JP4881965B2 - 液晶露光装置 - Google Patents
液晶露光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4881965B2 JP4881965B2 JP2009032122A JP2009032122A JP4881965B2 JP 4881965 B2 JP4881965 B2 JP 4881965B2 JP 2009032122 A JP2009032122 A JP 2009032122A JP 2009032122 A JP2009032122 A JP 2009032122A JP 4881965 B2 JP4881965 B2 JP 4881965B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- liquid crystal
- exposure apparatus
- crystal exposure
- gantry
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70775—Position control, e.g. interferometers or encoders for determining the stage position
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/10—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof using carriers specially adapted therefor, e.g. front opening unified pods [FOUP]
- H10P72/19—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof using carriers specially adapted therefor, e.g. front opening unified pods [FOUP] closed carriers
- H10P72/1921—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof using carriers specially adapted therefor, e.g. front opening unified pods [FOUP] closed carriers characterised by substrate supports
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/30—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations
- H10P72/32—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
- H10P72/3202—Mechanical details, e.g. rollers or belts
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/30—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations
- H10P72/34—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
- H10P72/3411—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading involving loading and unloading of wafers
- H10P72/3412—Batch transfer of wafers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Description
そのためにネジを太くして使用個数を多くしなくてはならないが、接続面積が狭くネジ締め作業の領域を広く取れない場合の対応や、調整のために多数のネジを何回も締めたり弛めたりして時間が掛かる等が問題となっていた。
図2において、固定ステージ201を支える脚221,222しか図示されていないが、実際には同様の部品が固定ステージ201を安定して支えられるよう設けられている。
−w(2a+b)2/8−wa(2a+b)/2
となり、固定ステージ201を2分割し、その分割位置を中央に設けた場合に、ここで変形が最大となる。固定ステージ201の脚221,222の位置での曲げモーメントは−wa2/2である。
30,31 リニアモータの固定子
40 第一可動ステージ
41 第二可動ステージ
50 トップテーブル
201,202 固定ステージ
210,211,212 テーブル
221,222 脚
501 ランプハウス
503 ガントリ脚
505 マスクホルダフレーム
507 ガントリフレーム
601 基板ガラス
Claims (17)
- ワークを搭載するワークテーブルと、このワークテーブルの移動機構を有する可動ステージと、この可動ステージの移動機構を有する固定ステージと、前記テーブル上のワークに対してマスクパターンを露光する露光手段を支持するガントリ部と、を有する液晶露光装置において、
前記固定ステージは、前記可動ステージの移動方向に直角の方向に複数分割可能な構造を有し、
前記固定ステージの分割面は、前記固定ステージの前記可動ステージの移動方向と直角の方向に掛かる曲げモーメントが最小となる位置に設けられ、
さらに、前記曲げモーメントが最小となる位置は、前記ガントリ固定ステージの脚の位置と前記ガントリ固定ステージの中央部との間にある液晶露光装置。 - 請求項1記載の液晶露光装置において、
前記固定ステージは、前記可動ステージの移動方向に直角の方向に二つの分割面を有する液晶露光装置。 - 請求項1記載の液晶露光装置において、
前記固定ステージは、前記可動ステージの移動を支持するレールを有し、前記レールと平行に分割面を有する液晶露光装置。 - 請求項1記載の液晶露光装置において、
前記固定ステージは複数のレールを有し、前記ガントリ部と接続する接続部を有する二つの側方ステージ部と、前記ガントリ部との接続部を有しない中央テーブル部とからなる液晶露光装置。 - 請求項4記載の液晶露光装置において、
前記固定ステージは複数のレールを有し、前記側方テーブル部と前記中央テーブル部にそれぞれレールが設けられ、前記中央テーブル部に設けられた前記複数のレールのうち、前記可動ステージの移動方向に外側に設けられた二つのレールは、前記固定ステージの分割面近傍に設けられた液晶露光装置。 - 請求項1記載の液晶露光装置において、
前記固定ステージの分割面は、前記可動ステージの移動方向に沿って設けられている液晶露光装置。 - ワークを搭載するテーブルと、このテーブルの移動機構を有する可動ステージと、この可動ステージの移動機構を有するステージと、前記テーブル上のワークに対してマスクパターンを露光する露光手段を支持するガントリ部と、を有する液晶露光装置において、
前記ステージのうち前記ガントリ部を固定するガントリ固定ステージ部は、当該ガントリ固定ステージ部の前記可動ステージの移動方向と直角の方向に掛かる曲げモーメントが最小となる位置で分割可能であり、さらに、前記曲げモーメントが最小となる位置は、前記ガントリ固定ステージの脚の位置と前記ガントリ固定ステージの中央部との間にある液晶露光装置。 - 請求項7記載の液晶露光装置において、
前記固定ステージは、前記可動ステージの移動方向に直角の方向に二つの分割面を有する液晶露光装置。 - 請求項7記載の液晶露光装置において、
前記固定ステージは、前記可動ステージの移動を支持するレールを有し、前記レールと平行に分割面を有する液晶露光装置。 - 請求項7記載の液晶露光装置において、
前記固定ステージは複数のレールを有し、前記ガントリ部と接続する接続部を有する二つの側方テーブル部と、前記ガントリ部との接続部を有しない中央テーブル部とからなる液晶露光装置。 - 請求項10記載の液晶露光装置において、
前記固定ステージは複数のレールを有し、前記側方テーブル部と前記中央テーブル部にそれぞれレールが設けられ、前記中央テーブル部に設けられた前記複数のレールのうち、前記可動ステージの移動方向に外側に設けられた二つのレールは、前記方向に沿って複数の分割面を設けた液晶露光装置。 - 請求項7記載の液晶露光装置において、
前記固定ステージの分割面は、前記可動ステージの移動方向に沿って設けられている液晶露光装置。 - ワークを搭載するテーブルと、このテーブルの移動機構を有する可動ステージと、この可動ステージの移動機構を有するステージと、前記テーブル上のワークに対してマスクパターンを露光する露光手段を支持するガントリ部と、を有する液晶露光装置において、
前記ステージのうち前記ガントリ部を固定するガントリ固定ステージ部は、前記可動ステージが移動する方向に沿って複数の分割面を設け、前記複数の分割面は、当該ガントリ固定ステージ部での前記可動ステージの移動方向と直角の方向に掛かる曲げモーメントが最小となる位置にあり、
さらに、前記曲げモーメントが最小となる位置は、前記ガントリ固定ステージの脚の位置と前記ガントリ固定ステージの中央部との間にある液晶露光装置。 - 請求項13記載の液晶露光装置において、
前記固定ステージは、前記可動ステージの移動方向に直角の方向に二つの分割面を有する液晶露光装置。 - 請求項13記載の液晶露光装置において、
前記固定ステージは、前記可動ステージの移動を支持するレールを有し、前記レールと平行に分割面を有する液晶露光装置。 - 請求項13記載の液晶露光装置において、
前記固定ステージは複数のレールを有し、前記ガントリ部と接続する接続部を有する二つの側方テーブル部と、前記ガントリ部との接続部を有しない中央テーブル部とからなる液晶露光装置。 - 請求項16記載の液晶露光装置において、
前記固定ステージは複数のレールを有し、前記側方テーブル部と前記中央テーブル部にそれぞれレールが設けられ、前記中央テーブル部に設けられた前記複数のレールのうち、前記可動ステージの移動方向に外側に設けられた二つのレールは、前記固定ステージの分割面近傍に設けられた液晶露光装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009032122A JP4881965B2 (ja) | 2009-02-16 | 2009-02-16 | 液晶露光装置 |
| TW098143882A TWI414902B (zh) | 2009-02-16 | 2009-12-21 | Liquid crystal exposure device |
| KR1020100011320A KR101120439B1 (ko) | 2009-02-16 | 2010-02-08 | 액정 노광 장치 |
| CN201010115737XA CN101807007B (zh) | 2009-02-16 | 2010-02-11 | 液晶曝光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009032122A JP4881965B2 (ja) | 2009-02-16 | 2009-02-16 | 液晶露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2010190924A JP2010190924A (ja) | 2010-09-02 |
| JP4881965B2 true JP4881965B2 (ja) | 2012-02-22 |
Family
ID=42608853
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009032122A Expired - Fee Related JP4881965B2 (ja) | 2009-02-16 | 2009-02-16 | 液晶露光装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4881965B2 (ja) |
| KR (1) | KR101120439B1 (ja) |
| CN (1) | CN101807007B (ja) |
| TW (1) | TWI414902B (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103207529B (zh) * | 2013-03-22 | 2015-04-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 曝光方法及曝光设备 |
| CN118276416B (zh) * | 2024-06-04 | 2024-10-18 | 江苏雷博微电子设备有限公司 | 一种具备快拆光源掩膜板的光源调整装置 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000164494A (ja) | 1998-11-26 | 2000-06-16 | Nikon Corp | ステージ装置及び走査型露光装置 |
| JP3673169B2 (ja) * | 2000-12-22 | 2005-07-20 | 住友重機械工業株式会社 | X−yステージ装置 |
| JP2005189776A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Nsk Ltd | Xy位置決めテーブル及び露光装置 |
| JP4550494B2 (ja) * | 2004-06-22 | 2010-09-22 | 大日本印刷株式会社 | Xyステージ装置 |
| JP2006198725A (ja) * | 2005-01-20 | 2006-08-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | クランプ装置及び画像形成装置 |
| JP2007024969A (ja) * | 2005-07-12 | 2007-02-01 | Fujifilm Holdings Corp | セル内構造の製造方法及びセル内構造並びに表示装置 |
| JP2007073688A (ja) * | 2005-09-06 | 2007-03-22 | Shinko Electric Co Ltd | Xyステージ装置及びその製造方法 |
| JP4673215B2 (ja) | 2005-12-28 | 2011-04-20 | 住友重機械工業株式会社 | ステージ装置 |
| WO2007102321A1 (ja) * | 2006-03-06 | 2007-09-13 | Ulvac, Inc. | ステージ装置 |
| JP5127162B2 (ja) * | 2006-05-30 | 2013-01-23 | 株式会社東芝 | 中間ベースと、xyテーブルと、シール剤塗布装置および液晶パネルの製造方法 |
| JP2008107702A (ja) * | 2006-10-27 | 2008-05-08 | Nakan Corp | 光配向膜形成装置 |
| JP4138858B2 (ja) * | 2007-12-12 | 2008-08-27 | 住友重機械工業株式会社 | ステージ装置 |
-
2009
- 2009-02-16 JP JP2009032122A patent/JP4881965B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2009-12-21 TW TW098143882A patent/TWI414902B/zh active
-
2010
- 2010-02-08 KR KR1020100011320A patent/KR101120439B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2010-02-11 CN CN201010115737XA patent/CN101807007B/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN101807007B (zh) | 2013-06-12 |
| JP2010190924A (ja) | 2010-09-02 |
| TW201040668A (en) | 2010-11-16 |
| TWI414902B (zh) | 2013-11-11 |
| KR101120439B1 (ko) | 2012-02-24 |
| CN101807007A (zh) | 2010-08-18 |
| KR20100093479A (ko) | 2010-08-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI510869B (zh) | 曝光裝置、曝光裝置的製造方法以及元件的製造方法 | |
| TWI383467B (zh) | Stage device | |
| JP2014114504A (ja) | 薄膜蒸着用マスク組立体およびその製造方法 | |
| US20090279057A1 (en) | Independent upper side and lower side drive type double-sided simultaneous exposure system | |
| CN107407893A (zh) | 曝光装置、平板显示器的制造方法、器件制造方法及曝光方法 | |
| WO2017057590A1 (ja) | 露光装置、露光方法、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
| US20170108785A1 (en) | Movable body apparatus, exposure apparatus, manufacturing method of flat panel display, and device manufacturing method | |
| TWI431713B (zh) | Stage device | |
| JP4881965B2 (ja) | 液晶露光装置 | |
| KR101156063B1 (ko) | 듀얼 레인 컨베이어의 폭 조절 구조 | |
| JP5963122B2 (ja) | 露光装置及びその組立て方法、並びにデバイス製造方法 | |
| JP4328364B2 (ja) | ステージ装置 | |
| KR102595405B1 (ko) | 이동체 장치, 노광 장치, 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법, 디바이스 제조 방법, 및 이동체의 구동 방법 | |
| CN103765554B (zh) | 移动体装置、曝光装置、平板显示器的制造方法、及元件制造方法 | |
| KR20030026842A (ko) | 마스크 유지장치, 마스크 유지방법 및 노광장치 | |
| JP4673215B2 (ja) | ステージ装置 | |
| CN107908079B (zh) | 曝光机构、曝光装置及曝光系统 | |
| JP4200894B2 (ja) | 露光装置、デバイスの製造方法、及び保守方法 | |
| JP2009241194A (ja) | ステージ装置 | |
| CN119270596A (zh) | 工件台及曝光装置 | |
| JP7543598B2 (ja) | 搬送路切換装置、搬送システムおよび搬送路切換方法 | |
| KR101613125B1 (ko) | 기준 원점 설정 장치 및 그 방법 | |
| JP2015012288A (ja) | 二段式補正装置及び露光機ステージ | |
| JP2016032037A (ja) | テーブル装置、測定装置、半導体製造装置、フラットパネルディスプレイ製造装置、及び工作機械 | |
| JP2018092203A (ja) | 表示装置取付治具 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110207 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110207 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110517 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110614 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110802 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110823 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111017 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111108 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111205 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141209 Year of fee payment: 3 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |