JP4933765B2 - Method for manufacturing liquid discharge head - Google Patents
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Description
本発明は、液体吐出ヘッドの製造方法及び液体吐出ヘッド並びに画像形成装置に係り、特にノズルから液体を吐出する液体吐出ヘッドの製造技術及びその構造に関する。 The present invention relates to a method of manufacturing a liquid discharge head, a liquid discharge head, and an image forming apparatus, and more particularly to a manufacturing technique and structure of a liquid discharge head that discharges liquid from nozzles.
圧電素子の変位を利用して圧力室の壁面を変化させ、圧力室内のインクを加圧することで圧力室に連通するノズルからインク滴を吐出するヘッド(液体吐出ヘッド)を搭載したインクジェット記録装置が知られている。 An ink jet recording apparatus equipped with a head (liquid ejection head) that ejects ink droplets from nozzles communicating with a pressure chamber by changing the wall surface of the pressure chamber using displacement of a piezoelectric element and pressurizing ink in the pressure chamber. Are known.
近年、インクジェット記録装置に用いられるヘッドには高集積化が求められて、該ヘッドの高集積化を実現するとともに高信頼性や高性能を確保するために、構造や製造上の様々な工夫がなされている。 In recent years, high integration has been required for the heads used in ink jet recording apparatuses, and in order to achieve high integration of the heads and ensure high reliability and high performance, various structures and manufacturing techniques have been made. Has been made.
特許文献1に記載された発明には、インク貯留室に振動板を接合した状態で圧電体膜を成膜してアニール処理を施すことで膜厚の薄い圧電体を生成し、低い駆動電圧で該圧電体を駆動しても十分に液室内の液体に圧力を付与して、液室から外部に液体を移送可能な液体移送装置の製造方法が開示されている。 In the invention described in Patent Document 1, a piezoelectric film is formed in a state where a vibration plate is bonded to an ink storage chamber, and annealing is performed to generate a thin piezoelectric film, and at a low driving voltage. A method of manufacturing a liquid transfer device that can sufficiently apply pressure to the liquid in the liquid chamber and transfer the liquid from the liquid chamber to the outside even when the piezoelectric body is driven is disclosed.
特許文献2に記載された発明には、シリコン基体と鉛系圧電セラミックスとの間に中間層を形成し、シリコン基板上での圧電セラミックス焼成時の基板上への鉛拡散が防止でき、機械的強度及び信頼性の高い中間層を持ったアクチュエータを実現する技術が開示されている。 In the invention described in Patent Document 2, an intermediate layer is formed between the silicon substrate and the lead-based piezoelectric ceramic, and lead diffusion onto the substrate during the firing of the piezoelectric ceramic on the silicon substrate can be prevented. A technique for realizing an actuator having an intermediate layer with high strength and reliability is disclosed.
特許文献3に記載された発明には、ガスデポジション法成膜圧電セラミックス圧膜構造において、基板上に中間膜を配置した後にガスデポジション成膜を行うことで、基板ダメージを低減させ、圧電セラミックス厚膜/基板からなる積層構造体の機械的強度の低下を防ぐ圧電セラミックスの厚膜構造が開示されている。
しかしながら、ステンレス(SUS)などの鉄を含有する金属を用いた振動板(基板)にPZT(Pb(Zr・Ti)O3 、チタン酸ジルコン酸鉛)などの圧電体を成膜し、600℃以上の高温でアニール処理を行うと、振動板に含有する鉄が圧電体に拡散して該圧電体の性能を劣化させてしまうといった問題がある。 However, a piezoelectric body such as PZT (Pb (Zr · Ti) O 3 , lead zirconate titanate) is formed on a diaphragm (substrate) using a metal containing iron such as stainless steel (SUS), and the temperature is 600 ° C. When the annealing process is performed at the above high temperature, there is a problem that iron contained in the vibration plate diffuses into the piezoelectric body and degrades the performance of the piezoelectric body.
特許文献1に記載された発明では、600℃から750℃(AD法)、600℃〜1200℃(ゾルゲル法)の高温雰囲気で数時間のアニール処理が行われるので、ステンレスの振動板に含有する鉄が圧電素子に拡散して圧電素子の性能を劣化させてしまう。また、AD法(エアロゾルデポジション法)により成膜された圧電素子のアニール処理には大気雰囲気が必要であり、同時にアニールされる振動板はその表面が酸化してしまい、耐久性の劣化や他の部材との接着性の減少などの問題が起こる。 In the invention described in Patent Document 1, since annealing is performed for several hours in a high temperature atmosphere of 600 ° C. to 750 ° C. (AD method) and 600 ° C. to 1200 ° C. (sol-gel method), it is contained in a stainless steel diaphragm. Iron diffuses into the piezoelectric element and degrades the performance of the piezoelectric element. In addition, an atmospheric atmosphere is required for the annealing treatment of piezoelectric elements formed by the AD method (aerosol deposition method), and the surface of the diaphragm that is annealed at the same time is oxidized, resulting in deterioration of durability and other factors. Problems such as a decrease in adhesion to the member occur.
特許文献2及び特許文献3に記載された発明では、基体(基板)と圧電セラミックスとの間に中間層を設けて、圧電セラミックスの鉛成分の拡散防止技術や圧電セラミックス成膜時の基体(基板)へのダメージを軽減させる技術が開示されているが、基体(基板)に含有される元素の拡散によって圧電セラミックスの性能が劣化することについては記載されていない。 In the inventions described in Patent Document 2 and Patent Document 3, an intermediate layer is provided between the substrate (substrate) and the piezoelectric ceramic to prevent diffusion of the lead component of the piezoelectric ceramic or the substrate (substrate) during the piezoelectric ceramic film formation. However, it does not describe that the performance of the piezoelectric ceramic deteriorates due to the diffusion of elements contained in the substrate (substrate).
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、基板に含有する金属元素の圧電素子への拡散を防止して圧電素子の性能及び信頼性を確保し、好ましい液体吐出を実現する液体吐出ヘッドの製造方法及び液体吐出ヘッド並びに画像形成装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and the liquid discharge that prevents the diffusion of the metal element contained in the substrate into the piezoelectric element, ensures the performance and reliability of the piezoelectric element, and realizes preferable liquid discharge. It is an object of the present invention to provide a head manufacturing method, a liquid discharge head, and an image forming apparatus.
上記目的を達成するために、請求項1に記載の発明に係る液体吐出ヘッドの製造方法は、鉄を含有する振動板の両面に薄膜を成膜する薄膜成膜工程と、前記振動板の前記薄膜が成膜された一方の面に下部電極を成膜する下部電極成膜工程と、前記下部電極に圧電体を成膜する圧電体成膜工程と、前記圧電体に上部電極を成膜する上部電極成膜工程と、前記薄膜成膜工程の後に、前記振動板の前記薄膜が形成された他方の面に流路プレートを接合する工程と、前記一方の面に前記薄膜、前記下部電極及び前記圧電体が成膜され、前記他方の面に前記薄膜が成膜されるとともに前記流路プレートが接合された前記振動板に熱処理を施して前記薄膜を酸化させた酸化膜を生成するとともに前記圧電体を焼成する熱処理工程と、前記流路プレートの前記振動板と反対側に、前記圧電体に対応して前記流路プレートに形成される液室と連通するノズルが形成されるノズルプレートを接合する工程と、を含むことを特徴とする。 In order to achieve the above object, a method of manufacturing a liquid discharge head according to the first aspect of the present invention includes: a thin film forming step of forming a thin film on both surfaces of a diaphragm containing iron; A lower electrode film forming step for forming a lower electrode on one surface on which a thin film is formed, a piezoelectric film forming step for forming a piezoelectric material on the lower electrode, and an upper electrode film on the piezoelectric material After the upper electrode film forming step, after the thin film forming step, a step of bonding a flow path plate to the other surface of the diaphragm on which the thin film is formed, the thin film on the one surface, the lower electrode, and The piezoelectric body is formed, the thin film is formed on the other surface, and the diaphragm to which the flow path plate is bonded is subjected to a heat treatment to generate an oxide film in which the thin film is oxidized, and A heat treatment step for firing the piezoelectric body, and before the flow path plate On the opposite side of the diaphragm, characterized in that it comprises a and a step of joining the nozzle plate a nozzle communicating with the liquid chamber formed in the channel plate so as to correspond to the piezoelectric body is formed.
本発明によれば、熱処理工程によって鉄を含有する振動板と上部電極及び下部電極を備えた圧電体との間に酸化物を含有する保護膜が形成されるとともに、圧電体を焼結させる際に基板に含有する鉄の圧電体への拡散が防止されるので、圧電体の性能劣化及び信頼性低下を回避することができる。本発明は、600℃から1200℃程度の高温で熱処理が行われる態様において、特に効果を発揮する。また、液室側の酸化膜は振動板の耐液膜として機能する。 According to the present invention, the protective film containing oxide is formed between the diaphragm containing iron and the piezoelectric body including the upper electrode and the lower electrode by the heat treatment process, and the piezoelectric body is sintered. Further, the diffusion of iron contained in the substrate into the piezoelectric body is prevented, so that it is possible to avoid the performance deterioration and the reliability reduction of the piezoelectric body. The present invention is particularly effective in an embodiment in which heat treatment is performed at a high temperature of about 600 ° C. to 1200 ° C. The oxide film on the liquid chamber side functions as a liquid-resistant film for the diaphragm.
また、酸化物を含有する保護膜の生成と圧電体の焼成とを共通の熱処理工程によって行うことができ、製造工程の簡略化に寄与する。 Further, the generation of the protective film containing the oxide and the firing of the piezoelectric body can be performed by a common heat treatment process, which contributes to simplification of the manufacturing process.
なお、この熱処理工程には、600℃から1200℃の高温環境化における熱処理(アニール処理)が含まれる。 This heat treatment step includes heat treatment (annealing treatment) in a high temperature environment of 600 ° C. to 1200 ° C.
また、上記目的を達成するために、請求項2に記載の発明に係る液体吐出ヘッドの製造方法は、鉄を含有する振動板の両面に薄膜を成膜する薄膜成膜工程と、前記薄膜が形成された振動板に熱処理を施して前記薄膜を酸化させた酸化膜を生成する第1の熱処理工程と、前記振動板の前記酸化膜が生成された一方の面に下部電極を成膜する下部電極成膜工程と、前記下部電極に圧電体を成膜する圧電体成膜工程と、前記圧電体に上部電極を成膜する上部電極成膜工程と、前記第1の熱処理工程の後に、前記振動板の前記薄膜が形成された他方の面に流路プレートを接合する工程と、前記一方の面に前記酸化膜が生成されるとともに前記下部電極及び前記圧電体が成膜され、前記他方の面に前記酸化膜が生成されるとともに前記流路プレートが接合された前記振動板に熱処理を施して前記圧電体を焼成する第2の熱処理工程と、前記流路プレートの前記振動板と反対側に、前記圧電体に対応して前記流路プレートに形成される液室と連通するノズルが形成されるノズルプレートを接合する工程と、を含むことを特徴とする。 In order to achieve the above object, a method of manufacturing a liquid discharge head according to the second aspect of the present invention includes a thin film forming step of forming a thin film on both surfaces of a diaphragm containing iron, and the thin film A first heat treatment step in which an oxide film is formed by heat-treating the formed diaphragm to oxidize the thin film; and a lower portion in which a lower electrode is formed on one surface of the diaphragm on which the oxide film is formed After the electrode film forming step, the piezoelectric film forming step for forming a piezoelectric material on the lower electrode, the upper electrode film forming step for forming the upper electrode on the piezoelectric material, and the first heat treatment step, Joining the flow path plate to the other surface of the diaphragm on which the thin film is formed, forming the oxide film on the one surface, forming the lower electrode and the piezoelectric body, and forming the other electrode The oxide film is formed on the surface and the flow path plate is in contact with the surface. A second heat treatment step of firing the piezoelectric body by subjecting the diaphragm to heat treatment, and the flow path plate on the opposite side of the flow path plate from the vibration plate, corresponding to the piezoelectric body. Joining a nozzle plate in which a nozzle communicating with the liquid chamber is formed.
請求項2に記載の発明によれば、第1の熱処理工程によって振動板に保護膜が生成され、該保護膜が生成された後に行われる第2の熱処理工程によって圧電体を焼成するので、鉄の圧電体への拡散防止効果を高めることが可能になる。また、液室側の酸化膜は振動板の耐液膜として機能する。すなわち、請求項1及び請求項2に係る発明によれば、振動板の両面に保護膜を形成することで、圧電体が形成される面と反対側の面を保護することが可能になる。例えば、基板の圧電体が形成される側の面を第1の面とし第1の面の反対側の面を第2の面とすると、第2の面に液体を収容する液室が形成される態様では、第2の面に形成された保護膜は液室内の液体から基板(振動板)を保護する耐液膜として機能する。 According to the second aspect of the present invention, the protective film is generated on the diaphragm by the first heat treatment step, and the piezoelectric body is baked by the second heat treatment step performed after the protective film is generated. It is possible to increase the effect of preventing diffusion of the piezoelectric material. The oxide film on the liquid chamber side functions as a liquid-resistant film for the diaphragm. That is, according to the first and second aspects of the invention, by forming protective films on both surfaces of the diaphragm, it is possible to protect the surface opposite to the surface on which the piezoelectric body is formed. For example, when the surface of the substrate on which the piezoelectric body is formed is the first surface and the surface opposite to the first surface is the second surface, a liquid chamber for storing liquid is formed on the second surface. In this embodiment, the protective film formed on the second surface functions as a liquid-resistant film that protects the substrate (vibrating plate) from the liquid in the liquid chamber.
請求項3に記載の発明は、請求項1又は2記載の液体吐出ヘッドの製造方法の一態様に係り、前記薄膜は、チタン及びアルミニウムを含むことを特徴とする。 A third aspect of the present invention relates to an aspect of the method for manufacturing a liquid discharge head according to the first or second aspect, wherein the thin film contains titanium and aluminum.
請求項3に記載の発明によれば、チタンやアルミニウムなどの入手容易な材料を用いて、基板の保護膜となる酸化膜を容易に形成可能である。また、保護膜としてチタン及びアルミニウムの酸化物である二酸化チタンや酸化アルミニウムを適用すると、高い鉄の拡散防止効果を得ることができる。 According to the third aspect of the present invention, it is possible to easily form an oxide film that serves as a protective film of the substrate by using an easily available material such as titanium or aluminum. Further, when titanium dioxide or aluminum oxide, which is an oxide of titanium and aluminum, is applied as a protective film, a high iron diffusion preventing effect can be obtained.
なお、チタン及びアルミニウムを含む薄膜には、TiAlN(チタンアルミナイトライド)やTiCrAlN(チタンクロムアルミナイトライド)などがある。 Note that the thin film containing titanium and aluminum includes TiAlN (titanium aluminum nitride) and TiCrAlN (titanium chromium aluminum nitride).
請求項4記載の発明は、請求項1、2又は3記載の液体吐出ヘッドの製造方法の一態様に係り、前記圧電体から吐出力を付与される液体を収容する液室を形成する液室形成工程と、前記液室と連通し、前記液体を吐出させるノズルを形成するノズル形成工程と、を含むことを特徴とする。 A fourth aspect of the present invention relates to an aspect of the method for manufacturing a liquid discharge head according to the first, second, or third aspect, and a liquid chamber that forms a liquid chamber for storing a liquid to which a discharge force is applied from the piezoelectric body. And forming a nozzle that communicates with the liquid chamber and discharges the liquid.
前記液室形成工程は、液室が形成されるプレート(構造体)を振動板に接合する態様がある。また、ノズル形成工程は、ノズルとなる開口(穴)が形成されたノズルプレートを液室が形成されるプレート(構造体)に接合する態様がある。請求項5に記載の発明は、請求項1から4のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法の一態様に係り、前記流路プレートを接合する工程は、拡散接合工程であることを特徴とする。請求項6に記載の発明は、請求項5に記載の液体吐出ヘッドの製造方法の一態様に係り、前記拡散接合工程は、真空環境下又は不活性ガス環境下で行われることを特徴とする。請求項7に記載の発明は、請求項5又は6に記載の液体吐出ヘッドの製造方法の一態様に係り、前記拡散接合工程は、振動板及び流路板の再結晶温度以上の温度に加熱しながら行われることを特徴とする。請求項8に記載の発明は、請求項5から7のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法の一態様に係り、前記拡散接合工程は、4.9メガパスカル以上19.6メガパスカル以下の圧力条件で行われることを特徴とする。 The liquid chamber forming step has a mode in which a plate (structure) in which a liquid chamber is formed is joined to a diaphragm. Further, the nozzle forming step has a mode in which a nozzle plate in which an opening (hole) to be a nozzle is formed is joined to a plate (structure) in which a liquid chamber is formed. It invention of claim 5 relates to an embodiment of the method of manufacturing the liquid discharge head according to any one of claims 1 to 4, the step of bonding the flow path plate, a diffusion bonding process It is characterized by. A sixth aspect of the present invention relates to an aspect of the method for manufacturing a liquid discharge head according to the fifth aspect, wherein the diffusion bonding step is performed in a vacuum environment or an inert gas environment. . A seventh aspect of the present invention relates to an aspect of the method for manufacturing a liquid discharge head according to the fifth or sixth aspect, wherein the diffusion bonding step is heated to a temperature equal to or higher than a recrystallization temperature of the vibration plate and the channel plate. It is characterized by being carried out. The invention according to claim 8 relates to an aspect of the method of manufacturing a liquid discharge head according to any one of claims 5 to 7, wherein the diffusion bonding step is 4.9 to 19.6 megapascals. It is characterized by being performed under pressure conditions below Pascal.
