JP4879112B2

JP4879112B2 - Exposure equipment

Info

Publication number: JP4879112B2
Application number: JP2007200002A
Authority: JP
Inventors: 隆悟佐藤; 聡高橋; 和幸中野
Original assignee: Hitachi High Technologies Corp
Current assignee: Hitachi High Tech Corp
Priority date: 2007-07-31
Filing date: 2007-07-31
Publication date: 2012-02-22
Anticipated expiration: 2027-07-31
Also published as: JP2009036925A

Description

本発明は、液晶ディスプレイ装置等の表示用パネル基板の製造において、基板の露光を行う露光装置に関する。 The present invention, in the manufacture of the display panel substrate such as a liquid crystal display device, relates to an exposure equipment to perform the exposure of the substrate.

表示用パネルとして用いられる液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ（ＴｈｉｎＦｉｌｍＴｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板やカラーフィルタ基板、プラズマディスプレイパネル用基板、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示パネル用基板等の製造は、露光装置を用いて、フォトリソグラフィー技術により基板上にパターンを形成して行われる。露光装置としては、レンズ又は鏡を用いてフォトマスク（以下、「マスク」と称す）のパターンを基板上に投影するプロジェクション方式と、マスクと基板との間に微小な間隙（プロキシミティギャップ）を設けてマスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ方式とがある。プロキシミティ方式は、プロジェクション方式に比べてパターン解像性能は劣るが、照射光学系の構成が簡単で、かつ処理能力が高く量産用に適している。 Manufacturing of TFT (Thin Film Transistor) substrates, color filter substrates, plasma display panel substrates, organic EL (Electroluminescence) display panel substrates, and the like of liquid crystal display devices used as display panels is performed using photolithography using an exposure apparatus. This is performed by forming a pattern on the substrate by a technique. As an exposure apparatus, a projection system that projects a photomask (hereinafter referred to as “mask”) pattern onto a substrate using a lens or a mirror, and a small gap (proximity gap) between the mask and the substrate. There is a proximity method in which a mask pattern is provided and transferred to a substrate. The proximity method is inferior in pattern resolution performance to the projection method, but the configuration of the irradiation optical system is simple, the processing capability is high, and it is suitable for mass production.

大型の基板を対象とした露光装置では、基板を水平に置いた状態で露光を行うのが一般的である。その場合、マスクはマスクホルダにより基板の上方に基板へ向き合わせて保持され、マスクには重力によってたわみが発生する。マスクにたわみが発生すると、基板へのパターンの焼付けが均一に行われない。 In an exposure apparatus for a large substrate, exposure is generally performed with the substrate placed horizontally. In that case, the mask is held by the mask holder facing the substrate above the substrate, and the mask is deflected by gravity. When the mask is bent, the pattern is not baked uniformly on the substrate.

従来、マスクのたわみを小さくするために、例えば特許文献１に記載の様に、マスクの二辺の近傍を下方から支持し、マスクの二辺の縁部を上方から押圧することによって、マスクのたわみを機械的に矯正する方法が行われていた。また、近年では、例えば特許文献２に記載の様に、マスク上面に負圧室を設け、マスクに単位面積当たりの質量を相殺する負圧をかけることによって、マスクのたわみを抑制する方法も行われている。
特開２００１−１０９１６０号公報特開２００３−１３１３８８号公報 Conventionally, in order to reduce the deflection of the mask, for example, as described in Patent Document 1, the vicinity of the two sides of the mask is supported from below, and the edges of the two sides of the mask are pressed from above, thereby There was a method of mechanically correcting the deflection. In recent years, for example, as described in Patent Document 2, a method of suppressing the deflection of the mask by providing a negative pressure chamber on the upper surface of the mask and applying a negative pressure that cancels out the mass per unit area to the mask is also performed. It has been broken.
JP 2001-109160 A JP 2003-131388 A

近年、表示用パネルの大画面化に伴い基板が大型化する程、マスクも大型化し、マスクの重力によるたわみが大きくなってきた。マスクが大型化しても、露光時に要求されるパターンの焼付け精度は従来と同様であり、マスクのたわみを所定以下に抑制して、パターンの焼付け精度を保つ必要がある。しかしながら、従来の方法では、マスクが大型化してたわみが大きくなるにつれ、マスクのたわみを十分に抑制することができなくなってきた。 In recent years, the larger the substrate with the larger display panel, the larger the mask, and the greater the deflection of the mask due to gravity. Even if the mask is enlarged, the pattern printing accuracy required at the time of exposure is the same as the conventional one, and it is necessary to keep the pattern printing accuracy by suppressing the deflection of the mask below a predetermined level. However, according to the conventional method, as the mask becomes larger and the deflection becomes larger, the deflection of the mask cannot be sufficiently suppressed.

また、近年、表示用パネルの需要増大に伴い基板の大きさが多様化し、多様な大きさのマスクが使用される様になってきた。従来、異なる大きさの基板の露光を行うには、露光装置のマスクホルダをマスクの大きさに合わせて交換する必要があった。そして、マスクの大きさによって異なる大きさのたわみを抑制する必要があった。 In recent years, as the demand for display panels has increased, the size of substrates has diversified, and masks of various sizes have been used. Conventionally, in order to expose substrates of different sizes, it has been necessary to replace the mask holder of the exposure apparatus in accordance with the size of the mask. And it was necessary to suppress the deflection of the magnitude | size which changes with the magnitude | sizes of a mask.

本発明の課題は、マスクの重力によるたわみを効果的に抑制することである。さらに、本発明の課題は、マスクの重力によるたわみの大きさが異なっても、マスクのたわみを効果的に抑制することである。また、本発明の課題は、パターンの焼付けを均一に行って、高品質な基板を製造することである。 An object of the present invention is to effectively suppress the deflection of the mask due to gravity. Furthermore, an object of the present invention is to effectively suppress the deflection of the mask even when the magnitude of the deflection due to the gravity of the mask is different. Another object of the present invention is to produce a high-quality substrate by uniformly baking a pattern.

