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JP4867657B2 - 電圧供給回路、表示装置、および電子機器、並びに電圧供給方法 - Google Patents
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JP4867657B2 - 電圧供給回路、表示装置、および電子機器、並びに電圧供給方法 - Google Patents

電圧供給回路、表示装置、および電子機器、並びに電圧供給方法 Download PDF

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Description

本発明は、表示装置のドライバ等に正あるいは負の駆動電圧を供給するDC−DCコンバータ等を含む電圧供給回路、表示装置、および電子機器、並びに電圧供給方法に関するものである。
画像表示装置、たとえば液晶ディスプレイや有機EL(Electro luminescence)ディスプレイなどでは、多数の画素をマトリクス状に並べ、表示すべき画像情報に応じて画素毎に光強度を制御することによって画像を表示する。
この種の表示装置においては、表示パネルにDC−DCコンバータを含む電源回路が搭載される場合がある。
図1は、CMOS構成のDC−DCコンバータの構成例を示す回路図である。また、図2は図1のDC−DCコンバータのタイミングチャートである。
図1のDC−DCコンバータ1は、出力トランジスタ2がnチャネルMOS(NMOS)トランジスタ(n1)により形成され、他のトランジスタ3,4がpチャネルMOS(PMOS)トランジスタ(p1,p2)により形成されている。
出力トランジスタ2のソースとトランジスタ3のドレインとの接続点によりノードAが形成され、ノードBが出力とトランジスタ2のゲート、トランジスタ3のゲート、およびトランジスタ4のドレインに接続されている。
ノードAはクロックCKgが供給されるキャパシタ5(Cap1)に接続され、ノードBがクロックCKgと逆相のクロックxCKgが供給されるキャパシタ6(Cap2)に接続されている。
このDC−DCコンバータ1においては、出力トランジスタ2のゲートとソースに容量カップリングを用いたクロックパルスを供給することで負電源電圧Vssgを生成している。
ところで、このDDコンバータ1はCMOS構成である。
パネルの生産量の向上を図るためのひとつの方法として単独(同一極性)トランジスタ(PMOSまたはNMOS)でTFT回路を構成するというものがある。
この種の電源回路に用いられるレベルシフタ、バッファ、インバータ、シフトレジスタの単独構成の回路としては種々提案されている(たとえば特許文献1〜4参照)。
特開2005−123864号公報 特開2005−123865号公報 特開2005−143068号公報 特開2005−149624号公報
ところが、これらの回路を使ってパネルを構成するには何種類かの電源が必要である。
通常のCMOS構成のパネルでは、2系統の電源(GND含む)電圧を外部から供給を受け、それ以外はパネル内部で生成している。
これでは、パネルの製造工程数が増加し、生産量の向上を図ることは困難である。
また、外部でDC−DCコンバータを持つよりも、パネル内部でDC−DCコンバータを持ったほうがコスト的に有利である。そのため、単独構成であっても、DC−DCコンバータ搭載が望まれている。
本発明は、同一極性のトランジスタにより形成されるパネル等に配置可能で、生産量の向上、工程数やコスト削減を図ることが可能な電圧供給回路、表示装置、および電子機器、並びに電圧供給方法を提供することにある。
本発明の第1の観点の電圧供給回路は、第1ノードと、第2ノードと、所定電位と、制御端子が上記第1ノードに接続され、第1端子が上記第2ノードに接続され、第2端子が出力端子に接続された出力トランジスタと、アクティブのリセット信号を受けてオンし、上記所定電位と上記第1ノードおよび第2ノードとを接続するスイッチング素子と、上記第1ノードに接続され、クロックが供給される第1キャパシタと、上記第2ノードに接続され、クロックが供給される第2キャパシタと、上記クロックの振幅を、上記第1ノードと第2ノードの電位が所定の差をもって変動するように調整する調整部と、を有し、上記リセット信号と上記クロックとは、基本的に逆相である。
好適には、上記調整部は、振幅が異なる第1クロックと第2クロックを生成し、上記第1クロックを上記第1キャパシタに入力し、上記第2クロックを上記第2キャパシタに入力する機能を有し、上記第1クロックの振幅を上記第2クロックの振幅より大きい振幅に設定する。
好適には、上記調整部は、上記第2ノードに接続された付加容量を有し、一つのクロックを上記第1キャパシタと第2キャパシタに並列に入力する機能を有する。
本発明の第2の観点の表示装置は、マトリクス状に配列された複数の画素回路と、上記画素回路を形成する素子を駆動する駆動信号を出力する少なくとも一つのスキャナと、上記スキャナに駆動電圧を供給する電圧供給回路と、を有し、上記電圧供給回路は、第1ノードと、第2ノードと、所定電位と、制御端子が上記第1ノードに接続され、第1端子が上記第2ノードに接続され、第2端子が出力端子に接続された出力トランジスタと、アクティブのリセット信号を受けてオンし、上記所定電位と上記第1ノードおよび第2ノードとを接続するスイッチング素子と、上記第1ノードに接続され、クロックが供給される第1キャパシタと、上記第2ノードに接続され、クロックが供給される第2キャパシタと、上記クロックの振幅を、上記第1ノードと第2ノードの電位が所定の差をもって変動するように調整する調整部と、を有し、上記リセット信号と上記クロックとは、基本的に逆相である。
本発明の第3の観点は、表示装置を有する電子機器であって、上記表示装置は、マトリクス状に配列された複数の画素回路と、上記画素回路を形成する素子を駆動する駆動信号を出力する少なくとも一つのスキャナと、上記スキャナに駆動電圧を供給する電圧供給回路と、を有し、上記電圧供給回路は、第1ノードと、第2ノードと、所定電位と、制御端子が上記第1ノードに接続され、第1端子が上記第2ノードに接続され、第2端子が出力端子に接続された出力トランジスタと、アクティブのリセット信号を受けてオンし、上記所定電位と上記第1ノードおよび第2ノードとを接続するスイッチング素子と、上記第1ノードに接続され、クロックが供給される第1キャパシタと、上記第2ノードに接続され、クロックが供給される第2キャパシタと、上記クロックの振幅を、上記第1ノードと第2ノードの電位が所定の差をもって変動するように調整する調整部と、を有し、上記リセット信号と上記クロックとは、基本的に逆相である。
本発明の第4の観点は、第1ノードに接続され、クロックが供給される第1キャパシタと、上記第2ノードに接続され、クロックが供給される第2キャパシタと、制御端子が上記第1ノードに接続され、第1端子が上記第2ノードに接続され、第2端子が出力端子に接続された出力トランジスタと、を用いて電圧を供給する電圧供給方法であって、上記クロック信号と基本的に逆相のリセット信号がアクティブの期間に所定電位と上記第1ノードおよび第2ノードとを接続する第1ステップと、上記クロックの振幅を、上記第1ノードと第2ノードの電位が所定の差をもって変動するように調整する第2ステップと、電位変動によって上記出力トランジスタから上記第2ノードの電位に応じた電圧を出力する第3ステップとを有する。
本発明によれば、たとえば第1および第2ノードは、リセット信号がアクティブの期間、スイッチング素子がオンして所定電位レベルに初期化される。
そして、第1および第2ノードは、所定電位を基準として第1および第2クロックの振幅で電位が変動する。
第1および第2ノードの電位変動によって出力トランジスタから所定電位が出力される。
本発明によれば、同一極性のトランジスタにより形成されるパネル等に配置可能で、生産量の向上、工程数やコスト削減を図ることができる。
以下、本発明の実施形態を図面に関連付けて説明する。
<第1実施形態>
図3は、本発明の第1の実施形態に係る電圧供給回路の構成例を示すブロック図である。図4は、第1の実施形態に係るDC−DCコンバータの構成例を示す回路図である。また、図5は、第1の実施形態に係る電圧供給回路のタイミングチャートである。
第1の実施形態に係る電圧供給回路10は、調整部11、およびDC−DCコンバータ(DDcon)12により構成されている。
Aは第1ノード、Bは第2ノード、ck1,ck2は同相の第1および第2クロックを、rstは基本的に第1および第2クロックck1,ck2と逆相のリセット信号をそれぞれ示している。
調整部11は、リセット信号rstとクロックck1,ck2のレベルを調整するレベルシフタ(lvlsft)111,112、113を有する。
レベルシフタ111は、リセット信号rstの振幅を、電源電圧Vddと接地電位GNDとの間の振幅を持つ信号にレベルシフトとしてDC−DCコンバータ12に供給する。
レベルシフタ112は、クロックck1の振幅を、電源電圧Vddと接地電位GNDとの間の振幅を持つ信号にレベルシフトとしてDC−DCコンバータ12に供給する。
レベルシフタ113は、クロックck1の振幅を、電源電圧Vdd2と接地電位GNDとの間の振幅を持つ信号にレベルシフトとしてDC−DCコンバータ12に供給する。
電源電圧VddとVdd2とは、Vdd>Vdd2の関係を満足する。
