JP5013003B2 - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
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Description
しかしながら、このような球形粒子を使用した場合、ガラス基板上に無秩序に散布されるため、TFT素子や電極などに損傷を与えたり、透過画素部内に存在すると、入射光の散乱により、液晶表示素子のコントラストが低下したりすることがあった。そこで、球形粒子を散布する代わりに、感光性樹脂組成物を用いてスペーサーを形成することが提案されている。この方法により、任意の場所にスペーサーを形成することができるので、前述の問題点を解決することができる。このような感光性樹脂組成物としては、従来、カルボキシル基とエポキシ基とを有するアクリル共重合体からなるバインダー樹脂を含有するスペーサー形成用組成物が知られており、現像後のポストベーク時にエポキシ基とカルボキシル基との間で架橋し、耐溶剤性、耐熱性に優れたスペーサーパターンを得ることができる(特許文献1)。
また、スペーサー形成用組成物として、(メタ)アクリロイル基とカルボキシル基を有する感放射線硬化性樹脂を含有するスペーサー形成用組成物が知られている(特許文献2)。
また、特許文献2に記載された感放射線硬化樹脂においては、(メタ)アクリロイル基を導入する際に、イソシアナート化合物が用いられており、得られる感放射線硬化樹脂、さらにはそれを使用したスペーサー形成用組成物を取り扱う際にはイソシアナート化合物に起因する臭気の問題があることも本発明者は見いだした。
すなわち本発明は、バインダー樹脂(A)、光重合性化合物(B)、光重合開始剤(C)および溶剤(D)を含有する感光性樹脂組成物において、
バインダー樹脂(A)が、下記(A1)、(A2)および(A4)を共重合させて共重合体1を得て、得られた共重合体1と(A3)とを共重合体1の(A4)に由来するエポキシ基の部位で反応させて共重合体2を得て、さらに得られた共重合体2と(A5)とを共重合体1の(A4)と(A3)の反応により生成した水酸基の部位に反応させて得られる共重合体であり、光重合開始剤(C)が、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、オキシム系化合物およびトリアジン系化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物であり、フォトスペーサーを形成するために用いられる感光性樹脂組成物を提供する。
(A1);一分子中にトリシクロデカン骨格およびジシクロペンタジエン骨格からなる群から選ばれる少なくとも1種の骨格と、不飽和結合とを有する化合物
(A2);(A1)および(A4)と共重合可能な不飽和結合を有する化合物
(A3);不飽和結合を有するカルボン酸
(A4);一分子中に不飽和結合とエポキシ基とを有する化合物
(A5);酸無水物
ただし、(A1)〜(A5)は、それぞれ、同一ではない。
(A1);一分子中にトリシクロデカン骨格およびジシクロペンタジエン骨格からなる群から選ばれる少なくとも1種の骨格と、不飽和結合とを有する化合物
(A2);(A1)および(A4)と共重合可能な不飽和結合を有する化合物
(A3);不飽和結合を有するカルボン酸
(A4);一分子中に不飽和結合とエポキシ基とを有する化合物
(A5);酸無水物
ただし、(A1)〜(A5)は、それぞれ、互いに同一ではない。
シクロペンチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、メチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘプチル(メタ)アクリレート、シクロオクチル(メタ)アクリレート、メンチル(メタ)アクリレート、シクロペンテニル(メタ)アクリレート、シクロヘキセニル(メタ)アクリレート、シクロヘプテニル(メタ)アクリレート、シクロオクテニル(メタ)アクリレート、メンタジエニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ピナニル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、ノルボルネニル(メタ)アクリレート、ピネニル(メタ)アクリレートのような不飽和カルボン酸の脂環式基を含むエステル化合物;
オリゴエチレングリコールモノアルキル(メタ)アクリレートのようなグリコール類のモノ飽和カルボン酸エステル化合物;
ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシ(メタ)アクリレートのような不飽和カルボン酸の芳香環を含むエステル化合物;
スチレン、α−メチルスチレン、α−フェニルスチレンおよびビニルトルエンのような芳香族ビニル化合物;
酢酸ビニルおよびプロピオン酸ビニルのようなカルボン酸ビニルエステル;
(メタ)アクリロニトリルおよびα−クロロアクリロニトリルのようなシアン化ビニル化合物;
N−シクロヘキシルマレイミドやN−フェニルマレイミド、N−ベンジルマレイミドのようなN−置換マレイミド化合物などが挙げられる。これらは、それぞれ単独で、または組合せて用いることができる。
この共重合時は、通常の条件下で行なわれる。例えば、撹拌機、温度計、還流冷却管、滴下ロートおよび窒素導入管を備えたフラスコに、(A1)、(A2)および(A4)の合計量に対して、質量基準で、0.5〜20倍量の溶剤を導入し、フラスコ内雰囲気を空気から窒素に置換する。その後、溶剤を40〜140℃に昇温した後、(A1)、(A2)および(A4)の所定量、(A1)、(A2)および(A4)の合計量に対して、質量基準で、0〜20倍量の溶剤、およびアゾビスイソブチロニトリルやベンゾイルパーオキサイドなどの重合開始剤を、(A1)、(A2)および(A4)の合計モル数に対して、0.1〜10モル%添加した溶液(室温または加熱下にて撹拌溶解)を滴下ロートから0.1〜8時間かけて前記のフラスコに滴下し、さらに40〜140℃で1〜10時間撹拌する。
なお、上記の工程において、重合開始剤の一部または全量をフラスコ側に仕込んでもよいし、(A1)、(A2)および(A4)の一部または全量をフラスコ側に仕込んでもよい。また、分子量や分子量分布を制御するために、α−メチルスチレンダイマーやメルカプト化合物を連鎖移動剤として使用してもよい。α−メチルスチレンダイマーやメルカプト化合物の使用量は、(A1)〜(A3)の合計量に対して、質量基準で、0.005〜5%である。なお、上記した重合条件は、製造設備や重合による発熱量等などを考慮し、仕込み方法や反応温度を適宜調整してもよい。
(A2)から導かれる構成単位;2〜95モル%
(A4)から導かれる構成単位;3〜65モル%
(A2)から導かれる構成単位;5〜80モル%
(A4)から導かれる構成単位;15〜60モル%
(A4)の組成比が上記範囲内にあると、十分な光硬化性や熱硬化性が得られ、信頼性に優れるので好ましい。
単官能モノマーの具体例としては、ノニルフェニルカルビトールアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、2−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、N−ビニルピロリドンなどが挙げられる。
また2官能モノマーの具体例としては、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのビス(アクリロイロキシエチル)エーテル、3−メチルペンタンジオールジ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
その他の多官能モノマーの具体例としては、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートと酸無水物との反応物、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートと酸無水物との反応物などが挙げられる。なかでも、2官能以上の多官能モノマーが好ましく用いられる。
光重合性化合物(B)の含有量は、感光性樹脂組成物中のバインダー樹脂(A)および光重合性化合物(B)の合計100質量部に対して、好ましくは1〜70質量部、より好ましくは5〜60質量部である。光重合性化合物(B)の含有量が、前記の範囲にあると、組成物を用いて形成された構造物の強度や平滑性、信頼性が良好になる傾向があり、好ましい。
より具体的には以下のような化合物を挙げることができ、これらをそれぞれ単独で、または2種以上組合せて用いることができる。
前記の連鎖移動を起こしうる基を有する光重合開始剤としては、例えば、下記式(2)〜(7)のものが挙げられる。
光重合開始助剤の具体例としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミンなどの脂肪族アミン化合物、4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、4−ジメチルアミノ安息香酸2−エチルヘキシル、安息香酸2−ジメチルアミノエチル、N,N−ジメチルパラトルイジン、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン(通称;ミヒラーズケトン)、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンのような芳香族アミン化合物が挙げられる。
前記のカルボン酸化合物としては、フェニルチオ酢酸、メチルフェニルチオ酢酸、エチルフェニルチオ酢酸、メチルエチルフェニルチオ酢酸、ジメチルフェニルチオ酢酸、メトキシフェニルチオ酢酸、ジメトキシフェニルチオ酢酸、クロロフェニルチオ酢酸、ジクロロフェニルチオ酢酸、N−フェニルグリシン、フェノキシ酢酸、ナフチルチオ酢酸、N−ナフチルグリシン、ナフトキシ酢酸などの芳香族ヘテロ酢酸類が挙げられる。
また、光重合開始助剤(C−1)を用いる場合、その含有量は、前記の基準で、好ましくは0.1〜50質量部、より好ましくは0.1〜40質量部である。
光重合開始剤(C)の含有量が前記の範囲にあると、感光性樹脂組成物が高感度となり、前記の感光性樹脂組成物を用いて形成した構造物の強度や、前記の構造物の表面における平滑性が良好になる傾向があり、好ましい。前記に加えて、光重合開始助剤(C−1)の量が前記の範囲にあると、得られる感光性樹脂組成物の感度がさらに高くなり、前記の感光性樹脂組成物を用いて形成するパターン基板の生産性が向上する傾向にあり、好ましい。
ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテルおよびジエチレングリコールジブチルエーテルなどのジエチレングリコールジアルキルエーテル類;
メチルセロソルブアセテートおよびエチルセロソルブアセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類;
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、メトキシブチルアセテートおよびメトキシペンチルアセテートなどのアルキレングリコールアルキルエーテルアセテート類;
ベンゼン、トルエン、キシレンおよびメシチレンのような芳香族炭化水素類;
メチルエチルケトン、アセトン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトンおよびシクロヘキサノンなどのケトン類;
エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコールおよびグリセリンなどのアルコール類;
3−エトキシプロピオン酸エチルおよび3−メトキシプロピオン酸メチルなどのエステル類;
γ−ブチロラクトンなどの環状エステル類などが挙げられる。
上記の溶剤のうち、塗布性、乾燥性の点から、好ましくは上記溶剤の中で沸点が100〜200℃の有機溶剤が挙げられ、より好ましくは、アルキレングリコールアルキルエーテルアセテート類、ケトン類、3−エトキシプロピオン酸エチルおよび3−メトキシプロピオン酸メチルのようなエステル類が挙げられ、とりわけ好ましくは、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチルが挙げられる。
これらの溶剤(D)は、それぞれ単独で、または2種類以上混合して用いることができる。
本発明の感光性樹脂組成物における溶剤(D)の含有量は、感光性樹脂組成物に対して質量分率で、通常、60〜90質量%、好ましくは70〜85質量%である。溶剤(D)の含有量が、前記の範囲にあると、スピンコーター、スリット&スピンコーター、スリットコーター(ダイコーター、カーテンフローコーターとも呼ばれることがある。)、インクジェットなどの塗布装置で塗布したときに塗布性が良好になる傾向があり、好ましい。
充填剤としては、ガラス、シリカ、アルミナなどが例示される。
他の高分子化合物としては、エポキシ樹脂、マレイミド樹脂などの硬化性樹脂やポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリフルオロアルキルアクリレート、ポリエステル、ポリウレタン等の熱可塑性樹脂などが例示される。
界面活性剤としては、市販の界面活性剤を用いることができ、例えば、シリコーン系、フッ素系、エステル系、カチオン系、アニオン系、ノニオン系、両性などの界面活性剤などが挙げられ、それぞれ単独でまたは2種以上を組合せて用いられる。前記の界面活性剤の例としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリエチレングリコールジエステル類、ソルビタン脂肪酸エステル類、脂肪酸変性ポリエステル類、3級アミン変性ポリウレタン類、ポリエチレンイミン類等のほか、商品名でKP(信越化学工業(株)製)、ポリフロー(共栄化学(株)製)、エフ
トップ(トーケムプロダクツ社製)、メガファック(大日本インキ化学工業(株)製)、フロラード(住友スリーエム(株)製)、アサヒガード、サーフロン(以上、旭硝子(株)製)、ソルスパース(ゼネカ(株)製)、EFKA(EFKA CHEMICALS社製)、PB82
1(味の素(株)製)などが挙げられる。
密着促進剤として具体的には、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロイロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。
酸化防止剤として具体的には、2,2’−チオビス(4−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノールなどが挙げられる。
紫外線吸収剤として具体的には、2−(3−tert−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノンなどが挙げられる。
また凝集剤として具体的には、ポリアクリル酸ナトリウムなどが挙げられる。
連鎖移動剤としては、ドデシルメルカプタン、2,4−ジフェニル−4−メチル−1−ペンテンなどが挙げられる。
塗布された感光性樹脂組成物層は、プリベークすることにより溶剤などの揮発成分が除去されて、平滑な塗膜を得る。このときの塗膜の厚さは、通常、1〜6μm程度である。
このようにして得られた塗膜に、目的のパターンを形成するためのマスクを介して紫外線を照射する。この際、露光部全体に均一に平行光線が照射され、かつマスクと基板の正確な位置合わせが行われるよう、マスクアライナーやステッパーなどの装置を使用するのが好ましい。さらにこの後、硬化の終了した塗膜をアルカリ水溶液に接触させて未露光部を溶解させ、現像することにより、目的とするパターン形状が得られる。現像方法は、液盛り法、ディッピング法、スプレー法等のいずれでも良い。さらに現像時に基板を任意の角度に傾けても良い。現像後、水洗を行い、さらに必要に応じて150〜230℃で10〜60分のポストベークを施すこともできる。
アルカリ性化合物は、無機および有機のアルカリ性化合物のいずれでもよい。無機アルカリ性化合物の具体例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、燐酸水素二ナトリウム、燐酸二水素ナトリウム、燐酸水素二アンモニウム、燐酸二水素アンモニウム、燐酸二水素カリウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニアなどが挙げられる。
また、有機アルカリ性化合物の具体例としては、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、2−ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミンなどが挙げられる。これらの無機および有機アルカリ性化合物は、それぞれ単独でまたは2種以上組合せて用いることができる。アルカリ現像液中のアルカリ性化合物の濃度は、好ましくは0.01〜10質量%であり、より好ましくは0.03〜5質量%である。
ノニオン系界面活性剤の具体例としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアリールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、その他のポリオキシエチレン誘導体、オキシエチレン/オキシプロピレンブロックコポリマー、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミンなどが挙げられる。
アニオン系界面活性剤の具体例としては、ラウリルアルコール硫酸エステルナトリウムやオレイルアルコール硫酸エステルナトリウムのような高級アルコール硫酸エステル塩類、ラウリル硫酸ナトリウムやラウリル硫酸アンモニウムのようなアルキル硫酸塩類、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムやドデシルナフタレンスルホン酸ナトリウムのようなアルキルアリールスルホン酸塩類などが挙げられる。
カチオン系界面活性剤の具体例としては、ステアリルアミン塩酸塩やラウリルトリメチルアンモニウムクロライドのようなアミン塩または第四級アンモニウム塩などが挙げられる。
これらの界面活性剤は、それぞれ単独で用いることも、また2種以上組合せて用いることもできる。
アルカリ現像液中の界面活性剤の濃度は、通常、0.01〜10質量%、好ましくは0.05〜8質量%、より好ましくは0.1〜5質量%である。
また、この硬化樹脂パターンは、液晶表示装置に使用されるフォトスペーサーとして有用である。
a:共重合体1における(A1)から導かれる構成単位。
b:共重合体1における(A2)から導かれる構成単位。
c:共重合体1における(A4)から導かれる構成単位に、(A3)を反応させて導かれる構成単位。
d:共重合体2における(A3)に由来する部位に(A5)を反応させて導かれる構成単位。
e:(A1)、(A2)および(A3)を反応させて得られる共重合体の(A1)から導かれる構成単位。
f:(A1)、(A2)および(A3)を反応させて得られる共重合体の(A2)から導かれる構成単位。
g:(A1)、(A2)および(A3)を反応させて得られる共重合体の(A3)から導かれる構成単位。
h:(A1)、(A2)および(A3)を反応させて得られる共重合体の(A3)から導かれる構成単位に、(A4)から導かれる構成単位を反応させた構成単位。
装置;HLC-8120GPC(東ソー(株)製)
カラム;TSK−GELG4000HXL+TSK−GELG2000HXL(直列接続)
カラム温度;40℃
溶媒;THF
流速;1.0ml/min
注入量;50μl
検出器;RI
測定試料濃度;0.6質量%(溶媒;THF)
校正用標準物質;TSK STANDARD POLYSTYRENE F−40、F−4、F−1、A−2500、A−500(東ソー(株)製)
上記で得られた重量平均分子量および数平均分子量の比を分子量分布(Mw/Mn)とした。
耐NMP性;露光工程において、フォトマスクを使用しない以外は、実施例に記載したのと同様の操作を行い、塗膜を作製した。作製した塗膜をN−メチルピロリドン(30℃×30分)に浸漬し、浸漬前後の膜厚変化を測定した。浸漬前後での膜厚変化(=(浸漬後の膜厚(μm)/浸漬前の膜厚(μm))×100)が103%以下の場合を○、103%を越えた場合を×とした。
表面平滑性;表面平滑性の基準は、目視により表面を観察して、光沢があると○、白濁(不透明)していると×を表す。
粒状異物;目視により表面を観察して、異物がなければ○、あれば×を表す。
線幅;パターンのボトム部における二辺の寸法を、SEM(型番S−4100;(株)日立製作所製)を用いて測定し、得られた二辺の平均値を求めた。
形状;パターンの基板等に対して垂直な断面に対する断面を、上記と同じSEMを用いて観察した。
回復率;ダイナミック超微小硬度計(DUH−W201S;(株)島津製作所製)を用いて、総変位量(μm)および弾性変位量(μm)を、以下の条件で測定し、得られた数値から回復率を算出した。
試験力 ;5gf(SI単位換算値;0.049N)
負荷速度 ;0.45gf/秒(SI単位換算値;0.0044N/秒)
保持時間 ;5秒
圧子 ;円錐台圧子(直径50mmφ)
回復率(%)=(弾性変位量(μm)/総変位量(μm))×100
粘度変化率(%)=[(保管後粘度)/(保管前粘度)]×100
Claims (9)
- バインダー樹脂(A)、光重合性化合物(B)、光重合開始剤(C)および溶剤(D)を含有する感光性樹脂組成物であり、
バインダー樹脂(A)が、下記(A1)、(A2)および(A4)を共重合させて共重合体1を得て、得られた共重合体1と(A3)とを共重合体1の(A4)に由来するエポキシ基の部位で反応させて共重合体2を得て、さらに得られた共重合体2と(A5)とを共重合体1の(A4)と(A3)の反応により生成した水酸基の部位に反応させて得られる共重合体であり、
光重合開始剤(C)が、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、オキシム系化合物およびトリアジン系化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物であり、
フォトスペーサーを形成するために用いられる感光性樹脂組成物から形成されたフォトスペーサー。
(A1);一分子中にトリシクロデカン骨格およびジシクロペンタジエン骨格からなる群から選ばれる少なくとも1種の骨格と、不飽和結合とを有する化合物
(A2);(A1)および(A4)と共重合可能な不飽和結合を有する化合物
(A3);不飽和結合を有するカルボン酸
(A4);一分子中に不飽和結合とエポキシ基とを有する化合物
(A5);酸無水物
ただし、(A1)〜(A5)は、それぞれ、互いに同一ではない。 - (A1)が、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル(メタ)アクリレートおよび、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレートからなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物である請求項1に記載のフォトスペーサー。
- (A2)が、スチレン、ベンジル(メタ)アクリレート、N置換マレイミドからなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物である請求項1または2に記載のフォトスペーサー。
- (A3)が、アクリル酸およびメタクリル酸からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物である請求項1〜3のいずれかに記載のフォトスペーサー。
- (A4)が、アクリル酸グリシジルおよびメタクリル酸グリシジルからなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物である請求項1〜4のいずれかに記載のフォトスペーサー。
- (A5)が、マレイン酸無水物、コハク酸無水物、イタコン酸無水物、フタル酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸無水物、メチルテトラヒドロフタル酸無水物およびトリメリット酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物である請求項1〜5のいずれかに記載のフォトスペーサー。
- (A4)と(A3)とが反応して生成した構成単位の比率が、全構成単位に対して、30〜60モル%であるバインダー樹脂(A)であることを特徴とする請求項1に記載のフォトスペーサー。
- 請求項1〜7のいずれかに記載のフォトスペーサーを含んでなるカラーフィルタ。
- 請求項8に記載のカラーフィルタを具備する液晶表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011011768A JP5013003B2 (ja) | 2004-06-08 | 2011-01-24 | 感光性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004169566 | 2004-06-08 | ||
| JP2004169566 | 2004-06-08 | ||
| JP2011011768A JP5013003B2 (ja) | 2004-06-08 | 2011-01-24 | 感光性樹脂組成物 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005158572A Division JP2006023716A (ja) | 2004-06-08 | 2005-05-31 | 感光性樹脂組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2011145677A JP2011145677A (ja) | 2011-07-28 |
| JP5013003B2 true JP5013003B2 (ja) | 2012-08-29 |
Family
ID=35581332
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011011768A Expired - Lifetime JP5013003B2 (ja) | 2004-06-08 | 2011-01-24 | 感光性樹脂組成物 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5013003B2 (ja) |
| KR (1) | KR20060049555A (ja) |
| CN (1) | CN1707358B (ja) |
| TW (1) | TW200540565A (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4816917B2 (ja) * | 2006-03-17 | 2011-11-16 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、液晶表示パネル用スペーサー、液晶表示パネル用スペーサーの形成方法、および液晶表示パネル |
| CN101178541B (zh) * | 2006-10-31 | 2012-04-25 | 三洋化成工业株式会社 | 感光性树脂组合物 |
| KR101427132B1 (ko) * | 2007-12-28 | 2014-08-06 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치의 오버코트층용 조성물 |
| JP5937873B2 (ja) * | 2011-04-13 | 2016-06-22 | Hoya株式会社 | フォトマスク用基板セット、フォトマスクセット、及びパターン転写方法 |
| KR101344786B1 (ko) * | 2011-12-02 | 2013-12-26 | 제일모직주식회사 | 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 |
| WO2013084282A1 (ja) | 2011-12-05 | 2013-06-13 | 日立化成株式会社 | 樹脂硬化膜パターンの形成方法、感光性樹脂組成物及び感光性エレメント |
| WO2013084283A1 (ja) | 2011-12-05 | 2013-06-13 | 日立化成株式会社 | タッチパネル用電極の保護膜の形成方法、感光性樹脂組成物及び感光性エレメント |
| KR20140076320A (ko) | 2012-12-12 | 2014-06-20 | 제일모직주식회사 | 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 블랙 스페이서 |
| KR20150033793A (ko) * | 2013-09-24 | 2015-04-02 | 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 | 네거티브형 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 절연막 |
| WO2016009894A1 (ja) * | 2014-07-18 | 2016-01-21 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、硬化膜の製造方法、硬化膜、タッチパネル、タッチパネル表示装置、液晶表示装置、及び、有機el表示装置 |
| JP6309624B2 (ja) * | 2014-07-18 | 2018-04-11 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、硬化膜の製造方法、硬化膜、液晶表示装置、有機el表示装置、タッチパネル及びタッチパネル表示装置 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3688949B2 (ja) * | 1999-09-24 | 2005-08-31 | 昭和高分子株式会社 | 感光性樹脂 |
| JP2001151829A (ja) * | 1999-11-26 | 2001-06-05 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物およびスペーサー |
| US6855480B2 (en) * | 2001-04-19 | 2005-02-15 | Shipley Company, L.L.C. | Photoresist composition |
| JP4572664B2 (ja) * | 2004-05-28 | 2010-11-04 | 三菱化学株式会社 | 液晶分割配向突起用感光性組成物、及び液晶表示装置 |
-
2005
- 2005-05-24 TW TW094116842A patent/TW200540565A/zh unknown
- 2005-06-03 KR KR1020050047532A patent/KR20060049555A/ko not_active Ceased
- 2005-06-03 CN CN2005100752112A patent/CN1707358B/zh not_active Expired - Lifetime
-
2011
- 2011-01-24 JP JP2011011768A patent/JP5013003B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20060049555A (ko) | 2006-05-19 |
| CN1707358A (zh) | 2005-12-14 |
| TW200540565A (en) | 2005-12-16 |
| CN1707358B (zh) | 2010-09-01 |
| JP2011145677A (ja) | 2011-07-28 |
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| R350 | Written notification of registration of transfer |
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