本発明の露光装置は、基板を水平に保持するチャックと、マスクをチャックに保持された基板へ向き合わせて保持するマスクホルダとを備え、マスクのパターンを基板へ焼き付ける露光装置であって、マスクホルダが、マスクの四辺の各周辺部を保持する４つの独立したホルダ部を有し、マスクホルダの向かい合う２つのホルダ部を、少なくとも３点でそれぞれ支持する支持手段と、支持手段の各ホルダ部を支持する点の高さを調整する第１の機構を有し、第１の機構により支持手段の各ホルダ部を支持する点の高さを調整して、支持手段に支持された各ホルダ部を傾斜させ、また支持手段に支持された各ホルダ部を傾斜させる角度を変更する第１の調整手段と、マスクホルダの支持手段により支持されていない向かい合う２つのホルダ部をそれぞれ保持して移動する移動手段と、移動手段の角度を調整する第２の機構を有し、第２の機構により移動手段の角度を調整して、移動手段に保持された各ホルダ部を傾斜させ、また移動手段に保持された各ホルダ部を傾斜させる角度を変更する第２の調整手段とを備え、第１の調整手段及び前記第２の調整手段により各ホルダ部を傾斜させて、マスクに重力によるたわみと逆方向へ湾曲を与え、縦又は横の大きさが異なるマスクを用いるとき、マスクの大きさに応じて、移動手段によりマスクホルダの向かい合う２つのホルダ部を移動し、マスクの重力によるたわみの大きさに応じて、第１の調整手段及び第２の調整手段により各ホルダ部を傾斜させる角度を変更して、マスクに与える湾曲を変えるものである。各ホルダ部を傾斜させて、マスクに重力によるたわみと逆方向へ湾曲を与えるので、マスクの重力によるたわみが逆方向の湾曲により打ち消され、マスクのたわみが効果的に抑制される。 An exposure apparatus according to the present invention is an exposure apparatus that includes a chuck that holds a substrate horizontally and a mask holder that holds the mask facing the substrate held by the chuck, and is configured to print a mask pattern onto the substrate. The holder has four independent holder portions for holding the peripheral portions of the four sides of the mask, and supports means for supporting the two holder portions facing each other at at least three points, and each holder of the support means. Each of the holders supported by the support means by adjusting the height of the point supporting each holder part of the support means by the first mechanism. A first adjusting means for changing the angle at which each holder part supported by the support means is inclined and two holder parts facing each other not supported by the support means for the mask holder. Each holding unit held by the moving unit has a moving unit that holds and moves, and a second mechanism that adjusts the angle of the moving unit, and the angle of the moving unit is adjusted by the second mechanism. And a second adjusting means for changing the angle at which each holder portion held by the moving means is inclined, and each holder portion is inclined by the first adjusting means and the second adjusting means. When the mask is bent in the opposite direction to the deflection due to gravity, and the mask having different vertical or horizontal sizes is used, the two holder parts facing each other by the moving means are moved according to the size of the mask, According to the magnitude of the deflection due to the gravity of the mask, the angle at which each holder portion is inclined by the first adjusting means and the second adjusting means is changed to change the curvature applied to the mask. By tilting each holder portion, the mask is bent in the opposite direction to the deflection due to gravity, so that the deflection due to the gravity of the mask is canceled by the bending in the opposite direction, and the deflection of the mask is effectively suppressed.

さらに、マスクの重力によるたわみの大きさに応じて、各ホルダ部を傾斜させる角度を変更するので、マスクの重力によるたわみの大きさが異なっても、ホルダ部を傾斜させる角度を変更することにより、マスクに与える湾曲を変えることが可能となる。 Further, according to the magnitude of deflection due to gravity mask, so changing the angle of inclining the respective holder part, even if different sizes of deflection due to gravity of the mask, changing the angle for tilting the holder portion This makes it possible to change the curvature applied to the mask.

さらに、マスクホルダの向かい合う２つのホルダ部を少なくとも３点でそれぞれ支持する支持手段を備え、第１の調整手段が、支持手段の各ホルダ部を支持する点の高さを調整する第１の機構を有するので、簡単な構成で、マスクホルダの向かい合う２つのホルダ部が傾斜され、またはホルダ部を傾斜させる角度が変更される。 Further comprising a support means for supporting each of the two holder sections opposite the mask holder at least at three points, the first adjusting means, a first mechanism for adjusting the height of the point of supporting the holder portion of the support means Therefore, the two holder portions facing each other of the mask holder are inclined or the angle at which the holder portion is inclined is changed with a simple configuration.

さらに、マスクホルダの他の向かい合う２つのホルダ部を保持して移動する移動手段を備え、縦又は横の大きさが異なるマスクを用いるとき、マスクの大きさに応じて、移動手段によりマスクホルダの向かい合う２つのホルダ部を移動するので、従来の様にマスクホルダをマスクの大きさに合わせて交換する必要がなく、異なる大きさのマスクの交換が短時間で容易に行われる。そして、移動手段の角度を調整する簡単な作業で、ホルダ部が傾斜され、またはホルダ部を傾斜させる角度が変更される。 In addition, when a mask having a different vertical or horizontal size is used , a moving unit that holds and moves the other two holder parts facing each other is used . Since the two holder portions facing each other are moved , it is not necessary to replace the mask holder in accordance with the size of the mask as in the prior art, and replacement of masks of different sizes can be easily performed in a short time. Then, the holder portion is tilted or the angle at which the holder portion is tilted is changed by a simple operation of adjusting the angle of the moving means.

本発明によれば、マスクホルダを、マスクの四辺の各周辺部を保持する４つの独立したホルダ部に分割し、各ホルダ部を傾斜させて、マスクに重力によるたわみと逆方向へ湾曲を与えることにより、マスクの重力によるたわみを逆方向の湾曲により打ち消し、マスクのたわみを効果的に抑制することができる。 According to the onset bright, curved mask holder, is divided into four separate holder for holding the respective peripheral portions of the four sides of the mask, by inclining the respective holder part, to the deflection in the opposite direction by gravity to the mask Therefore, the deflection of the mask due to gravity can be canceled out by bending in the reverse direction, and the deflection of the mask can be effectively suppressed.

さらに、マスクの重力によるたわみの大きさに応じて、各ホルダ部を傾斜させる角度を変更することにより、マスクの重力によるたわみの大きさが異なっても、マスクのたわみを効果的に抑制することができる。 Furthermore, by changing the angle at which each holder part is tilted according to the magnitude of the deflection due to the gravity of the mask, the deflection of the mask is effectively suppressed even if the magnitude of the deflection due to the gravity of the mask is different. Can do.