したがって、DC−DCコンバータ12に供給される第1クロックck1と第2クロックck2の振幅は、第1クロックck1の振幅ΔV1のほうが、第2クロックck2の振幅Δ2よりも大きい(ΔV1>ΔV2)。
Vddはたとえば10V、Vdd2はたとえば8Vに設定される。
DC−DCコンバータ12は、図4に示すように、PMOSトランジスタにより形成された出力トランジスタ121(p11)、同じくPMOSトランジスタにより形成されたスイッチングトランジスタ(スイッチング素子)122(p12)、123(p13)、および第1および第2キャパシタ124,125を有する。
また、図中、Vrefは所定電位を示している。また、C1は第1キャパシタ124の容量を、C2は第2キャパシタ125の容量をそれぞれ示している。
出力トランジスタ121のゲートが第1ノードAに接続され、ソースが第2ノードBに接続され、ドレインが出力端子toutに接続されている。
スイッチングトランジスタ素子122,123のソースが所定電位Vrefに共通に接続され、スイッチングトランジスタ122のドレインが第1ノードAに接続され、スイッチングトランジスタ123のドレインが第2ノードBに接続されている。そして、スイッチングトランジスタ素子122,123のゲートがリセット信号rstの入力端子trst(レベルシフタ111の出力)に共通に接続されている。
第1キャパシタ124の第1電極が第1ノードAに接続され、第2電極がクロックck1の入力端子tck1(レベルシフタ112の出力)に接続されている。
第2キャパシタ125の第1電極が第2ノードBに接続され、第2電極がクロックck1の入力端子tck2(レベルシフタ113の出力)に接続されている。
このような構成を有するDC−DCコンバータ12においては、第1ノードAの電位ΔV1の方が、第2ノードBの電位ΔV2より大きくなるように、調整部11によりクロックの振幅調整が行われる。
より具体的には、前述したように、DC−DCコンバータ12に供給される第1クロックck1と第2クロックck2の振幅は、第1クロックck1の振幅ΔV1のほうが、第2クロックck2の振幅Δ2よりも大きい(ΔV1>ΔV2)。
第1および第2クロックck1、ck2は第1および第2キャパシタ124,125をとおして第1ノードA、第2ノードBの電位を変動させる。
図5に示すように、第1および第2ノードA,Bは、リセットパルス信号rstがローレベルの期間、スイッチングトランジスタ122,123がオンして所定電位Vrefレベルに初期化される。
そして、第1および第2ノードA,Bは、所定電位Vrefを基準としてクロックck1、ck2の振幅で電位が変動する。
第1および第2ノードA,Bの電位変動によって出力トランジスタ121から負電位Vss2が出力される。
負電位Vss2は第2ノードBのロー(Lo)電位であり、負電位Vss3は第1ノードAのLo電位である。
ここで、出力トランジスタ121のしきい値電圧VthをVth(p11)とすると、負電位Vss2の出力条件は、次のようになる。
[数1]
Vss3−Vss2<Vth(p11) ・・・(1)
第1ノードAの寄生容量をCpa、第2ノードBの寄生容量をCpbとすると、次の式(2)、(3)により、第1ノードAと第2ノードBの振幅ΔV1‘、ΔV2‘が決まる。
[数2]
ΔV1‘=ΔV1×C1/(C1+Cpa) ・・・(2)
[数3]
ΔV2‘=ΔV2×C2/(C2+Cpb) ・・・(3)
したがって、上記式(1),(2),(3)の関係から考慮してクロックck1、ck2の振幅を決定する必要がある。
第1ノードAと第2ノードBの振幅ΔV1‘、ΔV2‘を用いると、出力トランジスタ121の駆動条件が次のように表せる。
[数4]
ΔV2‘−ΔV1‘<Vth(p11) ・・・(4)
ここで、係数kを用いて次式(5)のように関係付けを行うと、下記式(6)のような関係を得ることができる。
[数5]
kΔV2=ΔV1 ・・・・(5)
[数6]
{C2/(C2+Cpb)−kC1/(C1+Cpa)}ΔV2<Vth(p11)
・・・(6)
本第1の実施形態によれば、ゲート(制御端子)が第1ノードAに接続され、ソースが第2ノードに接続され、ドレインが出力端子toutに接続された出力トランジスタ121と、ソースが所定電位Vrefに接続され、ドレインが第1ノードAに接続され、ゲートがリセット信号rstの供給ラインに接続されたスイッチングトランジスタ122と、ソースが所定電位Vrefに接続され、ドレインが第2ノードBに接続され、ゲートがリセット信号rstの供給ラインに接続されたスイッチングトランジスタ123と、第1電極が第1ノードAに接続され、第2電極が第1クロックck1の供給ラインに接続された第1キャパシタ124と、第1電極が第2ノードBに接続され、第2電極が第2クロックck2の供給ラインに接続された第2キャパシタ125と、第1クロックck1の振幅と第2クロックck2の振幅を、第1クロックck1の振幅ΔV1のほうが、第2クロックck2の振幅Δ2よりも大きし、調整振幅に応じて第1および第2ノードA,Bの電位が変動するように調整する調整部11と、を有し、第1および第2クロックck1,ck2は同相で、リセット信号rstは基本的に第1および第2クロックck1,ck2と逆相に設定されることから、以下の効果を得ることができる。
同一極性であるpチャネルのトランジスタ(TFT等)を用いて形成することが可能となり、負電位を的確に出力することが可能となる。
その結果、同一極性のトランジスタにより形成されるパネル等に配置可能で、生産量の向上、工程数やコスト削減を図ることが可能となる利点がある。
<第2実施形態>
図6は、本発明の第2の実施形態に係る電圧供給回路の構成例を示すブロック図である。図7は、第2の実施形態に係るDC−DCコンバータの構成例を示す回路図である。また、図8は、第2の実施形態に係る電圧供給回路のタイミングチャートである。
本第2の実施形態に係る電圧供給回路10Aが上述した第1の実施形態に係る電圧供給回路10と異なる点は、2つのクロックではなく一つのクロッckを用い、調整部11Aのレベルシフタ112でクロックckの振幅をリセット信号rstと同様に、電源電圧Vddと接地電位GNDとの間の振幅を持つ信号にレベルシフトとしてDC−DCコンバータ12Aに供給し、DC−DCコンバータ12Aにおいて、第1ノードAと第2ノードBに供給する信号振幅が異なるように調整するようにしたことにある。
具体的には、図7に示すように、キャパシタ124,125の第2電極をクロック入力端tckに共通に接続し、第2ノードBと基準電位(たとえば接地電位GND)との間に容量Cbの寄生容量(キャパシタ)を配置している。
DC−DCコンバータ12Aにおいては、図7および図8に示すように、リセット信号rstによって第1および第2ノードA,B電位の初期化を行い、その後に容量C1,C2のキャパシタ124,125による入力ckカップリングによって第1および第2ノードA,Bの電位をひきさげる。
このとき、第2ノードBには追加寄生容量126(Cb)が接続されていることから、第1および第2ノードA,Bのカップリングゲインが調整され、ノードBのLo電位のみを出力する。
第1ノードAの寄生容量をCpa、第2ノードBの寄生容量をCpbとすると、次の式(7)、(8)により、第1ノードAと第2ノードBの振幅ΔV1‘、ΔV2‘が決まる。
[数7]
ΔV1‘=ΔV1×C1/(C1+Cpa) ・・・(7)
[数8]
ΔV2‘=ΔV2×C2/(C2+Cb+Cpb) ・・・(8)
ここでΔV1=ΔV2である。
したがって、上記式(1),(7),(8)の関係から考慮してクロックck1、ck2の振幅を決定する必要がある。
第1ノードAと第2ノードBの振幅ΔV1‘、ΔV2‘を用いると、出力トランジスタ121の駆動条件が次のように表せる。
[数9]
ΔV2‘−ΔV1‘<Vth(p11) ・・・(9)
そして、下記式(10)のような関係を得ることができる。
[数10]
{C2/(C2+Cb+Cpb)−C1/(C1+Cpa)}ΔV2<Vth(p11)
・・・(10)
したがって、この条件を満たすようにCbを決めることになる。
本第2の実施形態によれば、上述した第1の実施形態の効果を得られることはもとより、2パルス(ck、rst)・3電源(Vdd、Vss、Vref)で駆動可能である。パネル回路設計をCMOS(PMOS+NMOS)に対して単独構成で行うことで工程数を削減でき、生産量の向上を図れる利点がある。
<第3実施形態>
図9は、本発明の第3の実施形態に係る電圧供給回路の構成例を示すブロック図である。
本第3の実施形態に係る電圧供給回路10Bが上述した第1の実施形態に係る電圧供給回路10と異なる点は、リセット信号rstと第1および第2クロックck1、ck2とは逆相であり、また、第1クロックck1と第2クロックck2は同相であることから、一つのクロックckにより、レベルシフト後のリセット信号rst、並びに第1および第2クロックck1,ck2を生成するようにしたことにある。
具体的には、リセット信号rst用のレベルシフタ111Bをインバータ機能付きレベルシフタ(インバータ)として、クロックckを3つのレベルシフタ111B,112,113に並列に入力させている。
なお、インバータ111Bは、DC−DCコンバータ12と同様に、同一極性のPMOSトランジスタのみを用いて構成することが可能である。
図10は、同一極性のPMOSトランジスタのみを用いて構成されたインバータの一例を示す回路図である。
このインバータ130は、図10に示すように、PMOSトランジスタ131〜133、キャパシタ134、およびノードND131,ND132を有する。
トランジスタ131のソースがノードND131に接続され、ゲートおよびドレインが基準電位Vssに接続されている。トランジスタ132のソースがノードND132に接続され、ドレインが基準電位Vssに接続され、ゲートがノードND131に接続されている。
トランジスタ133のソースが電源電圧Vddの供給ラインに接続され、ドレインがノードND132に接続され、ゲートが信号入力ラインINに接続されている。
そして、キャパシタ134の第1電極がノードND131に接続され、第2電極がノードND132に接続され、ノードND132が出力OUTに接続されている。
このような構成において、ローレベルの信号が入力されると、トランジスタ133がオンし、ノードND132の電位が上昇する。その結果、キャパシタC134を通してノードND131の電位が上昇し、トランジスタ132がオフする。その結果、出力OUTにVddレベルの信号が出力される。
ハイレベルの信号が入力されると、トランジスタ133はオフし、ノードND131の電位はトランジスタ131を通して放電され、トランジスタ132がオンする。その結果、出力OUTにVssレベルの信号が出力される。
その他の構成は、第1の実施形態と同様である。
本第3の実施形態によれば、上述した第1の実施形態と同等の効果を得ることができる。
<第4実施形態>
図11は、本発明の第4の実施形態に係る電圧供給回路の構成例を示すブロック図である。
本第4の実施形態に係る電圧供給回路10Cが上述した第2の実施形態に係る電圧供給回路10Aと異なる点は、リセット信号rstとクロックckとは逆相であることから、一つのクロックckにより、レベルシフト後のリセット信号rstを生成するようにしたことにある。
具体的には、リセット信号rst用のレベルシフタ111Cをインバータ機能付きレベルシフタ(インバータ)として、クロックckを2つのレベルシフタ111C,112に並列に入力させている。
なお、インバータ111Cは、DC−DCコンバータ12Aと同様に、図10に示すように、同一極性のPMOSトランジスタのみを用いて構成することが可能である。
その他の構成は、第2の実施形態と同様である。
本第4の実施形態によれば、上述した第2の実施形態と同等の効果を得ることができる。
<第5実施形態>
図12は、本発明の第5の実施形態に係る電圧供給回路の構成例を示すブロック図である。
本第5の実施形態に係る電圧供給回路10Dが上述した第4の実施形態に係る電圧供給回路10Cと異なる点は、クロック用レベルシフタ112の前段に遅延回路114を設けたことにある。
遅延回路114を設けた理由を図13および図14に関連付けて説明する。
図13は、リセット信号rstがクロックckに対して時間的に後ろにずれた場合を示すタイミングチャートである。
図14は、リセット信号rstがクロックckに対して時間的に前にずれた場合を示すタイミングチャートである。
リセット信号rstがクロックck逆相なので、第4の実施形態のような構成をとることができる。
ただし、ここで位相関係に注意する必要がある。
図13に示すように、リセット信号rstがクロックckに対して時間的に後ろにずれた場合、第1および第2ノードA,Bがクロックckのカップリングで電位を下げなければならないときに、図7のスイッチングトランジスタ122、123がオンしているため、十分なカップリングを受けることができない。したがって、正常動作を保証することができない。
これに対して、図14に示すように、リセット信号rstがクロックckに対して時間的に前にずれた場合、動作に大きな問題はない。しいて言えば、第1および第2ノードA,BのLo期間(Vss2出力期間)が短くなるため、負電源電圧Vss2の供給能力が落ちてしまう。出力OUTノードのフローティング期間(非Vss2供給期間)が増えてしまう。
非供給期間は出力OUTノードのVss2電位が変動することがあるため、できるだけ非供給期間は短くしておきたい。
図14は非供給期間が短くなるということで、DC−DCコンバータ12Aの供給性能低下はあるが、リセット信号rstのクロックckに対する遅延量を遅延回路114で制御してやり、必要十分な供給量を確保しておけば利用可能である。
その他の構成は、第2および第4の実施形態と同様である。
本第5の実施形態によれば、上述した第2および第4の実施形態と同等の効果を得ることができる。
<第6実施形態>
図15は、本発明の第6の実施形態に係る電圧供給回路の構成例を示すブロック図である。
本第6の実施形態に係る電圧供給回路10Eが上述した第3の実施形態に係る電圧供給回路10Bと異なる点は、第5の実施形態において説明したと同様の理由により、クロック用レベルシフタ112,113の前段に遅延回路114を設けたことにある。
なお、図15の構成に関しては第1クロックck1と第2クロックk2の位相がずれないようにすることも重要である。
その他の構成は、第1および第3の実施形態と同様である。
本第6の実施形態によれば、上述した第1および第3の実施形態と同等の効果を得ることができる。
<第7実施形態>
図16は、本発明の第7の実施形態に係る電圧供給回路を説明するためのタイミングチャートである。
本第7の実施形態に係る電圧供給回路(10F)が上述した第2の実施形態に係る電圧供給10Aと異なる点は、リセット信号rstのオフ期間(ハイレベル期間)を広くとり、リセット信号rstが負電位Vss2供給期間を減少させないようなタイミングとしてことにある。
その他の構成は、第2の実施形態と同様である。
本第7の実施形態によれば、上述した第2の実施形態と同等の効果を得ることができる。
なお、この構成は、第1の実施形態の構成に対しても同様に適用することができる。
<第8実施形態>
図17は、本発明の第8の実施形態に係る電圧供給回路の構成例を示すブロック図である。図18は、第8の実施形態に係る電圧供給回路のタイミングチャートである。
本第8の実施形態に係る電圧供給回路10Gが上述した第4の実施形態に係る電圧供給10Cと異なる点は、リセット信号rstを生成するレベルシフタをインバータ機能の代わりにNAND回路機能部115として、クロックckとイネーブル信号enにより選択的にリセット信号rstを生成するようにしたことにある。
この場合、図18に示すように、上述した第7の実施形態と同様にリセット信号rstのオフ期間(ハイレベル期間)を広くとり、リセット信号rstが負電位Vss2供給期間を減少させないようなタイミングとすることが任意に行えるようになる利点がある。
図19は、同一極性のPMOSトランジスタのみを用いて構成されたNAND回路の一例を示す回路図である。
このNAND回路140は、図19に示すように、PMOSトランジスタ141〜144、キャパシタ145、およびノードND141,ND142を有する。
トランジスタ141のソースがノードND141に接続され、ゲートおよびドレインが基準電位Vssに接続されている。トランジスタ142のソースがノードND142に接続され、ドレインが基準電位Vssに接続され、ゲートがノードND141に接続されている。
トランジスタ143のソースが電源電圧Vddの供給ラインに接続され、ドレインがノードND142に接続され、ゲートが信号入力ラインIN1に接続されている。
とランジスタ144のソースが電源電圧Vddの供給ラインに接続され、ドレインがノードND142に接続され、ゲートが信号入力ラインIN2に接続されている。
そして、キャパシタ145の第1電極がノードND141に接続され、第2電極がノードND142に接続され、ノードND142が出力OUTに接続されている。
このような構成において、2つに信号enおよびckがローレベル、あるいは一方がハイレベルで他方がローレベルの場合は、トランジスタ143,144の両方あるいはいずれかがオンし、ノードND142の電位が上昇する。その結果、キャパシタ145を通してノードND141の電位が上昇し、トランジスタ142がオフする。その結果、出力OUTにVddレベルのリセットrst信号が出力される。
2つに信号enおよびckが共にハイレベルの信号が入力されると、トランジスタ143,144の両方がオフし、ノードND141の電位はトランジスタ141を通して放電され、トランジスタ142がオンする。その結果、出力OUTにVssレベルのリセット信号rstが出力される。
その他の構成は、第2および第4の実施形態と同様である。
本第8の実施形態によれば、上述した第2および第4の実施形態と同等の効果を得ることができる。
<第9実施形態>
図20は、本発明の第9の実施形態に係る電圧供給回路の構成例を示すブロック図である。
本第9の実施形態に係る電圧供給回路10Hが上述した第3の実施形態に係る電圧供給10Bと異なる点は、第8の実施形態と同様に、リセット信号rstを生成するレベルシフタをインバータ機能の代わりに、図19に示すような構成を有するNAND回路機能部115として、クロックckとイネーブル信号enにより選択的にリセット信号rstを生成するようにしたことにある。
この場合も、上述した第7の実施形態と同様にリセット信号rstのオフ期間(ハイレベル期間)を広くとり、リセット信号rstが負電位Vss2供給期間を減少させないようなタイミングとすることが任意に行えるようになる利点がある。
その他の構成は、第1および第3の実施形態と同様である。
本第9の実施形態によれば、上述した第1および第3の実施形態と同等の効果を得ることができる。
<第10実施形態>
図21は、本発明の第10の実施形態に係る電圧供給回路の構成例を示すブロック図である。
