JP4793851B2 - カラーフィルタ基板のステージ装置及び検査装置 - Google Patents

Description

本発明はカラーフィルタ基板のステージ装置及びそれを用いた検査装置に関する。

液晶ディスプレイ用カラーフィルタの製造工程において、歩留りを改善するためにカラーフィルタ基板中の欠陥を検出、修正している。このような、欠陥を検出する検査装置では、ステージの上に基板を載置して光学的に欠陥の検出を行なっている。この場合、透過像を観察するために、透明なステージの上に基板を載置する。そして、例えば、基板の上部に検出器を配置し、透明ステージの下部に照明光源を配置して、基板の透過像を撮像している。このような透明ステージには、通常、ガラス基板などが用いられる。基板上の微細な欠陥を正確に検出するためには、基板が振動しないことが望まれる。

近年、生産性の向上のため液晶ディスプレイ用カラーフィルター基板のサイズは大型化しており、例えば、約２２００×２４００ｍｍのガラス基板が用いられている。カラーフィルタ基板の大型化に伴い、それを載置するための透明ステージも大型化を招いてしまう。そのため、制振対策がより重要となる。しかしながら、透明なガラスステージの厚さには、制限があって一定以上の厚さにすることが困難である。

また、振動を制振するため音波発生器を備えた装置が開示されている（特許文献１）。しかしながら、この装置では、ステージ上に載置された基板の振動を低減することが困難であった。基板が振動してしまうと、欠陥の検出を正確に行なうことができなくなってしまう。

特開昭６４−８７９３４号公報

このように従来の検査装置では、基板が振動してしまい、欠陥の検出を正確に行なうことができなくなってしまうという問題点があった。
本発明は上述の問題点に鑑みてなされたものであって、振動が低減されたカラーフィルタ基板のステージ装置及びそれを用いた検査装置を提供することを目的とする。

本発明の第１の態様にかかるカラーフィルタ基板のステージ装置は、カラーフィルター基板が載置されるステージと、前記ステージの周辺部を支持するフレームと、前記ステージを支持する前記ステージの下側に昇降可能に配置された制振部材と、前記ステージの下に配置され、移動可能に設けられた可動レールとを備え、前記制振部材が第１の制振部材と、前記第１の制振部材と前記可動レールの移動方向において異なる位置に配置された第２の制振部材を有し、前記第１の制振部材に対応する位置に前記可動レールが移動したときに、前記第と１の制振部材が下降状態となり、前記第２の制振部材が前記ステージを支持するものである。これにより、振動を低減することができる。

本発明の第２の態様にかかるカラーフィルタ基板のステージ装置は、カラーフィルター基板が載置されるステージと、前記ステージの下に配置され、移動可能に設けられた可動レールと、前記ステージを支持するよう前記ステージの下側に昇降可能に配置され、前記可動レールとともに移動するよう前記可動レールに取り付けられた制振部材とを備えるものである。これにより、振動を低減することができる。

本発明の第３の態様にかかるカラーフィルタ基板のステージ装置は、上記のステージ装置において、前記可動レールに取り付けられ、当該可動レールに沿って移動可能に設けられた駆動ヘッドをさらに備え、前記制振部材が前記駆動ヘッドとともに移動するよう設けられているものである。これにより、観察点の近傍を支持することができるため、振動をより低減することができる。

本発明の第４の態様にかかるカラーフィルタ基板のステージ装置は、上記のステージ装置において、前記制振部材の先端にダンパーが設けられているものである。これにより、振動をより低減することができる。

本発明の第５の態様にかかるカラーフィルタ基板のステージ装置は、上記のステージ装置において、前記ステージの下に配置された固定架台と、振動を検出する振動センサと、前記振動センサからの出力振動を位相反転させる位相反転器と、前記固定架台に取付られ、前記位相反転器からの振動に基づいて前記ステージの下に音波を出力する振動キャンセラとをさらに備えるものである。これにより、振動をより低減することができる。

本発明の第６の態様にかかるカラーフィルタ基板のステージ装置は、固定架台と、前記固定架台の上に配置され、カラーフィルター基板が載置されるステージと、振動を検出する振動センサと、前記振動センサからの出力振動を位相反転させる位相反転器と、前記固定架台に取付られ、前記位相反転器からの振動に基づいて前記ステージの下に音波を出力する振動キャンセラとを備えるものである。これにより、振動をより低減することができる。

本発明の第７の態様にかかるカラーフィルタ基板の検査装置は、上記のいずれかに記載のステージ装置と、前記ステージ装置に対して移動可能に設けられた検査ヘッドとを備えるものである。これにより、振動をより低減することができるため、正確に検査を行うことができる。

本発明は振動を低減することができるカラーフィルタ基板のステージ装置及びそれを用いた検査装置を提供することができる。

本発明の実施例について以下に図面を参照して説明する。以下の説明は、本発明の好適な実施例を示すものであって、本発明の範囲が以下の実施例に限定されるものではない。以下の説明において、同一の符号が付されたものを実質的に同様の内容を示している。
発明の実施の形態１．

本発明にかかるパターン基板の欠陥修正装置について図１、図２及び図３を用いて説明する。図１は欠陥修正装置の構成を模式的に示す上面図である。図２は検査ヘッドの位置における欠陥修正装置の構成を示す側面図である。図３は制振ロッドの位置における欠陥修正装置の構成を示す側面図である。６は基板、７はステージ、２１は制振ロッド、２２は駆動機構、２３はダンパー、２６はエアダンパー、２７は固定架台、３１は架台、３２はＹレール、３３はフレーム、３４はＸレール、３５は検査ヘッド、３６は可動レール、３７は光源ヘッドである。ここでは、基板を液晶表示装置等の表示装置に用いられるカラーフィルタ基板として説明する。カラーフィルタ基板はＲ、Ｇ、Ｂの三色の着色層と着色層の間に設けられた遮光層とを備えている。本発明にかかる欠陥修正装置ではステージの下に配置された光源ヘッド３７に設けられた透過照明光源により基板６を裏面側から照明している。そして、基板６の上に配置された検査ヘッド３５に設けられているカメラで透過像を撮像している。これにより、基板の基板６の欠陥を光学的に検出することができる。そして検出した欠陥に対してリペアを行なう。

図２に示すように固定架台２７の上には、エアダンパー２６を介して架台３１が設けられている。固定架台２７は、例えば、床面に対して据え付けられ、固定されている。固定架台２７の上に設けられたエアダンパー２６の上に架台３１が配置されている。これにより、床が振動した場合でも、エアダンパー２６によって振動が吸収される。架台３１の上には、額縁状のフレーム３３が設けられている。この額縁状のフレーム３３の上に、透明なガラス板から構成されるステージ７が設けられる。すなわち、ステージ７の外周近傍がフレーム３３によって支持される。フレーム３３は架台３１に対して固定され、ステージ７はフレーム３３に対して固定されている。ステージ７の上には上面にカラーフィルタが作成された基板６が載置される。なお、ステージ７をＸ−Ｙ−Ｚステージとしてもよい。ステージ７は、例えば、厚さが１９ｍｍの透明なガラス基板であり、下からの照明光を透過する。

ステージ７の外側にはＹレール３２が設けられている。Ｙレール３２はＹ方向に沿ってステージ７の両側に配設されている。この２本のＹレール３２の上にはＸレール３４が設けられている。Ｘレール３４は基板６をまたぐよう、Ｘ方向に沿って設けられている。Ｘレール３４には検査ヘッド３５が取り付けられている。検査ヘッド３５はＸレール３４に対して移動可能に設けられている。これにより、検査ヘッド３５がＸ方向に沿って移動する。検査ヘッド３５には後述するように、欠陥を検出するための欠陥検出機構及び欠陥を修正するための欠陥修正機構が設けられている。

さらに、Ｘレール３４はＹレール３２に対して移動可能に設けられている。これにより、Ｘレール３４がＹ方向に移動する。従って、検査ヘッド３５は基板６の上をＸＹ方向に移動する。すなわち、検査ヘッド３５をＸ方向に移動させ、検査ヘッド３５が取り付けられたＸレール３４をＹ方向に移動させることで、検査ヘッド３５を２次元的に移動させることができる。これにより、基板６全面に対して欠陥の検出及び修正を行うことができる。また、欠陥修正装置のフットプリントを小さくすることができるため、生産性を向上することができる。検査ヘッド３５やＸレール３４の駆動は、ＡＣサーボモータなどの公知の方法を用いて行なうことができる。

ステージ７の下側には、可動レール３６が設けられている。可動レール３６には、光源ヘッド３７が取り付けられている。可動レール３６は、フレーム３３あるいは、架台３１に対して取り付けられている。光源ヘッド３７は検査ヘッド３５と同様にＸＹ方向に移動可能に設けられている。すなわち、光源ヘッド３７はＸ方向に移動可能に設けられ、可動レール３６がＹ方向に移動可能に設けられている。そして、光源ヘッド３７がＸ方向にスライドし、可動レール３６がＹ方向にスライドすることで、光源ヘッド３７を２次元的に駆動させることができる。可動レール３６は、基板６の略全体を照明することができるよう、Ｘ方向においてステージ７の幅方向の略全体にわたって設けられている。さらに、光源ヘッド３７は検査ヘッド３５の移動に追従して移動することが可能である。すなわち、検査ヘッド３５が移動した場合、検査ヘッド３５が移動した方向に同じ距離だけ、光源ヘッド３７が移動する。これにより、ＸＹ平面において、光源ヘッド３７が検査ヘッド３５と同じ位置に移動する。具体的には、処理装置（図示せず）からの移動命令に対応する座標に光源ヘッド３７及び検査ヘッド３５が移動する。光源ヘッド３７には、透過照明用の透過照明光源が設けられている。この光源ヘッド３７については後述する。

さらに、ステージ７の下には、図３に示すように制振ロッド２１が設けられている。図１に示すように制振ロッド２１はステージ７の中央近傍の４箇所でステージ７を支持している。すなわち、２つの制振ロッド２１がＸ方向に沿って配置され、さらにその２つの制振ロッド２１に対してＹ方向に沿って制振ロッド２１が配置されている。換言すると、Ｘ方向に２列の制振ロッド２１が配置され、Ｙ方向に２列の制振ロッド２１が配置されている。この４つの制振ロッド２１昇降可能とするため、図３に示すように架台３１には駆動機構２２が取り付けられている。すなわち、モータなどを備えた駆動機構２２を駆動させることで、制振ロッド２１を昇降させることができる。制振ロッド２１を上昇状態したとき、制振ロッド２１の先端がステージ７の下面と当接する。すなわち、制振ロッド２１の上面と、ステージ７の下面が接触する。これにより、ステージ７の振動を低減することができる。制振ロッド２１に先端部分には、オイルダンパーなどのダンパー２３を設けることが好ましい。これにより、ステージ７の振動を吸収することができる。制振ロッド２１のステージ７と接触する先端部分は、樹脂材料で構成している。

Ｙ方向に配置された２列の制振ロッド２１は、それぞれの列ごとに独立して昇降するように設けられている例えば、図４に示すように、Ｙ方向に異なる位置に設けられている２本の制振ロッド２１をそれぞれ制振ロッド２１ａ、２１ｂとする。そして、それぞれの制振ロッド２１ａ、２１ｂに対して駆動機構２２を設ける。光源ヘッド３７及び可動レール３６が制振ロッド２１ａの位置に移動する場合、制振ロッド２１ａが下降した状態となり、制振ロッド２１ｂが上昇した状態となる。このとき、Ｙ方向において同じ位置に設けられている２本の制振ロッド２１ａが同時に下降する。これにより、光源ヘッド３７が制振ロッド２１ａに対応する位置に移動しても、制振ロッド２１ａと光源ヘッド３７とが干渉するのを防ぐことができる。従って、制振ロッド２１ａに対応する位置において基板６を透過照明して、検査を行うことができる。もちろん、制振ロッド２１ｂの位置に光源ヘッド３７及び可動レール３６が移動する場合は、制振ロッド２１ｂが下降状態となり、制振ロッド２１ａが上昇状態となる。すなわち、光源ヘッド３７の位置に応じて、Ｙ方向に沿って設けられている２列の制振ロッドの一方の列が下降状態となる。このとき、他方の列の制振ロッド２１が上昇状態となり、ステージの下面に当接するため、振動を低減することができる。これにより、振動が低減した状態で、制振ロッド２１の位置における検査を行うことができる。

なお、上記の例では、制振ロッド２１を４本設けたが、制振ロッド２１は２本以上であればよい。すなわち、可動レール３６の方向に対して傾いた方向に２本以上配置して、可動レール３６の位置に対応する制振ロッド２１を下降状態として、他方の制振ロッド２１を上昇状態とすればよい。もちろん、可動レール３６及び光源ヘッド３７が制振ロッド２１に干渉しない位置にある場合は、全ての制振ロッド２１を上昇状態としてもよい。これにより、ステージ７の下面に全ての制振ロッド２１が当接するため、基板６の振動をより低減することができる。

次に、検査ヘッド３５及び光源ヘッド３７の構成について図５を用いて説明する。本実施の形態では、検査ヘッド３５に基板を観察するための観察用光学系と、高さ測定及び３Ｄ画像測定を行うための共焦点光学系と、基板に付着した異物等を除去して欠陥を修正するための修正用光学系を設けている。光源ヘッド３７は、基板６の下方から透過照明を行うための透過照明光学系を備えている。まず、高さ測定及び３Ｄ画像測定用の共焦点光学系について説明する。共焦点光学系は、ランプ光源５１と、レンズ５２と、スリット５３と、ミラー５４と、レンズ５５と、ビームスプリッタ５６と、スキャニングミラー５７と、レンズ５８と、ビームスプリッタ５９と、ビームスプリッタ６０と、レンズ６１と、対物レンズ６２と、レンズ６５と、スリット６６と、ＣＣＤカメラ６７とを備えている。

ランプ光源５１は例えば、キセノンランプ光源であり、白色光は出射する。ランプ光源５１からの光ビームは、レンズ５２によって屈折され、スリット５３に入射する。スリット５３によって入射した光は、ライン状の光ビームに変換される。すなわち、スリット５３はライン状の開口部を有しており、その開口部のみ光ビームが通過する。スリット５３から出射されたライン状の光ビームは、ミラー５４によって反射され、レンズ５５によって屈折され、ビームスプリッタ５６に入射する。ビームスプリッタ５６に入射した光ビームのうちの一部は、スキャニングミラー５７に入射する。スキャニングミラー５７は例えば、ガルバノミラーであり、スリット５３の開口部に対応する方向と垂直な方向に光ビームを走査する。これにより、基板上における光ビームのライン状のスポットが、そのラインと垂直な方向に走査される。よって、基板上における２次元領域を照明することができる。

スキャニングミラー５７によって走査された光ビームはレンズ５８で屈折され、ビームスプリッタ５９に入射する。ビームスプリッタ５９に入射した光ビームの一部はビームスプリッタ５９を通過して、ビームスプリッタ６０を入射する。ビームスプリッタ６０に入射した光ビームの一部は、レンズ６１で屈折され、対物レンズ６２に入射する。なお、ビームスプリッタ６０の代わりにダイクロイックミラー又はミラー等を選択的に用いるようにしてもよい。対物レンズ６２に入射した光ビームは、基板６の表面に集光される。スリット５３が設けられているため、基板６の表面上ではライン状に集光している。基板６で反射した反射光は、基板に入射した入射光と同様の光路で、ビームスプリッタ５６に入射する。すなわち、基板６で反射した反射光は、対物レンズ６２、レンズ６１、ビームスプリッタ６０、ビームスプリッタ５９、レンズ５８を通過して、スキャニングミラー５７に入射する。スキャニングミラー５７で反射された反射光は、ビームスプリッタ５６に入射する。ビームスプリッタ５６に入射した反射光の一部はビームスプリッタ５６を通過する。ビームスプリッタ５６を通過した反射光は、レンズ６５で屈折され、スリット６６に入射する。

ライン状の開口部が設けられたスリット６６を通過した光はＣＣＤカメラ６７に入射する。ＣＣＤカメラ６７は例えば、１次元ＣＣＤカメラであり、スリットの方向と同じ方向に配置されている。ここで、基板６及びスリット５３、並びに基板６及びスリット６６とは互いに共役な位置に配置されており、スリット共焦点光学系を構成している。従って、合焦点位置になったときに、基板６からの反射光がスリット６６を通過して、ＣＣＤカメラ６７で検出される。このとき、スキャニングミラー５７で走査されているため、２次元画像を測定することができる。そして、基板６と対物レンズ６２の距離を走査して、２次元のスライス画像を順次測定することによって、基板６の３次元画像を測定することができる。合焦点位置になったときの基板６と対物レンズ６２との相対距離の変化から、基板６の表面の高さ測定を行うこともできる。これにより、基板６上の突起欠陥等の高さを測定することができる。さらに、制振ロッド２１によって、振動が低減されているため、より精度の高い高さ測定及び３Ｄ画像測定を行うことができる。

次に、観察用光学系について説明する。本実施の形態にかかる欠陥修正装置の観察用光学系では、反射像と透過像とを撮像することができる。検査ヘッド３５には、観察用光学系として、さらに、ＬＥＤ光源７１と、レンズ７２と、偏光板７３と、ビームスプリッタ７４と、偏光板７５と、ミラー７６と、レンズ７７と、レンズ７８と、ＣＣＤカメラ７９とが設けられている。また、光源ヘッド３７には、観察用光学系として、透過照明光源９１が設けられている。

ＬＥＤ光源７１は例えば、白色ＬＥＤ光源であり、白色光を出射する。ＬＥＤ光源７１から出射した光ビームはレンズ７２で屈折され、偏光板７３に入射する。偏光板７３を通過して直線偏光となった光ビームは、ビームスプリッタ５９に入射する。ビームスプリッタ５９に入射した光ビームの一部は、ビームスプリッタ６０の方向に反射される。ここで、観察用光学系と、共焦点光学系は同じ光軸上を伝播するように配置されている。すなわち、ビームスプリッタ５９で反射されたＬＥＤ光源７１からの光ビームはビームスプリッタ５９を通過したランプ光源５１からの光ビームと同じ光軸となる。これにより、観察用光学系と共焦点光学系の光学系の一部を共通化することができ、光学部品の点数を少なくすることができる。ビームスプリッタ５９で反射された光ビームは、ビームスプリッタ６０を通過し、レンズ６１で屈折され、対物レンズ６２に入射する。対物レンズ６２は入射した光ビームを基板６の表面に集光する。これにより、ＬＥＤ光源７１からの照明光によって基板６の上方から照明することができる。すなわち、検査ヘッド３５に設けられたＬＥＤ光源７１が落射照明用の光源となる。

ＬＥＤ光源７１から基板６に入射した光ビームのうち、基板６で反射された反射光は、基板に入射した入射光と同様の光路で、ビームスプリッタ６０に入射する。すなわち、基板６で反射した反射光は、対物レンズ６２、レンズ６１を通過してビームスプリッタ６０に入射する。ビームスプリッタ６０に入射した反射光のうちの一部は、ビームスプリッタ７４の方向に反射される。そして、ビームスプリッタ７４を通過した反射光は、偏光板７５を通過して、ミラー７６で反射され、レンズ７７で屈折され、レンズ７８で屈折され、ＣＣＤカメラ７９に入射する。ＣＣＤカメラ７９は２次元ＣＣＤカメラであり、反射像を撮像する。これにより、反射像を観察することができる。すなわち、落射光源として設けられたＬＥＤ光源７１からの光ビームによって、上方から基板６に照明光が入射する。そして、基板６で反射光をＣＣＤカメラ７９で検出することにより、反射像を観察することができる。

ステージ７の下に設けられた光源ヘッド３７には、透過照明光源９１が設けられている。透過照明光源９１からの光は透明なステージ７を通過して、基板６に入射する。なお、光源ヘッド３７には、レンズ等の光学系を設けてもよい。基板６に入射した透過照明光源９１からの光のうち基板６を透過した光は、反射光と同様の光路で、ＣＣＤカメラ７９に入射する。すなわち、透過照明光源９１から基板６を透過した透過光は、対物レンズ６２と、レンズ６１と、ビームスプリッタ６０と、ビームスプリッタ７４と、偏光板７５と、ミラー７６と、レンズ７７と、レンズ７８を介してＣＣＤカメラ７９に入射する。これにより、透過像を観察することができる。反射像を撮像するときは、ＬＥＤ光源７１のみオンし、透過像を撮像するときは透過照明光源９１のみオンする。このようにして撮像された透過像又は反射像に基づいて欠陥の検出が行なわれる。欠陥を検出するとき、ステージ７が制振ロッド２１によって支持されている。従って、振動が低減された状態で観察することができ、安定して検査を行うことが可能になる。

次に、欠陥を修正するための修正用光学系について説明する。検査ヘッド３５には、修正用光学系として、さらにパルスレーザ光源８１及びビーム成形機構８２が設けられている。パルスレーザ光源８１から出射されたレーザ光は、ビーム成形機構８２に入射する。ビーム成形機構８２はＸ−Ｙ−θスリットを備えており、入射したレーザ光を欠陥に対応するスポット形状に成形するビーム成形機構８２によって成形されたレーザ光は、ビームスプリッタ７４で反射され、ビームスプリッタ６０で反射され、レンズ６１で屈折されて対物レンズ６２に入射する。対物レンズ６２は入射したレーザ光を集光して基板６に入射する。このとき、レーザ光のスポットはビーム成形機構によって欠陥に対応する形状に成形されている。これにより、異物等の欠陥を除去することができ、欠陥を修正することができる。

このように、観察用光学系、共焦点光学系及び修正用光学系の一部の光軸を同じ光軸とすることによって、光学系を共通化することができる。この場合、観察時は観察用のＬＥＤ光源７１又は透過照明光源９１のみをオンし、高さ測定時にはランプ光源のみをオンし、修正時にはパルスレーザ光源８１のみをオンするようにする。いずれの場合でも、制振ロッド２１によって振動が低減されているため、より正確に欠陥の検出、高さ測定及び欠陥修正を行うことができる。

なお、本実施の形態にかかる検査ヘッド３５の構成は図５に示すものに限られるものではなく、検査を行うための光学系がヘッドに設けられていればよい。例えば、ステージ７の下に設けられたヘッドに検出器を設けて検査ヘッドとし、ステージ７の上に設けられたヘッドに透過照明光源を設けてもよい。この場合、ステージ７の上から透過照明光が照射され、ステージ７の下で基板６を透過した透過光が検出される。また、本発明にかかる制振ロッド２１は修正用光学系が設けられていない検査装置に用いてもよく、さらには、欠陥修正用のリペアを有する欠陥修正装置に用いてもよい。なお、上記の説明では制振ロッド２１を用いた例について説明したが、制振部材はロッド状のものに限られるものではない。例えば、幅の広いブレード状のものを用いることができる。また、カラーフィルタ基板はカラーフィルタが設けられていればよく、例えば、液晶表示パネル等の表示パネルであってもよい。
発明の実施の形態２．

本実施の形態にかかる欠陥修正装置について図６を用いて説明する。図６は欠陥修正装置における制振ロッド２１の構成を拡大して示す側面図である。本実施の形態１では、架台３１に駆動機構２２及び制振ロッド２１を取り付けていたが、本実施の形態では、光源ヘッド３７に駆動機構２２を取り付けている。なお、実施の形態１と同様に構成については説明を省略する。

本実施の形態では、図６に示すように制振ロッド２１及び駆動機構２２が光源ヘッド３７に設けられている。すなわち、制振ロッド２１が駆動機構２２が透過照明光源の移動とともに移動する。透過照明光源の近傍に配置された制振ロッド２１が光源ヘッドとともに移動するため、制振ロッド２１が観察点の近傍でステージ７に当接される。ここで、光源ヘッド３７の移動中は、制振ロッド２１を下降状態とし、ステージ７と離間した状態としてもよい。そして、移動が完了して観察点に光源ヘッド３７及び検査ヘッド３５に配置されたら、駆動機構２２を駆動して、制振ロッド２１をステージ７と当接させてもよい。あるいは、制振ロッド２１の先端部分をエアパッドとして、エアを噴出して制振ロッド２１ｄと架台３１との間にエアギャップを形成した状態で光源ヘッド３７を移動させてもよい。この場合、ステージ７と制振ロッド２１とが離間した状態で、ステージ７が制振ロッドによって支持される。このため、制振ロッドの上下動作が不要となり、ステージ７を支持した状態で光源ヘッド３７を移動させることができる。このように、光源ヘッド３７に制振ロッド２１を設けることによって、観察点近傍が制振ロッド２１によって支持される。従って、観察点における基板６の振動を低減することができ、より正確に検査を行うことができる。なお、制振ロッド２１は光源ヘッド３７とともに移動可能に設けられていれば、光源ヘッド３７に取り付けられていなくてもよい。

さらに、制振ロッド２１には、ステージ７の下面と当接する制振ロッド２１ｃに加えて、架台３１の上面と当接する制振ロッド２１ｄを設けることが好ましい。これにより、架台３１に支持された光源ヘッド３７によって、ステージ７を支持することができる。すなわち、ステージ７が光源ヘッド３７を介して架台３１に支持される。これにより、より剛性を向上させることができ、可動レール３６の剛性が不足している場合でも、ステージ７を安定させることができる。制振ロッド２１ｃと制振ロッド２１ｄとは、１つの駆動機構２２によって同期して昇降するようにしてもよい。この架台３１と当接する制振ロッド２１ｄについても、移動中は架台３１と離間させておき、移動が完了した後、架台３１と接触するようにしてもよい。また、架台３１の先端をエアパッドとして、エアを噴出して制振ロッド２１ｄと架台３１との間に微小隙間を形成した状態で、光源ヘッド３７を移動させてもよい。なお、架台３１ではなく固定架台２７と制振ロッド２１ｄを当接させるようにしてもよい。また、制振ロッド２１ｄの下端にダンパー２３を設けてもよい。さらに、制振ロッド２１によって、透過照明光源９１を挟むようにすることが好ましい。

なお、光源ヘッド３７ではなく、可動レール３６に対して制振ロッド２１及び駆動機構２２を取り付けてもよい。これについて、図７を用いて説明する。可動レール３６には制振ロッド取付部３９が取り付けられている。制振ロッド取付部３９は、可動レール３６に固定されており、可動レール３６の移動とともに移動する。ここでは、可動レール３６の一側面に光源ヘッド３７を設け、反対の側面に制振ロッド取付部３９を設ける。これにより、制振ロッド取付部３９と干渉せずに光源ヘッド３７を移動させることができる。制振ロッド取付部３９には、ステージ７の下面と当接する制振ロッド２１ｅに加えて、架台３１の上面と当接する制振ロッド２１ｆを設けてもよい。

例えば、制振ロッド取付部３９は、Ｘ方向における可動レールの中央近傍に設ける。これにより、観察点と制振ロッド２１とが一定距離以上離れるのを防止することができる。よって、観察点の振動を低減することができる。
発明の実施の形態３．

本実施の形態にかかる修正装置について図８を用いて説明する。本実施の形態では、振動を低減するために、音響振動キャンセラ４１を取り付けている。なお、上述の実施の形態と同様の構成については説明を省略する。本実施の形態では、固定架台２７に対して音響振動キャンセラ４１が取り付けられている。音響振動キャンセラ４１は音響スピーカであり、入力された信号に基づいて空気を振動させて、制振用音波を出力する。さらに、修正装置には、振動センサ４２が設けられている。振動センサ４２は欠陥修正装置の近傍に配置された音源の近くに配置されている。例えば、温調器の送風口の近傍、コンプレッサーの近傍あるいは、真空ポンプなどの近傍に配置することが好ましい。そして、振動センサ４２は、検出した振動の大きさに基づく検出信号を出力する。振動センサ４２からの出力は位相反転器４３によって位相反転されて、音響振動キャンセラ４１に出力される。音響振動キャンセラ４１は、反転した音響をステージ７に加える。これにより、ステージ７の振動を反転した制振用音波が出力され、音源からの振動をキャンセルすることができる。これにより、振動を低減することができる。

さらに、建物等に据え付けられた固定架台２７に音響振動キャンセラ４１を取り付けているため、音響振動キャンセラ４１の振動を効率よくステージ７に伝達することができる。また、固定架台２７に音響振動キャンセラ４１を取り付けて、ステージの下方から制振用音波を出力することによって、装置を大型化せずに振動を低減することができる。ここで、架台３１は格子状に設けられている。そのため、架台３１の下の固定架台２７に音響振動キャンセラ４１を取り付けた場合でも、架台３１を通過して制振用音波がステージ７に伝播する。なお、実施の形態１〜３で示した制振ロッド２１とともに、音響振動キャンセラ４１を用いて振動を低減してもよい。これにより、振動を低減することができ、正確に検査を行うことができる。