さらに、マスクホルダの向かい合う２つのホルダ部を少なくとも３点でそれぞれ支持し、各点の高さを調整することにより、簡単な構成で、ホルダ部を傾斜させることができ、またはホルダ部を傾斜させる角度を変更することができる。 Furthermore, by supporting the two holder parts facing each other at least at three points and adjusting the height of each point, the holder part can be inclined with a simple configuration, or the holder part is inclined. The angle can be changed.

さらに、マスクホルダの他の向かい合う２つのホルダ部を保持して移動する移動手段を設け、移動手段の角度を調整して、移動手段に保持された各ホルダ部を傾斜させ、また移動手段に保持された各ホルダ部を傾斜させる角度を変更し、縦又は横の大きさが異なるマスクを用いるとき、マスクの大きさに応じて、移動手段によりマスクホルダの向かい合う２つのホルダ部を移動し、マスクの重力によるたわみの大きさに応じて、ホルダ部を傾斜させる角度を変更することにより、異なる大きさのマスクの交換を短時間で容易に行うことができ、移動手段の角度を調整する簡単な作業で、ホルダ部を傾斜させることができ、またはホルダ部を傾斜させる角度を変更することができる。 Furthermore, a moving means for holding and moving the other two holder portions facing each other is provided, the angle of the moving means is adjusted, and each holder portion held by the moving means is inclined and held by the moving means. When using a mask having a different vertical or horizontal size by changing the angle at which each holder portion is inclined, the two holder portions facing each other are moved by the moving means according to the size of the mask, and the mask By changing the angle at which the holder is tilted according to the degree of deflection due to gravity, the masks of different sizes can be easily replaced in a short time, and the angle of the moving means can be easily adjusted. In operation, the holder part can be tilted, or the angle at which the holder part is tilted can be changed.

図１は、本発明の一実施の形態による露光装置の概略構成を示す図である。本実施の形態は、プロキシミティ方式の露光装置の例を示している。露光装置は、チャック１０、ステージ１１、ホルダフレーム２０、マスクホルダ、ホルダ部支持装置、ホルダ部移動装置、及び調整機構を含んで構成されている。なお、露光装置は、これらの他に、露光用光源、チャック１０へ基板１を供給する供給ユニット、チャック１０から基板１を回収する回収ユニット、装置内の温度管理を行う温度制御ユニット等を備えているが、本実施の形態では発明に直接関係しない部分は省略してある。 FIG. 1 is a view showing the schematic arrangement of an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention. This embodiment shows an example of a proximity type exposure apparatus. The exposure apparatus includes a chuck 10, a stage 11, a holder frame 20, a mask holder, a holder unit support device, a holder unit moving device, and an adjustment mechanism. In addition to the above, the exposure apparatus includes an exposure light source, a supply unit that supplies the substrate 1 to the chuck 10, a recovery unit that recovers the substrate 1 from the chuck 10, a temperature control unit that manages the temperature in the apparatus, and the like. However, in this embodiment, portions not directly related to the invention are omitted.

露光対象である基板１が、チャック１０に搭載されている。チャック１０は、基板１の下面を真空吸着して、基板１を水平に保持する。基板１の上方には、マスク２がマスクホルダによって保持されている。マスクホルダは、マスク２の周辺部を保持する複数の独立したホルダ部２４ａ，２４ｂから成り、マスク２をチャック１０に保持された基板１へ向き合わせて保持する。ホルダ部２４ａは、後述するホルダ部支持装置により、ホルダフレーム２０に取り付けられている。また、ホルダ部２４ｂは、後述するホルダ部移動装置により、ホルダフレーム２０に移動可能に取り付けられている。 A substrate 1 to be exposed is mounted on a chuck 10. The chuck 10 vacuum-sucks the lower surface of the substrate 1 to hold the substrate 1 horizontally. A mask 2 is held above the substrate 1 by a mask holder. The mask holder includes a plurality of independent holder portions 24 a and 24 b that hold the peripheral portion of the mask 2, and holds the mask 2 facing the substrate 1 held by the chuck 10. The holder part 24a is attached to the holder frame 20 by a holder part support device described later. The holder 24b is movably attached to the holder frame 20 by a holder moving device described later.

ステージ１１は、チャック１０を搭載しながら、ＸＹ方向へ移動し、θ方向へ回転し、またＺ方向へ移動及びチルトする。ステージ１１のＸＹ方向への移動及びθ方向への回転によって、基板１のアライメントが行われる。また、ステージ１１のＺ方向への移動及びチルトによって、マスク２と基板１とのギャップ合わせが行われる。 The stage 11 moves in the XY direction, rotates in the θ direction, and moves and tilts in the Z direction while mounting the chuck 10. The substrate 1 is aligned by the movement of the stage 11 in the XY direction and the rotation in the θ direction. Further, the gap between the mask 2 and the substrate 1 is adjusted by the movement and tilt of the stage 11 in the Z direction.

なお、本実施の形態では、ステージ１１によりマスク２と基板１とのギャップ合わせを行っているが、ホルダ部２４ａ，２４ｂが取り付けられたホルダフレーム２０をＺ方向へ移動及びチルトすることにより、マスク２と基板１とのギャップ合わせを行ってもよい。 In the present embodiment, the gap between the mask 2 and the substrate 1 is adjusted by the stage 11, but the mask is obtained by moving and tilting the holder frame 20 to which the holder portions 24a and 24b are attached in the Z direction. The gap between the substrate 2 and the substrate 1 may be aligned.

図２は、ホルダフレームの上面図である。また、図３は、ホルダフレームの下面図である。ホルダフレーム２０は、フレーム２１ａ，２１ｂ、及びプレート２２ａ，２２ｂを含んで構成されている。フレーム２１ａ，２１ｂは、断面がＩ字形の形材であり、図２に示す様に、２つフレーム２１ａと２つのフレーム２１ｂとが組み合わされて、四角形の枠を構成している。フレーム２１ａ，２１ｂにより構成された四角形の枠の底面には、図３に示す様に、２つの略コの字形のプレート２２ａと、２つの四角形のプレート２２ｂとが取り付けられている。 FIG. 2 is a top view of the holder frame. FIG. 3 is a bottom view of the holder frame. The holder frame 20 includes frames 21a and 21b and plates 22a and 22b. The frames 21a and 21b are I-shaped sections, and as shown in FIG. 2, the two frames 21a and the two frames 21b are combined to form a square frame. As shown in FIG. 3, two substantially U-shaped plates 22a and two rectangular plates 22b are attached to the bottom surface of the rectangular frame formed by the frames 21a and 21b.

図３において、プレート２２ａは、破線で示す四角形の枠の左右に取り付けられており、一部が四角形の枠の内側へ迫り出している。プレート２２ｂは、２つのプレート２２ａに挟まれ、破線で示す四角形の枠の上下に取り付けられており、一部が四角形の枠の内側及び外側へ迫り出している。プレート２２ａが四角形の枠の内側へ迫り出した部分と、プレート２２ｂが四角形の枠の内側へ迫り出した部分とにより、四角形の枠の内側に四角形の開口が形成されている。 In FIG. 3, the plates 22a are attached to the left and right sides of a rectangular frame indicated by a broken line, and a part of the plate 22a protrudes to the inside of the rectangular frame. The plate 22b is sandwiched between the two plates 22a and is attached to the top and bottom of a rectangular frame indicated by a broken line, and a part of the plate 22b protrudes toward the inside and outside of the rectangular frame. A square opening is formed inside the quadrangular frame by a portion where the plate 22a projects to the inside of the quadrangular frame and a portion where the plate 22b projects to the inside of the quadrangular frame.

図４は、図２の矢印Ｄで示す方向に見たホルダフレームの側面図である。また、図５は、図２の矢印Ｅで示す方向に見たホルダフレームの側面図である。フレーム２１ａ，２１ｂにより構成された四角形の枠の側面には、断面がＩ字形の形材を覆って板材が取り付けられており、形材自身の側面は見えない。図４及び図５に示す様に、プレート２２ｂが四角形の枠の外側へ迫り出した部分には、補強板２３が取り付けられている FIG. 4 is a side view of the holder frame as seen in the direction indicated by arrow D in FIG. FIG. 5 is a side view of the holder frame viewed in the direction indicated by arrow E in FIG. A plate material is attached to the side surface of the quadrangular frame formed by the frames 21a and 21b so as to cover the I-shaped cross section, and the side surface of the shape itself cannot be seen. As shown in FIGS. 4 and 5, a reinforcing plate 23 is attached to a portion where the plate 22 b protrudes to the outside of the rectangular frame.

図６は、ホルダ部が取り付けられたホルダフレームの上面図である。また、図７は、ホルダ部が取り付けられたホルダフレームの下面図である。ホルダ部２４ａは、図７に示す様に、支持アーム３１及び支持ブロック３３を含むホルダ部支持装置により、プレート２２ａの下面に取り付けられている。ホルダ部支持装置は、１つのホルダ部２４ａを４点で支持し、ホルダ部２４ａを支持する４点の高さは、後述する調整機構により調整される。なお、本実施の形態では、ホルダ部支持装置が１つのホルダ部２４ａを４点で支持しているが、本発明はこれに限らず、１つのホルダ部２４ａを少なくとも３点で支持すればよい。 FIG. 6 is a top view of the holder frame to which the holder portion is attached. FIG. 7 is a bottom view of the holder frame to which the holder portion is attached. As shown in FIG. 7, the holder portion 24 a is attached to the lower surface of the plate 22 a by a holder portion support device including a support arm 31 and a support block 33. The holder unit support device supports one holder unit 24a at four points, and the heights of the four points that support the holder unit 24a are adjusted by an adjustment mechanism described later. In the present embodiment, the holder support device supports one holder part 24a at four points. However, the present invention is not limited to this, and one holder part 24a may be supported at least at three points. .

ホルダ部２４ｂは、図６及び図７に示す様に、ガイドベース４１、レール４２及びリニアガイド４３を含むホルダ部移動装置により、プレート２２ｂの下面に移動可能に取り付けられている。ホルダ部移動装置は、ホルダ部２４ｂを保持して移動し、ホルダ部移動装置の角度は、後述する調整機構により調整される。なお、図７において、ホルダ部移動装置は、その大部分がホルダ部２４ｂの上方に位置し、破線で示されている。 As shown in FIGS. 6 and 7, the holder portion 24 b is movably attached to the lower surface of the plate 22 b by a holder portion moving device including a guide base 41, a rail 42, and a linear guide 43. The holder part moving device moves while holding the holder part 24b, and the angle of the holder part moving device is adjusted by an adjusting mechanism described later. In FIG. 7, most of the holder part moving device is located above the holder part 24 b and is indicated by a broken line.

ホルダ部２４ｂは２つのホルダ部２４ａに挟まれ、ホルダ部２４ａとホルダ部２４ｂとにより、プレート２２ａとプレート２２ｂとで形成された開口の内側に、露光光が通る四角形の開口が形成されている。図７に示す様に、四角形のマスク２がこの開口を覆ってホルダ部２４ａ，２４ｂに取り付けられ、ホルダ部２４ａ，２４ｂは、四角形のマスク２の四辺の周辺部を保持する。 The holder part 24b is sandwiched between two holder parts 24a, and a rectangular opening through which exposure light passes is formed inside the opening formed by the plate 22a and the plate 22b by the holder part 24a and the holder part 24b. . As shown in FIG. 7, the rectangular mask 2 is attached to the holder portions 24 a and 24 b so as to cover the opening, and the holder portions 24 a and 24 b hold the peripheral portions of the four sides of the rectangular mask 2.

図８は、図６のＡ−Ａ部の断面図である。本実施の形態では、後述する調整機構により、ホルダ部支持装置がホルダ部２４ａを支持する４点の高さを調整して、ホルダ部２４ａを水平に対して角度αだけ傾斜させる。また、図９は、図６のＢ−Ｂ部の断面図である。本実施の形態では、後述する調整機構により、ホルダ部２４ｂを保持して移動するホルダ部移動装置の角度を調整して、ホルダ部２４ｂを水平に対して角度βだけ傾斜させる。この様にホルダ部２４ａ，２４ｂを傾斜させることにより、マスク２に重力によるたわみと逆方向へ湾曲が与えられる。この湾曲によって、マスク２の重力によるたわみが打ち消され、マスク２のたわみが効果的に抑制される。 FIG. 8 is a cross-sectional view taken along a line AA in FIG. In the present embodiment, the height of the four points at which the holder support device supports the holder 24a is adjusted by an adjustment mechanism described later, and the holder 24a is inclined by an angle α with respect to the horizontal. FIG. 9 is a cross-sectional view taken along the line BB in FIG. In the present embodiment, the angle of the holder part moving device that holds and moves the holder part 24b is adjusted by an adjusting mechanism described later, and the holder part 24b is inclined by an angle β with respect to the horizontal. By inclining the holder portions 24a and 24b in this manner, the mask 2 is bent in a direction opposite to the deflection due to gravity. By this curvature, the deflection of the mask 2 due to gravity is canceled, and the deflection of the mask 2 is effectively suppressed.

以下、本実施の形態によるホルダ部支持装置、ホルダ部移動装置及び調整機構の詳細を説明する。図１０は、図６からホルダフレームを取り除いた状態で見たホルダ部支持装置、ホルダ部移動装置及び調整機構の上面図である。図１１（ａ）は図１０のＦ−Ｆ部の断面図、図１１（ｂ）は図１０の矢印Ｇで示す方向に見たホルダ部支持装置及び調整機構の側面図である。 Hereinafter, details of the holder support device, the holder moving device, and the adjustment mechanism according to the present embodiment will be described. FIG. 10 is a top view of the holder supporting device, the holder moving device, and the adjusting mechanism viewed from the state in which the holder frame is removed from FIG. FIG. 11A is a cross-sectional view of the FF portion in FIG. 10, and FIG. 11B is a side view of the holder support device and the adjustment mechanism as seen in the direction indicated by the arrow G in FIG.

ホルダ部２４ａを支持するホルダ部支持装置は、支持アーム３１、ボール受け３２ａ、支持ブロック３３、調整ボルト３５、ロックナット３６、ボール３７、平座金３８、及びねじ３９を含んで構成されている。また、ホルダ部支持装置のホルダ部２４ａを支持する点の高さを調整する調整機構は、ねじ穴３４、調整ボルト３５、及びロックナット３６を含んで構成されている。 The holder unit support device that supports the holder unit 24 a includes a support arm 31, a ball receiver 32 a, a support block 33, an adjustment bolt 35, a lock nut 36, a ball 37, a plain washer 38, and a screw 39. The adjustment mechanism for adjusting the height of the point that supports the holder part 24 a of the holder part support device includes a screw hole 34, an adjustment bolt 35, and a lock nut 36.

図１１（ａ）において、ホルダ部２４ａは、吸着溝２５によりマスク２の周辺部を真空吸着して保持している。ホルダ部２４ａには、略Ｌ字形の支持アーム３１が、Ｌ字を逆さにした状態で取り付けられている。支持アーム３１の横方向に伸びたアーム部の下面には、ボール受け３２ａが頭部を下にして埋め込まれている。ボール受け３２ａの頭部は平らに加工されている。 In FIG. 11A, the holder portion 24 a holds the peripheral portion of the mask 2 by vacuum suction using the suction groove 25. A substantially L-shaped support arm 31 is attached to the holder portion 24a with the L-shape inverted. A ball receiver 32 a is embedded in the lower surface of the arm portion extending in the lateral direction of the support arm 31 with the head facing down. The head of the ball receiver 32a is processed flat.

図１１（ｂ）において、破線で示すプレート２２ａには、略Ｕ字形の支持ブロック３３が取り付けられている。図１１（ａ）において、支持ブロック３３の底部には、貫通したねじ穴３４が形成されている。調整ボルト３５が、ねじ穴３４にねじ込まれ、ロックナット３６で固定されている。調整ボルト３５の頭部には、破線で示す円錐状の窪みが形成されている。この窪みにはボール３７が入れられており、ボール３７は、ボール受け３２ａの頭部に接触して、支持アーム３１が取り付けられたホルダ部２４ａを点で支持している。 In FIG. 11B, a substantially U-shaped support block 33 is attached to a plate 22a indicated by a broken line. In FIG. 11A, a threaded hole 34 is formed in the bottom of the support block 33. An adjustment bolt 35 is screwed into the screw hole 34 and is fixed by a lock nut 36. A conical depression indicated by a broken line is formed in the head of the adjustment bolt 35. A ball 37 is placed in this recess, and the ball 37 contacts the head of the ball receiver 32a and supports the holder portion 24a to which the support arm 31 is attached with a point.

支持ブロック３３の底部には、ねじ穴３４の他に、ねじが切られていない貫通孔が設けられている。貫通孔には、平座金３８を介してねじ３９が挿入され、ねじ３９は、支持アーム３１の横方向に伸びたアーム部に設けられたねじ穴４０にねじ込まれている。このねじ３９は、振動等によってボール３７がボール受け３２ａの頭部から外れるのを防止するためのものである。 In addition to the screw hole 34, a through hole that is not threaded is provided at the bottom of the support block 33. A screw 39 is inserted into the through hole via a plain washer 38, and the screw 39 is screwed into a screw hole 40 provided in an arm portion extending in the lateral direction of the support arm 31. The screw 39 is for preventing the ball 37 from being detached from the head of the ball receiver 32a due to vibration or the like.

調整機構による調整では、まず、事前にねじ３９を緩める。そして、ロックナット３６を緩め、ねじ穴３４にねじ込まれている調整ボルト３５のねじ込み量を変えて、ボール３７の高さを上下し、ホルダ部２４ａを支持する点の高さを調整する。そして、ロックナット３６を締めて、調整ボルト３５を固定する。調整後、再びねじ３９を締める。 In the adjustment by the adjustment mechanism, the screw 39 is first loosened in advance. Then, the lock nut 36 is loosened, the screw amount of the adjusting bolt 35 screwed into the screw hole 34 is changed, the height of the ball 37 is raised and lowered, and the height of the point supporting the holder portion 24a is adjusted. Then, the lock nut 36 is tightened to fix the adjustment bolt 35. After the adjustment, the screw 39 is tightened again.