本第10の実施形態に係る電圧供給回路10Iが上述した第8の実施形態に係る電圧供給10Bと異なる点は、リセット信号rstを生成するレベルシフタをNAND回路機能部115の代わりに、NOR回路機能部116として、クロックckとイネーブル信号enにより選択的にリセット信号rstを生成するようにしたことにある。
図22は、同一極性のPMOSトランジスタのみを用いて構成されたNOR回路の一例を示す回路図である。
このNOR回路150は、図22に示すように、PMOSトランジスタ151〜154、キャパシタ155、およびノードND151,ND152を有する。
トランジスタ151のソースがノードND151に接続され、ゲートおよびドレインが基準電位Vssに接続されている。トランジスタ152のソースがノードND152に接続され、ドレインが基準電位Vssに接続され、ゲートがノードND151に接続されている。
トランジスタ153のソースが電源電圧Vddの供給ラインに接続され、ドレインがトランジスタ154のソースに接続され、トランジスタ154のドレインがノードND152に接続され、トランジスタ153のゲートが信号入力ラインIN1に接続され、トランジスタ154のゲートが入力ラインIN2に接続されている。
そして、キャパシタ155の第1電極がノードND151に接続され、第2電極がノードND152に接続され、ノードND152が出力OUTに接続されている。
このような構成において、2つに信号enおよびckが共にローレベルの場合は、トランジスタ153,154の両方がオンし、ノードND152の電位が上昇する。その結果、キャパシタC155を通してノードND151の電位が上昇し、トランジスタ152がオフする。その結果、出力OUTにVddレベルのリセットrst信号が出力される。
2つに信号enおよびckが共にハイレベルまたはいずれかがハイレベルの信号として入力されると、トランジスタ153,154の両方またはいずれかがオフし、ノードND151の電位はトランジスタ151を通して放電され、トランジスタ152がオンする。その結果、出力OUTにVssレベルのリセット信号rstが出力される。
その他の構成は、第2、第4、および第8の実施形態と同様である。
本第10の実施形態によれば、上述した第2、第4、および第8の実施形態と同等の効果を得ることができる。
なお、図示しないが、第9の実施形態のNAND回路の代わりにNOR回路を適用することが可能である。
以上の実施形態においては、同一極性のトランジスタとしてPMOSの場合を例にせつしたが、NMOSの場合も同様に構成することが可能である。NMOSの場合は負電位ではなく正電位を出力することになる以外は、基本的に同様にNMOSトランジスタを用いて各電圧供給回路を構成することが可能である。
NMOSトランジスタで電圧供給回路を構成する場合、たとえばアモルファスシリコンを用いてTFT等を形成することが容易となり、後で説明するような画素回路を有する有機EL表示装置のパネルに電圧供給回路を容易に配置することが可能となる。
以下、NMOSトランジスタで形成した電圧供給回路の実施形態について説明する。
なお以下では、基本的な回路機能は同じであることから、前述したPMOSの場合との構成に違いを中心に説明する。
<第11実施形態>
図23は、本第11の実施形態に係るDC−DCコンバータの構成例を示す回路図である。また、図24は、第11の実施形態に係る電圧供給回路のタイミングチャートである。
本第11の実施形態に係る電圧供給回路10Jが上述した第1の実施形態に係る電圧供給10と異なる点は、PMOSNトランジスタ121,122,123をNMOSトランジスタ121N,122N,123N(n11〜n13)で置換したことにある。
この場合、負電位Vss2の代わりに正電位Vdd2となり、負電位Vss3の代わりに正電位Vdd3(Vdd3>Vdd2>Vdd>Vref)となる。
このような構成を有するDC−DCコンバータ12jにおいては、第1ノードAの電位ΔV1の方が、第2ノードBの電位ΔV2より大きくなるように、調整部11によりクロックの振幅調整が行われる。
より具体的には、前述したように、DC−DCコンバータ12Jに供給される第1クロックck1と第2クロックck2の振幅は、第1クロックck1の振幅ΔV1のほうが、第2クロックck2の振幅Δ2よりも大きい(ΔV1>ΔV2)。
クロックck1、ck2はキャパシタ124,125をとおして第1ノードA、第2ノードBの電位を変動させる。
図24に示すように、第1および第2ノードA,Bは、リセットパルス信号rstがローレベルの期間、スイッチングトランジスタ122N,123Nがオンして所定電位Vrefレベルに初期化される。
そして、第1および第2ノードA,Bは、所定電位Vrefを基準としてクロックck1、ck2の振幅で電位が変動する。
第1および第2ノードA,Bの電位変動によって出力トランジスタ121Nから正電位Vdd2が出力される。
正電位Vdd2は第2ノードBのハイ(Hi)電位であり、負電位Vdd3は第1ノードAのHi電位である。
ここで、出力トランジスタ121Nのしきい値電圧VthをVth(n11)とすると、負電位Vdd2の出力条件は、次のようになる。
[数11]
Vdd3−Vdd2>Vth(n11) ・・・(11)
第1ノードAの寄生容量をCpa、第2ノードBの寄生容量をCpbとすると、次の式(12)、(13)により、第1ノードAと第2ノードBの振幅ΔV1‘、ΔV2‘が決まる。
[数12]
ΔV1‘=ΔV1×C1/(C1+Cpa) ・・・(12)
[数13]
ΔV2‘=ΔV2×C2/(C2+Cpb) ・・・(13)
したがって、上記式(11),(12),(13)の関係から考慮してクロックck1、ck2の振幅を決定する必要がある。
第1ノードAと第2ノードBの振幅ΔV1‘、ΔV2‘を用いると、出力トランジスタ121Nの駆動条件が次のように表せる。
[数14]
ΔV1‘−ΔV2‘>Vth(n11) ・・・(14)
ここで、係数kを用いて次式(15)のように関係付けを行うと、下記式(16)のような関係を得ることができる。
[数15]
kΔV2=ΔV1 ・・・・(15)
[数16]
{kC1/(C1+Cpa)- C2/(C2+Cpb)}ΔV2>Vth(n11)
・・・(16)
本第11の実施形態によれば、上述した第1の実施形態の効果と同様の効果を得ることができ、さらに、アモルファスシリコンを用いて作製されるパネルに容易に適用し易く、実用に即した電圧供給回路を実現することが可能となる利点がある。
<第12実施形態>
図25は、本第12の実施形態に係るDC−DCコンバータの構成例を示す回路図である。また、図26は、第12の実施形態に係る電圧供給回路のタイミングチャートである。
本第12の実施形態に係る電圧供給回路10Kが上述した第2の実施形態に係る電圧供給10Aと異なる点は、PMOSNトランジスタ121,122,123をNMOSトランジスタ121N,122N,123Nで置換したことにある。
このような構成を有するDC−DCコンバータ12Kにおいては、図25および図26に示すように、リセット信号rstによって第1および第2ノードA,B電位の初期化を行い、その後に容量C1,C2のキャパシタ124,125による入力ckカップリングによって第1および第2ノードA,Bの電位をひきあげる。
このとき、第2ノードBには追加寄生容量126(Cb)が接続されていることから、第1および第2ノードA,Bのカップリングゲインが調整され、ノードBのHi電位のみを出力する。
第1ノードAの寄生容量をCpa、第2ノードBの寄生容量をCpbとすると、次の式(17)、(18)により、第1ノードAと第2ノードBの振幅ΔV1‘、ΔV2‘が決まる。
[数17]
ΔV1‘=ΔV1×C1/(C1+Cpa) ・・・(17)
[数18]
ΔV2‘=ΔV2×C2/(C2+Cb+Cpb) ・・・(18)
したがって、上記式(11),(17),(18)の関係から考慮してクロックck1、ck2の振幅を決定する必要がある。
第1ノードAと第2ノードBの振幅ΔV1‘、ΔV2‘を用いると、出力トランジスタ121Nの駆動条件が次のように表せる。
[数19]
ΔV1‘−ΔV2‘>Vth(n11) ・・・(19)
ここでΔV1=ΔV2である。
そして、下記式(20)のような関係を得ることができる。
[数20]
{C1/(C1+Cpa)- C2/(C2+Cb+Cpb)}ΔV2>Vth(n11)
・・・(20)
したがって、この条件を満たすようにCbを決めることになる。
本第12の実施形態によれば、上述した第1の実施形態の効果を得られることはもとより、2パルス(ck、rst)・3電源(Vdd、Vss、Vref)で駆動可能である。パネル回路設計をCMOS(PMOS+NMOS)に対して単独構成で行うことで工程数を削減でき、生産量の向上を図れる利点がある。
<第13実施形態>
図27は、本発明の第13の実施形態に係る電圧供給回路を説明するためのタイミングチャートである。
本第13の実施形態に係る電圧供給回路(10L)が上述した第12の実施形態に係る電圧供給10Aと異なる点は、リセット信号rstのオフ期間(ハイレベル期間)を広くとり、リセット信号rstが負電位Vss2供給期間を減少させないようなタイミングとしてことにある。
その他の構成は、第12の実施形態と同様である。
本第13の実施形態によれば、上述した第12の実施形態と同等の効果を得ることができる。
なお、図示しないが、この構成は第11の実施形態にも適用可能である。
<第14実施形態>
図28は、本発明の第14の実施形態に係る電圧供給回路の構成例を示すブロック図である。図29は、第14の実施形態に係る電圧供給回路のタイミングチャートである。
