inspection surface) 78a placed in close contact with the
このキャパシタの変化が検出信号に大きく影響を与える。例えば、図13(a)に示すように、窪み部分に掛かった回路パターン79aの検出信号は、ステージ71と密着している回路パターン79bの検出信号に対して急峻な変化が生じる。これは、コンデンサ(容量結合)において電極間距離が離れてキャパシタが小さくなることと同様である。つまり、空間80により回路パターン79からステージ71側に漏れ出る検査信号(電流)が少なくなるため、受信センサ電極に生じる検出信号の電流値が大きくなり、結果、検出部で検出される検査信号も大きくなる。これにより、図13(a)に示すように、単なる検出信号の変化であっても上限閾値よりも検査信号値が上回る事態が発生し、結果、欠陥として検出される。
This change in the capacitor greatly affects the detection signal. For example, as shown in FIG. 13A, the detection signal of the
実際の窪み部分として、図13(b)及び図14に示す+型吸着溝75を一例として説明する。前述したように、載置された基板78の裏面(非検査面)78aがステージ載置面71aと密着した状態であっても、+型吸着溝75と基板78とは接しない空間80が生じている。
As an actual hollow portion, a +
特に図14に示すように、回路パターン79と+型吸着溝75の長手方向に溝が重なった回路パターン79aは、他の回路パターンに比べてキャパシタC3,C4の容量値に急峻な変化が生じる。このため、図13(a)に示すように、常時更新している最小二乗法により求めた閾値を越える事態が生じる。これを回路パターンにおける断線又は短絡と判断した場合には、誤検出となる。
In particular, as shown in FIG. 14, the
そこで本発明は、検査対象物が載置される載置面に設けられた構成部位による検出用信号の急峻な変化を緩和させて、パターン検査について正しい良否判定を実現する回路パターン検査装置を提供することを目的とする。 Therefore, the present invention provides a circuit pattern inspection apparatus that realizes a correct quality determination for pattern inspection by alleviating a steep change in a detection signal due to a component portion provided on a mounting surface on which an inspection object is placed. The purpose is to do.
本発明に従う実施形態の回路パターン検査装置は、搬送機構及び吸着機能を備え、搬送された絶縁性を有する平坦な検査基板を載置するステージと、前記ステージに載置された前記検査基板上に形成された複数列の回路パターンの両端に対して間隔をあけてセンサ電極対を対向させて、該センサ電極対に対して該回路パターンと電気的に容量結合し、検査信号を非接触で印加し且つ非接触で検出信号を受信する検査部と、前記検査部からの検出信号に基づき欠陥判定処理を行う制御処理部と、を具備し、さらに、前記ステージの前記検査基板を載置する基板載置面には、内部に前記搬送機構及び前記吸着機能を含む部材が配設される窪みが形成され、該窪みの壁部分も含めた外周を丸める、又は前記外周のエッジ部分を曲面に形成する、又は前記外周のエッジ部分をテーパー面に形成するのうちの少なくとも1つを形成し、前記窪みによる、隣り合う回路パターン間における、該回路パターンと前記ステージとの間のそれぞれの容量結合値の変化を緩慢にする。 A circuit pattern inspection apparatus according to an embodiment of the present invention includes a transport mechanism and a suction function, a stage on which a transported flat inspection substrate having insulating properties is placed, and the inspection substrate placed on the stage. A sensor electrode pair is opposed to both ends of the formed circuit pattern of a plurality of rows, and the circuit pattern is electrically capacitively coupled to the sensor electrode pair, and an inspection signal is applied in a non-contact manner. A non-contact inspection unit that receives a detection signal; and a control processing unit that performs a defect determination process based on the detection signal from the inspection unit; and a substrate on which the inspection substrate of the stage is placed The mounting surface is formed with a recess in which the member including the transport mechanism and the suction function is disposed, and the outer periphery including the wall portion of the recess is rounded, or the edge portion of the outer periphery is formed into a curved surface. Or Forming at least one of the outer peripheral edge portions on a tapered surface, and changing the respective capacitive coupling values between the circuit pattern and the stage between adjacent circuit patterns due to the depressions. Slow down .
本発明によれば、検査対象物が載置される載置面に設けられる構成部位による穴又は溝等による検出用信号の急峻な変化を緩和させて、パターン検査について正しい良否判定を実現する回路パターン検査装置を提供することができる。 According to the present invention, a circuit that reduces a steep change in a detection signal due to a hole or a groove due to a component portion provided on a mounting surface on which an inspection object is placed, and realizes a correct pass / fail judgment for pattern inspection A pattern inspection apparatus can be provided.
以下、図面を参照して本発明の実施形態について詳細に説明する。
図1は、本発明に係る回路パターン検査装置の概念的な構成例を示す図である。
この回路パターン検査装置は、検査時に検査対象部位に検査プローブとなるセンサ電極を接触せずに検査を実施する非接触タイプである。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 1 is a diagram showing a conceptual configuration example of a circuit pattern inspection apparatus according to the present invention.
This circuit pattern inspection apparatus is a non-contact type in which an inspection is performed without contacting a sensor electrode serving as an inspection probe to a region to be inspected at the time of inspection.
回路パターン検査装置は、少なくとも、検査対象となる表示パネル用ガラス基板(以下、検査基板と称する)1を載置するステージ2と、ステージ2に載置された検査基板1上に形成された回路パターンである回路パターン3の断線や短絡による欠陥を検査する検査部4と、検査部4を駆動して回路パターン3に対する検査を実施する検査駆動部5と、検査基板1をステージ2上に載置及び搬入搬出を行う搬送部6と、装置全体の制御及び検査部4からの検出信号に基づき欠陥判定処理を行う制御処理部7と、操作者の指示等を入力するキーボードやタッチパネル等からなる入力部8と、検査結果や種々の情報を表示する表示部9とを備えている。また、ステージ2には、検査基板1を吸着固定させるための吸引ポンプを含む吸着機構10を備えている。尚、検査部4、検査駆動部5及び、欠陥判定処理を行う制御処理部7により欠陥検出部が構成される。
The circuit pattern inspection apparatus includes at least a
本実施形態における検査基板1上には、直線且つ平行で等間隔に配列された回路パターン例えば、バスライン(走査線又はデータ線)となる回路パターン3が形成されているものとする。これらの回路パターン3の両側を開放端とする。また、本実施形態では、説明を容易にするため、それぞれの開放端に検査用パッド3a,3bが設けている。勿論、これは一例であり限定されるものではなく、例えば、回路パターン3は、直線的な配線である必要はなく、両端を開放端としているが保護のためにそれぞれの一方の端部を短絡させている構成であっても同様に良否判定の検査を実施できる。尚、回路パターン3の両側は、必ずしも開放端ではなく、製品保護のため、各端部を電気的に接続するためのパターンが設けられている場合もあるが、本実施形態は実用可能であることが確認されている。
On the
検査部4には、これらの検査用パッド3a,3bと所定間隔(ギャップ)を空けて対向するための一対のセンサ電極(送信センサ電極11a及び受信センサ電極11b)11が配置されている。図1においては、これらの検査用パッド3a,3bは、センサ電極11が移動しやすいように、検査基板1上でそれぞれ直線的に配列されている形態を示している。基本的には、一対のセンサ電極11が一対の検査用パッド3a,3bに対向できるように移動すればよく、それぞれの配置は限定されない。例えば、センサ電極11が2次元的に移動可能な構成であればよい。
A pair of sensor electrodes (
このように構成された回路パターン検査装置による検査について説明する。
まず、検査作業者による入力部8からの検査条件等の入力設定及び装置の初期設定が行われる。その後、検査対象となる回路パターン3の形成された検査基板1が搬送部6により不図示の搬送経路上を搬送されて、回路パターン検査装置のステージ2上の所定位置に載置される。載置された後、検査基板1は、吸着機構10により吸着固定される。
The inspection by the circuit pattern inspection apparatus configured as described above will be described.
First, input settings such as inspection conditions from the
次に、検査における初期位置合わせを行う。即ち、センサ電極11を最初の検査用パッド3a,3bと、例えば100μm〜200μm範囲内の最適とされるギャップを空けて対向する位置に移動設定する。尚、このギャップの距離は、設計仕様に基づくものであり、この範囲外でも適宜最適な距離が選択される。
Next, initial alignment in inspection is performed. That is, the
また本実施形態では、ギャップ内に大気を介在させているが絶縁膜を介在させてもよい。つまり、検査用パッド3a,3b上に絶縁体による被膜を形成して、センサ電極11をその絶縁被膜に当接した状態で検査を行うこともできる。絶縁被膜は、保護膜としても機能するが、検査信号の減衰が生じる場合には、検査判定に影響を与えないか否かを検討して適用することが好ましい。
In this embodiment, air is interposed in the gap, but an insulating film may be interposed. That is, it is also possible to perform an inspection in a state where a film made of an insulator is formed on the
次に、センサ電極11における送信センサ電極11aから検査用パッド3aに検査信号を印加する。この検査信号は、例えば200KHz−200Vの正弦波形の信号を用いる。勿論、印加する検査信号は、正弦波だけでなく、パルス波であってもよい。この検査信号は容量結合された検査用パッド3aに印加されて、回路パターン3を通過し、検査用パッド3bに容量結合する受信センサ電極11bから検出信号として取り出されて検査部4に入力する。
Next, an inspection signal is applied from the
検査部4は、受信センサ電極11bからの検出信号に対して、必要レベルまで増幅し、且つバンドパスフィルタを通過させて雑音成分を除去する。さらに、フィルタ通過した検出信号を全波整流して平滑処理を施す。このように信号処理された検出信号は、制御処理部7に出力される。
制御処理部7では、検査部4から入力した検出信号をA/D変換してデジタル信号化する。このデジタル化された検出信号に対して、図11に示したような予め定められた判定基準に基づき、良好又は不良(短絡又は断線)の判定を行う。
後述する図2に示すように、本実施形態のステージ2の載置面においても、複数の溝23が形成され、任意の溝23の内には、基板を搬送するために利用するリフトピン24、基板吸着のための吸気口25、基板搬送のための昇降可能な搬送ローラ26及びネジ止め用の穴27等が設けられている。
The
In the
As shown in FIG. 2 to be described later, a plurality of
これらの溝23においても基板との空間が生じて、容量結合値であるキャパシタが変化する。従って、本発明においても、密着する面積の差の急激な変化を減少させる又は、回路パターン3とステージにおける容量結合値の急峻な変化を緩慢化させることにより、隣り合う回路パターン間における受信センサ電極11bから検出される検出信号の急峻な変化を防止して、良否の誤判定を防止する。
Also in these
第1の実施形態に係る回路パターン検査装置のステージ載置面における構成例について説明する。図2(a)は、第1の実施形態に係るステージ載置面の構成を示し、図2(b)はステージの断面構成を示す図である。本実施形態は、回路パターンの各配線において、ステージに対する容量結合における容量差をほぼ無くし又は少なくすることにより、検出信号の急峻な変化を緩和することを提供する構成例である。 A configuration example on the stage mounting surface of the circuit pattern inspection apparatus according to the first embodiment will be described. FIG. 2A shows the configuration of the stage mounting surface according to the first embodiment, and FIG. 2B shows the cross-sectional configuration of the stage. The present embodiment is a configuration example that provides for reducing a steep change in a detection signal by substantially eliminating or reducing a capacitance difference in capacitive coupling to a stage in each wiring of a circuit pattern.
この第1の実施形態において、ステージ2の載置面21には、回路パターン3の長手方向と交差する方向でストライプ状に配置される複数の溝列22が形成される。これらの溝列22は、それぞれに複数の短尺な溝(23a〜23m)23が直線的に配列されている。これらの短尺な溝23うちの任意なものに、例えば、昇降するリフトピン24又は吸気口25が設けられている。
In the first embodiment, the mounting
吸気口25が設けられた短尺な溝23は、従来と同じ吸着用溝として機能する。またリフトピン24は、搬送部6のアーム機構等から検査基板1を受け取る際に、上昇して基板裏面に当接して支持し、アーム機構等(図示せず)が退避した後、降下によりステージ載置面上に検査基板1を載置し、さらに下降して、ステージ載置面と同じ又は、ステージ載置面より下方となるように退避する。吸気口25は、図示しない吸気ポンプに連結され、基板検査が終了するまで検査基板1を吸着してステージ2上に固定する。
The
この実施形態において、図2(a)においては、平行に配列されている回路パターン3と各溝列22とが直交する構成を示しているが、勿論これに限定されるものではなく、1本の回路パターン3に対して、それぞれ同じ数の溝列22が交差すれば、どのような角度で交差してもよい。つまり各回路パターン3と対向する溝列22の面積が略等しくなればよい。尚、溝列22において、図2(b)に示すように、短尺な溝23と短尺な溝23の境部分(ステージ載置面と検査基板裏面が密着する部分)29は、各列間で徐々にずれるように配置して、1本の回路パターンに重なり部分が集中して対向しないように配置する必要がある。
In this embodiment, FIG. 2A shows a configuration in which the
また、本実施形態ではステージ上における検査基板の受け渡しをリフトピンで行う構成であったが、これに限定されない。例えば、気体の吹き出し口を設けて、検査基板1を浮上させて受け取りを行い、吸気口25の吸気によりステージ上に吸着させる構成であってもよい。本実施形態における短尺な溝の中には、リフトピン24や基板吸着のための吸気口25、基板搬送のための昇降する搬送ローラ26及びネジ止め用の穴27等が設けられている。
In this embodiment, the inspection substrate is transferred on the stage using the lift pins. However, the present invention is not limited to this. For example, a configuration may be employed in which a gas blowout port is provided, the
以上説明したように本実施形態によれば、検査基板を吸着固定するステージの載置面に形成するストライプ配列された複数の溝(窪み部分)を回路パターンと交差するように形成する。この構成により、ステージに非密着な面積が各回路パターンにおいて略等しくすることができ、結果、各回路パターンからステージ側に漏れ出る電流が略等しくなる。 As described above, according to the present embodiment, a plurality of stripe-arranged grooves (depressions) formed on the mounting surface of the stage for attracting and fixing the inspection substrate are formed so as to intersect the circuit pattern. With this configuration, the area that is not in close contact with the stage can be made substantially equal in each circuit pattern, and as a result, the current leaking from each circuit pattern to the stage side becomes almost equal.
これにより検査対象の回路パターンを移動させた際に、センサ電極から検出される検出信号の変動を抑制して、回路パターンに対する良否の誤判定を防止することができる。尚、前述したステージ上の窪み部分による検出信号の変動は全く無くすことが好ましいが、良否判定するための判定値に対して誤判定を招かない範囲内であれば、多少の変動があっても問題はない。 As a result, when the circuit pattern to be inspected is moved, fluctuations in the detection signal detected from the sensor electrode can be suppressed, and erroneous determination of the quality of the circuit pattern can be prevented. It should be noted that it is preferable to eliminate the fluctuation of the detection signal due to the above-described depression on the stage. However, even if there is some fluctuation as long as it is within a range that does not cause an erroneous determination with respect to the determination value for determining pass / fail. No problem.
また、回路パターンの間隔(ピッチ)が狭い場合には、非接触による検査信号の印加は、検査対象の回路パターンに隣接する回路パターンにも与えられるクロストークが発生する場合があるが、センサ電極の大きさや印加電圧を調整することにより、クロストークによる誤判定を防止することができる。 In addition, when the circuit pattern interval (pitch) is narrow, the application of the non-contact inspection signal may cause crosstalk that is also given to the circuit pattern adjacent to the circuit pattern to be inspected. By adjusting the magnitude and the applied voltage, erroneous determination due to crosstalk can be prevented.
次に第2の実施形態について説明する。
図3は、第2の実施形態に係るステージ載置面における基板吸着用X字溝を形成した構成例を示す図である。
この第2の実施形態においても前述した第1の実施形態と同様に、回路パターンの各配線において、ステージに対する容量結合における容量差を少なくすることにより、検出信号の急峻な変化を無くすことを提供する構成例である。
Next, a second embodiment will be described.
FIG. 3 is a diagram illustrating a configuration example in which X-shaped grooves for substrate adsorption are formed on the stage mounting surface according to the second embodiment.
Also in the second embodiment, similar to the first embodiment described above, it is possible to eliminate a steep change in the detection signal by reducing the capacitance difference in the capacitive coupling to the stage in each wiring of the circuit pattern. It is the example of a structure to do.
本実施形態における窪み部分は、前述した短尺な溝の2つを「X」に交差させたX字溝31として形成する。このX字溝31は、4つの辺部32aと正方形の中央部32bとで構成される。
The recessed portion in the present embodiment is formed as an
このX字溝31は、2つの辺部32aが回路パターン3と同じ角度θで交差するように形成される。辺部32aの溝長は、設計仕様に基づき限定されない。また、辺部32aの溝幅と中央部32bは、例えば、その回路パターン3aが2つの辺部32aと対向する面積m(斜線部分)と回路パターン3bが中央部32bと対向する面積n(斜線部分)とが等しくなるように、溝幅及び中央部32bの幅を設定する。このような設定により、1つの回路パターン3が辺部32aと対向し、1つの回路パターン3が中央部32bと対向した場合であっても同じ非密着面積となり、電流の漏れる量が等しくなる。
The
本実実施形態では、複数のX字溝31が交互に2列に配置した例を示している。
この2列の配置例を1ユニットとして、図3に示すように、ステージの載置面の大きさや昇降可能な搬送ローラ数、昇降可能なリフトピン数及び吸気口数に応じて、ユニット単位で配置すればよい。本実施形態では、2列としたがこれに限定されず、3列又はそれ以上であってもよく、基本的には、各回路パターン3に対向するX字溝数(対向面積)が等しければよい。
In the present embodiment, an example is shown in which a plurality of
As an example of the arrangement of these two rows, as shown in FIG. 3, the unit is arranged in units according to the size of the stage mounting surface, the number of transport rollers that can be raised and lowered, the number of lift pins that can be raised and lowered, and the number of intake ports. That's fine. In the present embodiment, two rows are used, but the present invention is not limited to this, and may be three rows or more. Basically, the number of X-shaped grooves facing each circuit pattern 3 (opposing area) is equal. Good.
また、図3に示す配置においては、X字溝31bと隣接するX字溝31cの各2つの辺部32aが回路パターン3の長手方向において、重なり部分(斜線部分)を持ち、それらが回路パターン3と対向する部分の合計の面積pが前述した面積m又は面積nと略等しくなる位置に配置する。
またX字溝31内に気体の吹き出し口を設けて、検査基板1を浮上させてステージ上を移動可能に構成してもよい。尚、本実施形態におけるX字溝は、その長手方向と回路パターン3の長手方向とが交差するように傾きを持って配置されるものであり、課題の項で説明した従来の+字溝を含んでいない。つまり、検査信号の変動を抑制するためには、回路パターン3の長手方向と、窪み部分の溝の長手方向が重ならないように配置されなければならない。
In the arrangement shown in FIG. 3, each of the two
Further, a gas blowout port may be provided in the
以上説明したように本実施形態によれば、X字溝の一部どうしが重なりを持つように列配置して、載置された検査基板の回路パターンとは交差するように形成する。この構成により、ステージに非密着な面積を各回路パターンにおいて略等しくすることができる。従って、それぞれの回路パターンからステージ側に漏れ出る電流を略等しくさせることができる。その結果、センサ電極から検出される検出信号の変動を抑制して、回路パターンに対する良否の誤判定を防止することができる。また、X字溝の各辺部に気体吹き出し口を受けることにより、検査基板がステージに載置された際に位置ずれがあっても気体吹き出し量を調整することで位置補正を行いつつ載置して吸着固定することができる。 As described above, according to the present embodiment, the X-shaped grooves are arranged in a row so that part of the X-shaped grooves overlap each other, and are formed so as to intersect with the circuit pattern of the placed inspection board. With this configuration, the area that is not in close contact with the stage can be made substantially equal in each circuit pattern. Therefore, the current leaking from the respective circuit patterns to the stage side can be made substantially equal. As a result, fluctuations in the detection signal detected from the sensor electrode can be suppressed, and erroneous determination of whether the circuit pattern is good or bad can be prevented. In addition, by receiving the gas blowing port at each side of the X-shaped groove, even if there is a positional deviation when the inspection substrate is placed on the stage, it is placed while adjusting the position by adjusting the gas blowing amount. And can be fixed by adsorption.
