JP4871776B2 - ガス検知装置およびガス検知方法 - Google Patents
ガス検知装置およびガス検知方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4871776B2 JP4871776B2 JP2007106734A JP2007106734A JP4871776B2 JP 4871776 B2 JP4871776 B2 JP 4871776B2 JP 2007106734 A JP2007106734 A JP 2007106734A JP 2007106734 A JP2007106734 A JP 2007106734A JP 4871776 B2 JP4871776 B2 JP 4871776B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- concentration
- concentration output
- air base
- detected
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000001514 detection method Methods 0.000 title claims description 49
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 213
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims description 47
- 238000007084 catalytic combustion reaction Methods 0.000 claims description 39
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 claims description 26
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 20
- 239000000567 combustion gas Substances 0.000 claims description 10
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 claims description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 230000008859 change Effects 0.000 description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 description 21
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 15
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 12
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 11
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012855 volatile organic compound Substances 0.000 description 5
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 231100000572 poisoning Toxicity 0.000 description 3
- 230000000607 poisoning effect Effects 0.000 description 3
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 3
- 230000004044 response Effects 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000274 adsorptive effect Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000004397 blinking Effects 0.000 description 1
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Hf+4] WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000036962 time dependent Effects 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
Description
itg_base=itg_base0×exp (-0.018×age)・・・(1)
ここで、itg_base:被検ガスの検知時のVa積分値、itg_base0:経年変化初期におけるVa積分値、age :経時量である。
sense =exp (-0.0087×age)・・・(2)
ここで、sense :センサ感度である。
gas =(itg_gas −itg_base)/sense ・・・(3)
age =ln(itg_base/itg_base0)/(−0.018)・・・(4)
(1)センサと検出回路などの最小の構成で接触燃焼式ガスセンサ41の経年変化に対する補正が可能である。
(2)校正用の標準ガスが不要である。
(3)小型で校正が簡単である。
(4)連続モニタが可能である。
11 CPU
11a 濃度出力取得手段(CPU)
11b 経時量取得手段(CPU)
11c センサ感度取得手段(CPU)
11d 検知濃度取得手段(CPU)
11e 通電制御手段(CPU)
12 記憶手段(ROM)
14 EEPROM
41 接触燃焼式ガスセンサ
Claims (5)
- 被検知ガスが吸着した状態において前記被検知ガスが燃焼する燃焼温度に加熱された時に前記被検知ガスの濃度を計測すると共に、前記被検知ガスが吸着していない状態において前記燃焼温度に加熱された時にエアベース濃度を計測する接触燃焼式ガスセンサと、
前記接触燃焼式ガスセンサで計測された前記被検知ガスの濃度を表す計測濃度出力を取得すると共に、前記接触燃焼式ガスセンサで計測された前記エアベース濃度を表すエアベース濃度出力を取得する濃度出力取得手段と、
経時量と前記エアベース濃度出力の関係、および経時量とセンサ感度の関係を予め記憶する記憶手段と、
前記濃度出力取得手段で取得された前記計測濃度出力と前記エアベース濃度出力の差が予め決められた一定値以下の場合に、前記濃度出力取得手段で取得された前記エアベース濃度出力と、前記記憶手段に予め記憶されている経時量と前記エアベース濃度出力の関係とに基づいて経時量を取得する経時量取得手段と、
前記経時量取得手段で取得された前記経時量と、前記記憶手段に予め記憶されている経時量とセンサ感度の関係とに基づいてセンサ感度を求めるセンサ感度取得手段と、
前記濃度出力取得手段で取得された前記計測濃度出力と前記エアベース濃度出力の差に、前記センサ感度取得手段で取得された前記センサ感度による補正を行って前記被検知ガスの検知濃度を取得する検知濃度取得手段と、
を備えていることを特徴とするガス検知装置。 - 請求項1記載のガス検知装置において、
前記被検知ガスが吸着するように前記接触燃焼式ガスセンサへの通電を第1の通電停止期間の間停止した後に、吸着した前記被検知ガスを燃焼する前記燃焼温度となるように第1の通電期間の間通電し、続いて、前記被検知ガスが吸着しないように前記接触燃焼式ガスセンサへの通電を前記第1の通電停止期間より短い第2の通電停止期間の間停止した後に、前記燃焼温度となるように前記第1の通電期間と等しい第2の通電期間の間通電する制御を行う通電制御手段をさらに備え、
前記濃度出力取得手段は、前記第1の通電期間の間に前記計測濃度出力を取得し、前記第2の通電期間の間に前記エアベース濃度出力を取得することを特徴とするガス検知装置。 - 請求項2記載のガス検知装置において、
前記濃度出力取得手段は、前記エアベース濃度出力を積分値または瞬時値として取得することを特徴とするガス検知装置。 - 請求項3記載のガス検知装置において、
前記濃度出力取得手段は、前記積分値または瞬時値を複数回取得して平均処理した値を前記エアベース濃度出力として取得することを特徴とするガス検知装置。 - 接触燃焼式ガスセンサに被検知ガスが吸着した状態において被検知ガスが燃焼する燃焼温度に加熱された時に被検知ガスの濃度を計測し、計測された前記被検知ガスの濃度を表す計測濃度出力を取得する計測濃度出力取得ステップと、
前記被検知ガスが吸着していない状態において前記燃焼温度に加熱された時にエアベース濃度を計測し、計測された前記エアベース濃度を表すエアベース濃度出力を取得するエアベース濃度出力取得ステップと、
前記計測濃度取得ステップで取得された前記計測濃度出力と前記エアベース濃度出力取得ステップで取得された前記エアベース濃度出力の差が予め決められた一定値以下の場合に、前記エアベース濃度出力と、記憶手段に予め記憶されている経時量と前記エアベース濃度出力の関係とに基づいて経時量を取得する経時量取得ステップと、
前記経時量取得ステップで取得された前記経時量と、前記記憶手段に予め記憶されている経時量とセンサ感度の関係とに基づいてセンサ感度を求めるセンサ感度取得ステップと、
前記計測濃度取得ステップで取得された前記計測濃度出力と前記エアベース濃度出力取得ステップで取得された前記エアベース濃度出力の差に、前記センサ感度取得ステップで取得された前記センサ感度の補正を行って前記被検知ガスの検知濃度を取得する検知濃度取得ステップと、
を備えていることを特徴とするガス検知方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007106734A JP4871776B2 (ja) | 2007-04-16 | 2007-04-16 | ガス検知装置およびガス検知方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007106734A JP4871776B2 (ja) | 2007-04-16 | 2007-04-16 | ガス検知装置およびガス検知方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008267810A JP2008267810A (ja) | 2008-11-06 |
| JP4871776B2 true JP4871776B2 (ja) | 2012-02-08 |
Family
ID=40047532
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007106734A Expired - Fee Related JP4871776B2 (ja) | 2007-04-16 | 2007-04-16 | ガス検知装置およびガス検知方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4871776B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009300088A (ja) * | 2008-06-10 | 2009-12-24 | Yazaki Corp | ガス検出装置及び経年変化補正方法 |
| US11119075B2 (en) | 2018-10-05 | 2021-09-14 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Gas sensor and gas sensing method for providing self-calibration |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5424665B2 (ja) * | 2009-02-16 | 2014-02-26 | 理研計器株式会社 | 接触燃焼式ガス検出装置 |
| JP5165634B2 (ja) * | 2009-04-22 | 2013-03-21 | 矢崎総業株式会社 | ガス分析装置 |
| JP2011052978A (ja) * | 2009-08-31 | 2011-03-17 | Yazaki Corp | ガス検出装置及びガス検出方法 |
| JP5368950B2 (ja) * | 2009-11-25 | 2013-12-18 | 矢崎総業株式会社 | ガス検出装置 |
| JP5798508B2 (ja) * | 2012-02-13 | 2015-10-21 | 新コスモス電機株式会社 | ガス検知装置 |
| JP2014235082A (ja) * | 2013-06-03 | 2014-12-15 | 矢崎エナジーシステム株式会社 | ガス警報装置 |
| US10948469B2 (en) * | 2017-05-17 | 2021-03-16 | Msa Technology, Llc | Dynamic comparative diagnostics for catalytic structures and combustible gas sensors including catalytic structures |
| CN110927149A (zh) * | 2019-11-28 | 2020-03-27 | 中冶建筑研究总院有限公司 | 人防专用催化剂dmmp防护时间测试装置及测试方法 |
| CN121773326A (zh) * | 2023-09-11 | 2026-03-31 | Nissha株式会社 | 气体检测器和气体检测器的劣化评价方法 |
-
2007
- 2007-04-16 JP JP2007106734A patent/JP4871776B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009300088A (ja) * | 2008-06-10 | 2009-12-24 | Yazaki Corp | ガス検出装置及び経年変化補正方法 |
| US11119075B2 (en) | 2018-10-05 | 2021-09-14 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Gas sensor and gas sensing method for providing self-calibration |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2008267810A (ja) | 2008-11-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4871776B2 (ja) | ガス検知装置およびガス検知方法 | |
| JP5016599B2 (ja) | ガス検出装置 | |
| JP5893982B2 (ja) | ガス検出装置 | |
| JP4758791B2 (ja) | ガス濃度測定装置及びガス濃度測定方法 | |
| JP2004069465A (ja) | 吸着燃焼式ガスセンサを用いたガス検知方法及びその装置 | |
| JP5111180B2 (ja) | 熱式流量計 | |
| JP6108516B2 (ja) | ガス検出装置 | |
| JP2005083950A (ja) | Vocセンサおよびvoc検知装置 | |
| JP3754686B2 (ja) | ガス検知方法およびその装置 | |
| JP4805759B2 (ja) | ガス検出装置 | |
| JP6912348B2 (ja) | ガス検知器 | |
| JP4528638B2 (ja) | ガス検出装置 | |
| JP5330159B2 (ja) | ガス検出装置 | |
| JP4133856B2 (ja) | 吸着燃焼式ガスセンサを用いたガス検知方法及びその装置 | |
| JP2011145091A (ja) | ガス検出装置 | |
| JP5368950B2 (ja) | ガス検出装置 | |
| JP5385055B2 (ja) | ガス検出装置 | |
| JP5467648B2 (ja) | 接触燃焼式メタン検出装置及びメタン検出方法 | |
| JP5399721B2 (ja) | ガス濃度検出装置 | |
| JP2010175367A (ja) | ガスセンサの性能評価方法及びガスセンサの性能評価装置 | |
| JP5179997B2 (ja) | ガス検出装置 | |
| JP4497658B2 (ja) | ガス検知方法及び装置 | |
| US20250297980A1 (en) | Gas sensor | |
| JP2011052978A (ja) | ガス検出装置及びガス検出方法 | |
| JP2021092487A (ja) | ガスセンサ |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100225 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111110 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111115 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111121 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141125 Year of fee payment: 3 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |