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JP4700564B2 - 洗浄装置及び洗浄ユニットを有する処理装置 - Google Patents
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JP4700564B2 - 洗浄装置及び洗浄ユニットを有する処理装置 - Google Patents

洗浄装置及び洗浄ユニットを有する処理装置 Download PDF

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Description

本発明は、半導体ウエハや液晶基板などの被処理体に対して洗浄処理を施すための洗浄装置及び洗浄ユニットを有する処理装置に関するものである。
従来より、半導体部品やフラットディスプレイなどの製造過程においては、半導体ウエハや液晶基板などの被処理体に対して洗浄処理を施す洗浄工程が設けられている。この洗浄工程で用いられる処理装置には、洗浄槽に洗浄液を貯留しておき、洗浄槽に複数の被処理体を配列させた状態で浸漬して、被処理体の洗浄処理を行う洗浄ユニット(洗浄装置)を内蔵したものが知られている(たとえば、特許文献1参照。)。
この従来の洗浄装置では、超音波振動子の上部に矩形板状の振動板を取付けて超音波振動ユニットを形成するとともに、この超音波振動ユニットの振動板の上部に矩形筒状の周壁をパッキンを介して締結して洗浄槽を形成していた。
そして、従来の洗浄装置では、コストメリットを考慮して汎用の超音波振動ユニットを用いるためや、洗浄槽の周壁の内部に洗浄液を吐出するノズルを取付けるためなどの設計上の制約に起因して、洗浄槽の周壁を構成する四辺の側壁の厚みがそれぞれ異なっており、洗浄槽の底壁を構成する振動板と厚みの異なる側壁との間で各側壁の厚みに対応した幅を有するパッキンを挟圧して、洗浄槽の樹脂製の側壁とカーボン系材料製の底壁とを樹脂製のボルトを用いて水密状に締結していた。
特開2003−209086号公報
ところが、上記従来の洗浄装置では、洗浄槽の側壁の厚みが異なっており、各側壁の厚みに対応した幅を有するパッキンを用いて洗浄槽の底壁と側壁とを締結していたために、締結される側壁の厚みが異なるにもかかわらず同一の締結力で締結されることになり、側壁の厚い部分と薄い部分とでパッキンの挟圧力が異なっていた。
しかも、樹脂製の側壁とカーボン系材料製の底壁とを樹脂製のボルトを用いて締結していたために、側壁の熱を良好に放熱することができず、高温の洗浄液が使用された場合に洗浄槽の締結部分において熱膨張が生じやすくなっていた。
そのため、高温の洗浄液が使用されて洗浄槽の締結部分に熱膨張が生じた場合に、パッキンの挟圧力の低い部分から洗浄液が漏出してしまうおそれがあった。
特に、底壁として超音波振動子を取付けた振動板を用いた場合には、熱膨張とともに振動によって締結部のボルトとパッキンの挿通孔との間での干渉が生じて、樹脂製のボルトが破損してしまうおそれもあった。
そこで、請求項1に係る本発明では、洗浄槽に被処理体を浸漬して洗浄処理を行う洗浄装置において、前記洗浄槽は、底壁の上部に厚みの異なる側壁をパッキンを介して締結するとともに、前記パッキンは、各側壁と底壁との間で挟圧される挟圧部に前記側壁と底壁とを締結するための挿通孔を形成し、前記挟圧部の挿通孔を形成した部分の単位長さ当たりの面積が均一となるように形成することにした。
また、請求項2に係る本発明では、前記請求項1に係る本発明において、前記挟圧部は、前記挿通孔を形成した部分の合計幅を均一とすることで単位長さ当たりの面積が均一となるように形成することにした。
また、請求項3に係る本発明では、前記請求項1又は請求項2に係る本発明において、前記挟圧部は、側壁の内側端縁の直下部と底壁との間で挟圧される突部を有することにした。
また、請求項4に係る本発明では、前記請求項1〜請求項3のいずれかに係る本発明において、前記底壁と周壁とを締結するボルトは、締結した状態で前記底壁に対応する位置にくびれ部を形成することにした。
また、請求項5に係る本発明では、前記請求項1〜請求項4のいずれかに係る本発明において、前記底壁と周壁との締結部分に冷却機構を配設することにした。
また、請求項6に係る本発明では、前記請求項1〜請求項5のいずれかに係る本発明において、前記底壁は、超音波振動子を連設した振動板であることにした。
また、請求項7に係る本発明では、洗浄槽に被処理体を浸漬して洗浄処理を行う洗浄ユニットを有する処理装置において、前記洗浄ユニットは、洗浄槽の底壁の上部に厚みの異なる側壁をパッキンを介して締結するとともに、前記パッキンは、各側壁と底壁との間で挟圧される挟圧部に前記側壁と底壁とを締結するための挿通孔を形成し、前記挟圧部の挿通孔を形成した部分の単位長さ当たりの面積が均一となるように形成することにした。
また、請求項8に係る本発明では、前記請求項7に係る本発明において、前記挟圧部は、前記挿通孔を形成した部分の合計幅を均一とすることで単位長さ当たりの面積が均一となるように形成することにした。
また、請求項9に係る本発明では、前記請求項7又は請求項8に係る本発明において、前記挟圧部は、側壁の内側端縁の直下部と底壁との間で挟圧される突部を有することにした。
また、請求項10に係る本発明では、前記請求項7〜請求項9のいずれかに係る本発明において、前記底壁と周壁とを締結するボルトは、締結した状態で前記底壁に対応する位置にくびれ部を形成することにした。
また、請求項11に係る本発明では、前記請求項7〜請求項10のいずれかに係る本発明において、前記底壁と周壁との締結部分に冷却機構を配設することにした。
また、請求項12に係る本発明では、前記請求項7〜請求項11のいずれかに係る本発明において、前記底壁は、超音波振動子を連設した振動板であることにした。
そして、本発明では、以下に記載する効果を奏する。
すなわち、本発明では、洗浄槽の底壁の上部に厚みの異なる側壁をパッキンを介して締結するとともに、パッキンの各側壁と底壁との間で挟圧される挟圧部の挿通孔を形成した部分の単位長さ当たりの面積が均一となるように形成しているために、締結される側壁の厚みの相違にかかわらず底壁と側壁とを均一の締結力で締結することができ、側壁の厚い部分と薄い部分とでパッキンの挟圧力を均一とすることができるので、高温の洗浄液が使用されて洗浄槽の各部に熱膨張が生じても、均一の挟圧力でシールすることができて、洗浄液が漏出してしまうのを防止することができる。この挟圧部の挿通孔を形成した部分の単位長さ当たりの面積を均一にするには、挟圧部の挿通孔を形成した部分の合計幅を均一とすれば容易に実現することができる。
特に、側壁の内側端縁の直下部と底壁との間で挟圧される突部を挟圧部に形成した場合には、側壁の内側端縁部分で突部によって側壁と底壁との間に水分が侵入するのを防止することができ、洗浄槽の内部(側壁と底壁との間)に洗浄液が残留してしまうのを防止することができる。
また、締結した状態で底壁に対応する位置にくびれ部を形成したボルトで底壁と周壁とを締結した場合には、熱膨張によってボルトと底壁の挿通孔との干渉を防止でき、ボルトの破損を未然に防止することができる。
また、底壁と周壁との締結部分に冷却機構を配設した場合には、熱による膨張を小さくすることができ、熱膨張に起因する洗浄液の漏出や部品の破損を防止することができる。
特に、超音波振動子を連設した振動板を底壁として用いた超音波洗浄装置の場合には、熱膨張に加えて振動の影響も及ぼすことになるために、上記の熱膨張による不具合を解消することで、超音波洗浄装置の洗浄液の漏出や部品の破損を防止することができる。
以下に、本発明に係る洗浄ユニットを内蔵した処理装置の具体的な構成について図面を参照しながら説明する。なお、以下の説明では、洗浄ユニットとして超音波洗浄ユニットを用いるとともに、洗浄処理を施す被処理体としてウエハ(基板)を用いた場合について説明する。
図1に示すように、処理装置1は、複数枚のウエハ2を収容したキャリア3の搬入及び搬出を行うキャリア搬入出部4と、複数のキャリア3に収容されたウエハ2を組合わせることによって一括処理するバッチ5を編成するバッチ編成部6と、各バッチ5ごとにウエハ2の洗浄処理及び乾燥処理を行う基板処理部7とで構成している。
キャリア搬入出部4は、キャリア3を載置するキャリアステージ8に密閉状の開閉扉9を形成し、この開閉扉9の内側にキャリア搬送機構10を配設し、このキャリア搬送機構10によってキャリアステージ8に載置されたキャリア3を必要に応じてキャリアストック11に一時的に保管するとともに、キャリア載置台12に搬入するようにしている。
また、キャリア搬入出部4は、基板処理部7で処理が完了したウエハ2が収容されたキャリア3に対し、上記搬入時とは逆に、キャリア載置台12に載置されたキャリア3を必要に応じてキャリア搬送機構10によってキャリアストック11に一時的に保管するとともに、キャリアステージ8に搬出するようにしている。
バッチ編成部6は、キャリア搬入出部4との間に密閉状の開閉扉13を形成し、この開閉扉13の内側にキャリア3に収容された複数枚のウエハ2を同時に搬送するための基板搬送機構14と、この基板搬送機構14によって搬送されたウエハ2の配列間隔を半分に変更してバッチ5を形成するためのバッチ形成機構15と、基板搬送機構14によって搬送されたウエハ2の配列順序を変更する配列順序変更機構16と、バッチ形成機構15によって形成されたバッチ5をバッチ編成部6と基板処理部7との間で受渡すとともに基板処理部7の内部での搬送を行うバッチ搬送機構17とを配設している。また、バッチ編成部6は、内部にキャリア3に収容されたウエハ2の収容状態を検出するウエハ収容状態検出センサー18とキャリア3に収容された複数枚のウエハ2のノッチの位置調整を行うノッチアライナー19を配設している。
そして、バッチ編成部6では、キャリア搬入出部4から搬入される複数個(たとえば、2個)のキャリア3にそれぞれ収容された複数枚(たとえば、25枚)のウエハ2を組合わせて基板処理部7で一括処理する複数枚(たとえば、50枚)のウエハ2で構成されたバッチ5を形成し、そのバッチ5を基板処理部7に受渡し、また、基板処理部7での処理が完了した後には、基板処理部7からバッチ5を受取り、元のキャリア3にウエハ2を収容して、そのキャリア3をキャリア搬入出部4に搬送するようにしている。
基板処理部7は、ウエハ2の洗浄及び乾燥を行う洗浄乾燥機構20とウエハ2の洗浄を行う洗浄機構21とで構成している。そして、洗浄乾燥機構20には、バッチ5をウエハ昇降機構22で昇降することによって洗浄と乾燥とを行う基板洗浄乾燥ユニット23とバッチ搬送機構17の洗浄を行う搬送機構洗浄ユニット24とを並設している。また、洗浄機構21には、第1の洗浄ユニットとしての超音波洗浄ユニット25と第2及び第3の洗浄ユニット26,27とを並設しており、各洗浄ユニット25,26,27には、バッチ5を薬液処理するための洗浄部28,29,30とバッチ5を純水処理するための洗浄部31,32,33とこれらの薬液処理用の洗浄部28,29,30と純水処理用の洗浄部31,32,33との間でバッチ5の搬送を行う搬送機構34,35,36とを設けている。
また、基板処理部7は、洗浄乾燥機構20と洗浄機構21に沿ってバッチ搬送機構17を配設しており、このバッチ搬送機構17の始端部分をバッチ編成部6に配設している。
そして、基板処理部7は、バッチ編成部6で編成されたバッチ5をバッチ搬送機構17によって洗浄乾燥機構20のウエハ昇降機構22や洗浄機構21の搬送機構34,35,36に搬送して、各洗浄乾燥機構20や洗浄機構21においてウエハ2の処理をバッチ5ごとに行ない、その後、処理後のバッチ5を洗浄乾燥機構20のウエハ昇降機構22や洗浄機構21の搬送機構34,35,36からバッチ搬送機構17に移送し、このバッチ搬送機構17によって処理後のバッチ5をバッチ編成部6へ再び搬送するようにしている。
このように、処理装置1は、キャリア搬入出部4によってウエハ2をキャリア3ごとバッチ編成部6に搬入し、バッチ編成部6において基板処理部7で一括処理するバッチ5を編成して基板処理部7に受渡し、基板処理部7でバッチ5ごとに一括して処理を施し、その後、処理後のバッチ5をバッチ編成部6に受渡し、バッチ編成部6でバッチ5を構成するウエハ2をキャリア3に収容してキャリア搬入出部4に搬送し、キャリア搬入出部4によって処理後のウエハ2を収容したキャリア3を搬出するようにしている。
次に、本発明の要部となる超音波洗浄ユニット25(超音波洗浄装置)の構成について説明する。
超音波洗浄ユニット25は、図2〜図4に示すように、上部に開口を形成した矩形箱型状の容器37の内部に基台38を取付け、この基台38の上部に矩形枠状のアルミニウム製の基枠39を取付け、この基枠39の上部に厚さ1mmのフッ素系ゴム製(例えば、VITON(登録商標)製)のパッキン40を介して洗浄槽41を取付けている。
洗浄槽41は、超音波振動ユニット42の上部に矩形箱枠状の周壁43を取付けることによって構成している。周壁43は、耐薬品性に富む材料であるポリテトラフルオロエチレン(PTFE)あるいはフッ素樹脂(PFA)等で形成している。超音波振動ユニット42は、耐薬品性及び音波透過性に富む材料であるアモルファスカーボンあるいは炭化珪素等のカーボン系材料からなる矩形板状の振動板44(底壁46)の下面に超音波振動子45を取付け、この超音波振動子45に駆動制御装置(図示省略)を接続している。
このように、洗浄槽41は、周壁43をPTFEあるいはPFAで形成し、底壁46となる振動板44をアモルファスカーボンあるいは炭化珪素等のカーボン系材料で形成することによって、洗浄液にSC1、SC2あるいはDHF等の薬液を使用した場合でも溶解してしまうおそれがなく、メタルコンタミネーション等の発生を防止することができる。特に、振動板44を音波透過性に富む材料であるアモルファスカーボンあるいは炭化珪素等のカーボン系材料で形成しているために、石英のように薬液による溶解によって肉厚が薄くなるおそれがなく、音波透過率の低下を防止することができる。
そして、洗浄槽41は、超音波振動ユニット42の振動板44を底壁46として基枠39に取付け、この底壁46の周縁上部に周壁43を厚さ2mmの復元性の高いパーフロPF-A製のパッキン47を介して取付けている。これら基枠39と底壁46と周壁43は、パッキン40,47を介してアルミニウム製のボルト48で一括して締結している。
ここで、洗浄槽41の周壁43は、前後側壁49,50と左右側壁51,52とで構成している。なお、各側壁49,50,51,52は、幅が異なっており、前側壁49、後側壁50、左右側壁51,52の順で幅が広くなっている。
そして、底壁46と周壁43との間に介設したパッキン47は、図5及び図6に示すように、左右方向に伸延する前片53及び後片54と、これら前後片53,54の左右端部間に介設した前後方向に伸延する左片55及び右片56とによって平面視で矩形枠状に形成し、内側部分に貫通状の開口57を形成している。
また、パッキン47は、各片53,54,55,56に各側壁49,50,51,52と底壁46との間で挟圧される挟圧部58,59,60,61を形成するとともに、この挟圧部58,59,60,61に同一間隔でボルト48を挿通させるための挿通孔62を穿設している。
ここで、パッキン47に形成した挟圧部58,59,60,61は、各側壁49,50,51,52と底壁46とで挟圧される合計幅が各側壁49,50,51,52の幅の相違にかかわらずに均一となるようにしている。すなわち、図6に示すように、側壁49と底壁46とで挟圧される前片53を外側端縁の突部58oと内側端縁の突部58iとで形成し(図6(a)参照。)、挟圧部58の合計幅Aを外側端縁の突部58oの幅a1と内側端縁の突部58iの幅a2との合計(A=a1+a2)とし、側壁50と底壁46とで挟圧される後片54を外側端縁の突部59oと内側の突部59iと薄肉状の凹部63と内側端縁の突部66とで形成し(図6(b)参照。)、挟圧部59の合計幅Bを外側端縁の突部59oの幅b1と内側の突部59iの幅b2と内側端縁の突部66の幅b3との合計(B=b1+b2+b3)とし、側壁51と底壁46とで挟圧される左片55を外側端縁の突部60oと内側の突部60iと薄肉状の凹部64と内側端縁の突部67とで形成し(図6(c)参照。)、挟圧部60の合計幅Cを外側端縁の突部60oの幅c1と内側の突部60iの幅c2と内側端縁の突部67の幅c3との合計(C=c1+c2+c3)とし、側壁52と底壁46とで挟圧される右片56を外側端縁の突部61oと内側の突部61iと薄肉状の凹部65と内側端縁の突部68とで形成し(図6(d)参照。)、挟圧部61の合計幅Dを外側端縁の突部61oの幅d1と内側の突部61iの幅d2と内側端縁の突部68の幅d3との合計(C=d1+d2+d3)とし、各側壁49,50,51,52の幅A',B',C',D'が異なるにもかかわらず各挟圧部58,59,60,61の合計幅A,B,C,Dが均一となるようにしている。
また、ボルト48は、アルミニウム製として強度を確保しつつ、底壁46と周壁43とをパッキン47を介して締結した状態において、底壁46に形成した挿通孔76に対応する位置の外径を小さくしてくびれ部69を形成している。これにより、ボルト48と底壁46の挿通孔76との間のクリアランスが大きくなるようにしている。
さらに、ボルト48は、皿バネ70を介して底壁46と周壁43とを締結している。これにより、皿バネ70の作用で底壁46と周壁43とを強固に締結して、ボルト48の緩みを防止している。
また、基枠39には、円形断面を有する矩形枠状の冷却水路71を形成しており、この冷却水路71に連続して常温の冷却水を毎分1〜3リットル程度通水している。このようにして、基枠39に底壁46と周壁43との締結部分を冷却するための冷却機構72を形成している。
特に、上記洗浄槽41では、周壁43を保温性の高い素材である樹脂製(PTFEあるいはPFA等)とするとともに、ボルト48を熱伝導率の高い素材である金属製(アルミニウム等)とすることによって、周壁43が放熱しにくく熱による影響を受けやすくなっているにもかかわらず、周壁43の熱をボルト48を介して冷却機構72へと良好に伝導させることができ、周壁43の冷却を迅速に行わせることができるようになっている。
洗浄槽41は、以上に説明したように構成しており、左右側壁51,52には、洗浄液を吐出するための左右一対の洗浄液吐出ノズル73,74を取付けている。また、洗浄槽41の内部には、ウエハ2をバッチ5ごと支持しながら洗浄液に浸漬するためのウエハボート75を昇降自在に配設している。このウエハボート75は、搬送機構34に連動連結している。
以上に説明したように、上記構成の洗浄槽41では、底壁46の上部に厚みの異なる側壁49,50,51,52をパッキン47を介して締結するとともに、パッキン47に各側壁49,50,51,52と底壁46との間で挟圧される均一の合計幅を有する挟圧部58,59,60,61を形成している。このように、上記洗浄槽41では、各挟圧部58,59,60,61の合計幅を均一とすることによって、パッキンの各挟圧部58,59,60,61の単位長さ当たりの面積が均一となるようにしている。
そのため、上記洗浄槽41では、ボルト48によって締結される側壁49,50,51,52の厚みの相違にかかわらず底壁46と側壁49,50,51,52とを均一の締結力で締結することができ、側壁49,50,51,52の厚い部分と薄い部分とでパッキン47の挟圧力を均一とすることができる。
これにより、上記洗浄槽41では、高温の洗浄液が使用されて洗浄槽41の各部に熱膨張が生じても、底壁46と側壁49,50,51,52を均一の挟圧力でシールすることができ、シール部分から洗浄液が漏出してしまうのを防止することができる。
しかも、上記洗浄槽41では、パッキン47の挟圧部59,60,61に側壁50,51,52の内側端縁の直下部と底壁46との間で挟圧される突部66,67,68を形成している。
そのため、上記洗浄槽41では、側壁50,51,52の内側端縁部分で突部66,67,68によって側壁50,51,52と底壁46との間に水分が侵入するのを防止することができ、洗浄槽41の内部(側壁50,51,52と底壁46との間)に洗浄液が残留してしまうのを防止することができるので、洗浄液の残留に起因する洗浄不良の発生を未然に防止することができる。
また、上記洗浄槽41では、底壁46と側壁49,50,51,52とをボルト48で締結した状態において、底壁46に形成したボルト48を挿通するための挿通孔76に対応する位置にくびれ部69を形成したボルト48を用いているために、ボルト48と挿通孔76とのクリアランスを大きく確保することができ、熱膨張によってボルト48と底壁46の挿通孔76との間で生じるおそれがある干渉(剪断作用)を防止することができ、ボルト48の破損を未然に防止することができる。
また、上記洗浄槽41では、底壁46と周壁43との締結部分に冷却機構72を形成しているために、洗浄槽41の内部で高温の洗浄液を使用しても、底壁46と周壁43との締結部分の熱による膨張を小さくすることができ、熱膨張に起因する洗浄液の漏出や部品の破損を防止することができる。
さらに、上記洗浄槽41では、超音波振動子45を連設した振動板44を底壁46として用いることによって超音波洗浄ユニット25を構成しているために、底壁46と周壁43との締結部分には熱膨張による影響に加えて振動による影響も及ぼされることになるが、上記したように熱膨張による不具合を解消することで、超音波洗浄ユニット25の洗浄液の漏出や部品の破損を防止することができる。
本発明に係る処理装置を示す平面図。 超音波洗浄ユニットを示す正面断面図。 同側面断面図。 洗浄槽の底壁と周壁の締結部分を示す拡大断面図。 パッキンを示す平面図。 同部分拡大図。
符号の説明
1 処理装置 2 ウエハ
3 キャリア 4 キャリア搬入出部
5 バッチ 6 バッチ編成部
7 基板処理部 8 キャリアステージ
9 開閉扉 10 キャリア搬送機構
11 キャリアストック 12 キャリア載置台
13 開閉扉 14 基板搬送機構
15 バッチ形成機構 16 配列順序変更機構
17 バッチ搬送機構 18 ウエハ収容状態検出センサー
19 ノッチアライナー 20 洗浄乾燥機構
21 洗浄機構 22 ウエハ昇降機構
23 基板洗浄乾燥ユニット 24 搬送機構洗浄ユニット
25 超音波洗浄ユニット 26,27 洗浄ユニット
28,29,30 薬液処理用の洗浄部 31,32,33 純水処理用の洗浄部
34,35,36 搬送機構 37 容器
38 基台 39 基枠
40 パッキン 41 洗浄槽
42 超音波振動ユニット 43 周壁
44 振動板 45 超音波振動子
46 底壁 47 パッキン
48 ボルト 49 前側壁
50 後側壁 51 左側壁
52 右側壁 53 前片
54 後片 55 左片
56 右片 57 開口
58,59,60,61 挟圧部 62 挿通孔
63,64,65 凹部 66,67,68 突部
69 くびれ部 70 皿バネ
71 冷却水路 72 冷却機構
73,74 洗浄液吐出ノズル 75 ウエハボート
76 挿通孔

Claims (12)

  1. 洗浄槽に被処理体を浸漬して洗浄処理を行う洗浄装置において、
    前記洗浄槽は、底壁の上部に厚みの異なる側壁をパッキンを介して締結するとともに、前記パッキンは、各側壁と底壁との間で挟圧される挟圧部に前記側壁と底壁とを締結するための挿通孔を形成し、前記挟圧部の挿通孔を形成した部分の単位長さ当たりの面積が均一となるように形成したことを特徴とする洗浄装置。
  2. 前記挟圧部は、前記挿通孔を形成した部分の合計幅を均一とすることで単位長さ当たりの面積が均一となるように形成したことを特徴とする請求項1に記載の洗浄装置。
  3. 前記挟圧部は、側壁の内側端縁の直下部と底壁との間で挟圧される突部を有することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の洗浄装置。
  4. 前記底壁と周壁とを締結するボルトは、締結した状態で前記底壁に対応する位置にくびれ部を形成したことを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかに記載の洗浄装置。
  5. 前記底壁と周壁との締結部分に冷却機構を配設したことを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれかに記載の洗浄装置。
  6. 前記底壁は、超音波振動子を連設した振動板であることを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれかに記載の洗浄装置。
  7. 洗浄槽に被処理体を浸漬して洗浄処理を行う洗浄ユニットを有する処理装置において、
    前記洗浄ユニットは、洗浄槽の底壁の上部に厚みの異なる側壁をパッキンを介して締結するとともに、前記パッキンは、各側壁と底壁との間で挟圧される挟圧部に前記側壁と底壁とを締結するための挿通孔を形成し、前記挟圧部の挿通孔を形成した部分の単位長さ当たりの面積が均一となるように形成したことを特徴とする処理装置。
  8. 前記挟圧部は、前記挿通孔を形成した部分の合計幅を均一とすることで単位長さ当たりの面積が均一となるように形成したことを特徴とする請求項7に記載の処理装置。
  9. 前記挟圧部は、側壁の内側端縁の直下部と底壁との間で挟圧される突部を有することを特徴とする請求項7又は請求項8に記載の処理装置。
  10. 前記底壁と周壁とを締結するボルトは、締結した状態で前記底壁に対応する位置にくびれ部を形成したことを特徴とする請求項7〜請求項9のいずれかに記載の処理装置。
  11. 前記底壁と周壁との締結部分に冷却機構を配設したことを特徴とする請求項7〜請求項10のいずれかに記載の処理装置。
  12. 前記底壁は、超音波振動子を連設した振動板であることを特徴とする請求項7〜請求項11のいずれかに記載の処理装置。
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