JP4786464B2 - Translucent cap member and manufacturing method thereof - Google Patents
Translucent cap member and manufacturing method thereof Download PDFInfo
- Publication number
- JP4786464B2 JP4786464B2 JP2006224515A JP2006224515A JP4786464B2 JP 4786464 B2 JP4786464 B2 JP 4786464B2 JP 2006224515 A JP2006224515 A JP 2006224515A JP 2006224515 A JP2006224515 A JP 2006224515A JP 4786464 B2 JP4786464 B2 JP 4786464B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- resist pattern
- metal plate
- cap member
- translucent cap
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 32
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 89
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 89
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 76
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 76
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 65
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 36
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 29
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 17
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 claims description 9
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXZUUHYBWMWJHK-UHFFFAOYSA-N [Co].[Ni] Chemical compound [Co].[Ni] QXZUUHYBWMWJHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 230000000994 depressogenic effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000002659 electrodeposit Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- KERTUBUCQCSNJU-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);disulfamate Chemical compound [Ni+2].NS([O-])(=O)=O.NS([O-])(=O)=O KERTUBUCQCSNJU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 235000011118 potassium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Led Device Packages (AREA)
- Light Receiving Elements (AREA)
Description
本発明は、表面実装用の透光性キャップ部材及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a translucent cap member for surface mounting and a method for manufacturing the same.
表面実装用キャップ部材及びその製造方法として、例えば特許文献1に開示されたものが知られている。この文献には、シリコン板を苛性カリの水溶液でエッチングしてリング状の凸部を形成し、その凸部の表面に錫のキャップ半田バンプを蒸着しパターニングして形成するキャップ部材の製造方法が開示されている。
しかしながら、上記特許文献に開示された製造方法では、表面の平滑性に優れたシリコン板が用いられるため、蒸着により形成されたキャップ半田バンプにおけるシリコン板への付着強度が低く、且つキャップ半田バンプの形成に時間を要し量産性に乏しい。 However, in the manufacturing method disclosed in the above patent document, since a silicon plate having excellent surface smoothness is used, the adhesion strength of the cap solder bump formed by vapor deposition to the silicon plate is low, and the cap solder bump It takes time to form and lacks mass productivity.
本発明は、上記の問題点を解消する為になされたものであり、付着強度が高く、量産性に優れた透光性キャップ部材及びその製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve the above problems, and an object thereof is to provide a translucent cap member having high adhesion strength and excellent mass productivity, and a method for producing the same.
本発明に係る透光性キャップ部材は、一方の面に凹部が形成された透明樹脂部材と、凹部の全周を取り囲むように連続的に設けられ透明樹脂部材に封止された金属板とを備え、金属板は、一方の面において端面が透明樹脂部材から露出していることを特徴とする。 The translucent cap member according to the present invention comprises a transparent resin member having a recess formed on one surface, and a metal plate continuously provided so as to surround the entire circumference of the recess and sealed by the transparent resin member. The end face of the metal plate is exposed from the transparent resin member on one side.
このように構成された透光性キャップ部材は、透明樹脂部材と金属板とを備えており、金属板を透明樹脂部材で樹脂封止することにより形成されたため、簡単に製造されることができ、優れた量産性が得られる。また、金属板は透明樹脂部材の一方の面において端面が透明樹脂部材から露出しており、他の面は封止されているので、金属板の透明樹脂部材への付着強度を高めることができる。更に、金属板は透明樹脂部材の一方の面において端面が透明樹脂部材から露出しているので、透光性キャップ部材が例えば半田付けされる半導体素子への金属板の付着強度を高めることができる。 The translucent cap member configured as described above includes a transparent resin member and a metal plate, and is formed by sealing the metal plate with the transparent resin member, so that it can be easily manufactured. Excellent mass productivity can be obtained. Moreover, since the end surface of the metal plate is exposed from the transparent resin member on one surface of the transparent resin member and the other surface is sealed, the adhesion strength of the metal plate to the transparent resin member can be increased. . Further, since the end surface of the metal plate is exposed from the transparent resin member on one surface of the transparent resin member, the adhesion strength of the metal plate to the semiconductor element to which the translucent cap member is soldered can be increased. .
本発明に係る透光性キャップ部材の製造方法は、上記の本発明に係る透光性キャップ部材を製造する方法であって、(1)凸部が設けられ導電性を有する基板の当該凸部を有する主面上に所定のレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、(2)レジストパターン形成工程において形成されたレジストパターンを除く基板の主面上に凸部の全周を取り囲むように導電性金属を連続的に電着して、金属板を形成する金属板電着工程と、(3)金属板電着工程の後に、基板からレジストパターンを除去するレジストパターン除去工程と、(4)レジストパターン除去工程の後に、基板の凸部を有する主面の形状に対応する形状を有する上型を用いて金属板を樹脂で覆う樹脂封止工程と、(5)樹脂封止工程の後に基板を除去する基板除去工程と、を備えることを特徴とする。この場合には、透光性キャップ部材を容易に量産することができる。 The manufacturing method of the translucent cap member which concerns on this invention is a method of manufacturing the translucent cap member which concerns on said this invention, Comprising: (1) The said convex part of the board | substrate which is provided with a convex part and has electroconductivity A resist pattern forming process for forming a predetermined resist pattern on the main surface having a conductive pattern, and (2) conductive so as to surround the entire circumference of the convex portion on the main surface of the substrate excluding the resist pattern formed in the resist pattern forming process. A metal plate electrodeposition step of continuously electrodepositing a conductive metal to form a metal plate; (3) a resist pattern removal step of removing the resist pattern from the substrate after the metal plate electrodeposition step; and (4) After the resist pattern removing step, a resin sealing step of covering the metal plate with a resin using an upper mold having a shape corresponding to the shape of the main surface having the convex portion of the substrate, and (5) the substrate after the resin sealing step Group to remove A removal step, characterized in that it comprises a. In this case, the translucent cap member can be easily mass-produced.
また、本発明に係る透光性キャップ部材の製造方法は、上記の本発明に係る透光性キャップ部材を製造する方法であって、(1)凸部が設けられ導電性を有する基板の当該凸部を有する主面上に所定のレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、(2)レジストパターン形成工程において形成されたレジストパターンを除く基板の主面上に凸部の全周を取り囲むように導電性金属を連続的に電着して、金属板を形成する金属板電着工程と、(3)金属板電着工程の後に、基板からレジストパターンを除去するレジストパターン除去工程と、(4)レジストパターン除去工程の後に、平板状の上型を用いて金属板を樹脂で覆う樹脂封止工程と、(5)樹脂封止工程の後に基板を除去する基板除去工程と、を備えることを特徴とする。この場合には、透光性キャップ部材を容易に量産することができる。 Moreover, the manufacturing method of the translucent cap member which concerns on this invention is a method of manufacturing the above-mentioned translucent cap member which concerns on this invention, Comprising: (1) The said board | substrate of a board | substrate which is provided with a convex part and has electroconductivity A resist pattern forming step of forming a predetermined resist pattern on the main surface having the convex portion, and (2) surrounding the entire circumference of the convex portion on the main surface of the substrate excluding the resist pattern formed in the resist pattern forming step. A metal plate electrodeposition step of continuously electrodepositing a conductive metal to form a metal plate, and (3) a resist pattern removal step of removing the resist pattern from the substrate after the metal plate electrodeposition step; 4) After the resist pattern removing step, a resin sealing step of covering the metal plate with a resin using a flat upper mold, and (5) a substrate removing step of removing the substrate after the resin sealing step. Features . In this case, the translucent cap member can be easily mass-produced.
本発明によれば、付着強度が高く、量産性に優れた透光性キャップ部材及びその製造方法を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a translucent cap member having high adhesion strength and excellent mass productivity, and a method for producing the same.
以下、添付図面を参照して、本発明を実施するための最良の形態を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一又は同等の構成要素には、同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。 The best mode for carrying out the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. In the description of the drawings, the same or equivalent components are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.
(第1実施形態)
まず、本発明に係る透光性キャップ部材及びその製造方法の第1実施形態について説明する。図1は、第1実施形態に係る透光性キャップ部材1の上面図、断面図および底面図である。同図(a)は上面図を示し、同図(b)は断面図を示し、同図(c)は底面図を示す。この図に示される透光性キャップ部材1は、一方の面30aに凹部12が形成された透明樹脂部材30と、凹部12の全周に亘って設けられ透明樹脂部材30に封止された金属板26とを備えている。
(First embodiment)
First, 1st Embodiment of the translucent cap member which concerns on this invention, and its manufacturing method is described. FIG. 1 is a top view, a cross-sectional view, and a bottom view of the
具体的には、透光性キャップ部材1は、透光性キャップ部材1の中央位置に配置された円板状の窓部10と、窓部10の周りに設けられ窓部10を支持する枠部20とから一体に形成されている。さらに枠部20は、窓部10と平行する平坦部24と、平坦部24及び窓部10を連結する連結部22とから階段状に構成されている。連結部22は、その上端が窓部10の端部と、下端が平坦部24の端部とそれぞれ連結され、上端から下端に向けて広がる円錐台形状をなしており、周囲から窓部10を取り囲むように連続的に形成されている。このように窓部10が枠部20に支持されることにより、窓部10の下部に円錐台状の凹部12が形成される。また、平坦部24の底面24aが透明樹脂部材30の一方の面30aを形成している。
Specifically, the
平坦部24の内部には、円環状の金属板26が凹部12の全周を囲むように連続的に設けられ透明樹脂部材30により封止されている。透明樹脂部材30の一方の面30aにおいて金属板26の下面26aが透明樹脂部材30から露出すると共に平坦部24の底面24aと同一平面上に形成されており、金属板26の他の平面は透明樹脂部材30により覆われている。
An
窓部10及び枠部20(すなわち、連結部22と平坦部24)を形成する透明樹脂部材30としては、樹脂封止に用いられる透明樹脂が用いられ、例えば透光性キャップ部材1と光学的に接続される発光素子の発光波長または受光素子の受光波長に対し透明である熱硬化型のエポキシ透明樹脂やシリコーン透明樹脂等が挙げられる。
As the
このように構成された透光性キャップ部材1は透明樹脂部材30を用いて金属板26を樹脂封止することにより形成されたため、簡単に製造され、優れた量産性が得られる。そして、金属板26は凹部12の全周を取り囲むように連続的に設けられるので、透明樹脂部材30から露出した金属板26の下面26aが例えば受光素子上に連続的に半田付けされることで、透光性キャップ部材1は該受光素子に実装されることができると共に、凹部12の密閉性を容易に確保することができる。
Since the
このような透光性キャップ部材1は、パッケージに入れられることなく、樹脂封止された形態のままであるので、小型化及び薄型化が可能となると共に、受光素子等の他部品上における表面実装の密度の向上が可能である。
Since such a
また、金属板26は透明樹脂部材30により封止され、その下面26aが透明樹脂部材30から露出しているため、金属板26の透明樹脂部材30への付着強度が高く得られると共に、金属板26は位置合わせ手段として機能し、透光性キャップ部材1を他部品に実装する際に他部品との位置合わせ作業を簡単に行うことができる。例えば透光性キャップ部材1を受光素子に実装する場合に、設計段階において受光素子の電極パッドの位置と合わせて金属板26の位置を設定し、透光性キャップ部材1の金属板26を受光素子の電極パッドに半田等で直接に載置し、リフローすることで、簡単に透光性キャップ部材1の位置を決めることができ、歩留まりよく実装することができる。また、半田による実装を行う際にセルフアライメントにより透光性キャップ部材1と他部品と接続することができるため、高精度の位置合わせを容易に実施することができる。
Further, since the
さらに、透光性キャップ部材1が金属板26を透明樹脂部材30で樹脂封止することにより形成され、金属板26は下面26aを除いて透明樹脂部材30により取り込まれている。このため、透光性キャップ部材1の厚さを薄くすることができ、透光性キャップ部材1の薄型化が可能となる。
Further, the
次に、第1実施形態に係る透光性キャップ部材1を製造する方法について説明する。図2は、第1実施形態に係る透光性キャップ部材1を製造する方法を説明するフローチャートである。図3および図4は、第1実施形態に係る透光性キャップ部材1を製造する方法を説明する工程図である。これらの図では、複数個(図示では4個)の透光性キャップ部材1を同時に製造する場合を示している。
Next, a method for manufacturing the
初めに、基板加工工程(ステップS1)では、導電性を有する基板40の片面に凸部40aが形成される(図3(a),(b))。ここで用いられる基板40は、両面が平坦な金属板であり、厚みが例えば0.1mmであり、例えばステンレススチール,アルミニウムおよび銅などからなる。基板40の片面に製造される透光性キャップ部材1の凹部12に対応する凸部40aが形成されるように加工を施す。
First, in the substrate processing step (step S1), the
基板加工工程(ステップS1)に続くレジストパターン形成工程(ステップS2)では、凸部40aが設けられた基板40の凸部40aを有する主面上に所定のレジストパターン42が形成される。基板40の主面に主面の凹凸形状に沿ってレジスト42が塗布され、他方の平面にレジスト44が塗布される(図3(c))。ここで塗布されるレジストは、例えば厚み50μmのアルカリタイプの感光性フィルムレジストである。このレジストが塗布された基板40の主面上に所定パターンのマスクが配され、この状態で紫外線照射による両面露光が行われ、現像処理が行われる。これにより、基板40の主面上のレジストが硬化し、所定のレジストパターン42が形成される(図3(d))。
In a resist pattern forming step (step S2) subsequent to the substrate processing step (step S1), a predetermined
レジストパターン形成工程(ステップS2)に続く金属板電着工程(ステップS3)では、レジストパターン42を除く基板40の主面の露出部上に凸部40aの全周を取り囲むように導電性金属が連続的に電着されて、基板40の主面上に金属板26が形成される(図3(e))。なお、この電着の前に、必要に応じて化学エッチングによる表面酸化被膜除去や薬品による化学処理等の表面活性化処理が行われる。例えば、電着物としてはニッケルやニッケル−コバルト合金、銅その他種々の金属が用いられ、また、スルファミン酸ニッケルの無光沢浴が使用され、レジストパターン42の厚さ程度の40〜50μmの厚さで金属板26が形成される。なお、必要に応じて、金属板26の表面に結着力向上用の金メッキ等を0.3〜0.4μm厚で行うのが好ましい。
In the metal plate electrodeposition step (step S3) subsequent to the resist pattern formation step (step S2), the conductive metal is formed so as to surround the entire periphery of the
金属板電着工程(ステップS3)に続くレジストパターン除去工程(ステップS4)では、基板40からレジスト42,44が除去される(図3(f))。レジスト除去方法としては、アルカリ溶液による膨潤除去の方法等が可能である。 In the resist pattern removal step (step S4) subsequent to the metal plate electrodeposition step (step S3), the resists 42 and 44 are removed from the substrate 40 (FIG. 3 (f)). As a resist removal method, a swelling removal method using an alkaline solution or the like is possible.
レジストパターン除去工程(ステップS4)に続く樹脂封止工程(ステップS5)では、金属板26は透明樹脂部材30により覆われて封止される。このとき具体的には、基板40の凸部40aを有する主面の形状に対応する形状を有するモールド金型(上型)50を用い基板40の上面に装着し(図4(a))、そのモールド金型内のキャビティに透明樹脂部材30を圧入する。透明樹脂部材30としては、例えば発光波長あるいは受光波長の光に対して透明な熱硬化型エポキシ樹脂等が用いられることが好適である。このとき、基板40は樹脂モールド時における下型の機能を果たす。これにより、モールド金型50と基板40との間に透明樹脂部材30が流れ込み、基板40上に複数の窓部10等が配列されて透明樹脂部材30により一体的に封止された形態となる(図4(b))。なお、モールド時に複数の基板40を並列に配置して、透明樹脂部材30をランナーにより各基板40とモールド金型50との間に分配して圧入するようにすれば、効率よく多数の樹脂封止を行うことが可能である。そして、透明樹脂部材30が硬化した後にモールド金型50を取り外し、樹脂封止工程が終了する(図4(c))。
In the resin sealing step (step S5) subsequent to the resist pattern removing step (step S4), the
樹脂封止工程(ステップS5)に続く基板除去工程(ステップS6)では、基板40が除去されることにより、金属板26の下面26aが露出した樹脂封止体が得られる(図4(d))。基板40を除去する方法としては、樹脂封止体から基板40を機械的に引き剥がす等の強制的に剥離除去する方法の他、基板40等を構成する材質に応じては、樹脂封止体側への影響のない溶剤等により基板40を溶解して除去する方法も可能である。金属板26の下面26a及び平坦部24の底面24aは同一平面上にある。なお、本工程後に必要に応じて、金属板26の下面26aに、実装用に金及び銀等の導電性金属層の薄膜をフラッシュメッキ等の方法により0.3〜0.5μm厚で形成するようにしてもよい。
In the substrate removal step (step S6) subsequent to the resin sealing step (step S5), the resin sealing body in which the
基板除去工程(ステップS6)に続く切断工程(ステップS7)では、図4(d)中において破線で示される切断線に沿って上記の樹脂封止体が切断されて、これにより、個々の透光性キャップ部材1(図1)が製造される。 In the cutting step (step S7) subsequent to the substrate removal step (step S6), the resin sealing body is cut along the cutting line indicated by the broken line in FIG. The optical cap member 1 (FIG. 1) is manufactured.
