JP4967372B2 - 高純度分岐アルキルブロミドの製造方法 - Google Patents
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Description
以下に、本発明を詳細に説明する。
[ガスクロマトグラフィー測定]
装置:GC−17A(島津製作所製)
カラム:キャピラリーカラム NEUTRA BOND−5(GLサイエンス製) (0.32mmI.D.×30m)
検出器:FID(水素炎イオン化検出器)
の条件で行った。
[GC−MS測定]
装置:M−80B(日立製作所製)
カラム:キャピラリーカラム DB−1701 (J&W製) (0.25mmI.D.×30m)
の条件で行った。
2−エチルブタノール 102.2g(1.00モル)をディーンスターク還流脱水装置、温度計及び磁気撹拌子を装着した四つ口フラスコに入れ、オイルバスにつけて、撹拌しながら内温120℃で臭化水素ガス160g(1.98モル)を13時間かけて吹き込み、副生成する水をディーンスターク還流脱水装置にて除去しながら反応させた。その結果、2−エチルブタノールの転化率は98.3%、目的とする2−エチルブチルブロミドの選択率は97.3%であった。また、副生した3−ブロモ−3−メチルペンタン及び2−ブロモ−3−メチルペンタンの含有率は、各々1.4%と0.2%であった。次いで、得られた反応液を洗浄し、減圧蒸留を行った。その結果、2−エチルブチルブロミドの純度は99.5%、蒸留収率は85.0%であった。また、3−ブロモ−3−メチルペンタン及び2−ブロモ−3−メチルペンタンの含有率は、各々0.2%と0.1%であった。
2−エチルヘキサノール 130.23g(1.00モル)をディーンスターク還流脱水装置、温度計及び磁気撹拌子を装着した四つ口フラスコに入れ、オイルバスにつけて、撹拌しながら内温120℃で臭化水素ガス160g(1.98モル)を13時間かけて吹き込み、副生成する水をディーンスターク還流脱水装置にて除去しながら反応させた。その結果、2−エチルヘキサノールの転化率は99.0%、目的とする2−エチルヘキシルブロミドの選択率は98.5%であった。また、副生した2−ブロモ−2−エチルヘキサン及びその他異性体類の含有率は、各々0.9%と0.2%であった。次いで、その反応液を洗浄し、減圧蒸留を行った。その結果、2−エチルヘキシルブロミドの純度は99.6%、蒸留収率は87.0%であった。また、2−ブロモ−2−エチルヘキサン及びその他異性体類の含有率は、各々0.2%と0.1%であった。
2−エチルブタノール 408.7g(4.00モル)を還流コンデンサー、温度計及び磁気撹拌子を装着した四つ口フラスコに入れ、オイルバスにつけて、撹拌しながら内温80℃で臭化水素ガス429g(5.30モル)を10時間かけて吹込み、途中、原料である2−エチルブタノールの転化率が80%の時点で、副生成水層の分液除去を行い、再び内温80℃で臭化水素ガス吹き込み反応させた。その結果、2−エチルブタノールの転化率は99.0%、目的とする2−エチルブチルブロミドの選択率は96.1%であった。また、副生した3−ブロモ−3−メチルペンタン及び2−ブロモ−3−メチルペンタンの含有率は、各々2.9%と0.6%であった。次いで、得られた反応液を洗浄し、減圧蒸留を行った。その結果、2−エチルブチルブロミドの純度は99.5%、蒸留収率は77.0%であった。また、3−ブロモ−3−メチルペンタン及び2−ブロモ−3−メチルペンタンの含有率は、各々0.3%と0.1%であった。
2−エチルブタノール 204.3g(2.0モル)を還流コンデンサー、温度計及び磁気撹拌子を装着した四つ口フラスコに入れ、オイルバスにつけて、撹拌しながら温度を80℃に保ち、臭化水素ガス272g(3.4モル)を13時間かけて吹き込み反応させた。反応が進むにつれて水の生成が見られたが、反応中は系内からの水の除去は行わずに完了した。その結果、2−エチルブタノールの転化率は98.9%、目的とする2−エチルブチルブロミドの選択率は91.3%であった。また、副生した3−ブロモ−3−メチルペンタン及び2−ブロモ−3−メチルペンタンの含有率は、各々6.8%と1.4%であった。次いで、得られた反応液を洗浄し、減圧蒸留を行った。その結果、2−エチルブチルブロミドの純度は98.3%、蒸留収率は21.0%であった。また、3−ブロモ−3−メチルペンタン及び2−ブロモ−3−メチルペンタンの含有率は、各々0.9%と0.7%であった。
2−エチルブタノール 51.09g(0.5モル)、48%臭化水素酸337g(2.0モル)を還流コンデンサー、温度計及び磁気撹拌子を装着した四つ口フラスコに入れ、オイルバスにつけて、撹拌しながら内温100℃で6時間かけて反応させた。その結果、2−エチルブタノールの転化率は93.6%、目的とする2−エチルブチルブロミドの選択率は74.5%であった。また、副生した3−ブロモ−3−メチルペンタン及び2−ブロモ−3−メチルペンタンの含有率は、各々13.2%と7.7%であった。
2−エチルヘキサノール 420.2g(3.2モル)を還流コンデンサー、温度計及び磁気撹拌子を装着した四つ口フラスコに入れ、オイルバスにつけて、撹拌しながら温度を80℃に保ち、臭化水素ガス440g(5.4モル)を12時間かけて吹き込み反応させた。反応が進むにつれて水の生成が見られたが、反応中は系内からの水の除去は行わずに完了した。その結果、2−エチルヘキサノールの転化率は99.7%、目的とする2−エチルヘキシルブロミドの選択率は92.3%であった。副生した2−ブロモ−2−エチルヘキサン及びその他異性体類の含有率は、各々4.4%と1.1%であった。次いで、その反応液を洗浄し、減圧蒸留を行った。その結果、2−エチルヘキシルブロミドの純度は98.2%、蒸留収率は40.0%であった。また、2−ブロモ−2−エチルヘキサン及びその他異性体類の含有率は、各々1.0%と0.8%であった。
Claims (4)
- 2−メチルプロパノール、2−メチルブタノール、2−エチルブタノール、2−メチルペンタノール、2−エチルペンタノール、2−プロピルペンタノール、2,3−ジメチルブタノール、2−エチル−3−メチルブタノール、2−プロピル−3−メチルブタノール、2−イソプロピル−3−メチルブタノール、2−メチルヘキサノール、2−エチルヘキサノール、2−プロピルヘキサノール、2−ブチルヘキサノール、2,3−ジメチルペンタノール、2,4−ジメチルペンタノール、2,3,3−トリメチルブタノール、2−エチル−3−メチルペンタノール、2−エチル−4−メチルペンタノール、2−エチル−3,3−ジメチルブタノール、2−プロピル−3−メチルペンタノール、2−プロピル−4−メチルペンタノール、2−プロピル−3,3−ジメチルブタノール、2−イソプロピルヘキサノール、2−イソプロピル−3−メチルペンタノール、2−イソプロピル−4−メチルペンタノール、2−イソプロピル−3,3−ジメチルブタノール、2−ブチル−3−メチルペンタノール、2−ブチル−4−メチルペンタノール、2−ブチル−3,3−ジメチルブタノール、2−メチルヘプタノール、2−エチルヘプタノール、2−プロピルヘプタノール、2−ブチルヘプタノール、2−ペンチルヘキサノール、2,3−ジメチルヘキサノール、2,4−ジメチルヘキサノール、2,5−ジメチルヘキサノール、2,3,4−トリメチルペンタノール、2−メチル−3−エチルペンタノール、2,4,4−トリメチルペンタノール、2−エチル−3−メチルヘキサノール、2−エチル−4−メチルヘキサノール、2−エチル−5−メチルヘキサノール、2−エチル−4,4−ジメチルヘキサノール、2,2−ジメチルプロパノール、2,2−ジメチルブタノール、2,2−ジエチルプロパノール、2,2−ジエチルブタノール、シクロプロピルメタノール、1−メチルシクロプロピルメタノール、1−エチルシクロプロピルメタノール、1−プロピルシクロプロピルメタノール、2−メチルシクロプロピルメタノール、2−エチルシクロプロピルメタノール、2,2−ジメチルシクロプロピルメタノール、2,2−ジエチルシクロプロピルメタノール、シクロブチルメタノール、1−メチルシクロブチルメタノール、1−エチルシクロブチルメタノール、1−プロピルシクロブチルメタノール、2−メチルシクロブチルメタノール、2−エチルシクロブチルメタノール、3−メチルシクロブチルメタノール、3−エチルシクロブチルメタノール、2,2−ジメチルシクロブチルメタノール、2,2−ジエチルシクロブチルメタノール、シクロペンチルメタノール、1−メチルシクロペンチルメタノール、1−エチルシクロペンチルメタノール、1−プロピルシクロペンチルメタノール、2−メチルシクロペンチルメタノール、2−エチルシクロペンチルメタノール、3−メチルシクロペンチルメタノール、3−エチルシクロペンチルメタノール、2,2−ジメチルシクロペンチルメタノール、2,2−ジエチルシクロペンチルメタノール、シクロヘキシルメタノール、1−メチルシクロヘキシルメタノール、1−エチルシクロヘキシルメタノール、1−プロピルシクロヘキシルメタノール、2−メチルシクロヘキシルメタノール、2−エチルシクロヘキシルメタノール、3−メチルシクロヘキシルメタノール、3−エチルシクロヘキシルメタノール、4−メチルシクロヘキシルメタノール、4−エチルシクロヘキシルメタノール、2,2−ジメチルシクロヘキシルメタノール、2,2−ジエチルシクロヘキシルメタノール、シクロヘプチルメタノール、1−メチルシクロヘプチルメタノール、1−エチルシクロヘプチルメタノール、1−プロピルシクロヘプチルメタノール、2−メチルシクロヘプチルメタノール、2−エチルシクロヘプチルメタノール、3−メチルシクロヘプチルメタノール、3−エチルシクロヘプチルメタノール、4−メチルシクロヘプチルメタノール、4−エチルシクロヘプチルメタノール、2,2−ジメチルシクロヘプチルメタノール、2,2−ジエチルシクロヘプチルメタノールから選ばれる分岐アルキルアルコールを臭化水素を用い、水酸基を臭素で置換して分岐アルキルブロミドを製造する方法において、副生成物として発生する水を除去しながら反応を行うことを特徴とする高純度分岐アルキルブロミドの製造方法。
- 水を除去する方法が、蒸留分離して系外に除去する方法であり、水のみの留去、原料である分岐アルコールとの共沸、生成する分岐アルキルブロミドとの共沸、溶媒との共沸により留去、また各々を併用して系外に留去させる方法から選ばれる還流脱水法であることを特徴とする請求項1に記載の高純度分岐アルキルブロミドの製造方法。
- 反応転化率50〜90%で、反応により副生成する水層と有機層が2層分離した状態において、水層を反応器から抜き出し除去した後、反応器に残った有機層を再び臭化水素を用いて臭素化することを特徴とする請求項1〜2のいずれか1項に記載の高純度分岐アルキルブロミドの製造方法。
- 臭化水素が、臭化水素ガスであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の高純度分岐アルキルブロミドの製造方法。
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