JP4686351B2 - セルロースアシレートフィルム、セルロースアシレートフィルムの製造方法、並びにそれを用いた偏光板及び液晶表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、セルロースアシレートフィルム、セルロースアシレートフィルムの製造方法、並びにそれを用いた偏光板及び液晶表示装置に関する。

液晶表示装置は、消費電力の小さい少スペースの画像表示装置として年々用途が広がっている。従来、画像の視野角依存性が大きいことが液晶表示装置の大きな欠点であったが、近年、ＶＡモード、ＩＰＳモード等の高視野角液晶モードが実用化されており、これによりテレビ等の高視野角が要求される市場でも液晶表示装置の需要が急速に拡大しつつある。

これに伴い、液晶表示装置に用いられる光学補償フィルムに対しても、さらに広い範囲のレターデーションを発現することが要求されている。セルロースアシレートフィルムにレターデーションを発現させ、偏光板保護フィルムと位相差フィルムの２つの機能を合わせて付与する方法は、光学補償機能付き偏光板の製造工程を大幅に簡略化できることから様々な方法が検討されてきた。

セルロースアシレートフィルムにレターデーションを付与する方法としては、アシル化度の低いセルロースアシレートを用いる方法、特定の形状の化合物を添加する方法などが知られている。特に後者は添加剤の添加量のみでレターデーションを調整することができることから、レターデーションの異なるフィルムを簡便に作りわけられるというメリットがあり、特許文献１には円盤状化合物を添加する方法、特許文献２には棒状化合物を添加する方法が開示されている。
特開２００３−３４４６５５号公報 特開２００２−３６３３４３号公報

しかし、これらの方法は一定の効果を有するものの、さらに高いレターデーションを要求される場合、多量の添加が必要となり、レターデーション発現性とブリードアウトの両立が難しいという問題があった。さらには、面内のレターデーションが不均一になる、等の問題を有していた。

本発明の目的は、ブリードアウト等の面状故障を起こすことなく、均一で高レターデーションを有するセルロースアシレートフィルムを提供することである。
また、本発明の目的は、ブリードアウト等の面状故障を起こすことなく、高レターデーションを有し、面内レターデーションが均一であるセルロースアシレートフィルムを提供することである。
本発明の別の目的は、上記のセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板を使用した、広視野角で表示品位の高い液晶表示装置を提供することである。

本発明の研究者らは、セルロースアシレートフィルムに、分極率異方性および分子間の末端距離が特定の範囲内にあるレターデーション上昇剤を０．１質量％以上３０質量％以下含有させることにより、ブリードアウト等の面状故障を起こすことなく、レターデーションを大きく発現させることを見出した。また、上記のレターデーション上昇剤を含有するセルロースアシレートフィルムを特定の条件で延伸すると、レターデーション上昇剤の配向度が著しく向上するため、レターデーションを均一に大きく発現させることが可能であることを見出した。本発明はこれらの知見により発明を完成したものである。

すなわち、本発明の一つの側面は、以下のセルロースアシレートフィルムに係る。
〔１〕
下記数式（１）で表される棒状分極率異方性が３００×１０ ^−２５ ｃｍ ^３ 以上２０００×１０ ^−２５ ｃｍ ^３ 以下で、末端間距離が２ｎｍ以上１０ｎｍ以下の少なくとも１種類のレターデーション上昇剤と、下記数式（２）で表される平面分極率異方性が３００×１０ ^−２５ ｃｍ ^３ 以上１５００×１０ ^−２５ ｃｍ ^３ 以下で、末端間距離が２ｎｍ以上１０ｎｍ以下の少なくとも１種類のレターデーション上昇剤を、各々少なくとも１種類、セルロースアシレートに対して０．１質量％以上３０質量％以下含有することを特徴とするセルロースアシレートフィルム。
数式（１）：Δα＝α _ｘ −（α _ｙ ＋α _ｚ ）／２
数式（２）：Δα＝（α _ｘ ＋α _ｙ ）／２−α _ｚ
（式中、α _ｘ は、分極率テンソルを対角化後に得られる固有値の内、最大の成分であり；α _ｙ は、分極率テンソルを対角化後に得られる固有値の内、二番目に大きい成分であり；α _ｚ は、分極率テンソルを対角化後に得られる固有値の内、最小の成分である。）
〔２〕
波長５９０ｎｍにおけるＲｅ、及びＲｔｈが、
２０≦Ｒｅ≦２００
７０≦Ｒｔｈ≦４００
１≦Ｒｔｈ／Ｒｅ≦１０
を満たす〔１〕に記載のセルロースアシレートフィルム。（Ｒｅは面内のレターデーション、Ｒｔｈは厚さ方向のレターデーションを表す。）
〔３〕
棒状分極率異方性が３００×１０ ^−２５ ｃｍ ^３ 以上２０００×１０ ^−２５ ｃｍ ^３ 以下であり、分子の末端間距離が２ｎｍ以上１０ｎｍ以下のレターデーション上昇剤が、下記一般式（１）で表される化合物である〔１〕又は〔２〕に記載のセルロースアシレートフィルム。
一般式（１）：
Ａｒ ^１ −Ｌ ^１ −Ｘ−Ｌ ^２ −Ａｒ ^２
｛式中、Ａｒ ^１ 、Ａｒ ^２ は、それぞれ独立に、アリール基又は芳香族ヘテロ環を表す。Ｌ ^１ 、Ｌ ^２ は、それぞれ独立に、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ−を表す（Ｒは水素原子又はアルキル基を表す。）。Ｘは下記一般式（２）又は一般式（３）を表す。｝
一般式（２）：

（式中、Ｒ ^１ 、Ｒ ^２ 、Ｒ ^３ 、Ｒ ^４ 、Ｒ ^５ 、Ｒ ^６ 、Ｒ ^７ 及びＲ ^８ は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。）
一般式（３）：

（式中、Ｒ ^１１ 、Ｒ ^１２ 、Ｒ ^１３ 、Ｒ ^１４ 、Ｒ ^１５ 、Ｒ ^１６ 、Ｒ ^１７ 及びＲ ^１８ は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。）
〔４〕
棒状分極率異方性が３００×１０ ^−２５ ｃｍ ^３ 以上２０００×１０ ^−２５ ｃｍ ^３ 以下であり、分子の末端間距離が２ｎｍ以上１０ｎｍ以下のレターデーション上昇剤が、下記一般式（４）で表される化合物である〔１〕又は〔２〕に記載のセルロースアシレートフィルム。
一般式（４）

（式中、Ｒ ^２−１ 、Ｒ ^４−１ 、Ｒ ^５−１ はそれぞれ水素原子または置換基を表し、Ｒ ^１１−１ 、Ｒ ^１３−１ はそれぞれ水素原子またはアルキル基を表し、Ｌ ^１−１ 、Ｌ ^２−１ はそれぞれ単結合または２価の連結基を表す。Ａｒ ^１−１ はアリーレン基または芳香族へテロ環を表し、Ａｒ ^２−１ はアリール基または芳香族へテロ環を表し、ｎ−１は３以上の整数を表し、ｎ−１種存在するＬ ^２−１ 、Ａｒ ^１−１ はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。ただしＲ ^１１−１ 、Ｒ ^１３−１ は互いに異なっており、Ｒ ^１３−１ で表されるアルキル基はヘテロ原子を含まない。）
〔５〕
棒状分極率異方性が３００××１０ ^−２５ ｃｍ ^３ 以上２０００×１０ ^−２５ ｃｍ ^３ 以下であり、分子の末端間距離が２ｎｍ以上１０ｎｍ以下のレターデーション上昇剤が、下記一般式（５）で表される化合物である〔１〕又は〔２〕に記載のセルロースアシレートフィルム。
一般式（５）

（式中、Ｌ ^１ およびＬ ^２ は、それぞれ、単結合または二価の連結基を表す。Ｒ ^１ およびＲ ^２ は、それぞれ、水素原子または置換基である。Ｒ ^３ およびＲ ^４ は、それぞれ、置換基を表す。ｎは０〜４の整数を表し、ｎが２以上の場合は、複数存在するＲ ^３ はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよい。ｍは０〜４の整数を表し、ｍが２以上の場合は、複数存在するＲ ^４ はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、可能であれば互いに結合して環を形成してもよい。Ｘ ^１ は１〜５の整数を表す。Ｘ ^１ が２以上の場合は、複数存在する（Ｒ ^４ ） _ｍ はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。Ｒ ^４１ は水素原子または置換基を表す。）
〔６〕
数式（２）で表される平面分極率異方性が３００×１０ ^−２５ ｃｍ ^３ 以上１５００×１０ ^−２５ ｃｍ ^３ 以下で、末端間距離が２ｎｍ以上１０ｎｍ以下のレターデーション上昇剤が、下記一般式（６）で表される化合物である〔１〕又は〔２〕に記載のセルロースアシレートフィルム。
一般式（６）：

（式中、Ｒ ^２１ 、Ｒ ^２２ 及びＲ ^２３ は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、芳香族環基又は複素環基を表す。）
〔７〕
〔１〕〜〔６〕のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルムを製造する方法であって、セルロースアシレートフィルムを、１分間に１００％以下の延伸速度で３％以上２００％以下の延伸倍率で延伸した後、最大延伸倍率の５０％以上９９％以下の延伸倍率で、１秒以上１２０秒以下保持することを特徴とするセルロースアシレートフィルムの製造方法。
〔８〕
〔７〕の方法により製造された〔１〕〜〔６〕のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
〔９〕
偏光子の両面に保護フィルムが貼り合わされてなる偏光板において、該保護フィルムの少なくとも１枚が、〔１〕〜〔６〕及び〔８〕のいずれかに記載に記載のセルロースアシレートフィルムであることを特徴とする偏光板。
〔１０〕
保護フィルムの少なくとも片方の面上に、光学異方性層を有する〔９〕に記載の偏光板。
〔１１〕
保護フィルムの少なくとも片方の面上に、位相差フィルムが貼り合わされてなる〔９〕に記載の偏光板。
〔１２〕
液晶セル及びその両側に配置された２枚の偏光板を有し、その少なくとも１方の偏光板が〔９〕〜〔１１〕のいずれかに記載の偏光板であることを特徴とする液晶表示装置。
本発明は、上記〔１〕〜〔１２〕に係る発明であるが、以下、それ以外の事項についても記載している。

１．下記数式（１）で表される棒状分極率異方性が３００×１０^-25ｃｍ³以上２０００×１０^-25ｃｍ³以下であり、分子の末端間距離が２ｎｍ以上１０ｎｍ以下の、少なくとも１種類のレターデーション上昇剤を、セルロースアシレートに対して０．１重量％以上３０重量％以下含有することを特徴とするセルロースアシレートフィルム。
数式（１）：Δα＝α_x−（α_y＋α_z）／２
（式中、α_xは、分極率テンソルを対角化後に得られる固有値の内、最大の成分であり
；α_yは、分極率テンソルを対角化後に得られる固有値の内、二番目に大きい成分であり
；α_zは、分極率テンソルを対角化後に得られる固有値の内、最小の成分である。）

２．下記数式（２）で表される平面分極率異方性が３００×１０^-25ｃｍ³以上１５００×１０^-25ｃｍ³以下であり、分子の末端間距離が２ｎｍ以上１０ｎｍ以下の、少なくとも１種類のレターデーション上昇剤を、セルロースアシレートに対して０．１重量％以上３０重量％以下含有することを特徴とするセルロースアシレートフィルム。
数式（２）：Δα＝（α_x＋α_y）／２−α_z
（式中、α_xは、分極率テンソルを対角化後に得られる固有値の内、最大の成分であり
；α_yは、分極率テンソルを対角化後に得られる固有値の内、二番目に大きい成分であり
；α_zは、分極率テンソルを対角化後に得られる固有値の内、最小の成分である。）

３．下記数式（１）で表される棒状分極率異方性が３００×１０^-25ｃｍ³以上２０００×１０^-25ｃｍ³以下で、末端間距離が２ｎｍ以上１０ｎｍ以下の少なくとも１種類のレターデーション上昇剤と、下記数式（２）で表される平面分極率異方性が３００×１０^-25ｃｍ³以上１５００×１０^-25ｃｍ³以下で、末端間距離が２ｎｍ以上１０ｎｍ以下の少なくとも１種類のレターデーション上昇剤を、各々少なくとも１種類、セルロースアシレートに対して０．１質量％以上３０質量％以下含有することを特徴とするセルロースアシレートフィルム。
数式（１）：Δα＝α_x−（α_y＋α_z）／２
数式（２）：Δα＝（α_x＋α_y）／２−α_z
（式中、α_xは、分極率テンソルを対角化後に得られる固有値の内、最大の成分であり
；α_yは、分極率テンソルを対角化後に得られる固有値の内、二番目に大きい成分であり
；α_zは、分極率テンソルを対角化後に得られる固有値の内、最小の成分である。）

４．波長５９０ｎｍにおけるＲｅ、及びＲｔｈが、
２０≦Ｒｅ≦２００
７０≦Ｒｔｈ≦４００
１≦Ｒｔｈ／Ｒｅ≦１０
を満たす第１〜３項のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。（Ｒｅは面内のレターデーション、Ｒｔｈは厚さ方向のレターデーションを表す。）

５．棒状分極率異方性が３００×１０^-25ｃｍ³以上２０００×１０^-25ｃｍ³以下であり、分子の末端間距離が２ｎｍ以上１０ｎｍ以下のレターデーション上昇剤が、下記一般式（１）で表される化合物である第１、３および４項のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
一般式（１）：
Ａｒ¹−Ｌ¹−Ｘ−Ｌ²−Ａｒ²
｛式中、Ａｒ¹、Ａｒ²は、それぞれ独立に、アリール基又は芳香族ヘテロ環を表す。Ｌ¹、Ｌ²は、それぞれ独立に、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ−を表す（Ｒは水素原子又はアルキル基を表す。）。Ｘは下記一般式（２）又は一般式（３）を表す。｝
一般式（２）：

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷及びＲ⁸は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。）
一般式（３）：

（式中、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷及びＲ¹⁸は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。）

６．棒状分極率異方性が３００×１０^-25ｃｍ³以上１０００×１０^-25ｃｍ³以下であり、分子の末端間距離が２ｎｍ以上１０ｎｍ以下のレターデーション上昇剤が、下記一般式（４）で表される化合物である第１、３および４項のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
一般式（４）

（式中、Ｒ^2-1、Ｒ^4-1、Ｒ^5-1はそれぞれ水素原子または置換基を表し、Ｒ^11-1、Ｒ^13-1はそれぞれ水素原子またはアルキル基を表し、Ｌ^1-1、Ｌ^2-1はそれぞれ単結合または２価の連結基を表す。Ａｒ^1-1はアリーレン基または芳香族へテロ環を表し、Ａｒ^2-1はアリール基または芳香族へテロ環を表し、ｎ−１は３以上の整数を表し、ｎ−１種存在するＬ^2-1、Ａｒ^1-1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。ただしＲ^11-1、Ｒ^13-1は互いに異なっており、Ｒ^13-1で表されるアルキル基はへテロ原子を含まない。）
７．棒状分極率異方性が３００×１０^-25ｃｍ³以上２０００××１０^-25ｃｍ³以下であり、分子の末端間距離が２ｎｍ以上１０ｎｍ以下のレターデーション上昇剤が、下記一般式（５）で表される化合物である第１、３および４項のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
一般式（５）

（式中、Ｌ¹およびＬ²は、それぞれ、単結合または二価の連結基を表す。Ｒ¹およびＲ²は、それぞれ、水素原子または置換基である。Ｒ³およびＲ⁴は、それぞれ、置換基を表す。ｎは０〜４の整数を表し、ｎが２以上の場合は、複数存在するＲ³はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、可能であれば互いに結合して環を形成してもよい。ｍは０〜４の整数を表し、ｍが２以上の場合は、複数存在するＲ⁴はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよい。Ｘ¹は１〜５の整数を表す。Ｘ¹が２以上の場合は、複数存在する（Ｒ⁴）_mはそれぞれ同じでも異なっていてもよい。Ｒ⁴¹は水素原子または置換基を表す。）
８．数式（２）で表される平面分極率異方性が３００×１０^-25ｃｍ³以上１５００×１０^-25ｃｍ³以下で、末端間距離が２ｎｍ以上１０ｎｍ以下のレターデーション上昇剤が、下記一般式（４）で表される化合物である第２、３および４項のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
一般式（６）：

（式中、Ｒ²¹、Ｒ²²及びＲ²³は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、芳香族環基又は複素環基を表す。）

９．第１〜８項のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルムを製造する方法であって、セルロースアシレートフィルムを、１分間に１００％以下の延伸速度で３％以上２００％以下の延伸倍率で延伸した後、最大延伸倍率の５０％以上９９％以下の延伸倍率で、１秒以上１２０秒以下保持することを特徴とするセルロースアシレートフィルムの製造方法。
１０．第９項の方法により製造された第１〜８項のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。

１１．偏光子の両面に保護フィルムが貼り合わされてなる偏光板において、該保護フィルムの少なくとも１枚が、第１〜８及び１０項のいずれかに記載に記載のセルロースアシレートフィルムであることを特徴とする偏光板。
１２．保護フィルムの少なくとも片方の面上に光学異方性層を有する第１１項に記載の偏光板。
１３．保護フィルムの少なくとも片方の面上に、位相差フィルムが貼り合わされてなる第１１項に記載の偏光板。

１４．液晶セル及びその両側に配置された２枚の偏光板を有し、その少なくとも１方の偏光板が第１１〜１３項のいずれかに記載の偏光板であることを特徴とする液晶表示装置。

本発明によれば、ブリードアウト等の面状故障がなく、所望のレターデーションを有するセルロースアシレートフィルムを提供することができる。さらに、このセルロースアシレートフィルムを用いた本発明の偏光板を液晶表示装置に用いることで、広視野角で表示品位の高い液晶表示装置を提供することができる。

＜セルロースアシレートフィルム＞
〔レターデーション上昇剤〕
まず本発明で使用するレターデーション上昇剤について説明する。
本発明のレターデーション上昇剤の末端間距離は、２ｎｍ以上１０ｎｍ以下であることが必要である。末端間距離が該下限値より小さいと、レターデーション上昇剤がセルロースアシレート分子鎖に沿って配向しにくくなり、レターデーション上昇剤の有する分極率異方性がレターデーションに反映されにくい。一方、レターデーション上昇剤の末端間距離が該上限値を超えて長過ぎると、レターデーション上昇剤がセルロースアシレートに対して相溶しにくくなり、ブリードアウトが発生しやすくなるなどの問題が生じがちになる。レターデーション上昇剤の末端間距離は、好ましくは２．５ｎｍ以上８ｎｍ以下である。
末端間距離は、分子軌道法又は密度汎関数法を用いた計算によって、最適化された分子構造より求めることができる。

本発明で使用するレターデーション上昇剤は２種類に大別される。第１は、分子の棒状分極率異方性が大きいタイプのものであり、第２は分子の平面分極率異方性が大きいものである。

［分子の棒状分極率異方性が大きいレターデーション上昇剤］
まず、分子の棒状分極率異方性が大きいタイプのものについて詳しく説明する。
分子の分極率は、分子軌道法又は密度汎関数法を用いた計算により求めることができ、
下記数式（１）で表される棒状分極率異方性は３００×１０^-25ｃｍ³以上２０００×１０^-25ｃｍ³以下であることが必要である。棒状分極率異方性が該下限値より小さいと、セルロースアシレートのレターデーション発現性が小さくなる。一方、棒状分極率異方性が該上限値を超えて大きすぎると、セルロースアシレートとの相溶性が悪くなり、レターデーション上昇剤のブリードアウトが発生しやすくなるなどの問題が生じがちになる。棒状分極率異方性は、３５０×１０^-25ｃｍ³以上１５００×１０^-25ｃｍ³以下であることが好ましい。

数式（１）：Δα＝α_x−（α_y＋α_z）／２
（式中、α_xは、分極率テンソルを対角化後に得られる固有値の内、最大の成分であり；
α_yは、分極率テンソルを対角化後に得られる固有値の内、二番目に大きい成分であり；
α_zは、分極率テンソルを対角化後に得られる固有値の内、最小の成分である。）

本発明の棒状分極率異方性が３００×１０^-25ｃｍ³以上２０００×１０^-25ｃｍ³以下であり、分子の末端間距離が２ｎｍ以上１０ｎｍ以下のレターデーション上昇剤としては、下記一般式（１）で表される化合物が特に好ましい。

以下に、一般式（１）で表される化合物に関して詳細に説明する。
一般式（１）：
Ａｒ¹−Ｌ¹−Ｘ−Ｌ²−Ａｒ²

｛式中、Ａｒ¹、Ａｒ²は、それぞれ独立に、アリール基又は芳香族ヘテロ環を表す。Ｌ¹、Ｌ²は、それぞれ独立に、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ−を表す（Ｒは水素原子又はアルキル基を表す）。Ｘは下記一般式（２）又は一般式（３）を表す。｝
一般式（２）：

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷及びＲ⁸は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。）
一般式（３）：

（式中、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷及びＲ¹⁸は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。）

一般式（１）中、Ａｒ¹、Ａｒ²は、それぞれ独立に、アリール基又は芳香族ヘテロ環を表す。Ａｒ¹、Ａｒ²で表されるアリール基として好ましくは、炭素数６〜３０のアリール基であり、単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。また、可能な場合には置換基を有してもよく、このような置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。
Ａｒ¹、Ａｒ²で表されるアリール基としてより好ましくは、炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。

一般式（１）中、Ａｒ¹、Ａｒ²で表される芳香族ヘテロ環としては、酸素原子、窒素原子又は硫黄原子のうち少なくとも１つを含む芳香族ヘテロ環であれば何でもよいが、好ましくは酸素原子、窒素原子又は硫黄原子のうち少なくとも１つを含む５〜６員環の芳香族ヘテロ環である。また、可能な場合には更に置換基を有してもよい。置換基としては後述
の置換基Ｔが適用できる。

一般式（１）中、Ａｒ¹、Ａｒ²で表される芳香族ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデン、ピロロトリアゾール、ピラゾロトリアゾールなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾールである。

前記一般式（１）中、Ｌ¹、Ｌ²は、それぞれ独立に、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ−を表し（Ｒは水素原子又はアルキル基を表す）、どちらも同様に好ましい。
Ｒで表されるアルキル基としては、好ましくは炭素数１〜６アルキル基であり、より好ましくは炭素数１〜４のアルキル基である。更に好ましくは、Ｒは水素原子、メチル基を表し、特に好ましくは水素原子である。

前記一般式（２）において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷及びＲ⁸は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷及びＲ⁸として好ましくは、水素原子、アルキル基、アミノ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基、ヒドロキシ基、塩素原子、フッ素原子であり、特に好ましくは水素原子、フッ素原子であり、最も好ましくは水素原子である。

前記一般式（３）において、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷及びＲ¹⁸は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、置換基としては後述の置換基Tが適用できる。
Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷及びＲ¹⁸として好ましくは、水素原子、アルキル基、アミノ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基、ヒドロキシ基、塩素原子、フッ素原子であり、特に好ましくは水素原子、フッ素原子であり、最も好ましくは水素原子である。

一般式（１）のうち好ましくは一般式（１−１）である。
一般式（１−１）：

｛式中、Ｒ¹¹¹、Ｒ¹¹²、Ｒ¹¹³、Ｒ¹¹⁴、Ｒ¹¹⁵、Ｒ¹¹⁶、Ｒ¹¹⁷、Ｒ¹¹⁸、Ｒ¹¹⁹及びＲ¹²⁰は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。Ｌ₁、Ｌ₂及びＸは、それぞれ前記一般式（１）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。｝

Ｒ¹¹¹、Ｒ¹¹⁶は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、好ましくはアルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、より好ましくは、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基であり、更に好ましくはアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４）であり、特に好ましくはメトキシ基である。

Ｒ¹¹²、Ｒ¹¹⁷は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、より好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基であり、更に好ましくは水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４、より好ましくはメチル基である。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４）である。特に好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基である。

Ｒ¹¹³、Ｒ¹¹⁸は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、更に好ましくは、アルキル基、アルコキシ基であり、特に好ましくはアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４）である。最も好ましくはn-プロポキシ基、エトキシ基、メトキシ基である。

Ｒ¹¹⁴、Ｒ¹¹⁹は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表、好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、更に好ましくは、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４）であり、特に好ましくは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基であり、最も好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基である。

Ｒ¹¹⁵、Ｒ¹²⁰は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表、好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、より好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基であり、更に好ましくは水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４より好ましくはメチル基である。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６特に好ましくは炭素数１〜４）である。特に好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基である。

一般式（１）のうち、より好ましくは一般式（１−２）である。
一般式（１−２）：

｛式中、Ｒ¹¹¹、Ｒ¹¹²、Ｒ¹¹⁴、Ｒ¹¹⁵、Ｒ¹¹⁶、Ｒ¹¹⁷、Ｒ¹¹⁸、Ｒ¹¹⁹、Ｒ¹²⁰、Ｌ¹、Ｌ²及びＸは、それぞれ前記一般式（１−１）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。Ｒ¹²¹は炭素数１〜１２のアルキル基を表す。｝

一般式（１−２）中、Ｒ¹²¹は炭素数1〜１２のアルキル基を表し、該アルキル基は直鎖でも分岐があってもよく、また更に置換基を有してもよいが、好ましくは炭素数１〜１２のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜８アルキル基、更に好ましくは炭素数１〜６アルキル基、特に好ましくは炭素数１〜４のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基などが挙げられる）を表す。

一般式（１）のうち更に好ましくは一般式（１−３）である。
一般式（１−３）：

｛式中、Ｒ¹¹²、Ｒ¹¹⁴、Ｒ¹¹⁵、Ｒ¹¹⁶、Ｒ¹¹⁷、Ｒ¹¹⁸、Ｒ¹¹⁹、Ｒ¹²⁰、Ｒ¹²¹、Ｌ¹、Ｌ²及びＸは、それぞれ上記一般式（１−２）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。Ｒ¹²²は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。｝

Ｒ¹²²は、好ましくは水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基であり、より好ましくは水素原子、メチル基、エチル基であり、更に好ましくは水素原子又はメチル基であり、特に好ましくはメチル基である。

一般式（１）のうち特に好ましくは一般式（１−４）である。
一般式（１−４）：

｛式中、Ｒ¹¹²、Ｒ¹¹⁵、Ｒ¹¹⁶、Ｒ¹¹⁷、Ｒ¹¹⁸、Ｒ¹¹⁹、Ｒ¹²⁰、Ｒ¹²¹、Ｒ¹²²、Ｌ¹、Ｌ²及びＸは、それぞれ上記一般式（１−３）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。Ｒ¹²³は炭素数１〜４のアルキル基を表す。｝

Ｒ¹²³は、好ましくは炭素数１〜３のアルキル基であり、より好ましくはメチル基、エチル基であり、更に好ましくはメチル基である。

以下に前述の置換基Ｔについて説明する。
置換基Ｔとしては例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉ−プロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる）、置換又は未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。

また、置換基が２つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。

以下に前記一般式（１）で表される化合物に関して具体例をあげて詳細に説明するが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。

本発明一般式（１）〜（１−４）で表される化合物は、置換安息香酸とフェノール又はアニリン誘導体の、一般的なエステル化反応、アミド化反応によって合成でき、エステル
結合形成反応であればどのような反応を用いてもよい。例えば、置換安息香酸を酸ハロゲン化物に官能基変換した後、フェノール又はアニリン誘導体と縮合する方法、縮合剤又は触媒を用いて置換安息香酸とフェノール又はアニリン誘導体を脱水縮合する方法などがあげられる。製造プロセス等を考慮すると、置換安息香酸を酸ハロゲン化物に官能基変換した後、フェノール又はアニリン誘導体と縮合する方法が好ましい。

反応溶媒としては、炭化水素系溶媒（好ましくはトルエン、キシレン）、エーテル系溶媒（好ましくはジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなど）、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどを用いることができる。これらの溶媒は単独でも数種を混合して用いてもよく、反応溶媒として好ましくはトルエン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドである。

反応温度としては、好ましくは０〜１５０℃、より好ましくは０〜１００℃、更に好ましくは０〜９０℃であり、特に好ましくは２０℃〜９０℃である。

本反応には塩基を用いないのが好ましく、塩基を用いる場合には有機塩基、無機塩基のどちらでもよく、好ましくは有機塩基であり、ピリジン、三級アルキルアミン（好ましくはトリエチルアミン、エチルジイソプルピルアミンなど）である。

本発明の棒状分極率異方性が３００×１０^-25ｃｍ³以上２０００×１０^-25ｃｍ³以下であり、分子の末端間距離が２ｎｍ以上１０ｎｍ以下のレターデーション上昇剤としては、下記一般式（４）で表される化合物も特に好ましい。
以下に一般式（４）の化合物に関して詳細に説明する。
一般式（４）

（一般式（４）中、Ｒ^2-1、Ｒ^4-1、Ｒ^5-1はそれぞれ水素原子または置換基を表し、Ｒ^11-1、Ｒ^13-1はそれぞれ水素原子またはアルキル基を表し、Ｌ^1-1、Ｌ^2-1はそれぞれ単結合または２価の連結基を表す。Ａｒ^1-1はアリーレン基または芳香族へテロ環を表し、Ａｒ^2-1はアリール基または芳香族へテロ環を表し、ｎ−１は３以上の整数を表し、ｎ−１種存在するＬ^2-1、Ａｒ^1-1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。ただしＲ^11-1、Ｒ^13-1は互いに異なっており、Ｒ^13-1で表されるアルキル基はへテロ原子を含まない。）
一般式（４）中、Ｒ^2-1、Ｒ^4-1、Ｒ^5-1はそれぞれ水素原子または置換基を表し、置換基は後述の置換基Ｔ²が適用できる。

Ｒ^2-1として好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、より好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基であり、さらに好ましくは水素原子、アルキル基（好ましくは炭素原子数１〜４、より好ましくはメチル基である。）、アルコキシ基（好ましくは炭素原子数１〜１２、より好ましくは炭素原子数１〜８、さらに好ましくは炭素原子数１〜６、特に好ましくは炭素原子数１〜４）である。特に好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基であり、最も好ましくは水素原子である。

Ｒ^4-1として好ましくは、水素原子または電子供与性基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、さらに好ましくは、水素原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基（好ましくは好ましくは炭素原子数１〜８、より好ましくは炭素原子数１〜６、さらに好ましくは炭素原子数１〜４）であり、特に好ましくは水素原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のアルコキシ基であり、最も好ましくは水素原子、メトキシ基である。

Ｒ^5-1として好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、より好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基であり、さらに好ましくは水素原子、アルキル基（好ましくは炭素原子数１〜４より好ましくはメチル基である。）、アルコキシ基（好ましくは炭素原子数１〜１２、より好ましくは炭素原子数１〜８、さらに好ましくは炭素原子数１〜６特に好ましくは炭素原子数１〜４）である。特に好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基である。最も好ましくは水素原子である。

Ｒ^11-1およびＲ^13-1は、それぞれ水素原子またはアルキル基を表し、Ｒ^11-1、Ｒ^13-1は互いに異なっており、Ｒ^13-1で表されるアルキル基はへテロ原子を含まない。ここでヘテロ原子とは水素原子、炭素原子以外の原子のことを表し、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、リン、ケイ素、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、ホウ素などが挙げられる。
Ｒ^11-1およびＲ^13-1で表されるアルキル基としては、それぞれ、直鎖、分岐、または環状であって、置換もしくは無置換のアルキル基を表し、好ましくは置換もしくは無置換の炭素原子数１〜３０のアルキル基、炭素原子数３〜３０の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、炭素原子数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基（つまり、炭素原子数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った１価の基。）、さらに環構造が多いトリシクロ構造などが挙げられる。

Ｒ^11-1およびＲ^13-1で表されるアルキル基の好ましい例としては、それぞれ、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｉｓｏ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、１，１，３−トリメチルヘキシル基、ｎ−デシル基、２−ヘキシルデシル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、２−ヘキセニル基、オレイル基、リノレイル基、リノレニル基等を挙げることができる。また、シクロアルキル基としては、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基、ビシクロアルキル基としては、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基などを挙げることができる。

Ｒ^11-1としてさらに好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくはメチル基である。
Ｒ^13-1として特に好ましくは、炭素原子２個以上を含むアルキル基であり、より好ましくは炭素原子３個以上を含むアルキル基である。

以下に、Ｒ^13-1で表されるアルキル基の具体例をあげて説明するが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。

上記例中、＃は酸素原子と結合する側を意味する。

Ａｒ^1-1はアリーレン基または芳香族へテロ環を表し、繰り返し単位中のＡｒ^1-1は、すべて同一であっても異なっていてもよい。Ａｒ^2-1はアリール基または芳香族へテロ環を表す。
一般式（４）中、Ａｒ^1-1で表されるアリーレン基として好ましくは炭素原子数６〜３
０のアリーレン基であり、単環であってもよいし、さらに他の環と縮合環を形成してもよい。また、可能な場合には置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Ｔ²が適用できる。Ａｒ^1-1で表されるアリーレン基としてより好ましくは炭素原子数６〜２０、特に好ましくは炭素原子数６〜１２であり、例えばフェニレン基、ｐ−メチルフェニレン基、ナフチレン基などが挙げられる。
一般式（４）中、Ａｒ^2-1で表されるアリール基として好ましくは炭素原子数６〜３０のアリール基であり、単環であってもよいし、さらに他の環と縮合環を形成してもよい。また、可能な場合には置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Ｔ²が適用できる。Ａｒ^2-1で表されるアリール基としてより好ましくは炭素原子数６〜２０、特に好ましくは炭素原子数６〜１２であり、例えばフェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフタレン基などが挙げられる。

一般式（４）中、Ａｒ^1-1、Ａｒ^2-1で表される芳香族ヘテロ環は、好ましくは酸素原子、窒素原子または硫黄原子のうち少なくとも１つを含む芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは５ないし６員環の酸素原子、窒素原子または硫黄原子のうち少なくとも１つを含む芳香族ヘテロ環である。また、可能な場合にはさらに置換基を有してもよい。置換基としては後述の置換基Ｔ²が適用できる。

一般式（４）中、Ａｒ^1-1、Ａｒ^2-1で表される芳香族ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン環、ピロール環、チオフェン環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、トリアゾール環、トリアジン環、インドール環、インダゾール環、プリン環、チアゾリン環、チアゾール環、チアジアゾール環、オキサゾリン環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、キノリン環、イソキノリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、キノキサリン環、キナゾリン環、シンノリン環、プテリジン環、アクリジン環、フェナントロリン環、フェナジン環、テトラゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、ベンゾトリアゾール環、テトラザインデン環、ピロロトリアゾール環、ピラゾロトリアゾール環などが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましいものは、ベンズイミダゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、ベンゾトリアゾール環である。

一般式（４）中、Ｌ^1-1およびＬ^2-1はそれぞれ単結合、または２価の連結基を表す。Ｌ^1-1およびＬ^2-1は、同じであってもよく異なっていてもよい。また、繰り返し単位中のＬ^2-1は、すべて同一であっても異なっていてもよい。
２価の連結基として好ましいものは、−Ｏ−、−ＮＲ^1-1−（Ｒ^1-1は水素原子または置換基を有してもよいアルキル基またはアリール基を表す）、−ＣＯ−、−ＳＯ₂−、−Ｓ−、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基およびこれらの２価の基を２つ以上組み合わせて得られる基であり、その内より好ましいものは−Ｏ−、−ＮＲ−、−ＣＯ−、−ＳＯ₂ＮＲ^1-1−、−ＮＲ^1-1ＳＯ₂−、−ＣＯＮＲ^1-1−、−ＮＲ^1-1ＣＯ−、−ＣＯＯ−、および−ＯＣＯ−、アルキニレン基である。Ｒ^1-1は好ましくは水素原子を表す。

本発明における一般式（４）で表される化合物において、Ａｒ^1-1はＬ^1-1およびＬ^2-1と結合するが、Ａｒ^1-1がフェニレン基である場合、−Ｌ^1-1−Ａｒ^1-1−Ｌ^2-1−、および−Ｌ^2-1−Ａｒ^1-1−Ｌ^2-1−は互いにパラ位（１，４−位）の関係にあることが最も好ましい。

一般式（４）中、ｎ−１は３以上の整数を表し、好ましくは３〜７であり、より好ましくは３〜７であり、さらに好ましくは３〜６である。

前記一般式（４）の化合物のうち、下記一般式（４−２）または一般式（４−３）で表
される化合物は特に好ましく用いることができる。
一般式（４−２）

（一般式（４−２）中、Ｒ^2-1およびＲ^5-1は、それぞれ水素原子または置換基を表し、Ｒ^11-1およびＲ^13-1は、それぞれ水素原子またはアルキル基を表し、Ｌ^1-1およびＬ^2-1は、それぞれ単結合または２価の連結基を表す。Ａｒ^1-1はアリーレン基または芳香族へテロ環を表し、Ａｒ^2-1はアリール基または芳香族へテロ環を表し、ｎ−１は３以上の整数を表し、ｎ−１種存在するＬ^2-1、Ａｒ^1-1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。ただしＲ^11-1およびＲ^13-1は互いに異なっており、Ｒ^13-1で表されるアルキル基はへテロ原子を含まない。）

一般式（４−２）中、Ｒ^2-1、Ｒ^5-1、Ｒ^11-1、Ｒ^13-1は一般式（４）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。また、Ｌ^1-1、Ｌ^2-1、Ａｒ^1-1、Ａｒ^2-1は一般式（４）におけるそれらと同義であり、好ましい範囲も同様である。
一般式（４−３）

（一般式（４−３）中、Ｒ^2-1およびＲ^5-1は、それぞれ水素原子または置換基を表し、Ｒ^11-1、Ｒ^13-1およびＲ^14-1はそれぞれ水素原子またはアルキル基を表し、Ｌ^1-1およびＬ^2-1はそれぞれ単結合または２価の連結基を表す。Ａｒ^1-1はアリーレン基または芳香族へテロ環を表し、Ａｒ^2-1はアリール基または芳香族へテロ環を表し、ｎ−１は３以上の整数を表し、ｎ−１種存在するＬ^2-1、Ａｒ^1-1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。ただしＲ^11-1、Ｒ^13-1は互いに異なっており、Ｒ^13-1で表されるアルキル基はへテロ原子を含まない。）

一般式（４−３）中、Ｒ^2-1、Ｒ^5-1、Ｒ^11-1、Ｒ^13-1は一般式（４）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。また、Ｌ^1-1、Ｌ^2-1、Ａｒ^1-1、Ａｒ^2-1は一般式（４）におけるそれらと同義であり、好ましい範囲も同様である。
Ｒ^14-1は水素原子またはアルキル基を表し、アルキル基としてはＲ^11-1、Ｒ^13-1の好ましい例として示したアルキル基が好ましく用いられる。Ｒ^14-1は、より好ましくは、水素原子または炭素原子数１〜４のアルキル基を表し、さらに好ましくは水素原子または炭素原子数１〜３のアルキル基であり、最も好ましくはメチル基である。Ｒ^11-1とＲ^14-1は同じであっても異なっていてもよいが、ともにメチル基であることが特に好ましい。

また、一般式（４―４）もしくは一般式（４−５）で表される化合物も好ましい。
一般式（４−４）

（一般式（４−４）中、Ｒ^2-1およびＲ^5-1はそれぞれ水素原子または置換基を表し、Ｒ^11-1およびＲ^13-1はそれぞれ水素原子またはアルキル基を表し、Ｌ^1-1およびＬ^2-1はそれぞれ単結合または２価の連結基を表す。Ａｒ^1-1はアリーレン基または芳香族へテロ環を表し、ｎ−１は３以上の整数を表し、ｎ−１種存在するＬ^1-1およびＡｒ^1-1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。ただしＲ^11-1およびＲ^13-1は互いに異なっており、Ｒ^13-1で表されるアルキル基はへテロ原子を含まない。）
一般式（４−４）中、Ｒ^2-1、Ｒ^5-1、Ｒ^11-1、Ｒ^13-1、Ｌ^1-1、Ｌ^2-1、Ａｒ^1-1、ｎ−１は一般式（４）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。

一般式（４−５）

（一般式（４−５）中、Ｒ^2-1およびＲ^5-1はそれぞれ水素原子または置換基を表し、Ｒ^11-1、Ｒ^13-1およびＲ^14-1はそれぞれ水素原子またはアルキル基を表し、Ｌ^1-1およびＬ^2-1はそれぞれ単結合または２価の連結基を表す。Ａｒ^1-1はアリーレン基または芳香族へテロ環を表し、ｎ−１は３以上の整数を表し、ｎ−１種存在するＬ^1-1、Ａｒ^2-1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。ただしＲ^11-1、Ｒ^13-1は互いに異なっており、Ｒ^13-1で表されるアルキル基はへテロ原子を含まない。）

一般式（４−５）中、Ｒ^2-1、Ｒ^5-1、Ｒ^11-1、Ｒ^13-1、Ｌ^1-1、Ｌ^2-1、Ａｒ^1-1、ｎ−１は一般式（４）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。
Ｒ^14-1は一般式（４−３）におけるＲ^14-1と同義であり、また好ましい範囲も同様である。

以下に前述の置換基Ｔ²について説明する。
置換基Ｔ²としては例えば、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（好ましくは炭素原子数１〜３０のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素原子数３〜３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素原子数５〜３０の置換または無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素原子数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った１価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基）、アルケニル基（好ましくは炭素原子数２〜３０の置換または無置換のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素原子数３〜３０の置換または無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素原子数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った１価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル基、２−シクロヘキセン−１−イル基）、ビシクロアルケニル基（置換または無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素原子数５〜３０の置換または無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った１価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル基）、アルキニル基（好ましくは、炭素原子数２〜３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基）、アリール基（好ましくは炭素原子数６〜３０の置換または無置換のアリール基、例えばフェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基）、ヘテロ環基（好ましくは５または６員の置換または無置換の、芳香族または非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた１価の基であり、さらに好ましくは、炭素原子数３〜３０の５または６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素原子数１〜３０の置換または無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素原子数６〜３０の置換または無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素原子数３〜２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素原子数２〜３０の置換または無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基）、アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素原子数２〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素原子数６〜３０の置換または無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素原子数１〜３０の置換または無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素原子数２〜３０の置換または無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素原子数７〜３０の置換または無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基）、アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素原子数１〜３０の置換または無置換のアルキルアミノ基、炭素原子数６〜３０の置換または無置換のアニリノ基、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素原子数１〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素原子数６〜３０の置換または無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素原子数１〜３０の置換または無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜３０の置換または無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素原子数７〜３０の置換または無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、p−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素原子数０〜３０の置換または無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基）、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素原子数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルホニルアミノ、炭素原子数６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニルアミノ基、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素原子数１〜３０の置換または無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素原子数６〜３０の置換または無置換のアリールチオ基、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素原子数２〜３０の置換または無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）、スルファモイル基（好ましくは炭素原子数０〜３０の置換または無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ'フェニルカルバモイル）スルファモイル基）、スルホ基、アルキルおよびアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素原子数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基）、アルキルおよびアリールスルホニル基（好ましくは、炭素原子数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素原子数２〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素原子数７〜３０の置換または無置換のアリールカルボニル基、例えば、アセチル基、ピバロイルベンゾイル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素原子数７〜３０の置換または無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシカルボニル基）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素原子数２〜３０の置換または無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基）、カルバモイル基（好ましくは、炭素原子数１〜３０の置換または無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基）、アリールおよびヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素原子数６〜３０の置換または無置換のアリールアゾ基、炭素原子数３〜３０の置換または無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ基）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素原子数２〜３０の置換または無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素原子数２〜３０の置換または無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素原子数２〜３０の置換または無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素原子数２〜３０の置換または無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基）、シリル基（好ましくは、炭素原子数３〜３０の置換または無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基）が挙げられる。

上記の置換基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去りさらに上記の基で置換されていても良い。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。

また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。

一般式（４−４）または（４−５）で表される化合物として好ましいものは、Ｒ^11-1がメチル基であり、Ｒ^2-1、Ｒ^5-1がいずれも水素原子であり、Ｒ¹³が炭素原子３個以上をもつアルキル基であり、Ｌ^1-1およびＬ^2-1が、それぞれ、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ−、−ＳＯ₂ＮＲ−、−ＮＲＳＯ₂−、−ＣＯＮＲ−、−ＮＲＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−およびアルキニレン基（Ｒは水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、アリール基を表す。好ましくは水素原子である。）から選ばれ、Ａｒ^1-1がアリーレン基であり、ｎ−１が３〜６であるものを挙げることができる。

以下に一般式（４）で表される化合物に関して具体例をあげて詳細に説明するが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。

一般式（４）で表される化合物はまず置換安息香酸を合成した後に、この置換安息香酸とフェノール誘導体もしくはアニリン誘導体との一般的なエステル反応もしくはアミド化反応によって合成でき、エステル結合、アミド結合形成反応であればどのような反応を用いてもよい。例えば、置換安息香酸を酸ハロゲン化物に官能基変換した後、フェノール誘導体またはアニリン誘導体と縮合する方法、縮合剤あるいは触媒を用いて置換安息香酸とフェノール誘導体もしくはアニリン誘導体を脱水縮合する方法などが挙げられる。
一般式（４）で表される化合物の製造方法としては、製造プロセス等を考慮すると置換安息香酸を酸ハロゲン化物に官能基変換した後、フェノール誘導体もしくはアニリン誘導体と縮合する方法が好ましい。

一般式（４）で表される化合物の製造方法においては、反応溶媒として、炭化水素系溶媒（好ましくはトルエン、キシレンが挙げられる。）、エーテル系溶媒（好ましくはジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどが挙げられる）、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどを用いることができる。これらの溶媒は単独でも数種を混合して用いてもよく、前記溶媒として好ましくはトルエン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドである。

反応温度としては、好ましくは０〜１５０℃、より好ましくは０〜１００℃、さらに好ましくは０〜９０℃であり、特に好ましくは２０℃〜９０℃である。
また、本反応には塩基を用いないのが好ましい。塩基を用いる場合には有機塩基、無機塩基のどちらでもよく、好ましくは有機塩基であり、ピリジン、３級アルキルアミン（好ましくはトリエチルアミン、エチルジイソプルピルアミンなどが挙げられる）である。

一般式（４−４）または一般式（４−５）で表される化合物は、公知の方法で合成することができ、例えば、ｎ−１が４である化合物の場合、下記構造式（７）を有する原料化合物を、水酸基、アミノ基等の反応性部位を有する誘導体との反応に付して下記構造式（８）で表される中間体を得、該中間体 ２分子を、構造式（９）を有する化合物 １分子により連結することによって得ることができる。ただし、本発明における化合物の合成法はこの例に限定されない。

構造式（７）

（式中、Ａ^1-1は水酸基、ハロゲン原子等の反応性基を表し、Ｒ^11-1、Ｒ^2-1、Ｒ^13-1、およびＲ^5-1は先に記載した通りであり、Ｒ^4-1は水素原子もしくは前述のＯＲ^14-1で表される置換基である。）

構造式（８）

（式中、Ａ' ^1-1はカルボキシル基等の反応性基を表し、Ｒ^11-1、Ｒ^2-1、Ｒ^13-1、Ｒ^4-1、Ｒ^5-1、Ａｒ^1-1、およびＬ^1-1は先に記載した通りである。）

構造式（９）

（式中、Ｂ^1-1およびＢ' ^1-1は水酸基、アミノ基等の反応性基を表し、Ａｒ^2-1およびＬ^2-1は先に記載したＡｒ^1-1、Ｌ^2-1と同義である。）

本発明の棒状分極率異方性が３００×１０^-25ｃｍ³以上２０００×１０^-25ｃｍ³以下であり、分子の末端間距離が２ｎｍ以上１０ｎｍ以下のレターデーション上昇剤としては、下記一般式（５）で表される化合物も特に好ましい。
以下に式（５）の化合物に関して詳細に説明する。

一般式（５）

一般式（５）中、Ｌ¹およびＬ²は、それぞれ、単結合または二価の連結基を表す。
二価の連結基の具体例としては、例えば、−ＮＲ⁸−（Ｒ⁸は水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいアリール基を表し、水素原子が好ましい）で表される基、−ＳＯ₂−、−ＣＯ−、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアルケニレン基、アルキニレン基、置換もしくは無置換のフェニレン基、置換もしくは無置換のビフェニレン基、置換もしくは無置換のナフタレン基、−Ｏ−、−Ｓ−および−ＳＯ−ならびにこれらを２つ以上組み合わせて得られる基である。より好ましくは、Ｌ¹およびＬ²は、それぞれ、単結合、−ＮＲ⁸−、−Ｏ−または−Ｓ−であり、さらに好ましくは、単結合または−ＮＲ⁸−であり、最も好ましくは−ＮＲ⁸−である。

一般式（５）中、Ｒ¹およびＲ²は、それぞれ、水素原子または置換基である。置換基の例としては下記のものが適用できる。

ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換または無置換のシクロアルキル基
、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換または無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換または無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル基）、ビシクロアルケニル基（置換または無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５〜３０の置換または無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル基）、アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換または無置換のアリール基、例えばフェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基）、ヘテロ環基（好ましくは５または６員の置換または無置換の、芳香族または非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、さらに好ましくは、炭素数３〜３０の５または６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基）、アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換または無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基）、アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換または無置換のアニリノ基、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換または無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、p−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換または無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基）、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルホニルアミノ、炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニルアミノ基、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールチオ基、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０の置換または無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ'フェニルカルバモイル）スルファモイル基）、スルホ基、アルキルおよびアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基）、アルキルおよびアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換または無置換のアリールカルボニル基、例えば、アセチル基、ピバロイルベンゾイル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換または無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシカルボニル基）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基）、アリールおよびヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールアゾ基、炭素数３〜３０の置換または無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ基）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換または無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基）。

上記の置換基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去りさらに上記の基で置換されていてもよい。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。

Ｒ¹およびＲ²は、好ましくは、それぞれ、塩素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アミノ基であり、さらに好ましくは、塩素原子、アルキル基、アリール基、ヒドロキシル基、アミノ基である。

一般式（５）中、Ｒ³およびＲ⁴は、それぞれ、置換基を表す。置換基の例としてはＲ¹およびＲ²で挙げた例が挙げられる。
Ｒ³は、好ましくはハロゲン原子、アルキル基、シアノ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基であり、さらに好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、シアノ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基である。
Ｒ⁴は好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルファモイル基であり、さらに好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、シアノ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基である。

一般式（５）中、ｎは０〜４の整数を表し、ｎが２以上の場合は、複数存在するＲ³はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、可能であれば互いに結合して環を形成してもよい。ｎは好ましくは、０〜２の整数であり、より好ましくは０である。

一般式（５）中、ｍは０〜４の整数を表す。ｍが２以上の場合は、複数存在するＲ⁴はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、可能であれば互いに結合して環を形成してもよい。ｍは好ましくは、０〜３の整数である。

一般式（５）中、Ｘ¹は１〜５の整数を表す。Ｘ¹が２以上の場合は、複数存在する（Ｒ⁴）_mはそれぞれ同じでも異なっていてもよい。Ｘ¹は、好ましくは１〜３の整数であり、より好ましくは１または２である。

一般式（５）中、Ｒ⁴¹は水素原子または置換基を表す。置換基の例としてはＲ¹およびＲ²で挙げた例が挙げられる。好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、シアノ基、ヒド
ロキシル基、アルコキシ基、アリール基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基またはアルコキシカルボニルオキシ基である。

一般式（５）は、好ましくは一般式（５−２）で表される化合物である。
一般式（５−２）

一般式（５−２）中、Ｌ³は単結合または二価の連結基を表す。Ｌ³の例としては、Ｌ¹およびＬ²で挙げた例が挙げられ、好ましい範囲も同様である。

一般式（５−２）中、Ｒ⁵は水素原子または置換基を表す。Ｒ⁵の例としては、Ｒ¹およびＲ²で挙げた例が挙げられ、好ましい範囲も同様である。

一般式（５−２）中、Ｒ⁶およびＲ⁷は、それぞれ、置換基を表す。Ｒ⁶およびＲ⁷の例としてはＲ⁴で挙げた例が挙げられ、好ましい範囲も同様である。

一般式（５−２）中、ｊおよびｋは、それぞれ、０〜４の整数を表す。ｊおよびｋは、それぞれ好ましくは、０〜３の整数である。ｊが２以上の場合は、複数存在するＲ⁷はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、可能であれば互いに結合して環を形成してもよい。ｋが２以上の場合は、複数存在するＲ⁶はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、可能であれば互いに結合して環を形成してもよい。

一般式（５−２）中、Ｘ²は１〜５までの整数を表す。Ｘ²が２以上の場合は、複数存在する（Ｒ⁷）_jはそれぞれ同じでも異なっていてもよい。Ｘ²は好ましくは１〜３の整数で、より好ましくは１または２である。

一般式（５−２）中、Ｒ⁷¹は水素原子または置換基を表す。Ｒ⁷¹の例としてはＲ⁴¹で挙げた例が挙げられ、好ましい範囲も同様である。

一般式（５−２）中、Ｘ³は１〜５の整数を表す。Ｘ³が２以上の場合は、複数存在する（Ｒ⁶）_kはそれぞれ同じでも異なっていてもよい。Ｘ³は好ましくは１〜３の整数で、より好ましくは１または２である。

一般式（５−２）中、Ｒ⁶¹は水素原子または置換基を表す。Ｒ⁶¹の例としてはＲ⁴¹で挙げた例が挙げられ、好ましい範囲も同様である。

以下に一般式（５）で表される化合物に関して具体例をあげて詳細に説明するが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。下記化合物に関しては、指定のない限り括弧（ ）内の数字にて例示化合物（Ｘ）と示す。

ここで、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ、下記表１に表される基である。

ここで、表１における、Ｒ−１〜Ｒ−２３の基は、下記のとおりである。

分子の棒状分極率異方性が大きいレターデーション上昇剤は、少なくともその１種を、セルロースに対して０．１〜３０質量％添加することが必要であり、好ましくは０．５〜２０質量％、より好ましくは１〜１５質量％、特に好ましくは１〜１０質量％である。２種類以上を用いる場合には、その合計量が、上記の範囲を満たしていることが好ましい。

［分子の平面分極率異方性の大きいレターデーション上昇剤］
次に分子の平面分極率異方性の大きいレターデーション上昇剤について説明する。分子の平面分極率異方性の大きい化合物は芳香環等の平面性の高い化合物を、水素結合、共役結合などにより、平面性分子同士の立体配座を固定した形で連結することにより達成できる。

分子の分極率は分子軌道法又は密度汎関数法を用いた計算により求めることができ、下記数式（２）で表される平面分極率異方性が３００×１０^-25ｃｍ³以上１５００×１０^-25ｃｍ³以下であることが必要である。平面分極率異方性が該下限値より小さいと、セルロースアシレートのレターデーション発現性が小さくなり好ましくなる。一方、平面分極率異方性が該上限値を超えて大きすぎると、セルロースアシレートとの相溶性が悪くなり、レターデーション上昇剤のブリードアウトが発生しやすくなるなどの問題が生じがちになる。平面分極率異方性は、３５０×１０^-25ｃｍ³以上１５００×１０^-25ｃｍ³以下であることが好ましい。

数式（２）：Δα＝（α_x＋α_y）／２−α_z
（式中、α_xは、分極率テンソルを対角化後に得られる固有値の内、最大の成分であり；
α_yは、分極率テンソルを対角化後に得られる固有値の内、二番目に大きい成分であり；
α_zは、分極率テンソルを対角化後に得られる固有値の内、最小の成分である。）

本発明の平面分極率異方性が３００×１０^-25ｃｍ³以上１５００×１０^-25ｃｍ³以下であり、分子の末端間距離が２ｎｍ以上１０ｎｍ以下のレターデーション上昇剤としては、一般式（６）で表される化合物が特に好ましい。
一般式（６）：

（式中、Ｒ²¹、Ｒ²²及びＲ²³は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、芳香族環基又は複素環基である。）

まず、一般式（６）で表される化合物について詳しく説明する。
上記のようにＲ²¹、Ｒ²²及びＲ²³は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、芳香族環基又は複素環基を表すが、芳香族環又は複素環がより好ましい。Ｒ²¹、Ｒ²²、Ｒ²³がそれぞれ表す芳香族環は、フェニル又はナフチルであることが好ましい。Ｒ²¹、Ｒ²²、Ｒ²³は芳香環又は複素環に置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルファモイル基、アルキル置換スルファモイル基、アルケニル置換スルファモイル基、アリール置換スルファモイル基、スルオンアミド基、カルバモイル基、アルキル置換カルバモイル基、アルケニル置換カルバモイル基、アリール置換カルバモイル基、アミド基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基及びアシル基があげられる。

上記Ｒ²¹、Ｒ²²、Ｒ²³が複素環基を表す場合、複素環は芳香族性を有することが好まし
い。芳香族性を有する複素環とは、一般に不飽和複素環であり、好ましくは最多の二重結合を有する複素環である。複素環は５員環、６員環又は７員環であることが好ましく、５員環又は６員環であることがさらに好ましく、６員環であることが最も好ましい。複素環のヘテロ原子は、窒素原子、硫黄原子又は酸素原子であることが好ましく、窒素原子であることが特に好ましい。芳香族性を有する複素環としては、ピリジン環（複素環基としては、２−ピリジル又は４−ピリジル）が特に好ましい。複素環基は、置換基を有していてもよい。複素環基の置換基の例は、上記に挙げた置換基の例と同様である。これらの置換基は、上記置換基でさらに置換されていてもよい。

以下に本発明の一般式（６）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。

分子の平面分極率異方性の大きいレターデーション上昇剤は、少なくともその１種を、セルロースに対して０．１〜３０質量％添加することが必要であり、好ましくは０．５〜２０質量％、より好ましくは１〜１５質量％、特に好ましくは１〜１０質量％である。２種類以上を用いる場合には、その合計量が、上記の範囲を満たしていることが好ましい。

また、本発明の分子の棒状分極率異方性の大きいレターデーション上昇剤と、分子の平面分極率異方性の大きいレターデーション上昇剤は、併用して使用するとブリードアウトがより効果的に抑制され、特に好ましい。併用する場合には、その合計量が、上記の１種類の場合と同じ数値範囲を満たしていることが好ましい。これらレターデーション上昇剤の混合比は、分子の棒状分極率異方性の大きいレターデーション上昇剤１質量部に対して、平面分極率異方性の大きいレターデーション上昇剤０．０１〜１００質量部が好ましく、０．１〜１０質量部がさらに好ましい。

〔セルロースアシレート〕
次に、本発明に用いられるセルロースアシレートについて説明する。
セルロースアシレートの置換度は、セルロースの構成単位（β１→４−グリコシド結合しているグルコース）に存在している、３つの水酸基がアシル化されている割合を意味する。置換度は、セルロースの構成単位重量当りの結合脂肪酸量を測定して算出することができる。測定方法は、ＡＳＴＭ Ｄ８１７−９１に準じて実施する。

本発明のセルロースアシレートはアセチル化度が２．６以上３．０以下のセルロースアセテートが好ましい。アセチル化度は２．７以上２．９５以下がさらに好ましい。

さらに、もう一つの本発明の好ましいセルロースアシレートは、アシル化度が２以上２．９であり、アセチル基と炭素数が３〜４のアシル基を有する混合脂肪酸エステルである。アシル化度は２．２以上２．８５以下がさらに好ましく、２．５以上２．８以下が最も好ましい。また、アセチル化度は２．５未満が好ましく、１．９未満がさらに好ましい。
さらに全アシル化度に対する６位のアシル化度の比率は０．２５以上が好ましく、０．３以上がさらに好ましい。

本発明で用いられるセルロースアシレートは、３５０〜８００の重量平均重合度を有することが好ましく、３７０〜６００の重量平均重合度を有することがさらに好ましい。また本発明で用いられるセルロースアシレートは、７００００〜２３００００の数平均分子量を有することが好ましく、７５０００〜２３００００の数平均分子量を有することがさらに好ましく、７８０００〜１２００００の数平均分子量を有することが最も好ましい。

本発明で用いられるセルロースアシレートは、アシル化剤として酸無水物や酸塩化物を用いて合成できる。アシル化剤が酸無水物である場合は、反応溶媒として有機酸（例えば、酢酸）や塩化メチレンが使用される。触媒としては、硫酸のようなプロトン性触媒が用いられる。アシル化剤が酸塩化物である場合は、触媒として塩基性化合物が用いられる。工業的に最も一般的な合成方法では、セルロースをアセチル基及び他のアシル基に対応する有機酸（酢酸、プロピオン酸、酪酸）又はそれらの酸無水物（無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸）を含む混合有機酸成分でエステル化してセルロースエステルを合成する。

この方法において、綿花リンターや木材パルプのようなセルロースは、酢酸のような有機酸で活性化処理した後、硫酸触媒の存在下で、上記のような有機酸成分の混合液を用いてエステル化する場合が多い。有機酸無水物成分は、一般にセルロース中に存在する水酸基の量に対して過剰量で使用する。このエステル化処理では、エステル化反応に加えてセルロース主鎖β１→４−グリコシド結合）の加水分解反応（解重合反応）が進行する。主鎖の加水分解反応が進むとセルロースエステルの重合度が低下し、製造するセルロースエステルフイルムの物性が低下する。そのため、反応温度のような反応条件は、得られるセルロースエステルの重合度や分子量を考慮して決定することが好ましい。

重合度の高い（分子量の大きい）セルロースエステルを得るためには、エステル化反応工程における最高温度を５０℃以下に調節することが重要である。最高温度は、好ましくは３５〜５０℃、さらに好ましくは３７〜４７℃に調節する。反応温度が３５℃以上であれば、エステル化反応が円滑に進行するので好ましい。反応温度が５０℃以下であれば、セルロースエステルの重合度が低下するなどの不都合が生じないので好ましい。

エステル化反応の後、温度上昇を抑制しながら反応を停止すると、さらに重合度の低下を抑制でき、高い重合度のセルロースエステルを合成できる。すなわち、反応終了後に反応停止剤（例えば、水、酢酸）を添加すると、エステル化反応に関与しなかった過剰の酸無水物は、加水分解して対応する有機酸を副成する。この加水分解反応は激しい発熱を伴い、反応装置内の温度が上昇する。反応停止剤の添加速度が大きすぎることがなければ、反応装置の冷却能力を超えて急激に発熱して、セルロース主鎖の加水分解反応が著しく進行し、得られるセルロースエステルの重合度が低下するなどの問題が生じることはない。また、エステル化の反応中に触媒の一部はセルロースと結合しており、その大部分は反応停止剤の添加中にセルロースから解離する。このとき反応停止剤の添加速度が大きすぎなければ、触媒が解離するために充分な反応時間が確保され、触媒の一部がセルロースに結合した状態で残るなどの問題は生じにくい。強酸の触媒が一部結合しているセルロースエステルは安定性が非常に悪く、製品の乾燥時の熱などで容易に分解して重合度が低下する。これらの理由により、エステル化反応の後、好ましくは４分以上、さらに好ましくは４〜３０分の時間をかけて反応停止剤を添加して、反応を停止することが望ましい。なお、反応停止剤の添加時間が３０分以下であれば、工業的な生産性の低下などの問題が生じないので好ましい。

反応停止剤としては、一般に酸無水物を分解する水やアルコールが用いられている。ただし、本発明では、各種有機溶媒への溶解性が低いトリエステルを析出させないために、水と有機酸との混合物が、反応停止剤として好ましく用いられる。以上のような条件でエステル化反応を実施すると、重量平均重合度が５００以上である高分子量セルロースエステルを容易に合成することができる。

〔紫外線吸収剤〕
本発明のセルロースアシレートフィルムは、前記レターデーション上昇剤の他に紫外線（ＵＶ）吸収剤を含有してもよい。

紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることができるが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、特開平１０−１８２６２１号公報、特開平８−３３７５７４号公報記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号公報記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。本発明のセルロースアシレートフィルムを、偏光板の保護フィルムとして用いる場合、紫外線吸収剤としては、偏光子や液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れており、且つ、液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。

本発明に有用なベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の具体例として、２−（２'−ヒドロキシ−５'−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'，５'−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'−ｔ−ブチル−５'−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'，５'−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'−（３"，４"，５"，６"−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５'−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、２−（２'−ヒドロキシ−３'−ｔ−ブチル−５'−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、オクチル−３−［３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−［３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。

また、市販品として、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１０９」、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１」、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２６」、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２８」｛何れもチバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製｝を好ましく使用できる。

紫外線吸収剤の添加量は、セルロースアシレートに対して０．１質量％〜１０質量％であることが好ましい。

〔セルロースアシレートフィルムの製造〕
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ソルベントキャスト法により製造することができる。ソルベントキャスト法では、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフィルムを製造する。

有機溶媒は、炭素原子数が３〜１２のエーテル、炭素原子数が３〜１２のケトン、炭素原子数が３〜１２のエステル及び炭素原子数が１〜６のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒を含むことが好ましい。
エーテル、ケトン及びエステルは、環状構造を有していてもよい。エーテル、ケトン及びエステルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−及び−ＣＯＯ−）のいずれかを２つ以上有する化合物も、有機溶媒として用いることができる。有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。２種類以上の官能基を有する有機溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する溶媒の上記した好ましい炭素原子数範囲内であることが好ましい。

炭素原子数が３〜１２のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソール及びフェネトールが含まれる。
炭素原子数が３〜１２のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びメチルシクロヘキサノンが含まれる。
炭素原子数が３〜１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート及びペンチルアセテートが含まれる。
２種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノール及び２−ブトキシエタノールが含まれる。

ハロゲン化炭化水素の炭素原子数は、１又は２であることが好ましく、１であることが最も好ましい。ハロゲン化炭化水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている割合は、２５〜７５モル％であることが好ましく、３０〜７０モル％であることがより好ましく、３５〜６５モル％であることがさらに好ましく、４０〜６０モル％であることが最も好ましい。メチレンクロリドが、代表的なハロゲン化炭化水素である。
２種類以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。

セルロースアシレート溶液は、０℃以上の温度（常温又は高温）で処理することからなる一般的な方法で調製することができる。溶液の調製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調製方法及び装置を用いて実施することができる。なお、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化炭化水素（特にメチレンクロリド）を用いることが好ましい。

セルロースアシレートの量は、得られる溶液中に１０〜４０質量％含まれるように調整する。セルロースアシレートの量は、１０〜３０質量％であることがさらに好ましい。有機溶媒（主溶媒）中には、後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。

溶液は、常温（０〜４０℃）でセルロースアシレートと有機溶媒とを撹拌することにより調製することができる。高濃度の溶液は、加圧及び加熱条件下で撹拌してもよい。具体的には、セルロースアシレートと有機溶媒とを加圧容器に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以上、且つ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら撹拌する。加熱温度は、通常は４０℃以上であり、好ましくは６０〜２００℃であり、さらに好ましくは８０〜１１０℃である。

各成分は予め粗混合してから容器に入れてもよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は撹拌できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の不活性気体を注入して容器を加圧することができる。また、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加してもよい。

加熱する場合、容器の外部より加熱することが好ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いることができる。また、容器の外部にプレートヒーターを設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を加熱することもできる。

撹拌は、容器内部に撹拌翼を設けて、これを用いて行うことが好ましい。撹拌翼は、容器の壁付近に達する長さのものが好ましい。撹拌翼の末端には、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けることが好ましい。

容器には、圧力計、温度計等の計器類を設置してもよい。容器内で各成分を溶媒中に溶解する。調製したドープは冷却後容器から取り出すか、あるいは、取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。

冷却溶解法により、溶液を調製することもできる。冷却溶解法では、通常の溶解方法では溶解させることが困難な有機溶媒中にも、セルロースアシレートを溶解させることができる。なお、通常の溶解方法でセルロースアシレートを溶解できる溶媒であっても、冷却溶解法によると迅速に均一な溶液が得られるとの効果がある。

冷却溶解法では、最初に室温で有機溶媒中にセルロースアシレートを撹拌しながら徐々に添加する。セルロースアシレートの量は、この混合物中に１０〜４０質量％含まれるように調整することが好ましい。セルロースアシレートの量は、１０〜３０質量％であることがさらに好ましい。さらに、混合物中には後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。

次に、混合物を−１００〜−１０℃（好ましくは−８０〜−１０℃、さらに好ましくは−５０〜−２０℃、最も好ましくは−５０〜−３０℃）に冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴（−７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液（−３０〜−２０℃）中で実施できる。冷却によりセルロースアシレートと有機溶媒の混合物は固化する。

冷却速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上であることが最も好ましい。冷却速度は、速いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限である。なお、冷却速度は、冷却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を、冷却を開始してから最終的な冷却温度に達するまでの時間で割った値である。

さらに、これを０〜２００℃（好ましくは０〜１５０℃、さらに好ましくは０〜１２０℃、最も好ましくは０〜５０℃）に加温すると、有機溶媒中にセルロースアシレートが溶解する。昇温は、室温中に放置するだけでもよく、温浴中で加温してもよい。加温速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上であることが最も好ましい。加温速度は、速いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限である。なお、加温速度は、加温を開始する時の温度と最終的な加温温度との差を加温を開始してから最終的な加温温度に達するまでの時間で割った値である。

以上のようにして、均一な溶液が得られる。なお、溶解が不充分である場合は冷却、加温の操作を繰り返してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視により溶液の外観を観察するだけで判断することができる。

冷却溶解法においては、冷却時の結露による水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ましい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、加温時に減圧すると、溶解時間を短縮することができる。加圧及び減圧を実施するためには、耐圧性容器を用いることが望ましい。

なお、セルロースアセテート（酢化度：６０．９％、粘度平均重合度：２９９）を冷却溶解法によりメチルアセテート中に溶解した２０質量％の溶液は、示差走査熱量計（ＤＳＣ）による測定によると、３３℃近傍にゾル状態とゲル状態との疑似相転移点が存在し、この温度以下では均一なゲル状態となる。従って、この溶液は疑似相転移温度以上、好ま
しくはゲル相転移温度プラス１０℃程度の温度で保することが好ましい。ただし、この疑似相転移温度は、セルロースアセテートの酢化度、粘度平均重合度、溶液濃度や使用する有機溶媒により異なる。

調製したセルロースアシレート溶液（ドープ）から、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを製造する。ドープにはレターデーション上昇剤を添加することが好ましい。ドープは、ドラム又はバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１８〜３５％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラム又はバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ドープは、表面温度が１０℃以下のドラム又はバンド上に流延することが好ましい。

ソルベントキャスト法における乾燥方法については、米国特許２３３６３１０号、同２３６７６０３号、同２４９２０７８号、同２４９２９７７号、同２４９２９７８号、同２６０７７０４号、同２７３９０６９号及び同２７３９０７０号の各明細書、英国特許６４０７３１号及び同７３６８９２号の各明細書、並びに特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号及び同６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。バンド又はドラム上での乾燥は空気、窒素などの不活性ガスを送風することにより行なうことができる。

得られたフィルムをドラム又はバンドから剥ぎ取り、さらに１００℃から１６０℃まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して、残留溶媒を蒸発させることもできる。以上の方法は、特公平５−１７８４４号公報に記載がある。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラム又はバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。

調製したセルロースアシレート溶液（ドープ）を用いて２層以上の流延を行いフィルム化することもできる。この場合、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを作製することが好ましい。ドープは、ドラム又はバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１０〜４０質量％の範囲となるように濃度を調整することが好ましい。ドラム又はバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。

２層以上の複数のセルロースアシレート液を流延する場合、複数のセルロースアシレート溶液を流延することが可能で、支持体の進行方向に間隔をおいて設けられた複数の流延口からセルロースアシレートを含む溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフィルムを作製してもよい。例えば、特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、及び特開平１１−１９８２８５号の各公報に記載の方法を用いることができる。また、２つの流延口からセルロースアシレート溶液を流延することによっても、フィルム化することもできる。例えば、特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、特開昭６１−９４７２４５号、特開昭６１−１０４８１３号、特開昭６１−１５８４１３号、及び、特開平６−１３４９３３号の各公報に記載の方法を用いることができる。さらに特開昭５６−１６２６１７号公報に記載の高粘度セルロースアシレート溶液の流れを低粘度のセルロースアシレート溶液で包み込み、その高・低粘度のセルロースアシレート溶液を同時に押し出すセルロースアシレートフィルムの流延方法を用いることもできる。

また、２個の流延口を用いて、第一の流延口により支持体に成形したフィルムを剥ぎ取り、支持体面に接していた側に第二の流延を行うことにより、フィルムを作製することもできる。例えば、特公昭４４−２０２３５号公報に記載の方法を挙げることができる。

流延するセルロースアシレート溶液は同一の溶液を用いてもよいし、異なるセルロース
アシレート溶液を用いてもよい。複数のセルロースアシレート層に機能をもたせるために、その機能に応じたセルロースアシレート溶液を、それぞれの流延口から押し出せばよい。さらに本発明のセルロースアシレート溶液は、他の機能層（例えば、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、紫外線吸収層、偏光層など）と同時に流延することもできる。

従来の単層液では、必要なフィルムの厚さにするためには高濃度で高粘度のセルロースアシレート溶液を押し出すことが必要である。その場合セルロースアシレート溶液の安定性が悪くて固形物が発生し、ブツ故障となったり、平面性が不良となったりして問題となることが多かった。この問題の解決方法として、複数のセルロースアシレート溶液を流延口から流延することにより、高粘度の溶液を同時に支持体上に押し出すことができ、平面性も良化し優れた面状のフィルムが作製できるばかりでなく、濃厚なセルロースアシレート溶液を用いることで乾燥負荷の低減化が達成でき、フィルムの生産スピードを高めることができる。

セルロースアシレートフィルムには、劣化防止剤（例えば、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン等）を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、調製する溶液（ドープ）の０．０１〜１質量％であることが好ましく、０．０１〜０．２質量％であることがさらに好ましい。添加量が０．０１質量％以上であれば、劣化防止剤の効果が十分に発揮されるので好ましく、添加量が１質量％以下であれば、フィルム表面への劣化防止剤のブリードアウト（滲み出し）などが生じにくいので好ましい。特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、トリベンジルアミン（ＴＢＡ）を挙げることができる。

これら流延から後乾燥までの工程は、空気雰囲気下でもよいし窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下でもよい。本発明のセルロースアシレートフィルムの製造に用いる巻き取り機は、一般的に使用されているものでよく、定テンション法、定トルク法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法などの巻き取り方法で巻き取ることができる。

〔セルロースアシレートフィルムの諸特性〕
［セルロースアシレートフィルムの厚み］
本発明のセルロースアシレートフィルムの厚みは１０μｍ以上２００μｍ以下が好ましく、２０μｍ以上１５０μｍ以下がさらに好ましく、３０μｍ以上１００μｍ以下が最も好ましい。

［セルロースアシレートフィルムの含水率］
セルロースアシレートフィルムの含水率は、一定の温湿度における平衡含水率を測定することにより評価することができる。平衡含水率は、一定の温湿度に２４時間放置した後、平衡に達した試料の水分量をカールフィッシャー法で測定し、水分量（ｇ）を試料質量（ｇ）で除して算出したものである。
本発明のセルロースアシレートフィルムの２５℃、８０％ＲＨにおける含水率は５．０質量％以下であることが好ましく、４．３質量％以下であることがさらに好ましく、３．８質量％以下であることが最も好ましい。

［透湿度］
透湿度はＪＩＳ Ｚ−０２０８に記載の方法に則り、各試料の透湿度を測定し、面積１ｍ²当たり２４時間で蒸発する水分量（ｇ）として算出する。透湿度は偏光板の耐久性と
密接に関係したフィルム物性であり、透湿度を下げることにより偏光板耐久性を向上させることができる。本発明のセルロースアシレートフィルムは、６０℃、９５％ＲＨ、２４時間における透湿度が２００ｇ／ｍ²以上１７００ｇ／ｍ²以下であることが好ましい。より好ましくは、５００ｇ／ｍ²以上１４００ｇ／ｍ²以下である。

〔鹸化処理〕
本発明のセルロースアシレートフィルムはアルカリ鹸化処理することによりポリビニルアルコールとの密着性を付与し、偏光板保護フィルムとして用いることができる。

セルロースアシレートフィルムのアルカリ鹸化処理は、フイルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられ、水酸化イオンの濃度は０．１〜５．０ｍｏｌ／Ｌの範囲にあることが好ましく、０．５〜４．０ｍｏｌ／Ｌの範囲にあることがさらに好ましい。アルカリ溶液温度は、室温〜９０℃の範囲にあることが好ましく、４０〜７０℃の範囲にあることがさらに好ましい。

〔延伸処理〕
本発明の偏光板保護フィルムには、延伸処理されたセルロースアシレートフィルムも好ましく用いることができる。延伸処理によりセルロースアシレートフィルムに所望のレターデーションを付与することが可能であり、セルロースアシレートフィルムに位相差フィルムとしての機能も合わせて持たせることが可能となる。セルロースアシレートフィルムの延伸方向は幅方向、長手方向のいずれでも好ましい。

幅方向に延伸する方法は、例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、同４−２８４２１１号、同４−２９８３１０号、同１１−４８２７１号などの各公報に記載されている。

フィルムの延伸は、常温又は加熱条件下で実施する。加熱温度は、フィルムのガラス転移温度以下であることが好ましい。フィルムは、乾燥中の処理で延伸することができ、特に溶媒が残存する場合は有効である。長手方向の延伸の場合、例えば、フィルムの搬送ローラーの速度を調節して、フィルムの剥ぎ取り速度よりもフィルムの巻き取り速度の方を速くするとフィルムは延伸される。幅方向の延伸の場合、フィルムの巾をテンターで保持しながら搬送して、テンターの巾を徐々に広げることによってもフィルムを延伸できる。フィルムの乾燥後に、延伸機を用いて延伸すること（好ましくはロング延伸機を用いる一軸延伸）もできる。

フィルムの延伸倍率（延伸前のフィルムに対する伸び率）は、３％以上２００％以下が好ましく、５％以上１５０％以下がさらに好ましい。延伸速度は１％/分以上１００％/分以下が好ましく、５％/分以上８０％/分以下がさらに好ましく、１０％／分以上６０％/分以下が最も好ましい。

また、本発明のセルロースアシレートフィルムは、最大延伸倍率まで延伸したのちに、最大延伸倍率より低い延伸倍率で一定時間保持する工程（以下緩和工程）を経て製造されることが好ましい。緩和工程における延伸倍率は最大延伸倍率の５０％以上９９％以下が好ましく、７０％以上９７％以下がさらに好ましく、９０％以上９５％以下が最も好ましい。また、緩和工程の時間は１秒以上１２０秒以下が好ましく、５秒以上１００秒以下がさらに好ましい。

緩和工程の延伸倍率、時間を上記範囲にすることにより、レターデーション上昇剤の配向度が高まり、高レターデーションで且つ面内のレターデーションの変動が小さいセルロ
ースアシレートフィルムが得られる。本発明のレターデーション上昇剤は分子間距離が長く、配向状態が平衡状態に落ち着くのに時間を要するため、延伸速度及び緩和過程により配向状態をコントロールする方法は特に効果的である。

［フィルムのレターデーション］
本明細書において、Ｒｅ_λ、Ｒｔｈ_λは、それぞれ波長λにおける面内のレターデーション及び厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ_λは"ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ"｛王子計測機器（株）製｝において、波長λｎｍの光をフィルムの法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈ_λは、前記Ｒｅ_λ、面内の遅相軸（"ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ"により判断される）を傾斜軸（回転軸）として、フィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、及び面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の合計３つの方向で測定したレターデーション値を基に"ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ"が算出する。

ここで平均屈折率の仮定値は、「ポリマーハンドブック」（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ ＆
ＳＯＮＳ，Ｉｎｃ．）、及び各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについては、アッベ屈折計で測定することができる。

主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：
セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨによりｎ_x（製膜方向の屈折率）、ｎ_y（幅方向の屈折率）、ｎ_z（厚み方向の屈折率）を算出する。

本発明のセルロースアシレートフィルムのＲｅ₅₉₀は、２０〜２００ｎｍが好ましく、３０〜１５０ｎｍがさらに好ましく、６０〜１２０ｎｍが最も好ましい。Ｒｔｈ₅₉₀は５０〜４００ｎｍが好ましく、７０〜４００ｎｍがより好ましく、１００〜３００ｎｍがさらに好ましく、１５０〜２５０ｎｍが最も好ましい。
また、Ｒｔｈ₅₉₀／Ｒｅ₅₉₀比は１以上１０以下が好ましく、２以上８以下がさらに好ましい。

ＯＣＢ用モード及びＴＮ用モードでは、上記レターデーション値を有するセルロースアシレートフィルム上に光学異方性層を塗布して、光学補償フィルムとして使用できる。

［セルロースアシレートの光弾性］
本発明のセルロースアシレートの光弾性係数は６０×１０^-8ｃｍ²／Ｎ以下が好ましく、２０×１０^-8ｃｍ²がさらに好ましい。光弾性係数はエリプソメーターにより求めることができる。

［セルロースアシレートのガラス転移温度］
本発明のセルロースアシレートのガラス転移温度は、１２０℃以上が好ましく、更に１４０℃以上が好ましい。ガラス転移温度は、示差走査型熱量計（ＤＳＣ）を用いて昇温速度１０℃／分で測定したときにフィルムのガラス転移に由来するベースラインが変化しはじめる温度と再びベースラインに戻る温度との平均値として求めたものである。

＜偏光板＞
〔偏光板の構成〕
まず、本発明の偏光板を構成する保護フィルム、偏光子について説明する。
本発明の偏光板は、偏光子や保護フィルム以外にも、粘着剤層、セパレートフィルム、保護フィルムを構成要素として有していても構わない。

（１）保護フィルム
本発明の偏光板は、偏光子の両面に１枚ずつ合計２枚の保護フィルムを有し、その少なくとも１枚は本発明のセルロースアシレートフィルムである。また、２枚の保護フィルムのうち、少なくとも１枚は位相差フィルムとしての機能を合わせてもつことが好ましい。液晶表示装置に本発明の偏光板を用いる場合、液晶セルの両側に配置される２枚の偏光板の少なくとも一方が、本発明の偏光板であることが好ましい。

本発明において用いられる、本発明のセルロースアシレートフィルムとは別の側の保護フィルムは、ノルボルネン樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリアリレート、ポリスルフォン、セルロースアシレートなどから製造されたポリマーフィルムであることが好ましい。

（２）偏光子
本発明に用いられる偏光子は、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）と二色性分子から構成することが好ましいが、特開平１１−２４８９３７号公報に記載されているように、ＰＶＡやポリ塩化ビニルを脱水、脱塩素することによりポリエン構造を生成し、これを配向させたポリビニレン系偏光子も使用することができる。

ＰＶＡは、ポリ酢酸ビニルを鹸化したポリマー素材であるが、例えば不飽和カルボン酸、不飽和スルホン酸、オレフィン類、ビニルエーテル類のような酢酸ビニルと共重合可能な成分を含有しても構わない。また、アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等を含有する変性ＰＶＡも用いることができる。

ＰＶＡの鹸化度は、特に限定されないが、溶解性等の観点から８０〜１００モル％が好ましく、９０〜１００モル％が特に好ましい。またＰＶＡの重合度は特に限定されないが、１０００〜１００００が好ましく、１５００〜５０００が特に好ましい。

ＰＶＡのシンジオタクティシティーは、特許２９７８２１９号明細書に記載されているように耐久性を改良するため５５％以上が好ましいが、特許第３３１７４９４号明細書に記載されている４５〜５２．５％も好ましく用いることができる。

ＰＶＡはフィルム化した後、二色性分子を導入して偏光子を構成することが好ましい。ＰＶＡフィルムの製造方法は、ＰＶＡ系樹脂を水又は有機溶媒に溶解した原液を流延して成膜する方法が一般に好ましく用いられる。原液中のポリビニルアルコール系樹脂の濃度は、通常５〜２０質量％であり、この原液を流延法により製膜することによって、膜厚１０〜２００μｍのＰＶＡフィルムを製造できる。ＰＶＡフィルムの製造は、特許第３３４２５１６号明細書、特開平０９−３２８５９３号公報、特開２００１−３０２８１７号公報、特開２００２−１４４４０１号公報を参考にして行うことができる。

ＰＶＡフィルムの結晶化度は、特に限定されないが、特許第３２５１０７３号明細書に記載されている平均結晶化度（Ｘ_c）５０〜７５質量％や、面内の色相バラツキを低減させるため、特開２００２−２３６２１４号公報に記載されている結晶化度３８％以下のＰＶＡフィルムを用いることができる。

ＰＶＡフィルムの複屈折（△ｎ）は小さいことが好ましく、特許第３３４２５１６号明細書に記載されている、複屈折が１．０×１０^-3以下のＰＶＡフィルムを好ましく用いることができる。但し、特開２００２−２２８８３５号公報に記載されているように、ＰＶ
Ａフィルムの延伸時の切断を回避しながら高偏光度を得るため、ＰＶＡフィルムの複屈折を０．０２以上０．０１以下としてもよいし、特開２００２−０６０５０５号公報に記載されているように（ｎ_x＋ｎ_y）／２−ｎ_zの値を０．０００３以上０．０１以下としてもよい。ＰＶＡフィルムのレターデーション（面内）は０ｎｍ以上１００ｎｍ以下が好ましく、０ｎｍ以上５０ｎｍ以下がさらに好ましい。また、ＰＶＡフィルムのＲｔｈ（膜厚方向）は０ｎｍ以上５００ｎｍ以下が好ましく、０ｎｍ以上３００ｎｍ以下がさらに好ましい。

この他、本発明の偏光板には、特許３０２１４９４号明細書に記載されている、１，２−グリコール結合量が１．５モル％以下のＰＶＡフィルム；特開２００１−３１６４９２号公報に記載されている、５μｍ以上の光学的異物が１００ｃｍ²当たり５００個以下であるＰＶＡフィルム；特開２００２−０３０１６３号公報に記載されている、フィルムのＴＤ方向の熱水切断温度斑が１．５℃以下であるＰＶＡフィルム；さらにグリセリンなどの３〜６価の多価アルコ−ルを１〜１００質量部したり、特開平０６−２８９２２５号公報に記載されている可塑剤を１５質量％以上混合した溶液から製膜したＰＶＡフィルムを好ましく用いることができる。

ＰＶＡフィルムの延伸前のフィルム膜厚は、特に限定されないが、フィルム保持の安定性、延伸の均質性の観点から、１μｍ〜１ｍｍが好ましく、２０〜２００μｍが特に好ましい。特開２００２−２３６２１２号公報に記載されているように、水中において４倍から６倍の延伸を行った時に発生する応力が１０Ｎ以下となるような、薄いＰＶＡフィルムを使用してもよい。

二色性分子はＩ₃ ^-やＩ₅ ^-などの、高次のヨウ素イオン又は二色性染料を好ましく使用することができる。本発明では高次のヨウ素イオンが特に好ましく使用される。高次のヨウ素イオンは、「偏光板の応用」永田良編、ＣＭＣ出版や、「工業材料」第２８巻、第７号、ｐ．３９〜ｐ．４５に記載されているように、ヨウ素をヨウ化カリウム水溶液に溶解した液及び／又はホウ酸水溶液にＰＶＡを浸漬し、ＰＶＡに吸着・配向した状態で生成することができる。

二色性分子として二色性染料を用いる場合は、アゾ系色素が好ましく、特にビスアゾ系とトリスアゾ系色素が好ましい。二色性染料は水溶性のものが好ましく、このため二色性分子にスルホン酸基、アミノ基、水酸基などの親水性置換基が導入され、遊離酸、あるいはアルカリ金属塩、アンモニウム塩、アミン類の塩として好ましく用いられる。

このような二色性染料の具体例としては、例えば、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｒｅｄ ３７、 Ｃｏｎｇｏ Ｒｅｄ（Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｒｅｄ ２８）、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｖｉｏｌｅｔ １２、 Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｂｌｕｅ ９０、 Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｂｌｕｅ ２２、 Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｂｌｕｅ １、 Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｂｌｕｅ １５１、 Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｇｒｅｅｎ １等のベンジジン系；Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｙｅｌｌｏｗ ４４、 Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｒｅｄ ２３、 Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｒｅｄ ７９等のジフェニル尿素系；Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｙｅｌｌｏｗ １２等のスチルベン系；Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｒｅｄ ３１等のジナフチルアミン系；Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｒｅｄ ８１、 Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｖｉｏｌｅｔ ９、 Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｂｌｕｅ ７８等のＪ酸系などを挙げることができる。

これ以外にも、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｙｅｌｌｏｗ ８、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｙｅｌｌｏｗ ２８、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｙｅｌｌｏｗ ８６、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ
Ｙｅｌｌｏｗ ８７、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｙｅｌｌｏｗ １４２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒ
ｅｃｔ Ｏｒａｎｇｅ ２６、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｏｒａｎｇｅ ３９、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｏｒａｎｇｅ ７２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｏｒａｎｇｅ １０６、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｏｒａｎｇｅ １０７、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｒｅｄ ２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｒｅｄ ３９、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｒｅｄ ８３、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｒｅｄ ８９、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｒｅｄ ２４０、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ
Ｒｅｄ ２４２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｒｅｄ ２４７、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｖｉｏｌｅｔ ４８、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｖｉｏｌｅｔ ５１、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ
Ｖｉｏｌｅｔ ９８、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｂｌｕｅ １５、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ
Ｂｌｕｅ ６７、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｂｌｕｅ ７１、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｂｌｕｅ ９８、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｂｌｕｅ １６８、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｂｌｕｅ ２０２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｂｌｕｅ ２３６、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｂｌｕｅ ２４９、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｂｌｕｅ ２７０、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｇｒｅｅｎ ５９、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｇｒｅｅｎ ８５、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｂｒｏｗｎ ４４、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｂｒｏｗｎ １０６、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｂｒｏｗｎ １９５、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｂｒｏｗｎ ２１０、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ
Ｂｒｏｗｎ ２２３、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｂｒｏｗｎ ２２４、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｂｌａｃｋ １、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｂｌａｃｋ １７、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｂｌａｃｋ １９、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｂｌａｃｋ ５４等が、さらに特開昭６２−７０８０２号、特開平１−１６１２０２号、特開平１−１７２９０６号、特開平１−１７２９０７号、特開平１−１８３６０２号、特開平１−２４８１０５号、特開平１−２６５２０５号、特開平７−２６１０２４号の各公報記載の二色性染料等も好ましく使用することができる。各種の色相を有する二色性分子を製造するため、これらの二色性染料は２種以上を配合してもかまわない。二色性染料を用いる場合、特開２００２−０８２２２２号に記載されているように吸着厚みが４μｍ以上であってもよい。

フィルムのマトリックスを構成するポリビニルアルコール系重合体に対する上記二色性分子の含有量は、一般に０．０１質量％から５質量％の範囲に調整される。二色性分子の含有量が該下限値以上であれば、良好な偏光度が発現し、また該上限値以下であれば、単板透過率が低下するなどの問題が生じないので好ましい。

偏光子の好ましい膜厚としては、５μｍ〜４０μｍが好ましく、さらに好ましくは１０μｍ〜３０μｍである。偏光子の厚さと後述する保護フィルムの厚さの比を、特開２００２−１７４７２７号公報に記載されている０．０１≦Ｄ_A（偏光子膜厚）／Ｄ_B（保護フィルム膜厚）≦０．１６範囲とすることも好ましい。

保護フィルムの遅相軸と偏光子の吸収軸の交差角は、任意の値でよいが、平行もしくは４５±２０゜の方位角であることが好ましい。

〔偏光板の製造工程〕
次に、本発明の偏光板の製造工程について説明する。
本発明における偏光板の製造工程は、ＰＶＡフィルムの膨潤工程、染色工程、硬膜工程、延伸工程、乾燥工程、保護フィルムの貼り合わせ工程、貼り合わせ後乾燥工程から構成されることが好ましい。染色工程、硬膜工程、延伸工程の順序を任意に変えること、また、いくつかの工程を組み合わせて同時に行っても構わない。さらに特許第３３３１６１５号明細書に記載されているように、硬膜工程の後に水洗することも好ましく行うことができる。

本発明では、ＰＶＡフィルムの膨潤工程、染色工程、硬膜工程、延伸工程、乾燥工程、保護フィルム貼り合わせ工程、貼り合わせ後乾燥工程を記載の順序で遂次行うことが特に好ましい。また、上記工程中又は工程後にオンライン面状検査工程を設けても構わない。

ＰＶＡフィルムの膨潤工程は、水のみで行うことが好ましいが、特開平１０−１５３７０９号公報に記載されているように、光学性能の安定化及び、製造ラインでの偏光板基材のシワ発生回避のために、偏光板基材をホウ酸水溶液により膨潤させて、偏光板基材の膨潤度を管理することもできる。
また膨潤工程の温度、時間は、任意に定めることができるが、１０℃以上６０℃以下、５秒以上２０００秒以下が好ましい。

ＰＶＡフィルムの染色工程は、特開２００２−８６５５４号公報に記載の方法を用いることができる。また染色方法としては、浸漬だけでなく、ヨウ素又は染料溶液の塗布又は噴霧等、任意の手段が可能である。また、特開２００２−２９００２５号公報に記載されているように、ヨウ素の濃度、染色浴温度、浴中の延伸倍率、及び浴中の浴液を撹拌させながら染色させる方法を用いてもよい。

二色性分子として高次のヨウ素イオンを用いる場合、高コントラストな偏光板を得るためには、染色工程はヨウ素をヨウ化カリウム水溶液に溶解した液を用いることが好ましい。この場合のヨウ素−ヨウ化カリウム水溶液のヨウ素は、０．０５〜２０ｇ／Ｌ、さらには０．５〜２ｇ／Ｌ；ヨウ化カリウムは３〜２００ｇ／Ｌ、さらには３０〜１２０ｇ／Ｌ；ヨウ素：ヨウ化カリウムの質量比は１：１〜２０００、さらには１：３０〜１２０が好ましい範囲である。染色時間は１０〜１２００秒、さらには３０〜６００秒が好ましく、液温度は１０〜６０℃、さらには２０〜５０℃が好ましい。

また、特許第３１４５７４７号明細書に記載されているように、染色液にホウ酸、ホウ砂等のホウ素系化合物を添加してもよい。

ＰＶＡフィルムの硬膜工程は、ＰＶＡフィルムを架橋剤溶液に浸漬、又は該フィルムに架橋剤溶液を塗布して架橋剤を含ませるのが好ましい。また、特開平１１−５２１３０号公報に記載されているように、硬膜工程を数回に分けて行うこともできる。

架橋剤としては米国再発行特許第２３２８９７号明細書に記載のものが使用でき、特許第３３５７１０９号明細書に記載されているように、寸法安定性を向上させるため、架橋剤として多価アルデヒドを使用することもできるが、ホウ酸類が最も好ましく用いられる。硬膜工程に用いる架橋剤としてホウ酸を用いる場合には、ホウ酸−ヨウ化カリウム水溶液に金属イオンを添加してもよい。金属イオンとしては塩化亜鉛が好ましいが、特開２０００−３５５１２号公報に記載されているように、塩化亜鉛の代わりに、ヨウ化亜鉛などのハロゲン化亜鉛、硫酸亜鉛、酢酸亜鉛などの亜鉛塩を用いることもできる。

本発明では、塩化亜鉛を添加したホウ酸−ヨウ化カリウム水溶液を作製し、ＰＶＡフィルムを浸漬させて硬膜を行うことが好ましく行われる。ホウ酸は１〜１００ｇ／Ｌ、さらには１０〜８０ｇ／Ｌ；ヨウ化カリウムは１〜１２０ｇ／Ｌ、さらには５〜１００ｇ／Ｌ；塩化亜鉛は０．０１〜１０ｇ／Ｌ、さらには０．０２〜８ｇ／Ｌ；硬膜時間は１０〜１２００秒、さらには３０〜６００秒；液温度は１０〜６０℃、さらには２０〜５０℃が好ましい。

ＰＶＡフィルムの延伸工程は、米国特許２，４５４，５１５号明細書などに記載されているような、縦一軸延伸方式、もしくは特開２００２−８６５５４号公報に記載されているようなテンター方式を好ましく用いることができる。好ましい延伸倍率は２倍以上１２倍以下であり、さらに好ましくは３倍以上１０倍以下である。また延伸倍率と原反厚さと偏光子厚さの関係は、特開２００２−０４０２５６号公報に記載されている：
（保護フィルム貼合後の偏光子膜厚／原反膜厚）×（全延伸倍率）＞０．１７
としたり、最終浴を出た時の偏光子の幅と保護フィルム貼合時の偏光子幅の関係は特開２００２−０４０２４７号公報に記載されている：
０．８０≦（保護フィルム貼合時の偏光子幅／最終浴を出た時の偏光子の幅）≦０．９５
としたりすることも好ましく行うことができる。

ＰＶＡフィルムの乾燥工程は、特開２００２−８６５５４号公報で公知の方法を使用できるが、好ましい温度範囲は３０℃〜１００℃であり、好ましい乾燥時間は３０秒〜６０分である。また、特許第３１４８５１３号明細書に記載されているように、水中退色温度を５０℃以上とするような熱処理を行ったり、特開平０７−３２５２１５号公報や特開平０７−３２５２１８号公報に記載されているように、温湿度管理した雰囲気でエージングしたりすることも好ましく採用することができる。

保護フィルム貼り合わせ工程は、乾燥工程を出た前述の偏光子の両面を、２枚の保護フィルムで貼合する工程である。貼合直前に接着液を供給し、偏光子と保護フィルムを重ね合わせるように、一対のロールで貼り合わせる方法が好ましく使用される。また、特開２００１−２９６４２６号公報及び特開２００２−８６５５４号公報に記載されているように、偏光子の延伸に起因するレコードの溝状の凹凸を抑制するため、貼り合わせ時の偏光子の水分率を調整することが好ましい。本発明では０．１質量％〜３０質量％の水分率が好ましく用いられる。

偏光子と保護フィルムとの接着剤は、特に限定されないが、ＰＶＡ系樹脂（アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等の変性ＰＶＡを含む）やホウ素化合物水溶液等が挙げられ、中でもＰＶＡ系樹脂が好ましい。接着剤層厚みは、乾燥後に０．０１〜５μｍが好ましく、０．０５〜３μｍが特に好ましい。

また、偏光子と保護フィルムの接着力を向上させるために、保護フィルムを表面処理して、親水化してから接着することが好ましく行われる。表面処理の方法には、特に制限は無いが、アルカリ溶液を用いて鹸化する方法、コロナ処理法など公知の方法を用いることができる。さらに表面処理後にゼラチン下塗層等の易接着層を設けてもよい。特開２００２−２６７８３９号公報に記載されているように保護フィルム表面の水との接触角は５０°以下が好ましい。

貼り合わせ後乾燥条件は、特開２００２−８６５５４号公報に記載の方法に従うが、好ましい温度範囲は３０℃〜１００℃であり、好ましい乾燥時間は３０秒〜６０分である。また、特開平０７−３２５２２０号公報に記載されているように温湿度管理をした雰囲気でエージングすることも好ましい。

偏光子中の元素含有量は、ヨウ素０．１〜３．０ｇ／ｍ²、ホウ素０．１〜５．０ｇ／ｍ²、カリウム０．１〜２．００ｇ／ｍ²、亜鉛０〜２．００ｇ／ｍ²であることが好ましい。また、カリウム含有量は特開２００１−１６６１４３号公報に記載されているように０．２質量％以下であってもよいし、偏光子中の亜鉛含有量を特開２０００−０３５５１２号公報に記載されている０．０４質量％〜０．５質量％としてもよい。

特許第３３２３２５５号明細書に記載されているように、偏光板の寸法安定性をあげるために、染色工程、延伸工程及び硬膜工程のいずれかの工程において、有機チタン化合物及び／又は有機ジルコニウム化合物を添加使用し、有機チタン化合物及び有機ジルコニウム化合物から選ばれた、少なくとも一種の化合物を含有することもできる。また、偏光板の色相を調整するために二色性染料を添加してもよい。

〔偏光板の特性〕
（１）透過率及び偏光度
本発明の偏光板の、下記数式（３）で定義される好ましい単板透過率は、４２．５％以上４９．５％以下であるが、さらに好ましくは４２．８％以上４９．０％以下である。下記数式（４）で定義される偏光度の好ましい範囲は、９９．９００％以上９９．９９９％以下であり、さらに好ましくは９９．９４０％以上９９．９９５％以下である。平行透過率の好ましい範囲は３６％以上４２％以下であり、直交透過率の好ましい範囲は、０．００１％以上０．０５％以下である。下記数式（５）で定義される二色性比の好ましい範囲は４８以上、１２１５以下であるが、さらに好ましくは５３以上５２５以下である。

上記の透過率は、ＪＩＳ Ｚ−８７０１に基づいて、下記数式（３）により定義される。
数式（３）：

ここで、Ｋ、Ｓ（λ）、ｙ（λ）、τ（λ）は以下の通りである。

Ｓ（λ）：色の表示に用いる標準光の分光分布
ｙ（λ）：ＸＹＺ表色系（ＣＩＥ１９３１表色系）における等色関数
τ（λ）：分光透過率

また本発明の偏光板の偏光度は下記数式（４）により定義される。
数式（４）：

さらに本発明の偏光板の二色性比（Ｒｄ）は下記数式（５）により定義される。
数式（５）：

ヨウ素濃度と単板透過率は、特開２００２−２５８０５１号公報に記載されている範囲であってもよい。

平行透過率は、特開２００１−０８３３２８号公報や特開２００２−０２２９５０号公報に記載されているように波長依存性が小さくてもよい。偏光板をクロスニコルに配置した場合の光学特性は、特開２００１−０９１７３６号公報に記載されている範囲であってもよく、平行透過率と直交透過率の関係は、特開２００２−１７４７２８号公報に記載されている範囲内であってもよい。

特開２００２−２２１６１８号公報に記載されているように、光の波長が４２０〜７００ｎｍの間での、１０ｎｍ毎の平行透過率の標準偏差が３以下で、且つ、光の波長が４２０〜７００ｎｍの間での１０ｎｍ毎の（平行透過率／直交透過率）の最小値が３００以上であってもよい。

偏光板の、波長４４０ｎｍにおける平行透過率と直交透過率、平行透過率、波長５５０ｎｍにおける平行透過率と直交透過率、波長６１０ｎｍにおける平行透過率と直交透過率
が、特開２００２−２５８０４２号公報や特開２００２−２５８０４３号公報に記載された範囲とすることも好ましく行うことができる。

（２）色相
本発明の偏光板の色相は、ＣＩＥ均等知覚空間として推奨されているＬ^*ａ^*ｂ^*表色系において、明度指数Ｌ^*及びクロマティクネス指数ａ^*とｂ^*を用いて好ましく評価される。
Ｌ^*、ａ^*、ｂ^*は、前記表ＸＹＺ色系におけるＸ、Ｙ、Ｚを用いて数式（６）で定義される。
数式（６）：

ここでＸ₀、Ｙ₀、Ｚ₀は照明光源の三刺激値を表し、標準光Ｃの場合、Ｘ₀＝９８．０７２、Ｙ₀＝１００、Ｚ₀＝１１８．２２５であり、標準光Ｄ₆₅の場合、Ｘ₀＝９５．０４５、Ｙ₀＝１００、Ｚ₀＝１０８．８９２である。

偏光板単枚の好ましいａ^*の範囲は−２．５以上０．２以下であり、さらに好ましくは−２．０以上０以下である。偏光板単枚の好ましいｂ^*の範囲は１．５以上５以下であり、さらに好ましくは２以上４．５以下である。２枚の偏光板の平行透過光のａ^*の好ましい範囲は−４．０以上０以下であり、さらに好ましくは−３．５以上−０．５以下である。２枚の偏光板の平行透過光のｂ^*の好ましい範囲は２．０以上８以下であり、さらに好ましくは２．５以上７以下である。２枚の偏光板の直交透過光のａ^*の好ましい範囲は−０．５以上１．０以下であり、さらに好ましくは０以上２以下である。２枚の偏光板の直交透過光のｂ^*の好ましい範囲は−２．０以上２以下であり、さらに好ましくは−１．５以上０．５以下である。

色相は、前記Ｘ、Ｙ、Ｚから算出される色度座標（ｘ，ｙ）で評価してもよく、例えば、２枚の偏光板の平行透過光の色度（ｘ_p、ｙ_p）と直交透過光の色度（ｘ_c、ｙ_c）は、特開２００２−２１４４３６号公報、特開２００１−１６６１３６号公報及び特開２００２−１６９０２４号公報に記載されている範囲にしたり、色相と吸光度の関係を特開２００１−３１１８２７号公報に記載されている範囲内にしたりすることも好ましく行うことができる。

（３）視野角特性
偏光板をクロスニコルに配置して波長５５０ｎｍの光を入射させる時、垂直光を入射させた場合と、偏光軸に対して４５゜の方位から法線に対し４０゜の角度で入射させた場合の、透過率比やｘｙ色度差を特開２００１−１６６１３５号公報や特開２００１−１６６１３７号公報に記載された範囲とすることも好ましい。また特開平１０−０６８８１７号公報に記載されているように、クロスニコル配置した偏光板積層体の、垂直方向の光透過率（Ｔ₀）と、積層体の法線から６０°傾斜方向の光透過率（Ｔ₆₀）との比（Ｔ₆₀／Ｔ₀）を１００００以下としたり、特開２００２−１３９６２５号公報に記載されているように、偏光板に法線から仰角８０゜までの任意な角度で自然光を入射させた場合に、その透過スペクトルの５２０〜６４０ｎｍの波長範囲について、波長域２０ｎｍ以内における透過光の透過率差を６％以下としたり、特開平０８−２４８２０１号公報に記載されている、フィルム上の任意の１ｃｍ離れた場所における透過光の輝度差が３０％以内とすることも好ましい。

（４）耐久性
（４−１）湿熱耐久性
特開２００１−１１６９２２号公報に記載されているように、６０℃、９０％ＲＨの雰囲気に５００時間放置した場合の、その前後における光透過率及び偏光度の変化率が絶対値に基づいて３％以下であることが好ましい。特に光透過率の変化率は２％以下、また、偏光度の変化率は絶対値に基づいて１．０％以下、更には０．１％以下であることが好ましい。また特開平０７−０７７６０８号公報に記載されているように、８０℃、９０％ＲＨで５００時間放置後の偏光度が９５％以上、単体透過率が３８％以上であることも好ましい。

（４−２）ドライ耐久性
８０℃、ドライ雰囲気下に５００時間放置した場合の、その前後における光透過率及び偏光度の変化率が、絶対値に基づいて３％以下であることもまた好ましい。特に光透過率の変化率は２％以下、また偏光度の変化率は、絶対値に基づいて１．０％以下、更には０．１％以下であることが好ましい。

（４−３）その他の耐久性
さらに、特開平０６−１６７６１１号公報に記載されているように、８０℃で２時間放置した後の収縮率が０．５％以下としたり、ガラス板の両面にクロスニコル配置した偏光板積層体を、６９℃の雰囲気中で７５０時間放置した後のｘ値及びｙ値が、特開平１０−０６８８１８号公報に記載されている範囲内としたり、８０℃、９０％ＲＨの雰囲気中で２００時間放置処理後の、ラマン分光法による１０５ｃｍ^-1及び１５７ｃｍ^-1のスペクトル強度比の変化を、特開平０８−０９４８３４号公報や特開平０９−１９７１２７号公報に記載された範囲とすることも好ましく行うことができる。

（５）配向度
ＰＶＡの配向度は高い程良好な偏光性能が得られるが、偏光ラマン散乱や偏光ＦＴ−ＩＲ等の手段によって算出されるオーダーパラメーター値として０．２〜１．０が好ましい範囲である。また、特開昭５９−１３３５０９号公報に記載されているように、偏光子の全非晶領域の高分子セグメントの配向係数と占領分子の配向係数（０．７５以上）との差を少なくとも０．１５としたり、特開平０４−２０４９０７号公報に記載されているように、偏光子の非晶領域の配向係数が０．６５〜０．８５としたり、Ｉ₃ ^-やＩ₅ ^-の高次ヨウ素イオンの配向度を、オーダーパラメーター値として０．８〜１．０とすることも好ましく行うことができる。

（６）その他の特性
特開２００２−００６１３３号公報に記載されているように、８０℃、３０分加熱したときの、単位幅当たりの吸収軸方向の収縮力が４．０Ｎ／ｃｍ以下としたり、特開２００２−２３６２１３号公報に記載されているように、偏光板を７０℃の加熱条件下に１２０時間置いた場合に、偏光板の吸収軸方向の寸法変化率及び偏光軸方向の寸法変化率を、共に±０．６％以内としたり、特開２００２−０９０５４６号公報に記載されているように偏光板の水分率を３質量％以下とすることも好ましく行うことができる。さらに、特開２０００−２４９８３２号公報に記載されているように、延伸軸に垂直な方向の表面粗さが中心線平均粗さに基づいて０．０４μｍ以下としたり、特開平１０−２６８２９４号公報に記載されているように、透過軸方向の屈折率ｎ₀を１．６より大きくしたり、偏光板の厚みと保護フィルムの厚みの関係を特開平１０−１１１４１１号公報に記載された範囲とすることも好ましく行うことができる。

〔偏光板の機能化〕
本発明の偏光板は、ＬＣＤの視野角拡大フィルム、反射型ＬＣＤに適用するためのλ／４板等の位相差フィルム、ディスプレイの視認性向上のための反射防止フィルム、輝度向上フィルムや、ハードコート層、前方散乱層、アンチグレア（防眩）層等の機能層を有す
る光学フィルムと複合した機能化偏光板として好ましく使用される。

本発明の偏光板と、上記の機能性光学フィルムを複合した構成例を図１に示した。
偏光板５の片側の保護フィルムとして、機能性光学フィルム３を偏光子２に粘着層（不図示）を介して接着してもよいし（図１（Ａ））、偏光子２の両面に保護フィルム１ａ、１ｂを設けた偏光板５に、粘着層４を介して機能性光学フィルム３を接着してもよい（図１（Ｂ））。前者の場合、一方の保護フィルム１には任意の保護フィルムを使用し、偏光子２を挟んでもう一方は、本発明のセルロースアシレートフィルムに光学機能層を粘着層を介して貼り合わせ、機能性光学フィルム３として、図１（Ａ）の構成とすることも好ましい。機能層や保護フィルム等の各層間の剥離強度は、特開２００２−３１１２３８号公報に記載されている４．０Ｎ／２５ｍｍ以上とすることも好ましい。機能性光学フィルムは、目的とする機能に応じて、液晶モジュール側に配置したり、液晶モジュールとは反対側、すなわち表示側又はバックライト側に配置したりすることが好ましく実施できる。

以下に本発明の偏光板と複合して使用される機能性光学フィルムについて説明する。

（１）視野角拡大フィルム
本発明の偏光板は、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ
Ｂｅｎｄ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）のような表示モードに提案されている、視野角拡大フィルムと組み合わせて使用することができる。

ＴＮモード用の視野角拡大フィルムとしては、「日本印刷学会誌」第３６巻第３号（１９９９年）ｐ．４０〜４４、「月刊ディスプレイ」８月号（２００２年）ｐ．２０〜２４、特開平４−２２９８２８号公報、特開平６−７５１１５号公報、特開平６−２１４１１６号公報、特開平８−５０２０６号公報等に記載されたＷＶフィルム｛富士写真フイルム（株）製｝を好ましく組み合わせて使用される。

ＴＮモード用の視野角拡大フィルムの好ましい構成は、透明なポリマーフィルム上に、配向層と光学異方性層をこの順に有したものである。視野角拡大フィルムは、粘着剤を介して偏光板と貼合されて用いられてもよいが、"ＳＩＤ'００ Ｄｉｇ．"，ｐ．５５１（２０００年）に記載されているように、前記偏光子の保護フィルムの一方をも兼ねて使用されることが薄手化の観点から特に好ましい。

配向層は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログループを有する層の形成のような手段で設けることができる。さらに電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により配向機能が生じる配向層も知られているが、ポリマーのラビング処理により形成する配向層が特に好ましい。ラビング処理はポリマー層の表面を紙や布で一定方向に数回こすることにより好ましく実施される。偏光子の吸収軸方向とラビング方向は実質的に平行であることが好ましい。配向層に使用するポリマーの種類は、ポリイミド、ポリビニルアルコール、特開平９−１５２５０９号公報に記載された重合性基を有するポリマー等を好ましく使用することができる。配向層の厚さは０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０５〜２μｍであることがさらに好ましい。

光学異方性層は液晶性化合物を含有していることが好ましい。本発明に使用される液晶性化合物は、ディスコティック化合物（ディスコティック液晶）を有していることが特に好ましい。ディスコティック液晶分子は、トリフェニレン誘導体のように円盤状のコア部を有し、そこから放射状に側鎖が伸びた構造を有している。また、経時安定性を付与するため、熱、光等で反応する基をさらに導入することも好ましく行われる。上記ディスコテ
ィック液晶の好ましい例は特開平８−５０２０６号公報に記載されている。
ディスコティック液晶分子の例を以下に示す。

ディスコティック液晶分子は、配向層付近では、ラビング方向にプレチルト角を持ってほぼフィルム平面に平行に配向しており、反対の空気面側では、ディスコティック液晶分子が面に垂直に近い形で立って配向している。ディスコティック液晶層全体としては、ハイブリッド配向を取っており、この層構造によってＴＮモードのＴＦＴ−ＬＣＤの視野角拡大を実現することができる。

上記光学異方性層は、一般にディスコティック化合物及び他の化合物（更に、例えば重合性モノマー、光重合開始剤など）を、溶媒に溶解した溶液を配向層上に塗布し、乾燥し、次いでディスコティックネマチック相形成温度まで加熱した後、ＵＶ光の照射等により重合させ、さらに冷却することにより得られる。本発明に用いるディスコティック液晶性化合物のディスコティックネマチック液晶相−固相転移温度としては、７０〜３００℃が好ましく、特に７０〜１７０℃が好ましい。

また、上記光学異方性層に添加するディスコティック化合物以外の化合物としては、ディスコティック化合物と相溶性を有し、液晶性ディスコティック化合物に好ましい傾斜角の変化を与えられるか、又は配向を阻害しない限り、どのような化合物も使用することができる。これらの中で、重合性モノマー（例えば、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基及びメタクリロイル基を有する化合物）、含フッ素トリアジン化合物等の空気界面側の配向制御用添加剤、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロース及びセルロースアセテートブチレート等のポリマーを挙げることができる。これらの化合物は、ディスコティック化合物に対して一般に０．１〜５０質量％、好ましくは０．１〜３０質量％の添加量にて使用される。
光学異方性層の厚さは、０．１〜１０μｍであることが好ましく、０．５〜５μｍであることがさらに好ましい。

視野角拡大フィルムの好ましい態様は、透明基材フィルムとしてのセルロースアシレートフィルム、その上に設けられた配向層、及び該配向層上に形成されたディスコティック液晶からなる光学異方性層から構成され、且つ光学異方性層がＵＶ光照射により架橋されているものである。

また上記以外にも、視野角拡大フィルムと本発明の偏光板を組み合わせる場合、例えば特開平０７−１９８９４２号公報に記載されているように、板面に対し交差する方向に光軸を有して複屈折に異方性を示す位相差板と積層したり、特開２００２−２５８０５２号公報に記載されているように、保護フィルムと光学異方性層の寸法変化率が実質的に同等となるようにすることも好ましく行うことができる。また特開平１２−２５８６３２号公報に記載されているように、視野角拡大フィルムと貼合される偏光板の水分率を２．４％以下としたり、特開２００２−２６７８３９号公報に記載されているように、視野角拡大フィルム表面の水との接触角を７０°以下とすることも好ましく行うことができる。

ＩＰＳモード液晶セル用視野角拡大フィルムは、電界無印状態の黒表示時において、基板面に平行配向した液晶分子の光学補償及び偏光板の直交透過率の視野角特性向上に用いる。ＩＰＳモードは電界無印加状態で黒表示となり、上下一対の偏光板の透過軸は直交している。しかし斜めから観察した場合は、透過軸の交差角が９０°ではなくなり、漏れ光が生じてコントラストが低下する。本発明の偏光板をＩＰＳモード液晶セルに用いる場合は、漏れ光を低下させるため特開平１０−５４９８２号公報に記載されているような、面
内の位相差が０に近く、且つ厚さ方向に位相差を有する視野角拡大フィルムと好ましく組み合わせて用いられる。

ＯＣＢモードの液晶セル用視野角拡大フィルムは、電界印加により液晶層中央部で垂直配向し、基板界面付近で傾斜配向した液晶層の光学補償を行い、黒表示の視野角特性を改善するために使用される。本発明の偏光板をＯＣＢモード液晶セルに用いる場合は、米国特許５８０５２５３号明細書に記載されたような円盤状の液晶性化合物を、ハイブリット配向させた視野角拡大フィルムと好ましく組み合わせて用いられる。

ＶＡモードの液晶セル用視野角拡大フィルムは、電界無印加状態で液晶分子が基板面に対して垂直配向した状態の黒表示の視野角特性を改善する。このような視野角拡大フィルムしては、特許第２８６６３７２号明細書に記載されているような、面内の位相差が０に近く、且つ厚さ方向に位相差を有するフィルムや、円盤状の化合物が基板に平行に配列したフィルムや、同じ面内レターデーション値を有する延伸フィルムを、遅相軸が直交になるように積層配置したフィルムや、偏光板の斜め方向の直交透過率悪化防止のため、液晶分子のような棒状化合物からなるフィルムを積層したものと好ましく組み合わせて用いられる。

（２）位相差フィルム
本発明の偏光板は、位相差層を有することが好ましい。本発明における位相差層としてはλ／４板が好ましく、本発明の偏光板とλ／４板とを積層させることで、円偏光板として使用することができる。円偏光板は入射した光を円偏光に変換する機能を有しており、反射型液晶表示装置やＥＣＢモードなどの半透過型液晶表示装置、又は有機ＥＬ素子等に好ましく利用されている。

本発明に用いるλ／４板は、可視光の波長の範囲においてほぼ完全な円偏光を得るため、可視光の波長の範囲において概ね波長の１／４のレターデーション（Ｒｅ）を有する位相差フィルムであることが好ましい。「可視光の波長の範囲において概ね１／４のレターデーション」とは、波長４００から７００ｎｍにおいて、長波長ほどレターデーションが大きく、波長４５０ｎｍで測定したレターデーション値（Ｒｅ₄₅₀）が８０〜１２５ｎｍであり、且つ波長５９０ｎｍで測定したレターデーション値（Ｒｅ₅₉₀）が１２０〜１６０ｎｍである関係を満足する範囲を示す。Ｒｅ₅₉₀−Ｒｅ₄₅₀≧５ｎｍであることがさらに好ましく、Ｒｅ₅₉₀−Ｒｅ₄₅₀≧１０ｎｍであることが特に好ましい。

本発明で用いるλ／４板は、上記の条件を満たしていれば特に制限はないが、例えば特開平５−２７１１８号公報、特開平１０−６８８１６号公報、特開平１０−９０５２１号公報に記載された、複数のポリマーフィルムを積層したλ／４板、国際公開第００／６５３８４号パンフレット、国際公開第００／２６７０５号パンフレットに記載された、１枚のポリマーフィルムを延伸したλ／４板、特開２０００−２８４１２６号公報、特開２００２−３１７１７号公報に記載された、ポリマーフィルム上に少なくとも１層以上の光学異方性層を設けたλ／４板など公知のλ／４板を用いることができる。また、ポリマーフィルムの遅相軸の方向や光学異方性層の配向方向は液晶セルに合わせて任意の方向に配置することができる。

円偏光板において、λ／４板の遅相軸と前記偏光子の透過軸は、任意の角度で交差できるが、４５゜±２０°の範囲で交差されることが好ましい。但し、λ／４板の遅相軸と上記偏光子の透過軸は上記以外の範囲で交差されても構わない。

λ／４板をλ／４板及びλ／２板を積層して構成する場合は、特許第３２３６３０４号明細書や特開平１０−６８８１６号公報に記載されているように、λ／４板及びλ／２板
の面内の遅相軸と偏光板の透過軸とのなす角度が、実質的に７５°及び１５゜となるように貼り合わせることが好ましい。

（３）反射防止フィルム
本発明の偏光板は反射防止フィルムと組み合わせて使用することができる。反射防止フィルムは、フッ素系ポリマー等の低屈折率素材を単層付与しただけの反射率１．５％程度のフィルム、又は薄膜の多層干渉を利用した反射率１％以下のフィルムのいずれも使用できる。

本発明では、透明支持体上に、低屈折率層及び、低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも一層の層（すなわち、高屈折率層、中屈折率層）を積層した構成が好ましく使用される。また「日東技報」第３８巻、第１号（５月号）（２０００年）２６頁〜２８頁や、特開２００２−３０１７８３号公報などに記載された反射防止フィルムも好ましく使用できる。

各層の屈折率は次ぎの関係を満足する。
高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率

反射防止フィルムに用いる透明支持体は、前記偏光子の保護フィルムに使用するポリマーフィルムを好ましく使用することができる。

（低屈折率層）
低屈折率層の屈折率は１．２０〜１．５５であり、好ましくは１．３０〜１．５０である。低屈折率層は、耐擦傷性、防汚性を有する最外層として使用することが好ましい。耐擦傷性向上のため、シリコーン基や、フッ素の含有する素材を用い表面への滑り性付与することも好ましく行われる。

含フッ素化合物としては、例えば、特開平９−２２２５０３号公報段落番号［００１８］〜［００２６］、同１１−３８２０２号公報段落番号［００１９］〜［００３０］、特開２００１−４０２８４号公報段落番号［００２７］〜［００２８］、特開２０００−２８４１０２号公報等に記載の化合物を好ましく使用することができる。

含シリコーン化合物はポリシロキサン構造を有する化合物が好ましいが、反応性シリコーン［例えば、「サイラプレーン」｛チッソ（株）製｝］や両末端にシラノール基含有のポリシロキサン（特開平１１−２５８４０３号公報）等を使用することもできる。シランカップリング剤等の、有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを、触媒共存下に縮合反応で硬化させてもよい（特開昭５８−１４２９５８号公報、同５８−１４７４８３号公報、同５８−１４７４８４号公報、特開平９−１５７５８２号公報、同１１−１０６７０４号公報、特開２０００−１１７９０２号公報、同２００１−４８５９０号公報、同２００２−５３８０４号公報記載の化合物等）。

低屈折率層には、上記以外の添加剤として、充填剤（例えば、二酸化珪素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム）等の、一次粒子平均径が１〜１５０ｎｍの低屈折率無機化合物（特開平１１−３８２０号公報の段落番号［００２０］〜［００３８］に記載の有機微粒子等）、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有させることも好ましく行うことができる。

低屈折率層は、気相法（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により形成されてもよいが、安価に製造できる点で、塗布法で形成することが好ましい。塗布法としては、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテ
ンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート、マイクログラビア法を好ましく使用することができる。

低屈折率層の膜厚は、３０〜２００ｎｍであることが好ましく、５０〜１５０ｎｍであることがさらに好ましく、６０〜１２０ｎｍであることが最も好ましい。

（中屈折率層及び高屈折率層）
中屈折率層及び高屈折率層は、平均粒径１００ｎｍ以下の高屈折率の無機化合物超微粒子を、マトリックス用材料に分散した構成とすることが好ましい。高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率１．６５以上の無機化合物、例えば、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｌａ、Ｉｎ等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等を好ましく使用できる。

このような超微粒子は、粒子表面を表面処理剤で処理したり（シランカップリング剤等：特開平１１−２９５５０３号公報、同１１−１５３７０３号公報、特開２０００−９９０８号公報、アニオン性化合物或は有機金属カップリング剤：特開２００１−３１０４３２号公報等）、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造としたり（特開２００１−１６６１０４号公報等）、特定の分散剤併用する（例えば、特開平１１−１５３７０３号公報、米国特許第６２１０８５８号明細書、特開２００２−２７７６０６９号公報等）等の態様で使用することができる。

マトリックス用材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等を使用できるが、特開２０００−４７００４号公報、同２００１−３１５２４２号公報、同２００１−３１８７１号公報、同２００１−２９６４０１号公報等に記載の多官能性材料や、特開２００１−２９３８１８号公報等に記載の金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜を使用することもできる。

高屈折率層の屈折率は、１．７０〜２．２０であることが好ましい。高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましい。

中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．７０であることが好ましい。

反射防止フィルムのヘイズは、５％以下あることが好ましく、３％以下がさらに好ましい。また膜の硬度は、ＪＩＳ Ｋ−５４００に従う鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。

（４）輝度向上フィルム
本発明の偏光板は、輝度向上フィルムと組み合わせて使用することができる。輝度向上フィルムは、円偏光もしくは直線偏光の分離機能を有しており、偏光板とバックライトの間に配置され、一方の円偏光又は直線偏光をバックライト側に後方反射又は後方散乱する。バックライト部からの再反射光は、部分的に偏光状態を変化させ、輝度向上フィルム及び偏光板に再入射する際、部分的に透過するため、この過程を繰り返すことにより光利用率が向上し、正面輝度が１．４倍程度に向上する。輝度向上フィルムとしては、異方性反射方式及び異方性散乱方式が知られており、いずれも本発明の偏光板と組み合わせることができる。

異方性反射方式では、一軸延伸フィルムと未延伸フィルムを多重に積層して、延伸方向の屈折率差を大きくすることにより、反射率及び透過率の異方性を有する輝度向上フィル
ムが知られており、誘電体ミラーの原理を用いた多層膜方式（国際公開第９５／１７６９１号、同第９５／１７６９２号、同第９５／１７６９９号の各パンフレット記載）や、コレステリック液晶方式（欧州特許第６０６９４０Ａ２号明細書、特開平８−２７１７３１号公報記載）が知られている。誘電体ミラーの原理を用いた多層方式の輝度向上フィルムとしては、ＤＢＥＦ―Ｅ、ＤＢＥＦ−Ｄ、ＤＢＥＦ−Ｍ（いずれも３Ｍ社製）、コレステリック液晶方式の輝度向上フィルムとしては、ＮＩＰＯＣＳ｛日東電工（株）製｝が本発明で好ましく使用される。ＮＩＰＯＣＳについては「日東技報」第３８巻、第１号（５月号）、２０００年、１９頁〜２１頁などを参考にすることができる。

また、本発明では国際公開第９７／３２２２３号、同第９７／３２２２４号、同第９７／３２２２５号、同第９７／３２２２６号の各パンフレット及び特開平９−２７４１０８号、同１１−１７４２３１号の各公報に記載された、正の固有複屈折性ポリマーと負の固有複屈折性ポリマーをブレンドして一軸延伸した、異方性散乱方式の輝度向上フィルムと、組み合わせて使用することも好ましい。異方性散乱方式輝度向上フィルムとしては、ＤＲＰＦ−Ｈ（３Ｍ社製）が好ましい。

本発明の偏光板と輝度向上フィルムは、粘着剤を介して貼合された形態、もしくは偏光板の保護フィルムの一方を輝度向上フィルムとした一体型として使用することが好ましい。

（５）他の機能性光学フィルム
本発明の偏光板は、さらに、ハードコート層、前方散乱層、アンチグレア（防眩）層、ガスバリア層、滑り層、帯電防止層、下塗層や保護層等を設けた機能性光学フィルムと組み合わせて使用することも好ましい。また、これらの機能層は、前記の反射防止フィルムにおける反射防止層、又は視野角拡大フィルムにおける光学異方性層等と、同一層内で相互に複合して使用することも好ましい。これらの機能層は、これら反射防止フィルム又は視野角補償フィルム等の、偏光子側又は偏光子と反対面（より空気側の面）のどちらか片面、又は両面に設けて使用することができる。

（５−１）ハードコート層
本発明の偏光板は、耐擦傷性等の力学的強度を付与するため、ハードコート層を透明支持体の表面に設けた機能性光学フィルムと組み合わせることが好ましく行われる。ハードコート層を、前記の反射防止フィルムに適用して用いる場合は、特に透明支持体と高屈折率層の間に設けることが好ましい。

ハードコート層は、光及び／もしくは熱による硬化性化合物の架橋反応、又は重合反応により形成されることが好ましい。硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、また加水分解性官能基含有の有機金属化合物は、有機アルコキシシリル化合物が好ましい。ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開２００２−１４４９１３号公報、同２０００−９９０８号公報、国際公開第００／４６６１７号パンフレット等記載のものを好ましく使用することができる。

ハードコート層の膜厚は、０．２〜１００μｍであることが好ましい。
ハードコート層の硬度は、ＪＩＳ Ｋ−５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。またＪＩＳ Ｋ−５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

ハードコート層を形成する材料は、エチレン性不飽和基を含む化合物、開環重合性基を含む化合物を用いることができ、これらの化合物は単独又は組み合わせて用いることがで
きる。エチレン性不飽和基を含む化合物の好ましい例としては、エチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等のポリオールのポリアクリレート類；ビスフェノールＡジグリシジルエーテルのジアクリレート、ヘキサンジオールジグリシジルエーテルのジアクリレート等のエポキシアクリレート類；ポリイソシナネートとヒドロキシエチルアクリレート等の水酸基含有アクリレートの反応によって得られるウレタンアクリレート等を好ましい化合物として挙げることができる。

また市販の化合物としては、"ＥＢ−６００"、"ＥＢ−４０"、"ＥＢ−１４０"、"ＥＢ−１１５０"、"ＥＢ−１２９０Ｋ"、"ＩＲＲ２１４"、"ＥＢ−２２２０"、"ＴＭＰＴＡ"、"ＴＭＰＴＭＡ"｛以上、ダイセル・ユーシービー（株）製｝、"ＵＶ−６３００"、"ＵＶ−１７００Ｂ"｛以上、日本合成化学工業（株）製｝等が挙げられる。

また、開環重合性基を含む化合物の好ましい例としては、グリシジルエーテル類としてエチレングリコールジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、トリメチロールエタントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、トリグリシジルトリスヒドロキシエチルイソシアヌレート、ソルビトールテトラグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシルエーテル、クレゾールノボラック樹脂のポリグリシジルエーテル、フェノールノボラック樹脂のポリグリシジルエーテルなど；脂環式エポキシ類として、「セロキサイド２０２１Ｐ」、「セロキサイド２０８１」、「エポリードＧＴ−３０１」、「エポリードＧＴ−４０１」、"ＥＨＰＥ３１５０ＣＥ"｛以上、ダイセル化学工業（株）製｝、フェノールノボラック樹脂のポリシクロヘキシルエポキシメチルエーテルなど；オキセタン類として、"ＯＸＴ−１２１"、"ＯＸＴ−２２１"、"ＯＸ−ＳＱ"、"ＰＮＯＸ−１００９"｛以上、東亞合成（株）製｝などが挙げられる。その他に、グリシジル（メタ）アクリレートの重合体又はグリシジル（メタ）アクリレートと、それらと共重合できるモノマーとの共重合体をハードコート層に使用することもできる。

ハードコート層には、ハードコート層の硬化収縮の低減、基材との密着性の向上、本発明のハードコート処理物品のカールを低減するため、ケイ素、チタン、ジルコニウム、アルミニウム等の酸化物微粒子やポリエチレン、ポリスチレン、ポリ（メタ）アクリル酸エステル類、ポリジメチルシロキサン等の架橋粒子、ＳＢＲ、ＮＢＲなどの架橋ゴム微粒子等の有機微粒子等の架橋微粒子を添加することも好ましく行われる。これらの架橋微粒子の平均粒径は、１ｎｍ〜２００００ｎｍであることが好ましい。また、架橋微粒子の形状は、球状、棒状、針状、板状など特に制限無く使用できる。微粒子の添加量は硬化後のハードコート層の６０体積％以下であることが好ましく、４０体積％以下がより好ましい。

上記で記載した無機微粒子を添加する場合、これらの無機微粒子は、一般にバインダーポリマーとの親和性が悪いため、これら無機微粒子を、ケイ素、アルミニウム、チタニウム等の金属を含有し、且つアルコキシド基、カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基等の官能基を有する表面処理剤を用いて表面処理することも好ましく行われる。

ハードコート層は、熱又は活性エネルギー線を用いて硬化することが好ましく、その中でも放射線、ガンマー線、アルファー線、電子線、紫外線等の活性エネルギー線を用いることがより好ましく、安全性、生産性を考えると電子線、紫外線を用いることが特に好ましい。熱で硬化させる場合は、プラスチック自身の耐熱性を考えて、加熱温度は１４０℃以下が好ましく、より好ましくは１００℃以下である。

（５−２）前方散乱層
前方散乱層は、本発明の偏光板を液晶表示装置に適用した際の、上下左右方向の視野角特性（色相と輝度分布）を改良するために使用される。本発明では、屈折率の異なる微粒子をバインダー分散した構成が好ましく、例えば、前方散乱係数を特定化した特開１１−３８２０８号公報、透明樹脂と微粒子の相対屈折率を特定範囲とした特開２０００−１９９８０９号公報、ヘイズ値を４０％以上と規定した特開２００２−１０７５１２号公報等の構成を使用することができる。また、本発明の偏光板をヘイズの視野角特性を制御するため、住友化学の技術レポート「光機能性フィルム」３１頁〜３９頁に記載された「ルミスティ」と組み合わせて使用することも好ましく行うことができる。

（５−３）アンチグレア層
アンチグレア（防眩）層は、反射光を散乱させて映り込みを防止するために使用される。アンチグレア機能は、液晶表示装置の最表面（表示側）に凹凸を形成することにより得られる。アンチグレア機能を有する光学フィルムのヘイズは、３〜３０％であることが好ましく、５〜２０％であることがさらに好ましく、７〜２０％であることが最も好ましい。

フィルム表面に凹凸を形成する方法は、例えば、微粒子を添加して膜表面に凹凸を形成する方法（例えば、特開２０００−２７１８７８号公報等）、比較的大きな粒子（粒径０．０５〜２μｍ）を少量（０．１〜５０質量％）添加して表面凹凸膜を形成する方法（例えば、特開２０００−２８１４１０号公報、同２０００−９５８９３号公報、同２００１−１００００４号公報、同２００１−２８１４０７号公報等）、フィルム表面に物理的に凹凸形状を転写する方法（例えば、エンボス加工方法として、特開昭６３−２７８８３９号公報、特開平１１−１８３７１０号公報、特開２０００−２７５４０１号公報等記載）等を好ましく使用することができる。

〔偏光板を使用する液晶表示装置〕
次に本発明の偏光板が使用される液晶表示装置について説明する。
液晶セル及びその両側に配置された２枚の偏光板を有する本発明の液晶表示装置は、少なくとも１枚の偏光板が本発明の偏光板である。
図２は、本発明の偏光板が使用される液晶表示装置の一例である。

図２に示す本発明の液晶表示装置は、液晶セル（１０〜１３）、及び該液晶セル（１０〜１３）を挟持して配置された上側偏光板６と下側偏光板１７とを有する。偏光板は偏光子及び一対の保護フィルムによって挟持されているが、図２中では一体化された偏光板として示し、詳細構造は省略する。液晶セルは、上側電極基板１０及び下側電極基板１３と、これらに挟持される液晶分子１２から形成される液晶層からなる。液晶セルは、ＯＮ・ＯＦＦ表示を行う液晶分子の配向状態の違いで、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）のような表示モードに分類されるが、本発明の偏光板は透過及び反射型によらず、いずれの表示モードにも使用できる。
これらの表示モードの中でも、ＯＣＢモード又はＶＡモードであることが好ましい。

電極基板１０及び１３の液晶分子１２に接触する表面（以下、「内面」という場合がある）には、配向膜（不図示）が形成されていて、配向膜上に施されたラビング処理等により、電界無印加状態もしくは低印加状態における液晶分子１２の配向が制御されている。また、基板１０及び１３の内面には、液晶分子１２からなる液晶層に電界を印加可能な透明電極（不図示）が形成されている。

ＴＮモードのラビング方向は上下基板で互いに直交する方向に施し、その強さとラビング回数などでチルト角の大きさが制御できる。配向膜はポリイミド膜を塗布後焼成して形成する。液晶層のねじれ角（ツイスト角）の大きさは、上下基板のラビング方向の交差角と液晶材料に添加するカイラル剤により決まる。ここではツイスト角が９０°になるようにするためピッチ６０μｍ程度のカイラル剤を添加する。

なお、ツイスト角は、ノートパソコンやパソコンモニタ、テレビ用の液晶表示装置の場合は９０°近傍（８５から９５°）に、携帯電話などの反射型表示装置として使用する場合は０から７０°に設定する。またＩＰＳモードやＥＣＢモードでは、ツイスト角が０°となる。ＩＰＳモードでは電極が下側基板８のみに配置され、基板面に平行な電界が印加される。また、ＯＣＢモードでは、ツイスト角がなく、チルト角を大きくされ、ＶＡモードでは液晶分子１２が上下基板に垂直に配向する。

ここで液晶層の厚さｄと屈折率異方性Δｎの積Δｎｄの大きさは、白表示時の明るさを変化させる。このため最大の明るさを得るために表示モード毎にその範囲を設定する。

上側偏光板６の吸収軸７と下側偏光板１７の吸収軸１８の交差角は、一般に概略直交するように積層することで高コントラストが得られる。液晶セルの上側偏光板６の吸収軸７と上側基板１０のラビング方向の交差角は、液晶表示モードによってことなるが、ＴＮ、ＩＰＳモードでは一般に平行か垂直に設定する。ＯＣＢ、ＥＣＢモードでは４５°に設定することが多い。ただし、表示色の色調や視野角の調整のために各表示モードで最適値が異なり、この範囲に限定されるわけではない。

本発明の偏光板が使用される液晶表示装置は、図２の構成に限定されず、他の部材を含んでいてもよい。例えば、液晶セルと偏光子との間にカラーフィルターを配置してもよい。また、液晶セルと偏光板との間に、別途、前述した視野角拡大フィルムを配置することもできる。偏光板６、１７と光学異方性層（視野角拡大フィルム）８、１５は粘着剤で貼合した積層形態で配置されてもよいし、液晶セル側保護フィルムの一方を視野角拡大に使用した、いわゆる一体型楕円偏光板として配置されてもよい。

また、本発明の偏光板が使用される液晶表示装置を透過型として使用する場合は、冷陰極又は熱陰極蛍光管、あるいは発光ダイオード、フィールドエミッション素子、エレクトロルミネッセント素子を光源とするバックライトを背面に配置できる。また、本発明の偏光板が使用される液晶表示装置は、反射型であってもよく、かかる場合は、偏光板は観察側に１枚配置したのみでよく、液晶セル背面又は液晶セルの下側基板の内面に反射膜を設置する。もちろん前記光源を用いたフロントライトを液晶セル観察側に設けてもよい。

以下、本発明を実施例及び合成例に基づき具体的に記載するが、本発明はこれら具体例によって何ら限定されることはない。

〔レターデーション上昇剤の合成〕
合成例１：例示化合物（Ａ−１）の合成
攪拌機、原材料添加装置、還流冷却管及び温度計を装備した１０００ｍＬ反応容器に、２，４，５−トリメトキシ安息香酸４０.１ｇ（１８９ミリモル）、４、４'−ジヒドロキシビフェニル１６．７５ｇ（９０ミリモル）、トルエン２００ｍＬ及びジメチルホルムアミド２ｍＬを充填して７０℃に加熱した後、塩化チオニル２３．６ｇ（１９８ミリモル）をゆっくりと滴下し、７０℃で２．５時間加熱攪拌した。その後、反応液を室温まで冷却し、メタノール３００ｍＬを加え、析出した結晶を濾過して回収し、白色の結晶として目
的化合物を４８．４ｇ（収率９４％）得た。また化合物の同定は¹Ｈ―ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）により行った。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ３．９３（ｓ，６Ｈ），３．９５（ｓ，６Ｈ），３．９９（ｓ，６Ｈ），６．５８（ｓ，２Ｈ），７．２８（ｄ，４Ｈ），７．６２（ｍ，６Ｈ）。
得られた化合物の融点は２２７〜２２９℃であった。

合成例２：例示化合物（Ａ−２）の合成
合成例１で用いたと同様の反応容器に、２，４，５−トリメトキシ安息香酸３４ｇ（１６０ミリモル）、４、４'−ジヒドロキシ−３−フルオロビフェニル１５ｇ（７３ミリモル）、トルエン１１０ｍＬ及びジメチルホルムアミド１．６ｍＬを充填して７０℃に加熱した後、塩化チオニル２０．９ｇ（１７６ミリモル）をゆっくりと滴下し、７０℃で２．５時間加熱攪拌した。その後、反応液を室温まで冷却し、メタノール３００ｍＬを加え、析出した結晶を濾過して回収し、白色の結晶として目的化合物を３７ｇ（収率８６％）得た。また化合物の同定は¹Ｈ―ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）により行った。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ３．９３（ｓ，６Ｈ），３．９５（ｓ，６Ｈ），４．００（ｓ，６Ｈ），６．５９（ｓ，２Ｈ），７．２６−７．４５（ｍ，５Ｈ），７．６３（ｍ，４Ｈ）。
得られた化合物の融点は１９７〜１９９℃であった。

合成例３：例示化合物（Ａ−３）の合成
合成例１で用いたと同様の反応容器に、２，４，５−トリメトキシ安息香酸２３．３ｇ（１１０ミリモル）、４、４'−ジヒドロキシ−３−クロロビフェニル１５ｇ（５０ミリモル）、トルエン７５ｍＬ及びジメチルホルムアミド１．１ｍＬを充填して７０℃に加熱した後、塩化チオニル１４．４ｇ（１２１ミリモル）をゆっくりと滴下し、８０℃で２．５時間加熱攪拌した。その後、反応液を室温まで冷却し、メタノール２５０ｍＬを加え、析出した結晶を濾過して回収し、白色の結晶として目的化合物を２６ｇ（収率８５％）得た。また化合物の同定は¹Ｈ―ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）により行った。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ３．９０−４．００（ｍ，１８Ｈ），６．５９（ｓ，２Ｈ），７．２６−７．７０（ｍ，９Ｈ）。
得られた化合物の融点は１６８〜１７０℃であった。

合成例４：例示化合物（Ａ−４）の合成
合成例１で用いたと同様の反応容器に、２，４，５−トリメトキシ安息香酸３０．３ｇ（１４３ミリモル）、４、４'−ジヒドロキシ−３−メチルビフェニル１５ｇ（６５ミリモル）、トルエン１００ｍＬ及びジメチルホルムアミド１．４ｍＬを充填して７０℃に加熱した後、塩化チオニル１８．７ｇ（１５７ミリモル）をゆっくりと滴下し、７０℃で２．５時間加熱攪拌した。その後、反応液を室温まで冷却し、メタノール３００ｍＬを加え、析出した結晶を濾過して回収し、白色の結晶として目的化合物を２７.４ｇ（収率７２％）得た。また化合物の同定は¹Ｈ―ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）により行った。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ２．３１（ｓ，３Ｈ），３．９５（ｓ，６Ｈ），４．００（ｓ，６Ｈ），６．６０（ｓ，２Ｈ），７．１０（ｍ，２Ｈ），７．２７（ｍ，３Ｈ），７．４０（ｍ，２Ｈ），７．６３（ｄ，２Ｈ）マススペクトル：ｍ／ｚ ５８９（Ｍ＋Ｈ）⁺。
得られた化合物の融点は１８８〜１８９℃であった。

合成例５：例示化合物（Ａ−６）の合成
合成例１で用いたと同様の反応容器に、２，４，５−トリメトキシ安息香酸５．７２ｇ（２６．９ミリモル）、ジイソプロピルエチルアミン３．５ｇ（２７ミリモル）及びテトラヒドロフラン２０ｍＬを充填して氷水で冷却した後、メタンスルホニルクロリド３．１
ｇ（２７ミリモル）をゆっくりと滴下し、滴下後２時間室温で攪拌した。その後、氷水に冷却し、予めビス（４−ヒドロキシフェニル）アセチレン２．９ｇ（１３．７ミリモル）、ジイソプロピルエチルアミン３．５ｇ（２７ミリモル）をテトラヒドロフラン４０ｍＬに溶解させた溶液をゆっくり添加し、滴下後、室温で３時間、５０℃、１時間攪拌した。その後水１６０ｍＬを添加し、得られた結晶を濾過・回収し、メタノール１００ｍＬを加え、再結晶操作を行い、析出した結晶を濾過・回収し、白色の結晶として目的化合物を３．０ｇ（収率１９％）得た。化合物の同定は¹Ｈ―ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）及びマススペクトルにより行った。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ３．９３（ｓ，６Ｈ），３．９５（ｓ，６Ｈ），３．９９（ｓ，６Ｈ）,６．５７（ｓ，２Ｈ），７．２４（ｍ，４Ｈ），７．５８（ｍ，６Ｈ）。
マススペクトル：ｍ／ｚ ５９９（Ｍ＋Ｈ）⁺
得られた化合物の融点は２０１〜２０３℃であった。

合成例６：例示化合物（Ａ−７）の合成
（６−１）２，４，５−トリメトキシ安息香酸−４−エチニルアニリドの合成
合成例１で用いたと同様の反応容器に、２，４，５−トリメトキシ安息香酸２１．２ｇ（１００ミリモル）、ジイソプロピルエチルアミン１２．９ｇ（１００ミリモル）及びテトラヒドロフラン１２６ｍＬを充填して氷水で冷却した後、メタンスルホニルクロリド１１．４ｇ（１００ミリモル）をゆっくりと滴下し、滴下後２時間室温で攪拌した。その後、氷水に冷却し、あらかじめ４−エチルアニリン１１．７ｇ（１００ミリモル）、ジイソプロピルエチルアミン１２．９ｇ（１００ミリモル）をテトラヒドロフラン４２ｍＬに溶解させた溶液をゆっくり添加し、滴下後、室温で６時間攪拌した。その後酢酸エチル２００ｍＬを添加し、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、０．５ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液、飽和食塩水の順で有機相を洗浄した。有機相に硫酸ナトリウムを添加し、脱水操作を行い、濾過により硫酸ナトリウムを濾別し、有機溶媒を減圧留去した。次ぎに、メタノール３５０ｍＬを加え、再結晶操作を行い、析出した結晶を濾過回収し、白色の結晶として目的化合物を１５．０ｇ（収率４８％）得た。

（６−２）例示化合物（Ａ−７）の合成
合成例１で用いたと同様の反応容器に、上記（６−１）で得られた２，４，５−トリメトキシ安息香酸−４−エチニルアニリド３．１ｇ（１０ミリモル）、２，４，５−トリメトキシ安息香酸 ４−ヨードフェニル４．１ｇ（１０ミリモル）、トリエチルアミン５．５６ｍＬ（４０ミルモル）及びテトラヒドロフラン１５ｍＬを充填して、窒素雰囲気下、室温で攪拌し、塩化第一銅２２．８ｍｇ（０．１２ミリモル）、トリフェニルホスフィン１３１ｍｇ（０．５ミリモル）及びビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムジクロリド７０ｍｇ（０．１ミリモル）を添加し、６０℃で3時間加熱攪拌した。その後反応液を室温まで冷却し、水２００ｍＬを添加した。得られた結晶を濾過し、メタノール１００ｍＬで再結晶操作を行い、黄白色の結晶として目的化合物を５．６ｇ（収率９４％）得た。なお、化合物の同定は¹Ｈ―ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）により行った。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ-ｄ₆）：δ３．９２（ｓ，３Ｈ），３．９３（ｓ，３Ｈ），４．０５（ｍ，９Ｈ）４．１５（ｓ，３Ｈ）６．９６（ｂｒ，２Ｈ），７．４６（ｄ，２Ｈ），７．５５（ｓ，１Ｈ）, ７．６２（ｓ，１Ｈ）,７．６９（ｄ，２Ｈ），７．７６（ｄ，２Ｈ），７．９８（ｄ，２Ｈ），１０．３０（ｓ，１Ｈ）。
得られた化合物の融点は２１６〜２１８℃であった。

〔セルロースアシレートフィルムの作製〕
以下、実施例１−１〜１−３、１−７、１−８、１−１０〜１−１２、１−１４、１−１５、１１−１〜１１−３、１１−７、１１−８、１１−１０〜１１−１２、２１−１及び２１−２は、それぞれ、参考例１−１〜１−３、１−７、１−８、１−１０〜１−１２、１−１４、１−１５、１１−１〜１１−３、１１−７、１１−８、１１−１０〜１１−１２、２１−１及び２１−２に読み替えるものとする。
実施例１−１：セルロースアシレートフィルム（ＣＡＦ１）の作製
［セルロースアシレート溶液の調製］
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液を調製した。

（セルロースアシレート溶液の組成）
セルロースアセテート（ＣＡ−１） １００．０質量部
アセチル化度２．８
可塑剤：トリフェニルホスフェート ６．０質量部
可塑剤：ビフェニルホスフェート ３．０質量部
メチレンクロリド（第１溶媒） ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒） ６０．０質量部

［マット剤溶液の調製］
下記の組成物を分散機に投入し、撹拌して各成分を溶解し、マット剤溶液を調製した。

（マット剤溶液組成）
平均粒径２０ｎｍのシリカ粒子 ２．０質量部
"ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２"日本アエロジル（株）製
メチレンクロリド（第１溶媒） ７５．０質量部
メタノール（第２溶媒） １２．７質量部
セルロースアシレート溶液 １０．３質量部

［レターデーション上昇剤溶液の調製］
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら撹拌して、各成分を溶解し、レターデーション上昇剤溶液を調製した。

（レターデーション上昇剤溶液の組成）
レターデーション上昇剤（Ａ―１） ２０．０質量部
メチレンクロリド（第１溶媒） ５８．４質量部
メタノール（第２溶媒） ８．７質量部
セルロースアシレート溶液 １２．８質量部

上記セルロースアシレート溶液９４．３質量部、マット剤溶液１．３質量部及びレターデーション上昇剤溶液４．４質量部をそれぞれ濾過した後に混合し、バンド流延機を用いて流延した。残留溶媒含量３５質量％で得られたウェブをバンドから剥離し、１４０℃の条件でテンターを用いて２５％の延伸倍率まで、３０％／分の延伸速度で横延伸した後、２３％の延伸倍率で１４０℃、３０秒間保持した。その後、クリップを外して１４０℃で４０分間乾燥させ、セルロースアシレートフィルム（ＣＡＦ１）を製造した。出来上がったセルロースアシレートフィルムの残留溶媒量は０．２質量％であり、膜厚は８０μｍであった。

実施例１−２〜１−１５及び比較例１−１〜１−２：セルロースアシレートフィルム（ＣＡＦ２〜１５及びＣＡＦＲ１〜２）の作製
実施例１−１において、セルロースアシレートの種類及びレターデーション上昇剤の種類、添加量、及び延伸倍率、延伸速度、緩和工程の延伸倍率、時間を表２の内容に変更した以外は、実施例１−１と同様にしてセルロースアシレートフィルム（ＣＡＦ２〜１５）及び（ＣＡＦＲ１〜２）を作製した。

上記表２において、セルロースアシレート及びレターデーション上昇剤の詳細は表３に示す。なお、レターデーション上昇剤の分子の末端間距離及び分極率異方性は、次のよう
にして測定した。

［分子の末端間距離及び分極率異方性］
分子の末端間距離及び分極率異方性は"Ｇａｕｓｓｉａｎ０３"（Ｒｅｖ．Ｂ．０３）（米ガウシアン社製ソフトウェア）を用いて計算した。末端間距離はＢ３ＬＹＰ／６−３１Ｇ＊レベルの計算で構造最適化した後、最も離れた原子間の距離として算出した。分極率異方性はＢ３ＬＹＰ／６−３１Ｇ＊レベルで最適化された構造を用いて、Ｂ３ＬＹＰ／６−３１１＋Ｇ＊＊レベルで分極率を計算し、得られた分極率テンソルを対角化した後、対角成分より算出した。

上記表２及び表３において、化合物（Ｉ−２）^*2及び化合物（１０）^*3は、それぞれ特開２００３−３４４６５５号公報の例示化合物（Ｉ−２）及び特開２００２−３６３３４３号公報の例示化合物（１０）であり、下記構造式を有する化合物である。
また上記表２および３において例示化合物（１５）は前記表１記載の例示化合物（１５）である。

［フィルムの光学特性の測定］
自動複屈折率計"ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ"｛王子計測機器（株）製｝を用い、２５℃、６０％ＲＨで、幅方向１１点のＲｅ及びＲｔｈを測定した。測定波長は５９０ｎｍとした。

［レターデーション上昇剤のブリードアウト］
レターデーション上昇剤のブリードアウトは、次の基準により判定した。
◎：フィルム全体にわたってブリードアウトなし。
○：ブリードアウト発生箇所が面積比で２％未満。
△：ブリードアウト発生箇所が面積比で２％以上５％未満。
×：ブリードアウト発生箇所が面積比で５％以上。
作製されたセルロースアシレートフィルムの評価結果を表４に示す。

表４の結果から、本発明のセルロースアシレートフィルムＣＡＦ１〜１５は、レターデーション発現性が高く、かつブリードアウトが少ないことがわかる。また、延伸倍率・速度・時間を特定の範囲内で行ったセルロースアシレートフィルムＣＡＦ１〜９、１４〜１５は、ＣＡＦ１０〜１３に比べ、レターデーションの面内変動が小さくなることが分かる。さらにまた、棒状分極率異方性が３００×１０^-25ｃｍ³以上２０００×１０^-25ｃｍ³以下であり、分子の末端間距離が２ｎｍ以上１０ｎｍ以下のレターデーション上昇剤を、平面分極率異方性が３００×１０^-25ｃｍ³以上１５００×１０^-25ｃｍ³以下で末端間距離が２ｎｍ以上１０ｎｍ以下のレターデーション上昇剤に混合することにより、ブリードアウトがさらに効果的に抑制されることがわかった（ＣＡＦ９）。

〔偏光板の作製〕
実施例１１−１
［セルロースアシレートフィルムの鹸化処理］
前記実施例１−１で作製されたセルロースアシレートフィルム（ＣＡＦ１）を、１．３ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で２分間浸漬し、次いで室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した後、再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。このようにして、セルロースアシレートフィルム（ＣＡＦ１）の表面を鹸化した。

さらに市販のセルローストリアセテートフィルム「フジタックＴＤ８０ＵＦ」｛富士写真フイルム（株）製｝を同条件で鹸化し、以下の偏光板試料作製に供した。

［偏光子の作製］
延伸したＰＶＡフィルムに、ヨウ素を吸着させて偏光子を作製し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、実施例１−１で作製したセルロースアシレートフィルム（ＣＡＦ１）を偏光子の片側に貼り付けた。偏光子の透過軸とセルロースアシレートフィルムの遅相軸とは平行になるように配置した。

さらに上記で鹸化処理した「フジタックＴＤ８０ＵＦ」を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光子の反対側に貼り付けた。このようにして偏光板（Ｐ１−１）を作製した。

実施例１１−２〜１１−１５及び比較例１１−１〜１１−２
セルロースアシレートフィルム（ＣＡＦ２〜１５）及び（ＣＡＦＲ１〜２）についても同様にして偏光板（Ｐ１−２〜１５）及び（ＰＲ１−１〜２）を作製した。得られた偏光板の構成を表５に示す。

実施例２１−１
〔ＶＡ液晶表示装置の作製と評価１〕
［液晶セルの作製］
ポリビニルアルコール３質量％水溶液１００質量部に、オクタデシルジメチルアンモニウムクロリド（カップリング剤）を１質量部添加した。これを、ＩＴＯ電極付のガラス基板上にスピンコートし、１６０℃で熱処理した後、ラビング処理を施して、垂直配向膜を形成した。ラビング処理は、２枚のガラス基板において反対方向となるようにした。セルギャップ（ｄ）が５μｍとなるように２枚のガラス基板を向かい合わせた。セルギャップに、エステル系とエタン系を主成分とする液晶性化合物（Δｎ：０．０８）を注入し、垂直配向液晶セルを作製した。Δｎとｄとの積は４００ｎｍであった。

上記実施例１１−７で作製した偏光板（Ｐ１−７）を、２５℃、６０％ＲＨの温湿度条件で事前に調湿した後、防湿処理を施した袋に包装し、３日間放置した。袋はポリエチレンテレフタレート／アルミ／ポリエチレンの積層構造からなる包装材であり、透湿度は１×１０^-5ｇ／ｍ²・日以下であった。

２５℃、６０％ＲＨの環境下で、偏光板７を取り出して、作製した垂直配向液晶セルの両面に、粘着シートを用いて貼り付けて、液晶表示装置を作製した。

作製した液晶表示画面について、前記〔偏光板の特性〕に記載の方法と同様の評価を行ったところ、本発明の偏光板（Ｐ１−７）を用いた液晶表示装置は、色味視野角が広く好ましいことがわかった。

実施例２１−２
〔ＶＡ液晶表示装置の作製と評価２〕
図３の液晶表示装置を作製した。すなわち、観察方向（上）から上側偏光板、ＶＡモード液晶セル（上基板、液晶層、下基板）、下側偏光板を積層し、さらにバックライト光源を配置した。以下の例では、上側偏光板に市販品の偏光板"ＨＬＣ２−５６１８"｛（株）サンリッツ製｝を用いて、下側偏光板に本発明の偏光板を使用している。

［液晶セルの作製］
液晶セルは、基板間のセルギャップを３．６μｍとし、負の誘電率異方性を有する液晶材料（"ＭＬＣ６６０８"メルク社製）を基板間に滴下注入して封入し、基板間に液晶層を形成して作製した。液晶層のレターデーション（すなわち、記液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄ）を３００ｎｍとした。なお、液晶材料は垂直配向するように配向させた。

上記の垂直配向型液晶セルを使用した液晶表示装置（図３）の上側偏光板３０に、市販品のスーパーハイコントラスト品"ＨＬＣ２−５６１８"｛（株）サンリッツ製｝を、下側偏光板３２に実施例１１−１で作製した偏光板（Ｐ１−１）を、本発明のセルロースアシレートフィルム（ＣＡＦ１）が液晶セル側となるように、粘着剤を介して、ＶＡモードセル３１の観察者側及びバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。

本発明の偏光板を用いた液晶表示装置は、コントラスト視野角が広く、優れた表示品位を有していることがわかった。

実施例１２
〔偏光板の作製〕
［光学補償シートの作製］
（セルロースアシレートフィルムの鹸化処理）
実施例１−９で作製したセルロースアシレートフィルム（ＣＡＦ９）上に、下記組成の液を５．２ｍＬ／ｍ²塗布し、６０℃で１０秒間乾燥させた。フィルムの表面を流水で１０秒洗浄し、２５℃の空気を吹き付けることでフィルム表面を乾燥させた。

（鹸化液の組成）
イソプロピルアルコール ８１８質量部
水 １６７質量部
プロピレングリコール １８７質量部
日本エマルジョン（株）製"ＥＭＡＬＥＸ" １０質量部
水酸化カリウム ６７質量部

（配向膜の形成）
鹸化処理したセルロースアシレートフィルム（ＣＡＦ９）の上に、下記の組成の塗布液を＃１４のワイヤーバーコーターで２４ｍＬ／ｍ²塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。
次に、セルロースアシレートフィルム（ＣＡＦ９）の延伸方向（遅相軸とほぼ一致）と４５゜の方向に、形成した膜にラビング処理を実施した。

（配向膜塗布液の組成）
下記構造の変性ポリビニルアルコール ２０質量部
水 ３６０質量部
メタノール １２０質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤） １．０質量部

（光学異方性層の形成）
配向膜上に、下記構造のディスコティック化合物９１質量部、エチレンオキシド変成トリメチロールプロパントリアクリレート"Ｖ＃３６０"｛大阪有機化学（株）製｝９質量部、セルロースアセテートブチレート"ＣＡＢ５３１−１"（イーストマン・ケミカル社製）１．５質量部、光重合開始剤「イルガキュア９０７」（チバガイギー社製）３質量部、増感剤「カヤキュアーＤＥＴＸ」｛日本化薬（株）製｝１質量部を、メチルエチルケトン２１４．２質量部に溶解した塗布液を、＃３のワイヤーバーコーターで５．２ｍＬ／ｍ²塗布した。これを金属の枠に貼り付けて、１３０℃の恒温槽中で２分間加熱し、ディスコティック化合物を配向させた。次に、９０℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、１分間ＵＶ照射しディスコティック化合物を重合させた。その後、室温まで放冷した。このようにして、光学異方性層を形成し、光学補償シート（ＷＶ２−２）を得た。

（光学補償シートの鹸化処理）
実施例１１−１と同様にして鹸化処理を行った。

［偏光板の作製］
（偏光子の作製）
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて偏光子を作製した。次に、作製した光学補償シート（ＷＶ２−２）のセルロースアシレートフィルム（ＣＡＦ９）側を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて偏光子の片側に貼り付けた。セルロースアシレートフィルム（ＣＡＦ９）の遅相軸および偏光子の透過軸が平行になるように配置した。

市販のセルローストリアセテートフィルム「フジタックＴＤ８０ＵＦ」｛富士写真フイルム（株）製｝を実施例１１−１と同様に鹸化処理し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光子の反対側（光学補償シートを貼り付けなかった側）に貼り付けた。このようにして、楕円偏光板（Ｐ２−１）を作製した。

実施例２２
〔液晶表示装置の作製〕
［ベンド配向液晶セルの作製］
ＩＴＯ電極付きのガラス基板に、ポリイミド膜を配向膜として設け、配向膜にラビング処理を行った。得られた２枚のガラス基板を、ラビング方向が平行となる配置で向かい合わせ、セルギャップを５．７μｍに設定した。セルギャップにΔｎが０．１３９６の液晶性化合物"ＺＬＩ１１３２"（メルク社製）を注入し、ベンド配向液晶セルを作製した。

［液晶表示装置の作製］
作製したベンド配向セルを挟むように、楕円偏光板（Ｐ２−１）を２枚貼り付けた。偏光板の光学異方性層がセル基板に対面し、液晶セルのラビング方向とそれに対面する光学異方性層のラビング方向とが反平行となるように配置した。

本発明の偏光板を用いた液晶表示装置は、コントラスト視野角が広く、且つ点欠陥が少なく好ましい画像を有していることがわかった。

図１は、本発明の偏光板と機能性光学フィルムとを複合した構成の一例である。 図２は、本発明の偏光板が使用される液晶表示装置の一例である。 図３は、本発明の液晶表示装置の一例を示す模式図である。

符号の説明

１、１ａ、１ｂ 保護フィルム
２ 偏光子
３ 機能性光学フィルム
４ 粘着層
５ 偏光板
６ 上偏光板
７ 上偏光板吸収軸
８ 上光学異方性層
９ 上光学異方性層配向制御方向
１０ 液晶セル上電極基板
１１ 上基板配向制御方向
１２ 液晶分子
１３ 液晶セル下電極基板
１４ 下基板配向制御方向
１５ 下光学異方性層
１６ 下光学異方性層配向制御方向
１７ 下偏光板
１８ 下偏光板吸収軸
３０ 上側偏光板
３１ ＶＡモード液晶セル
３２ 下側偏光板
３３ セルロースアシレートフィルム
３４ 偏光子

Claims (12)

1. 下記数式（１）で表される棒状分極率異方性が３００×１０^−２５ｃｍ^３以上２０００×１０^−２５ｃｍ^３以下で、末端間距離が２ｎｍ以上１０ｎｍ以下の少なくとも１種類のレターデーション上昇剤と、下記数式（２）で表される平面分極率異方性が３００×１０^−２５ｃｍ^３以上１５００×１０^−２５ｃｍ^３以下で、末端間距離が２ｎｍ以上１０ｎｍ以下の少なくとも１種類のレターデーション上昇剤を、各々少なくとも１種類、セルロースアシレートに対して０．１質量％以上３０質量％以下含有することを特徴とするセルロースアシレートフィルム。
   数式（１）：Δα＝α_ｘ−（α_ｙ＋α_ｚ）／２
   数式（２）：Δα＝（α_ｘ＋α_ｙ）／２−α_ｚ
   （式中、α_ｘは、分極率テンソルを対角化後に得られる固有値の内、最大の成分であり；α_ｙは、分極率テンソルを対角化後に得られる固有値の内、二番目に大きい成分であり；α_ｚは、分極率テンソルを対角化後に得られる固有値の内、最小の成分である。）
2. 波長５９０ｎｍにおけるＲｅ、及びＲｔｈが、
   ２０≦Ｒｅ≦２００
   ７０≦Ｒｔｈ≦４００
   １≦Ｒｔｈ／Ｒｅ≦１０
   を満たす請求項１に記載のセルロースアシレートフィルム。（Ｒｅは面内のレターデーション、Ｒｔｈは厚さ方向のレターデーションを表す。）
3. 棒状分極率異方性が３００×１０^−２５ｃｍ^３以上２０００×１０^−２５ｃｍ^３以下であり、分子の末端間距離が２ｎｍ以上１０ｎｍ以下のレターデーション上昇剤が、下記一般式（１）で表される化合物である請求項１又は２に記載のセルロースアシレートフィルム。
   一般式（１）：
   Ａｒ^１−Ｌ^１−Ｘ−Ｌ^２−Ａｒ^２
   ｛式中、Ａｒ^１、Ａｒ^２は、それぞれ独立に、アリール基又は芳香族ヘテロ環を表す。Ｌ^１、Ｌ^２は、それぞれ独立に、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ−を表す（Ｒは水素原子又はアルキル基を表す。）。Ｘは下記一般式（２）又は一般式（３）を表す。｝
   一般式（２）：
   

   

   （式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^８は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。）
   一般式（３）：
   

   

   （式中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７及びＲ^１８は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。）
4. 棒状分極率異方性が３００×１０^−２５ｃｍ^３以上２０００×１０^−２５ｃｍ^３以下であり、分子の末端間距離が２ｎｍ以上１０ｎｍ以下のレターデーション上昇剤が、下記一般式（４）で表される化合物である請求項１又は２に記載のセルロースアシレートフィルム。
   一般式（４）
   

   

   （式中、Ｒ^２−１、Ｒ^４−１、Ｒ^５−１はそれぞれ水素原子または置換基を表し、Ｒ^１１−１、Ｒ^１３−１はそれぞれ水素原子またはアルキル基を表し、Ｌ^１−１、Ｌ^２−１はそれぞれ単結合または２価の連結基を表す。Ａｒ^１−１はアリーレン基または芳香族へテロ環を表し、Ａｒ^２−１はアリール基または芳香族へテロ環を表し、ｎ−１は３以上の整数を表し、ｎ−１種存在するＬ^２−１、Ａｒ^１−１はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。ただしＲ^１１−１、Ｒ^１３−１は互いに異なっており、Ｒ^１３−１で表されるアルキル基はヘテロ原子を含まない。）
5. 棒状分極率異方性が３００×１０^−２５ｃｍ^３以上２０００×１０^−２５ｃｍ^３以下であり、分子の末端間距離が２ｎｍ以上１０ｎｍ以下のレターデーション上昇剤が、下記一般式（５）で表される化合物である請求項１又は２に記載のセルロースアシレートフィルム。
   一般式（５）
   

   

   （式中、Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ、単結合または二価の連結基を表す。Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ、水素原子または置換基である。Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ、置換基を表す。ｎは０〜４の整数を表し、ｎが２以上の場合は、複数存在するＲ^３はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよい。ｍは０〜４の整数を表し、ｍが２以上の場合は、複数存在するＲ^４はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、可能であれば互いに結合して環を形成してもよい。Ｘ^１は１〜５の整数を表す。Ｘ^１が２以上の場合は、複数存在する（Ｒ^４）_ｍはそれぞれ同じでも異なっていてもよい。Ｒ^４１は水素原子または置換基を表す。）
6. 数式（２）で表される平面分極率異方性が３００×１０^−２５ｃｍ^３以上１５００×１０^−２５ｃｍ^３以下で、末端間距離が２ｎｍ以上１０ｎｍ以下のレターデーション上昇剤が、下記一般式（６）で表される化合物である請求項１又は２に記載のセルロースアシレートフィルム。
   一般式（６）：
   

   

   （式中、Ｒ^２１、Ｒ^２２及びＲ^２３は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、芳香族環基又は複素環基を表す。）
7. 請求項１〜６のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルムを製造する方法であって、セルロースアシレートフィルムを、１分間に１００％以下の延伸速度で３％以上２００％以下の延伸倍率で延伸した後、最大延伸倍率の５０％以上９９％以下の延伸倍率で、１秒以上１２０秒以下保持することを特徴とするセルロースアシレートフィルムの製造方法。
8. 請求項７の方法により製造された請求項１〜６のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
9. 偏光子の両面に保護フィルムが貼り合わされてなる偏光板において、該保護フィルムの少なくとも１枚が、請求項１〜６及び８のいずれかに記載に記載のセルロースアシレートフィルムであることを特徴とする偏光板。
10. 保護フィルムの少なくとも片方の面上に、光学異方性層を有する請求項９に記載の偏光板。
11. 保護フィルムの少なくとも片方の面上に、位相差フィルムが貼り合わされてなる請求項９に記載の偏光板。
12. 液晶セル及びその両側に配置された２枚の偏光板を有し、その少なくとも１方の偏光板が請求項９〜１１のいずれかに記載の偏光板であることを特徴とする液晶表示装置。

Images