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JP4782016B2 - 減結合スタック型バルク音響共振器デバイスにおける通過帯域幅の制御 - Google Patents
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JP4782016B2 - 減結合スタック型バルク音響共振器デバイスにおける通過帯域幅の制御 - Google Patents

減結合スタック型バルク音響共振器デバイスにおける通過帯域幅の制御 Download PDF

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Description

電気帯域フィルタは、多くの異なるタイプの民生用、及び産業用電子製品において、ある範囲の周波数の電気信号を選択し、又は阻止するために使用される。近年、係る製品の物理的サイズが大幅に減少する傾向にあると同時に、製品の回路の複雑性も増加する傾向にある。John D. Larson IIIによる「Stacked Bulk Acoustic Resonator Band-Pass Filter with Controllable Pass Bandwidth」と題する米国特許出願第10/699,298号は、減結合スタック型バルク音響共振器(decoupled stacked bulk acoustic resonator:DSBAR)に基づいた、高度に小型化されて、高性能で低コストの帯域フィルタを開示する。DSBARは、積み重ねられた圧電薄膜共振器(FBAR)及びFBAR間に配置された音響減結合器からなる。
変成器(transformer:変換器)は、インピーダンスを変換すること、シングルエンド回路を平衡回路に、又はその逆に接続すること、及び電気絶縁を提供することのような機能を行うために、多くのタイプの電子装置に使用されている。しかしながら、変成器の全てが、これらの特性の全てを有するとは限らない。例えば、単巻変圧器は、電気絶縁を提供しない。John D. Larson III及びRichard Rubyによる「Thin-Film Acoustically-Coupled transformer」と題する米国特許出願第10/699,481号は、各々が音響減結合器を組み込む1つ又は複数のDSBARを有する、高度に小型化されて、高性能で低コストの変成器を開示する。この薄膜の音響的に結合された変成器(以降、薄膜音響結合変成器と称する)(Thin-Film Acoustically-Coupled transformer:FACT)は、UHFからマイクロ波の範囲の電気周波数において、インピーダンスの変換、平衡回路と不平衡回路との間の結合、及び電気絶縁の特性の1つ又は複数を提供することができる。FACTは一般に、低い挿入損失、携帯電話のRF信号の周波数範囲に適応するのに十分な帯域幅、例えば、携帯電話で現在使用されている変成器よりも小さいサイズ、及び低い製造コストをさらに有する。
上述した帯域フィルタとFACT、及び各々がその構成要素をなすFBAR間に配置された音響減結合器を組み込む1つ又は複数のDSBARを組み込む他のデバイスは、本明細書において、減結合スタック型バルク音響共振器デバイス、又は簡潔にDSBARデバイスと呼ぶことにする。
上述した米国特許出願第10/699,298号及び第10/699,481号(親出願)に開示されるように、DSBARデバイスは、音響減結合器の特性により決定される通過帯域幅を有する帯域通過特性を有する。親出願に開示されたDSBARデバイスの実施形態において、音響減結合器は単一の音響減結合層として具現化されていた。各DSBARの音響減結合層は、DSBARを構成するFBARの材料の音響インピーダンスと異なる音響インピーダンスを有する音響減結合材料の層である。音響減結合材料の音響インピーダンスは、材料における粒子速度に対する応力の比であり、raylと省略されるレイリー(Rayleight)で測定される。
特定の実施形態において、音響減結合材料は、FBARの材料の音響インピーダンスより低い音響インピーダンスを有するプラスチック材料である。典型的なプラスチックの音響減結合材料は、10より小さい音響インピーダンスを有するのに対して、FBARの材料は、30より大きい音響インピーダンスを有する。係る実施形態の通過帯域幅は、音響減結合材料の音響インピーダンスに依存する。従って、DSBARデバイスの通過帯域幅は、適切な音響インピーダンスを有する音響減結合材料を選択することにより、簡単に定めることができると思われていた。
実際には、適切な音響減結合材料を選択することにより、DSBARデバイスの通過帯域幅を簡単に定めることが困難であることが判明している。一般的なFBAR材料を用いて最も一般的に使用される通過帯域幅を生じさせる範囲の音響インピーダンスを有し、さらに音響減結合層が形成された後に実施される処理に使用される高い温度とエッチャントに耐える能力を有する材料は、実際に数は少ない。
従って、DSBARデバイスの通過帯域幅を定める代替の態様が必要とされている。
発明の概要
本発明は、一態様において、下側圧電薄膜共振器(FBAR)と、下側FBARの上に積み重ねられた上側FBARと、FBAR間の音響減結合器とからなる、減結合スタック型バルク音響共振器(DSBAR)デバイスを提供する。FBARの各々は、対向する平面電極と、前記電極間の圧電要素とからなる。音響減結合器は、異なる音響インピーダンスを有する音響減結合材料の複数の音響減結合層からなる。音響減結合層の音響インピーダンスと厚さは、音響減結合器の音響インピーダンス、ひいてはDSBARデバイスの通過帯域幅を決定する。プロセス互換性のある音響減結合材料を用いて、音響インピーダンス(通過帯域幅という結果になる)を有する音響減結合器を作成することができ、その音響インピーダンスは、係る音響インピーダンスを有するプロセス互換性のある音響減結合材料がないことに起因して、別な方法で得ることができない。
実施形態において、DSBARデバイスは、薄膜音響結合変成器(FACT)であり、さらに追加の下側FBAR、追加の下側FBARに積み重ねられた追加の上側FBAR、及び追加のFBAR間の追加の音響減結合器を含む。追加のFBARのそれぞれは、対向する平面電極と、前記電極間の圧電要素とからなる。追加の音響減結合器は、異なる音響インピーダンスを有する音響減結合材料の複数の音響減結合層からなる。FACTはさらに、下側FBARを相互接続する第1の電気回路、及び上側FBARを相互接続する第2の電気回路を含む。
別の態様において、本発明は、下側圧電薄膜共振器(FBAR)と、下側FBARの上に積み重ねられた上側FBARと、FBAR間の音響減結合器とからなる、DSBARデバイスを提供する。FBARの各々は、対向する平面電極と、前記電極間の圧電要素とからなる。音響減結合器は、約2Mrayl〜約4Mraylの範囲の音響インピーダンスを有する。実施形態において、音響減結合器は、約2Mrayl〜約4Mraylの範囲の音響インピーダンスを有する音響減結合材料からなる2つ以上の音響減結合層からなる。別の実施形態において、音響減結合器は、それぞれ異なる音響インピーダンスを有する音響減結合材料からなる複数の音響減結合層からなる。
詳細な説明
本出願人は、異なる音響インピーダンスを有する音響減結合材料の複数の音響減結合層から構成された多層音響減結合器が、DSBARデバイスの通過帯域幅を定める利点と共に使用され得ることを発見した。DSBARデバイスにおいて、DSBARデバイスの通過帯域の中心周波数に等しい周波数の音響信号にπ/2ラジアンの整数倍の位相変化を加えるように構成された多層音響減結合器は、まるで単層の音響減結合器が多層音響減結合器の音響減結合材料の音響インピーダンスと異なる有効な音響インピーダンスを有し、且つ単層の音響減結合器の音響減結合材料における音響信号の波長の四分の一に等しい公称の厚さを有するように振る舞う。音響減結合器の音響インピーダンスに対する本開示における文献は、音響減結合器が多層音響減結合器である場合の音響減結合器の有効な音響インピーダンスに関連していると理解されるべきである。多層音響減結合器により、プロセス互換性のある音響減結合材料が、同じ音響インピーダンスを有するプロセス互換性のある音響減結合材料がないことに起因して単層の音響減結合器で得ることができない音響インピーダンス(従って、DSBARデバイスの通過帯域幅)を得るために使用されることが可能になる。
n個の音響減結合層を有する音響減結合器の音響インピーダンスZは、式(1)により定義される。
Figure 0004782016
ここで、Zは、音響減結合層iの音響減結合材料の音響インピーダンスであり、tは、音響減結合層iの厚さであり、vは、音響減結合層iの音響減結合材料における音速である。
音響減結合器は、π/2ラジアンの奇数倍、即ち(2m+1)π/2(ここで、mは整数)の位相変化ΔφをDSBARの中心周波数に公称的に等しい周波数の音響信号に加えるように構成される。音響減結合器により加えられる位相変化Δφは、以下により与えられる。
Figure 0004782016
従って、本発明によれば、プロセス互換性のある音響減結合材料の音響インピーダンスが所望の通過帯域幅を提供するDSBARデバイスの実施形態において、音響減結合器は、係る音響減結合材料の単一の音響減結合層から構成される。さらに、所望の通過帯域幅がプロセス互換性のある任意の単一の音響減結合材料の音響インピーダンスにより提供されないDSBARデバイスの実施形態において、音響減結合器は、概して一方が所望の音響インピーダンスよりも大きい音響インピーダンスを有し、他方が所望の音響インピーダンスよりも小さい音響インピーダンスを有する2つの異なる音響減結合材料の音響減結合層から構成される。音響減結合層の厚さは、音響減結合器の音響インピーダンスを、所望の通過帯域幅を提供する音響インピーダンスに設定し、且つ音響減結合により加えられる位相変化をπ/2ラジアンの奇数倍に設定するように選択される。
図1は、本発明によるDSBARデバイスの5つの例示的な実施形態に関する計算された通過帯域の周波数応答を示す。曲線185は、音響減結合器が約4Mraylの音響インピーダンスを有する第1の音響減結合材料からなる単一の音響減結合層から構成された実施形態の周波数応答を示す。曲線189は、音響減結合器が約2Mraylの音響インピーダンスを有する第2の音響減結合材料からなる単一の音響減結合層から構成された実施形態の周波数応答を示す。曲線186、187、及び188は、音響減結合器が第1の音響減結合材料の第1の音響減結合層と第2の音響減結合材料の第2の音響減結合層から構成され、第1の音響減結合層と第2の音響減結合層がそれぞれ、音響減結合器により加えられる全位相シフトのそれぞれ75%と25%、50%と50%、及び25%と75%の割合を占める各々の実施形態の周波数応答を示す。音響減結合器は全て、DSBARデバイスの通過帯域の中心周波数に等しい周波数を有する音響信号にπ/2ラジアンの公称の位相変化を加えるように構成される。曲線185〜189により表された実施形態の音響減結合器は、4.9、3.3、3.0、2.5、及び2.1Mraylの音響インピーダンスを有する。図1は、音響減結合器の音響インピーダンスが減少するにつれてDSBARデバイスの通過帯域幅がどのように減少するかを示す。
図1に示された周波数応答は、音響減結合器が単一の音響減結合層(曲線185と189)からなるか、又は異なる音響インピーダンスを有する音響減結合材料の2つの音響減結合層(曲線186〜188)からなるか否かに関わらず、スプリアスのアーチファクトの形跡がほとんどないことを示す。2つ以上の音響減結合層を有する実施形態の周波数応答は、音響減結合層の音響インピーダンスの比が1を越えて増加する場合、スプリアスのアーチファクトを呈する可能性が高くなり、例えば、音響インピーダンスの比が6を越える実施形態において、スプリアスのアーチファクトが現れる可能性がある。図1は、以下でより詳細に説明される。
図2Aは、本発明によるDSBARデバイスの第1の例としての帯域フィルタの例示的な実施形態100の平面図である。図2Bは、図2Aの切断線2B−2Bに沿った断面図である。帯域フィルタ100は、DSBAR106からなる。DSBAR106は、下側圧電薄膜共振器(FBAR)110、下側FBAR110の上に積み重ねられた上側FBAR120、及びFBAR間の音響減結合器130から構成される。
FBAR110は、対向する平面電極112と114、及び電極間の圧電要素116から構成される。FBAR120は、対向する平面電極122と124、及び電極間の圧電要素126から構成される。
音響減結合器130は、FBAR110と120との間、特にFBAR110の電極114とFBAR120の電極122との間に配置される。音響減結合器はFBAR110と120との間の音響エネルギーの結合を制御する。音響減結合器は、FBAR間で直接接触することにより結合されたものと比べて、FBAR間の音響エネルギーを少なく結合する。図2Bに示された例において、及び図2Cの拡大された形態において、音響減結合器130は、第1の音響減結合材料からなる音響減結合層182、及び第2の音響減結合材料からなる音響減結合層183から構成される。音響減結合材料は異なる音響インピーダンスを有する。
図示された例において、DSBAR106は、基板102に画定された空洞104の上に浮いている。DSBARを浮かせるこの態様により、FBAR110と120がそれらの一方の電極間に印加された入力電気信号に応答して機械的に共振することが可能になる。入力電気信号を受信するFBARで生成される音響エネルギーは、他のFBARへと音響減結合器130を通過する。音響エネルギーを受け取っているFBARは、その音響エネルギーの一部を、その電極間に与えられる電気出力信号に変換する。FBARが入力電気信号に応じて、機械的に共振することを可能にする他の浮遊機構が可能である。例えば、Lakinによる米国特許第6,107,721号に開示されるように、DSBARが、基板102内に、又は基板102上に形成された不一致の音響ブラッグリフレクタ(図示せず)の上に配置され得る。
図示された例において、FBAR110の電極112と114は、それぞれ電気トレース133と135により、それぞれ端子パッド132と134に電気接続される。さらに、FBAR120の電極122と124は、それぞれ電気トレース137と139により、端子パッド134と138に電気接続される。入力と出力との間に電気絶縁を提供する実施形態において、電気トレース137は、端子パッド134に接続される代わりに、追加の端子パッド(図示せず)に接続される。
図3Aは、本発明による、DSBARデバイスの第2の例として、薄膜音響結合変成器(FACT)の例示的な実施形態200の平面図である。図3Bと図3Cはそれぞれ、図3Aの切断線3B−3Bと3C−3Cに沿った断面図である。図3Fは、図3Aに示されたFACTの例の電気回路の略図である。
FACT200は、基板102、及び減結合スタック型バルク音響共振器(DSBAR)106と108から構成される。各DSBARは、下側圧電薄膜共振器(FBAR)、上側FBAR、及びFBAR間の音響減結合器から構成される。FACT200はさらに、それぞれDSBAR106と108の下側FBAR110と150を相互接続する電気回路、及びそれぞれDSBAR106と108の上側FBAR120と160を相互接続する電気回路から構成される。図3Fは、電気回路141がDSBAR106の下側FBAR110とDSBAR108の下側FBAR150を逆並列に接続し、電気回路142がDSBAR106の上側FBAR120とDSBAR108の上側FBAR160を直列に接続する例を示す。
DSBAR106において、下側FBAR110は、対向する平面電極112と114、及び電極間の圧電要素116から構成され、上側FBAR120は、対向する平面電極122と124、及び電極間の圧電要素126から構成される。DSBAR108において、下側FBAR150は、対向する平面電極152と154、及び電極間の圧電要素156から構成され、上側FBAR160は、対向する平面電極162と164、及び電極間の圧電要素166から構成される。
FACT200において、DSBAR106は、下側FBAR110と上側FBAR120との間に、特に、下側FBAR110の電極114と上側FBAR120の電極122との間に配置された音響減結合器130を有する。音響減結合器130は、FBAR110と120との間の音響エネルギーの結合を制御する。音響減結合器130は、FBAR110と120が従来のスタック型圧電薄膜共振器(SBAR)内にあるように互いに直接接触するように結合されているものに比べて、FBAR間の音響エネルギーを少なく結合する。さらに、DSBAR108は、FBAR150とFBAR160との間に、特に、下側FBAR150の電極154と上側FBAR160の電極162との間に配置された音響減結合器170を有する。音響減結合器170は、FBAR150と160との間の音響エネルギーの結合を制御する。音響減結合器170は、FBAR150と160が互いに直接接触するように結合されているものに比べて、FBAR間の音響エネルギーを少なく結合する。音響減結合器130と170により画定される音響エネルギーの結合は、FACT200の通過帯域幅を決定する。
図3A〜図3Cに示された例において、及び図3Dに示された拡大図において、音響減結合器130と170は、異なる音響インピーダンスを有する音響減結合材料の複数の音響減結合層から構成された音響減結合器180の個々の部分である。他の実施形態において、音響減結合器130と170は構造的に独立している。
図示された例において、DSBAR106とDSBAR108は、図2Aと図2Bに関連して上述された態様と類似した態様で基板102に画定された共通の空洞104の上に浮かされている。また、上述されたように、DSBARを構成するFBARが入力電気信号に応答して機械的に共振することを可能にする他の浮遊機構が可能である。代案として、DSBAR106とDSBAR108は、基板102の各個別の空洞(図示せず)の上に浮かされてもよい。
図3Fは、DSBAR106と108を相互接続し、DSBAR106と108を外部回路(図示せず)に接続する電気回路の例を模式的に示す。電気回路141は、下側FBAR110と150を逆並列に接続して信号端子143と接地端子144に接続する。図3A〜図3Cに示された実施形態において、端子パッド138は、信号端子143を提供し、端子パッド132と172は、接地端子144を提供する。実施形態において、電気回路141(図3F)は、端子パッド132からFBAR110の電極112まで延在する電気トレース133、FBAR110の電極114から相互接続パッド176と電気接触している相互接続パッド136まで延在する電気トレース137、相互接続パッド176から信号パッド138まで延在する電気トレース139、相互接続パッド176からFBAR150の電極152まで延在する電気トレース177、FBAR150の電極154から端子パッド172まで延在する電気トレース、及び端子パッド132と172を相互接続する電気トレース167により、提供される。
図3Fに示された例示的な電気回路図において、電気回路142が上側FBAR120と160を直列に接続して信号端子145と146に接続し、任意の中心タップ端子147に接続する。図3A〜図3Cに示された実施形態において、端子パッド134と174は、信号パッド145と146を提供し、端子パッド178は、中心タップ端子147を提供する。実施形態において、電気回路142は、端子パッド134からFBAR120の電極124まで延在する電気トレース135、FBAR120の電極122からFBAR160の電極162まで延在する電気トレース171、トレース171から中心タップ137まで延在する電気トレース179、及びFBAR160の電極164から端子パッド174まで延在する電気トレース175により、提供される。また、端子パッド134と174に局所的な接地を提供する電気トレース169により相互接続された端子パッド163と168も示される。図示された例において、電気トレース169はさらに、端子パッド178まで延在する。他の例において、端子パッド178は浮遊されたままにされる。
図3Fに例示された電気接続は、平衡した一次側と4:1のインピーダンス変換比を有するFACT、又は平衡した二次側と1:4のインピーダンス変換比を有するFACTを提供する。代案として、下側FBARが並列、直列、及び逆直列に相互接続されることができ、代案として、上側FBARが並列、逆並列、及び逆直列に相互接続されて他のインピーダンス変換比を達成することができる。
さて、図2Cと図2D、及びさらに図2Aと図2Bを参照すると、図2Cは、帯域フィルタ100のDSBAR106の音響減結合器130に関する第1の例示的な実施形態の一部を示す図2Bの一部の拡大図である。この実施形態の音響減結合器130は、帯域フィルタ100に所望の通過帯域幅を提供する音響インピーダンスを音響減結合器130にトータルで提供する、異なる音響インピーダンスを有する音響減結合材料の音響減結合層182と183から構成される。図2Dは、帯域フィルタ100のDSBAR106の音響減結合器130の第2の例示的な実施形態の一部を示す図2Bの一部の拡大図である。この実施形態の音響減結合器130は、帯域フィルタ100に所望の通過帯域幅を提供する音響インピーダンスを有する音響減結合材料からなる単一の音響減結合層184から構成される。図2Cと図2Dはそれぞれ、音響減結合器130が間に配置される(図2B)FBAR110と120の電極114と122の一部もさらに示す。
さて、図3Dと図3E、及びさらに図3A〜図3Cを参照すると、図3Dは、DSBAR108の音響減結合器170の第1の例示的な実施形態の一部を示す図3Bの一部の拡大図である。この実施形態の音響減結合器170は、FACT200に所望の通過帯域幅を提供する音響インピーダンスを音響減結合器170にトータルで提供する、異なる音響インピーダンスを有する音響減結合材料の音響減結合層182と183から構成される。図3Eは、DSBAR108の音響減結合器170の第2の例示的な実施形態の一部を示す図3Bの一部の拡大図である。この実施形態の音響減結合器170は、FACT200に所望の通過帯域幅を提供する音響インピーダンスを有する音響減結合材料からなる単一の音響減結合層184から構成される。図3Dと図3Eはそれぞれ、音響減結合器170が間に配置される(図3B)FBAR150と160の電極154と162の一部もさらに示す。DSBAR106の音響減結合器130は構造的に、音響減結合器170と同一であり、且つ図2Bと図2Cに示された音響減結合器130と同一である。
ここで、図2Cに示された帯域フィルタ100の音響減結合器130の実施形態が、図2Cと図2Bに関連してより詳細に説明される。図3B〜図3Eに示された音響減結合器130と170を提供する音響減結合器180は、構造と特性において類似している。従って、音響減結合器130の以下の説明は、図3B〜図3Eに示された音響減結合器にも適用され、図3B〜図3Eに示された音響減結合器は別個に説明されない。
図2Cに示された例において、音響減結合器130は、音響インピーダンスZを有する第1の音響減結合材料からなる音響減結合層182、及び音響インピーダンスZと異なる音響インピーダンスZを有する第2の音響減結合材料からなる第2の音響減結合層183から構成される。第1の音響減結合材料における音速はvであり、第2の音響減結合材料における音速はvである。第1の音響減結合層182は、公称の厚さtを有し、第2の音響減結合層183は、公称の厚さtを有する。
帯域フィルタ100は、帯域通過周波数の応答を有する。帯域通過の応答は、音響減結合器130の音響インピーダンスZに依存する通過帯域幅を有する。音響減結合器130の音響インピーダンスは、それぞれ音響減結合層182と183の音響減結合材料の音響インピーダンスZとZとの間の中間にある。特に、音響減結合器130の音響インピーダンスは、次の式により与えられる。即ち、
=((Z/v)+(Z/v))/((v/t)+(v/t)) (5)
音響減結合器130は、π/2ラジアンの奇数倍(即ち、(2m+1)π/2、ここでmはゼロ以上の整数である)の公称の位相変化をDSBARデバイス100の通過帯域の中心周波数に等しい周波数fを有する音響信号に加えるように構成される。係る音響減結合器は、DSBARデバイスの通過帯域の中心周波数に等しい周波数を有する音響信号の音響減結合器における波長λの四分の一の奇数倍に等しい公称の全厚さ(t+t)を有する。(2m+1)π/2の位相変化は、(2m+1)/(4f)の音響減結合器130を通り抜ける伝搬時間に対応する。図示された例において、音響減結合器130は、それぞれtとtの厚さを有する音響減結合層182と183から構成され、この場合、音速がそれぞれvとvである。音響減結合器130を通り抜ける伝搬時間は、(t/v+t/v)により与えられる。従って、
(t/v+t/v)=(2m+1)/(4f) (6)
整数m=0の実施形態では、
(t/v+t/v)=1/(4f) (7)。
式(5)と式(6)又は式(7)から、DSBARデバイス100の通過帯域の中心周波数に等しい周波数を有する音響信号に(2m+1)π/2又はπ/2の公称の位相変化を加える所望の音響インピーダンスと構造を音響減結合層130に与える、音響減結合層182と183の厚さtとtの値が計算され得る。さらに、DSBARデバイス100の帯域幅は、音響減結合器により加えられる(2m+1)π/2ラジアンに等しい公称の位相変化を維持しながら、音響減結合器130の音響インピーダンスを変更するために音響減結合層182と183の厚さを単に変更することにより変更され得る。これは、図1に関連して以下でより詳細に説明される。
音響減結合器130の最小の厚さの実施形態、即ち、音響減結合器がDSBARデバイス100の通過帯域の中心周波数fに等しい周波数を有する音響信号にπ/2ラジアン(m=0)の公称の位相変化を加えるように構成される実施形態は、π/2ラジアンの1より大きい奇数倍(m>0)の公称の位相変化、即ち3π/2、5π/2、・・・(2m+1)π/2の公称の位相変化を周波数fの上述した音響信号に加える、より厚い音響減結合器に比べて、理想的な周波数応答に大幅に近い周波数応答を有する。最小の厚さの音響減結合器(m=0)を有するDSBARデバイスの周波数応答は、より厚い音響減結合器(m>0)を有するDSBARデバイスにより呈されるスプリアスのアーチファクトが無い。
最小の厚さの音響減結合器を用いることから生じる滑らかな周波数応答は、電極114と122により形成される寄生キャパシタンスを代償にして得られ、音響減結合器130は、より厚い音響減結合器を有する実施形態に比べて大幅に大きいキャパシタンスを有する。高い同相除去比が望まれる応用形態のような、寄生キャパシタンスが問題を生じる応用形態において、寄生キャパシタンスは、寄生キャパシタと並列にインダクターを接続することにより、即ち図3Gに示されるように、電極114と122との間にインダクターを接続することにより、なくすことができる。DC分離が必要とされる場合に、阻止コンデンサ(図示せず)をインダクターと直列に接続して、DC分離を提供することができる。寄生キャパシタンスの影響をなくすためのインダクターの使用は、Larson III他による「Film Acoustically-Coupled Transformer With Increased Common Mode Rejection」と題する米国特許出願第10/XXX,XXX号(アジレント整理番号第10031284)に開示されている。
図3Gは、Cと表示され、波線により示されたコンデンサ記号を示し、それは、電極114と122及び音響減結合器130からなる寄生キャパシタCを表す。寄生キャパシタのキャパシタンスは、上述したように音響減結合器130が最小の厚さの音響減結合器である実施形態において最大である。FACT200において、インダクター195は、音響減結合器130の両側の電極114と電極122との間に接続される。これは、インダクター195を寄生キャパシタCと並列に接続する。インダクター195、寄生キャパシタCの並列の組み合わせ、及び端子143と144との間のキャパシタンスCは、通過帯域における共振周波数を有する並列共振回路196を形成する。一実施形態において、共振周波数はFACT200の通過帯域の中心周波数に等しい。
音響減結合層182と183がそれぞれの厚さの約±10%未満だけ上述した厚さと異なる厚さを有する音響減結合器130の実施形態は、代案として使用され得る。代案としてこの範囲外の厚さが、性能の若干の低下と共に使用されてもよい。しかしながら、音響減結合層182と183の厚さは、DSBARデバイスの通過帯域の中心周波数に等しい周波数を有する音響信号に、π/2の偶数倍の公称の位相変化を加える音響減結合器130をもたらす厚さとは大幅に異なるべきである。
再び、図3A〜図3Fを参照すると、DSBARデバイス100の音響減結合器130を構成する音響減結合層182と183の音響減結合材料は、FBAR110、120を構成する電極と圧電要素の材料の音響インピーダンスと大幅に異なる音響インピーダンスを有する。図示された例において、音響減結合層182と183の音響減結合材料は、FBAR110、120を構成する電極と圧電要素の材料の音響インピーダンス未満の音響インピーダンスを有する。FBARの圧電要素116と126の圧電材料は一般に、窒化アルミニウム(AlN)であり、電極112、114、122、及び124の電極材料は一般に、モリブデン(Mo)である。AlNの音響インピーダンスは一般に約35Mraylであり、Moの音響インピーダンスは約63Mraylである。FBAR110と120の材料が上述した通りである帯域フィルタ100の実施形態において、通過帯域幅の所望の範囲は、約2Mraylから約4Mraylまでの範囲の音響インピーダンスを有する音響減結合器で得られる。入力と出力との間に電気絶縁をさらに提供する帯域フィルタ100の実施形態において、少なくとも1つの音響減結合材料はさらに、高い電気抵抗率と低い誘電率を有する。
実施形態において、音響減結合器130を構成する音響減結合層182と183は、電極114の上に各々の音響減結合材料をスピンコーティングすることにより形成される。スピンコーティングにより形成された層は、音響減結合材料が付着される表面の形状に起因して異なる厚さの領域を有する可能性がある。この場合、音響減結合層182と183の厚さは、電極114と122との間に配置された音響減結合層の部分の厚さである。
上述したように、音響減結合層182と183が電極114上に堆積されて音響減結合器130を形成した後に実施される製造工程の温度とエッチャントに耐えることができる音響減結合材料は、比較的数が少ない。以下でより詳細に説明されるように、帯域フィルタ100の実際的な実施形態において、電極122と124、及び圧電要素126は、音響減結合器131が形成された後にスパッタリングにより堆積される。これらの堆積プロセス中に、400℃もの高い温度に到達する。さらにフッ化水素酸を用いた解放エッチングが実施されて、基板102とDSBAR106との間から犠牲材料が除去される。従って、係る温度において、及び係るエッチャントの存在において安定したままであるプラスチックが、音響減結合層182と183の音響減結合材料として使用される。
プラスチックの音響減結合材料は一般に、FBAR110と120の他の材料に比べて単位長さ当たり非常に高い音響減衰を有する。しかしながら、音響減結合器130の全厚さは、一般に1μm未満であるので、音響減結合器130により導入される音響減衰は一般に、ごくわずかである。
DSBARデバイス100と200の1つの例示的な実施形態において、ポリイミドが、音響減結合層182の音響減結合材料として使用され、架橋ポリフェニレンポリマーが音響減結合層183の音響減結合材料として使用される。
ポリイミドは、E.I. du Pont de Nemours and CompanyからKapton(登録商標)という名で販売されている。ポリイミドは、約4Mraylの音響インピーダンスを有し、スピンコーティングにより塗布される。
架橋ポリフェニレンポリマーは、集積回路に使用するための低誘電率の誘電体として開発され、それ故に、FBAR120の後続の製造中に音響減結合器130がさらされる高い温度で安定したままである。本発明者は、架橋ポリフェニレンポリマーが約2Mraylの計算された音響インピーダンスをさらに有することを発見した。これは、ポリイミドの音響インピーダンスとは十分に異なり、ポリイミドの音響減結合層と架橋ポリフェニレンポリマーの音響減結合層とから構成される音響減結合器130の実施形態が、音響インピーダンスの有用な範囲を有することを可能にする。しかしながら、架橋ポリフェニレンポリマーの音響インピーダンスは、ポリイミドの音響インピーダンスと大して違わないので、DSBARデバイスの周波数応答においてスプリアスのアーチファクトを生じさせる。
各々の架橋ポリフェニレンポリマーを形成するために重合する種々のオリゴマーを含む前駆体溶液は、米国ミシガン州ミッドランドのThe Dow Chemical Companyにより、Silk(登録商標)の名で販売されている。前駆体溶液はスピンコーティングにより塗布される。さらに接着促進剤を含有するSilk(登録商標)Jと呼ばれるこれらの前駆体溶液の1つから得られた架橋ポリフェニレンポリマーは、2.1Mrayl、即ち約2Mraylの計算された音響インピーダンスを有する。
架橋ポリフェニレンポリマーを形成するために重合するオリゴマーは、ビスシンクロペンタジエノン含有モノマー及び芳香族アセチレン含有モノマーから準備される。係るモノマー使用することは、過度の置換の必要性なしに可溶性オリゴマーを形成する。前駆体溶液は、ガンマブチロラクトン及びシクロヘキサノン溶剤に溶かされた特定のオリゴマーを含有する。前駆体溶液中のオリゴマーの割合は、前駆体溶液がスピンオンされる際の層の厚さを決定する。付着後、熱を加えて溶剤を蒸発させ、オリゴマーを硬化させて架橋ポリマーを形成する。ビスシンクロペンタジエノンは、新たな芳香環を形成する4+2付加環化反応でアセチレンと反応する。さらに、硬化により、架橋ポリフェニレンポリマーという結果になる。上述した架橋ポリフェニレンポリマーは、Godschalx他による米国特許第5,965,679号に開示されている。さらなる実用的な詳細は、Martin他著、「Development of Low-Dielectric Constant Polymer for the Fabrication of Integrated Circuit Interconnect」12 Advanced Materials、1769(2000年)に説明されている。ポリイミドと比較して、架橋ポリフェニレンポリマーは、より低い音響インピーダンス、より低い音響減衰、及びより低い誘電率を有する。さらに、前駆体溶液のスピンオンされた層は、音響減結合層182、183、及び184の典型的な厚さの範囲である約40nm〜約200nmの範囲の厚さを有する架橋ポリフェニレンポリマーの高品質の薄膜を作成することができる。
それぞれポリイミドと架橋ポリフェニレンポリマーからなる音響減結合層182と183を備え、約2.1Mraylより大きく約4Mrayl未満の範囲の音響インピーダンスを有する音響減結合器130の実施形態が製造され得る。音響減結合器130の音響インピーダンス、及び音響減結合器130により加えられる位相変化は、音響減結合層の厚さに依存する。代案として、音響減結合層182と183の音響減結合材料はそれぞれ、架橋ポリフェニレンポリマーとポリイミドにすることができる。
ポリイミドの音響インピーダンス、又は架橋ポリフェニレンポリマーの音響インピーダンスに等しい音響インピーダンスを有する音響減結合器130の実施形態は、図2Dに示された音響減結合層130の実施形態を用いることにより得られる。この実施形態において、音響減結合器130は、ポリイミド又は架橋ポリフェニレンポリマーからなる単一の音響減結合層184から構成される。単一の音響減結合層184は、DSBARデバイス100の通過帯域の中心周波数に等しい周波数を有する音響信号に、π/2の奇数倍の公称の位相変化を加える厚さを有する。
図3Eは、DSBARデバイス200の音響減結合器170の実施形態を示し、この場合、ポリイミドの音響インピーダンスに等しい音響インピーダンス、又は架橋ポリフェニレンポリマーの音響インピーダンスに等しい音響インピーダンスは、音響減結合器180としてそれぞれポリイミド又は架橋ポリフェニレンポリマーからなる単一の音響減結合層184を用いることにより得られる。
もう一度、図3A〜図3Fを参照すると、音響減結合器130の別の実施形態において、ポリ(パラキシレン)が音響減結合層182と183の一方の音響減結合材料として使用される。係る実施形態において、音響減結合層182と183の一方は、真空蒸着により電極114に、又は音響減結合層の他方に付着されたポリ(パラキシレン)の層である。また、ポリ(パラキシレン)は、当該技術においてパリレンとしても知られている。パリレンが作成されるダイマー型前駆体のジパラキシレン、及びパリレンの層の真空蒸着を行うための装置は、多くの供給業者から入手可能である。パリレンは約2.8Mraylの計算された音響インピーダンスを有する。従って、音響減結合層182と183の一方の音響減結合材料としてパリレンを用いることにより、音響減結合層の他方の音響減結合材料が架橋ポリフェニレンポリマーである実施形態において、約2.1Mraylより大きく約2.8Mrayl未満の範囲の音響インピーダンスが与えられ、音響減結合層の他方の音響減結合材料がポリイミドある実施形態において、約2.8Mraylより大きく約4Mrayl未満の範囲の音響インピーダンスが与えられる。また、パリレンは、図2Dと図3Eに示された単一の音響減結合層184の音響減結合材料としても使用され得る。
音響減結合器130の代替の実施形態において、音響減結合層182と183、又は音響減結合層184の音響減結合材料は、FBAR110と120の材料の音響インピーダンスより大幅に大きい音響インピーダンスを有する。この特性を有する音響減結合材料が現時点で存在しないことは知られているが、係る材料は、将来に入手可能になるかもしれない。或いは、より低い音響インピーダンスを有するFBAR材料が、将来に入手可能になるかもしれない。係る高い音響インピーダンスの音響減結合層からなる音響減結合層182と183、又は音響減結合層184の厚さは、上述されたように計算される。
図1は、帯域フィルタ100の計算された周波数応答が、どのように音響減結合器130の音響インピーダンスに依存するかを示す。例示された実施形態は、約1,850MHzの中心周波数を有する。図1は、以下のような音響減結合器130の種々の実施形態による帯域フィルタの計算された周波数応答を示す。曲線185は、約4Mraylの音響インピーダンスを有し、ポリイミドからなる単一の音響減結合層184として図2Dに示されるように構成された音響減結合器130の実施形態による周波数応答を示す。曲線186は、約3.3Mraylの音響インピーダンスを有し、ポリイミドからなる音響減結合層182及び架橋ポリフェニレンポリマーからなる音響減結合層183として図2Cに示されるように構成され、音響減結合層182と183が、音響減結合器130により加えられる全位相変化の、それぞれ約75%と約25%をもたらす音響減結合器130の実施形態による周波数応答を示す。架橋ポリフェニレンポリマーは、約2Mraylの音響インピーダンスを有する。曲線187は、約3.0Mraylの音響インピーダンスを有し、ポリイミドからなる音響減結合層182及び架橋ポリフェニレンポリマーからなる音響減結合層183として図2Cに示されるように構成され、音響減結合層182と183の厚さがそれぞれ、音響減結合器130により加えられる全位相変化の約半分をもたらす音響減結合器130の実施形態による周波数応答を示す。曲線188は、約2.5Mraylの音響インピーダンスを有し、ポリイミドからなる音響減結合層182及び架橋ポリフェニレンポリマーからなる音響減結合層183として図2Cに示されるように構成され、音響減結合層182と183が、音響減結合器130により加えられる全位相変化の、それぞれ約25%と約75%をもたらす音響減結合器130の実施形態による周波数応答を示す。曲線189は、約2.1Mraylの音響インピーダンスを有し、架橋ポリフェニレンポリマーからなる単一の音響減結合層184として図2Dに示されるように構成された音響減結合器130の実施形態による周波数応答を示す。
表1は、1つ又は複数の音響減結合層の厚さに対する、上述した実施形態の帯域フィルタ100の計算された通過帯域幅の依存性を示す。通過帯域幅は最大値に対して−3dbで取得されている。
Figure 0004782016
看取されるように、帯域フィルタ100の通過帯域幅は、ポリイミドの音響減結合層182の部分的な厚さが増加するのにつれて、ひいては音響減結合器130の音響インピーダンスが増加するのにつれて増加する。従って、音響減結合層182と183の厚さの適切な選択を行うことにより、所望の通過帯域幅を有する帯域フィルタ100の実施形態が作成され得る。
ウェハースケールの製造を用いて、帯域フィルタ100又はFACT200に類似した数千個のDSBARデバイスを一度に製造する。係るウェハースケールの製造は、DSBARデバイスの製造コストを安くする。FACT200の例示的な実施形態を製造するための例示的な方法が、図4A〜図4Jの平面図、及び図4K〜図4Tの断面図に関連して次に説明される。異なるマスクを有する同じプロセスを用いて帯域フィルタ100を製造することができる。製造が説明されるFACT200の実施形態の通過帯域は、約1.9GHzの公称の中心周波数を有する。他の周波数で動作するための実施形態は、構造と製造において同様であるが、以下で例示されるものとは異なる厚さと横方向の寸法を有する。
単結晶シリコンのウェハーが準備される。ウェハーの一部は、各FACTが製造されるために、FACT200の基板102に対応する基板を構成する。図4A〜図4H及び図4I〜図4Pは、ウェハーの一部内に、及びその一部上にFACT200を製造することを例示し、以下の説明はその製造を説明する。FACT200が製造される際、ウェハー上の他のFACTは同様に製造される。
FACT200の基板102を構成するウェハーの一部は、図4A及び図4Kに示されるように、選択的にウェットエッチングされて空洞104を形成する。充填材料の層(図示せず)が、各空洞を埋めるのに十分な厚さでウェハーの表面上に堆積される。次いで、ウェハーの表面が平坦化されて、充填材料で充填された各空洞が残される。また、図4Aと図4Kは、基板102内の、充填材料105で充填された空洞104も示す。
実施形態において、充填材料は、リン珪酸ガラス(PSG)であり、従来の低圧化学蒸着(LPCVD)を用いて堆積される。代案として、充填材料は、スパッタリング、又はスピンコーティングにより堆積されてもよい。
第1の金属層が、基板102と充填材料105の主表面に堆積される。図4Bと図4Lに示されるように、第1の金属層はパターニングされて、電極112、電極152、端子パッド132、端子パッド138、及び相互接続パッド176を画定する。また、パターニングは、第1の金属層において、電極112と端子パッド132との間に延在する電気トレース133、電極152と相互接続パッド176との間に延在する電気トレース177、及び相互接続パッド176と端子パッド138との間に延在する電気トレース139も画定する。