本第14の実施形態に係る電圧供給回路10Mが上述した第12の実施形態に係る電圧供給10Bと異なる点は、リセット信号rstを生成するレベルシフタをインバータ機能の代わりに、NOR回路機能部116Nとして、クロックckとイネーブル信号enにより選択的にリセット信号rstを生成するようにしたことにある。
この場合も、上述した第7の実施形態と同様にリセット信号rstのオフ期間(ハイレベル期間)を広くとり、リセット信号rstが負電位Vss2供給期間を減少させないようなタイミングとすることが任意に行えるようになる利点がある。
図30は、同一極性のPMOSトランジスタのみを用いて構成されたNOR回路の一例を示す回路図である。
このNOR回路150は、図30に示すように、NMOSトランジスタ151N〜154N、キャパシタ155N、およびノードND151N,ND152Nを有する。
トランジスタ151NのソースがノードND151Nに接続され、ゲートおよびドレインが電源電位Vddに接続されている。トランジスタ152NのソースがノードND152Nに接続され、ドレインが電源電位Vddに接続され、ゲートがノードND151Nに接続されている。
トランジスタ153Nのソースが基準電圧Vssの供給ラインに接続され、ドレインがトランジスタ154Nのソースに接続され、トランジスタ154NのドレインがノードND152Nに接続され、トランジスタ153Nのゲートが信号入力ラインIN1に接続され、トランジスタ154Nのゲートが入力ラインIN2に接続されている。
そして、キャパシタ155Nの第1電極がノードND151Mに接続され、第2電極がノードND152Nに接続され、ノードND152N出力OUTに接続されている。
このような構成において、2つに信号enおよびckが共にハイレベルあるいはいずれか一方がハイレベルの場合は、トランジスタ153N,154Nの両方あるいはいずれかがオンし、ノードND152Nの電位が下降する。その結果、キャパシタ155Nを通してノードND151Nの電位が下降し、トランジスタ152Nがオフする。その結果、出力OUTにVssレベルのリセットrst信号が出力される。
2つに信号enおよびckが共にローレベルの信号として入力されると、トランジスタ153N,154Nの両方がオフし、ノードND151Nの電位はトランジスタ151Nを通して充電され、トランジスタ152Nがオンする。その結果、出力OUTにVddレベルのリセット信号rstが出力される。
その他の構成は、第12の実施形態と同様である。
本第14の実施形態によれば、上述した第12の実施形態と同等の効果を得ることができる。
<第15実施形態>
図31は、本発明の第15の実施形態に係る電圧供給回路の構成例を示すブロック図である。
本第15の実施形態に係る電圧供給回路10Nが上述した第11の実施形態に係る電圧供給10Jと異なる点は、第14の実施形態と同様に、リセット信号rstを生成するレベルシフタを、図31に示すような構成を有するNOR回路機能部116Nとして、クロックckとイネーブル信号enにより選択的にリセット信号rstを生成するようにしたことにある。
この場合も、上述した第7の実施形態と同様にリセット信号rstのオフ期間(ハイレベル期間)を広くとり、リセット信号rstが負電位Vss2供給期間を減少させないようなタイミングとすることが任意に行えるようになる利点がある。
その他の構成は、第11の実施形態と同様である。
本第15の実施形態によれば、上述した第11の実施形態と同等の効果を得ることができる。
なお、第14および第15の実施形態のNOR回路の代わりにNMOSのみからなるインバータ130NやNAND回路140Nを適用することが可能である。
図32は、同一極性のNMOSトランジスタのみを用いて構成されたインバータの一例を示す回路図である。
このインバータ130Nは、図32に示すように、NMOSトランジスタ131N〜133N、キャパシタ134N、およびノードND131N,ND132Nを有する。
トランジスタ131NのソースがノードND131Nに接続され、ゲートおよびドレインが電源電位Vddに接続されている。トランジスタ132NのソースがノードND132Nに接続され、ドレインが電源電位Vddに接続され、ゲートがノードND131Nに接続されている。
トランジスタ133Nのソースが基準電位Vssに接続され、ドレインがノードND132Nに接続され、ゲートが信号入力ラインINに接続されている。
そして、キャパシタ134Nの第1電極がノードND131に接続され、第2電極がノードND132Nに接続され、ノードND132Nが出力OUTに接続されている。
このような構成において、ハイレベルの信号が入力されると、トランジスタ133がオンし、ノードND132の電位が下降する。その結果、キャパシタC134を通してノードND131の電位が下降し、トランジスタ132Nがオフする。その結果、出力OUTにVssレベルの信号が出力される。
ローレベルの信号が入力されると、トランジスタ133はオフし、ノードND131Nの電位はトランジスタ131Nを通して充電され、トランジスタ132Nがオンする。その結果、出力OUTにVddレベルの信号が出力される。
図33は、同一極性のNMOSトランジスタのみを用いて構成されたNAND回路の一例を示す回路図である。
このNAND回路140Nは、図33に示すように、NMOSトランジスタ141N〜144N、キャパシタ145N、およびノードND141N,ND142Nを有する。
トランジスタ141NのソースがノードND141Nに接続され、ゲートおよびドレインが電源電位Vddに接続されている。トランジスタ142NのソースがノードND142Nに接続され、ドレインが電源電位Vddに接続され、ゲートがノードND141Nに接続されている。
トランジスタ143Nのソースが基準電位Vssに接続され、ドレインがノードND142Nに接続され、ゲートが信号入力ラインIN1に接続されている。
トランジスタ144Nのソースが電源電圧Vddの供給ラインに接続され、ドレインがノードND142Nに接続され、ゲートが信号入力ラインIN2に接続されている。
そして、キャパシタ145Nの第1電極がノードND141Nに接続され、第2電極がノードND142Nに接続され、ノードND142Nが出力OUTに接続されている。
このような構成において、2つに信号enおよびckが共にハイレベルの場合は、トランジスタ143N,144Nの両方がオンし、ノードND142Nの電位が下降する。その結果、キャパシタ145Nを通してノードND141Nの電位が下降し、トランジスタ142Nがオフする。その結果、出力OUTにVssレベルのリセットrst信号が出力される。
2つに信号enおよびckが共にローレベルあるいはいずれかローレベルの信号として入力されると、トランジスタ143N,144Nの両方あるいはいずれかがオフし、ノードND141Nの電位はトランジスタ141Nを通して充電され、トランジスタ142Nがオンする。その結果、出力OUTにVddレベルのリセット信号rstが出力される。
以上、NMOSからなる電圧供給回路について説明した。なお、ここで説明していない構成があるが、上述しPMOSトランジスタからなる電圧供給回路の第1から第10の実施形態に係る構成を適用できることはいうまでもない。
前述したように、NMOSトランジスタで電圧供給回路を構成する場合、たとえばアモルファスシリコンを用いてTFT等を形成することが容易となり、画素回路を有する有機EL表示装置のパネル等に電圧供給回路を容易に配置することが可能となる。
以下、有機EL表示装置の本実施形態に係る電圧供給回路10,10A〜10Nを提要し配置した構成例について説明する。
<第16実施形態>
図34は、本発明の第16の実施形態に係る画素回路を採用した有機EL表示装置の構成を示すブロック図である。
図35は、本第16の実施形態に係る画素回路の具体的な構成を示す回路図である。
この表示装置200は、図34および図35に示すように、画素回路201がm×nのマトリクス状に配列された画素アレイ部202、水平セレクタ(HSEL)203、ライトスキャナ(WSCN)204、パワードライブスキャナ(PDSCN)205、ライトスキャナに駆動電圧を供給する電圧供給回路(P1)206、パワードライブスキャナ205に駆動電圧を供給する電圧供給回路(PW)207、水平セレクタ103により選択され輝度情報に応じたデータ信号Vsigやオフセット信号Vofsの入力信号SINが供給される信号線SGL201〜SGL20n、ライトスキャナ204によるゲートパルス(走査パルス)GPにより選択駆動される駆動配線としての走査線WSL201〜WSL20m、およびパワードライブスキャナ205により選択的VCC(たとえば電源電圧)またはVSS(たとえば負側電圧)に設定されるパワー信号PSGが印加され駆動される駆動配線としてのパワー駆動線PSL201〜PSL20mを有する。
なお、これらの構成要素は、たとえば同一のパネルに形成される。
なお、画素アレイ部202において、画素回路201はm×nのマトリクス状に配列されるが、図34においては図面の簡単化のために2(=m)×3(=n)のマトリクス状に配列した例を示している。
また、図35においても、図面に簡単化のために一つの画素回路の具体的な構成を示している。
本実施形態に係る画素回路201は、図35に示すように、駆動トランジスタとしてのnチャネルTFT211、スイッチングトランジスタとしてのnチャネルTFT212、キャパシタC211、有機EL発光素子(OLED:電気光学素子)からなる発光素子213、第1のノードND211、および第2のND212を有する。