本実施形態のX字溝は、従来の課題とした十字溝に対して、回路パターンと平行となる長い部分(辺)が無いため、急峻なキャパシタの変化が生じず、単なる外部状況による検出信号の変化が上限及び下限の閾値を越えることがなく、誤判定を招くことが無くなる。 The X-shaped groove of this embodiment does not have a long portion (side) parallel to the circuit pattern with respect to the conventional cross-shaped groove, so that a steep capacitor change does not occur, and a detection signal based on a simple external condition Change does not exceed the upper and lower thresholds, and misjudgment does not occur.
また、図3に示したX字溝31は、4つの辺部32aと正方形の中央部32bとで構成されているが、必ずしも中央部32bが正方形である必要はなく、図4の変形例に示すように、正方形の各辺が丸められた凹曲線の形状であってもよい。この曲がり加減は、4つの辺部32aと略面積が同じ、又は急峻な増減の変化が無ければよい。またこの凹部分は尖ったエッジ形状(2直線が交差して角度を持つ形状)ではなく、丸められた形状がよい。
Further, the
次に第3の実施形態について説明する。
図5(a)は、第3の実施形態に係るステージ載置面に形成する短尺な溝を交互に配置した構成例を示す図である。この第3の実施形態においても前述した第1の実施形態と同様に、回路パターンの各配線において、ステージに対する容量結合における容量差を少なくすることにより、検出信号の急峻な変化を緩和することを提供する構成例である。
Next, a third embodiment will be described.
FIG. 5A is a diagram illustrating a configuration example in which short grooves formed on the stage mounting surface according to the third embodiment are alternately arranged. Also in the third embodiment, as in the first embodiment described above, it is possible to alleviate a steep change in the detection signal by reducing the capacitance difference in the capacitive coupling to the stage in each wiring of the circuit pattern. It is a configuration example to be provided.
本実施形態は、前述した第1の実施形態における短尺な溝23を用いて、2列で破線状に交互に配置した破線状配置41の構成である。この構成において、短尺な溝23の端部と隣の列の近接する短尺な溝23の端部とが回路パターン方向に対して繋がりを持つように配置される。この繋がり部分は、回路パターン3と対向した際に、例えば図5(a)に示すように、短尺な溝23aと隣の列の近接する短尺な溝23bの各端部における斜線部分の合計面積rが他の対向する部分の面積gと略等しくなるように配置する。また、多少であれば重なりを持ってもよい。本実施形態では、矩形の溝を尚、この破線状配置41は、ステージの載置面の大きさや必要なリフトピン数や吸気口数に応じて、複数列を配置すればよい。
本実施形態では、短尺な溝23を2列一組に構成した例で説明したが、これに限定されるものではなく、3列及びそれ以上の列を一組とした破線状配置に構成してもよい。また、本実施形態では、矩形の短尺な溝23を例としているが、図5(b)に示すように、各角部を丸めて両端に円を有する形状(トラック形状)でもよいし、図5(c)に示すように、両端に尖形、例えば三角を有する形状であってもよい。
This embodiment is a configuration of a broken line-shaped
In the present embodiment, the example in which the
以上説明したように本実施形態によれば、第1の実施形態と同等の効果を得ることができる。この第3の実施形態では、ステージに非密着な面積が各回路パターンにおいて略等しくすることができ、結果、各回路パターンからステージ側に漏れ出る電流が略等しくなる。これにより検査対象の回路パターンを移動させた際に、センサ電極から検出される検出信号の変動を抑制して、回路パターンに対する良否の誤判定を防止することができる。 As described above, according to this embodiment, the same effect as that of the first embodiment can be obtained. In the third embodiment, the area that is not in close contact with the stage can be made substantially equal in each circuit pattern, and as a result, the current leaking from each circuit pattern to the stage side becomes almost equal. As a result, when the circuit pattern to be inspected is moved, fluctuations in the detection signal detected from the sensor electrode can be suppressed, and erroneous determination of the quality of the circuit pattern can be prevented.
次に第4の実施形態について説明する。
図6は、第4の実施形態に係るステージ載置面に形成した短尺な溝の千鳥配置51に構成した例を示す図である。この第4の実施形態においても前述した第1の実施形態と同様に、回路パターンの各配線において、ステージに対する容量結合における容量差を少なくすることにより、検出信号の急峻な変化を無くすことを提供する構成例である。
本実施形態は、前述した第3の実施形態における図5(b)に示した両端に円を有する形状の破線状に配置された短尺な溝52を用いて、千鳥配置51に構成している。この構成においても、前述した第3の実施形態と同様に、短尺な溝52aの後端部と隣の列の近接する短尺な溝52bの先端部とが回路パターンの長手方向で繋がりを持つように配置される。
Next, a fourth embodiment will be described.
FIG. 6 is a diagram showing an example of a
This embodiment is configured in a
この繋がり部分は、回路パターン3と対向した際に、短尺な溝52aと隣の列の近接する短尺な溝52bの各端部における斜線部分の合計面積sが他の対向する部分の面積tと略等しくなるように配置する。尚、この千鳥配置51は、ステージの載置面の大きさや必要なリフトピン数や吸気口数に応じて、複数列を配置すればよい。
When this connection portion is opposed to the
以上説明したように本実施形態によれば、第3の実施形態と同等の効果を得ることができる。この第4の実施形態では、ステージに非密着な面積が各回路パターンにおいて略等しくすることができ、結果、各回路パターンからステージ側に漏れ出る電流が略等しくなる。これにより検査対象の回路パターンを移動させた際に、センサ電極から検出される検出信号の変動を抑制して、回路パターンに対する良否の誤判定を防止することができる。 As described above, according to this embodiment, the same effect as that of the third embodiment can be obtained. In the fourth embodiment, the area that is not in close contact with the stage can be made substantially equal in each circuit pattern, and as a result, the current leaking from each circuit pattern to the stage side becomes almost equal. As a result, when the circuit pattern to be inspected is moved, fluctuations in the detection signal detected from the sensor electrode can be suppressed, and erroneous determination of the quality of the circuit pattern can be prevented.
次に第5の実施形態について説明する。
前述したステージ載置面上に設けられる溝は、ステージ載置面に対して角部(エッジ部分)を有して垂直に溝壁面が形成されているため、回路パターンが溝に掛かると基板底面に対して密着状態から溝底面までの距離分が急に増加して、キャパシタの容量が急激に変化する。これにより、検出された検査信号においても、信号値(波形)が急峻に変化し、回路パターンに対する良否の誤判定を招いている。そこで本実施形態は、ステージ上に形成された溝壁面部分を変形して、溝のエッジ部分による検出信号の急峻な変化を防止する構成である。
Next, a fifth embodiment will be described.
Since the groove provided on the stage mounting surface described above has a corner (edge portion) with respect to the stage mounting surface and a groove wall surface is formed perpendicularly, the bottom surface of the substrate when the circuit pattern is applied to the groove On the other hand, the distance from the close contact state to the bottom surface of the groove suddenly increases, and the capacitance of the capacitor changes rapidly. As a result, even in the detected inspection signal, the signal value (waveform) changes abruptly, leading to an erroneous determination of whether the circuit pattern is good or bad. Therefore, in the present embodiment, the groove wall surface portion formed on the stage is deformed to prevent a steep change in the detection signal due to the edge portion of the groove.
図7(a)乃至(c)は、第5の実施形態に係るステージ載置面に形成したネジ等のための円形穴における形成例を示す図である。
本実施形態では、ネジ穴を例として説明する。
実際に装置構築した場合には、ステージを組み付ける際にネジ止めする箇所も存在する。
FIGS. 7A to 7C are diagrams showing an example of forming a circular hole for a screw or the like formed on the stage mounting surface according to the fifth embodiment.
In this embodiment, a screw hole will be described as an example.
When the apparatus is actually constructed, there are places where screws are attached when the stage is assembled.
ネジを用いた構造の場合には、図7(a)に示すように、ネジ61のネジ頭部62が検査基板1に接触しないように、ある程度の深さに余裕を持たせたザグリとなる穴28を形成している。この穴28は、ネジ頭部62の形状にもよるが載置面から垂直に開口されている。課題として前述したように、この穴28のエッジ部分28aにおいても、受信した検出信号を大きく変化させて誤判定を引き起こす可能性がある。
In the case of a structure using a screw, as shown in FIG. 7A, a counterbore having a certain depth is provided so that the
そこで本実施形態では、図7(b)に示すように、ネジ頭部62までのエッジ部分28aを丸め処理を行い、角曲面64を形成する。または、図7(c)に示すようにネジ頭部62までのエッジ部分28aの面取り(テーパー処理)を行い、テーパー65を形成する。尚、ここでは、ネジ穴を例として説明したが勿論、ネジに限定されるものではなく、気体の吹き出し口、リフトピンの孔、その他にも適用することができる。また、丸める度合いや面取り角度は、穴径の大きさにより、好適する角度を経験的又は実験により見いだして適用すればよい。
Therefore, in the present embodiment, as shown in FIG. 7B, the edge portion 28a up to the
以上のように本実施形態によれば、ネジ止め等でステージ載置面に形成された溝を利用できない場合に、溝のエッジ部分を無くすことにより、検出信号の急峻な変化を緩和させることにより、判断値の補正変化に追従させて、誤判定を防止することができる。また、この丸める処理及びテーパー処理は、円形の穴に限定されるものではなく、穴形状が矩形、楕円又は三角形であっても同様に適用して、検出信号の急峻な変化を緩和させることができる。 As described above, according to the present embodiment, when the groove formed on the stage mounting surface cannot be used by screwing or the like, the sharp change in the detection signal can be reduced by eliminating the edge portion of the groove. It is possible to prevent erroneous determination by following the correction change of the determination value. In addition, the rounding process and the taper process are not limited to a circular hole, and can be similarly applied even when the hole shape is a rectangle, an ellipse, or a triangle, and a steep change in the detection signal can be reduced. it can.
次に、第6の実施形態について説明する。
前述した第1乃至第4の実施形態における溝は、ステージ載置面に均等に溝による空間の面積が回路パターンに対して、略同じ面積となるように分布させて配置している。
Next, a sixth embodiment will be described.
The grooves in the first to fourth embodiments described above are arranged on the stage mounting surface so that the area of the space by the grooves is substantially the same as the circuit pattern.
しかし、装置を作成する際には、回路パターンの長手方向に複数を配することはできない場合もある。また、検出信号に対する上限閾値及び下限閾値は、前述したように、所定期間の変動に対して最小二乗法を用いて算出しているため、検出信号値(波形)の急峻な変化でなければ、検査信号のうねり(基準値の変化)に追従している。そこで、本実施形態では、前述した第5の実施形態における丸め処理及びテーパー処理を溝に適用することにより、受信センサ電極が受信する検出信号の急峻な変化を緩和させる。 However, when creating a device, it may not be possible to place a plurality in the longitudinal direction of the circuit pattern. Further, as described above, the upper limit threshold and the lower limit threshold for the detection signal are calculated using the least square method with respect to fluctuations in a predetermined period, so that if the detection signal value (waveform) is not a steep change, It follows the swell of the inspection signal (change in the reference value). Therefore, in this embodiment, by applying the rounding process and the taper process in the fifth embodiment described above to the groove, a steep change in the detection signal received by the reception sensor electrode is alleviated.
図8(a)は、溝23のエッジ部分を全周に渡って丸める処理及びテーパー処理を行った構成例を上方向から見た図であり、図8(b)は、前記溝23のA−A方向における断面構成を示す図である。
FIG. 8A is a view of a configuration example in which an edge portion of the
この例では、ステージ載置面とテーパー72とのエッジ部分とテーパー72と溝底面73とのエッジ部分には、丸める処理を行っている。この溝23のテーパー角は、実際にデータを取って経験的に設定することが望ましい。これらの丸め処理やテーパー処理は、前述した第1乃至第4の実施形態における任意の長さを有する短尺な溝23やX字溝31等に対して適用する。
In this example, a rounding process is performed on the edge portion between the stage mounting surface and the
また、必ずしも溝全周に渡ってテーパーを設ける必要はなく、図8(b)に示すように、溝23において、図5(b)に示したような両端に円を有する形状の溝の円形部分に対してテーパー72を設けてもよい。
Further, it is not always necessary to provide a taper over the entire circumference of the groove. As shown in FIG. 8B, the
本実施形態によれば、溝のエッジに対して丸め処理又はテーパー処理を施すことにより必ずしも全部の回路パターンに対して同じ空間を設けるように溝を設ける必要はなく、必要なステージ載置面の箇所に適宜溝を設けることもできる。 According to the present embodiment, it is not always necessary to provide a groove so as to provide the same space for all circuit patterns by performing a rounding process or a taper process on the edge of the groove. A groove can also be appropriately provided at the location.
また、溝に掛かった回路パターンにおいては、溝に掛かっていない回路パターンが隣であっても、急峻な検出信号の変化が無く、上限閾値及び加減閾値が追従するため、ステージ載置面に対する回路パターンの空間が均一的になるように溝を形成しなくとも誤判定を防止することができる。 In addition, in the circuit pattern that is in the groove, even if the circuit pattern that is not in the groove is adjacent, there is no steep change in the detection signal, and the upper limit threshold value and the adjustment threshold value follow. It is possible to prevent erroneous determination without forming grooves so that the pattern space is uniform.
前述した第1乃至第6の実施形態では、液晶表示パネルのガラス基板に形成された直線的な回路パターンを例として説明した。しかし検査対象が他の電子部品であって、回路パターンが直線のみで形成されず角部分や曲線部分等を含んでいた場合には、その各導体パターンのステージとの非密着な部分の面積や結合容量が導体パターンどうしで略同じになるように、溝形成をすればよい。また、非密着な部分の面積や結合容量が略同じにできない場合には、第5または第6の実施形態を適用して、溝のエッジ部分を丸める処理又はテーパー処理を用いて検出信号の変化を緩慢化させて、上限及び下限閾値の補正を追従可能にして本発明の効果を奏するように実現してもよい。 In the first to sixth embodiments described above, the linear circuit pattern formed on the glass substrate of the liquid crystal display panel has been described as an example. However, if the inspection target is another electronic component and the circuit pattern is not formed with only a straight line but includes a corner portion or a curved portion, the area of the non-contact portion with the stage of each conductor pattern, Grooves may be formed so that the coupling capacitance is substantially the same between the conductor patterns. In addition, when the area and the coupling capacity of the non-adhered part cannot be made substantially the same, the fifth or sixth embodiment is applied to change the detection signal by using the process of rounding the edge part of the groove or the taper process. May be realized so that the correction of the upper limit and the lower limit threshold can be followed and the effect of the present invention can be achieved.
尚、前述した第1乃至第6の実施形態における窪み部分又は溝の中には、検査基板をステージの基板載置面に載置させる昇降可能なリフトピン、基板載置面上に載置された検査基板を吸着するための吸気口、基板搬送のための昇降する搬送ローラ及びネジが設けられている。
また、本実施形態では、送信センサ電極11aと受信センサ電極11bが共に回路パターンの端部(検査用パッド3a,3b)に対して非接触で移動しつつ、検査を行う例について説明したが、センサ電極の何れか一方が固定で接触し、他方が移動して検査を行うことも可能である。例えば、回路パターンの一方又は両端に電気的に接続するための短絡パターンが形成されている検査基板に対しては、送信センサ電極11aが、その短絡パターンに固定接触して検査信号を印加し、受信センサ電極11bは、非接触で回路パターン上を通過しつつ、検査信号を受信する形態でもよい。反対に、受信センサ電極11bをその短絡パターンに固定接触させ、送信センサ電極11aは、非接触で回路パターン上を通過しつつ、検査信号を印加する形態であってもよい。いずれの形態であっても回路パターンの検査を実施することができる。
In addition, in the recessed part or groove | channel in 1st thru | or 6th embodiment mentioned above, the lift pin which can be moved up and down which mounts an inspection board | substrate on the board | substrate mounting surface of a stage, and it mounted on the board | substrate mounting surface An intake port for adsorbing the inspection substrate, a transport roller that moves up and down for transporting the substrate, and a screw are provided.
In the present embodiment, the
以上説明した各実施形態対においては、説明した内容のみに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で各実施形態を組み合わせて実施することもでき、又はある構成を除いた状態であっても本発明の目的を達成することができる。 Each of the embodiments described above is not limited to the contents described, but can be implemented by combining the embodiments without departing from the scope of the invention, or a state in which a certain configuration is excluded. However, the object of the present invention can be achieved.
1…検査基板、2…ステージ、3…回路パターン、3a,3b…検査用パッド、4…検査部、5…検査駆動部、6…搬送部、7…制御処理部、8…入力部、9…表示部、10…吸着機構、11…センサ電極、11a…送信センサ電極、11b…受信センサ電極、24…リフトピン、25…孔、26…吸気口、27…溝、28…ネジ止め穴。
DESCRIPTION OF
Claims (2)
前記ステージに載置された前記検査基板上に形成された複数列の回路パターンの両端に対して間隔をあけてセンサ電極対を対向させて、該センサ電極対に対して該回路パターンと電気的に容量結合し、検査信号を非接触で印加し且つ非接触で検出信号を受信する検査部と、
前記検査部からの検出信号に基づき欠陥判定処理を行う制御処理部と、
を具備し、さらに、
前記ステージの前記検査基板を載置する基板載置面には、内部に前記搬送機構及び前記吸着機能を含む部材が配設される窪みが形成され、該窪みの壁部分も含めた外周を丸める、又は前記外周のエッジ部分を曲面に形成する、又は前記外周のエッジ部分をテーパー面に形成するのうちの少なくとも1つを形成し、
前記窪みによる、隣り合う回路パターン間における、該回路パターンと前記ステージとの間のそれぞれの容量結合値の変化を緩慢にすることを特徴とする回路パターン検査装置。 A stage equipped with a transport mechanism and a suction function, on which a transported flat inspection substrate having insulating properties is placed;
The sensor electrode pair is opposed to the both ends of a plurality of rows of circuit patterns formed on the inspection substrate placed on the stage, and the circuit pattern is electrically connected to the sensor electrode pair. An inspection unit that capacitively couples to the sensor, applies a test signal in a non-contact manner, and receives a detection signal in a non-contact manner;
A control processing unit that performs defect determination processing based on a detection signal from the inspection unit;
Further comprising
The substrate mounting surface on which the inspection substrate of the stage is mounted is formed with a recess in which the member including the transport mechanism and the suction function is disposed, and the outer periphery including the wall portion of the recess is rounded. Or forming at least one of forming the outer peripheral edge portion into a curved surface, or forming the outer peripheral edge portion into a tapered surface;
An apparatus for inspecting a circuit pattern, characterized in that a change in a capacitance coupling value between the circuit pattern and the stage between adjacent circuit patterns due to the depression is made slow.
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