本発明の実施の形態１にかかる欠陥修正装置の全体構成を示す上面図である。 本発明の実施の形態１にかかる欠陥修正装置の検査ヘッドの位置における構成を示す側面図である。 本発明の実施の形態１にかかる欠陥修正装置の制振ロッドの位置における構成を示す側面図である。 本発明の実施の形態１にかかる欠陥修正装置の制振ロッドの動作を示す側面図である。 本発明にかかる欠陥修正装置の検査ヘッド及び光源ヘッドの構成を示す図である。 本発明の実施の形態２にかかる欠陥修正装置の制振ロッドの構成を示す側面図である。 本発明の実施の形態２にかかる欠陥修正装置の他の制振ロッドの構成を示す側面図である。 本発明の実施の形態３にかかる欠陥修正装置の構成を示す側面図である。

符号の説明

６ 基板、７ ステージ、２１ 制振ロッド、２２ 駆動機構、２３ ダンパー、
２７ 固定架台、３１ 架台、３２ Ｙレール、３３ フレーム、３４ Ｘレール、
３５ 検査ヘッド、３６ 可動レール、３７ 光源ヘッド、
５１ ランプ光源、５２ レンズ、５３ スリット、５４ ミラー、５５ レンズ、
５６ ビームスプリッタ、５７ スキャニングミラー、５８ レンズ、
５９ ビームスプリッタ、６０ ビームスプリッタ、６１ レンズ、６２ 対物レンズ、
６５ レンズ、６６ スリット、６７ ＣＣＤカメラ、７１ ＬＥＤ光源、
７２ レンズ、７３ 偏光板、７４ ビームスプリッタ、７５ 偏光板、７６ ミラー、７７ レンズ、７８ レンズ、７９ ＣＣＤカメラ、８１ パルスレーザ光源、
８２ ビーム成形機構、９１ 透過照明光源

Claims (6)

1. カラーフィルター基板が載置されるステージと、
   前記ステージの周辺部を支持するフレームと、
   前記ステージを支持するよう前記ステージの下側に昇降可能に配置された制振部材と、
   前記ステージの下に配置され、移動可能に設けられた可動レールとを備え、
   前記制振部材が第１の制振部材と、前記第１の制振部材と前記可動レールの移動方向において異なる位置に配置された第２の制振部材とを有し、
   前記第１の制振部材に対応する位置に前記可動レールが移動したときに、前記第１の制振部材が下降状態となり、前記第２の制振部材が前記ステージを支持し、
   前記第２の制振部材に対応する位置に前記可動レールが移動したときに、前記第２の制振部材が下降状態となり、前記第１の制振部材が前記ステージを支持する、
   カラーフィルター基板のステージ装置。
2. カラーフィルター基板が載置されるステージと、
   前記ステージの下に配置され、移動可能に設けられた可動レールと、
   前記ステージを支持するよう前記ステージの下側に昇降可能に配置され、前記可動レールとともに移動するよう前記可動レールに取り付けられた制振部材とを備えるカラーフィルター基板のステージ装置。
3. 前記可動レールに取り付けられ、当該可動レールに沿って移動可能に設けられたヘッドと、をさらに備え、
   前記制振部材が前記ヘッドとともに移動するよう設けられている請求項２に記載のステージ装置。
4. 前記制振部材の先端にダンパーが設けられている請求項１乃至３のいずれかに記載のステージ装置。
5. 前記ステージの下に配置された固定架台と、
   振動を検出する振動センサと、
   前記振動センサから出力された検出信号を位相反転させる位相反転器と、
   前記固定架台に取付られ、前記位相反転器で位相反転された検出信号に基づいて前記ステージの下に音波を出力する振動キャンセラとをさらに備える請求項１乃至４のいずれかに記載のカラーフィルター基板のステージ装置。
6. 請求項１乃至５のいずれかに記載のステージ装置と、
   前記ステージ装置に対して移動可能に設けられた検査ヘッドとを備えるカラーフィルタ基板の検査装置。

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