電極112と電極152は一般に、ウェハーの主表面に対して平行な平面において非対称形状を有する。非対称形状は、電極が一部を形成するFBAR110とFBAR150(図3B)の横モードを最小限に抑える。これは、Larson III他の米国特許第6,215,375号に説明される。電極112と電極152は、以下で説明されるように、充填材料がエッチングにより後で除去され得るように、充填材料105の表面の一部を露出したままにする。
図3Bをさらに参照すると、以下でより詳細に説明されるように、電極114と154が第2の金属層に画定され、電極122と162が第3の金属層に画定され、電極124と164が第4の金属層に画定される。電極が画定される金属層は、ウェハーの主表面に対して平行な各平面において、FBAR110の電極112と114が同じ形状、サイズ、向き、及び位置を有し、FBAR120の電極122と124が同じ形状、サイズ、向き、及び位置を有し、FBAR150の電極152と154が同じ形状、サイズ、向き、及び位置を有し、FBAR160の電極162と164が同じ形状、サイズ、向き、及び位置を有するように、パターニングされる。一般に、電極114と122はさらに、同じ形状、サイズ、向き、及び位置を有し、電極154と162はさらに、同じ形状、サイズ、向き、及び位置を有する。
実施形態において、各金属層材料は、スパッタリングにより約300nmの厚さまで堆積されたモリブデンである。金属層はそれぞれ、ドライエッチングによりパターニングされる。金属層の各々に画定された電極はそれぞれ、約12,000平方μmの面積を有する五角形である。他の電極面積が他の特性インピーダンスを与える。代案として、タングステン、ニオビウム、及びチタニウムのような他の耐火金属が、金属層の材料として使用されてもよい。代案として、金属層はそれぞれ、2つ以上の材料の層からなってもよい。FACT200の電極の材料の選択において考慮されるべき1つの要素は、電極材料の音響特性であり、即ち、FACT200の残りの金属部品の材料(単数又は複数)の音響特性は、導電率のような他の特性よりそれほど重要でない。従って、FACT200の残りの金属部品の材料(単数又は複数)は、電極の材料と異なってもよい。
図4Cと図4Mに示されるように、圧電材料の層が、堆積されてパターニングされ、FBAR110の圧電要素116、及びFBAR150の圧電要素156を提供する圧電層117が画定される。圧電層117は、以下で説明される、端子パッド163、134、178、174、168、及び172の支持体を提供するために、空洞104の範囲を超えて基板102の上に延在する。圧電層117は、充填材料105の表面の一部、端子パッド132と138、及び相互接続パッド176を露出するように、パターニングされる。圧電層117はさらに、充填材料の表面の別の部分に対するアクセスを提供する窓119を画定するようにパターニングされる。代案として、圧電層117は、圧電要素116と156を別個に画定するようにパターニングされてもよい。
実施形態において、以下で説明される圧電層117及び圧電層127を形成するために堆積された圧電材料は、スパッタリングにより約1.4μmの厚さまで堆積された窒化アルミニウムである。圧電材料は、水酸化カリウムのウエットエッチングにより、又は塩素系のドライエッチングによりパターニングされる。圧電層の代替の材料は、酸化亜鉛、硫化カドミウム、及びペロブスカイト型強誘電体材料のような分極した強誘電体材料を含み、その強誘電体材料は、チタン酸ジルコン酸鉛、メタニオブ酸鉛、及びチタン酸バリウムを含む。
図4Dと図4Nに示されるように、第2の金属層が、圧電層117上に堆積されて、電極114、電極154、端子パッド172、及び相互接続パッド176と電気接触する相互接続パッド136を画定するためにパターニングされる。パターニングはさらに、第2の金属層において、電極114と相互接続パッド136との間に延在する電気トレース137、電極154と端子パッド172との間に延在する電気トレース173、及び端子パッド132と172との間に延在する電気トレース167も画定する。
次いで、図4Eと図4Nに示されるように、第1の音響減結合材料の第1の層192が堆積され、その後、第2の音響減結合材料の第2の層193が続く。第2の音響減結合材料は、音響インピーダンスにおいて、第1の音響減結合材料とは異なる。次いで、やはり図4Eと図4Nに示されるように、第3の金属層194が堆積される。図4Eにおいて、層194の一部が、層193の一部を示すために切り取られ、層193の一部が、層192の一部を示すために切り取られている。
実施形態において、第1の層192は、約50nm〜約190nmの範囲の厚さを有し、第1の音響減結合材料はスピンコーティングにより塗布されたポリイミドである。この実施形態において、第2の層193は、約50nm〜約140nmの範囲の厚さを有し、第2の音響減結合材料はスピンコーティングにより塗布された架橋ポリフェニレンポリマーである。第2の層193を形成するために、ビスシンクロペンタジエノン含有モノマー及び芳香族アセチレン含有モノマーから準備されたオリゴマーからなる前駆体溶液が、スピンコーティングにより付着される。実施形態において、架橋ポリフェニレンポリマーの前駆体溶液は、The Dow Chemical Companyにより、Silk(登録商標)J.として販売されている1つである。代案として、前駆体溶液は、The Dow Chemical Companyにより、Silk(登録商標)の名で販売されている前駆体溶液の任意の適切な1つとすることができる。特定の実施形態において、前駆体溶液がスピンオンされる前に、接着促進剤の層が付着される。硬化された場合に、約2Mraylの音響インピーダンスを有する架橋ポリフェニレンポリマー形成するオリゴマー含有する前駆体溶液は、現在、又は将来において、他の供給業者からも入手可能になる可能性があり、また使用され得る。
上述したように、音響減結合層192と193が堆積される実際の厚さは、音響減結合器180の所望の音響インピーダンス、及びFACT200の通過帯域の中心周波数に依存する。代案として、架橋ポリフェニレンポリマーが第1の層192として堆積され、ポリイミドが層193として堆積され得る。代案として、上述されたパリレンは、層192又は層193の音響減結合材料として真空蒸着により堆積され得る。
音響減結合材料の1つがポリイミドである実施形態において、ポリイミドの層の堆積後、ウェハーは、最初に空気中で約250℃の温度でベーキングされ、最終的に窒素のような不活性雰囲気中で約415℃温度でベーキングされ、その後、さらなる処理が実施される。ベーキングは、ポリイミドの揮発性成分を蒸発させ、後続の処理における係る揮発性成分の蒸発により、後続の堆積される層の分離が生じることを防止する。音響減結合材料の1つが架橋ポリフェニレンポリマーである実施形態において、前駆体溶液の層の付着後、ウェハーが、真空状態下のような不活性環境で、又は窒素雰囲気内で、約385℃〜約450℃の範囲の温度でベーキングされ、その後、さらなる処理が実施される。ベーキングは最初に前駆体溶液から有機溶剤を除去し、次いで上述したように架橋ポリフェニレンポリマーを形成するために、オリゴマーが架橋される。
図4Fと図4Qに示されるように、第3の金属層194がパターニングされて、第1と第2の音響減結合材料のそれぞれの層192と193における音響減結合層182と音響減結合層183から構成された音響減結合器180を画定するために使用されることになるハードマスク195が画定される。音響減結合器180は、音響減結合器130と音響減結合器170を提供する。ハードマスク195は、音響減結合器180の範囲、位置、及び音響減結合器における窓119の大きさを画定する。代案として、第3の金属層194は、ハードマスク195が音響減結合器180の代わりに別個の音響減結合器130と170を画定するようにパターニングされてもよい。
次いで、第1と第2の音響減結合材料の層192と193がパターニングされて、ハードマスク195により画定された形状を有する音響減結合器180が画定される。音響減結合器180は、音響減結合器130と音響減結合器170を提供する。層192と193は、音響減結合器180が少なくとも電極114と電極154を覆い、充填材料105の表面の一部、端子パッド132、138、及び172、及び相互接続パッド136と176を露出するようにパターニングされる。層192と193はさらに、充填材料の表面の別の部分に対するアクセスを提供する窓119を画定するようにパターニングされる。代案として、層192と193は、音響減結合器180の代わりに別個の音響減結合器130と170を画定するようにパターニングされてもよい。
次いで、図4Gと図4Rに示されたように、第3の金属層194が、再パターニングされて、電極122、電極162、及び端子パッド178が画定される。また、再パターニングは、第3の金属層において、電極122と電極162との間に延在する電気トレース171、及び電気トレース171と端子パッド178との間に延在する電気トレース179を画定する。
図4Iと図4Sに示されたように、圧電材料の層が堆積されてパターニングされ、FBAR120の圧電要素126、及びFBAR150の圧電要素166を提供する圧電層127が画定される。圧電層127が、端子パッド132、138、178、及び172、相互接続パッド136と176、及び充填材料105の表面の一部を露出するようにパターニングされる。圧電層127はさらに、充填材料の表面の別の部分に対するアクセスを提供する窓119を画定するようにパターニングされる。
図4Jと図4Tに示されたように、第4の金属層が堆積されパターニングされ、電極124、電極164、端子パッド163、端子パッド134、端子パッド174、及び端子パッド168が画定される。また、パターニングは、第4の金属層において、電極124から端子パッド134まで延在する電気トレース135、電極164から端子パッド174まで延在する電気トレース175、及び端子パッド163と端子パッド168から端子パッド178まで延在する電気トレース169も画定する。
次いで、ウェハーは、等方性ウェットエッチングされて、空洞104から充填材料105が除去される。上述したように、充填材料105の表面の部分は、例えば、窓119を通じて露出されたままである。エッチングプロセスは、図3A〜図3Cに示されるように、空洞104の上に浮かされた薄膜の音響的に結合されたFACT200を残す。
実施形態において、充填材料105を除去するために使用されるエッチャントは、希フッ化水素酸である。
金の保護層が、端子パッド172、138、132、163、134、178、174、及び168の露出された表面上に堆積される。
次いで、ウェハーは、FACT200を含む個々のFACTに分割される。次いで、各FACTはパッケージ内に実装され、FACTの端子パッド172、132、163、134、178、174、及び168とパッド、又はパッケージの一部である他の接続部との間で電気接続がなされる。
本開示は、例示的な実施形態を用いて本発明を詳細に説明した。しかしながら、添付の特許請求の範囲により規定された本発明は、説明されたそのものずばりの実施形態に限定されない。
本発明による異なる構造を有する音響減結合器を有する、本発明によるDSBARデバイスの実施形態の計算された周波数応答を比較するグラフである。 本発明によるDSBARデバイスの第1の例としての帯域フィルタの実施形態の平面図である。 図2Aの切断線2B−2Bに沿った、図2Aに示された帯域フィルタの断面図である。 異なる音響インピーダンスを有する音響減結合材料の複数の層からなる音響減結合器の実施形態を示す図2Bの一部の拡大図である。 音響減結合器の代替の実施形態を示す、図2Cに類似した拡大図である。 本発明による、DSBARデバイスの第2の例としての薄膜音響結合変成器(FACT)の実施形態の平面図である。 切断線3B−3Bに沿った、図3Aに示されたFACTの断面図である。 切断線3C−3Cに沿った、図3Aに示されたFACTの断面図である。 異なる音響インピーダンスを有する音響減結合材料の複数の層からなる音響減結合器の実施形態を示す図3Bの一部の拡大図である。 音響減結合器の代替の実施形態を示す、図3Dに類似した拡大図である。 図3Aに示されたFACTの例の電気回路の略図である。 寄生キャパシタンスの影響を軽減するためのインダクターを含む、図3Aに示されたFACTの実施形態の電気回路の略図である。 本発明による、DSBARデバイスを作成するためのプロセスを示す平面図である。 本発明による、DSBARデバイスを作成するためのプロセスを示す平面図である。 本発明による、DSBARデバイスを作成するためのプロセスを示す平面図である。 本発明による、DSBARデバイスを作成するためのプロセスを示す平面図である。 本発明による、DSBARデバイスを作成するためのプロセスを示す平面図である。 本発明による、DSBARデバイスを作成するためのプロセスを示す平面図である。 本発明による、DSBARデバイスを作成するためのプロセスを示す平面図である。 本発明による、DSBARデバイスを作成するためのプロセスを示す平面図である。 本発明による、DSBARデバイスを作成するためのプロセスを示す平面図である。 本発明による、DSBARデバイスを作成するためのプロセスを示す平面図である。 図4Aの切断線4K−4Kに沿った断面図である。 図4Bの切断線4L−4Lに沿った断面図である。 図4Cの切断線4M−4Mに沿った断面図である。 図4Dの切断線4N−4Nに沿った断面図である。 図4Eの切断線4O−4Oに沿った断面図である。 図4Fの切断線4P−4Pに沿った断面図である。 図4Gの切断線4Q−4Qに沿った断面図である。 図4Hの切断線4R−4Rに沿った断面図である。 図4Iの切断線4S−4Sに沿った断面図である。 図4Jの切断線4T−4Tに沿った断面図である。

Claims (9)

  1. 減結合スタック型バルク音響共振器(DSBAR)デバイスであって、
    各々が、対向する平面電極、及び前記電極間の圧電要素とからなる下側圧電薄膜共振器(FBAR)、及び前記下側FBARの上に積み重ねられた上側FBARと、
    前記上側FBARと前記下側FBARとの間の音響減結合器とを含み、
    前記音響減結合器が第1の音響減結合材料の第1の音響減結合層、及び第2の音響減結合材料の第2の音響減結合層からなり、前記第1の音響減結合材料が前記第2の音響減結合材料と異なる音響インピーダンスを有し、前記第1の音響減結合材料および前記第2の音響減結合材料の一方が、2Mraylの音響インピーダンスを有し、前記DSBARデバイスが中心周波数により特徴付けられ、前記第1及び第2の音響減結合層の音響インピーダンスと厚みは、音響減結合器が前記中心周波数に等しい周波数の音響信号に、π/2の公称の位相変化を加えるように選択される、減結合スタック型バルク音響共振器(DSBAR)デバイス。
  2. 前記第1及び第2の音響減結合材料の一方が、架橋ポリフェニレンポリマーからなる、請求項1に記載のDSBARデバイス。
  3. 前記音響減結合器の音響インピーダンスが、前記第1の音響減結合材料に関連した第1の音響インピーダンスと前記第2の音響減結合材料に関連した第2の音響インピーダンスとの間の中間にある、請求項1に記載のDSBARデバイス。
  4. 前記第1及び第2の音響減結合層が個々の厚さを有し、
    前記音響減結合器の音響インピーダンスが、前記音響減結合層の厚さにより決定される、請求項1に記載のDSBARデバイス。
  5. 前記第1及び第2の音響減結合材料の一方が、ポリイミドからなり、
    前記第1及び第2の音響減結合材料の他方が、架橋ポリフェニレンポリマーからなる、請求項1に記載のDSBARデバイス。
  6. 前記架橋ポリフェニレンポリマーが、重合するオリゴマーを有する前駆体溶液から形成される、請求項に記載のDSBARデバイス。
  7. 前記第1及び第2の音響減結合材料の一方が、ポリイミドからなる、請求項1に記載のDSBARデバイス。
  8. 前記第1及び第2の音響減結合材料の一方が、ポリ(パラキシレン)からなる、請求項1に記載のDSBARデバイス。
  9. 各々が、対向する平面電極、及び前記電極間の圧電要素とからなる追加の下側圧電薄膜共振器(FBAR)、及び前記追加の下側FBARの上に積み重ねられた追加の上側FBARと、
    異なる音響インピーダンスを有する音響減結合材料の複数の音響減結合層からなる、前記追加の上側FBARと前記追加の下側FBARとの間の追加の音響減結合器と、
    下側FBARを相互接続する第1の電気回路と、
    上側FBARを相互接続する第2の電気回路とをさらに含む、請求項1に記載のDSBARデバイス。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7275292B2 (en) 2003-03-07 2007-10-02 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Method for fabricating an acoustical resonator on a substrate
US7019605B2 (en) * 2003-10-30 2006-03-28 Larson Iii John D Stacked bulk acoustic resonator band-pass filter with controllable pass bandwidth
US6946928B2 (en) * 2003-10-30 2005-09-20 Agilent Technologies, Inc. Thin-film acoustically-coupled transformer
US7362198B2 (en) * 2003-10-30 2008-04-22 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd Pass bandwidth control in decoupled stacked bulk acoustic resonator devices
US7332985B2 (en) * 2003-10-30 2008-02-19 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte Ltd. Cavity-less film bulk acoustic resonator (FBAR) devices
EP1528677B1 (en) * 2003-10-30 2006-05-10 Agilent Technologies, Inc. Film acoustically-coupled transformer with two reverse c-axis piezoelectric elements
US7242270B2 (en) * 2003-10-30 2007-07-10 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Decoupled stacked bulk acoustic resonator-based band-pass filter
US7038559B2 (en) * 2004-02-23 2006-05-02 Ruby Richard C Vertically separated acoustic filters and resonators
KR100622955B1 (ko) * 2004-04-06 2006-09-18 삼성전자주식회사 박막 벌크 음향 공진기 및 그 제조방법
US7615833B2 (en) 2004-07-13 2009-11-10 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Film bulk acoustic resonator package and method of fabricating same
US7388454B2 (en) 2004-10-01 2008-06-17 Avago Technologies Wireless Ip Pte Ltd Acoustic resonator performance enhancement using alternating frame structure
US8981876B2 (en) * 2004-11-15 2015-03-17 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Piezoelectric resonator structures and electrical filters having frame elements
US7202560B2 (en) 2004-12-15 2007-04-10 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Wafer bonding of micro-electro mechanical systems to active circuitry
US7791434B2 (en) 2004-12-22 2010-09-07 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustic resonator performance enhancement using selective metal etch and having a trench in the piezoelectric
DE102004062312B3 (de) * 2004-12-23 2006-06-01 Infineon Technologies Ag Piezoelektrischer Resonator mit verbesserter Temperaturkompensation und Verfahren zum Herstellen desselben
JP2006203304A (ja) * 2005-01-18 2006-08-03 Hitachi Media Electoronics Co Ltd 圧電薄膜共振器及びそれを用いた発振器並びにそれを内蔵した半導体集積回路
US7427819B2 (en) * 2005-03-04 2008-09-23 Avago Wireless Ip Pte Ltd Film-bulk acoustic wave resonator with motion plate and method
US7369013B2 (en) 2005-04-06 2008-05-06 Avago Technologies Wireless Ip Pte Ltd Acoustic resonator performance enhancement using filled recessed region
US7436269B2 (en) * 2005-04-18 2008-10-14 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustically coupled resonators and method of making the same
US7934884B2 (en) * 2005-04-27 2011-05-03 Lockhart Industries, Inc. Ring binder cover
US7562429B2 (en) * 2005-06-20 2009-07-21 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Suspended device and method of making
US7443269B2 (en) 2005-07-27 2008-10-28 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Method and apparatus for selectively blocking radio frequency (RF) signals in a radio frequency (RF) switching circuit
US7378781B2 (en) * 2005-09-07 2008-05-27 Nokia Corporation Acoustic wave resonator with integrated temperature control for oscillator purposes
US7868522B2 (en) * 2005-09-09 2011-01-11 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Adjusted frequency temperature coefficient resonator
US7391286B2 (en) * 2005-10-06 2008-06-24 Avago Wireless Ip Pte Ltd Impedance matching and parasitic capacitor resonance of FBAR resonators and coupled filters
US7675390B2 (en) 2005-10-18 2010-03-09 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustic galvanic isolator incorporating single decoupled stacked bulk acoustic resonator
US7737807B2 (en) * 2005-10-18 2010-06-15 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustic galvanic isolator incorporating series-connected decoupled stacked bulk acoustic resonators
US7525398B2 (en) * 2005-10-18 2009-04-28 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustically communicating data signals across an electrical isolation barrier
US7425787B2 (en) * 2005-10-18 2008-09-16 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustic galvanic isolator incorporating single insulated decoupled stacked bulk acoustic resonator with acoustically-resonant electrical insulator
US7423503B2 (en) * 2005-10-18 2008-09-09 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustic galvanic isolator incorporating film acoustically-coupled transformer
US20070085632A1 (en) * 2005-10-18 2007-04-19 Larson John D Iii Acoustic galvanic isolator
US7463499B2 (en) * 2005-10-31 2008-12-09 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte Ltd. AC-DC power converter
US7561009B2 (en) * 2005-11-30 2009-07-14 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Film bulk acoustic resonator (FBAR) devices with temperature compensation
US7586392B2 (en) * 2006-01-23 2009-09-08 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Dual path acoustic data coupling system and method
US7514844B2 (en) * 2006-01-23 2009-04-07 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustic data coupling system and method
US7612636B2 (en) 2006-01-30 2009-11-03 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Impedance transforming bulk acoustic wave baluns
US7746677B2 (en) 2006-03-09 2010-06-29 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. AC-DC converter circuit and power supply
US20070210748A1 (en) * 2006-03-09 2007-09-13 Mark Unkrich Power supply and electronic device having integrated power supply
US7479685B2 (en) * 2006-03-10 2009-01-20 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Electronic device on substrate with cavity and mitigated parasitic leakage path
US20070228876A1 (en) * 2006-03-31 2007-10-04 Chien-Min Sung Diamond Frequency Control Devices and Associated Methods
US7629865B2 (en) 2006-05-31 2009-12-08 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Piezoelectric resonator structures and electrical filters
US7598827B2 (en) * 2006-06-19 2009-10-06 Maxim Integrated Products Harmonic termination of power amplifiers using BAW filter output matching circuits
US7586389B2 (en) * 2006-06-19 2009-09-08 Maxim Integrated Products, Inc. Impedance transformation and filter using bulk acoustic wave technology
FR2905207B1 (fr) * 2006-08-28 2009-01-30 St Microelectronics Sa Filtre commutable a resonateurs.
US7508286B2 (en) * 2006-09-28 2009-03-24 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. HBAR oscillator and method of manufacture
JP5216210B2 (ja) * 2006-12-28 2013-06-19 日本電波工業株式会社 水晶振動片および水晶振動デバイス
US7999363B2 (en) * 2007-01-25 2011-08-16 Alpha & Omega Semiconductor, Ltd Structure and method for self protection of power device
JP2008245243A (ja) * 2007-02-26 2008-10-09 Epson Toyocom Corp 輪郭振動子、輪郭振動子の調整方法
US20080202239A1 (en) * 2007-02-28 2008-08-28 Fazzio R Shane Piezoelectric acceleration sensor
US7786825B2 (en) * 2007-05-31 2010-08-31 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Bulk acoustic wave device with coupled resonators
JP5067035B2 (ja) * 2007-06-20 2012-11-07 セイコーエプソン株式会社 音叉型振動子、発振器
JP5067034B2 (ja) * 2007-06-20 2012-11-07 セイコーエプソン株式会社 音叉型振動子、発振器
US20090079514A1 (en) 2007-09-24 2009-03-26 Tiberiu Jamneala Hybrid acoustic resonator-based filters
US7791435B2 (en) 2007-09-28 2010-09-07 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Single stack coupled resonators having differential output
JP5054491B2 (ja) * 2007-11-21 2012-10-24 パナソニック株式会社 圧電振動子およびその製造方法
US8089195B2 (en) * 2007-12-17 2012-01-03 Resonance Semiconductor Corporation Integrated acoustic bandgap devices for energy confinement and methods of fabricating same
US7855618B2 (en) 2008-04-30 2010-12-21 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Bulk acoustic resonator electrical impedance transformers
US7732977B2 (en) 2008-04-30 2010-06-08 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Transceiver circuit for film bulk acoustic resonator (FBAR) transducers
JP5226409B2 (ja) * 2008-07-17 2013-07-03 太陽誘電株式会社 共振デバイス、通信モジュール、通信装置、共振デバイスの製造方法
US8689426B2 (en) 2008-12-17 2014-04-08 Sand 9, Inc. Method of manufacturing a resonating structure
CN102273073B (zh) 2009-01-09 2014-01-01 太阳诱电株式会社 滤波元件、分波器以及电子装置
US9735338B2 (en) 2009-01-26 2017-08-15 Cymatics Laboratories Corp. Protected resonator
US8030823B2 (en) 2009-01-26 2011-10-04 Resonance Semiconductor Corporation Protected resonator
US8291559B2 (en) * 2009-02-24 2012-10-23 Epcos Ag Process for adapting resonance frequency of a BAW resonator
US8902023B2 (en) 2009-06-24 2014-12-02 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustic resonator structure having an electrode with a cantilevered portion
US8248185B2 (en) 2009-06-24 2012-08-21 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustic resonator structure comprising a bridge
ES2365772B2 (es) * 2009-07-08 2013-05-23 Universitat Politècnica De Catalunya Dispositivo y filtro de onda acústica.
WO2011036979A1 (ja) * 2009-09-28 2011-03-31 太陽誘電株式会社 弾性波デバイス
JP5478180B2 (ja) * 2009-09-30 2014-04-23 太陽誘電株式会社 フィルタ
FR2951026B1 (fr) * 2009-10-01 2011-12-02 St Microelectronics Sa Procede de fabrication de resonateurs baw sur une tranche semiconductrice
FR2951023B1 (fr) * 2009-10-01 2012-03-09 St Microelectronics Sa Procede de fabrication d'oscillateurs monolithiques a resonateurs baw
FR2951024B1 (fr) * 2009-10-01 2012-03-23 St Microelectronics Sa Procede de fabrication de resonateur baw a facteur de qualite eleve
US8193877B2 (en) 2009-11-30 2012-06-05 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Duplexer with negative phase shifting circuit
US8796904B2 (en) 2011-10-31 2014-08-05 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Bulk acoustic resonator comprising piezoelectric layer and inverse piezoelectric layer
US9243316B2 (en) 2010-01-22 2016-01-26 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Method of fabricating piezoelectric material with selected c-axis orientation
JP5510465B2 (ja) * 2010-02-09 2014-06-04 株式会社村田製作所 圧電デバイス、圧電デバイスの製造方法
US8587391B2 (en) * 2010-02-23 2013-11-19 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustic coupling layer for coupled resonator filters and method of fabricating acoustic coupling layer
US8283999B2 (en) * 2010-02-23 2012-10-09 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Bulk acoustic resonator structures comprising a single material acoustic coupling layer comprising inhomogeneous acoustic property
US8661899B2 (en) 2010-03-01 2014-03-04 Sand9, Inc. Microelectromechanical gyroscopes and related apparatus and methods
WO2011133682A1 (en) 2010-04-20 2011-10-27 Guiti Zolfagharkhani Microelectromechanical gyroscopes and related apparatus and methods
US9197185B2 (en) * 2010-04-29 2015-11-24 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Resonator device including electrodes with buried temperature compensating layers
US9479139B2 (en) 2010-04-29 2016-10-25 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Resonator device including electrode with buried temperature compensating layer
US9075077B2 (en) 2010-09-20 2015-07-07 Analog Devices, Inc. Resonant sensing using extensional modes of a plate
US8610333B2 (en) * 2010-09-24 2013-12-17 Wei Pang Acoustic wave devices
JP5643056B2 (ja) * 2010-11-01 2014-12-17 太陽誘電株式会社 弾性波デバイス
US8962443B2 (en) 2011-01-31 2015-02-24 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Semiconductor device having an airbridge and method of fabricating the same
US9148117B2 (en) 2011-02-28 2015-09-29 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Coupled resonator filter comprising a bridge and frame elements
US9425764B2 (en) 2012-10-25 2016-08-23 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Accoustic resonator having composite electrodes with integrated lateral features