また、本発明に係る液体吐出ヘッドの製造方法によれば、鉄を含有する振動板と、前記振動板の一方の面に形成され、前記振動板に成膜された薄膜を酸化させた酸化物を含有する第1の保護膜と、前記振動板の他方の面に形成され、前記振動板に成膜された薄膜を酸化させた酸化物を含有する第2の保護膜と、前記振動板の前記第1の保護膜側に形成される下部電極と、前記下部電極の前記第1の保護膜と反対側に形成される圧電体と、前記圧電体の前記下部電極と反対側に形成される上部電極と、前記振動板の前記第2の保護膜側に接合され、前記圧電体に対応して液室が形成される流路プレートと、前記流路プレートの前記第2の保護膜と反対側に接合され、前記液室と連通するノズルが形成されるノズルプレートと、を備える液体吐出ヘッドが作製される。 Further , according to the method for manufacturing a liquid discharge head according to the present invention, the diaphragm containing iron and the oxide formed on one surface of the diaphragm and oxidizing the thin film formed on the diaphragm A second protective film containing an oxide formed by oxidizing the thin film formed on the diaphragm and formed on the other surface of the diaphragm; A lower electrode formed on the first protective film side, a piezoelectric body formed on the opposite side of the lower electrode to the first protective film, and formed on the opposite side of the piezoelectric body to the lower electrode. An upper electrode, a flow path plate bonded to the diaphragm on the second protective film side and forming a liquid chamber corresponding to the piezoelectric body, and opposite to the second protective film of the flow path plate It is joined to the side, and a nozzle plate in which the nozzle is formed that communicates with the liquid chamber, Ru includes a liquid discharge Head is manufactured.
かかる液体吐出ヘッドは、鉄を含有する振動板と上部電極及び下部電極を備えた圧電体との間に酸化物を含有する保護膜が形成されるので、圧電体を焼結する熱処理工程において基板に含有する鉄の圧電体への拡散が防止され、圧電体の性能劣化及び信頼性低下を回避することができる。また、液室側の酸化膜は振動板の耐液膜として機能する。圧電体のたわみ変形に対応して変形する振動板は、d31モードの変位を利用した圧電体が好適に用いられる。 In such a liquid discharge head , a protective film containing an oxide is formed between a vibration plate containing iron and a piezoelectric body provided with an upper electrode and a lower electrode. The diffusion of iron contained in the piezoelectric material to the piezoelectric body can be prevented, and performance deterioration and reliability reduction of the piezoelectric body can be avoided. The oxide film on the liquid chamber side functions as a liquid-resistant film for the diaphragm. Diaphragm which deforms in response to flexural deformation of the piezoelectric body, the piezoelectric body utilizing the displacement of d 31 mode is preferably used.
基板の圧電体が形成される側の面を第1の面とし第1の面の反対側の面を第2の面とすると、保護膜は第1の面に形成すればよい。もちろん、第1の面及び第2の面の両面に保護膜を形成してもよい。 If the surface of the substrate on which the piezoelectric body is formed is the first surface and the surface opposite to the first surface is the second surface, the protective film may be formed on the first surface. Of course, a protective film may be formed on both the first surface and the second surface.
液体吐出ヘッドには、記録媒体の全幅(記録媒体の画像形成可能幅)に対応した長さのノズル列を有するライン型ヘッドや、記録媒体の全幅に満たない長さのノズル列を有する短尺ヘッドを記録媒体の幅の方向へ走査させるシリアル型ヘッドがある。 The liquid ejection head includes a line-type head having a nozzle row having a length corresponding to the entire width of the recording medium (image forming width of the recording medium), and a short head having a nozzle row having a length less than the entire width of the recording medium. There is a serial type head that scans in the width direction of the recording medium.
ライン型の液体吐出ヘッドには、記録媒体の全幅に対応する長さに満たない短尺のノズル列を有する短尺ヘッドを千鳥状に配列して繋ぎ合わせて、記録媒体の全幅に対応する長さとしてもよい。 In the line type liquid discharge head, short heads having short nozzle rows that are less than the length corresponding to the full width of the recording medium are arranged in a staggered manner and connected to form a length corresponding to the full width of the recording medium. Also good.
液体には、インクジェット記録装置に用いられるインクやレジストなどの薬液、処理液などがある。この液体は、液体吐出ヘッドに設けられたノズルから吐出可能な物性(粘度など)を有している。 Examples of the liquid include chemicals such as ink and resist used in the ink jet recording apparatus, processing liquid, and the like. This liquid has physical properties (viscosity, etc.) that can be discharged from a nozzle provided in the liquid discharge head.
記録媒体は、吐出孔から打滴される液体を付着させる媒体であり、連続用紙、カット紙、シール用紙、OHPシート等の樹脂シート、フィルム、布、その他材質や形状を問わず、様々な媒体を含む。 The recording medium is a medium to which the liquid ejected from the ejection holes is attached, and is a continuous sheet, a cut sheet, a seal sheet, a resin sheet such as an OHP sheet, a film, a cloth, and other various media and shapes. including.
かかる液体吐出ヘッドにおいて、前記薄膜は、アルミニウムおよびチタンを含み、前記酸化物は、酸化アルミニウム及び二酸化チタンを含む態様も好ましい。 In the liquid ejection head, the thin film may include aluminum and titanium, the oxide, aspects containing aluminum oxide and titanium dioxide are also preferred.
かかる液体吐出ヘッドにおいて、前記保護膜は、50ナノメートル以上15マイクロメートル以下の膜厚を有する態様も好ましい。 In such a liquid discharge head , it is also preferable that the protective film has a thickness of 50 nanometers or more and 15 micrometers or less.
かかる態様によれば、保護膜を50ナノメートル以上とする態様では、圧電体への鉄の拡散が確実に防止され、また、保護膜を15マイクロメートル以下とする態様では、基板の厚みが大きくなることにより圧電体の発生圧力の伝達効率が低下することを回避できる。 According to this aspect , in the aspect in which the protective film is 50 nanometers or more, the diffusion of iron to the piezoelectric body is reliably prevented, and in the aspect in which the protective film is 15 micrometers or less, the thickness of the substrate is large. As a result, it is possible to avoid a decrease in the transmission efficiency of the pressure generated by the piezoelectric body.
かかる液体吐出ヘッドにおいて、前記流路プレートは、ステンレス、チタン、チタン合金、アルミニウム、アルミニウム合金のいずれかの材料を含む態様も好ましい。 In the liquid ejection head, the flow path plate, stainless steel, also embodiments comprising titanium, titanium alloy, aluminum, any material of the aluminum alloy.
かかる液体吐出ヘッドにおいて、前記流路プレートは、ガラス粉末を樹脂バインダに分散させたグリーンシートを用いて形成される態様も好ましい。 In such a liquid discharge head , it is also preferable that the flow path plate is formed using a green sheet in which glass powder is dispersed in a resin binder.
かかる液体吐出ヘッドにおいて、前記グリーンシートに含まれるガラス組成は、前記圧電体を焼成させる熱処理の温度条件により軟化しないものであることを特徴とする。 In such a liquid discharge head , the glass composition contained in the green sheet is not softened by a temperature condition of a heat treatment for firing the piezoelectric body.
流路プレートは、前記圧電体から吐出力を付与される液体を収容する液室と、前記液室と連通し、前記液体を吐出させるノズルと、を有する態様がありうる。The flow path plate may include a liquid chamber that stores a liquid to which a discharge force is applied from the piezoelectric body, and a nozzle that communicates with the liquid chamber and discharges the liquid.
かかる態様では、基板を複数の薄膜(板状部材)で構成してもよい。例えば、液室やノズルが形成された薄膜(キャビティプレート)の積層により基板を形成してもよいし、エッチングなどの手法により液室を形成し、ノズルが形成された薄膜を基板に接合して基板を形成してもよい。なお、ここでいうノズルには、液体が吐出される開口部と、該開口部と液室とを連通する流路が含まれる。 In such an embodiment, the substrate may be composed of a plurality of thin films (plate members). For example, the substrate may be formed by laminating a thin film (cavity plate) on which a liquid chamber or a nozzle is formed, or the liquid chamber is formed by a technique such as etching, and the thin film on which the nozzle is formed is bonded to the substrate. A substrate may be formed. The nozzle here includes an opening through which liquid is discharged, and a flow path that connects the opening and the liquid chamber.
画像形成装置には、ノズルからメディア(記録媒体)上にインクを吐出させて、所望の画像を形成するインクジェット記録装置がある。なお、ここでいう画像には、写真画や絵などのいわゆる画像だけでなく、文字、記号などのテキストや、配線基板上に形成される配線パターンなどの形状も含まれる。 Among image forming apparatuses, there is an ink jet recording apparatus that forms a desired image by ejecting ink from a nozzle onto a medium (recording medium). The image referred to here includes not only so-called images such as photographs and pictures, but also text such as characters and symbols, and shapes such as wiring patterns formed on a wiring board.
本発明によれば、熱処理工程によって鉄を含有する基板と上部電極及び下部電極を備えた圧電体との間に酸化物を含有する保護膜が形成されるとともに、圧電体を焼結する際に基板に含有する鉄の圧電体への拡散が防止されるので、圧電体の性能劣化及び信頼性低下を回避することができる。本発明は、600℃から1200℃程度の高温で熱処理が行われる態様において、特に効果を発揮する。また、基板に形成された薄膜に第1の熱処理を施して酸化膜を生成した後に、下部電極及び圧電体を基板に成膜し、第2の熱処理工程により圧電体を焼成すると、高い鉄の拡散防止効果を得ることができる。 According to the present invention, the protective film containing the oxide is formed between the iron-containing substrate and the piezoelectric body including the upper electrode and the lower electrode by the heat treatment process, and the piezoelectric body is sintered. Since diffusion of iron contained in the substrate into the piezoelectric body is prevented, it is possible to avoid performance deterioration and reliability reduction of the piezoelectric body. The present invention is particularly effective in an embodiment in which heat treatment is performed at a high temperature of about 600 ° C. to 1200 ° C. In addition, after the first heat treatment is performed on the thin film formed on the substrate to form an oxide film, the lower electrode and the piezoelectric body are formed on the substrate, and the piezoelectric body is baked by the second heat treatment step. A diffusion preventing effect can be obtained.
以下、添付図面に従って本発明の好ましい実施の形態について詳説する。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
〔インクジェット記録装置の全体構成〕
図1は、本発明の実施形態に係るインクジェット記録装置の概略を示す全体構成図である。図1に示すように、このインクジェット記録装置10は、インクの色毎に設けられた複数のヘッド12K、12C、12M、12Yを有する印字部12と、各ヘッド12K、12C、12M、12Yに供給するインクを貯蔵しておくインク貯蔵/装填部14と、記録紙16を供給する給紙部18と、記録紙16のカールを除去するデカール処理部20と、ヘッド12K、12C、12M、12Yのノズル面(インク吐出面)に対向して配置され、記録紙16(記録媒体)の平面性を保持しながら記録紙16を搬送する吸着ベルト搬送部22と、印字部12による印字結果を読み取る印字検出部24と、印画済みの記録紙(プリント物)を外部に排紙する排紙部26と、を備えている。
[Overall configuration of inkjet recording apparatus]
FIG. 1 is an overall configuration diagram showing an outline of an ink jet recording apparatus according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the
図1では、給紙部18の一例としてロール紙(連続用紙)のマガジンが示されているが、紙幅や紙質等が異なる複数のマガジンを併設してもよい。また、ロール紙のマガジンに代えて、又はこれと併用して、カット紙が積層装填されたカセットによって用紙を供給してもよい。
In FIG. 1, a magazine for rolled paper (continuous paper) is shown as an example of the
ロール紙を使用する装置構成の場合、図1のように、裁断用のカッター28が設けられており、該カッター28によってロール紙は所望のサイズにカットされる。カッター28は、記録紙16の搬送路幅以上の長さを有する固定刃28Aと、該固定刃28Aに沿って移動する丸刃28Bとから構成されており、印字裏面側に固定刃28Aが設けられ、搬送路を挟んで印字面側に丸刃28Bが配置されている。なお、カット紙を使用する場合には、カッター28は不要である。
In the case of an apparatus configuration using roll paper, a
複数種類の記録紙を利用可能な構成にした場合、紙の種類情報を記録したバーコードあるいは無線タグ等の情報記録体をマガジンに取り付け、その情報記録体の情報を所定の読取装置によって読み取ることで、使用される用紙の種類を自動的に判別し、用紙の種類に応じて適切なインク吐出を実現するようにインク吐出制御を行うことが好ましい。 When multiple types of recording paper are used, an information recording body such as a barcode or wireless tag that records paper type information is attached to the magazine, and the information on the information recording body is read by a predetermined reader. Therefore, it is preferable to automatically determine the type of paper to be used and perform ink ejection control so as to realize appropriate ink ejection according to the type of paper.
給紙部18から送り出される記録紙16はマガジンに装填されていたことによる巻き癖が残り、カールする。このカールを除去するために、デカール処理部20においてマガジンの巻き癖方向と逆方向に加熱ドラム30で記録紙16に熱を与える。このとき、多少印字面が外側に弱いカールとなるように加熱温度を制御するとより好ましい。
The
デカール処理後、カットされた記録紙16は、吸着ベルト搬送部22へと送られる。吸着ベルト搬送部22は、ローラ31、32間に無端状のベルト33が巻き掛けられた構造を有し、少なくともヘッド12K、12C、12M、12Yのノズル面及び印字検出部24のセンサ面に対向する部分が平面をなすように構成されている。
After the decurling process, the
ベルト33は、記録紙16の幅よりも広い幅寸法を有しており、ベルト面には多数の吸引孔(不図示)が形成されている。図1に示したとおり、ローラ31、32間に掛け渡されたベルト33の内側において印字部12のノズル面及び印字検出部24のセンサ面に対向する位置には吸着チャンバー34が設けられており、この吸着チャンバー34をファン35で吸引して負圧にすることによってベルト33上の記録紙16が吸着保持される。 ベルト33が巻かれているローラ31、32の少なくとも一方にモータ(図1中不図示、図5に符号88で図示)の動力が伝達されることにより、ベルト33は図1において、時計回り方向に駆動され、ベルト33上に保持された記録紙16は、図1の左から右へと搬送される。
The
縁無しプリント等を印字するとベルト33上にもインクが付着するので、ベルト33の外側の所定位置(印字領域以外の適当な位置)にベルト清掃部36が設けられている。ベルト清掃部36の構成について詳細は図示しないが、例えば、ブラシ・ロール、吸水ロール等をニップする方式、清浄エアーを吹き掛けるエアーブロー方式、あるいはこれらの組み合わせなどがある。清掃用ロールをニップする方式の場合、ベルト線速度とローラ線速度を変えると清掃効果が大きい。
Since ink adheres to the
なお、吸着ベルト搬送部22に代えて、ローラ・ニップ搬送機構を用いる態様も考えられるが、印字領域をローラ・ニップ搬送すると、印字直後に用紙の印字面にローラが接触するので、画像が滲み易いという問題がある。従って、本例のように、印字領域では画像面と接触させない吸着ベルト搬送が好ましい。
Although a mode using a roller / nip conveyance mechanism instead of the suction
吸着ベルト搬送部22により形成される用紙搬送路上において印字部12の上流側には、加熱ファン40が設けられている。加熱ファン40は、印字前の記録紙16に加熱空気を吹きつけ、記録紙16を加熱する。印字直前に記録紙16を加熱しておくことにより、インクが着弾後乾き易くなる。
A
印字部12は、最大紙幅に対応する長さを有するライン型ヘッドを紙送り方向(副走査方向)と直交する方向(主走査方向)に配置した、いわゆるフルライン型のヘッドを有している。印字部12を構成する各ヘッド12K、12C、12M、12Yは、本インクジェット記録装置10が対象とする最大サイズの記録紙16の少なくとも一辺を超える長さにわたってインク吐出口(ノズル)が複数配列されたライン型ヘッドで構成されている。
The
記録紙16の搬送方向に沿って上流側(図1の左側)から黒(K)、シアン(C)、マゼンタ(M)、イエロー(Y)の順に各色インクに対応したヘッド12K、12C、12M、12Yが配置されている。記録紙16を搬送しつつ各ヘッド12K、12C、12M、12Yからそれぞれ色インクを吐出することにより記録紙16上にカラー画像を形成し得る。
Heads 12K, 12C, and 12M corresponding to the respective color inks in the order of black (K), cyan (C), magenta (M), and yellow (Y) from the upstream side (left side in FIG. 1) along the conveyance direction of the
このように、紙幅の全域をカバーするフルラインヘッドがインク色毎に設けられてなる印字部12によれば、紙送り方向について記録紙16と印字部12を相対的に移動させる動作を1回行うだけで(即ち、1回の副走査で)記録紙16の全面に画像を記録することができる。これにより、ヘッドが紙送り方向と直交する主走査方向に往復動作するシャトル型ヘッドに比べて高速印字が可能であり、生産性を向上させることができる。
Thus, according to the
なお本例では、KCMYの標準色(4色)の構成を例示したが、インク色や色数の組み合わせについては本実施形態には限定されず、必要に応じて淡インク、濃インクを追加してもよい。例えば、ライトシアン、ライトマゼンタ等のライト系インクを吐出するヘッドを追加する構成も可能である。 In this example, the configuration of KCMY standard colors (four colors) is illustrated, but the combination of ink colors and the number of colors is not limited to this embodiment, and light ink and dark ink are added as necessary. May be. For example, it is possible to add a head for ejecting light-colored ink such as light cyan and light magenta.
図1に示したように、インク貯蔵/装填部14は、各ヘッド12K、12C、12M、12Yに対応する色のインクを貯蔵するタンクを有し、各タンクは図示を省略した管路を介して各ヘッド12K、12C、12M、12Yと連通されている。また、インク貯蔵/装填部14は、インク残量が少なくなるとその旨を報知する報知手段(表示手段、警告音発生手段等)を備えるとともに、色間の誤装填を防止するための機構を有している。
As shown in FIG. 1, the ink storage /
印字検出部24は、印字部12の打滴結果を撮像するためのイメージセンサ(ラインセンサ等)を含み、該イメージセンサによって読み取った打滴画像からノズルの目詰まりその他の吐出不良をチェックする手段として機能する。
The
本例の印字検出部24は、少なくとも各ヘッド12K、12C、12M、12Yによるインク吐出幅(画像記録幅)よりも幅の広い受光素子列を有するラインセンサで構成される。このラインセンサは、赤(R)の色フィルタが設けられた光電変換素子(画素)がライン状に配列されたRセンサ列と、緑(G)の色フィルタが設けられたGセンサ列と、青(B)の色フィルタが設けられたBセンサ列とからなる色分解ラインCCDセンサで構成されている。なお、ラインセンサに代えて、受光素子が2次元配列されて成るエリアセンサを用いることも可能である。
The
印字検出部24は、各色のヘッド12K、12C、12M、12Yにより印字されたテストパターンを読み取り、各ヘッドの吐出検出を行う。吐出判定は、吐出の有無、ドットサイズの測定、ドット着弾位置の測定等で構成される。
The
印字検出部24の後段には、後乾燥部42が設けられている。後乾燥部42は、印字された画像面を乾燥させる手段であり、例えば、加熱ファンが用いられる。印字後のインクが乾燥するまでは印字面と接触することは避けたほうが好ましいので、熱風を吹きつける方式が好ましい。
A
多孔質のペーパに染料系インクで印字した場合などでは、加圧によりペーパの孔を塞ぐことでオゾンなど、染料分子を壊す原因となるものと接触することを防ぐことで画像の耐候性がアップする効果がある。 When printing on porous paper with dye-based ink, the weather resistance of the image is improved by preventing contact with ozone or other things that cause dye molecules to break by blocking the paper holes by pressurization. There is an effect to.
後乾燥部42の後段には、加熱・加圧部44が設けられている。加熱・加圧部44は、画像表面の光沢度を制御するための手段であり、画像面を加熱しながら所定の表面凹凸形状を有する加圧ローラ45で加圧し、画像面に凹凸形状を転写する。
A heating /
このようにして生成されたプリント物は、排紙部26から排出される。本来プリントすべき本画像(目的の画像を印刷したもの)とテスト印字とは分けて排出することが好ましい。このインクジェット記録装置10では、本画像のプリント物と、テスト印字のプリント物とを選別してそれぞれの排出部26A、26Bへと送るために排紙経路を切り換える選別手段(不図示)が設けられている。なお、大きめの用紙に本画像とテスト印字とを同時に並列に形成する場合は、カッター(第2のカッター)48によってテスト印字の部分を切り離す。カッター48は、排紙部26の直前に設けられており、画像余白部にテスト印字を行った場合に、本画像とテスト印字部を切断するためのものである。カッター48の構造は前述した第1のカッター28と同様であり、固定刃48Aと丸刃48Bとから構成されている。
The printed matter generated in this manner is outputted from the
また、図示を省略したが、本画像の排出部26Aには、オーダー別に画像を集積するソーターが設けられている。 Although not shown, the paper output unit 26A for the target prints is provided with a sorter for collecting prints according to print orders.
〔ヘッドの構成〕
次に、ヘッドの構造について説明する。色別の各ヘッド12K,12C,12M,12Yの構造は共通しているので、以下、これらを代表して符号50によってヘッドを示すものとする。
[Configuration of head]
Next, the structure of the head will be described. Since the structures of the
図3(a) はヘッド50の構造例を示す平面透視図であり、図3(b) はその一部の拡大図である。また、図3(c) はヘッド50の他の構造例を示す平面透視図である。
FIG. 3A is a plan perspective view showing an example of the structure of the
記録紙16上に印字されるドットピッチを高密度化するためには、ヘッド50におけるノズルピッチを高密度化する必要がある。本例のヘッド50は、図3(a)〜(c) に示したように、インク滴の吐出孔であるノズル51と、各ノズル51に対応する圧力室52等からなる複数のインク室ユニット53を千鳥でマトリクス状に(2次元的に)配置させた構造を有し、これにより、ヘッド長手方向(紙送り方向と直交する主走査方向)に沿って並ぶように投影される実質的なノズル間隔(投影ノズルピッチ)の高密度化を達成している。
In order to increase the dot pitch printed on the
紙送り方向と略直交する主走査方向に記録紙16の全幅に対応する長さにわたり1列以上のノズル列を構成する形態は本例に限定されない。例えば、図3(a) の構成に代えて、図3(c) に示すように、複数のノズル51が2次元状に配列された短尺のヘッドブロック50’を千鳥状に配列して繋ぎ合わせることで記録紙16の全幅に対応する長さのノズル列を有するラインヘッドを構成してもよい。
The form in which one or more nozzle rows are formed in the main scanning direction substantially orthogonal to the paper feed direction over a length corresponding to the entire width of the
なお、本例では圧力室52の平面形状が略正方形である態様を示したが、圧力室52の平面形状は略正方形に限定されず、略円形状、略だ円形状、略平行四辺形(ひし形)など様々な形状を適用することができる。また、ノズル51や供給口54の配置も図3(a)〜(c)に示す配置に限定されず、圧力室52の略中央部にノズル51を配置してもよいし、圧力室52の側壁側に供給口54を配置してもよい。
In this example, the planar shape of the
図3(b) に示すように、主走査方向に沿う行方向及び主走査方向に対して直交しない一定の角度θを有する斜めの列方向とに沿って一定の配列パターンで格子状に多数配列させることにより、本例の高密度ノズルヘッドが実現されている。 As shown in FIG. 3 (b), a large number of arrays are arranged in a lattice pattern with a constant array pattern along the row direction along the main scanning direction and the oblique column direction having a constant angle θ not orthogonal to the main scanning direction. By doing so, the high-density nozzle head of this example is realized.
即ち、主走査方向に対してある角度θの方向に沿ってインク室ユニット53を一定のピッチdで複数配列する構造により、主走査方向に並ぶように投影されたノズルのピッチPはd× cosθとなり、主走査方向については、各ノズル51が一定のピッチPで直線状に配列されたものと等価的に取り扱うことができる。このような構成により、主走査方向に並ぶように投影されるノズル列が1インチ当たり2400個(2400ノズル/インチ)におよぶ高密度のノズル構成を実現することが可能になる。
That is, with a structure in which a plurality of
本発明の実施に際してノズルの配置構造は図示の例に限定されず、副走査方向に1列のノズル列を有する配置構造など、様々なノズル配置構造を適用できる。 In implementing the present invention, the nozzle arrangement structure is not limited to the illustrated example, and various nozzle arrangement structures such as an arrangement structure having one nozzle row in the sub-scanning direction can be applied.
なお、印字可能幅の全幅に対応した長さのノズル列を有するフルラインヘッドで、ノズルを駆動する時には、(1)全ノズルを同時に駆動する、(2)ノズルを片方から他方に向かって順次駆動する、(3)ノズルをブロックに分割して、ブロックごとに片方から他方に向かって順次駆動する等が行われ、記録媒体の幅方向(主走査方向)に1ライン(1列のドットによるライン又は複数列のドットから成るライン)を印字するようなノズルの駆動を主走査と定義する。 When driving a nozzle with a full line head having a nozzle row having a length corresponding to the entire printable width, (1) all the nozzles are driven simultaneously, (2) the nozzles are sequentially moved from one side to the other. (3) The nozzles are divided into blocks, and each block is sequentially driven from one side to the other, etc., and one line (in one row of dots) in the width direction (main scanning direction) of the recording medium Driving a nozzle that prints a line or a line composed of a plurality of rows of dots is defined as main scanning.
特に、図3(a)〜(c)に示すようなマトリクス状に配置されたノズル51を駆動する場合は、上記(3)のような主走査が好ましい。
In particular, when driving the
一方、上述したフルラインヘッドと記録紙16とを相対移動することによって、上述した主走査で形成された1ライン(1列のドットによるライン又は複数列のドットから成るライン)の印字を繰り返し行うことを副走査と定義する。
On the other hand, by moving the above-described full line head and the
図4はインク室ユニット53の立体的構成を示す断面図(図3(a),(b) 中の4−4線に沿う断面図)である。
4 is a cross-sectional view (a cross-sectional view taken along line 4-4 in FIGS. 3A and 3B) showing a three-dimensional configuration of the
図4に示すように、各ノズル51に対応して設けられている圧力室52は、その平面形状が概略正方形となっており、対角線上の両隅部にノズル51と供給口54が設けられている。各圧力室52は供給口54を介して共通流路(共通液室)55と連通されている。共通流路55は不図示のインク供給タンクと連通しており、該インク供給タンクから供給されるインクは共通流路55を介して各圧力室52に分配供給される。
As shown in FIG. 4, the
圧力室52の天面を構成する振動板56には、プラチナ(Pt)や金(Au)などの金属が用いられる上部電極57及び下部電極57Aと圧電体58Aとを含んだ圧電素子58が接合される。本明細書では、圧電体58Aの両面に上部電極57及び下部電極57Aが形成された状態を圧電素子58と呼ぶこととする。
Bonded to the
圧電素子58(即ち、上部電極57と下部電極57Aとの間)に所定の駆動電圧を印加することによって圧電素子58にたわみ変形が生じ、このたわみ変形に応じて振動板56が変形してノズル51からインクが吐出される。ノズル51からインクが吐出されると共通流路55から供給口54を通って新しいインクが圧力室52に供給される。
By applying a predetermined drive voltage to the piezoelectric element 58 (that is, between the
本例の振動板56にはステンレスなどの金属が用いられる。また、圧電素子58にはPZT(Pb(Zr・Ti)O3 、チタン酸ジルコン酸鉛)などのセラミック系圧電素子が好適に用いられる。
A metal such as stainless steel is used for the
本例のヘッド50は、振動板56と圧電素子58との間に、保護膜59が形成され、この保護膜59には、アルミナ(Al2O3)、チタニア(TiO2)、酸化クロム(CrO2)などの金属酸化膜が適用される。
In the
振動板56の圧電素子58が配設される側の面56Aに、イオンプレーティング法、ゾルゲル法、スパッタリング法などの薄膜製膜方法によってアルミニウム(Al)、チタン(Ti)を含む金属膜を成膜し、600℃〜1200℃で圧電素子58にアニール処理を施すことで、該金属膜に含まれるアルミニウム、チタンなどの金属元素が酸化して、振動板56の表面には上述した金属酸化膜が形成される。
A metal film containing aluminum (Al) and titanium (Ti) is formed on the surface 56A of the
振動板56に成膜される金属膜には、少なくともアルミニウム及びチタンが含まれていればよく、更に、クロム(Cr)が含まれていてもよい。該金属膜には、TiAlN(チタンアルミナイトライド)やTiCrAlN(チタンクロムアルミナイトライド)などの硬質膜が好適に用いられる。
The metal film formed on the
図4に示すヘッド50の構造によれば、振動板56に圧電素子58を接合した状態でアニール処理(処理温度600℃〜1200℃)が施されても、振動板56に含有する鉄(Fe)が圧電素子58(圧電体58A)に拡散することなく、圧電素子58の性能劣化及び信頼性の低下が防止される。
According to the structure of the
なお、振動板56に金属膜を成膜した状態でプレアニール処理を行い、保護膜59が形成された振動板56に圧電素子58を形成し、更に、アニール処理を施してもよい。
Alternatively, the pre-annealing process may be performed in a state where the metal film is formed on the
上述した保護膜59の膜厚は50nm以上15μm以下とすることが好ましい。即ち、保護膜59の膜厚が50nm未満であると、圧電素子58に対する鉄の拡散防止機能が十分に働かず、また、保護膜59の膜厚が15μmを超えると、該保護膜59が振動板56として機能してしまい(振動板56の厚みが保護膜59の分だけ厚くなり)、圧電素子58から所定の圧力を発生させても振動板56の変位量が小さくなり、所定の吐出性能を維持することが困難になる。
The film thickness of the
本例では、1層からなる保護膜59を示したが、保護膜59を2層以上の膜から構成してもよい。2層以上の膜には種類(含有する元素)の異なる膜を適用可能である。
〔制御系の説明〕
図5はインクジェット記録装置10のシステム構成を示す要部ブロック図である。インクジェット記録装置10は、通信インターフェース70、システムコントローラ72、メモリ74、モータドライバ76、ヒータドライバ78、プリント制御部80、画像バッファメモリ82、ヘッドドライバ84等を備えている。
In this example, the
[Explanation of control system]
FIG. 5 is a principal block diagram showing the system configuration of the
通信インターフェース70は、ホストコンピュータ86から送られてくる画像データを受信するインターフェース部である。通信インターフェース70にはUSB(Universal serial bus)、IEEE1394、イーサネット(登録商標)、無線ネットワークなどのシリアルインターフェースやセントロニクスなどのパラレルインターフェースを適用することができる。この部分には、通信を高速化するためのバッファメモリ(不図示)を搭載してもよい。ホストコンピュータ86から送出された画像データは通信インターフェース70を介してインクジェット記録装置10に取り込まれ、一旦メモリ74に記憶される。メモリ74は、通信インターフェース70を介して入力された画像を一旦格納する記憶手段であり、システムコントローラ72を通じてデータの読み書きが行われる。メモリ74は、半導体素子からなるメモリに限らず、ハードディスクなど磁気媒体を用いてもよい。
The
システムコントローラ72は、通信インターフェース70、メモリ74、モータドライバ76、ヒータドライバ78等の各部を制御する制御部である。システムコントローラ72は、中央演算処理装置(CPU)及びその周辺回路等から構成され、ホストコンピュータ86との間の通信制御、メモリ74の読み書き制御等を行うとともに、搬送系のモータ88やヒータ89を制御する制御信号を生成する。
The
モータドライバ76は、システムコントローラ72からの指示にしたがってモータ88を駆動するドライバ(駆動回路)である。ヒータドライバ78は、システムコントローラ72からの指示にしたがって後乾燥部42(図1に図示)等のヒータ89を駆動するドライバである。
The
プリント制御部80は、システムコントローラ72の制御に従い、メモリ74内の画像データから印字制御用の信号を生成するための各種加工、補正などの処理を行う信号処理機能を有し、生成した印字制御信号をヘッドドライバ84に供給する制御部である。プリント制御部80において所要の信号処理が施され、該画像データに基づいてヘッドドライバ84を介してヘッド50のインク液滴の吐出量や吐出タイミングの制御(打滴制御)が行われる。これにより、所望のドットサイズやドット配置が実現される。
The
プリント制御部80には画像バッファメモリ82が備えられており、プリント制御部80における画像データ処理時に画像データやパラメータなどのデータが画像バッファメモリ82に一時的に格納される。なお、図5において画像バッファメモリ82はプリント制御部80に付随する態様で示されているが、メモリ74と兼用することも可能である。また、プリント制御部80とシステムコントローラ72とを統合して1つのプロセッサで構成する態様も可能である。
The
ヘッドドライバ84はプリント制御部80から与えられる印字データに基づいて各色のヘッド12K,12C,12M,12Yの圧電素子58を駆動する。ヘッドドライバ84にはヘッドの駆動条件を一定に保つためのフィードバック制御系を含んでいてもよい。
The head driver 84 drives the
プログラム格納部90には各種制御プログラムが格納されており、システムコントローラ72の指令に応じて、制御プログラムが読み出され、実行される。プログラム格納部90はROMやEEPROMなどの半導体メモリを用いてもよいし、磁気ディスクなどを用いてもよい。また、外部インターフェースを備え、メモリカードやPCカードを用いてもよい。もちろん、これらの記録媒体のうち、複数の記録媒体を備えてもよい。なお、 プログラム格納部90は動作パラメータ等の記憶手段(不図示)と兼用してもよい。
Various control programs are stored in the
印字検出部24は、図1で説明したように、ラインセンサを含むブロックであり、記録紙16に印字された画像を読み取り、所要の信号処理などを行って印字状況(吐出の有無、打滴のばらつきなど)を検出し、その検出結果をプリント制御部80に提供する。
プリント制御部80は、必要に応じて印字検出部24から得られる情報に基づいてヘッド50に対する各種補正を行う。
As described with reference to FIG. 1, the
The
なお、システムコントローラ72及びプリント制御部80は、1つのプロセッサから構成されていてもよいし、システムコントローラ72とモータドライバ76及びヒータドライバ78とを一体に構成したデバイスや、プリント制御部80とヘッドドライバとを一体に構成したデバイスを用いてもよい。
The
〔ヘッドの製造方法の説明〕
次に、本例に示すヘッド50の製造方法について説明する。図4でも説明したように、本例に示すヘッド50は、多数のキャビティプレートが積層される積層構造を有している。即ち、ノズル51が形成されるノズルプレートと、圧力室52や供給口54、共通流路55などが形成される流路プレートと、保護膜59が形成される振動板56と、上部電極57および下部電極57Aを備えた圧電素子58と、を順に積層した構造となっている。なお、上述した各キャビティプレートは1つのプレートから構成されていてもよいし、複数のプレートから構成されてもよい。
[Description of head manufacturing method]
Next, a method for manufacturing the
例えば、流路プレートは、ノズル51と圧力室52とを連通させる吐出側流路が形成されるプレートと、共通流路55が形成されるプレートと、供給口54が形成されるプレートと、圧力室52が形成されるプレートと、を積層して形成される態様がある。
For example, the flow path plate includes a plate on which a discharge-side flow path that allows the
図6は、本例のヘッド50の製造工程を示す説明図である。詳細は後述するが、これらのプレート間の接合には、接合部材による接合、加圧、加熱による接合など、当該プレートの材料に応じた接合方法が適宜選択される。
FIG. 6 is an explanatory diagram showing a manufacturing process of the
本例に示すヘッド製造工程は(ステップS10)、先ず、ステップS12(プレート形成工程)において、ヘッド50を構成する各プレートが形成される。例えば、本例のノズルプレートには、ステンレスや合成樹脂のプレートが用いられる。また、流路プレートには、ステンレス、チタン、チタン合金、アルミニウム、アルミニウム合金などの金属プレート(薄膜)が用いられる。金属プレート以外にも、ガラス粉末をアクリル系樹脂などのバインダに分散させシート形成したグリーンシートを用いてもよい。なお、グリーンシートに含まれるガラス組成は、後述するアニール処理時の熱処理条件においても軟化しないものが選択される。
In the head manufacturing process shown in this example (step S10), first, in step S12 (plate forming process), each plate constituting the
積層工程(ステップS14)では、ステップS10で形成された各プレートが積層されて流路プレートが形成される。流路プレートを構成するプレートに金属プレートを用いる態様では、各プレートの接合面(境界面)が拡散接合により接合され、更に、該流路プレートと振動板56が拡散接合により接合される(拡散接合工程、ステップS16)。
In the stacking step (step S14), the plates formed in step S10 are stacked to form a flow path plate. In an aspect in which a metal plate is used as the plate constituting the flow path plate, the bonding surfaces (boundary surfaces) of the plates are bonded by diffusion bonding, and the flow path plate and the
拡散接合工程では、真空もしくは不活性ガス(窒素やアルゴン)雰囲気下で積層体の再結晶温度以上(1000℃〜1300℃)に加熱しながら、該積層体を所定の圧力で所定の時間加圧する。拡散接合の圧力条件の一例を挙げると4.9MPa〜19.6MPaであり、時間条件の一例を挙げると0.5時間〜24時間である。 In the diffusion bonding step, the laminate is pressurized at a predetermined pressure for a predetermined time while being heated to a temperature higher than the recrystallization temperature (1000 ° C. to 1300 ° C.) of the laminate in a vacuum or an inert gas (nitrogen or argon) atmosphere. . An example of the pressure condition for diffusion bonding is 4.9 MPa to 19.6 MPa, and an example of the time condition is 0.5 hour to 24 hours.
金属膜成膜工程(ステップS22)では、振動板56の流路プレート接合される面と反対側の面の全体にわたってTiAlN(或いは、TiCrAlN)が成膜される。この金属膜成膜工程には、AD法、イオンプレーティング法、ゾルゲル法、スパッタ法、スクリーン印刷法などの成膜方法が適用される。
In the metal film forming step (step S22), TiAlN (or TiCrAlN) is formed over the entire surface of the
AD法は、チャンバー内に置かれた基板に対してエアロゾルノズルから窒素ガスなどに乗せたサブミクロンの直径の金属微粒子(エアロゾル)を吹き付けながら、基板とノズルとを相対的に移動させて、該基板表面の所定の位置に結晶させる成膜方法である。 In the AD method, the substrate and the nozzle are relatively moved while spraying submicron diameter metal fine particles (aerosol) placed on nitrogen gas or the like from the aerosol nozzle to the substrate placed in the chamber. This is a film forming method for crystallizing at a predetermined position on the substrate surface.
下部電極成膜工程(ステップS24)では、金属膜成膜工程で成膜された金属膜の上に下部電極57A(図4参照)となるプラチナや金などの金属薄膜が成膜される。下部電極成膜工程には、AD法、イオンプレーティング法、ゾルゲル法、スパッタ法、スクリーン印刷法などの成膜方法が適用される。なお、下部電極は振動板56の一面の全体にわたって形成され、各圧電素子58の共通の電極となる。もちろん、各圧電素子58に対応した個別の下部電極を形成してもよい。
In the lower electrode film forming step (step S24), a metal thin film such as platinum or gold to be the
圧電体成膜工程(ステップS26)では、下部電極膜の上に圧電体(圧電体膜)58Aが成膜される。圧電体成膜工程には、AD法、イオンプレーティング法、ゾルゲル法、スパッタ法、スクリーン印刷法などの成膜方法が適用される。ステップS26で成膜される圧電体58Aは、各圧力室に対応して個別に形成されてもよいし、下部電極57Aと同様に振動板56の一面の全体にわたって形成してもよい。
In the piezoelectric film forming step (step S26), a piezoelectric body (piezoelectric film) 58A is formed on the lower electrode film. A film forming method such as an AD method, an ion plating method, a sol-gel method, a sputtering method, or a screen printing method is applied to the piezoelectric film forming step. The
なお、金属膜成膜工程(ステップS22)、下部電極成膜工程(ステップS24)、圧電体成膜工程(ステップS26)に適用される成膜方法には同一の方法を用いるとよい。 Note that the same method may be used as a film forming method applied to the metal film forming step (step S22), the lower electrode forming step (step S24), and the piezoelectric film forming step (step S26).
アニール工程(ステップS28)では、600℃〜1200℃の温度条件でアニール処理が行われる。アニール処理工程では、ステップS26で成膜された圧電体58Aを焼成するとともに、ステップS22で成膜された金属膜が酸化して振動板56と下部電極57Aとの間に金属酸化膜(保護膜59)が形成される。
In the annealing step (step S28), annealing is performed under a temperature condition of 600 ° C to 1200 ° C. In the annealing process, the
金属膜にTiAlNを用いる場合には、金属酸化膜はアルミナ(Al2O3)、チタニア(TiO2)を含有し、TiCrAlNを用いる場合には、金属酸化膜はアルミナ、チタニアに加えて酸化クロム(CrO2)を含有する。このような保護膜59の存在により、振動板56に含有する鉄の圧電体58Aへの拡散が防止される。
When TiAlN is used for the metal film, the metal oxide film contains alumina (Al 2 O 3 ) and titania (TiO 2 ). When TiCrAlN is used, the metal oxide film is chromium oxide in addition to alumina and titania. (CrO 2 ) is contained. Due to the presence of the
ステップS28のアニール工程が施された圧電体58Aには、ステップS30(上部電極成膜工程)により、AD法やスクリーン印刷法によって上部電極57として機能するプラチナや金などの金属薄膜が成膜される。
In step S30 (upper electrode film forming process), a metal thin film such as platinum or gold that functions as the
ステップS32(分極工程)では、フレキシブル基板などの配線部材が上部電極57及び下部電極57Aに接続され、上部電極57と下部電極57Aとの間に所定の電圧を印加して圧電体58Aが分極処理される。本例の分極工程では、圧電体58Aの厚み方向(振動板56の面に対して略垂直方向)に分極処理が施される。分極処理時の印加電圧は、圧電素子58を駆動する際の駆動電圧よりも高い電圧が適用される。
In step S32 (polarization step), a wiring member such as a flexible substrate is connected to the
ステップS32に示す分極工程を経て、圧電体58Aの上部電極57が形成された部分が圧電活性部となり、各圧電活性部に対応する圧力室内のインクに吐出力を与える圧電素子として機能する。
Through the polarization process shown in step S32, the portion where the
ステップS34では、振動板56及び圧電素子58が接合された流路プレートにノズルプレートが接合され、ヘッド50が完成する。ヘッド50は、所定の検査を経てインクジェット記録装置10本体に組み込まれる(ステップS36)。
In step S34, the nozzle plate is joined to the flow path plate to which the
ステップS28のアニール工程を経ない部分には、耐熱性の低い樹脂材料を用いることが可能であり、材料に応じて接合部材や接合方法が適宜選択される。 A resin material having low heat resistance can be used for the portion not subjected to the annealing process in step S28, and a joining member and a joining method are appropriately selected depending on the material.
図6に示す製造工程はあくまでも一例であり、下部電極成膜工程や圧電体成膜工程、上部電極成膜工程に適用される成膜方法に応じて、熱処理工程、加圧工程などの工程が適宜行われる。 The manufacturing process shown in FIG. 6 is merely an example, and processes such as a heat treatment process and a pressurization process are performed depending on the film forming method applied to the lower electrode film forming process, the piezoelectric film forming process, and the upper electrode film forming process. As appropriate.
上記の如く構成されたヘッド50は、振動板56と圧電素子58(下部電極57A及び圧電体58A)との間にTiAlNやTiCrAlNなどの金属薄膜が成膜された状態でアニール処理が施されるので、振動板56と圧電素子58との間に保護膜59を形成し、振動板56に含有する鉄の圧電素子58への拡散が防止される。
The
なお、本例では、ステンレスなどの鉄を含有する金属基板を例示したが、ガラス、シリコンの基板でも同様に、異元素の拡散によるPZTの性能劣化の恐れがある
〔他の実施形態〕
次に、本発明の他の実施形態について説明する。図7には、図6に示すヘッド製造工程の他の態様を示す。図7に示すヘッド製造工程(ステップS10’)では、金属膜成膜工程(ステップS22)によりTiAlN膜が成膜された振動板56にプレアニール処理(第1の熱処理工程)を施して振動板56の表面に保護膜59を生成した後に(ステップS23)、下部電極成膜工程(ステップS24)、圧電体成膜工程(ステップS26)により、該保護膜59が生成された振動板56に下部電極57A及び圧電体58Aを形成し、アニール工程(第2の熱処理工程)により圧電体58Aを焼成するように構成してもよい。
In this example, a metal substrate containing iron such as stainless steel is exemplified. However, there is a possibility that the performance of PZT may be deteriorated due to diffusion of different elements even in a glass or silicon substrate [another embodiment].
Next, another embodiment of the present invention will be described. FIG. 7 shows another aspect of the head manufacturing process shown in FIG. In the head manufacturing process (step S10 ′) shown in FIG. 7, a pre-annealing process (first heat treatment process) is performed on the
また、図8に示すように、振動板56の圧電素子58が配設される側の面(第1の面)に保護膜(第1の保護膜)を形成するとともに、振動板56の圧力室52側の面(第2の面)に保護膜(第2の保護膜)59Aを形成してもよい。この保護膜59Aは振動板56の耐インク膜として機能する。なお、振動板56の一面全体にわたって保護膜59Aを形成してもよいし、圧力室52の対応する領域にのみに保護膜59Aを形成してもよい。
Further, as shown in FIG. 8, a protective film (first protective film) is formed on the surface (first surface) of the
本実施形態では、記録紙16上にインクを吐出させて所望の画像を形成するインクジェット記録装置を示したが、本発明は、媒体上に液体(処理液、薬液、水等)を吐出させる液体吐出装置にも適用可能である。
In the present embodiment, an ink jet recording apparatus that forms a desired image by ejecting ink onto the
10…インクジェット記録装置、50…ヘッド、51…ノズル、52…圧力室、56…振動板、57…上部電極、57A…下部電極、58…圧電素子、58A…圧電体、59,59A…保護膜
DESCRIPTION OF
Claims (8)
前記振動板の前記薄膜が成膜された一方の面に下部電極を成膜する下部電極成膜工程と、
前記下部電極に圧電体を成膜する圧電体成膜工程と、
前記圧電体に上部電極を成膜する上部電極成膜工程と、
前記薄膜成膜工程の後に、前記振動板の前記薄膜が形成された他方の面に流路プレートを接合する工程と、
前記一方の面に前記薄膜、前記下部電極及び前記圧電体が成膜され、前記他方の面に前記薄膜が成膜されるとともに前記流路プレートが接合された前記振動板に熱処理を施して前記薄膜を酸化させた酸化膜を生成するとともに前記圧電体を焼成する熱処理工程と、
前記流路プレートの前記振動板と反対側に、前記圧電体に対応して前記流路プレートに形成される液室と連通するノズルが形成されるノズルプレートを接合する工程と、
を含むことを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。 A thin film forming step for forming a thin film on both sides of the diaphragm containing iron;
A lower electrode film forming step of forming a lower electrode on one surface of the diaphragm on which the thin film is formed;
A piezoelectric film forming step of forming a piezoelectric film on the lower electrode;
An upper electrode film forming step of forming an upper electrode on the piezoelectric body;
A step of bonding a flow path plate to the other surface of the diaphragm on which the thin film is formed after the thin film forming step ;
The thin film, the lower electrode, and the piezoelectric body are formed on the one surface, the thin film is formed on the other surface, and the diaphragm, to which the flow path plate is bonded, is subjected to a heat treatment, and A heat treatment step of producing an oxide film obtained by oxidizing a thin film and firing the piezoelectric body;
Bonding a nozzle plate formed with a nozzle communicating with a liquid chamber formed in the flow path plate corresponding to the piezoelectric body on the opposite side of the vibration plate of the flow path plate;
A method for manufacturing a liquid discharge head, comprising:
前記薄膜が形成された振動板に熱処理を施して前記薄膜を酸化させた酸化膜を生成する第1の熱処理工程と、
前記振動板の前記酸化膜が生成された一方の面に下部電極を成膜する下部電極成膜工程と、
前記下部電極に圧電体を成膜する圧電体成膜工程と、
前記圧電体に上部電極を成膜する上部電極成膜工程と、
前記第1の熱処理工程の後に、前記振動板の前記酸化膜が形成された他方の面に流路プレートを接合する工程と、
前記一方の面に前記酸化膜が生成されるとともに前記下部電極及び前記圧電体が成膜され、前記他方の面に前記酸化膜が生成されるとともに前記流路プレートが接合された前記振動板に熱処理を施して前記圧電体を焼成する第2の熱処理工程と、
前記流路プレートの前記振動板と反対側に、前記圧電体に対応して前記流路プレートに形成される液室と連通するノズルが形成されるノズルプレートを接合する工程と、
を含むことを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。 A thin film forming step for forming a thin film on both sides of the diaphragm containing iron;
A first heat treatment step of generating an oxide film obtained by performing heat treatment on the diaphragm on which the thin film is formed to oxidize the thin film;
A lower electrode film forming step of forming a lower electrode on one surface of the diaphragm on which the oxide film is generated;
A piezoelectric film forming step of forming a piezoelectric film on the lower electrode;
An upper electrode film forming step of forming an upper electrode on the piezoelectric body;
After the first heat treatment step , bonding a flow path plate to the other surface of the diaphragm on which the oxide film is formed;
The oxide film is formed on the one surface and the lower electrode and the piezoelectric body are formed, and the oxide film is formed on the other surface and the diaphragm plate is joined to the vibration plate. A second heat treatment step of firing the piezoelectric body by applying a heat treatment;
Bonding a nozzle plate formed with a nozzle communicating with a liquid chamber formed in the flow path plate corresponding to the piezoelectric body on the opposite side of the vibration plate of the flow path plate;
A method for manufacturing a liquid discharge head, comprising:
前記液室と連通し、前記液体を吐出させるノズルを形成するノズル形成工程と、
を含むことを特徴とする請求項1、2又は3に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。 A liquid chamber forming step for forming a liquid chamber for storing a liquid to which a discharge force is applied from the piezoelectric body;
A nozzle forming step of communicating with the liquid chamber and forming a nozzle for discharging the liquid;
The method of manufacturing a liquid discharge head according to claim 1, wherein
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005290394A JP4933765B2 (en) | 2005-10-03 | 2005-10-03 | Method for manufacturing liquid discharge head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005290394A JP4933765B2 (en) | 2005-10-03 | 2005-10-03 | Method for manufacturing liquid discharge head |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2007098727A JP2007098727A (en) | 2007-04-19 |
| JP4933765B2 true JP4933765B2 (en) | 2012-05-16 |
Family
ID=38026149
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005290394A Expired - Fee Related JP4933765B2 (en) | 2005-10-03 | 2005-10-03 | Method for manufacturing liquid discharge head |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4933765B2 (en) |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3473611B2 (en) * | 1992-04-23 | 2003-12-08 | セイコーエプソン株式会社 | Manufacturing method of liquid jet head |
| JP2948429B2 (en) * | 1993-01-05 | 1999-09-13 | 富士通株式会社 | Method of manufacturing inkjet head |
| JP3487068B2 (en) * | 1995-04-03 | 2004-01-13 | セイコーエプソン株式会社 | Piezoelectric thin film, method of manufacturing the same, and ink jet recording head using the same |
| JPH09156099A (en) * | 1995-12-12 | 1997-06-17 | Seiko Epson Corp | INKJET PRINT HEAD AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME |
| JP3207206B2 (en) * | 1996-07-17 | 2001-09-10 | シチズン時計株式会社 | Ferroelectric element and method of manufacturing the same |
| JPH10315465A (en) * | 1997-05-20 | 1998-12-02 | Seiko Epson Corp | Piezoelectric element and its manufacturing method, actuator and its manufacturing method, ink jet recording head and its manufacturing method |
| JPH11204849A (en) * | 1998-01-20 | 1999-07-30 | Ricoh Co Ltd | Piezo actuator |
| DE19859914A1 (en) * | 1998-07-22 | 2000-02-03 | Samsung Electro Mech | Actuator fabrication method e.g. for inkjet printer heads |
| JP2000103060A (en) * | 1998-09-30 | 2000-04-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Ink jet head and method of manufacturing the same |
| JP3682839B2 (en) * | 1999-02-19 | 2005-08-17 | セイコーエプソン株式会社 | Piezoelectric element, ink jet recording head, printer, and method of manufacturing piezoelectric element |
| JP2000349362A (en) * | 1999-06-02 | 2000-12-15 | Japan Fine Ceramics Center | Piezoelectric device and its manufacture |
| JP2002043644A (en) * | 2000-07-24 | 2002-02-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Thin film piezoelectric element |
| JP2003188432A (en) * | 2001-12-18 | 2003-07-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Piezoelectric element, method of manufacturing the same, ink jet head provided with piezoelectric element, and ink jet recording apparatus |
| JP2004330724A (en) * | 2003-05-12 | 2004-11-25 | Toyama Prefecture | Piezoelectric element actuator and its manufacturing method |
| JP2005035013A (en) * | 2003-07-15 | 2005-02-10 | Brother Ind Ltd | Method for manufacturing liquid transfer device |
-
2005
- 2005-10-03 JP JP2005290394A patent/JP4933765B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2007098727A (en) | 2007-04-19 |
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| A711 | Notification of change in applicant |
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| A621 | Written request for application examination |
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| A977 | Report on retrieval |
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|
| A521 | Written amendment |
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| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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