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JP4907286B2 - Circuit structure and manufacturing method thereof - Google Patents
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この発明は、一般的には回路構成体とその製造方法に関し、特定的にはICタグ、ICカード等の機能カードに使用されるアンテナ回路等を備えた回路構成体とその製造方法に関するものである。   The present invention generally relates to a circuit structure and a manufacturing method thereof, and more particularly to a circuit structure including an antenna circuit used for a functional card such as an IC tag and an IC card and a manufacturing method thereof. is there.

近年、ICタグ、ICカード等の機能カードは、目覚ましい発展を遂げ、テレフォンカード、クレジットカード、プリペイドカード、キャッシュカード、IDカード、カードキー、各種会員カード、図書券、診察券、定期券等に使用されている。これらの機能カードに収容されている、アンテナ回路等を備えた回路構成体は、ポリプロピレン(PP)フィルム、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム等の樹脂フィルムからなる基材と、基材の表面上に形成された金属箔からなるアンテナ回路パターン層とから構成される。この回路構成体の製造方法としては、樹脂を含む基材の片面または両面に接着剤を介在して固着された金属箔の表面上に、アクリル系樹脂をレジストインキ層として印刷し、レジストインキ層をマスクとして用いて金属箔を酸性溶液中でエッチングした後、アルカリ水溶液中でレジストインキ層を除去して金属箔からなるアンテナ回路パターン層の表面を露出させる方法が一般的である。   In recent years, functional cards such as IC tags and IC cards have made remarkable developments. in use. The circuit components having antenna circuits and the like housed in these functional cards are formed on a substrate made of a resin film such as a polypropylene (PP) film or a polyethylene terephthalate (PET) film, and on the surface of the substrate. And an antenna circuit pattern layer made of a metal foil. As a method for producing this circuit structure, an acrylic resin is printed as a resist ink layer on the surface of a metal foil fixed with an adhesive on one or both sides of a resin-containing base material. In general, the metal foil is etched in an acidic solution using a mask as a mask, and then the resist ink layer is removed in an alkaline aqueous solution to expose the surface of the antenna circuit pattern layer made of the metal foil.

機能カードとしては、多機能化と小型軽量化の要求に伴って、複数のアンテナ回路を有する回路構成体が収容された種々のカードが開発されている。   As functional cards, various cards containing circuit components having a plurality of antenna circuits have been developed in response to demands for multi-functionality and reduction in size and weight.

複数のアンテナ回路を接合する方法として、たとえば、特開2002−7990号公報(特許文献1)には、図12(A)に示すように、樹脂を含む基材110の両面に接着剤層120を介在して形成されたアンテナ回路パターン層130の少なくとも一部同士をクリンピング加工によって接触させ、導通させて、図12(B)に示すように接触部または圧着部130aを形成して接合する方法が開示されている。
特開2002−7990号公報
As a method for joining a plurality of antenna circuits, for example, in Japanese Patent Laid-Open No. 2002-7990 (Patent Document 1), as shown in FIG. 12A, an adhesive layer 120 is formed on both surfaces of a base material 110 containing a resin. 12 is a method in which at least a part of the antenna circuit pattern layer 130 formed by interposing is brought into contact with each other by crimping and made conductive to form a contact portion or a crimping portion 130a as shown in FIG. Is disclosed.
JP 2002-7990 A

しかしながら、複数の基材の各々の表面上に形成されたアンテナ回路パターン層の少なくとも一部同士を位置決めして重ね合わせた後、クリンピング加工によって接触させて接合しようとすると、クリンピング加工時の押圧によって、その重ね合わせ位置がずれてしまうという問題がある。特に、別々の基材の表面上に固着された、アンテナ回路パターン層を形成する金属箔の露出面同士をクリンピング加工によって接合しても、接合部の持続性がなく、耐久性も得ることができないという問題もある。   However, after positioning and overlapping at least a part of the antenna circuit pattern layers formed on the surfaces of each of the plurality of base materials, if they are brought into contact with each other by crimping, they are pressed by crimping. There is a problem that the overlapping position is shifted. In particular, even if the exposed surfaces of the metal foil that forms the antenna circuit pattern layer, which are fixed on the surfaces of different base materials, are joined together by crimping, the joined part is not durable and can be durable. There is also a problem that it cannot be done.

たとえば、図13に示すように、一方の基材11の表面に接着剤層12を介在して形成されたアンテナ回路パターン層10と、他方の基材21の表面に接着剤層22を介在して形成されたアンテナ回路パターン層20とを、位置決めして重ね合わせた後、矢印Cで示すようにクリンピング加工によって接触させて接合しようとする。このとき、クリンピング加工時の押圧等によって、アンテナ回路パターン層10とアンテナ回路パターン層20の重ね合わせ位置がずれてしまう。また、クリンピング部以外は接合されていないため、容易に接合が外れてしまう。   For example, as shown in FIG. 13, the antenna circuit pattern layer 10 formed by interposing the adhesive layer 12 on the surface of one base material 11, and the adhesive layer 22 on the surface of the other base material 21. The antenna circuit pattern layer 20 formed in this manner is positioned and superimposed, and then contacted by crimping as shown by an arrow C to join. At this time, the overlapping position of the antenna circuit pattern layer 10 and the antenna circuit pattern layer 20 is shifted due to pressing during crimping. Further, since the parts other than the crimping portion are not joined, the joining is easily removed.

また、図14に示すように、一方の基材11の表面に接着剤層12を介在して形成されたアンテナ回路パターン層10の露出面と、他方の基材21の表面に接着剤層22を介在して形成されたアンテナ回路パターン層20の露出面とを対向させて、矢印Cで示すようにクリンピング加工によって接触させて接合しようとする。すなわち、アンテナ回路パターン層10と20を形成する金属箔の露出面同士をクリンピング加工によって接合しようとする。このとき、クリンピング加工時の押圧等によって、アンテナ回路パターン層10とアンテナ回路パターン層20の重ね合わせ位置がずれてしまう。また、クリンピング部以外は接合されていないため、容易に接合が外れてしまう。   Further, as shown in FIG. 14, the exposed surface of the antenna circuit pattern layer 10 formed on the surface of one base material 11 with the adhesive layer 12 interposed therebetween, and the adhesive layer 22 on the surface of the other base material 21. The exposed surface of the antenna circuit pattern layer 20 formed by interposing it is opposed to each other by crimping as shown by an arrow C and joined. That is, the exposed surfaces of the metal foils forming the antenna circuit pattern layers 10 and 20 are to be joined by crimping. At this time, the overlapping position of the antenna circuit pattern layer 10 and the antenna circuit pattern layer 20 is shifted due to pressing during crimping. Further, since the parts other than the crimping portion are not joined, the joining is easily removed.

そこで、この発明の目的は、複数の基材の各々の表面上に形成された機能パターン層の少なくとも一部同士を、重ね合わせ位置がずれることなく、クリンピング加工によって確実に接合することが可能な回路構成体とその製造方法を提供することである。   Accordingly, an object of the present invention is to reliably bond at least a part of the functional pattern layers formed on the surfaces of the plurality of base materials by crimping without shifting the overlapping position. It is to provide a circuit structure and a manufacturing method thereof.

この発明に従った回路構成体の製造方法は、次の工程を備える。The manufacturing method of the circuit structure according to the present invention includes the following steps.

(a)樹脂を含む基材の上に、金属箔を含む機能パターン層が形成された第1と第2の回路構成体を準備する工程。(A) The process of preparing the 1st and 2nd circuit structure body by which the functional pattern layer containing metal foil was formed on the base material containing resin.

(b)第1と第2の回路構成体の少なくともいずれか一方の機能パターン層の上に、Bステージの熱硬化性樹脂を含む熱接着層を形成する工程。(B) A step of forming a thermoadhesive layer containing a thermosetting resin for the B stage on at least one of the functional pattern layers of the first and second circuit components.

(c)熱接着層を形成した後に、第1と第2の回路構成体の一方の機能パターン層と、第1と第2の回路構成体の他方の機能パターン層とが対向するように第1と第2の回路構成体を重ね合わせる工程。(C) After forming the thermal adhesive layer, the first functional pattern layer of the first and second circuit components and the other functional pattern layer of the first and second circuit components are opposed to each other. A step of superposing the first and second circuit components;

(d)重ね合わせられた第1と第2の回路構成体を加熱することにより固着する工程。(D) A step of fixing the superposed first and second circuit components by heating.

(e)固着された第1と第2の回路構成体にクリンピング加工を施すことによって、第1の回路構成体の機能パターン層の少なくとも一部を、第2の回路構成体の機能パターン層の少なくとも一部に接触させる工程。(E) By crimping the fixed first and second circuit components, at least part of the functional pattern layer of the first circuit component is changed to the functional pattern layer of the second circuit component. Contacting at least a portion.

ここで、クリンピング加工とは、たとえば、超音波等により、熱接着層、接着剤、基材等を構成する樹脂を部分的に破壊し、機能パターン層を形成する金属箔の一部同士を物理的に接触させることをいう。Here, the crimping process refers to, for example, partially destroying the resin constituting the thermal adhesive layer, the adhesive, the base material, etc. by ultrasonic waves, and physically detaching part of the metal foil that forms the functional pattern layer. Means contact.

この発明に従った回路構成体の製造方法によれば、第1の回路構成体の機能パターン層の少なくとも一部と、第2の回路構成体の機能パターン層の少なくとも一部とを位置決めして重ね合わせた後、加熱すると、少なくとも一方の機能パターン層上に形成された熱接着層が硬化し、機能パターン層の一部同士が熱接着層を介して固着される。その後、クリンピング加工によって、熱接着層を部分的に破壊することにより、機能パターン層の一部同士が接触し、導通して接合される。このとき、機能パターン層の一部同士が熱接着層を介して固着されているので、クリンピング加工時の押圧によって、その重ね合わせ位置がずれてしまうことがなく、機能パターン層の一部同士を確実に接合することができる。According to the method for manufacturing a circuit structure according to the present invention, at least a part of the functional pattern layer of the first circuit structure and at least a part of the functional pattern layer of the second circuit structure are positioned. When heated after superimposing, the thermal adhesive layer formed on at least one of the functional pattern layers is cured, and part of the functional pattern layers are fixed to each other via the thermal adhesive layer. Thereafter, the thermal bonding layer is partially broken by crimping, so that part of the functional pattern layers come into contact with each other and are conductively joined. At this time, since part of the functional pattern layers are fixed to each other via the thermal adhesive layer, the overlapping position does not shift due to pressing during crimping, and part of the functional pattern layers are It can be reliably joined.

この発明に従った回路構成体は、第1と第2の回路構成体と、熱接着層とを備える。第1と第2の回路構成体は、樹脂を含む基材の上に、金属箔を含む機能パターン層が形成されている。熱接着層は、第1と第2の回路構成体の少なくともいずれか一方の機能パターン層の上に形成された、Bステージの熱硬化性樹脂を含む。第1と第2の回路構成体の一方の機能パターン層と、第1と第2の回路構成体の他方の機能パターン層とが対向するように第1と第2の回路構成体が熱接着層を介して重ね合わせられて固着されている。固着された第1と第2の回路構成体にクリンピング加工を施すことによって、第1の回路構成体の機能パターン層の少なくとも一部が、第2の回路構成体の機能パターン層の少なくとも一部に接触させられている。The circuit structure according to the present invention includes first and second circuit structures and a thermal bonding layer. As for the 1st and 2nd circuit structure, the functional pattern layer containing metal foil is formed on the base material containing resin. The thermal adhesive layer includes a B-stage thermosetting resin formed on at least one of the functional pattern layers of the first and second circuit components. The first and second circuit components are thermally bonded so that one functional pattern layer of the first and second circuit components is opposite to the other functional pattern layer of the first and second circuit components. Overlaid through the layers and fixed. By crimping the fixed first and second circuit components, at least part of the functional pattern layer of the first circuit component is at least part of the functional pattern layer of the second circuit component. Is contacted.

以上のようにこの発明の回路構成体によれば、クリンピング加工の前に、複数の基材の各々の表面上に形成された機能パターン層の一部同士が熱接着層を介して固着されるので、クリンピング加工時の押圧によって、その重ね合わせ位置がずれてしまうことがなく、機能パターン層の一部同士を確実に接合することができる。   As described above, according to the circuit structure of the present invention, part of the functional pattern layers formed on the surfaces of the plurality of base materials are fixed to each other via the thermal adhesive layer before the crimping process. Therefore, the overlapping position does not shift due to pressing at the time of crimping, and part of the functional pattern layers can be reliably bonded.

以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1はこの発明の一つの実施の形態に従った回路構成体の一部を示す部分平面図、図2は図1のII−II線における断面を示す部分断面図である。   FIG. 1 is a partial plan view showing a part of a circuit structure according to one embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a partial cross-sectional view showing a cross section taken along line II-II in FIG.

図1と図2に示すように、回路構成体1は、アンテナ回路パターン層等の機能パターン層10を有する第1の回路構成体101と、アンテナ回路パターン層等の機能パターン層20を有する第2の回路構成体102とから構成される。第1の回路構成体101では、相対的に幅の広い基材としての樹脂フィルム基材11の一方側の表面上に、接着剤層12を介在して、所定のパターンを有する金属箔からなる機能パターン層10が固着されている。第2の回路構成体102では、相対的に幅の狭い基材としての樹脂フィルム基材21の一方側の表面上に、接着剤層22を介在して、所定のパターンを有する金属箔からなる機能パターン層20が固着されている。   As shown in FIG. 1 and FIG. 2, the circuit structure 1 includes a first circuit structure 101 having a functional pattern layer 10 such as an antenna circuit pattern layer, and a functional pattern layer 20 having a functional pattern layer 20 such as an antenna circuit pattern layer. 2 circuit components 102. In the 1st circuit structure 101, it consists of metal foil which has a predetermined pattern on the surface of the one side of the resin film base material 11 as a relatively wide base material with the adhesive bond layer 12 interposed. The functional pattern layer 10 is fixed. In the 2nd circuit structure 102, it consists of metal foil which has a predetermined pattern on the surface of the one side of the resin film base material 21 as a base material with a comparatively narrow width, interposing the adhesive bond layer 22. The functional pattern layer 20 is fixed.

第1の回路構成体101の機能パターン層10は、帯状に延び、開口部10aを有し、互いに対向する突出端部10bと10cを有する。第2の回路構成体の機能パターン層20は、互いに間隔Gだけ離れて形成された二つの島状のパターン層からなる。図1に示すように機能パターン層10の一部と機能パターン層20の一部とが対向するように第1と第2の回路構成体101と102が重ね合わせられている。図2に示すように、機能パターン層20の露出面の上にはBステージ(硬化反応の中間段階)の樹脂を含む熱接着層31が形成され、熱接着層31を介在して機能パターン層10の露出面の一部が重ね合わせられている。   The functional pattern layer 10 of the first circuit configuration body 101 extends in a band shape, has an opening 10a, and has projecting ends 10b and 10c facing each other. The functional pattern layer 20 of the second circuit configuration body is composed of two island-shaped pattern layers formed at a distance G from each other. As shown in FIG. 1, the first and second circuit components 101 and 102 are overlapped so that a part of the functional pattern layer 10 and a part of the functional pattern layer 20 face each other. As shown in FIG. 2, a thermal adhesive layer 31 containing a B-stage (intermediate stage of curing reaction) resin is formed on the exposed surface of the functional pattern layer 20, and the functional pattern layer is interposed via the thermal adhesive layer 31. A part of the ten exposed surfaces are superimposed.

このような状態で重ね合わせられた第1と第2の回路構成体101と102を加熱すると、熱接着層31に含まれる樹脂はBステージから軟化溶融すると同時に、樹脂の硬化反応が進行し、積層された機能パターン層10と20とが熱接着層31によって固着される。このようにして固着された第1と第2の回路構成体101と102にてクリンピング加工を施すことによって、熱接着層31が部分的に破壊され、機能パターン層10(10b、10c)と20が、クリンピング部30において互いに電気的に導通するように接触する。   When the first and second circuit components 101 and 102 stacked in such a state are heated, the resin contained in the thermal adhesive layer 31 softens and melts from the B stage, and at the same time, the resin curing reaction proceeds. The laminated functional pattern layers 10 and 20 are fixed by the heat bonding layer 31. By crimping the first and second circuit components 101 and 102 thus fixed, the thermal adhesive layer 31 is partially broken, and the functional pattern layers 10 (10b, 10c) and 20 Are in contact with each other in the crimping portion 30 so as to be electrically connected to each other.

このようにして、第1の回路構成体101の機能パターン層10の少なくとも一部と、第2の回路構成体102の機能パターン層20の少なくとも一部とを位置決めして重ね合わせた後、加熱すると、少なくとも一方の機能パターン層10上に形成された熱接着層31が硬化し、機能パターン層10と20の一部同士が熱接着層31を介して固着される。その後、クリンピング加工によって、熱接着層31を部分的に破壊することにより、機能パターン層10と20の一部同士が接触し、導通して接合される。このとき、機能パターン層10と20の一部同士が熱接着層31を介して固着されているので、クリンピング加工時の押圧によって、その重ね合わせ位置がずれてしまうことがなく、機能パターン層10と20の一部同士を確実に接合することができる。いいかえれば、クリンピング加工の前に、複数の基材11と21の各々の表面上に形成された機能パターン層10と20の一部同士が熱接着層31を介して固着されるので、クリンピング加工時の押圧によって、その重ね合わせ位置がずれてしまうことがなく、機能パターン層10と20の一部同士を確実に接合することができる。   In this manner, after positioning and superposing at least a part of the functional pattern layer 10 of the first circuit structure 101 and at least a part of the functional pattern layer 20 of the second circuit structure 102, heating is performed. Then, the thermal adhesive layer 31 formed on at least one of the functional pattern layers 10 is cured, and a part of the functional pattern layers 10 and 20 are fixed to each other via the thermal adhesive layer 31. Thereafter, the thermal bonding layer 31 is partially broken by crimping, so that part of the functional pattern layers 10 and 20 come into contact with each other and are electrically connected. At this time, since part of the functional pattern layers 10 and 20 are fixed to each other via the thermal bonding layer 31, the overlapping position is not shifted by pressing during crimping, and the functional pattern layer 10 And 20 can be reliably joined together. In other words, a part of the functional pattern layers 10 and 20 formed on the surfaces of the plurality of base materials 11 and 21 are fixed to each other via the thermal bonding layer 31 before the crimping process. The overlapping position does not shift due to pressing at the time, and a part of the functional pattern layers 10 and 20 can be reliably bonded.

なお、図3は、本発明の比較例として図1のIII−III線における断面を示す部分断面図である。図3に示すように、熱接着層を介在させないで、機能パターン層10の露出面と機能パターン層20の露出面とが対向するように第1と第2の回路構成体101と102が重ね合わせられている。この場合、一方の基材11の表面に接着剤層12を介在して形成された機能パターン層10の露出面と、他方の基材21の表面に接着剤層22を介在して形成された機能パターン層20の露出面とを対向させて、クリンピング加工によって接触させて接合しようとする。すなわち、機能パターン層10と20を形成する金属箔の露出面同士をクリンピング加工によって接合しようとする。このとき、クリンピング加工時の押圧によって、機能パターン層10と機能パターン層20の重ね合わせ位置がずれてしまうので、その接合部に持続性がなく、耐久性も得ることができない。   FIG. 3 is a partial cross-sectional view showing a cross section taken along line III-III in FIG. 1 as a comparative example of the present invention. As shown in FIG. 3, the first and second circuit components 101 and 102 are overlapped so that the exposed surface of the functional pattern layer 10 and the exposed surface of the functional pattern layer 20 face each other without interposing a thermal adhesive layer. It is matched. In this case, the exposed surface of the functional pattern layer 10 formed on the surface of one substrate 11 with the adhesive layer 12 interposed therebetween, and the adhesive layer 22 formed on the surface of the other substrate 21 with the adhesive layer 12 interposed. The exposed surface of the functional pattern layer 20 is opposed to each other and is brought into contact by crimping so as to be joined. That is, the exposed surfaces of the metal foils forming the functional pattern layers 10 and 20 are to be joined by crimping. At this time, the overlapping position of the functional pattern layer 10 and the functional pattern layer 20 is shifted due to pressing during the crimping process, so that the joined portion has no durability and durability cannot be obtained.

図4〜図5は、この発明の一つの実施の形態として図1の回路構成体1を構成する第1の回路構成体101の製造工程を示す部分断面図である。   4 to 5 are partial cross-sectional views showing manufacturing steps of the first circuit structure 101 constituting the circuit structure 1 of FIG. 1 as one embodiment of the present invention.

図4に示すように、金属箔100の一方側の表面上に、たとえば、グラビア印刷法によって、機能パターンとして、たとえば、アンテナ回路パターンを有するレジスト層13を印刷する。その後、金属箔100の他方側の表面上に、たとえば、ドライラミネート接着剤層12を介在して樹脂フィルム基材11を固着する。   As shown in FIG. 4, for example, a resist layer 13 having an antenna circuit pattern is printed as a functional pattern on the surface of one side of the metal foil 100 by, for example, a gravure printing method. Thereafter, the resin film substrate 11 is fixed on the other surface of the metal foil 100 with, for example, a dry laminate adhesive layer 12 interposed therebetween.

そして、図5に示すように、レジスト層13をマスクとして用いて、酸性溶液中で金属箔100をエッチングすることによって機能パターン層10を形成する。その後、アルカリ処理により、レジスト層13を除去する。このようにして、第1の回路構成体101を作製する。   Then, as shown in FIG. 5, the functional pattern layer 10 is formed by etching the metal foil 100 in an acidic solution using the resist layer 13 as a mask. Thereafter, the resist layer 13 is removed by alkali treatment. In this way, the first circuit configuration body 101 is produced.

図6〜図7は、この発明の一つの実施の形態として図1の回路構成体1を構成する第2の回路構成体102の製造工程を示す部分断面図である。   6 to 7 are partial cross-sectional views showing a manufacturing process of the second circuit structure 102 constituting the circuit structure 1 of FIG. 1 as one embodiment of the present invention.

図6に示すように、金属箔の一方側の表面上に、たとえば、グラビア印刷法によって、機能パターンとして、たとえば、アンテナ回路パターンを有するレジスト層23を印刷する。その後、金属箔の他方側の表面上に、たとえば、ドライラミネート接着剤層22を介在して樹脂フィルム基材21を固着する。そして、レジスト層23をマスクとして用いて、酸性溶液中で金属箔をエッチングすることによって機能パターン層20を形成する。その後、図7に示すように、アルカリ処理により、レジスト層23を除去する。このようにして、第2の回路構成体102を作製する。得られた機能パターン層20の上に熱接着層31を形成する。   As shown in FIG. 6, a resist layer 23 having, for example, an antenna circuit pattern as a functional pattern is printed on the surface of one side of the metal foil by, for example, a gravure printing method. Thereafter, the resin film substrate 21 is fixed on the surface of the other side of the metal foil with, for example, a dry laminate adhesive layer 22 interposed therebetween. Then, the functional pattern layer 20 is formed by etching the metal foil in an acidic solution using the resist layer 23 as a mask. Thereafter, as shown in FIG. 7, the resist layer 23 is removed by alkali treatment. In this way, the second circuit configuration body 102 is produced. A heat bonding layer 31 is formed on the obtained functional pattern layer 20.

このとき、図2に示すように、熱接着層31は、機能パターン層20の上にのみ塗布することによって形成される。しかし、機能パターン層20の上で任意の部分にのみ塗布することによって熱接着層を形成してもよい。また、上記の製造工程では、レジスト層23を除去しているが、レジスト層23の代わりに熱接着層31をマスクとして用いて、金属箔のエッチング後、機能パターン層20の上に残存させておいてもよい。さらに、後述するが、機能パターン層20を覆うように基材21の全面上に熱接着層をコーティングによって形成してもよい。   At this time, as shown in FIG. 2, the thermal adhesive layer 31 is formed by applying only on the functional pattern layer 20. However, the thermal adhesive layer may be formed by applying only to an arbitrary portion on the functional pattern layer 20. Further, in the manufacturing process described above, the resist layer 23 is removed, but the thermal adhesive layer 31 is used as a mask instead of the resist layer 23 and is left on the functional pattern layer 20 after etching the metal foil. It may be left. Furthermore, as will be described later, a thermal adhesive layer may be formed on the entire surface of the base material 21 by coating so as to cover the functional pattern layer 20.

図8は、本発明のもう一つの実施の形態に従った回路構成体の製造工程を概略的に示す部分断面図である。   FIG. 8 is a partial cross-sectional view schematically showing a manufacturing process of a circuit structure according to another embodiment of the present invention.

図8の(A)に示すように、第1の回路構成体では、相対的に幅の広い基材としての樹脂フィルム基材11の一方側の表面上に、接着剤層12を介在して、所定のパターンを有する金属箔からなる機能パターン層10が固着されている。第2の回路構成体では、相対的に幅の狭い基材としての樹脂フィルム基材21の一方側の表面上に、接着剤層22を介在して、所定のパターンを有する金属箔からなる機能パターン層20が固着されている。この場合、図8の(B)に示すように、機能パターン層10と機能パターン層20とが基材11を間に挟んで対向するように第1と第2の回路構成体が重ね合わせられている。機能パターン層20の上にはBステージ(硬化反応の中間段階)の樹脂を含む熱接着層としてのレジスト層23が残存しており、レジスト層23を介在して、基材11の一方側の表面上の機能パターン層10が重ね合わせられている。   As shown to (A) of FIG. 8, in the 1st circuit structure, the adhesive bond layer 12 is interposed on the surface of the one side of the resin film base material 11 as a relatively wide base material. The functional pattern layer 10 made of a metal foil having a predetermined pattern is fixed. In the second circuit component, a function comprising a metal foil having a predetermined pattern with an adhesive layer 22 interposed on the surface of one side of the resin film substrate 21 as a relatively narrow substrate. The pattern layer 20 is fixed. In this case, as shown in FIG. 8B, the first and second circuit components are overlapped so that the functional pattern layer 10 and the functional pattern layer 20 face each other with the base material 11 interposed therebetween. ing. On the functional pattern layer 20, a resist layer 23 as a thermal bonding layer containing a B-stage (intermediate stage of curing reaction) resin remains, and the resist layer 23 is interposed on one side of the substrate 11. The functional pattern layer 10 on the surface is overlaid.

このような状態で重ね合わせられた第1と第2の回路構成体を加熱しても、レジスト層23に含まれる樹脂はBステージから軟化溶融すると同時に、樹脂の硬化反応が進行し、積層された機能パターン層10と20が接着剤層12と基材11を介在してレジスト層23によって固着される。このようにして固着された第1と第2の回路構成体にて、矢印Cで示す方向にクリンピング加工を施すことによって、接着剤層12と基材11とレジスト層23が部分的に破壊され、機能パターン層10と20が、互いに電気的に導通するように接触する。   Even if the first and second circuit components stacked in this state are heated, the resin contained in the resist layer 23 is softened and melted from the B stage, and at the same time, the resin curing reaction proceeds and is laminated. The functional pattern layers 10 and 20 are fixed by the resist layer 23 with the adhesive layer 12 and the substrate 11 interposed therebetween. With the first and second circuit components fixed in this manner, the adhesive layer 12, the base material 11, and the resist layer 23 are partially destroyed by performing crimping in the direction indicated by the arrow C. The functional pattern layers 10 and 20 are in contact with each other so as to be electrically connected to each other.

このようにしても、機能パターン層10と20の一部同士がレジスト層23を介して固着されているので、クリンピング加工時の押圧によって、その重ね合わせ位置がずれてしまうことがなく、機能パターン層10と20の一部同士を確実に接合することができる。   Even in this case, since part of the functional pattern layers 10 and 20 are fixed to each other via the resist layer 23, the overlapping position does not shift due to pressing during the crimping process. Part of the layers 10 and 20 can be reliably bonded together.

図9は、本発明のさらにもう一つの実施の形態に従った回路構成体の製造工程を概略的に示す部分断面図である。   FIG. 9 is a partial cross-sectional view schematically showing a manufacturing process of a circuit structure according to still another embodiment of the present invention.

図9の(A)に示すように、第1の回路構成体では、相対的に幅の広い基材としての樹脂フィルム基材11の一方側の表面上に、接着剤層12を介在して、所定のパターンを有する金属箔からなる機能パターン層10が固着されている。第2の回路構成体では、相対的に幅の狭い基材としての樹脂フィルム基材21の一方側の表面上に、接着剤層22を介在して、所定のパターンを有する金属箔からなる機能パターン層20が固着されている。この場合、図9の(B)に示すように、機能パターン層10の露出面と機能パターン層20の露出面とが対向するように第1と第2の回路構成体が重ね合わせられている。機能パターン層10と20の上にはBステージ(硬化反応の中間段階)の樹脂を含む熱接着層としてのレジスト層13と23が残存しており、レジスト層13と23を介在して、機能パターン層10と20が重ね合わせられている。   As shown to (A) of FIG. 9, in the 1st circuit structure body, the adhesive bond layer 12 is interposed on the surface of the one side of the resin film base material 11 as a relatively wide base material. The functional pattern layer 10 made of a metal foil having a predetermined pattern is fixed. In the second circuit component, a function comprising a metal foil having a predetermined pattern with an adhesive layer 22 interposed on the surface of one side of the resin film substrate 21 as a relatively narrow substrate. The pattern layer 20 is fixed. In this case, as shown in FIG. 9B, the first and second circuit components are overlaid so that the exposed surface of the functional pattern layer 10 and the exposed surface of the functional pattern layer 20 face each other. . Resist layers 13 and 23 as thermal adhesive layers containing a B-stage (intermediate stage of curing reaction) resin remain on the functional pattern layers 10 and 20, and the resist layers 13 and 23 are interposed to function. Pattern layers 10 and 20 are superimposed.

このような状態で重ね合わせられた第1と第2の回路構成体を加熱しても、レジスト層13と23に含まれる樹脂はBステージから軟化溶融すると同時に、樹脂の硬化反応が進行し、積層された機能パターン層10と20がレジスト層13と23によって固着される。このようにして固着された第1と第2の回路構成体にて矢印Cで示す方向にクリンピング加工を施すことによって、レジスト層13と23が部分的に破壊され、機能パターン層10と20が、互いに電気的に導通するように接触する。   Even if the first and second circuit components stacked in this state are heated, the resin contained in the resist layers 13 and 23 softens and melts from the B stage, and at the same time, the resin curing reaction proceeds. The stacked functional pattern layers 10 and 20 are fixed by the resist layers 13 and 23. By applying the crimping process in the direction indicated by the arrow C with the first and second circuit components fixed in this manner, the resist layers 13 and 23 are partially destroyed, and the functional pattern layers 10 and 20 are , Contact each other so as to be electrically conductive.

このようにしても、機能パターン層10と20の一部同士がレジスト層13と23を介して固着されているので、クリンピング加工時の押圧によって、その重ね合わせ位置がずれてしまうことがなく、機能パターン層10と20の一部同士を確実に接合することができる。   Even in this case, since part of the functional pattern layers 10 and 20 are fixed to each other through the resist layers 13 and 23, the overlapping position is not shifted due to pressing during crimping, Part of the functional pattern layers 10 and 20 can be reliably bonded.

図10と図11は、本発明のさらに別の実施の形態に従った回路構成体の製造工程を概略的に示す部分断面図である。   FIG. 10 and FIG. 11 are partial cross-sectional views schematically showing a manufacturing process of a circuit structure according to still another embodiment of the present invention.

図10と図11に示すように、機能パターン層20を覆うように基材21の全面上に熱接着層31をコーティングによって形成した後、矢印Cで示す方向にクリンピング加工を施すことによっても、上記と同様の作用効果を達成することができる。   As shown in FIG. 10 and FIG. 11, the thermal adhesive layer 31 is formed on the entire surface of the base material 21 so as to cover the functional pattern layer 20, and then crimped in the direction indicated by the arrow C. The same effect as described above can be achieved.

熱接着層は、Bステージ(硬化反応の中間段階)の樹脂を含む。この樹脂は、ポリエステル系、ビニル系、エポキシ系またはアクリル系のいずれか1種以上が好適に使用され、硬化剤としてはイソシアネート、アミン等が使用される。   The thermal adhesive layer includes a B-stage (intermediate stage of curing reaction) resin. As the resin, one or more of polyester, vinyl, epoxy, and acrylic are preferably used, and isocyanate, amine, and the like are used as the curing agent.

Bステージの樹脂とは、溶剤を乾燥させ固形分のみとした状態であり、かつ、未硬化の状態であり、加熱時の軟化特性に優れていると同時に、加熱接着以降に硬化反応が進行し、接着性能を向上させるものである。硬化反応が進行した樹脂層(Cステージ)は、加熱時の軟化特性に劣り、基材の耐熱温度を超えた温度が必要であったり、接着性を示さないため、好ましくない。   The B-stage resin is a state in which the solvent is dried to a solid content only, and is in an uncured state, has excellent softening characteristics during heating, and at the same time, a curing reaction proceeds after heat bonding. , To improve the adhesion performance. The resin layer (C stage) in which the curing reaction has progressed is not preferable because it is inferior in softening characteristics during heating, requires a temperature exceeding the heat resistance temperature of the substrate, and does not exhibit adhesiveness.

熱接着層のガラス転移点温度が38〜100℃であると、熱安定性に優れ、高温高湿の環境下における熱接着層の耐久性が向上するので好ましい。   It is preferable for the glass transition point temperature of the thermal adhesive layer to be 38 to 100 ° C. because the thermal stability is excellent and the durability of the thermal adhesive layer in a high temperature and high humidity environment is improved.

熱接着層は、接合しようとする2つの機能パターン層の少なくとも一方の表面上に形成されればよい。また、接合しようとする2つの機能パターン層の両方の表面に熱接着層を形成する場合には、同一組成の樹脂を用いなくてもよく、異なる組成の樹脂を用いて熱接着層を形成してもよい。   The thermal adhesive layer may be formed on at least one surface of the two functional pattern layers to be joined. In addition, when the thermal adhesive layer is formed on both surfaces of the two functional pattern layers to be joined, it is not necessary to use the resin having the same composition, and the thermal adhesive layer is formed using a resin having a different composition. May be.

金属箔は、アルミニウム箔、銅箔、ステンレス鋼箔、チタン箔、錫箔等から選ばれた少なくとも1種を用いることができる。これらの金属箔の中でも経済性、信頼性の点からアルミニウム箔を用いるのが最も好ましい。ここで、アルミニウム箔とは、純アルミニウム箔に限定されるものではなく、アルミニウム合金箔も含む。具体的には、たとえばJIS(AA)の記号では1030、1N30、1050、1100、8021、8079等の純アルミニウム箔またはアルミニウム合金箔を採用することができる。   As the metal foil, at least one selected from aluminum foil, copper foil, stainless steel foil, titanium foil, tin foil and the like can be used. Among these metal foils, it is most preferable to use an aluminum foil from the viewpoint of economy and reliability. Here, the aluminum foil is not limited to pure aluminum foil, but also includes aluminum alloy foil. Specifically, for example, a pure aluminum foil or aluminum alloy foil such as 1030, 1N30, 1050, 1100, 8021, and 8079 can be adopted as a symbol of JIS (AA).

金属箔は、厚みが6μm以上60μm以下であるのが好ましく、より好ましくは厚みが9μm以上50μm以下である。   The metal foil preferably has a thickness of 6 μm to 60 μm, more preferably 9 μm to 50 μm.

基材に含まれる樹脂は、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリカーボネート(PC)、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリイミド(PI)、非結晶ポリエチレンテレフタレート(PETG)および液晶ポリマー(LCP)からなる群より選ばれた少なくとも一種の樹脂を含み、厚みは5μm以上80μm以下であるのが好ましい。   The resin contained in the base material is polyethylene (PE), polypropylene (PP), polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polycarbonate (PC), polyvinyl chloride (PVC), polyimide (PI), amorphous It contains at least one resin selected from the group consisting of polyethylene terephthalate (PETG) and liquid crystal polymer (LCP), and preferably has a thickness of 5 μm or more and 80 μm or less.

(比較例)
図4に示すように、金属箔100として厚みが10μmのアルミニウム箔の一方表面上に、グラビア印刷法によってレジスト層13からなるアンテナ回路パターン(機能パターン)を印刷した後、樹脂を含む基材11として厚みが50μmのポリエチレンテレフタレートフィルムをアルミニウム箔の反対側の表面上にポリエステル系ドライラミネート接着剤(乾燥後厚み4μm)を介在させて積層した。その後、図5に示すように、金属箔100を酸性溶液中で化学的エッチングすることによりアンテナ回路パターン(機能パターン)層10を形成し、アルカリ処理によりレジスト層13を除去して第1の回路構成体101を作製した。同様にして、図6〜図7に示すように、アンテナ回路パターン(機能パターン)が異なる第2の回路構成体102を作製した。
(Comparative example)
As shown in FIG. 4, after printing the antenna circuit pattern (functional pattern) which consists of the resist layer 13 by the gravure printing method on the one surface of the aluminum foil whose thickness is 10 micrometers as the metal foil 100, the base material 11 containing resin A polyethylene terephthalate film having a thickness of 50 μm was laminated on the opposite surface of the aluminum foil with a polyester dry laminate adhesive (4 μm thickness after drying) interposed. Thereafter, as shown in FIG. 5, the antenna circuit pattern (functional pattern) layer 10 is formed by chemically etching the metal foil 100 in an acidic solution, and the resist layer 13 is removed by alkali treatment to remove the first circuit. The structure 101 was produced. Similarly, as shown in FIGS. 6 to 7, a second circuit configuration body 102 having a different antenna circuit pattern (functional pattern) was produced.

図3に示すように機能パターン層10と20の露出面側同士が向き合うように、得られた第1と第2の回路構成体101と102を重ね合わせて積層し、図1に示す箇所30をクリンピングして回路構成体を作製した。   As shown in FIG. 3, the obtained first and second circuit components 101 and 102 are stacked so that the exposed surfaces of the functional pattern layers 10 and 20 face each other, and a portion 30 shown in FIG. Was crimped to produce a circuit structure.

なお、図1において、寸法Wは5mm、W1とW2は2mm、Gは1mmである。   In FIG. 1, the dimension W is 5 mm, W1 and W2 are 2 mm, and G is 1 mm.

(実施例1)
従来例で得られた図5と図7に示す第1と第2の回路構成体101と102の機能パターン層10と20の表面上に、ガラス転移温度40℃の変性エポキシ樹脂(東亜合成株式会社製 BX60)を厚み5μmで塗布して、Bステージの熱接着層31を形成した。
Example 1
A modified epoxy resin (Toa Gosei Co., Ltd.) having a glass transition temperature of 40 ° C. is formed on the surfaces of the functional pattern layers 10 and 20 of the first and second circuit components 101 and 102 shown in FIGS. BX60) manufactured by company was applied at a thickness of 5 μm to form a thermal adhesive layer 31 for the B stage.

図1と図2に示すように機能パターン層10と20の露出面側同士が向き合うように第1と第2の回路構成体101と102を重ね合わせて積層し、加熱圧着した後、図1に示す箇所30をクリンピングして回路構成体1を作製した。   As shown in FIGS. 1 and 2, the first and second circuit components 101 and 102 are stacked and laminated so that the exposed surfaces of the functional pattern layers 10 and 20 face each other, and after thermocompression bonding, FIG. The circuit structure 1 was produced by crimping the portion 30 shown in FIG.

(実施例2)
従来例で得られた図5と図7に示す第1と第2の回路構成体101と102の機能パターン層10と20の表面上に、ガラス転移温度83℃のポリエステル樹脂(東洋紡績株式会社製 バイロンUR1400)を厚み5μmで塗布して、Bステージの熱接着層31を形成した。
(Example 2)
A polyester resin (Toyobo Co., Ltd.) having a glass transition temperature of 83 ° C. is formed on the surfaces of the functional pattern layers 10 and 20 of the first and second circuit components 101 and 102 shown in FIGS. Byron UR1400) was applied at a thickness of 5 μm to form a thermal adhesive layer 31 for the B stage.

図1と図2に示すように機能パターン層10と20の露出面側同士が向き合うように第1と第2の回路構成体101と102を重ね合わせて積層し、加熱圧着した後、図1に示す箇所30をクリンピングして回路構成体1を作製した。   As shown in FIGS. 1 and 2, the first and second circuit components 101 and 102 are stacked and laminated so that the exposed surfaces of the functional pattern layers 10 and 20 face each other, and after thermocompression bonding, FIG. The circuit structure 1 was produced by crimping the portion 30 shown in FIG.

得られた回路構成体の特性を次のように評価した。   The characteristics of the obtained circuit structure were evaluated as follows.

初期接着性:図1に示す抵抗値測定点RとRの間の抵抗値を測定して評価した。 Initial adhesion was evaluated by measuring the resistance value between the FIG resistance measurement points R 1 shown in 1 and R 2.

接着性:初期接着性測定後、温度85℃湿度85%の雰囲気中で168時間保持した後の抵抗値を測定して評価した。   Adhesiveness: After the initial adhesiveness measurement, the resistance value after holding for 168 hours in an atmosphere of temperature 85 ° C. and humidity 85% was measured and evaluated.

その結果を表1に示す。   The results are shown in Table 1.

Figure 0004907286
Figure 0004907286

表1から、本発明の実施例1と2の回路構成体では、機能パターン層の一部同士を確実に接合することができ、その接合部に持続性があり、耐久性もあることがわかる。   From Table 1, it can be seen that in the circuit structures of Examples 1 and 2 of the present invention, part of the functional pattern layers can be reliably bonded to each other, and the bonded portions are durable and durable. .

今回開示された実施の形態や実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考慮されるべきである。本発明の範囲は以上の実施の形態や実施例ではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての修正や変形を含むものであることが意図される。   It should be considered that the embodiments and examples disclosed herein are illustrative and non-restrictive in every respect. The scope of the present invention is shown not by the above embodiments or examples but by the scope of claims, and is intended to include all modifications and variations within the meaning and scope equivalent to the scope of claims. .

この発明の一つの実施の形態に従った回路構成体の一部を示す部分平面図である。It is a fragmentary top view which shows a part of circuit structure according to one embodiment of this invention. 図1のII−II線における断面を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows the cross section in the II-II line of FIG. 本発明の比較例として図1のIII−III線における断面を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows the cross section in the III-III line of FIG. 1 as a comparative example of this invention. この発明の一つの実施の形態として図1の回路構成体を構成する第1の回路構成体の第1の製造工程を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view showing the 1st manufacturing process of the 1st circuit composition object which constitutes the circuit composition object of Drawing 1 as one embodiment of this invention. この発明の一つの実施の形態として図1の回路構成体を構成する第1の回路構成体の第2の製造工程を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view showing the 2nd manufacturing process of the 1st circuit composition object which constitutes the circuit composition object of Drawing 1 as one embodiment of this invention. この発明の一つの実施の形態として図1の回路構成体を構成する第2の回路構成体の第1の製造工程を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view showing the 1st manufacturing process of the 2nd circuit composition object which constitutes the circuit composition object of Drawing 1 as one embodiment of this invention. この発明の一つの実施の形態として図1の回路構成体を構成する第2の回路構成体の第2の製造工程を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows the 2nd manufacturing process of the 2nd circuit structure which comprises the circuit structure of FIG. 1 as one embodiment of this invention. 本発明のもう一つの実施の形態に従った回路構成体の製造工程を概略的に示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view showing roughly a manufacturing process of a circuit composition object according to another embodiment of the present invention. 本発明のさらにもう一つの実施の形態に従った回路構成体の製造工程を概略的に示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view showing roughly a manufacturing process of a circuit composition object according to still another embodiment of the present invention. 本発明の別の実施の形態に従った回路構成体の製造工程を概略的に示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view showing roughly the manufacturing process of the circuit composition object according to another embodiment of the present invention. 本発明のさらに別の実施の形態に従った回路構成体の製造工程を概略的に示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view showing roughly a manufacturing process of a circuit composition object according to still another embodiment of the present invention. 従来の回路構成体において一つの基材の両面に形成された複数のアンテナ回路を接合する方法を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows the method of joining the some antenna circuit formed in both surfaces of the one base material in the conventional circuit structure. 本発明の比較例として、複数の基材の上に形成された複数のアンテナ回路を接合する方法を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows the method of joining the some antenna circuit formed on the some base material as a comparative example of this invention. 本発明の別の比較例として、複数の基材の上に形成された複数の複数のアンテナ回路を接合する方法を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view showing the method of joining a plurality of antenna circuits formed on a plurality of substrates as another comparative example of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

1:回路構成体、10,20:機能パターン層(アンテナ回路パターン層)、11,21:樹脂フィルム基材、12,22:接着剤層、13,23:レジスト層、30:クリンピング部(箇所)、31:熱接着層、101:第1の回路構成体、102:第2の回路構成体。   1: circuit structure, 10, 20: functional pattern layer (antenna circuit pattern layer), 11, 21: resin film substrate, 12, 22: adhesive layer, 13, 23: resist layer, 30: crimping part (location ), 31: thermal adhesive layer, 101: first circuit component, and 102: second circuit component.

Claims (2)

樹脂を含む基材の上に、金属箔を含む機能パターン層が形成された第1と第2の回路構成体を準備する工程と、
前記第1と第2の回路構成体の少なくともいずれか一方の前記機能パターン層の上に、Bステージの熱硬化性樹脂を含む熱接着層を形成する工程と、
前記熱接着層を形成した後に、前記第1と第2の回路構成体の一方の前記機能パターン層と、前記第1と第2の回路構成体の他方の前記機能パターン層とが対向するように前記第1と第2の回路構成体を重ね合わせる工程と、
重ね合わせられた前記第1と第2の回路構成体を加熱することにより固着する工程と、
固着された前記第1と第2の回路構成体にクリンピング加工を施すことによって、前記第1の回路構成体の機能パターン層の少なくとも一部を、前記第2の回路構成体の機能パターン層の少なくとも一部に接触させる工程とを備えた、回路構成体の製造方法。
Preparing a first and a second circuit structure in which a functional pattern layer including a metal foil is formed on a substrate including a resin;
Forming a thermal adhesive layer containing a thermosetting resin of a B stage on the functional pattern layer of at least one of the first and second circuit components;
After forming the thermal adhesive layer, the functional pattern layer of one of the first and second circuit components is opposed to the functional pattern layer of the other of the first and second circuit components. Superimposing the first and second circuit components on
Fixing the superimposed first and second circuit components by heating; and
By crimping the fixed first and second circuit components, at least a part of the functional pattern layer of the first circuit component is transferred to the functional pattern layer of the second circuit component. A method for producing a circuit structure, comprising a step of contacting at least a part.
樹脂を含む基材の上に、金属箔を含む機能パターン層が形成された第1と第2の回路構成体と、First and second circuit components in which a functional pattern layer including a metal foil is formed on a substrate including a resin,
前記第1と第2の回路構成体の少なくともいずれか一方の前記機能パターン層の上に形成された、Bステージの熱硬化性樹脂を含む熱接着層とを備え、A thermoadhesive layer including a thermosetting resin of a B stage formed on the functional pattern layer of at least one of the first and second circuit components;
前記第1と第2の回路構成体の一方の前記機能パターン層と、前記第1と第2の回路構成体の他方の前記機能パターン層とが対向するように前記第1と第2の回路構成体が前記熱接着層を介して重ね合わせられて固着され、The first and second circuits such that one functional pattern layer of the first and second circuit components and the other functional pattern layer of the first and second circuit components are opposed to each other. The structure is overlapped and fixed via the thermal adhesive layer,
固着された前記第1と第2の回路構成体にクリンピング加工を施すことによって、前記第1の回路構成体の機能パターン層の少なくとも一部が、前記第2の回路構成体の機能パターン層の少なくとも一部に接触させられている、回路構成体。By crimping the fixed first and second circuit components, at least a part of the functional pattern layer of the first circuit component is formed on the functional pattern layer of the second circuit component. A circuit structure that is in contact with at least a portion.
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