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JP4884121B2 - Semiconductor device for power control - Google Patents
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Description

本発明は、電力制御用半導体装置に関し、特に、電力を制御する半導体素子とフレームとを備えた電力制御用半導体装置に関するものである。   The present invention relates to a power control semiconductor device, and more particularly to a power control semiconductor device including a semiconductor element for controlling power and a frame.

電力制御用半導体装置の一つとして、電力を制御する半導体素子を射出成形により封止したいわゆるトランスファー型の電力制御用半導体装置がある。この種の電力制御用半導体装置は、電力を制御する半導体素子と、その半導体素子を駆動させるための電気回路が形成されたフレームとを備えて構成される。半導体素子とフレームとは、半導体装置に作用する熱ストレスを抑えるためにフレームとは別部材のダイレクトリードを介して接合されている。なお、半導体素子と電極との接続構造を開示した文献として、たとえば特許文献1〜3がある。
特開平05−315490号公報 特開2000−236056号公報 特開2003−318344号公報
As one of the power control semiconductor devices, there is a so-called transfer type power control semiconductor device in which a semiconductor element for controlling power is sealed by injection molding. This type of power control semiconductor device includes a semiconductor element that controls power and a frame in which an electric circuit for driving the semiconductor element is formed. The semiconductor element and the frame are joined via a direct lead which is a separate member from the frame in order to suppress thermal stress acting on the semiconductor device. For example, Patent Documents 1 to 3 are documents that disclose a connection structure between a semiconductor element and an electrode.
JP 05-315490 A JP 2000-236056 A JP 2003-318344 A

しかしながら、従来の電力制御用半導体装置では次のような問題点があった。上述したように、トランスファー型の電力制御用半導体装置では、半導体素子とフレームとが別部材のダイレクトリードを介して電気的に接続されている。そのために、半導体素子が載置されるヒートスプレッダとフレームとの間の距離の影響を受けてインダクタンスが大きくなったり、配線抵抗も高くなりやすい傾向にあった。また、そのような付加的なダイレクトリードが部品として必要とされ、また、組立て工数の削減を阻害していた。   However, the conventional power control semiconductor device has the following problems. As described above, in the transfer type power control semiconductor device, the semiconductor element and the frame are electrically connected to each other through a separate direct lead. Therefore, the inductance tends to increase and the wiring resistance tends to increase due to the influence of the distance between the heat spreader on which the semiconductor element is placed and the frame. Further, such additional direct leads are required as parts, and the reduction of assembly man-hours has been hindered.

本発明は上記問題点を解決するためになされたものであり、その目的は、インダクタンスの低減と配線低抵抗化が図られる電力制御用半導体装置を提供することである。   The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a power control semiconductor device capable of reducing inductance and reducing wiring resistance.

本発明に係る電力制御用半導体装置は、ヒートスプレッダと電力を制御するための半導体素子とフレームとを有している。半導体素子はヒートスプレッダの上に第1はんだを介在させて配設されている。フレームは半導体素子と電気的に接続され、半導体素子を駆動させるための所定の電気回路が形成されている。そのフレームは、フレーム本体と突出部とを備えている。突出部はフレーム本体の厚みよりも薄い部分を含んでフレーム本体と一体的に形成され、半導体素子の表面に第2はんだにより接合されている。   A power control semiconductor device according to the present invention includes a heat spreader, a semiconductor element for controlling power, and a frame. The semiconductor element is disposed on the heat spreader with the first solder interposed. The frame is electrically connected to the semiconductor element, and a predetermined electric circuit for driving the semiconductor element is formed. The frame includes a frame body and a protrusion. The projecting portion is formed integrally with the frame body including a portion thinner than the thickness of the frame body, and is joined to the surface of the semiconductor element by the second solder.

本発明に係る電力制御用半導体装置によれば、フレーム本体に一体的に形成される突出部が半導体素子の表面に接合される。これにより、メインフレームが別部材を介して半導体素子の表面に接続される場合と比べて、そのような別部材の取付け精度に起因するフレーム本体と半導体素子との間隔のばらつき等がなくなるとともにその間隔が狭めらて、インダクタンスの低減を図ることができる。また、フレーム本体と半導体素子との間に付加的な部材が介在しないことで、配線抵抗の低抵抗化も図ることができる。また、突出部は、フレーム本体の厚みよりも薄く形成されていることで熱ストレスを吸収しやすくなって、熱ストレスによって半導体素子の表面の接続部分が損傷を受けるのを抑制することができる。   According to the semiconductor device for power control according to the present invention, the protrusion formed integrally with the frame body is joined to the surface of the semiconductor element. Thereby, compared with the case where the main frame is connected to the surface of the semiconductor element via another member, there is no variation in the distance between the frame body and the semiconductor element due to the mounting accuracy of such another member and the By reducing the interval, the inductance can be reduced. Further, since no additional member is interposed between the frame body and the semiconductor element, the wiring resistance can be reduced. Further, since the protruding portion is formed thinner than the thickness of the frame main body, it becomes easy to absorb the thermal stress, and the connection portion on the surface of the semiconductor element can be prevented from being damaged by the thermal stress.

実施の形態1
本発明の実施の形態1に係る電力制御用半導体装置について説明する。図1および図2に示すように、この電力制御用半導体装置1では、ヒートスプレッダ2の一方の主表面上に、電力を制御するための半導体素子5がはんだ(第1はんだ)4によって接合されている。そのヒートスプレッダ2の他方の主表面は絶縁シート3によって被覆されている。
Embodiment 1
A power control semiconductor device according to the first embodiment of the present invention will be described. As shown in FIGS. 1 and 2, in this power control semiconductor device 1, a semiconductor element 5 for controlling power is joined by solder (first solder) 4 on one main surface of a heat spreader 2. Yes. The other main surface of the heat spreader 2 is covered with an insulating sheet 3.

半導体素子5における所定の領域の表面に、フレーム7が電気的に接続されている。フレーム7はフレーム本体8と突出部9を備えて構成される。フレーム本体8には、半導体素子5を駆動させるための所定の電気回路(図示せず)が形成されている。フレーム本体8は所定の厚みt0を有している。突出部9はフレーム本体8から半導体素子5の側に向って突出している。その突出部9は、フレーム7にたとえば絞り加工を施すことによりフレーム7と一体的に形成されている。 A frame 7 is electrically connected to the surface of a predetermined region in the semiconductor element 5. The frame 7 includes a frame body 8 and a protruding portion 9. The frame body 8 is formed with a predetermined electric circuit (not shown) for driving the semiconductor element 5. Frame body 8 has a predetermined thickness t 0. The protruding portion 9 protrudes from the frame body 8 toward the semiconductor element 5 side. The protruding portion 9 is formed integrally with the frame 7 by performing the frame 7 for example drawing.

突出部9をフレーム7に絞り加工を施すことによって形成することで、突出部9の厚みt1は、フレーム7の厚みt0よりも薄くされる。突出部9の厚みt1は、半導体素子5の厚みとほぼ同じ厚みにすることが望ましく、たとえば、フレーム本体8の厚みt0を約0.7mmとすると、突出部9の厚みt1は約0.25mmとされる。その突出部9がはんだ(第2はんだ)6によって半導体素子5の表面に接合されている。突出部9の高さHは、約0.7mmとされる。なお、図2を含め各断面図では、突出部9の構造をわかりやすく図示するために縦方向が拡大されて示されている。 By forming by processing stop projections 9 to frame 7, the thickness t 1 of protrusion 9 is thinner than the thickness t 0 of the frame 7. The thickness t 1 of the protruding portion 9 is desirably substantially the same as the thickness of the semiconductor element 5. For example, when the thickness t 0 of the frame body 8 is about 0.7 mm, the thickness t 1 of the protruding portion 9 is about 0.25 mm. The protruding portion 9 is joined to the surface of the semiconductor element 5 by solder (second solder) 6. The height H of the protrusion 9 is about 0.7 mm. In each cross-sectional view including FIG. 2, the vertical direction is shown enlarged to show the structure of the protruding portion 9 in an easily understandable manner.

この電力制御用半導体装置1では、一つの半導体素子5に対し4つの突出部9が所定の領域の表面に接合されている。本発明の実施の形態に係る電力制御用半導体装置1は上記のように構成される。   In this power control semiconductor device 1, four protruding portions 9 are bonded to the surface of a predetermined region with respect to one semiconductor element 5. The power control semiconductor device 1 according to the embodiment of the present invention is configured as described above.

次に、比較例に係る電力制御用半導体装置について説明する。図3〜図5に示すように、比較例に係る電力制御用半導体装置101では、ヒートスプレッダ102の一方の主表面上に、電力を制御するための半導体素子105がはんだ104によって接合されている。その半導体素子105に対し、これを駆動させるための電気回路が形成されたメインフレーム107が電気的に接続されている。メインフレーム107にはダイレクトリード110が装着され、そのダイレクトリード110がはんだ10によって半導体素子105の表面に接合されている。 Next, a power control semiconductor device according to a comparative example will be described. As shown in FIGS. 3 to 5, in the power control semiconductor device 101 according to the comparative example, a semiconductor element 105 for controlling power is joined by solder 104 on one main surface of the heat spreader 102. A main frame 107 in which an electric circuit for driving the semiconductor element 105 is formed is electrically connected to the semiconductor element 105. The main frame 107 Direct lead 110 is mounted, the direct lead 110 is bonded to the surface of the semiconductor element 105 by the solder 106.

このように、比較例に係る電力制御用半導体装置101では、半導体素子105とメインフレーム107とは、半導体素子105に作用する熱ストレスを抑えるために、メインフレーム107とは別部材のダイレクトリード110を介して電気的に接続されている。そのため、たとえばダイレクトリード110をメインフレーム107に取付ける際の取付け精度のばらつき等に起因して、半導体素子105とメインフレーム107との間隔が変動し、インダクタンスが大きくなる傾向があった。また、メインフレーム107とは別部材のダイレクトリード110が半導体素子105との間に介在することで、配線抵抗が大きくなる傾向があった。さらには、ダイレクトリード110という付加的な部品が必要とされて、部品点数が増えるとともに、組立て工数も増えて生産コストの削減を阻害する要因となっていた。   As described above, in the power control semiconductor device 101 according to the comparative example, the semiconductor element 105 and the main frame 107 have a direct lead 110 that is a separate member from the main frame 107 in order to suppress thermal stress acting on the semiconductor element 105. It is electrically connected via. Therefore, for example, due to variations in mounting accuracy when the direct leads 110 are mounted on the main frame 107, the distance between the semiconductor element 105 and the main frame 107 fluctuates, and the inductance tends to increase. Further, the direct lead 110, which is a separate member from the main frame 107, is interposed between the semiconductor element 105 and the wiring resistance tends to increase. Furthermore, an additional part called the direct lead 110 is required, which increases the number of parts and increases the number of assembling steps, which hinders reduction in production cost.

これに対して、上述した実施の形態1に係る電力制御用半導体装置1では、フレーム本体8に一体的に形成される突出部9が半導体素子5の表面に接合される。これにより、メインフレーム107がメインフレーム107とは別部材のダイレクトリード110を介して半導体素子105の表面に接続された比較例に係る電力制御用半導体装置101と比べて、そのようなダイレクトリードの取付け精度に起因するフレーム本体8と半導体素子5との間隔のばらつき等がなくなるとともにその間隔が狭めらて、インダクタンスの低減を図ることができる。また、フレーム本体8と半導体素子5との間に付加的な部材が介在しないことで、配線抵抗の低抵抗化も図ることができる。   On the other hand, in the power control semiconductor device 1 according to the first embodiment described above, the protruding portion 9 formed integrally with the frame body 8 is joined to the surface of the semiconductor element 5. As a result, compared with the power control semiconductor device 101 according to the comparative example in which the main frame 107 is connected to the surface of the semiconductor element 105 via the direct lead 110 which is a member different from the main frame 107, Variations in the distance between the frame body 8 and the semiconductor element 5 due to the mounting accuracy can be eliminated and the distance can be narrowed to reduce inductance. Further, since no additional member is interposed between the frame body 8 and the semiconductor element 5, the wiring resistance can be reduced.

ここで、そのインダクタンスについて簡単に説明する。電力制御用半導体装置1が動作しているときには、半導体素子5がオンオフを繰り返してスイッチング動作が行なわれており、回路内の電流の向きが常に変化する。そのスイッチング時には、図6に示すように、サージ電圧が発生する。電力制御用半導体装置1の性能として、そのサージ電圧20を押えることが重要とされる。   Here, the inductance will be briefly described. When the power control semiconductor device 1 is operating, the semiconductor element 5 is repeatedly turned on and off to perform a switching operation, and the direction of current in the circuit always changes. During the switching, a surge voltage is generated as shown in FIG. It is important to suppress the surge voltage 20 as the performance of the power control semiconductor device 1.

サージ電圧Vと電力制御用半導体装置1内のインダクタンスLには、V=L・di/dtの関係があり、電力制御用半導体装置1内のインダクタンスLを低減することによってサージ電圧を低減することが可能になる。電力制御用半導体装置1におけるフレーム7とヒートスプレッダ2との間の距離hとインダクタンスとの間には、図7に示すような関係があり、距離hが短くなるとインダクタンスは小さくなる傾向にある。   The surge voltage V and the inductance L in the power control semiconductor device 1 have a relationship of V = L · di / dt, and the surge voltage is reduced by reducing the inductance L in the power control semiconductor device 1. Is possible. The relationship between the distance h between the frame 7 and the heat spreader 2 and the inductance in the power control semiconductor device 1 is as shown in FIG. 7, and the inductance tends to decrease as the distance h decreases.

図8に示すように、本電力制御用半導体装置1を流れる電流30においては、フレーム7を流れる電流30の向きとヒートスプレッダ2を流れる電流30の向きとは互いに反対向きになるように構成される。両者の電流30の向きが互いに反対向きになることで、フレーム7を流れる電流30によって発生する磁束と、ヒートスプレッダ2を流れる電流30によって発生する磁束とが互いに打ち消しあってインダクタンスが低減される。   As shown in FIG. 8, the current 30 flowing through the power control semiconductor device 1 is configured such that the direction of the current 30 flowing through the frame 7 and the direction of the current 30 flowing through the heat spreader 2 are opposite to each other. . Since the directions of the currents 30 are opposite to each other, the magnetic flux generated by the current 30 flowing through the frame 7 and the magnetic flux generated by the current 30 flowing through the heat spreader 2 cancel each other, thereby reducing the inductance.

そして、本電力制御用半導体装置1では、上述したようにフレーム7と半導体素子5との間の距離をより縮めることができることで、フレーム7とヒートスプレッダ2との距離hをさらに縮めることができる。これにより、両者を流れる電流によって生じる磁束がより効果的に打ち消しあって、インダクタンスをさらに低減することができる。   In the power control semiconductor device 1, the distance h between the frame 7 and the heat spreader 2 can be further reduced by further reducing the distance between the frame 7 and the semiconductor element 5 as described above. Thereby, the magnetic flux generated by the current flowing through the both cancels out more effectively, and the inductance can be further reduced.

また、上述した電力制御用半導体装置1では、突出部9は、フレーム本体8に絞り加工を施すことによりフレーム本体8の厚みt0よりも薄く(t1)形成されていることで熱ストレスを吸収しやすくなって、熱ストレスによって半導体素子5の表面の接続部分(電極部材)が損傷を受けるのを抑制することができる。この熱ストレスは、たとえば銅から形成されるフレーム7とシリコンを主成分とする半導体素子5とで線膨張係数が異なることに起因する。フレーム7の突出部9の厚みが厚いと線膨張係数が大きく、線膨張係数の比較的小さい半導体素子5との線膨張係数の差が大きくなって熱ストレス(歪)が大きくなる。一方、突出部9の厚みを薄くすると線膨張係数が小さくなって半導体素子5の線膨張係数の値に近づき、熱ストレスを小さくすることができる。 Further, in the power control semiconductor device 1 described above, the protruding portion 9 is formed to be thinner (t 1 ) than the thickness t 0 of the frame body 8 by subjecting the frame body 8 to a drawing process, thereby causing thermal stress. It becomes easy to absorb and it can suppress that the connection part (electrode member) on the surface of the semiconductor element 5 is damaged by thermal stress. This thermal stress is caused by a difference in linear expansion coefficient between the frame 7 made of, for example, copper and the semiconductor element 5 mainly composed of silicon. If the thickness of the protruding portion 9 of the frame 7 is thick, the linear expansion coefficient is large, and the difference in linear expansion coefficient with the semiconductor element 5 having a relatively small linear expansion coefficient is large, so that thermal stress (strain) is increased. On the other hand, when the thickness of the protruding portion 9 is reduced, the linear expansion coefficient is reduced, approaching the value of the linear expansion coefficient of the semiconductor element 5, and thermal stress can be reduced.

そして、上述した電力制御用半導体装置1では、比較例に係る電力制御用半導体装置101と比べて、付加的なダイレクトリード110が不要とされる。これにより、電力制御用半導体装置1の部品点数の削減と組立て工数の削減を図ることができて、生産コストを低減することができる。   In the power control semiconductor device 1 described above, the additional direct lead 110 is not necessary as compared with the power control semiconductor device 101 according to the comparative example. Thereby, it is possible to reduce the number of parts and assembly man-hours of the power control semiconductor device 1, thereby reducing the production cost.

実施の形態2
次に、実施の形態2に係る電力制御用半導体装置について説明する。図9および図10に示すように、この電力制御用半導体装置1では、フレーム本体8に絞り加工を施すことによって一体的に形成される突出部9に開口部10が設けられて、突出部9の先端部分9aが解放端とされている。その解放端とされた先端部分9aが、はんだ6によって半導体素子5の表面に接合されている。なお、これ以外の構成については、図1および図2に示す電力制御用半導体装置1と同様なので、同一部材には同一符号を付しその説明を省略する。
Embodiment 2
Next, a power control semiconductor device according to the second embodiment will be described. As shown in FIGS. 9 and 10, in this power control semiconductor device 1, an opening 10 is provided in a protrusion 9 that is integrally formed by drawing the frame body 8, and the protrusion 9 The tip end portion 9a is a release end. The open end portion 9 a is joined to the surface of the semiconductor element 5 by solder 6. Since other configurations are the same as those of the power control semiconductor device 1 shown in FIGS. 1 and 2, the same members are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

上述した電力制御用半導体装置1では、実施の形態1において述べた効果に加えて次のような効果が得られる。すなわち、フレーム7の突出部9に開口部10を設けることによって先端部分9aが解放端とされ、その解放端とされた先端部分9aがはんだ6によって半導体素子5の表面に接合されることで、先端部分9aとはんだ6との接合部分に作用する歪(熱ストレス)を容易に吸収することができる。その結果、電力制御用半導体装置1の信頼性を向上させることができるとともにその寿命も延ばすことができる。なお、開口部10としては、突出部9の先端部分9aがフレーム本体8に対して解放端となるような態様の開口部であれば、特に開口形状等は限定されない。   In the power control semiconductor device 1 described above, the following effects are obtained in addition to the effects described in the first embodiment. That is, by providing the opening portion 10 in the projecting portion 9 of the frame 7, the tip end portion 9 a is an open end, and the tip end portion 9 a that is the open end is joined to the surface of the semiconductor element 5 by the solder 6. Strain (thermal stress) acting on the joint portion between the tip portion 9a and the solder 6 can be easily absorbed. As a result, the reliability of the power control semiconductor device 1 can be improved and the lifetime can be extended. The opening shape is not particularly limited as long as the opening portion 10 has an aspect in which the distal end portion 9 a of the protruding portion 9 is an open end with respect to the frame body 8.

変形例
突出部の先端部分に開口部を設ける態様の電力制御用半導体装置の変形例について説明する。図11および図12に示すように、変形例に係る電力制御用半導体装置1では、突出部9の先端部分9aに平面(上面)形状がほぼ円形となる開口部10が形成されている。フレーム7の突出部9は、はんだ6によりその開口部10からはんだ6が盛り上がる態様で半導体素子5の表面に接合されている。なお、これ以外の構成については、図1および図2に示す電力制御用半導体装置1と同様なので、同一部材には同一符号を付しその説明を省略する。
Modified Example A modified example of the power control semiconductor device in which an opening is provided at the tip of the protruding part will be described. As shown in FIGS. 11 and 12, in the power control semiconductor device 1 according to the modification, an opening 10 having a substantially circular plane (upper surface) shape is formed in the tip portion 9 a of the protruding portion 9. The protruding portion 9 of the frame 7 is joined to the surface of the semiconductor element 5 in such a manner that the solder 6 rises from the opening 10 by the solder 6. Since other configurations are the same as those of the power control semiconductor device 1 shown in FIGS. 1 and 2, the same members are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

この変形例に係る電力制御用半導体装置1では、線膨張係数の比較的大きいフレーム7と、線膨張係数の比較的小さい半導体素子5とが直接接触する面積を小さくすることができ、温度サイクルによる熱ストレス(歪)を低減することができる。   In the power control semiconductor device 1 according to this modification, the area in which the frame 7 having a relatively large linear expansion coefficient and the semiconductor element 5 having a relatively small linear expansion coefficient are in direct contact with each other can be reduced. Thermal stress (strain) can be reduced.

参考例
次に、本発明に関連する参考例に係る電力制御用半導体装置について説明する。図13および図14に示すように、この電力制御用半導体装置1では、突出部9の先端部分9aが、先端に向うにしたがって徐々に細くなる先細り形状とされている。また、突出部9には、フレーム本体8から先端部分9aに向って階段状に細くなるように、フレーム本体8と先端部分9aとの間に段差部11が設けられている。その段差11によって、たとえば突出部9の幅W1(約15mm)は幅W2(約5mm)にまで狭められる。なお、これ以外の構成については、図1および図2に示す電力制御用半導体装置1と同様なので、同一部材には同一符号を付しその説明を省略する。
Reference Example Next, a power control semiconductor device according to a reference example related to the present invention will be described. As shown in FIGS. 13 and 14, in the power control semiconductor device 1, the tip end portion 9 a of the protruding portion 9 has a tapered shape that becomes gradually narrower toward the tip end. Further, the protruding portion 9 is provided with a step portion 11 between the frame main body 8 and the tip end portion 9a so as to become thinner stepwise from the frame main body 8 toward the tip end portion 9a. By the step 11, for example, the width W 1 (about 15 mm) of the protrusion 9 is reduced to the width W 2 (about 5 mm). Since other configurations are the same as those of the power control semiconductor device 1 shown in FIGS. 1 and 2, the same members are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

上述した電力制御用半導体装置1では、実施の形態1において述べた効果に加えて次のような効果が得られる。すなわち、突出部9の先端部分9aが、先端に向うにしたがって徐々に細くなる先細り形状とされている。これにより、図15に示すように、先端部分9aが半導体素子5の表面に接触した位置から半導体素子5の周辺部までの距離h(約1mm)を確保して、先端部分9aと半導体素子5とを接合するはんだ6をその接触した部分から半導体素子5の周辺部に至る領域にわって位置させることができる。その結果、半導体素子5の表面近傍においてより広い領域にわたって位置するはんだ6により、温度サイクルによる熱ストレスに伴って、はんだ6の外周部にクラックが広がるのを抑制することができる。   In the power control semiconductor device 1 described above, the following effects are obtained in addition to the effects described in the first embodiment. That is, the tip end portion 9a of the protruding portion 9 has a tapered shape that gradually becomes thinner toward the tip end. As a result, as shown in FIG. 15, a distance h (about 1 mm) from the position where the tip portion 9a contacts the surface of the semiconductor element 5 to the peripheral portion of the semiconductor element 5 is secured, and the tip portion 9a and the semiconductor element 5 are secured. Can be positioned over the region extending from the contacted portion to the peripheral portion of the semiconductor element 5. As a result, the solder 6 positioned over a wider area in the vicinity of the surface of the semiconductor element 5 can suppress cracks from spreading on the outer peripheral portion of the solder 6 due to thermal stress due to a temperature cycle.

また、突出部8に段差部11を設けることで、絞り加工の深さを変えることなく、段差部11の位置(h1)を変更するだけで、フレーム本体8とヒートスプレッダ2との間隔(h2)を容易に変更することができる。なお、段差部11は、本実施の形態に係る電力制御用半導体装置1のほかに、他の実施の形態に係る電力制御用半導体装置にも適用することができる。 Further, by providing the protruding portion 8 with the stepped portion 11, the distance (h) between the frame body 8 and the heat spreader 2 can be changed only by changing the position (h 1 ) of the stepped portion 11 without changing the drawing depth. 2 ) can be easily changed. In addition to the power control semiconductor device 1 according to the present embodiment, the step portion 11 can be applied to a power control semiconductor device according to another embodiment.

実施の形態
次に、実施の形態に係る電力制御用半導体装置について説明する。図16および図17に示すように、この電力制御用半導体装置1では、フレーム本体8に一つの半導体素子5に接合される複数の突出部9が形成されている。一方、一つの半導体素子5には、ガードリング12およびスリット13によって分割された複数の領域が形成されている。複数の突出部9は、半導体素子5における分割された領域の対応する領域にそれぞれ接合されている。なお、これ以外の構成については、図1および図2に示す電力制御用半導体装置1と同様なので、同一部材には同一符号を付しその説明を省略する。
Embodiment 3
Next, a power control semiconductor device according to the third embodiment will be described. As shown in FIGS. 16 and 17, in the power control semiconductor device 1, a plurality of projecting portions 9 joined to one semiconductor element 5 are formed in the frame body 8. On the other hand, a plurality of regions divided by the guard ring 12 and the slit 13 are formed in one semiconductor element 5. The plurality of protrusions 9 are respectively joined to regions corresponding to the divided regions in the semiconductor element 5. Since other configurations are the same as those of the power control semiconductor device 1 shown in FIGS. 1 and 2, the same members are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

上述した電力制御用半導体装置1では、実施の形態1において述べた効果に加えて次のような効果が得られる。すなわち、一つの半導体素子5に対して複数の突出部9を接触させることで、突出部9一つあたりの接合面積が小さくなり、半導体素子5に作用する熱ストレスを低減することができる。また、半導体素子5がガードリング12およびスリット13により分割されているような場合に、その分割された領域に対応した複数の突出部をフレーム本体8に絞り加工によって形成することで、そのような半導体素子における分割された領域のそれぞれに突出部を容易に接合させることができる。   In the power control semiconductor device 1 described above, the following effects are obtained in addition to the effects described in the first embodiment. That is, by bringing the plurality of protruding portions 9 into contact with one semiconductor element 5, the bonding area per protruding portion 9 is reduced, and thermal stress acting on the semiconductor element 5 can be reduced. Further, when the semiconductor element 5 is divided by the guard ring 12 and the slit 13, a plurality of projecting portions corresponding to the divided regions are formed on the frame body 8 by drawing, so that The protrusion can be easily joined to each of the divided regions in the semiconductor element.

実施の形態
次に、実施の形態に係る電力制御用半導体装置について説明する。図18および図19に示すように、この電力制御用半導体装置1では、突出部9のほぼ全体がフレーム本体8の厚みよりも薄い一様な厚みをもって形成されている。突出部9の大きさとして、たとえば幅Wは約5mmとされ、高さHは約0.7mmとされる。なお、これ以外の構成については、図1および図2に示す電力制御用半導体装置1と同様なので、同一部材には同一符号を付しその説明を省略する。
Embodiment 4
Next, a power control semiconductor device according to the fourth embodiment will be described. As shown in FIGS. 18 and 19, in this power control semiconductor device 1, almost the entire protrusion 9 is formed with a uniform thickness that is thinner than the thickness of the frame body 8. As the size of the protruding portion 9, for example, the width W is about 5 mm and the height H is about 0.7 mm. Since other configurations are the same as those of the power control semiconductor device 1 shown in FIGS. 1 and 2, the same members are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

上述した電力制御用半導体装置1では、実施の形態1において述べた効果に加えて次のような効果が得られる。すなわち、突出部9がフレーム本体8の厚みよりも薄い厚みをもってほぼ一様に形成されていることにより、半導体素子5に作用する熱ストレスをより効果的に低減することができる。   In the power control semiconductor device 1 described above, the following effects are obtained in addition to the effects described in the first embodiment. That is, since the protruding portion 9 is formed substantially uniformly with a thickness thinner than the thickness of the frame body 8, the thermal stress acting on the semiconductor element 5 can be more effectively reduced.

実施の形態
次に、実施の形態に係る電力制御用半導体装置について説明する。図20および図21に示すように、この電力制御用半導体装置1では、突出部9は、半導体素子5に接合される平板状の平板部9cと、その平板部9cとフレーム本体8とを繋ぐ側板部9dとによって構成される。平板部9cはフレーム本体8の厚み(t0)とほぼ同じ厚みに形成され、側板部9dはフレーム本体8の厚みよりも薄く(厚みt1)形成されている。
Embodiment 5
Next, a power control semiconductor device according to the fifth embodiment will be described. As shown in FIGS. 20 and 21, in the power control semiconductor device 1, the protruding portion 9 connects the flat plate portion 9 c joined to the semiconductor element 5, and the flat plate portion 9 c and the frame body 8. And a side plate portion 9d. The flat plate portion 9c is formed to have substantially the same thickness as the thickness (t 0 ) of the frame body 8, and the side plate portion 9d is formed thinner than the thickness of the frame body 8 (thickness t 1 ).

なお、平板部9cは完全な平面を意図するものではなく、半導体素子5に対してより大きな接合面を確保することができるように形成されていればよい。突出部9の大きさとして、たとえば幅W1は約15mm、幅W2は約5mm、高さHは約0.7mmとされる。なお、これ以外の構成については、図1および図2に示す電力制御用半導体装置1と同様なので、同一部材には同一符号を付しその説明を省略する。 The flat plate portion 9 c is not intended to be a complete flat surface, and may be formed so as to ensure a larger bonding surface with respect to the semiconductor element 5. As the size of the protruding portion 9, for example, the width W 1 is about 15 mm, the width W 2 is about 5 mm, is height H is about 0.7 mm. Since other configurations are the same as those of the power control semiconductor device 1 shown in FIGS. 1 and 2, the same members are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

上述した電力制御用半導体装置1では、実施の形態1において述べた効果に加えて次のような効果が得られる。すなわち、突出部9の半導体素子5に対する接合面積が増えることによって、放熱を効果的に行なうことができる。また、側板部9dの厚みがフレーム本体8の厚みよりも薄く(厚みt1)形成されていることによって、平板部9cと半導体素子5との接合部に作用する熱ストレス(歪)を吸収することができて、電力制御用半導体装置1の信頼性を向上させることができるとともにその寿命も延ばすことができる。 In the power control semiconductor device 1 described above, the following effects are obtained in addition to the effects described in the first embodiment. That is, heat dissipation can be effectively performed by increasing the bonding area of the protruding portion 9 to the semiconductor element 5. Further, since the thickness of the side plate portion 9d is thinner than the frame body 8 (thickness t 1 ), the thermal stress (strain) acting on the junction between the flat plate portion 9c and the semiconductor element 5 is absorbed. In addition, the reliability of the power control semiconductor device 1 can be improved and the lifetime thereof can be extended.

なお、上述した各実施の形態では、突出部9としてはフレーム本体8に絞り加工を施すことによってフレーム本体8に一体的に形成される場合を例に挙げて説明したが、フレーム本体7aに一体的に形成され、かつ、フレーム本体8よりも薄く形成される部分を有しているのであれば、絞り加工に限られるものではない。また、各実施の形態において挙げられた寸法の値は一例であって、これらの寸法に限定されるものではない。   In each of the above-described embodiments, the case where the projecting portion 9 is formed integrally with the frame main body 8 by drawing the frame main body 8 has been described as an example. However, the protrusion 9 is integrated with the frame main body 7a. As long as it is formed and has a portion formed thinner than the frame body 8, it is not limited to drawing. Moreover, the value of the dimension quoted in each embodiment is an example, Comprising: It is not limited to these dimensions.

今回開示された実施の形態は例示にすぎず、これに制限されるものではない。本発明は上記で説明した範囲ではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲でのすべての変更が含まれることが意図される。   The embodiment disclosed this time is merely an example, and the present invention is not limited to this. The present invention is defined by the terms of the claims, rather than the scope described above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

本発明の実施の形態1に係る電力制御用半導体装置の上面図である。1 is a top view of a power control semiconductor device according to a first embodiment of the present invention. 同実施の形態において、図1に示す断面線II−IIにおける断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view taken along a cross-sectional line II-II shown in FIG. 1 in the same embodiment. 比較例に係る電力制御用半導体装置の上面図である。It is a top view of the semiconductor device for electric power control which concerns on a comparative example. 図3に示す断面線IV−IVにおける断面図である。FIG. 4 is a sectional view taken along a sectional line IV-IV shown in FIG. 3. 図3に示す電力制御用半導体装置の側面図である。FIG. 4 is a side view of the power control semiconductor device shown in FIG. 3. 同実施の形態において、サージ電圧を説明するためのスイッチング動作時における電圧の時間変化を示すグラフである。In the same embodiment, it is a graph which shows the time change of the voltage at the time of the switching operation | movement for demonstrating a surge voltage. 同実施の形態において、インダクタンスのフレームとヒートスプレッダとの間の距離の依存性を示すグラフである。In the same embodiment, it is a graph which shows the dependence of the distance between the flame | frame of an inductance, and a heat spreader. 同実施の形態において、電力制御用半導体装置を流れる電流を示す図である。In the same embodiment, it is a figure which shows the electric current which flows through the semiconductor device for electric power control. 本発明の実施の形態2に係る電力制御用半導体装置の上面図である。It is a top view of the semiconductor device for electric power control which concerns on Embodiment 2 of this invention. 同実施の形態において、図9に示す断面線X−Xにおける断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view taken along a cross-sectional line XX shown in FIG. 9 in the same embodiment. 同実施の形態において、変形例に係る電力制御用半導体装置の上面図である。In the same embodiment, it is a top view of the semiconductor device for electric power control concerning a modification. 同実施の形態において、図11に示す断面線XII−XIIにおける断面図である。FIG. 12 is a cross sectional view taken along a cross sectional line XII-XII shown in FIG. 11 in the same embodiment. 本発明に関連する参考例に係る電力制御用半導体装置の上面図である。It is a top view of the semiconductor device for electric power control which concerns on the reference example relevant to this invention. 参考例において、図13に示す断面線XIV−XIVにおける断面図である。FIG. 14 is a cross-sectional view taken along a cross-sectional line XIV-XIV shown in FIG. 13 in the reference example . 参考例において、図14に示す点線枠内を拡大して示す部分拡大断面図である。FIG. 15 is a partial enlarged cross-sectional view showing an enlarged view of a dotted frame shown in FIG. 14 in the reference example . 本発明の実施の形態に係る電力制御用半導体装置の上面図である。It is a top view of the semiconductor device for electric power control which concerns on Embodiment 3 of this invention. 同実施の形態において、図16に示す断面線XVII−XVIIにおける断面図である。FIG. 17 is a cross-sectional view taken along a cross-sectional line XVII-XVII shown in FIG. 16 in the same embodiment. 本発明の実施の形態に係る電力制御用半導体装置の上面図である。It is a top view of the semiconductor device for electric power control which concerns on Embodiment 4 of this invention. 同実施の形態において、図18に示す断面線XIX−XIXにおける断面図である。FIG. 19 is a cross-sectional view taken along a cross-sectional line XIX-XIX shown in FIG. 18 in the same embodiment. 本発明の実施の形態に係る電力制御用半導体装置の上面図である。It is a top view of the semiconductor device for electric power control which concerns on Embodiment 5 of this invention. 同実施の形態において、図20に示す断面線XXI−XXIにおける断面図である。FIG. 21 is a cross sectional view taken along a cross sectional line XXI-XXI shown in FIG. 20 in the embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

1 電力制御用半導体装置、2 ヒートスプレッダ、3 絶縁シート、4,6 はんだ、5 半導体素子、7 フレーム、8 フレーム本体、9 突出部、10 開口部、11 段差部、12 ガードリング、13 スリット。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Power control semiconductor device, 2 Heat spreader, 3 Insulating sheet, 4,6 Solder, 5 Semiconductor element, 7 Frame, 8 Frame main body, 9 Protruding part, 10 Opening part, 11 Step part, 12 Guard ring, 13 Slit.

Claims (7)

ヒートスプレッダと、
前記ヒートスプレッダの上に第1はんだを介在させて配設された、電力を制御するための半導体素子と、
前記半導体素子と電気的に接続され、前記半導体素子を駆動させるための所定の電気回路が形成されたフレームと
を有し、
前記フレームは、
フレーム本体と、
前記フレーム本体の厚みよりも薄い部分を含んで前記フレーム本体と一体的に形成され、前記半導体素子の表面に第2はんだにより接合される突出部と
を備え
前記突出部の先端部分に開口部が設けられた、電力制御用半導体装置。
A heat spreader,
A semiconductor element for controlling electric power, disposed on the heat spreader with a first solder interposed;
A frame electrically connected to the semiconductor element and formed with a predetermined electric circuit for driving the semiconductor element;
The frame is
The frame body,
Including a portion that is thinner than the thickness of the frame body, and is integrally formed with the frame body, and includes a protrusion that is joined to the surface of the semiconductor element by a second solder ,
A power control semiconductor device, wherein an opening is provided at a tip of the protrusion .
前記開口部は前記突出部の先端部分が解放端となる態様で形成された、請求項1記載の電力制御用半導体装置。 The power control semiconductor device according to claim 1, wherein the opening is formed in such a manner that a tip end portion of the protrusion is an open end . 前記フレームは、前記半導体素子の表面に接合される所定の領域に対し、前記突出部として複数の突出部によって接合された、請求項1または記載の電力制御用半導体装置。 Wherein the frame, the predetermined region to be bonded to the surface of the semiconductor element to, as the projecting portion joined by a plurality of protrusions, the power control semiconductor device according to claim 1 or 2. 前記半導体素子の表面は複数の領域に分割され、
前記複数の突出部は、それぞれ対応する分割された領域に接合された、請求項記載の電力制御用半導体装置。
The surface of the semiconductor element is divided into a plurality of regions,
The power control semiconductor device according to claim 3 , wherein the plurality of protrusions are joined to the corresponding divided regions .
ヒートスプレッダと、
前記ヒートスプレッダの上に第1はんだを介在させて配設された、電力を制御するための半導体素子と、
前記半導体素子と電気的に接続され、前記半導体素子を駆動させるための所定の電気回路が形成されたフレームと
を有し、
前記フレームは、
フレーム本体と、
前記フレーム本体の厚みよりも薄い部分を含んで前記フレーム本体と一体的に形成され、前記半導体素子の表面に第2はんだにより接合される突出部と
を備え、
前記突出部は、前記フレーム本体の厚みよりも薄い厚みをもって前記突出部の全体にわたって一様に形成された、電力制御用半導体装置。
A heat spreader,
A semiconductor element for controlling electric power, disposed on the heat spreader with a first solder interposed;
A frame electrically connected to the semiconductor element and formed with a predetermined electric circuit for driving the semiconductor element;
Have
The frame is
The frame body,
A protrusion formed integrally with the frame body including a portion thinner than the thickness of the frame body and joined to the surface of the semiconductor element by a second solder;
With
The protrusion is a semiconductor device for power control , wherein the protrusion is uniformly formed over the entire protrusion with a thickness smaller than the thickness of the frame body .
ヒートスプレッダと、
前記ヒートスプレッダの上に第1はんだを介在させて配設された、電力を制御するための半導体素子と、
前記半導体素子と電気的に接続され、前記半導体素子を駆動させるための所定の電気回路が形成されたフレームと
を有し、
前記フレームは、
フレーム本体と、
前記フレーム本体の厚みよりも薄い部分を含んで前記フレーム本体と一体的に形成され、前記半導体素子の表面に第2はんだにより接合される突出部と
を備え、
前記突出部は、
前記半導体素子に接合される平板部と、
前記平板部と前記フレーム本体と繋ぐ側板部と
を含み、
前記側板部の厚みは前記平板部の厚みよりも薄くされた、電力制御用半導体装置。
A heat spreader,
A semiconductor element for controlling electric power, disposed on the heat spreader with a first solder interposed;
A frame electrically connected to the semiconductor element and formed with a predetermined electric circuit for driving the semiconductor element;
Have
The frame is
The frame body,
A protrusion formed integrally with the frame body including a portion thinner than the thickness of the frame body and joined to the surface of the semiconductor element by a second solder;
With
The protrusion is
A flat plate portion bonded to the semiconductor element;
A side plate portion connecting the flat plate portion and the frame body;
Including
The power control semiconductor device , wherein the side plate portion is thinner than the flat plate portion .
前記突出部には、前記フレーム本体から前記半導体素子の側に向って階段状に細くなるように段差部が設けられた、請求項1〜6のいずれかに記載の電力制御用半導体装置。 Wherein the projecting portion, the step portion so that thinner stepwise toward the side of the semiconductor element from the frame body is provided, the power control semiconductor device according to any one of claims 1-6.
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