US9048812B2 (en) 2011-02-28 2015-06-02 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Bulk acoustic wave resonator comprising bridge formed within piezoelectric layer
US9136818B2 (en) 2011-02-28 2015-09-15 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Stacked acoustic resonator comprising a bridge
US9083302B2 (en) 2011-02-28 2015-07-14 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Stacked bulk acoustic resonator comprising a bridge and an acoustic reflector along a perimeter of the resonator
US9154112B2 (en) 2011-02-28 2015-10-06 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Coupled resonator filter comprising a bridge
US9203374B2 (en) 2011-02-28 2015-12-01 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Film bulk acoustic resonator comprising a bridge
US9444426B2 (en) 2012-10-25 2016-09-13 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Accoustic resonator having integrated lateral feature and temperature compensation feature
US8575820B2 (en) 2011-03-29 2013-11-05 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Stacked bulk acoustic resonator
US9490771B2 (en) 2012-10-29 2016-11-08 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustic resonator comprising collar and frame
US9484882B2 (en) 2013-02-14 2016-11-01 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustic resonator having temperature compensation
US9590165B2 (en) 2011-03-29 2017-03-07 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustic resonator comprising aluminum scandium nitride and temperature compensation feature
US9748918B2 (en) 2013-02-14 2017-08-29 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustic resonator comprising integrated structures for improved performance
US9401692B2 (en) 2012-10-29 2016-07-26 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustic resonator having collar structure
US9490418B2 (en) 2011-03-29 2016-11-08 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustic resonator comprising collar and acoustic reflector with temperature compensating layer
US8330325B1 (en) * 2011-06-16 2012-12-11 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Bulk acoustic resonator comprising non-piezoelectric layer
US8350445B1 (en) 2011-06-16 2013-01-08 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Bulk acoustic resonator comprising non-piezoelectric layer and bridge
KR101853740B1 (ko) 2011-07-27 2018-06-14 삼성전자주식회사 체적 음향 공진기 및 체적 음향 공진기를 이용한 듀플렉서
US8922302B2 (en) 2011-08-24 2014-12-30 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustic resonator formed on a pedestal
US9383208B2 (en) 2011-10-13 2016-07-05 Analog Devices, Inc. Electromechanical magnetometer and applications thereof
US8923794B2 (en) * 2011-11-02 2014-12-30 Triquint Semiconductor, Inc. Temperature compensation of acoustic resonators in the electrical domain
GB201121660D0 (en) * 2011-12-15 2012-01-25 Cambridge Entpr Ltd Measurement method using a sensor, sensor system and sensor
US8941286B2 (en) * 2012-02-14 2015-01-27 Taiyo Yuden Co., Ltd. Acoustic wave device
US9240767B2 (en) 2012-05-31 2016-01-19 Texas Instruments Incorporated Temperature-controlled integrated piezoelectric resonator apparatus
CN103703793B (zh) 2012-06-26 2015-02-18 本多电子株式会社 机电转换元件及其制造方法
JPWO2014010197A1 (ja) * 2012-07-11 2016-06-20 スカイワークス・パナソニック フィルターソリューションズ ジャパン株式会社 電子部品
US9385684B2 (en) 2012-10-23 2016-07-05 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustic resonator having guard ring
KR101959204B1 (ko) 2013-01-09 2019-07-04 삼성전자주식회사 무선 주파수 필터 및 무선 주파수 필터의 제조방법
DE102014101805B4 (de) * 2013-02-14 2020-07-02 Avago Technologies International Sales Pte. Limited Akustischer Resonator mit integriertem seitlichen Merkmal und Temperaturkompensationsmerkmal
US9450167B2 (en) * 2013-03-28 2016-09-20 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Temperature compensated acoustic resonator device having an interlayer
US9608192B2 (en) * 2013-03-28 2017-03-28 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Temperature compensated acoustic resonator device
WO2014165441A1 (en) * 2013-04-01 2014-10-09 Cymatics Laboratories Corp. Temperature drift compensation of mems resonators
US20140292152A1 (en) * 2013-04-01 2014-10-02 Cymatics Laboratories Corp. Temperature compensating electrodes
JP6185292B2 (ja) 2013-06-10 2017-08-23 太陽誘電株式会社 弾性波デバイス
US9219517B2 (en) 2013-10-02 2015-12-22 Triquint Semiconductor, Inc. Temperature compensated bulk acoustic wave devices using over-moded acoustic reflector layers
US9793877B2 (en) 2013-12-17 2017-10-17 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Encapsulated bulk acoustic wave (BAW) resonator device
US9537465B1 (en) * 2014-06-06 2017-01-03 Akoustis, Inc. Acoustic resonator device with single crystal piezo material and capacitor on a bulk substrate
JP6256605B2 (ja) * 2014-06-12 2018-01-10 株式会社村田製作所 圧電デバイス
DE102014111993B4 (de) * 2014-08-21 2017-12-21 Snaptrack, Inc. Mikroakustische Bauelement mit verbesserter Temperaturkompensation
US10333494B2 (en) 2014-12-24 2019-06-25 Qorvo Us, Inc. Simplified acoustic RF resonator parallel capacitance compensation
US10581156B2 (en) 2016-05-04 2020-03-03 Qorvo Us, Inc. Compensation circuit to mitigate antenna-to-antenna coupling
US10581403B2 (en) 2016-07-11 2020-03-03 Qorvo Us, Inc. Device having a titanium-alloyed surface
KR20180017941A (ko) 2016-08-11 2018-02-21 삼성전기주식회사 탄성파 필터 장치 및 그 제조방법
US11050412B2 (en) * 2016-09-09 2021-06-29 Qorvo Us, Inc. Acoustic filter using acoustic coupling
US10367470B2 (en) 2016-10-19 2019-07-30 Qorvo Us, Inc. Wafer-level-packaged BAW devices with surface mount connection structures
KR102666083B1 (ko) * 2016-10-31 2024-05-13 엘지디스플레이 주식회사 접촉 감응 소자 및 이를 포함하는 표시 장치
US11736088B2 (en) 2016-11-15 2023-08-22 Global Communication Semiconductors, Llc Film bulk acoustic resonator with spurious resonance suppression
US11476826B2 (en) * 2017-01-17 2022-10-18 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Bulk acoustic wave resonator
US11165413B2 (en) 2017-01-30 2021-11-02 Qorvo Us, Inc. Coupled resonator structure
US11165412B2 (en) 2017-01-30 2021-11-02 Qorvo Us, Inc. Zero-output coupled resonator filter and related radio frequency filter circuit
GB201707440D0 (en) * 2017-05-09 2017-06-21 Cambridge Entpr Ltd Method for operation of resonator
US10873318B2 (en) 2017-06-08 2020-12-22 Qorvo Us, Inc. Filter circuits having acoustic wave resonators in a transversal configuration
US11171625B1 (en) 2017-07-14 2021-11-09 Verily Life Sciences Llc Increasing yield and operating temperature range of transmitters
US10498001B2 (en) 2017-08-21 2019-12-03 Texas Instruments Incorporated Launch structures for a hermetically sealed cavity
US10775422B2 (en) 2017-09-05 2020-09-15 Texas Instruments Incorporated Molecular spectroscopy cell with resonant cavity
US10589986B2 (en) 2017-09-06 2020-03-17 Texas Instruments Incorporated Packaging a sealed cavity in an electronic device
US10131115B1 (en) * 2017-09-07 2018-11-20 Texas Instruments Incorporated Hermetically sealed molecular spectroscopy cell with dual wafer bonding
US10549986B2 (en) 2017-09-07 2020-02-04 Texas Instruments Incorporated Hermetically sealed molecular spectroscopy cell
US10551265B2 (en) 2017-09-07 2020-02-04 Texas Instruments Incorporated Pressure sensing using quantum molecular rotational state transitions
US10424523B2 (en) 2017-09-07 2019-09-24 Texas Instruments Incorporated Hermetically sealed molecular spectroscopy cell with buried ground plane
US10444102B2 (en) 2017-09-07 2019-10-15 Texas Instruments Incorporated Pressure measurement based on electromagnetic signal output of a cavity
US10544039B2 (en) 2017-09-08 2020-01-28 Texas Instruments Incorporated Methods for depositing a measured amount of a species in a sealed cavity
US10361676B2 (en) 2017-09-29 2019-07-23 Qorvo Us, Inc. Baw filter structure with internal electrostatic shielding
CN107941391B (zh) * 2017-11-17 2020-04-28 杭州电子科技大学 一种用于薄膜体声波压力传感器的无线无源温度补偿方法
JP2019161145A (ja) * 2018-03-16 2019-09-19 三菱マテリアル株式会社 圧電体膜
CN111869113B (zh) 2018-03-20 2021-12-14 华为技术有限公司 可调滤波器
US11152913B2 (en) 2018-03-28 2021-10-19 Qorvo Us, Inc. Bulk acoustic wave (BAW) resonator
US10979028B2 (en) * 2018-05-04 2021-04-13 Skyworks Solutions, Inc. Reduced temperature coefficient of frequency at filter transition band while retaining pass-band width
US12155368B2 (en) 2018-07-20 2024-11-26 Global Communication Semiconductors, Llc Support structure for bulk acoustic wave resonator
US11764750B2 (en) 2018-07-20 2023-09-19 Global Communication Semiconductors, Llc Support structure for bulk acoustic wave resonator
US11405013B2 (en) 2019-02-27 2022-08-02 Skyworks Global Pte. Ltd. Bulk acoustic wave resonator structure for second harmonic suppression
US11817839B2 (en) 2019-03-28 2023-11-14 Global Communication Semiconductors, Llc Single-crystal bulk acoustic wave resonator and method of making thereof
WO2020258334A1 (zh) * 2019-06-28 2020-12-30 瑞声声学科技(深圳)有限公司 谐振器及其制备方法
US11146247B2 (en) 2019-07-25 2021-10-12 Qorvo Us, Inc. Stacked crystal filter structures
US10958235B2 (en) * 2019-08-21 2021-03-23 Murata Manufacturing Co., Ltd. Thickness mode resonator
US20210111701A1 (en) 2019-10-15 2021-04-15 Global Communication Semiconductors, Llc Bulk Resonator with Symmetrically Positioned Temperature Compensation Layers
US11757430B2 (en) 2020-01-07 2023-09-12 Qorvo Us, Inc. Acoustic filter circuit for noise suppression outside resonance frequency
US11146245B2 (en) 2020-01-13 2021-10-12 Qorvo Us, Inc. Mode suppression in acoustic resonators
US11146246B2 (en) 2020-01-13 2021-10-12 Qorvo Us, Inc. Phase shift structures for acoustic resonators
CN114070224A (zh) * 2020-08-06 2022-02-18 诺思(天津)微系统有限责任公司 带声学解耦层的体声波谐振器组件及制造方法、滤波器及电子设备
KR20220059778A (ko) * 2020-11-03 2022-05-10 삼성전기주식회사 체적 음향 공진기
US11632097B2 (en) 2020-11-04 2023-04-18 Qorvo Us, Inc. Coupled resonator filter device
US11575363B2 (en) 2021-01-19 2023-02-07 Qorvo Us, Inc. Hybrid bulk acoustic wave filter
US12329035B2 (en) 2021-06-29 2025-06-10 Global Communication Semiconductors, Llc Bulk acoustic wave resonator with improved structures
US12170515B2 (en) 2022-01-31 2024-12-17 Qorvo Us, Inc. Reversed semilattice filter
US11616489B2 (en) * 2022-06-21 2023-03-28 Shenzhen Newsonic Technologies Co., Ltd. Bulk acoustic wave filter having release hole and fabricating method of the same
CN115412054B (zh) * 2022-08-04 2025-10-10 中国电信股份有限公司 一种体声波滤波器和通信器件
US12587172B2 (en) 2023-03-15 2026-03-24 Qorvo Us, Inc. Pin reconfigurable baw filters
KR102693801B1 (ko) * 2023-12-06 2024-08-09 한국세라믹기술원 버티컬 타입의 벌크 음향파 마이크로 유체 필터링 모듈 및 그 제조 방법

Family Cites Families (229)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1097116A (en) 1913-02-08 1914-05-19 Nat Metal Molding Company Circuit-extension box.
FR1307476A (fr) 1960-12-12 1962-10-26 U S Sonics Corp Amplificateur sélecteur de fréquences
US3189851A (en) 1962-06-04 1965-06-15 Sonus Corp Piezoelectric filter
US3321648A (en) 1964-06-04 1967-05-23 Sonus Corp Piezoelectric filter element
GB1207974A (en) 1966-11-17 1970-10-07 Clevite Corp Frequency selective apparatus including a piezoelectric device
US3422371A (en) 1967-07-24 1969-01-14 Sanders Associates Inc Thin film piezoelectric oscillator
US3826931A (en) 1967-10-26 1974-07-30 Hewlett Packard Co Dual crystal resonator apparatus
US3582839A (en) 1968-06-06 1971-06-01 Clevite Corp Composite coupled-mode filter
US3607761A (en) 1968-12-09 1971-09-21 Continental Oil Co Soap bars containing salts of fatty acids derived from the guerbet reaction
US3610969A (en) 1970-02-06 1971-10-05 Mallory & Co Inc P R Monolithic piezoelectric resonator for use as filter or transformer
US3845402A (en) 1973-02-15 1974-10-29 Edmac Ass Inc Sonobuoy receiver system, floating coupler
FR2380666A1 (fr) 1977-02-14 1978-09-08 Cii Honeywell Bull Systeme de commande de decoupage pour convertisseur dans une alimentation electrique continue
US4084217A (en) 1977-04-19 1978-04-11 Bbc Brown, Boveri & Company, Limited Alternating-current fed power supply
GB2033185B (en) 1978-09-22 1983-05-18 Secr Defence Acoustic wave device with temperature stabilisation
US4281299A (en) 1979-11-23 1981-07-28 Honeywell Inc. Signal isolator
ZA81781B (en) 1980-02-13 1982-03-31 Int Computers Ltd Digital systems
US4320365A (en) 1980-11-03 1982-03-16 United Technologies Corporation Fundamental, longitudinal, thickness mode bulk wave resonator
JPS58137317A (ja) * 1982-02-09 1983-08-15 Nec Corp 圧電薄膜複合振動子
JPS59160308A (ja) * 1983-03-02 1984-09-11 Fujitsu Ltd メカニカルフィルタ用圧電セラミック振動子およびそれを用いるメカニカルフィルタ
GB2137056B (en) 1983-03-16 1986-09-03 Standard Telephones Cables Ltd Communications apparatus
JPS6016010A (ja) * 1983-07-07 1985-01-26 Nec Corp 圧電薄膜複合振動子
JPS6157108A (ja) * 1984-08-29 1986-03-24 Fujitsu Ltd 圧電セラミツク振動子
US4625138A (en) 1984-10-24 1986-11-25 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Piezoelectric microwave resonator using lateral excitation
US4719383A (en) 1985-05-20 1988-01-12 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Piezoelectric shear wave resonator and method of making same
SE465946B (sv) 1986-09-11 1991-11-18 Bengt Henoch Anordning foer oeverfoering av elektrisk energi till elektrisk utrustning genom omagnetiska och elektriskt isolerande material
US4906840A (en) 1988-01-27 1990-03-06 The Board Of Trustees Of Leland Stanford Jr., University Integrated scanning tunneling microscope
US4841429A (en) 1988-03-24 1989-06-20 Hughes Aircraft Company Capacitive coupled power supplies
US4836882A (en) 1988-09-12 1989-06-06 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Method of making an acceleration hardened resonator
US5118982A (en) 1989-05-31 1992-06-02 Nec Corporation Thickness mode vibration piezoelectric transformer
US5048036A (en) 1989-09-18 1991-09-10 Spectra Diode Laboratories, Inc. Heterostructure laser with lattice mismatch
US5048038A (en) 1990-01-25 1991-09-10 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Ion-implanted planar-buried-heterostructure diode laser
EP0461437B1 (en) 1990-05-22 1998-07-29 Canon Kabushiki Kaisha Information recording apparatus
US5241456A (en) 1990-07-02 1993-08-31 General Electric Company Compact high density interconnect structure
JP2995076B2 (ja) 1990-07-24 1999-12-27 富士通株式会社 半導体装置
US5162691A (en) 1991-01-22 1992-11-10 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Cantilevered air-gap type thin film piezoelectric resonator
US5294898A (en) 1992-01-29 1994-03-15 Motorola, Inc. Wide bandwidth bandpass filter comprising parallel connected piezoelectric resonators
JPH065944A (ja) * 1992-06-24 1994-01-14 Nec Corp 圧電磁器トランスフィルタとその駆動方法
US5382930A (en) 1992-12-21 1995-01-17 Trw Inc. Monolithic multipole filters made of thin film stacked crystal filters
US5384808A (en) 1992-12-31 1995-01-24 Apple Computer, Inc. Method and apparatus for transmitting NRZ data signals across an isolation barrier disposed in an interface between adjacent devices on a bus
US5448014A (en) 1993-01-27 1995-09-05 Trw Inc. Mass simultaneous sealing and electrical connection of electronic devices
US5465725A (en) 1993-06-15 1995-11-14 Hewlett Packard Company Ultrasonic probe
US5587620A (en) 1993-12-21 1996-12-24 Hewlett-Packard Company Tunable thin film acoustic resonators and method for making the same
US5594705A (en) 1994-02-04 1997-01-14 Dynamotive Canada Corporation Acoustic transformer with non-piezoelectric core
US5864261A (en) 1994-05-23 1999-01-26 Iowa State University Research Foundation Multiple layer acoustical structures for thin-film resonator based circuits and systems
JPH0878786A (ja) 1994-09-02 1996-03-22 Mitsubishi Electric Corp 歪量子井戸の構造
US5692279A (en) 1995-08-17 1997-12-02 Motorola Method of making a monolithic thin film resonator lattice filter
CN1183587C (zh) 1996-04-08 2005-01-05 德克萨斯仪器股份有限公司 用于把两个集成电路直流上相互隔离的方法和设备
US5965679A (en) * 1996-09-10 1999-10-12 The Dow Chemical Company Polyphenylene oligomers and polymers
US5714917A (en) 1996-10-02 1998-02-03 Nokia Mobile Phones Limited Device incorporating a tunable thin film bulk acoustic resonator for performing amplitude and phase modulation
US5873154A (en) 1996-10-17 1999-02-23 Nokia Mobile Phones Limited Method for fabricating a resonator having an acoustic mirror
US6087198A (en) 1998-02-12 2000-07-11 Texas Instruments Incorporated Low cost packaging for thin-film resonators and thin-film resonator-based filters
US5872493A (en) 1997-03-13 1999-02-16 Nokia Mobile Phones, Ltd. Bulk acoustic wave (BAW) filter having a top portion that includes a protective acoustic mirror
US5853601A (en) 1997-04-03 1998-12-29 Northrop Grumman Corporation Top-via etch technique for forming dielectric membranes
US6339048B1 (en) 1999-12-23 2002-01-15 Elementis Specialties, Inc. Oil and oil invert emulsion drilling fluids with improved anti-settling properties
US6040962A (en) 1997-05-14 2000-03-21 Tdk Corporation Magnetoresistive element with conductive films and magnetic domain films overlapping a central active area
US5910756A (en) 1997-05-21 1999-06-08 Nokia Mobile Phones Limited Filters and duplexers utilizing thin film stacked crystal filter structures and thin film bulk acoustic wave resonators
JP3378775B2 (ja) 1997-07-07 2003-02-17 株式会社村田製作所 圧電共振子およびその周波数調整方法
US5982297A (en) 1997-10-08 1999-11-09 The Aerospace Corporation Ultrasonic data communication system
DE19745615A1 (de) * 1997-10-10 1999-04-15 Leybold Vakuum Gmbh Schraubenvakuumpumpe mit Rotoren
US6873065B2 (en) 1997-10-23 2005-03-29 Analog Devices, Inc. Non-optical signal isolator
DE19755893C2 (de) 1997-12-08 2001-01-25 Claus Rein Verfahren und Anordnung zur Energie- und Informationsübertragung mittels Ultraschall
WO1999037023A1 (en) 1998-01-16 1999-07-22 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Thin film pietoelectric element
JP3230052B2 (ja) 1998-03-23 2001-11-19 有限会社フィデリックス 電源装置
US5936150A (en) 1998-04-13 1999-08-10 Rockwell Science Center, Llc Thin film resonant chemical sensor with resonant acoustic isolator
US5953479A (en) 1998-05-07 1999-09-14 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Tilted valance-band quantum well double heterostructures for single step active and passive optical waveguide device monolithic integration
JP4326151B2 (ja) 1998-05-08 2009-09-02 アバゴ・テクノロジーズ・ワイヤレス・アイピー(シンガポール)プライベート・リミテッド 薄膜圧電振動子
KR100328807B1 (ko) 1998-05-08 2002-03-14 가네코 히사시 제조비용이 저렴하고 충분한 접착 강도가 수득될 수 있는 수지구조물 및 이의 제조 방법
JPH11345406A (ja) 1998-05-29 1999-12-14 Sony Corp マスクパターンの形成方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法
US6060818A (en) 1998-06-02 2000-05-09 Hewlett-Packard Company SBAR structures and method of fabrication of SBAR.FBAR film processing techniques for the manufacturing of SBAR/BAR filters
DE19826152A1 (de) 1998-06-12 1999-12-16 Thomson Brandt Gmbh Anordnung mit einem Schaltnetzteil und einem Mikroprozessor
US6150703A (en) 1998-06-29 2000-11-21 Trw Inc. Lateral mode suppression in semiconductor bulk acoustic resonator (SBAR) devices using tapered electrodes, and electrodes edge damping materials
US6252229B1 (en) 1998-07-10 2001-06-26 Boeing North American, Inc. Sealed-cavity microstructure and microbolometer and associated fabrication methods
US5858601A (en) * 1998-08-03 1999-01-12 Xerox Corporation Toner processes
US6229247B1 (en) 1998-11-09 2001-05-08 Face International Corp. Multi-layer piezoelectric electrical energy transfer device
WO2000038296A1 (en) 1998-12-22 2000-06-29 Seiko Epson Corporation Power supply system, power receiving system, power transmission system, method of power transmission, portable device and timer device
FI113211B (fi) * 1998-12-30 2004-03-15 Nokia Corp Balansoitu suodatinrakenne ja matkaviestinlaite
SE513442C2 (sv) * 1999-01-28 2000-09-11 Asea Brown Boveri Kontaktor
US6215375B1 (en) 1999-03-30 2001-04-10 Agilent Technologies, Inc. Bulk acoustic wave resonator with improved lateral mode suppression
JP3531522B2 (ja) 1999-04-19 2004-05-31 株式会社村田製作所 圧電共振子
US6262637B1 (en) 1999-06-02 2001-07-17 Agilent Technologies, Inc. Duplexer incorporating thin-film bulk acoustic resonators (FBARs)
DE19931297A1 (de) * 1999-07-07 2001-01-11 Philips Corp Intellectual Pty Volumenwellen-Filter
FI107660B (fi) 1999-07-19 2001-09-14 Nokia Mobile Phones Ltd Resonaattorirakenne
US6228675B1 (en) 1999-07-23 2001-05-08 Agilent Technologies, Inc. Microcap wafer-level package with vias
JP4420538B2 (ja) 1999-07-23 2010-02-24 アバゴ・テクノロジーズ・ワイヤレス・アイピー(シンガポール)プライベート・リミテッド ウェーハパッケージの製造方法
US6265246B1 (en) 1999-07-23 2001-07-24 Agilent Technologies, Inc. Microcap wafer-level package
US6107721A (en) 1999-07-27 2000-08-22 Tfr Technologies, Inc. Piezoelectric resonators on a differentially offset reflector
US6617750B2 (en) 1999-09-21 2003-09-09 Rockwell Automation Technologies, Inc. Microelectricalmechanical system (MEMS) electrical isolator with reduced sensitivity to inertial noise
US6292336B1 (en) 1999-09-30 2001-09-18 Headway Technologies, Inc. Giant magnetoresistive (GMR) sensor element with enhanced magnetoresistive (MR) coefficient
JP2001196883A (ja) 1999-11-01 2001-07-19 Murata Mfg Co Ltd 圧電共振素子の周波数調整方法
KR100413789B1 (ko) 1999-11-01 2003-12-31 삼성전자주식회사 고진공 패키징 마이크로자이로스코프 및 그 제조방법
US6307447B1 (en) 1999-11-01 2001-10-23 Agere Systems Guardian Corp. Tuning mechanical resonators for electrical filter
JP3514224B2 (ja) * 1999-11-11 2004-03-31 株式会社村田製作所 圧電共振子、フィルタ及び電子機器
US6441539B1 (en) 1999-11-11 2002-08-27 Murata Manufacturing Co., Ltd. Piezoelectric resonator
FI107661B (fi) * 1999-11-29 2001-09-14 Nokia Mobile Phones Ltd Menetelmä balansoidun suotimen keskitaajuuden säätämiseksi ja joukko balansoituja suotimia
JP2001244778A (ja) 1999-12-22 2001-09-07 Toyo Commun Equip Co Ltd 高周波圧電振動子
ATE442614T1 (de) 2000-01-10 2009-09-15 Eta Sa Mft Horlogere Suisse Vorrichtung um ein signal zu erzeugen,dessen frequenz wesentlich temperatur unabhängig ist
US6479320B1 (en) 2000-02-02 2002-11-12 Raytheon Company Vacuum package fabrication of microelectromechanical system devices with integrated circuit components
US6521477B1 (en) 2000-02-02 2003-02-18 Raytheon Company Vacuum package fabrication of integrated circuit components
US6466418B1 (en) 2000-02-11 2002-10-15 Headway Technologies, Inc. Bottom spin valves with continuous spacer exchange (or hard) bias
US6262600B1 (en) 2000-02-14 2001-07-17 Analog Devices, Inc. Isolator for transmitting logic signals across an isolation barrier
DE10007577C1 (de) 2000-02-18 2001-09-13 Infineon Technologies Ag Piezoresonator
DE10014300A1 (de) 2000-03-23 2001-10-04 Infineon Technologies Ag Halbleiterbauelement und Verfahren zu dessen Herstellung
WO2001078229A1 (en) 2000-04-06 2001-10-18 Koninklijke Philips Electronics N.V. Tunable filter arrangement comprising resonators.
US6441481B1 (en) 2000-04-10 2002-08-27 Analog Devices, Inc. Hermetically sealed microstructure package
US6384697B1 (en) 2000-05-08 2002-05-07 Agilent Technologies, Inc. Cavity spanning bottom electrode of a substrate-mounted bulk wave acoustic resonator
GB0012439D0 (en) 2000-05-24 2000-07-12 Univ Cranfield Improvements to filters
GB0014963D0 (en) 2000-06-20 2000-08-09 Koninkl Philips Electronics Nv A bulk acoustic wave device
US6355498B1 (en) 2000-08-11 2002-03-12 Agere Systems Guartian Corp. Thin film resonators fabricated on membranes created by front side releasing
US6420820B1 (en) 2000-08-31 2002-07-16 Agilent Technologies, Inc. Acoustic wave resonator and method of operating the same to maintain resonance when subjected to temperature variations
US6377137B1 (en) 2000-09-11 2002-04-23 Agilent Technologies, Inc. Acoustic resonator filter with reduced electromagnetic influence due to die substrate thickness
US6486751B1 (en) 2000-09-26 2002-11-26 Agere Systems Inc. Increased bandwidth thin film resonator having a columnar structure
US6530515B1 (en) 2000-09-26 2003-03-11 Amkor Technology, Inc. Micromachine stacked flip chip package fabrication method
US6542055B1 (en) 2000-10-31 2003-04-01 Agilent Technologies, Inc. Integrated filter balun
US6492883B2 (en) 2000-11-03 2002-12-10 Paratek Microwave, Inc. Method of channel frequency allocation for RF and microwave duplexers
US6515558B1 (en) 2000-11-06 2003-02-04 Nokia Mobile Phones Ltd Thin-film bulk acoustic resonator with enhanced power handling capacity
GB0029090D0 (en) 2000-11-29 2001-01-10 Univ Cranfield Improvements in or relating to filters
US6550664B2 (en) 2000-12-09 2003-04-22 Agilent Technologies, Inc. Mounting film bulk acoustic resonators in microwave packages using flip chip bonding technology
US6424237B1 (en) 2000-12-21 2002-07-23 Agilent Technologies, Inc. Bulk acoustic resonator perimeter reflection system
US6518860B2 (en) 2001-01-05 2003-02-11 Nokia Mobile Phones Ltd BAW filters having different center frequencies on a single substrate and a method for providing same
US6407649B1 (en) 2001-01-05 2002-06-18 Nokia Corporation Monolithic FBAR duplexer and method of making the same
US6512300B2 (en) 2001-01-10 2003-01-28 Raytheon Company Water level interconnection
JP2002217676A (ja) 2001-01-17 2002-08-02 Murata Mfg Co Ltd 圧電フィルタ
US6462631B2 (en) 2001-02-14 2002-10-08 Agilent Technologies, Inc. Passband filter having an asymmetrical filter response
US6583374B2 (en) 2001-02-20 2003-06-24 Rockwell Automation Technologies, Inc. Microelectromechanical system (MEMS) digital electrical isolator
US6714102B2 (en) 2001-03-01 2004-03-30 Agilent Technologies, Inc. Method of fabricating thin film bulk acoustic resonator (FBAR) and FBAR structure embodying the method
US6787048B2 (en) 2001-03-05 2004-09-07 Agilent Technologies, Inc. Method for producing thin bulk acoustic resonators (FBARs) with different frequencies on the same substrate by subtracting method and apparatus embodying the method
US6874211B2 (en) 2001-03-05 2005-04-05 Agilent Technologies, Inc. Method for producing thin film bulk acoustic resonators (FBARs) with different frequencies on the same substrate by subtracting method and apparatus embodying the method
US6483229B2 (en) 2001-03-05 2002-11-19 Agilent Technologies, Inc. Method of providing differential frequency adjusts in a thin film bulk acoustic resonator (FBAR) filter and apparatus embodying the method
US6617249B2 (en) 2001-03-05 2003-09-09 Agilent Technologies, Inc. Method for making thin film bulk acoustic resonators (FBARS) with different frequencies on a single substrate and apparatus embodying the method
US6566979B2 (en) 2001-03-05 2003-05-20 Agilent Technologies, Inc. Method of providing differential frequency adjusts in a thin film bulk acoustic resonator (FBAR) filter and apparatus embodying the method
US6469597B2 (en) 2001-03-05 2002-10-22 Agilent Technologies, Inc. Method of mass loading of thin film bulk acoustic resonators (FBAR) for creating resonators of different frequencies and apparatus embodying the method
JP4058970B2 (ja) 2001-03-21 2008-03-12 セイコーエプソン株式会社 ニオブ酸カリウム圧電薄膜を有する表面弾性波素子、周波数フィルタ、発振器、電子回路、及び電子機器
JP2004519180A (ja) 2001-03-23 2004-06-24 インフィネオン テクノロジーズ アクチェンゲゼルシャフト フィルタデバイス
US6548943B2 (en) 2001-04-12 2003-04-15 Nokia Mobile Phones Ltd. Method of producing thin-film bulk acoustic wave devices
US6546942B2 (en) * 2001-04-17 2003-04-15 Whirlpool Corporation Dishwasher with auxiliary basket
US6472954B1 (en) 2001-04-23 2002-10-29 Agilent Technologies, Inc. Controlled effective coupling coefficients for film bulk acoustic resonators
US6668618B2 (en) 2001-04-23 2003-12-30 Agilent Technologies, Inc. Systems and methods of monitoring thin film deposition
US6441702B1 (en) 2001-04-27 2002-08-27 Nokia Mobile Phones Ltd. Method and system for wafer-level tuning of bulk acoustic wave resonators and filters
US6476536B1 (en) 2001-04-27 2002-11-05 Nokia Corporation Method of tuning BAW resonators
US6489688B1 (en) 2001-05-02 2002-12-03 Zeevo, Inc. Area efficient bond pad placement
US6601276B2 (en) 2001-05-11 2003-08-05 Agere Systems Inc. Method for self alignment of patterned layers in thin film acoustic devices
JP2005236337A (ja) 2001-05-11 2005-09-02 Ube Ind Ltd 薄膜音響共振器及びその製造方法
JP2002374144A (ja) 2001-06-15 2002-12-26 Ube Electronics Ltd 薄膜圧電共振器
KR100398365B1 (ko) 2001-06-25 2003-09-19 삼성전기주식회사 폭방향 파동이 억제되는 박막 공진기
JP3903842B2 (ja) 2001-07-03 2007-04-11 株式会社村田製作所 圧電共振子、フィルタおよび電子通信機器
JP2006500001A (ja) 2001-07-09 2006-01-05 ボゴーク,サミュエル レプリキンペプチドとその使用
US6710681B2 (en) 2001-07-13 2004-03-23 Agilent Technologies, Inc. Thin film bulk acoustic resonator (FBAR) and inductor on a monolithic substrate and method of fabricating the same
JP4037825B2 (ja) * 2001-07-30 2008-01-23 インフィネオン テクノロジーズ アクチエンゲゼルシャフト 音響反射器を備える圧電性共振器装置
US6936954B2 (en) 2001-08-29 2005-08-30 Honeywell International Inc. Bulk resonator
US6803835B2 (en) 2001-08-30 2004-10-12 Agilent Technologies, Inc. Integrated filter balun
DE10147075A1 (de) 2001-09-25 2003-04-30 Infineon Technologies Ag Piezoelektrisches Bauelement und Verfahren zu dessen Herstellung
DE10149542A1 (de) 2001-10-08 2003-04-17 Infineon Technologies Ag BAW-Resonator
US6593870B2 (en) 2001-10-18 2003-07-15 Rockwell Automation Technologies, Inc. MEMS-based electrically isolated analog-to-digital converter
US6630753B2 (en) 2001-10-29 2003-10-07 International Business Machines Corporation Low cost redundant AC to DC power supply
US6808955B2 (en) 2001-11-02 2004-10-26 Intel Corporation Method of fabricating an integrated circuit that seals a MEMS device within a cavity
US6900451B2 (en) * 2001-11-08 2005-05-31 Multimextrixs, Llc Mapping sensor system for detecting positions of flat objects
DE10155927A1 (de) 2001-11-14 2003-06-05 Infineon Technologies Ag Passivierter BAW-Resonator und BAW-Filter
US6720844B1 (en) * 2001-11-16 2004-04-13 Tfr Technologies, Inc. Coupled resonator bulk acoustic wave filter
US20030126081A1 (en) 2001-11-16 2003-07-03 Hiroshi Ono Check processing method and apparatus, and a computer-readable recording medium storing a check processing control program
US7392085B2 (en) * 2001-11-21 2008-06-24 Cameron Health, Inc. Multiple electrode vectors for implantable cardiac treatment devices
US6710508B2 (en) 2001-11-27 2004-03-23 Agilent Technologies, Inc. Method for adjusting and stabilizing the frequency of an acoustic resonator
TWI281277B (en) 2001-11-29 2007-05-11 Matsushita Electric Industrial Co Ltd Driving circuit of piezoelectric transformer, cold cathode tube light-emitting device, liquid crystal panel and electronic machine mounted with liquid crystal panel
JP2003168687A (ja) 2001-11-30 2003-06-13 Nec Electronics Corp 目合わせパターンおよびその製造方法
DE10160617A1 (de) * 2001-12-11 2003-06-12 Epcos Ag Akustischer Spiegel mit verbesserter Reflexion
US6600390B2 (en) 2001-12-13 2003-07-29 Agilent Technologies, Inc. Differential filters with common mode rejection and broadband rejection
US20030111439A1 (en) 2001-12-14 2003-06-19 Fetter Linus Albert Method of forming tapered electrodes for electronic devices
US6906451B2 (en) 2002-01-08 2005-06-14 Murata Manufacturing Co., Ltd. Piezoelectric resonator, piezoelectric filter, duplexer, communication apparatus, and method for manufacturing piezoelectric resonator
US6670866B2 (en) 2002-01-09 2003-12-30 Nokia Corporation Bulk acoustic wave resonator with two piezoelectric layers as balun in filters and duplexers
US20030141946A1 (en) 2002-01-31 2003-07-31 Ruby Richard C. Film bulk acoustic resonator (FBAR) and the method of making the same
US6873529B2 (en) 2002-02-26 2005-03-29 Kyocera Corporation High frequency module
CN1292533C (zh) 2002-03-15 2006-12-27 松下电器产业株式会社 平衡高频器件,平衡特性的改进方法和采用此类器件的平衡高频电路
US6673697B2 (en) 2002-04-03 2004-01-06 Intel Corporation Packaging microelectromechanical structures
US6635509B1 (en) 2002-04-12 2003-10-21 Dalsa Semiconductor Inc. Wafer-level MEMS packaging
TW540173B (en) 2002-05-03 2003-07-01 Asia Pacific Microsystems Inc Bulk acoustic device having integrated fine-tuning and trimming devices
US7388318B2 (en) 2002-06-20 2008-06-17 Ube Industries, Ltd. Thin film piezoelectric resonator, thin film piezoelectric device, and manufacturing method thereof
JP4039322B2 (ja) 2002-07-23 2008-01-30 株式会社村田製作所 圧電フィルタ、デュプレクサ、複合圧電共振器および通信装置、並びに、圧電フィルタの周波数調整方法
US20040016995A1 (en) 2002-07-25 2004-01-29 Kuo Shun Meen MEMS control chip integration
US6828713B2 (en) 2002-07-30 2004-12-07 Agilent Technologies, Inc Resonator with seed layer
JP4128836B2 (ja) 2002-09-27 2008-07-30 Tdk株式会社 薄膜圧電共振子、それを用いたフィルタ及びデュプレクサ
DE10246791B4 (de) 2002-10-08 2017-10-19 Snaptrack, Inc. Mit akustischen Volumenwellen arbeitender Resonator und Schaltung mit dem Resonator
JP2004147246A (ja) 2002-10-28 2004-05-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd 圧電振動子、それを用いたフィルタ及び圧電振動子の調整方法
US6944432B2 (en) 2002-11-12 2005-09-13 Nokia Corporation Crystal-less oscillator transceiver
FR2848036B1 (fr) 2002-11-28 2005-08-26 St Microelectronics Sa Support pour resonateur acoustique, resonateur acoustique et circuit integre correspondant
DE10256937B4 (de) * 2002-12-05 2018-02-01 Snaptrack, Inc. Mit akustischen Volumenwellen arbeitendes Bauelement mit unsymmetrisch/symmetrischer Beschaltung
JP3889351B2 (ja) 2002-12-11 2007-03-07 Tdk株式会社 デュプレクサ
DE10258422A1 (de) 2002-12-13 2004-06-24 Epcos Ag Mit akustischen Volumenwellen arbeitendes Bauelement mit gekoppelten Resonatoren
JP4342174B2 (ja) 2002-12-27 2009-10-14 新光電気工業株式会社 電子デバイス及びその製造方法
DE10301261B4 (de) 2003-01-15 2018-03-22 Snaptrack, Inc. Mit akustischen Volumenwellen arbeitendes Bauelement und Verfahren zur Herstellung
KR100455127B1 (ko) 2003-01-24 2004-11-06 엘지전자 주식회사 박막 용적 탄성파 공진기를 이용한 물질 센서 모듈
KR100486627B1 (ko) 2003-02-21 2005-05-03 엘지전자 주식회사 반도체 패키지
JP2004304704A (ja) 2003-04-01 2004-10-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 薄膜音響共振子、及び、薄膜音響共振子回路
DE10317969B4 (de) 2003-04-17 2005-06-16 Epcos Ag Duplexer mit erweiterter Funktionalität
DE10319554B4 (de) 2003-04-30 2018-05-09 Snaptrack, Inc. Mit akustischen Volumenwellen arbeitendes Bauelement mit gekoppelten Resonatoren
US6927651B2 (en) 2003-05-12 2005-08-09 Agilent Technologies, Inc. Acoustic resonator devices having multiple resonant frequencies and methods of making the same
US6954121B2 (en) 2003-06-09 2005-10-11 Agilent Technologies, Inc. Method for controlling piezoelectric coupling coefficient in film bulk acoustic resonators and apparatus embodying the method
EP1489740A3 (en) 2003-06-18 2006-06-28 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Electronic component and method for manufacturing the same
US6924717B2 (en) 2003-06-30 2005-08-02 Intel Corporation Tapered electrode in an acoustic resonator
JP2005057332A (ja) 2003-08-04 2005-03-03 Tdk Corp フィルタ装置およびそれを用いた分波器
US6777263B1 (en) 2003-08-21 2004-08-17 Agilent Technologies, Inc. Film deposition to enhance sealing yield of microcap wafer-level package with vias
US7230511B2 (en) 2003-09-12 2007-06-12 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Thin film bulk acoustic resonator, method for producing the same, filter, composite electronic component device, and communication device
JP2005117641A (ja) 2003-09-17 2005-04-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 圧電体共振器、それを用いたフィルタ及び共用器
US7332985B2 (en) 2003-10-30 2008-02-19 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte Ltd. Cavity-less film bulk acoustic resonator (FBAR) devices
US6946928B2 (en) 2003-10-30 2005-09-20 Agilent Technologies, Inc. Thin-film acoustically-coupled transformer
EP1528677B1 (en) 2003-10-30 2006-05-10 Agilent Technologies, Inc. Film acoustically-coupled transformer with two reverse c-axis piezoelectric elements
US7019605B2 (en) 2003-10-30 2006-03-28 Larson Iii John D Stacked bulk acoustic resonator band-pass filter with controllable pass bandwidth
US7362198B2 (en) 2003-10-30 2008-04-22 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd Pass bandwidth control in decoupled stacked bulk acoustic resonator devices
US7242270B2 (en) 2003-10-30 2007-07-10 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Decoupled stacked bulk acoustic resonator-based band-pass filter
US7218752B2 (en) * 2003-11-04 2007-05-15 Tsai Ming-J Feature based data structure for computer manikin
TWI228869B (en) 2003-12-30 2005-03-01 Ind Tech Res Inst Noise reduction method of filter
GB0403481D0 (en) 2004-02-17 2004-03-24 Transense Technologies Plc Interrogation method for passive sensor monitoring system
US7084553B2 (en) 2004-03-04 2006-08-01 Ludwiczak Damian R Vibrating debris remover
EP1575165B1 (en) 2004-03-09 2008-05-07 Infineon Technologies AG Bulk acoustic wave filter and method for eliminating unwanted side passands
JP4078555B2 (ja) 2004-03-17 2008-04-23 セイコーエプソン株式会社 ニオブ酸カリウム堆積体の製造方法
US6963257B2 (en) 2004-03-19 2005-11-08 Nokia Corporation Coupled BAW resonator based duplexers
JP3875240B2 (ja) 2004-03-31 2007-01-31 株式会社東芝 電子部品の製造方法
US7280007B2 (en) 2004-11-15 2007-10-09 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Thin film bulk acoustic resonator with a mass loaded perimeter
TWI365603B (en) 2004-10-01 2012-06-01 Avago Technologies Wireless Ip A thin film bulk acoustic resonator with a mass loaded perimeter
US20060087199A1 (en) 2004-10-22 2006-04-27 Larson John D Iii Piezoelectric isolating transformer
US7098758B2 (en) 2004-11-03 2006-08-29 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustically coupled thin-film resonators having an electrode with a tapered edge
US7791434B2 (en) 2004-12-22 2010-09-07 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustic resonator performance enhancement using selective metal etch and having a trench in the piezoelectric
US20070085632A1 (en) 2005-10-18 2007-04-19 Larson John D Iii Acoustic galvanic isolator
US7425787B2 (en) 2005-10-18 2008-09-16 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustic galvanic isolator incorporating single insulated decoupled stacked bulk acoustic resonator with acoustically-resonant electrical insulator
US7675390B2 (en) 2005-10-18 2010-03-09 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustic galvanic isolator incorporating single decoupled stacked bulk acoustic resonator
US7525398B2 (en) 2005-10-18 2009-04-28 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustically communicating data signals across an electrical isolation barrier
US7600371B2 (en) 2005-10-18 2009-10-13 The Boeing Company Thrust reversers including support members for inhibiting deflection
US7423503B2 (en) 2005-10-18 2008-09-09 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustic galvanic isolator incorporating film acoustically-coupled transformer
US7737807B2 (en) 2005-10-18 2010-06-15 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustic galvanic isolator incorporating series-connected decoupled stacked bulk acoustic resonators
US7586392B2 (en) 2006-01-23 2009-09-08 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Dual path acoustic data coupling system and method
US7514844B2 (en) 2006-01-23 2009-04-07 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustic data coupling system and method

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