画素回路201において、パワー駆動線(電源ライン)PSL(201〜20m)と所定の基準電位Vcat(たとえば接地電位)との間に駆動トランジスタとしてのTFT211、ノードND211、および発光素子(OLED)213が直列に接続されている。
具体的には、発光素子213のカソードが基準電位Vcatに接続され、アノードが第1のノードND211に接続され、TFT212のソースが第1のノードND211に接続され、TFT211のドレインがパワー駆動線PSLに接続されている。
そして、TFT211のゲートが第2のノードND212に接続されている。
また、キャパシタC211の第1電極が第1のノード211に接続され、キャパシタC211の第2電極が第2のノードND212に接続されている。
信号線SGLと第2のノードND212との間にTFT212のソース・ドレインがそれぞれ接続されている。そして、TFT212のゲートが走査線WSLに接続されている。
このように、本第16の実施形態に係る画素回路201は、ドライブトランジスタとしてのTFT211のゲート・ソース間に画素容量としてのキャパシタC211が接続されている。
次に、上記構成のより具体的な動作を、画素回路の動作を中心に、図36(A)〜(E)、および図37〜図44に関連付けて説明する。
なお、図36(A)は走査線WSLに印加されるゲートパルス(走査パルス)GPを、図36(B)はパワー駆動線PSLに印加されるパワー信号PSGを、図36(C)は信号線SGLに印加される入力信号SINを、図36(D)は第2のノードND212の電位VND212を、図36(E)は第1のノードND211の電位VND211を、それぞれ示している。
まず、EL発光素子213の発光状態時は、図36(B)および図37に示すように、パワー駆動線PSLには電源電圧VCCであり、TFT212がオフした状態である。
このとき、駆動トランジスタでるTFT211は飽和領域で動作するように設定されているため、EL発光素子213に流れる電流IdsはTFT211のゲート・ソース間電圧Vgsに応じて所定の値をとる。
次に、非発光期間において、図36(B)および図38に示すように、電源ラインであるパワー駆動線PSLをVssとする。このとき、電圧VssがEL発光素子213のしきい値Vthelとカソード電圧Vcatの和よりも小さいとき、つまりVss<Vthel+VcatであればEL発光素子213は消光し、電源ラインであるパワー駆動線PSLが駆動トランジスタとしてのTFT211のソースとなる。このとき、EL発光素子213のアノード(ノードND211)は、図36(E)に示すように、Vssに充電される。
さらに、図36(A),(C),(D),(E)、および図39に示すように、信号線SGLの電位がオフセット電圧Vofsとなったときに、ゲートパルスGPはハイレベルに設定してTFT212をオンし、TFT211のゲート電位をVofsとする。
このとき、TFT211のゲート・ソース間電圧は(Vofs−Vss)という値をとる。このTFT211のゲート・ソース間電圧(Vofs−Vss)がTFT211のしきい値電圧Vthよりも大きくない(低い)としきい値補正動作を行うことができないために、TFT211のゲート・ソース間電圧(Vofs−Vss)がTFT211のしきい値電圧Vthよりも大きく、すなわちVofs−Vss>Vthとする必要がある。
そしてしきい値補正動作においてパワー駆動線PSLに印加するパワー信号PSGを再び電源電圧Vccとする。
パワー駆動線PSLを電源電圧VccとすることでEL発光素子213のアノード(ノードND211)がTFT211のソースとして機能し、図40に示すように電流が流れる。
EL発光素子213の等価回路は、図40に示すように、ダイオードと容量で表されるため、Vel≦Vcat+Vthel(EL発光素子213のリーク電流がTFT211に流れる電流よりもかなり小さい)の関係を満足する限り、TFT211の電流はキャパシタC211とCelを充電するために使われる。
このとき、容量Celの端子間の電圧Velは時間と共に、図41に示すように上昇してゆく。一定時間経過後、TFT211のゲート・ソース間電圧はVthという値をとる。このとき、Vel=Vofs−Vth≦Vcat+Vthelとなっている。
しきい値キャンセル動作終了後、図36(A),(C)、および図42に示すように、TFT212をオンした状態で信号線SGLの電位をVsigとする。データ信号Vsigは階調に応じた電圧となっている。このとき、TFT211のゲート電位は、TFT212をオンしているために、図36(D)に示すようにVsigとなるが、電源ラインであるパワー駆動線PSLから電流Idsが流れるためソース電位は時間とともに上昇してゆく。
このとき、TFT211のソース電圧がEL発光素子213のしきい値電圧Vthelとカソード電圧Vcatの和を越えなければ(EL発光素子213のリーク電流がTFT211に流れる電流よりもかなり小さければ)、TFT211に流れる電流はキャパシタC211とCelを充電するのに使用される。
このとき、TFT211のしきい値補正動作は完了しているため、TFT211が流す電流は移動度μを反映したものとなる。
具体的にいうと、図43に示すように、移動度μが大きいものはこのときの電流量が大きく、ソース電圧の上昇も早い。逆に移動度μが小さいものは電流量が小さく、ソース電圧の上昇は遅くなる。これによって、TFT211のゲート・ソース間電圧は移動度μを反映して小さくなり、一定時間経過後に完全に移動度を補正するVgsとなる。
最後に、図36(A)〜(C)、および図44に示すように、ゲートパルスGPをローレベルに切り替えてTFT212をオフして書き込みを終了させ、EL発光素子213を発光させる。
TFT211のゲート・ソース間電圧は一定であるので、TFT211は一定電流Ids'をEL発光素子213に流し、VelはEL発光素子213にIds'という電流が流れる電圧Vxまで上昇し、EL発光素子213は発光する。
本画素回路201においてもEL発光素子213は発光時間が長くなるとそのI-V特性は変化してしまう。そのため図中B点(ノードND211)の電位も変化する。しかしながら、TFT211のゲート・ソース間電圧は一定値に保たれているのでEL発光素子213に流れる電流は変化しない。よってEL発光素子213のI-V特性が劣化しても、一定電流Idsが常に流れ続け、EL発光素子213の輝度が変化することはない。
以上、本第16の実施形態においては、図8の回路、すなわち、2個のトランジスタと1個のキャパシタの2Tr+1C画素回路を有する表示装置200について説明した。
ただし、2Tr+1C画素回路を有する表示装置200の他に、OLEDと直列に接続されるドライブ(駆動)トランジスタやスイッチングトランジスタの他に、移動度やしきい値キャンセル用のTFT等が別途設けられる構成の画素回路を有する表示装置にも適用することが可能である。
以下に、これらの表示装置にうち、5個のトランジスタと1個のキャパシタの5Tr+1C画素回路を有する表示装置の構成例について第17の実施形態として説明する。
<第17実施形態>
図45は、本発明の第17の実施形態に係る画素回路を採用した有機EL表示装置の構成を示すブロック図である。
図46は、本第17の実施形態に係る画素回路の具体的な構成を示す回路図である。
この表示装置300は、図45および図46に示すように、画素回路301がm×nのマトリクス状に配列された画素アレイ部302、水平セレクタ(HSEL)303、ライトスキャナ(WSCN)304、ドライブスキャナ(DSCN)305、第1のオートゼロ回路(AZRD1)306、第2のオートゼロ回路(AZRD2)307、ライトスキャナ304に駆動電圧を供給する電圧供給回路(P11)307、ドライブスキャナ305に駆動電圧を供給する電圧供給回路(P12)308、第1のオートゼロ回路306に駆動電圧を供給する電圧供給回路(P13)309、第2のオートゼロ回路307に駆動電圧を供給する電圧供給回路(P14)310、水平セレクタ303により選択され輝度情報に応じたデータ信号が供給される信号線SGL、ライトスキャナ304により選択駆動される第2の駆動配線としての走査線WSL、ドライブスキャナ305により選択駆動される第1の駆動配線としての駆動線DSL、第1のオートゼロ回路306により選択駆動される第4の駆動配線としての第1のオートゼロ線AZL1、および第2のオートゼロ回路307により選択駆動される第3の駆動配線としての第2のオートゼロ線AZL2を有する。
なお、これらの構成要素は、たとえば同一のパネルに形成される。
本第17の実施形態に係る画素回路301は、図45および図46に示すように、pチャネルTFT311、nチャネルTFT312〜TFT315、キャパシタC311、有機EL発光素子(OLED:電気光学素子)からなる発光素子316、第1のノードND311、および第2のND312を有する。
TFT311により第1のスイッチトランジスタが形成され、TFT313により第2のスイッチトランジスタが形成され、TFT315により第3のスイッチトランジスタが形成され、TFT314により第4のスイッチトランジスタが形成されている。
なお、電源電圧Vccの供給ライン(電源電位)が第1の基準電位に相当し、接地電位GNDが第2の基準電位に相当している。また、VSS1が第4の基準電位に相当し、VSS2が第3の基準電位に相当する。
画素回路301において、第1の基準電位(本実施形態では電源電位Vcc)と第2の基準電位(本実施形態では接地電位GND)との間に、TFT311、ドライブトランジスタとしてのTFT312、第1のノードND311、および発光素子(OLED)316が直列に接続されている。具体的には、発光素子316のカソードが接地電位GNDに接続され、アノードが第1のノードND311に接続され、TFT312のソースが第1のノードND311に接続され、TFT311のドレインがTFT311のドレインに接続され、TFT311のソースが電源電位Vccに接続されている。
そして、TFT312のゲートが第2のノードND312に接続され、TFT311のゲートが駆動線DSLに接続されている。
TFT313のドレインが第1のノード311およびキャパシタC211の第1電極に接続され、ソースが固定電位VSS2に接続され、TFT313のゲートが第2のオートゼロ線AZL2に接続されている。また、キャパシタC311の第2電極が第2のノードND312に接続されている。
信号線SGLと第2のノードND312との間にTFT314のソース・ドレインがそれぞれ接続されている。そして、TFT314のゲートが走査線WSLに接続されている。
さらに、第2のノードND312と所定電位Vss1との間にTFT315のソース・ドレインがそれぞれ接続されている。そして、TFT315のゲートが第1のオートゼロ線AZL1に接続されている。
このように、本第16の実施形態に係る画素回路301は、ドライブトランジスタとしてのTFT312のゲート・ソース間に画素容量としてのキャパシタC311が接続され、非発光期間にTFT312のソース電位をスイッチトランジスタとしてのTFT313に介して固定電位に接続し、また、TFT312のゲート・ドレイン間を接続して、しきい値Vthの補正を行うように構成されている。
次に、上記構成の動作を、画素回路の動作を中心に、図47(A)〜(F)に関連付けて説明する。
なお、図47(A)は駆動性DSLに印加される駆動信号DS、図47(B)は走査線WSLに印加される駆動信号WS(第16の実施形態のゲートパルスGPに相当)を、図47(C)は第1のオートゼロ線AZL1に印加される駆動信号AZ1、図47(D)は第2のオートゼロ線AZL2に印加される駆動信号オートゼロ信号AZ2を、図47(E)は第2のノードND312の電位を、図47(F)は第1のノードND311の電位をそれぞれ示している。
ドライブスキャナ305による駆動線DSLの駆動信号DSがハイレベル、ライトスキャナ304による走査線WSLへの駆動信号WSがローレベルに保持され、オートゼロ回路306によるオートゼロ線AZL1への駆動信号AZ1がローレベルに保持され、オートゼロ回路307によるオートゼロ線AZL2への駆動信号AZ2がハイレベルに保持される。
その結果、TFT313がオンし、このとき、TFT313を介して電流が流れ、TFT312のソース電位Vs(ノードND311の電位)はVSS2まで下降する。そのため、EL発光素子216に印加される電圧も0Vとなり、EL発光素子316は非発光となる。
この場合、TFT314がオンしてもキャパシタC311に保持されている電圧、すなわち、TFT312のゲート電圧は変わらない。
次に、EL発光素子317の非発光期間において、図47(C),(D)に示すように、オートゼロ線AZL2への駆動信号AZ2がハイレベルに保持された状態で、オートセロ線AZL1への駆動信号AZ1がハイレベルに設定される。これにより、第2のノードND312の電位はVSS1となる。
そして、オートゼロ線AZL2への駆動信号AZ2がローレベルに切り替えられた後、ドライブスキャナ305による駆動線DSLの駆動信号DSが所定期間のみローレベルに切り替えられる。
これにより、TFT313がオフし、TFT315、TFT312がオンすることにより、TFT312,TFT311の経路に電流が流れ、第1のノードの電位は上昇する。
そして、ドライブスキャナ305による駆動線DSLの駆動信号DSがハイレベルに切り替えられ、駆動信号AZ1がローベルに切り替えられる。
以上の結果、ドライブトランジスタTFT312のしきい値Vth補正が行われ、第2のノードND312と第1のノードND311との電位差はVthとなる。
その状態で所定期間経過後にライトスキャナ304による走査線WSLへの駆動信号WSが所定期間ハイレベルに保持され、データ線よりデータをノードND312に書き込み、駆動信号WSがハイレベルの期間にドライブスキャナ305による駆動線DSLの駆動信号DSがハイレベルに切り替えられ、やがて駆動信号WSがローレベルに切り替えられる。
このとき、TFT312がオンし、そして、TFT314がオフし、移動度の補正が行われる。
この場合、TFT314がオフしており、TFT312のゲート・ソース間電圧は一定であるので、TFT312は一定電流IdsをEL発光素子316に流す。これによって、第1のノードND311の電位はEL発光素子316にIdsという電流が流れる電圧Vxまで上昇し、EL発光素子316は発光する。
ここで、本回路においてもEL発光素子は発光時間が長くなるとその電流−電圧(I-V)特性は変化してしまう。そのため、第1のノードND311の電位も変化する。しかしながら、TFT312のゲート・ソース間電圧Vgsは一定値に保たれているのでEL発光素子316に流れる電流は変化しない。よって、EL発光素子316のI-V特性が劣化しても、一定電流Idsが常に流れ続け、EL発光素子316の輝度が変化することはない。
このように駆動される画素回路を有する表示装置は、同一極性であるnチャネルあるいはpチャネルのトランジスタ(TFT等)を用いて形成することが可能となり、正または負電位を的確に出力することが可能となる。
その結果、同一極性のトランジスタにより形成されるパネル等に配置可能で、生産量の向上、工程数やコスト削減を図ることが可能となる利点がある。
以上説明した本実施形態に係る表示装置は、図48に示すような様々な電子機器、たとえば図48(A)に示すようなテレビジョン400の表示部410、図48(B)、(B)に示すようなデジタルカメラ500,600の表示デバイス510,610、図48(D)に示すようなノート型等のパーソナルコンピュータ700の表示デバイス710、図48(E)、(F)に示すような携帯端末装置800,900の表示デバイス810,910等に適用することが可能である。
MOS構成のDC−DCコンバータの構成例を示す回路図である。 図1のDC−DCコンバータのタイミングチャートである。 本発明の第1の実施形態に係る電圧供給回路の構成例を示すブロック図である。 第1の実施形態に係るDC−DCコンバータの構成例を示す回路図である。 第1の実施形態に係る電圧供給回路のタイミングチャートである。 本発明の第2の実施形態に係る電圧供給回路の構成例を示すブロック図である。 第2の実施形態に係るDC−DCコンバータの構成例を示す回路図である。 第2の実施形態に係る電圧供給回路のタイミングチャートである。 本発明の第3の実施形態に係る電圧供給回路の構成例を示すブロック図である。 同一極性のPMOSトランジスタのみを用いて構成されたインバータの一例を示す回路図である。 本発明の第4の実施形態に係る電圧供給回路の構成例を示すブロック図である。 本発明の第5の実施形態に係る電圧供給回路の構成例を示すブロック図である。 リセット信号rstがクロックckに対して時間的に後ろにずれた場合を示すタイミングチャートである。 リセット信号rstがクロックckに対して時間的に前にずれた場合を示すタイミングチャートである。 本発明の第6の実施形態に係る電圧供給回路の構成例を示すブロック図である。 本発明の第7の実施形態に係る電圧供給回路を説明するためのタイミングチャートである。 本発明の第8の実施形態に係る電圧供給回路の構成例を示すブロック図である。 第8の実施形態に係る電圧供給回路のタイミングチャートである。 同一極性のPMOSトランジスタのみを用いて構成されたNAND回路の一例を示す回路図である。 本発明の第9の実施形態に係る電圧供給回路の構成例を示すブロック図である。 本発明の第10の実施形態に係る電圧供給回路の構成例を示すブロック図である。 同一極性のPMOSトランジスタのみを用いて構成されたNOR回路の一例を示す回路図である。 本第11の実施形態に係るDC−DCコンバータの構成例を示す回路図である。 第11の実施形態に係る電圧供給回路のタイミングチャートである。 本第12の実施形態に係るDC−DCコンバータの構成例を示す回路図である。 第12の実施形態に係る電圧供給回路のタイミングチャートである。 本発明の第13の実施形態に係る電圧供給回路を説明するためのタイミングチャートである。 本発明の第14の実施形態に係る電圧供給回路の構成例を示すブロック図である。 第14の実施形態に係る電圧供給回路のタイミングチャートである。 同一極性のPMOSトランジスタのみを用いて構成されたNOR回路の一例を示す回路図である。 本発明の第15の実施形態に係る電圧供給回路の構成例を示すブロック図である。 同一極性のNMOSトランジスタのみを用いて構成されたインバータの一例を示す回路図である。 同一極性のNMOSトランジスタのみを用いて構成されたNAND回路の一例を示す回路図である。 本発明の第16の実施形態に係る画素回路を採用した有機EL表示装置の構成を示すブロック図である。 本第16の第実施形態に係る画素回路の具体的な構成を示す回路図である。 図35の画素回路の具体的な動作を示すタイミングチャートである。 図35の画素回路の動作を説明するための図であって、発光期間の状態を示す図である。 図35の画素回路の動作を説明するための図であって、非発光期間において電圧をVssとした状態を示す図である。 図35の画素回路の動作を説明するための図であって、オフセット信号を入力した状態を示す図である。 図35の画素回路の動作を説明するための図であって、電圧をVccにした状態を示す図である。 図35の画素回路の動作を説明するための図であって、電圧をVccにしたときの駆動トランジスタのソース電圧の遷移を示す図である。 図35の画素回路の動作を説明するための図であって、データ信号Vsigを書き込むときの状態を示す図である。 図35の画素回路の動作を説明するための図であって、移動度の大小に応じた駆動トランジスタのソース電圧の遷移を示す図である。 図35の画素回路の動作を説明するための図であって、発光状態を示す図である。 本発明の第17の実施形態に係る画素回路を採用した有機EL表示装置の構成を示すブロック図である。 本第17の第実施形態に係る画素回路の具体的な構成を示す回路図である。 図46の画素回路の基本的な動作を示すタイミングチャートである。 本実施形態に係る表示装置が適用される電子機器の例を示す図である。
符号の説明
10,10A〜10N・・・電圧供給回路、11,11A〜11N・・・調整部、111〜113・・・レベルシフタ、111B・・・インバータ機能付きレベルシフタ、130・・・pチャネルトランジスタによるインバータ、130N・・・nチャネルトランジスタによるインバータ、140・・・pチャネルトランジスタによるNAND回路、140N・・・nチャネルトランジスタによるNAND回路、150・・・pチャネルトランジスタによるNOR回路、150N・・・nチャネルトランジスタによるNOR回路、12,12A〜12N・・・DC−DCコンバータ、121・・・pチャネルの出力トランジスタ、121N・・・nチャネルの出力トランジスタ、122,123・・・pチャネルのスイッチングトランジスタ、122N,123N・・・nチャネルのスイッチングトランジスタ、124,125・・・キャパシタ、126・・・追加寄生容量、200・・・表示装置、201・・・画素回路、202・・画素アレイ部、203・・水平セレクタ(HSEL)、204・・・ライトスキャナ(WSCN)、205・・・パワードライブスキャナ(PDSCN)、206,207・・・電圧供給回路、300・・・表示装置、301・・・画素回路、302・・・画素アレイ部、303・・・水平セレクタ(HSEL)、304・・・ライトスキャナ(WSCN)、305・・・ドライブスキャナ(DSCN)、306・・・第1のオートドライブ回路(AZRD1)、307・・・第2のオートゼロ回路(AZRD2)、307〜310・・・電圧供給回路。

Claims (18)

  1. 第1ノードと、
    第2ノードと、
    所定電位と、
    制御端子が上記第1ノードに接続され、第1端子が上記第2ノードに接続され、第2端子が出力端子に接続された出力トランジスタと、
    アクティブのリセット信号を受けてオンし、上記所定電位と上記第1ノードおよび第2ノードとを接続するスイッチング素子と、
    上記第1ノードに接続され、クロックが供給される第1キャパシタと、
    上記第2ノードに接続され、クロックが供給される第2キャパシタと、
    上記クロックの振幅を、上記第1ノードと第2ノードの電位が所定の差をもって変動するように調整する調整部と、を有し、
    上記リセット信号と上記クロックとは、基本的に逆相である
    電圧供給回路。
  2. 上記調整部は、
    振幅が異なる第1クロックと第2クロックを生成し、上記第1クロックを上記第1キャパシタに入力し、上記第2クロックを上記第2キャパシタに入力する機能を有し、
    上記第1クロックの振幅を上記第2クロックの振幅より大きい振幅に設定する
    請求項1記載の電圧供給回路。
  3. 上記調整部は、
    上記第2ノードに接続された付加容量を有し、
    一つのクロックを上記第1キャパシタと第2キャパシタに並列に入力する機能を有する
    請求項1記載の電圧供給回路。
  4. 上記調整部は、
    一つのクロックにより、上記クロック信号、第1クロックと第2クロックを生成し、上記スイッチング素子、第1キャパシタ、および第2キャパシタに入力する機能を有する
    請求項2記載の電圧供給回路。
  5. 上記調整部は、
    一つのクロックにより、上記クロック信号と上記クロックを生成して上記スイッチング素子、第1キャパシタ、および第2キャパシタに入力する機能を有する
    請求項3記載の電圧供給回路。
  6. 上記クロック信号の位相が上記第1クロックおよび第2クロックに対して時間的に前にずれている
    請求項2記載の電圧供給回路。
  7. 上記調整部は、クロックを上記リセット信号により遅延させる遅延回路を含む
    請求項6記載の電圧供給回路。
  8. 上記クロック信号の位相が上記第1クロックおよび第2クロックに対して時間的に前にずれている
    請求項3記載の電圧供給回路。
  9. 上記調整部は、クロックを上記リセット信号により遅延させる遅延回路を含む
    請求項8記載の電圧供給回路。
  10. 上記クロック信号の非アクティブの期間が上記出力トランジスタの電位出力期間より長く設定されている
    請求項2記載の電圧供給回路。
  11. 上記クロック信号の非アクティブの期間が上記出力トランジスタの電位出力期間より長く設定されている
    請求項3記載の電圧供給回路。
  12. 上記調整部は、上記クロック信号を、クロックとイネーブル信号により生成する機能を有する
    請求項4記載の電圧供給回路。
  13. 上記調整部は、上記クロック信号を、クロックとイネーブル信号により生成する機能を有する
    請求項5記載の電圧供給回路。
  14. マトリクス状に配列された複数の画素回路と、
    上記画素回路を形成する素子を駆動する駆動信号を出力する少なくとも一つのスキャナと、
    上記スキャナに駆動電圧を供給する電圧供給回路と、を有し、
    上記電圧供給回路は、
    第1ノードと、
    第2ノードと、
    所定電位と、
    制御端子が上記第1ノードに接続され、第1端子が上記第2ノードに接続され、第2端子が出力端子に接続された出力トランジスタと、
    アクティブのリセット信号を受けてオンし、上記所定電位と上記第1ノードおよび第2ノードとを接続するスイッチング素子と、
    上記第1ノードに接続され、クロックが供給される第1キャパシタと、
    上記第2ノードに接続され、クロックが供給される第2キャパシタと、
    上記クロックの振幅を、上記第1ノードと第2ノードの電位が所定の差をもって変動するように調整する調整部と、を有し、
    上記リセット信号と上記クロックとは、基本的に逆相である
    表示装置。
  15. 上記調整部は、
    振幅が異なる第1クロックと第2クロックを生成し、上記第1クロックを上記第1キャパシタに入力し、上記第2クロックを上記第2キャパシタに入力する機能を有し、
    上記第1クロックの振幅を上記第2クロックの振幅より大きい振幅に設定する
    請求項14記載の表示装置。
  16. 上記調整部は、
    上記第2ノードに接続された付加容量を有し、
    一つのクロックを上記第1キャパシタと第2キャパシタに並列に入力する機能を有する
    請求項14記載の表示装置。
  17. 表示装置を有する電子機器であって、
    上記表示装置は、
    マトリクス状に配列された複数の画素回路と、
    上記画素回路を形成する素子を駆動する駆動信号を出力する少なくとも一つのスキャナと、
    上記スキャナに駆動電圧を供給する電圧供給回路と、を有し、
    上記電圧供給回路は、
    第1ノードと、
    第2ノードと、
    所定電位と、
    制御端子が上記第1ノードに接続され、第1端子が上記第2ノードに接続され、第2端子が出力端子に接続された出力トランジスタと、
    アクティブのリセット信号を受けてオンし、上記所定電位と上記第1ノードおよび第2ノードとを接続するスイッチング素子と、
    上記第1ノードに接続され、クロックが供給される第1キャパシタと、
    上記第2ノードに接続され、クロックが供給される第2キャパシタと、
    上記クロックの振幅を、上記第1ノードと第2ノードの電位が所定の差をもって変動するように調整する調整部と、を有し、
    上記リセット信号と上記クロックとは、基本的に逆相である
    電子機器。
  18. 第1ノードに接続され、クロックが供給される第1キャパシタと、上記第2ノードに接続され、クロックが供給される第2キャパシタと、制御端子が上記第1ノードに接続され、第1端子が上記第2ノードに接続され、第2端子が出力端子に接続された出力トランジスタと、を用いて電圧を供給する電圧供給方法であって、
    上記クロック信号と基本的に逆相のリセット信号がアクティブの期間に所定電位と上記第1ノードおよび第2ノードとを接続する第1ステップと、
    上記クロックの振幅を、上記第1ノードと第2ノードの電位が所定の差をもって変動するように調整する第2ステップと、
    電位変動によって上記出力トランジスタから上記第2ノードの電位に応じた電圧を出力する第3ステップと
    を有する電圧供給方法。
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