図１２（ａ）は図１０のＨ−Ｈ部の断面図、図１２（ｂ）は図１０の矢印Ｊで示す方向に見たホルダ部支持装置及び調整機構の側面図である。図１１との相違は、図１１に示したボール受け３２ａの代わりに、ボール受け３２ｂを用いている点である。ボール受け３２ｂの頭部には、図１２（ａ），（ｂ）に破線で示す断面がＶ字形の溝が形成されている。この溝を、図１０の矢印Ｊに示す方向に配置することにより、溝と直交する方向において、ホルダ部２４ａの移動を制限し、ホルダ部２４ａの位置決めを行うことができる。なお、図１０において、ホルダ部２４ａはホルダ部支持装置により４点で支持されているが、図１２に示したボール受け３２ｂを用いて位置決めを行うのは、Ｈ−Ｈ部の１点だけでよい。もう１つのホルダ部２４ａについても、同様である。 12A is a cross-sectional view of the H-H portion of FIG. 10, and FIG. 12B is a side view of the holder portion supporting device and the adjusting mechanism viewed in the direction indicated by the arrow J in FIG. The difference from FIG. 11 is that a ball receiver 32b is used instead of the ball receiver 32a shown in FIG. A groove having a V-shaped cross section indicated by a broken line in FIGS. 12A and 12B is formed in the head of the ball receiver 32b. By disposing the groove in the direction indicated by the arrow J in FIG. 10, the movement of the holder part 24a can be limited and the holder part 24a can be positioned in the direction orthogonal to the groove. In FIG. 10, the holder portion 24a is supported at four points by the holder portion supporting device. However, the positioning using the ball receiver 32b shown in FIG. 12 is performed only at one point of the H-H portion. Good. The same applies to the other holder portion 24a.

図１３は、図６のＣ−Ｃ部の断面図である。ホルダ部２４ｂを保持して移動するホルダ部移動装置は、ガイドベース４１、レール４２、及びリニアガイド４３を含んで構成されている。また、ホルダ部移動装置の角度を調整する調整機構は、ねじ穴４４、調整ボルト４５、ロックナット４６、球面座金４７、平座金４８、ねじ４９、及びねじ穴５０及びを含んで構成されている。 13 is a cross-sectional view taken along the line CC in FIG. The holder part moving device that moves while holding the holder part 24 b includes a guide base 41, a rail 42, and a linear guide 43. The adjustment mechanism for adjusting the angle of the holder unit moving device includes a screw hole 44, an adjustment bolt 45, a lock nut 46, a spherical washer 47, a flat washer 48, a screw 49, and a screw hole 50. .

図１３において、ホルダ部２４ｂは、吸着溝２５によりマスク２の周辺部を真空吸着して保持している。ホルダ部２４ｂには、リニアガイド４３が取り付けられている。リニアガイド４３は、ガイドベース４１に取り付けられたレール４２に沿って移動可能となっている。異なる大きさの基板を露光するために、縦又は横の大きさが異なるマスクを用いたいという要求が高い。本実施の形態では、縦又は横の大きさが異なるマスクを用いる場合に、マスク２の大きさに応じて、ホルダ部移動装置によりホルダ部２４ｂを移動する。従来の様にマスクホルダをマスクの大きさに合わせて交換する必要がなく、異なる大きさのマスクの交換が短時間で容易に行われる。 In FIG. 13, the holder portion 24 b holds the peripheral portion of the mask 2 by vacuum suction using the suction grooves 25. A linear guide 43 is attached to the holder portion 24b. The linear guide 43 is movable along a rail 42 attached to the guide base 41. In order to expose substrates having different sizes, there is a high demand for using masks having different vertical or horizontal sizes. In the present embodiment, when a mask having different vertical or horizontal sizes is used, the holder portion 24b is moved by the holder portion moving device in accordance with the size of the mask 2. There is no need to replace the mask holder in accordance with the size of the mask as in the prior art, and the masks of different sizes can be easily replaced in a short time.

プレート２２ｂには、複数の貫通したねじ穴４４が形成されている。調整ボルト４５が、ねじ穴４４にねじ込まれ、ロックナット４６で固定されている。調整ボルト４５の先端は、ねじ穴４４から突き出て、ガイドベース４１に埋め込まれた球面座金４７に接触している。球面座金４７を用いることにより、ガイドベース４１に不要な応力を加えることなく、ガイドベース４１を傾けることができる。調整ボルト４５には、ねじが切られていない貫通孔が設けられている。貫通孔には、平座金４８を介してねじ４９が挿入され、ねじ４９は、ガイドベース４１に設けられたねじ穴５０にねじ込まれている。 A plurality of threaded holes 44 are formed in the plate 22b. An adjustment bolt 45 is screwed into the screw hole 44 and fixed with a lock nut 46. The tip of the adjustment bolt 45 protrudes from the screw hole 44 and contacts a spherical washer 47 embedded in the guide base 41. By using the spherical washer 47, the guide base 41 can be tilted without applying unnecessary stress to the guide base 41. The adjustment bolt 45 is provided with a through hole that is not threaded. A screw 49 is inserted into the through hole via a plain washer 48, and the screw 49 is screwed into a screw hole 50 provided in the guide base 41.

調整機構による調整では、まず、事前にねじ４９を緩める。そして、ロックナット４６を緩め、ねじ穴４４にねじ込まれている調整ボルト４５のねじ込み量を複数のねじ穴４４で互いに変えて、調整ボルト４５の先端が球面座金４７に接触する高さを変える。ホルダ部移動装置の角度を調整する。そして、ロックナット４６を締めて、調整ボルト４５を固定する。調整後、再びねじ４９を締める。 In the adjustment by the adjustment mechanism, the screw 49 is first loosened in advance. Then, the lock nut 46 is loosened, and the screwing amounts of the adjusting bolts 45 screwed into the screw holes 44 are changed to each other by the plurality of screw holes 44, thereby changing the height at which the tip of the adjusting bolt 45 contacts the spherical washer 47. Adjust the angle of the holder unit moving device. Then, the lock nut 46 is tightened to fix the adjustment bolt 45. After the adjustment, the screw 49 is tightened again.

図１１乃至図１３に示した調整機構では、調整ボルト３５，４５のねじ込み量を変えることにより、ホルダ部２４ａ，２４ｂを傾斜させる角度を変更することができる。そこで、本実施の形態では、マスク２の重力によるたわみの大きさに応じて、調整ボルト３５，４５のねじ込み量を変え、ホルダ部２４ａ，２４ｂを傾斜させる角度を変更する。マスク２の重力によるたわみの大きさが異なっても、ホルダ部２４ａ，２４ｂを傾斜させる角度を変更することにより、マスク２に与える湾曲を変えることが可能となる。 In the adjustment mechanism shown in FIGS. 11 to 13, the angle at which the holder portions 24 a and 24 b are inclined can be changed by changing the screwing amounts of the adjustment bolts 35 and 45. Therefore, in the present embodiment, the screwing amounts of the adjustment bolts 35 and 45 are changed in accordance with the magnitude of the deflection of the mask 2 due to gravity, and the angles at which the holder portions 24a and 24b are inclined are changed. Even if the magnitude of the deflection of the mask 2 due to gravity is different, it is possible to change the curvature applied to the mask 2 by changing the angle at which the holder portions 24a and 24b are inclined.

以上説明した実施の形態によれば、マスクホルダを、マスク２の周辺部を保持する複数の独立したホルダ部２４ａ，２４ｂに分割し、ホルダ部２４ａ，２４ｂを傾斜させて、マスク２に重力によるたわみと逆方向へ湾曲を与えることにより、マスク２の重力によるたわみを逆方向の湾曲により打ち消し、マスク２のたわみを効果的に抑制することができる。 According to the embodiment described above, the mask holder is divided into a plurality of independent holder parts 24 a and 24 b that hold the peripheral part of the mask 2, and the holder parts 24 a and 24 b are inclined so that the mask 2 is subjected to gravity. By giving the curvature in the direction opposite to the deflection, the deflection due to the gravity of the mask 2 can be canceled by the curvature in the opposite direction, and the deflection of the mask 2 can be effectively suppressed.

さらに、以上説明した実施の形態によれば、ホルダ部２４ａ，２４ｂを傾斜させる角度を変更することにより、マスク２の重力によるたわみの大きさが異なっても、マスク２のたわみを効果的に抑制することができる。 Furthermore, according to the embodiment described above, the deflection of the mask 2 can be effectively suppressed by changing the angle at which the holder portions 24a and 24b are inclined even if the magnitude of the deflection of the mask 2 due to gravity is different. can do.

さらに、以上説明した実施の形態によれば、１つのホルダ部２４ａを少なくとも３点で支持し、各点の高さを調整することにより、簡単な構成で、ホルダ部２４ａを傾斜させることができ、またはホルダ部２４ａを傾斜させる角度を変更することができる。 Furthermore, according to the embodiment described above, one holder part 24a is supported at at least three points, and the holder part 24a can be inclined with a simple configuration by adjusting the height of each point. Alternatively, the angle at which the holder portion 24a is inclined can be changed.

さらに、以上説明した実施の形態によれば、ホルダ部２４ｂを保持して移動するホルダ部移動装置を設け、ホルダ部移動装置の角度を調整して、ホルダ部２４ｂを傾斜させ、またはホルダ部２４ｂを傾斜させる角度を変更することにより、異なる大きさのマスクの交換を短時間で容易に行うことができ、ホルダ部移動装置の角度を調整する簡単な作業で、ホルダ部２４ｂを傾斜させることができ、またはホルダ部２４ｂを傾斜させる角度を変更することができる。 Furthermore, according to the embodiment described above, the holder part moving device that holds and moves the holder part 24b is provided, the angle of the holder part moving device is adjusted, the holder part 24b is inclined, or the holder part 24b. By changing the angle of tilting, the masks of different sizes can be easily replaced in a short time, and the holder portion 24b can be tilted with a simple operation of adjusting the angle of the holder portion moving device. Or the angle at which the holder portion 24b is inclined can be changed.

本発明の露光装置又は露光方法を用いて基板の露光を行うことにより、マスクのたわみを抑制することができるので、パターンの焼付けを均一に行って、高品質な基板を製造することができる。 By performing exposure of the substrate using the exposure apparatus or exposure method of the present invention, the deflection of the mask can be suppressed, so that a high-quality substrate can be manufactured by uniformly baking the pattern.

例えば、図１４は、液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。薄膜形成工程（ステップ１０１）では、スパッタ法やプラズマ化学気相成長（ＣＶＤ）法等により、ガラス基板上に液晶駆動用の透明電極となる導電体膜や絶縁体膜等の薄膜を形成する。レジスト塗布工程（ステップ１０２）では、ロール塗布法等により感光樹脂材料（フォトレジスト）を塗布して、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜上にフォトレジスト膜を形成する。露光工程（ステップ１０３）では、プロキシミティ露光装置や投影露光装置等を用いて、マスクのパターンをフォトレジスト膜に転写する。現像工程（ステップ１０４）では、シャワー現像法等により現像液をフォトレジスト膜上に供給して、フォトレジスト膜の不要部分を除去する。エッチング工程（ステップ１０５）では、ウエットエッチングにより、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜の内、フォトレジスト膜でマスクされていない部分を除去する。剥離工程（ステップ１０６）では、エッチング工程（ステップ１０５）でのマスクの役目を終えたフォトレジスト膜を、剥離液によって剥離する。これらの各工程の前又は後には、必要に応じて、基板の洗浄／乾燥工程が実施される。これらの工程を数回繰り返して、ガラス基板上にＴＦＴアレイが形成される。 For example, FIG. 14 is a flowchart showing an example of the manufacturing process of the TFT substrate of the liquid crystal display device. In the thin film formation step (step 101), a thin film such as a conductor film or an insulator film, which becomes a transparent electrode for driving liquid crystal, is formed on a glass substrate by sputtering, plasma chemical vapor deposition (CVD), or the like. In the resist coating process (step 102), a photosensitive resin material (photoresist) is applied by a roll coating method or the like to form a photoresist film on the thin film formed in the thin film forming process (step 101). In the exposure step (step 103), the mask pattern is transferred to the photoresist film using a proximity exposure apparatus, a projection exposure apparatus, or the like. In the development step (step 104), a developer is supplied onto the photoresist film by a shower development method or the like to remove unnecessary portions of the photoresist film. In the etching process (step 105), a portion of the thin film formed in the thin film formation process (step 101) that is not masked by the photoresist film is removed by wet etching. In the stripping step (step 106), the photoresist film that has finished the role of the mask in the etching step (step 105) is stripped with a stripping solution. Before or after each of these steps, a substrate cleaning / drying step is performed as necessary. These steps are repeated several times to form a TFT array on the glass substrate.

また、図１５は、液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）では、レジスト塗布、露光、現像、エッチング、剥離等の処理により、ガラス基板上にブラックマトリクスを形成する。着色パターン形成工程（ステップ２０２）では、染色法、顔料分散法、印刷法、電着法等により、ガラス基板上に着色パターンを形成する。この工程を、Ｒ、Ｇ、Ｂの着色パターンについて繰り返す。保護膜形成工程（ステップ２０３）では、着色パターンの上に保護膜を形成し、透明電極膜形成工程（ステップ２０４）では、保護膜の上に透明電極膜を形成する。これらの各工程の前、途中又は後には、必要に応じて、基板の洗浄／乾燥工程が実施される。 FIG. 15 is a flowchart showing an example of the manufacturing process of the color filter substrate of the liquid crystal display device. In the black matrix forming step (step 201), a black matrix is formed on the glass substrate by processes such as resist coating, exposure, development, etching, and peeling. In the colored pattern forming step (step 202), a colored pattern is formed on the glass substrate by a dyeing method, a pigment dispersion method, a printing method, an electrodeposition method, or the like. This process is repeated for the R, G, and B coloring patterns. In the protective film forming step (step 203), a protective film is formed on the colored pattern, and in the transparent electrode film forming step (step 204), a transparent electrode film is formed on the protective film. Before, during or after each of these steps, a substrate cleaning / drying step is performed as necessary.

図１４に示したＴＦＴ基板の製造工程では、露光工程（ステップ１０３）において、図１５に示したカラーフィルタ基板の製造工程では、ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）及び着色パターン形成工程（ステップ２０２）の露光処理において、本発明の露光装置又は露光方法を適用することができる。 In the TFT substrate manufacturing process shown in FIG. 14, in the exposure process (step 103), in the color filter substrate manufacturing process shown in FIG. 15, in the black matrix forming process (step 201) and the colored pattern forming process (step 202). In this exposure process, the exposure apparatus or the exposure method of the present invention can be applied.

本発明の一実施の形態による露光装置の概略構成を示す図である。1 is a diagram showing a schematic configuration of an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention. ホルダフレームの上面図である。It is a top view of a holder frame. ホルダフレームの下面図である。It is a bottom view of a holder frame. 図２の矢印Ｄで示す方向に見たホルダフレームの側面図である。FIG. 3 is a side view of the holder frame viewed in a direction indicated by an arrow D in FIG. 2. 図２の矢印Ｅで示す方向に見たホルダフレームの側面図である。It is the side view of the holder frame seen in the direction shown by the arrow E of FIG. ホルダ部が取り付けられたホルダフレームの上面図である。It is a top view of the holder frame to which the holder part was attached. ホルダ部が取り付けられたホルダフレームの下面図である。It is a bottom view of the holder frame to which the holder part was attached. 図６のＡ−Ａ部の断面図である。It is sectional drawing of the AA part of FIG. 図６のＢ−Ｂ部の断面図である。It is sectional drawing of the BB part of FIG. 図６からホルダフレームを取り除いた状態で見たホルダ部支持装置、ホルダ部移動装置及び調整機構の上面図である。FIG. 7 is a top view of the holder part supporting device, the holder part moving device, and the adjusting mechanism as seen with the holder frame removed from FIG. 6. 図１１（ａ）は図１０のＦ−Ｆ部の断面図、図１１（ｂ）は図１０の矢印Ｇで示す方向に見たホルダ部支持装置及び調整機構の側面図である。FIG. 11A is a cross-sectional view of the FF portion in FIG. 10, and FIG. 11B is a side view of the holder support device and the adjustment mechanism as seen in the direction indicated by the arrow G in FIG. 図１２（ａ）は図１０のＨ−Ｈ部の断面図、図１２（ｂ）は図１０の矢印Ｊで示す方向に見たホルダ部支持装置及び調整機構の側面図である。12A is a cross-sectional view of the H-H portion of FIG. 10, and FIG. 12B is a side view of the holder portion supporting device and the adjusting mechanism viewed in the direction indicated by the arrow J in FIG. 図６のＣ−Ｃ部の断面図である。It is sectional drawing of the CC section of FIG. 液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of the manufacturing process of the TFT substrate of a liquid crystal display device. 液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of the manufacturing process of the color filter board | substrate of a liquid crystal display device.

Explanation of symbols

１基板
２マスク
１０チャック
１１ステージ
２０ホルダフレーム
２１ａ，２１ｂフレーム
２２ａ，２２ｂプレート
２３補強板
２４ａ，２４ｂホルダ部
２５吸着溝
３１支持アーム
３２ａ，３２ｂボール受け
３３支持ブロック
３４ねじ穴
３５調整ボルト
３６ロックナット
３７ボール
３８平座金
３９ねじ
４０ねじ穴
４１ガイドベース
４２レール
４３リニアガイド
４４ねじ穴
４５調整ボルト
４６ロックナット
４７球面座金
４８平座金
４９ねじ
５０ねじ穴 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Board | substrate 2 Mask 10 Chuck 11 Stage 20 Holder frame 21a, 21b Frame 22a, 22b Plate 23 Reinforcement plate 24a, 24b Holder part 25 Suction groove 31 Support arm 32a, 32b Ball receiver 33 Support block 34 Screw hole 35 Adjustment bolt 36 Lock nut 37 Ball 38 Plain washer 39 Screw 40 Screw hole 41 Guide base 42 Rail 43 Linear guide 44 Screw hole 45 Adjustment bolt 46 Lock nut 47 Spherical washer 48 Plain washer 49 Screw 50 Screw hole

Claims

An exposure apparatus comprising: a chuck for horizontally holding a substrate; and a mask holder for holding a mask facing the substrate held by the chuck, wherein the mask pattern is printed on the substrate.
The mask holder has four independent holder parts for holding each peripheral part of the four sides of the mask,
Support means for supporting the two holder parts facing each other at least at three points;
It has a first mechanism for adjusting the height of the point that supports each holder part of the support means, and the height of the point that supports each holder part of the support means is adjusted by the first mechanism, First adjusting means for inclining each holder part supported by the support means and changing an angle for inclining each holder part supported by the support means;
Moving means for holding and moving the two holder parts facing each other not supported by the support means of the mask holder;
A second mechanism for adjusting the angle of the moving means, the angle of the moving means is adjusted by the second mechanism, and each holder portion held by the moving means is inclined; and the moving means And a second adjusting means for changing an angle of inclining each holder portion held by
When the first adjustment means and the second adjustment means are used to incline each holder part to give the mask a curvature in the opposite direction to the deflection due to gravity, when using masks having different vertical or horizontal sizes, Depending on the size, the two holder portions facing each other of the mask holder are moved by the moving means, and each holder is moved by the first adjusting means and the second adjusting means according to the size of the deflection due to the gravity of the mask. An exposure apparatus characterized in that the angle applied to the part is changed to change the curvature applied to the mask .