このように金属板26を透明樹脂部材30で樹脂封止することにより透光性キャップ部材1が形成されるため、透光性キャップ部材1は容易に量産されることができ、製造コストを削減する効果をもたらす。
Thus, since the
次に、透光性キャップ部材1の変形例について図5を参照して説明する。図5(a)の変形例では、金属板262はその下面262aが平坦部24の底面24a(透明樹脂部材30の一方の面30a)から透光性キャップ部材1の外側に突出するように形成されている。この場合には、上記の実施形態と同様に透光性キャップ部材1は簡単に製造されることができ、優れた量産性が得られると共に金属板の透明樹脂部材への付着強度を高めることができる。さらに、金属板262の下面262aが平坦部24の底面24aから透光性キャップ部材1の外側に突出することにより、実装時に半田の流れによる短絡等を防止する効果が期待できる。なお、この場合の透光性キャップ部材1の製造方法では、用いられる基板は導電性金属が電着されるべき領域(すなわち、金属板262が形成される領域)が平坦部24の底部24aが形成される領域に対して窪むように加工されることが必要である。
Next, a modification of the
図5(b)の変形例では、金属板264はその下面264aが平坦部24の底面24aから透光性キャップ部材1の内側に窪むように形成されている。この場合には、上記の実施形態と同様に透光性キャップ部材1は簡単に製造されることができ、優れた量産性が得られると共に金属板の透明樹脂部材への付着強度を高めることができる。さらに、金属板264の下面264aが平坦部24の底面24aから透光性キャップ部材1の内側に窪むことにより、実装時に半田の流れによる短絡等を防止する効果が期待できる。なお、この場合の透光性キャップ部材1の製造方法では、用いられる基板は導電性金属が電着されるべき領域(すなわち、金属板264が形成される領域)が平坦部24の底部24aが形成される領域に対して突出するように加工されることが必要である。
5B, the
(第2実施形態)
次に、本発明に係る透光性キャップ部材の第2実施形態について説明する。図6は、第2実施形態に係る透光性キャップ部材2の上面図、断面図および底面図である。同図(a)は上面図を示し、同図(b)は断面図を示し、同図(c)は底面図を示す。この図に示される透光性キャップ部材2は、ほぼ直方体形状をなしており、一方の面80aに凹部12が形成された透明樹脂部材80と、凹部12の全周に亘って設けられた透明樹脂部材80に封止された金属板26とを備えている。具体的には、透光性キャップ部材2は、透光性キャップ部材2の中央位置に配置された円板状の窓部60と、窓部60の周りに設けられ窓部60を支持する枠部70とから一体に形成されている。
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment of the translucent cap member according to the present invention will be described. FIG. 6 is a top view, a cross-sectional view, and a bottom view of the
図6に示される第2実施形態に係る透光性キャップ部材2と上記第1実施形態との相違点は、透光性キャップ部材1のように階段状に形成されておらず、枠部70の上面70aと窓部60の上面60aとが同一平面に形成されることである。第2実施形態に係る透光性キャップ部材2のその他の構成については、第1実施形態と同様な構造を有するため説明を省略する。
The difference between the
このような構成とすることにより、第2実施形態に係る透光性キャップ部材2は、上記の第1実施形態と同様に金属板26の透明樹脂部材80への付着強度が高く得られると共に優れた量産性が可能となる。また、表面実装する際に他部品との位置合わせ作業を簡単に行うことができる。さらに、本実施形態は枠部70の上面70aと窓部60の上面60aとが同一平面に形成される特徴を有するため、枠部70の厚さを厚くすることができ、透光性キャップ部材2の機械的強度を高めることができる。
With such a configuration, the
次に、第2実施形態に係る透光性キャップ部材2を製造する方法について説明する。第2実施形態に係る透光性キャップ部材2を製造する方法を説明するフローチャートは第1実施形態と同様である。また、製造工程において、基板加工工程(ステップS1)からレジストパターン除去工程(ステップS4)までは上述した第1実施形態と同様であるため、説明を省略する。以下、第2実施形態に係る透光性キャップ部材2の製造方法の特徴について図7を参照し説明する。なお、図7では複数個(図示では4個)の透光性キャップ部材2を同時に製造する場合を示している。
Next, a method for manufacturing the
レジストパターン除去工程(ステップS4)に続く樹脂封止工程(ステップS5)では、金属板26は透明樹脂部材80により覆われて封止される。このとき具体的には、平板状のモールド金型(上型)90を用い基板40の上面に装着し(図7(a))、そのモールド金型内のキャビティに透明樹脂部材80を圧入する。透明樹脂部材80としては、例えば発光波長あるいは受光波長の光に対して透明な熱硬化型エポキシ樹脂等が用いられることが好適である。このとき、基板40は樹脂モールド時における下型の機能を果たす。これにより、モールド金型90と基板40との間に透明樹脂部材80が流れ込み、基板40上に複数の窓部60等が配列されて透明樹脂部材80により一体的に封止された形態となる(図7(b))。なお、モールド時に複数の基板40を並列に配置して、透明樹脂部材80をランナーにより各基板40とモールド金型90との間に分配して圧入するようにすれば、効率よく多数の樹脂封止を行うことが可能である。そして、透明樹脂部材80が硬化した後にモールド金型90を取り外し、樹脂封止工程が終了する(図7(c))。
In the resin sealing step (step S5) subsequent to the resist pattern removing step (step S4), the
樹脂封止工程(ステップS5)に続く基板除去工程(ステップS6)では、基板40が除去されることにより、金属板26の下面26aが露出した樹脂封止体が得られる(図7(d))。基板40を除去する方法としては、樹脂封止体から基板40を機械的に引き剥がす等の強制的に剥離除去する方法の他、基板40等を構成する材質に応じては、樹脂封止体側への影響のない溶剤等により基板40を溶解して除去する方法も可能である。金属板26の下面26a及び平坦部24の底面24aは同一平面上にある。なお、本工程後に必要に応じて、金属板26の下面26aに、実装用に金及び銀等の導電性金属層の薄膜をフラッシュメッキ等の方法により0.3〜0.5μm厚で形成するようにしてもよい。
In the substrate removal process (step S6) subsequent to the resin sealing process (step S5), the resin sealing body in which the
基板除去工程(ステップS6)に続く切断工程(ステップS7)では、図7(d)中において破線で示される切断線に沿って上記の樹脂封止体が切断されて、これにより、個々の透光性キャップ部材2(図6)が製造される。 In the cutting step (step S7) subsequent to the substrate removing step (step S6), the resin sealing body is cut along the cutting line indicated by the broken line in FIG. The optical cap member 2 (FIG. 6) is manufactured.
このように金属板26を透明樹脂部材80により樹脂封止することにより透光性キャップ部材2が形成されるため、透光性キャップ部材2は簡単に量産されることができ、製造コストを削減する効果をもたらす。
Thus, since the
なお、第2実施形態に係る透光性キャップ部材2についても、第1実施形態に係る透光性キャップ部材1と同様な変形例(図5)を採用することが可能である。その説明を省略する。
It should be noted that a similar modification (FIG. 5) to the
本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。例えば、上記の実施形態では、金属板は透光性キャップ部材の一方の面において端面が透明樹脂部材から露出するが、透明樹脂部材を貫通するように両端面とも透明樹脂部材から露出してもよい。また、窓部及び枠部の形状は上記の実施形態に限らず、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲での種々の変更が可能である。 The present invention is not limited to the above embodiment. For example, in the above embodiment, the end face of the metal plate is exposed from the transparent resin member on one side of the translucent cap member, but both end faces may be exposed from the transparent resin member so as to penetrate the transparent resin member. Good. Moreover, the shape of a window part and a frame part is not restricted to said embodiment, A various change in the range which does not deviate from the technical idea of this invention is possible.
1,2…透光性キャップ部材、10,60…窓部、12…凹部、20,70…枠部、26,262,264…金属板、30,80…透明樹脂部材、40…基板、40a…凸部、42,44…レジスト、50,90…モールド金型(上型)。
DESCRIPTION OF
Claims (3)
前記凹部の全周を取り囲むように連続的に設けられ前記透明樹脂部材に封止された金属板と、
を備え、
前記金属板は、前記一方の面において端面が前記透明樹脂部材から露出している、
ことを特徴とする透光性キャップ部材。 A transparent resin member having a recess formed on one surface;
A metal plate continuously provided so as to surround the entire circumference of the recess and sealed with the transparent resin member;
With
The metal plate has an end surface exposed from the transparent resin member on the one surface,
The translucent cap member characterized by the above-mentioned.
凸部が設けられ導電性を有する基板の当該凸部を有する主面上に所定のレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、
前記レジストパターン形成工程において形成されたレジストパターンを除く前記基板の主面上に前記凸部の全周を取り囲むように導電性金属を連続的に電着して、金属板を形成する金属板電着工程と、
前記金属板電着工程の後に、前記基板から前記レジストパターンを除去するレジストパターン除去工程と、
前記レジストパターン除去工程の後に、前記基板の前記凸部を有する主面の形状に対応する形状を有する上型を用いて前記金属板を樹脂で覆う樹脂封止工程と、
前記樹脂封止工程の後に前記基板を除去する基板除去工程と、
を備えることを特徴とする透光性キャップ部材製造方法。 A method for producing the translucent cap member according to claim 1,
A resist pattern forming step of forming a predetermined resist pattern on the main surface having the convex portions of the conductive substrate provided with the convex portions;
A metal plate electrode is formed by continuously electrodepositing a conductive metal on the main surface of the substrate excluding the resist pattern formed in the resist pattern forming step so as to surround the entire circumference of the convex portion. Wearing process,
After the metal plate electrodeposition step, a resist pattern removal step of removing the resist pattern from the substrate,
After the resist pattern removing step, a resin sealing step of covering the metal plate with a resin using an upper mold having a shape corresponding to the shape of the main surface having the convex portion of the substrate,
A substrate removal step of removing the substrate after the resin sealing step;
The translucent cap member manufacturing method characterized by comprising.
凸部が設けられ導電性を有する基板の当該凸部を有する主面上に所定のレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、
前記レジストパターン形成工程において形成されたレジストパターンを除く前記基板の主面上に前記凸部の全周を取り囲むように導電性金属を連続的に電着して、金属板を形成する金属板電着工程と、
前記金属板電着工程の後に、前記基板から前記レジストパターンを除去するレジストパターン除去工程と、
前記レジストパターン除去工程の後に、平板状の上型を用いて前記金属板を樹脂で覆う樹脂封止工程と、
前記樹脂封止工程の後に前記基板を除去する基板除去工程と、
を備えることを特徴とする透光性キャップ部材製造方法。
A method for producing the translucent cap member according to claim 1,
A resist pattern forming step of forming a predetermined resist pattern on the main surface having the convex portions of the conductive substrate provided with the convex portions;
A metal plate electrode is formed by continuously electrodepositing a conductive metal on the main surface of the substrate excluding the resist pattern formed in the resist pattern forming step so as to surround the entire circumference of the convex portion. Wearing process,
After the metal plate electrodeposition step, a resist pattern removal step of removing the resist pattern from the substrate,
After the resist pattern removing step, a resin sealing step of covering the metal plate with a resin using a flat upper mold,
A substrate removal step of removing the substrate after the resin sealing step;
The translucent cap member manufacturing method characterized by comprising.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006224515A JP4786464B2 (en) | 2006-08-21 | 2006-08-21 | Translucent cap member and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006224515A JP4786464B2 (en) | 2006-08-21 | 2006-08-21 | Translucent cap member and manufacturing method thereof |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008047827A JP2008047827A (en) | 2008-02-28 |
| JP4786464B2 true JP4786464B2 (en) | 2011-10-05 |
Family
ID=39181240
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006224515A Expired - Fee Related JP4786464B2 (en) | 2006-08-21 | 2006-08-21 | Translucent cap member and manufacturing method thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4786464B2 (en) |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02246250A (en) * | 1989-03-20 | 1990-10-02 | Hitachi Ltd | Sealing cap |
| JP3685114B2 (en) * | 1992-06-23 | 2005-08-17 | ソニー株式会社 | Solid-state imaging device |
| JP2760342B2 (en) * | 1996-05-31 | 1998-05-28 | 日本電気株式会社 | Cap for electronic component package, mold for manufacturing electronic component package, and method of manufacturing these |
| JP2000174151A (en) * | 1998-12-10 | 2000-06-23 | Sharp Corp | Hermetic sealing structure of semiconductor mounting substrate and method of manufacturing the same |
| JP2001203291A (en) * | 2000-01-20 | 2001-07-27 | Rohm Co Ltd | Chip type semiconductor device |
| JP4055373B2 (en) * | 2001-05-31 | 2008-03-05 | 日亜化学工業株式会社 | Method for manufacturing light emitting device |
| JP2004165181A (en) * | 2002-06-26 | 2004-06-10 | Kyocera Corp | Semiconductor element storage package and semiconductor device |
| JP4797621B2 (en) * | 2005-06-30 | 2011-10-19 | 日亜化学工業株式会社 | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
-
2006
- 2006-08-21 JP JP2006224515A patent/JP4786464B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2008047827A (en) | 2008-02-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4911727B2 (en) | Manufacturing method of semiconductor device | |
| KR20110130458A (en) | Semiconductor element substrate, manufacturing method thereof, and semiconductor device | |
| KR20110081813A (en) | Lead Frame Substrate, Method of Manufacturing the Same, and Semiconductor Device | |
| KR20110074514A (en) | Lead frame substrates and manufacturing methods thereof, and semiconductor devices | |
| JP2019169729A (en) | Semiconductor device substrate and semiconductor device | |
| JP5154039B2 (en) | Semiconductor device and semiconductor device manufacturing method | |
| JP2023164634A (en) | Substrate for semiconductor device, its manufacturing method, and semiconductor device | |
| KR20120010044A (en) | Leadframe manufacturing method and leadframe and semiconductor package manufacturing method and semiconductor package accordingly | |
| JP7506564B2 (en) | Lead frame, semiconductor device, and method of manufacturing lead frame | |
| JP2008047834A (en) | Semiconductor device and semiconductor device manufacturing method | |
| JP6524526B2 (en) | Semiconductor element mounting substrate and semiconductor device, and methods of manufacturing the same | |
| JP4786464B2 (en) | Translucent cap member and manufacturing method thereof | |
| JP2011108818A (en) | Lead frame manufacturing method and semiconductor device manufacturing method | |
| JP7339231B2 (en) | Substrates for semiconductor devices, semiconductor devices | |
| JP6610927B2 (en) | OPTICAL SEMICONDUCTOR DEVICE, ITS MANUFACTURING METHOD, AND OPTICAL SEMICONDUCTOR ELEMENT MOUNTING BOARD MANUFACTURING METHOD | |
| JP6676854B2 (en) | Lead frame, and method of manufacturing lead frame and semiconductor device | |
| JP5565819B2 (en) | Semiconductor device substrate and semiconductor device | |
| JP2008263018A (en) | Semiconductor device substrate and semiconductor device | |
| JP2008046558A (en) | Optical lens and method for manufacturing the same | |
| JP4786465B2 (en) | Optical mask member and manufacturing method thereof | |
| JP5098452B2 (en) | Manufacturing method of semiconductor device | |
| JP3993218B2 (en) | Manufacturing method of semiconductor device | |
| JP2007013067A (en) | Manufacturing method of mounting substrate with reflector | |
| JP6460407B2 (en) | Semiconductor element mounting substrate, semiconductor device and manufacturing method thereof | |
| JP2018029214A (en) | Semiconductor device and manufacturing method of semiconductor device |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090612 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110621 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110712 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110713 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140722 Year of fee payment: 3 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |