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JP5018464B2 - Semiconductor integrated circuit device and method for testing semiconductor integrated circuit device - Google Patents
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JP5018464B2 - Semiconductor integrated circuit device and method for testing semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device and method for testing semiconductor integrated circuit device Download PDF

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Description

本発明は、半導体集積回路装置及び半導体集積回路装置の試験方法に関するものである。
近年、製造プロセスの微細化に伴って、半導体集積回路装置の大規模化・高集積化が進む一方で、回路内のリーク電流の増大が無視できなくなってきた。そこで、このようなリーク電流を低減する方法として、内部回路への電源供給そのものを停止させるパワーゲーティングと呼ばれる手法が提案されている。但し、このパワーゲーティングでは、内部回路への電源供給を停止させる電源遮断回路が正常に機能しているかを予め試験する必要がある。
The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device and a test method for a semiconductor integrated circuit device.
In recent years, with the miniaturization of the manufacturing process, the semiconductor integrated circuit device has been increased in scale and integration, while an increase in leakage current in the circuit cannot be ignored. Therefore, as a method for reducing such a leakage current, a method called power gating for stopping the power supply itself to the internal circuit has been proposed. However, in this power gating, it is necessary to test in advance whether the power cutoff circuit for stopping the power supply to the internal circuit is functioning normally.

近年、製造プロセスの微細化に伴って、半導体集積回路装置の大規模化・高集積化が進んでおり、さらに回路を低電圧で動作させることによって低消費電力化が図られている。しかし、その一方で、製造プロセスの微細化及び動作電圧の低電圧化が進むにつれて、トランジスタのリーク電流が増加し、回路全体の消費電力の中に占めるリーク電流による消費電力の割合が無視できなくなってきた。   In recent years, with the miniaturization of the manufacturing process, the semiconductor integrated circuit device has been increased in scale and integration, and the power consumption is reduced by operating the circuit at a low voltage. However, on the other hand, as the manufacturing process is miniaturized and the operating voltage is lowered, the leakage current of the transistor increases, and the ratio of the power consumption due to the leakage current in the power consumption of the entire circuit cannot be ignored. I came.

そこで、近年、半導体集積回路装置の内部におけるリーク電流を低減する有効な方法として、動作していない一部もしくは全ての内部回路への電源供給そのものを停止させるパワーゲーティングと呼ばれる手法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。具体的には、図13に示すように、内部回路110の電源端子と電源との間に電源遮断回路120が挿入接続され、その電源遮断回路120が内部回路110への電源電圧の供給・遮断を制御する手法である。このような手法により、半導体集積回路装置内で使用しない回路への電源電圧の供給を内部回路ごとに遮断することができるため、リーク電流による消費電力を大幅に低減することができる。
特開2004−201268号公報
Therefore, in recent years, as an effective method for reducing the leakage current inside the semiconductor integrated circuit device, a method called power gating for stopping the power supply itself to some or all of the internal circuits that are not operating has been proposed. (For example, refer to Patent Document 1). Specifically, as shown in FIG. 13, a power cutoff circuit 120 is inserted and connected between the power supply terminal of the internal circuit 110 and the power supply, and the power cutoff circuit 120 supplies and cuts off the power supply voltage to the internal circuit 110. It is a method to control. With such a method, supply of power supply voltage to circuits not used in the semiconductor integrated circuit device can be cut off for each internal circuit, so that power consumption due to leakage current can be greatly reduced.
JP 2004-201268 A

ところで、上述した電源遮断回路120が正常に機能していない場合には、内部回路110に対して電源電圧を所望のタイミングで供給・遮断することができないため、消費電力を低減できないだけではなく、内部回路110が所定の機能を発揮できなくなってしまう。そのため、この電源遮断回路120が正常に機能しているか否かを予め試験する必要がある。   By the way, when the power shutoff circuit 120 described above is not functioning normally, the power supply voltage cannot be supplied to or shut off from the internal circuit 110 at a desired timing. The internal circuit 110 cannot perform a predetermined function. Therefore, it is necessary to test in advance whether or not the power shutoff circuit 120 is functioning normally.

このような試験方法としては、図13に示すように、内部回路110と電源遮断回路120との間のノードA(仮想電源)を電源パッド130に接続し、その電源パッド130を介して上記ノードAの電圧(仮想電源電圧)VD1を外部から測定することが考えられる。しかしながら、この回路の場合には、仮想電源から半導体集積回路の周辺に配置されている電源パッド130まで、配線幅の広い電源配線WPを引き回す必要がある。そのため、配線領域が増大し、結果として他の配線を配置するための領域の減少や配線自由度の低下につながるという問題がある。   As such a test method, as shown in FIG. 13, a node A (virtual power supply) between the internal circuit 110 and the power shutoff circuit 120 is connected to the power supply pad 130, and the above node is connected via the power supply pad 130. It is conceivable to measure the voltage A (virtual power supply voltage) VD1 from the outside. However, in the case of this circuit, it is necessary to route the power supply wiring WP having a wide wiring width from the virtual power supply to the power supply pad 130 arranged around the semiconductor integrated circuit. Therefore, there is a problem that the wiring area increases, resulting in a decrease in the area for arranging other wirings and a decrease in the degree of freedom of wiring.

本発明は上記問題点を解決するためになされたものであって、その目的は、配線領域の増大を抑制しつつも、電源遮断回路が正常に機能しているかを試験することのできる半導体集積回路装置及び半導体集積回路装置の試験方法を提供することにある。   The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit that can test whether the power shut-off circuit functions normally while suppressing an increase in wiring area. An object of the present invention is to provide a test method for a circuit device and a semiconductor integrated circuit device.

上記目的を達成するため、請求項1,7に記載の発明は、電源電圧が供給される内部回路と、前記内部回路と前記電源電圧を供給する電源との間に接続され、前記内部回路への前記電源電圧の供給・遮断を電源遮断制御信号に応じて制御する電源遮断回路と、を備えた半導体集積回路装置において、前記電源遮断回路の動作を試験する動作試験時に、前記内部回路と前記電源遮断回路との間の接続点の仮想電源電圧あるいは仮想電源電流に基づいて、前記電源遮断回路が正常に機能しているか否かを示す判定信号を生成し、その生成した判定信号を出力パッドに出力する動作判定回路を備える。   In order to achieve the above object, the present invention described in claims 1 and 7 is connected between an internal circuit to which a power supply voltage is supplied and the internal circuit and a power supply for supplying the power supply voltage to the internal circuit. In a semiconductor integrated circuit device comprising a power cutoff circuit that controls supply / cutoff of the power supply voltage in accordance with a power cutoff control signal, the internal circuit and the power supply circuit at the time of an operation test for testing the operation of the power cutoff circuit Based on the virtual power supply voltage or virtual power supply current at the connection point with the power supply cutoff circuit, a determination signal indicating whether or not the power supply cutoff circuit is functioning normally is generated, and the generated determination signal is output to the output pad. Is provided with an operation determination circuit that outputs the signal.

また、請求項2に記載の発明は、前記各内部回路と前記各電源遮断回路との間の接続点の仮想電源電圧あるいは仮想電源電流に基づいて、前記各電源遮断回路が正常に機能しているか否かを示す判定信号を生成する複数の動作判定回路と、前記各動作判定回路から入力される複数の判定信号のいずれか1つの判定信号を選択し、該選択した判定信号を出力パッドに出力する選択回路と、を備える。   The invention according to claim 2 is that the power supply cutoff circuit functions normally based on a virtual power supply voltage or a virtual power supply current at a connection point between the internal circuits and the power supply cutoff circuits. A plurality of operation determination circuits for generating a determination signal indicating whether or not, and one of the plurality of determination signals input from each of the operation determination circuits is selected, and the selected determination signal is output to an output pad A selection circuit for outputting.

これらの構成によれば、動作判定回路において、内部回路と電源遮断回路との間の接続点の仮想電源電圧あるいは仮想電源電流、すなわち内部回路に供給される電圧(電流)に基づいて、電源遮断回路が正常に機能しているか否かを示す判定信号が生成される。従って、出力パッドを介してこの判定信号を検出することにより、電源遮断回路が正常に機能しているかを試験することができる。また、動作判定回路(選択回路)から出力パッドに上記判定信号が出力される。これにより、動作判定回路から出力パッドまでの配線を、電源配線よりも配線幅の狭い信号配線にすることができる。従って、内部回路と電源遮断回路との間の接続点から電源パッドまでの配線が電源配線にて形成される場合に比べて、配線領域の増大を抑制することができる。   According to these configurations, in the operation determination circuit, the power supply is cut off based on the virtual power supply voltage or the virtual power supply current at the connection point between the internal circuit and the power supply cutoff circuit, that is, the voltage (current) supplied to the internal circuit. A determination signal indicating whether the circuit is functioning normally is generated. Therefore, by detecting this determination signal via the output pad, it is possible to test whether the power cutoff circuit is functioning normally. In addition, the determination signal is output from the operation determination circuit (selection circuit) to the output pad. Thereby, the wiring from the operation determination circuit to the output pad can be a signal wiring having a wiring width narrower than that of the power supply wiring. Therefore, an increase in the wiring area can be suppressed as compared with the case where the wiring from the connection point between the internal circuit and the power cutoff circuit to the power supply pad is formed by the power supply wiring.

さらに、請求項2に記載の構成によれば、複数の動作判定回路から出力される複数の判定信号が選択回路にて選択されて出力パッドに出力される。これにより、電源遮断回路の動作試験のために設けられる出力パッドを共通化することができるため、複数の電源遮断回路が設けられる場合であっても、出力パッド数の増大を好適に抑制することができる。   Furthermore, according to the configuration of the second aspect, a plurality of determination signals output from the plurality of operation determination circuits are selected by the selection circuit and output to the output pad. As a result, the output pads provided for the operation test of the power shut-off circuit can be shared, so that even when a plurality of power shut-off circuits are provided, the increase in the number of output pads is suitably suppressed. Can do.

請求項3に記載の発明は、前記動作判定回路は、前記電源遮断回路が前記内部回路に前記電源電圧を供給する電源通電動作のときに第1基準電圧を生成し、前記電源遮断回路が前記内部回路への前記電源電圧の供給を遮断する電源遮断動作のときに第2基準電圧を生成する基準電圧生成回路と、前記基準電圧生成回路からの前記第1基準電圧あるいは前記第2基準電圧と、仮想電源電圧とを比較し、前記判定信号を生成する比較回路と、を含む。   According to a third aspect of the present invention, the operation determination circuit generates a first reference voltage when the power cut-off circuit is in a power supply operation for supplying the power supply voltage to the internal circuit, and the power cut-off circuit A reference voltage generation circuit for generating a second reference voltage during a power supply cutoff operation for cutting off the supply of the power supply voltage to the internal circuit, and the first reference voltage or the second reference voltage from the reference voltage generation circuit, And a comparison circuit that compares the virtual power supply voltage and generates the determination signal.

この構成によれば、比較回路において、基準電圧と仮想電源電圧とが比較される。これにより、仮想電源電圧が所望の電圧であるかを判定することができる。このとき、電源遮断回路が正常に機能していない場合には、所望の電圧レベルの仮想電源電圧が得られないため、上記判定結果、すなわち比較回路にて生成される判定信号を検出することにより、電源遮断回路が正常に機能しているかを判定することができる。さらに、上記構成では、基準電圧生成回路において、電源遮断回路の電源通電動作が正常に機能している場合の仮想電源電圧に対応する第1基準電圧と、電源遮断回路の電源遮断動作が正常に機能している場合の仮想電源電圧に対応する第2基準電圧とが生成される。そして、電源通電動作における試験時に、そのときの仮想電源電圧と第1基準電圧が比較されるとともに、電源遮断動作における試験時に、そのときの仮想電源電圧と第2基準電圧が比較される。これにより、電源遮断回路の電源通電動作と電源遮断動作との双方について、それらの動作が正常に機能しているかを確実に試験することができる。   According to this configuration, the reference voltage is compared with the virtual power supply voltage in the comparison circuit. Thereby, it can be determined whether the virtual power supply voltage is a desired voltage. At this time, if the power shutoff circuit is not functioning normally, a virtual power supply voltage of a desired voltage level cannot be obtained. Therefore, by detecting the determination result, that is, the determination signal generated by the comparison circuit It can be determined whether the power shut-off circuit is functioning normally. Further, in the above configuration, in the reference voltage generation circuit, the first reference voltage corresponding to the virtual power supply voltage when the power supply energization operation of the power supply cutoff circuit is functioning normally and the power supply cutoff operation of the power supply cutoff circuit are normal. A second reference voltage corresponding to the virtual power supply voltage when functioning is generated. Then, the virtual power supply voltage at that time and the first reference voltage are compared at the time of the test in the power supply energizing operation, and the virtual power supply voltage at that time and the second reference voltage are compared at the time of the test in the power-off operation. As a result, it is possible to reliably test whether the operations of both the power supply energization operation and the power supply interruption operation of the power supply cutoff circuit function normally.

請求項4に記載の発明は、前記基準電圧生成回路は、直列に接続された可変抵抗によって、高電位電源と低電位電源との電位差を分圧した分圧電圧を、前記第1基準電圧あるいは前記第2基準電圧として生成する分圧回路を含み、前記分圧回路は、前記電源遮断制御信号に応じて前記可変抵抗の抵抗値を変更することで、前記分圧電圧として前記第1基準電圧及び前記第2基準電圧を切り替えて生成する。   According to a fourth aspect of the present invention, the reference voltage generation circuit generates a divided voltage obtained by dividing a potential difference between a high potential power source and a low potential power source by using a variable resistor connected in series. A voltage dividing circuit that generates the second reference voltage, and the voltage dividing circuit changes the resistance value of the variable resistor in accordance with the power-off control signal, whereby the first reference voltage is used as the divided voltage. And generating the second reference voltage by switching.

この構成によれば、可変抵抗の抵抗値を変更するという簡便な構成により、電源遮断回路の電源通電動作及び電源遮断動作についての試験時に使用する第1基準電圧及び第2基準電圧の双方を生成することができる。また、これら可変抵抗の抵抗値が、電源遮断回路の動作を制御する電源遮断制御信号によって変更される。このように元々存在する電源遮断制御信号を、第1及び第2基準電圧の生成を切り替えるための制御信号として共用したため、制御信号数の増大を好適に抑制することができる。なお、分圧回路に供給される高電位電源(電圧)及び低電位電源(電圧)は、内部回路に供給される高電位電源電圧及び低電位電源電圧と同一のものであっても、異なるものであってもよい。   According to this configuration, both the first reference voltage and the second reference voltage used in the test for the power supply energization operation and the power supply cutoff operation of the power cutoff circuit are generated by a simple configuration of changing the resistance value of the variable resistor. can do. Further, the resistance values of these variable resistors are changed by a power cutoff control signal that controls the operation of the power cutoff circuit. Thus, since the power cutoff control signal that originally exists is shared as a control signal for switching generation of the first and second reference voltages, an increase in the number of control signals can be suitably suppressed. Note that the high potential power supply (voltage) and low potential power supply (voltage) supplied to the voltage dividing circuit are the same as the high potential power supply voltage and low potential power supply voltage supplied to the internal circuit, but are different. It may be.

請求項5に記載の発明は、前記動作判定回路は、前記仮想電源電圧を、前記比較回路の感度に応じた比較電圧に変換する電圧シフト回路を含み、前記比較回路は、前記基準電圧生成回路からの前記第1基準電圧あるいは前記第2基準電圧と、前記電圧シフト回路からの前記比較電圧とを比較し、前記判定信号を生成する。   According to a fifth aspect of the present invention, the operation determination circuit includes a voltage shift circuit that converts the virtual power supply voltage into a comparison voltage corresponding to a sensitivity of the comparison circuit, and the comparison circuit includes the reference voltage generation circuit. The first reference voltage or the second reference voltage from the reference voltage is compared with the comparison voltage from the voltage shift circuit, and the determination signal is generated.

この構成によれば、電圧シフト回路において、仮想電源電圧が比較回路の感度に応じた比較電圧に変換される。これにより、比較回路における比較電圧と基準電圧との比較動作をより確実に行うことができる。   According to this configuration, in the voltage shift circuit, the virtual power supply voltage is converted into a comparison voltage corresponding to the sensitivity of the comparison circuit. Thereby, the comparison operation of the comparison voltage and the reference voltage in the comparison circuit can be performed more reliably.

請求項6に記載の発明は、前記電源遮断回路は、前記内部回路に供給される第1電源電圧及び第2電源電圧のうち前記第1電源電圧の前記内部回路への供給・遮断を制御する回路であって、前記電圧シフト回路は、直列に接続された可変抵抗によって、前記仮想電源電圧と前記第2電源電圧との電位差を分圧した分圧電圧を前記比較電圧として生成する分圧回路を含み、前記動作判定回路は、前記電源遮断回路の前記電源遮断動作の開始に応じて試験制御信号を生成する制御回路を含み、前記分圧回路は、前記電源遮断制御信号に応じて前記可変抵抗を前記比較電圧を生成するための抵抗値に設定するとともに、前記制御回路からの試験制御信号に応じて前記可変抵抗の抵抗値を前記内部回路内の抵抗成分の抵抗値よりも低く設定する。   According to a sixth aspect of the present invention, the power cutoff circuit controls supply / cutoff of the first power supply voltage to the internal circuit among the first power supply voltage and the second power supply voltage supplied to the internal circuit. The voltage shift circuit generates a divided voltage obtained by dividing a potential difference between the virtual power supply voltage and the second power supply voltage as a comparison voltage by a variable resistor connected in series. The operation determination circuit includes a control circuit that generates a test control signal in response to the start of the power shutdown operation of the power shutdown circuit, and the voltage divider circuit is configured to change the variable in response to the power shutdown control signal. The resistance is set to a resistance value for generating the comparison voltage, and the resistance value of the variable resistance is set lower than the resistance value of the resistance component in the internal circuit according to a test control signal from the control circuit. .

この構成によれば、電源遮断回路を電源遮断動作させるための電源遮断制御信号に基づいて制御回路が出力する試験制御信号に応じて、電圧シフト回路内の分圧回路の可変抵抗の抵抗値が内部回路内の抵抗成分の抵抗値よりも低く設定される。これにより、内部回路と電源遮断回路との間の接続点の仮想電源から第2電源への低抵抗による放電経路を形成することができる。すなわち、可変抵抗を低抵抗に設定することにより、電源遮断動作の開始時に上記分圧回路を放電回路として機能させることができる。その結果、内部回路内の容量成分に充電された電荷を、放電回路として機能する分圧回路を介して速やかに放電させることができる。従って、電源遮断動作に移行後、速やかに動作試験を実施することができ、試験時間を短縮することができる。   According to this configuration, the resistance value of the variable resistor of the voltage dividing circuit in the voltage shift circuit is set according to the test control signal output from the control circuit based on the power cutoff control signal for causing the power cutoff circuit to perform the power cutoff operation. It is set lower than the resistance value of the resistance component in the internal circuit. Thereby, the discharge path by the low resistance from the virtual power source to the second power source at the connection point between the internal circuit and the power cutoff circuit can be formed. That is, by setting the variable resistance to a low resistance, the voltage dividing circuit can function as a discharge circuit at the start of the power shutoff operation. As a result, the charge charged in the capacitance component in the internal circuit can be quickly discharged via the voltage dividing circuit that functions as a discharge circuit. Therefore, after shifting to the power shut-off operation, an operation test can be performed promptly and the test time can be shortened.

以上説明したように、本発明によれば、配線領域の増大を抑制しつつも、電源遮断回路が正常に機能しているかを試験することのできる半導体集積回路装置及び半導体集積回路装置の試験方法を提供することができる。   As described above, according to the present invention, a semiconductor integrated circuit device and a test method for a semiconductor integrated circuit device that can test whether the power cutoff circuit functions normally while suppressing an increase in the wiring area. Can be provided.

(第1実施形態)
以下、本発明を具体化した一実施形態を図1〜図6に従って説明する。
図1に示すように、半導体集積回路装置は、高電位電源電圧VDD及び低電位電源電圧VSSが供給される内部回路10を備えている。内部回路10は、例えばロジック回路、メモリ回路又はロジック回路とメモリ回路とが組み合わされた回路等により構成され、所定の機能を発揮する回路である。この内部回路10の高電位側電源端子と高電位電源VDDとの間には、電源遮断回路20が挿入接続されている。
(First embodiment)
Hereinafter, an embodiment embodying the present invention will be described with reference to FIGS.
As shown in FIG. 1, the semiconductor integrated circuit device includes an internal circuit 10 to which a high potential power supply voltage VDD and a low potential power supply voltage VSS are supplied. The internal circuit 10 is configured by, for example, a logic circuit, a memory circuit, or a circuit in which a logic circuit and a memory circuit are combined, and is a circuit that exhibits a predetermined function. A power cutoff circuit 20 is inserted and connected between the high potential side power supply terminal of the internal circuit 10 and the high potential power supply VDD.

電源遮断回路20は、例えばPチャネルMOSトランジスタ等により構成される。電源遮断回路20は、外部から入力される電源遮断制御信号MSに応じて、内部回路10への高電位電源電圧VDDの供給・遮断を制御する。詳述すると、電源遮断回路20は、例えば論理ローレベル(Lレベル)の電源遮断制御信号MSに応じて高電位電源電圧VDDを内部回路10に供給する(電源通電動作)。また、電源遮断回路20は、例えば論理ハイレベル(Hレベル)の電源遮断制御信号MSに応じて内部回路10への高電位電源電圧VDDの供給を遮断する(電源遮断動作)。   The power shut-off circuit 20 is configured by, for example, a P channel MOS transistor. The power cutoff circuit 20 controls the supply / cutoff of the high potential power supply voltage VDD to the internal circuit 10 in accordance with a power cutoff control signal MS input from the outside. More specifically, the power cutoff circuit 20 supplies the high potential power supply voltage VDD to the internal circuit 10 in accordance with, for example, a logic low level (L level) power cutoff control signal MS (power supply energization operation). The power shutoff circuit 20 shuts off the supply of the high potential power supply voltage VDD to the internal circuit 10 in response to, for example, a logic high level (H level) power shutoff control signal MS (power shutoff operation).

ここで、この電源遮断回路20が正常に機能しない場合には、内部回路10に対して高電位電源電圧VDDを所望のタイミングで供給・遮断することができないため、消費電力を低減できないだけではなく、内部回路10が所定の機能を発揮できなくなってしまうことは前述した。   Here, when the power supply cutoff circuit 20 does not function normally, the high potential power supply voltage VDD cannot be supplied to or cut off from the internal circuit 10 at a desired timing. As described above, the internal circuit 10 cannot perform a predetermined function.

そこで、本実施形態では、電源遮断回路20の電源通電動作及び電源遮断動作が正常に機能しているか否かを試験するために、半導体チップ上に動作判定回路30を設けるようにした。すなわち、動作判定回路30は、テストモード時において、電源遮断回路20の電源通電動作が正常に機能しているかを判定するための電源通電試験と、電源遮断回路20の電源遮断動作が正常に機能しているかを判定するための電源遮断試験とを行うための回路である。この動作判定回路30は、電圧シフト回路40と、基準電圧生成回路50と、電圧比較回路60と、試験用制御回路70とを備える。   Therefore, in the present embodiment, the operation determination circuit 30 is provided on the semiconductor chip in order to test whether the power supply energization operation and the power supply interruption operation of the power supply interruption circuit 20 function normally. In other words, the operation determination circuit 30 functions normally in the power supply test for determining whether the power supply interruption operation of the power supply cutoff circuit 20 is functioning normally and the power supply cutoff operation of the power supply cutoff circuit 20 in the test mode. It is a circuit for performing a power-off test for determining whether or not. The operation determination circuit 30 includes a voltage shift circuit 40, a reference voltage generation circuit 50, a voltage comparison circuit 60, and a test control circuit 70.

電圧シフト回路40は、内部回路10と電源遮断回路20との間のノードA(仮想電源)に接続されている。電圧シフト回路40には、外部から電源遮断制御信号MSが入力されるとともに、試験用制御回路70から試験制御信号TS及びテストモード信号TMが入力される。この電圧シフト回路40は、テストモード時に入力される所定論理レベル(例えば、Hレベル)のテストモード信号TMに応じて活性化される。そして、活性化された電圧シフト回路40は、電源遮断制御信号MSに基づいて、ノードAの電圧(仮想電源電圧)VD1を電圧比較回路60の感度に応じた比較電圧Vnに変換する。また、電圧シフト回路40は、試験制御信号TSに応じて放電回路としても機能するようになっている。   The voltage shift circuit 40 is connected to a node A (virtual power supply) between the internal circuit 10 and the power cutoff circuit 20. The voltage shift circuit 40 is supplied with the power cutoff control signal MS from the outside and the test control signal TS and the test mode signal TM from the test control circuit 70. The voltage shift circuit 40 is activated in response to a test mode signal TM having a predetermined logic level (for example, H level) input in the test mode. Then, the activated voltage shift circuit 40 converts the voltage (virtual power supply voltage) VD1 of the node A into a comparison voltage Vn corresponding to the sensitivity of the voltage comparison circuit 60 based on the power cutoff control signal MS. The voltage shift circuit 40 also functions as a discharge circuit according to the test control signal TS.

基準電圧生成回路50には、外部から電源遮断制御信号MSが入力されるとともに、試験用制御回路70からテストモード信号TMが入力される。この基準電圧生成回路50は、テストモード時に入力されるHレベルのテストモード信号TMに応じて活性化される。そして、活性化された基準電圧生成回路50は、電源遮断制御信号MSに応じて高電位基準電圧VRH及び低電位基準電圧VRLを切り替えて生成する。詳述すると、基準電圧生成回路50は、Lレベルの電源遮断制御信号MSに応じて高電位基準電圧VRH(第1基準電圧)を生成するとともに、Hレベルの電源遮断制御信号MSに応じて低電位基準電圧VRL(第2基準電圧)を生成する。ここで、高電位基準電圧VRHは、Lレベルの電源遮断制御信号MSに応じて電源遮断回路20が正常に電源通電動作したときに、電圧シフト回路40にて生成される比較電圧Vnよりも低い電圧値に設定されている。また、低電位基準電圧VRLは、Hレベルの電源遮断制御信号MSに応じて電源遮断回路20が正常に電源遮断動作したときに、電圧シフト回路40にて生成される比較電圧Vnよりも高い電圧値に設定されている。   The reference voltage generation circuit 50 is supplied with a power cutoff control signal MS from the outside and a test mode signal TM from the test control circuit 70. The reference voltage generation circuit 50 is activated in response to an H level test mode signal TM input in the test mode. Then, the activated reference voltage generation circuit 50 generates a high potential reference voltage VRH and a low potential reference voltage VRL by switching according to the power cutoff control signal MS. More specifically, the reference voltage generation circuit 50 generates a high potential reference voltage VRH (first reference voltage) according to the L level power cutoff control signal MS, and decreases according to the H level power cutoff control signal MS. A potential reference voltage VRL (second reference voltage) is generated. Here, the high-potential reference voltage VRH is lower than the comparison voltage Vn generated by the voltage shift circuit 40 when the power shut-off circuit 20 is normally energized according to the L-level power shut-off control signal MS. The voltage is set. The low potential reference voltage VRL is a voltage higher than the comparison voltage Vn generated by the voltage shift circuit 40 when the power shutdown circuit 20 normally performs a power shutdown operation in response to the H level power shutdown control signal MS. Is set to a value.

電圧比較回路60は、電圧シフト回路40からの比較電圧Vnと、基準電圧生成回路50からの基準電圧VR(高電位基準電圧VRHあるいは低電位基準電圧VRL)とを比較し、その比較結果に応じてHレベルまたはLレベルの判定信号JSを生成する。電圧比較回路60は、生成した判定信号JSを、信号配線WS及び入出力回路(図示略)を介して出力パッド75に出力する。   The voltage comparison circuit 60 compares the comparison voltage Vn from the voltage shift circuit 40 with the reference voltage VR (high potential reference voltage VRH or low potential reference voltage VRL) from the reference voltage generation circuit 50, and according to the comparison result. Thus, the determination signal JS of H level or L level is generated. The voltage comparison circuit 60 outputs the generated determination signal JS to the output pad 75 via the signal wiring WS and an input / output circuit (not shown).

試験用制御回路70は、上記テストモード信号TMを電圧シフト回路40及び基準電圧生成回路50に出力する。試験用制御回路70は、外部から入力されるHレベルの電源遮断制御信号MSに応じて、上記試験制御信号TSを生成し、その試験制御信号TSを電圧シフト回路40に出力する。   The test control circuit 70 outputs the test mode signal TM to the voltage shift circuit 40 and the reference voltage generation circuit 50. The test control circuit 70 generates the test control signal TS in response to an H level power cutoff control signal MS input from the outside, and outputs the test control signal TS to the voltage shift circuit 40.

次に、動作判定回路30を構成する各回路40,50の内部構成について図2に従って説明する。
図2に示すように、電圧シフト回路40は、第1分圧回路41と第1スイッチSW1とを備えている。第1分圧回路41は、ノードAと低電位電源VSSとの間に直列接続された複数(本実施形態では2つ)の第1及び第2可変抵抗VR1,VR2から構成されている。これら第1可変抵抗VR1と第2可変抵抗VR2との間のノードBは、電圧比較回路60の非反転入力端子に接続されている。従って、第1分圧回路41は、第1可変抵抗VR1と第2可変抵抗VR2との抵抗値比に応じて、仮想電源電圧VD1と低電位電源電圧VSSとの電位差を分圧した比較電圧Vn(分圧電圧)を生成して電圧比較回路60に出力する。
Next, the internal configuration of each circuit 40, 50 constituting the operation determination circuit 30 will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 2, the voltage shift circuit 40 includes a first voltage dividing circuit 41 and a first switch SW1. The first voltage dividing circuit 41 includes a plurality (two in the present embodiment) of first and second variable resistors VR1 and VR2 connected in series between the node A and the low potential power supply VSS. A node B between the first variable resistor VR1 and the second variable resistor VR2 is connected to a non-inverting input terminal of the voltage comparison circuit 60. Accordingly, the first voltage dividing circuit 41 divides the potential difference between the virtual power supply voltage VD1 and the low potential power supply voltage VSS in accordance with the resistance value ratio between the first variable resistor VR1 and the second variable resistor VR2. (Divided voltage) is generated and output to the voltage comparison circuit 60.

ここで、第1及び第2可変抵抗VR1,VR2の抵抗値は、上記電源遮断制御信号MS及び上記試験制御信号TSに基づいてそれぞれ設定される。これら第1及び第2可変抵抗VR1,VR2は、例えば図3に示すように、並列に接続され、互いに異なる抵抗値を持つ複数の抵抗R1〜Rnと、それら各抵抗R1〜Rnに直列に接続されたスイッチS1〜Snとから構成される。このような第1及び第2可変抵抗VR1,VR2は、電源遮断制御信号MSに基づいてスイッチS1〜Snのうちの所望のスイッチがオンされることによって、所望の抵抗値、すなわち仮想電源電圧VD1を比較電圧Vnに変換させるための抵抗値に設定される。   Here, the resistance values of the first and second variable resistors VR1 and VR2 are set based on the power cutoff control signal MS and the test control signal TS, respectively. These first and second variable resistors VR1 and VR2 are connected in parallel, for example, as shown in FIG. 3, and are connected in series to a plurality of resistors R1 to Rn having different resistance values. The switches S1 to Sn are configured. The first and second variable resistors VR1 and VR2 have a desired resistance value, that is, a virtual power supply voltage VD1 when a desired switch among the switches S1 to Sn is turned on based on the power cutoff control signal MS. Is set to a resistance value for converting to a comparison voltage Vn.

一方、これら第1及び第2可変抵抗VR1,VR2は、試験制御信号TSに基づいてスイッチS1〜Snのうちの所望のスイッチがオンされることによって、電圧シフト回路40が放電回路として動作するための抵抗値に設定される。ここで、第1及び第2可変抵抗VR1,VR2を、このような抵抗値に設定する理由について以下に説明する。   On the other hand, these first and second variable resistors VR1 and VR2 operate because the voltage shift circuit 40 operates as a discharge circuit when a desired switch among the switches S1 to Sn is turned on based on the test control signal TS. Is set to the resistance value. Here, the reason why the first and second variable resistors VR1 and VR2 are set to such resistance values will be described below.

まず、内部回路10をモデル化すると、図4に示すように、抵抗成分Rmと容量成分Cmとによって表現される。このような内部回路10に高電位電源電圧VDDが供給されている間には、内部回路10の容量成分Cmに電荷が充電される。そのため、内部回路10に高電位電源電圧VDDが供給されている状態から電源遮断状態に切り替わっても、容量成分Cmに充電された電荷が完全に放電されるまでは、ノードAの電圧(仮想電源電圧)VD1を正確に測定することができない。従って、電源遮断回路20の電源遮断動作が正常に機能しているかを正確に判定することができない。このため、電源遮断動作についての電源遮断試験を行うためには、上記容量成分Cmに充電された電荷を完全に放電する必要がある。しかしながら、通常、この放電には数ms〜数sという多大な時間がかかってしまうため、試験時間の増大につながり、ひいてはコストの増大につながるという問題がある。   First, when the internal circuit 10 is modeled, it is expressed by a resistance component Rm and a capacitance component Cm as shown in FIG. While the high-potential power supply voltage VDD is supplied to such an internal circuit 10, charges are charged in the capacitance component Cm of the internal circuit 10. For this reason, even when the internal circuit 10 is switched from the state in which the high potential power supply voltage VDD is supplied to the power cutoff state, the voltage of the node A (virtual power supply) is not charged until the charge charged in the capacitance component Cm is completely discharged. Voltage) VD1 cannot be measured accurately. Therefore, it cannot be accurately determined whether the power shutoff operation of the power shutoff circuit 20 is functioning normally. For this reason, in order to perform a power-off test for the power-off operation, it is necessary to completely discharge the electric charge charged in the capacitive component Cm. However, since this discharge usually takes a long time of several ms to several s, there is a problem that the test time is increased and, consequently, the cost is increased.

そこで、本実施形態では、電源遮断状態に切り替わったときに上記試験制御信号TSを生成し、その試験制御信号TSに基づいて上記電圧シフト回路40を放電回路として動作させるように第1及び第2可変抵抗VR1,VR2の抵抗値を設定するようにした。すなわち、電源遮断状態に切り替わったときに、第1及び第2可変抵抗VR1,VR2の抵抗値を、内部回路10内の抵抗成分Rmの抵抗値よりも十分低く設定することで、ノードAから低電位電源VSSへの低抵抗による放電経路を形成するようにした。これにより、上記容量成分Cmに充電された電荷を、第1及び第2可変抵抗VR1,VR2を介して低電位電源VSSに迅速に放電させることができる。   Therefore, in the present embodiment, the first and second test control signals TS are generated when the power supply is switched off, and the voltage shift circuit 40 is operated as a discharge circuit based on the test control signal TS. The resistance values of the variable resistors VR1 and VR2 are set. That is, when switching to the power shut-off state, the resistance values of the first and second variable resistors VR1 and VR2 are set to be sufficiently lower than the resistance value of the resistance component Rm in the internal circuit 10, thereby reducing the resistance from the node A. A discharge path with a low resistance to the potential power supply VSS is formed. Thereby, the electric charge charged in the capacitance component Cm can be quickly discharged to the low potential power supply VSS via the first and second variable resistors VR1 and VR2.

また、図2に示すように、第2可変抵抗VR2と低電位電源VSSとの間には、第1スイッチSW1が挿入接続されている。この第1スイッチSW1は、上記試験用制御回路70から入力されるテストモード信号TMによりオンオフされる。このオンオフされた第1スイッチSW1により第2可変抵抗VR2(第1分圧回路41)と低電位電源VSSとの間が接離される。すなわち、テストモード時に入力されるHレベルのテストモード信号TMに応じて第1スイッチSW1がオンされ、第1分圧回路41と低電位電源VSSとが接続される。また、テストモード時以外に入力されるLレベルのテストモード信号TMに応じて第1スイッチSW1がオフされ、第1分圧回路41と低電位電源VSSとが切り離される。従って、テストモード時以外において、電圧シフト回路40におけるリーク電流の発生を抑制することができる。   Further, as shown in FIG. 2, a first switch SW1 is inserted and connected between the second variable resistor VR2 and the low potential power supply VSS. The first switch SW1 is turned on / off by a test mode signal TM input from the test control circuit 70. The first switch SW1 that is turned on / off connects and disconnects the second variable resistor VR2 (first voltage dividing circuit 41) and the low potential power source VSS. That is, the first switch SW1 is turned on in response to the H-level test mode signal TM input in the test mode, and the first voltage dividing circuit 41 and the low potential power supply VSS are connected. Further, the first switch SW1 is turned off in response to the L-level test mode signal TM that is input at times other than the test mode, and the first voltage dividing circuit 41 and the low potential power supply VSS are disconnected. Therefore, it is possible to suppress the occurrence of leakage current in the voltage shift circuit 40 except during the test mode.

基準電圧生成回路50は、第2分圧回路51と第2スイッチSW2とを備えている。第2分圧回路51は、高電位電源VDDと低電位電源VSSとの間に直列接続された複数(本実施形態では2つ)の第3及び第4可変抵抗VR3,VR4から構成されている。これら第3可変抵抗VR3と第4可変抵抗VR4との間のノードCは、電圧比較回路60の反転入力端子に接続されている。従って、第2分圧回路51は、第3可変抵抗VR3と第4可変抵抗VR4との抵抗値比に応じて、高電位電源電圧VDDと低電位電源電圧VSSとの電位差を分圧した基準電圧VR(分圧電圧)を生成して電圧比較回路60に出力する。   The reference voltage generation circuit 50 includes a second voltage dividing circuit 51 and a second switch SW2. The second voltage dividing circuit 51 includes a plurality (two in the present embodiment) of third and fourth variable resistors VR3 and VR4 connected in series between the high potential power supply VDD and the low potential power supply VSS. . A node C between the third variable resistor VR3 and the fourth variable resistor VR4 is connected to the inverting input terminal of the voltage comparison circuit 60. Therefore, the second voltage dividing circuit 51 divides the potential difference between the high potential power supply voltage VDD and the low potential power supply voltage VSS according to the resistance value ratio between the third variable resistor VR3 and the fourth variable resistor VR4. A VR (divided voltage) is generated and output to the voltage comparison circuit 60.

ここで、第3及び第4可変抵抗VR3,VR4の抵抗値は、上記電源遮断制御信号MSに基づいて設定される。詳述すると、第3及び第4可変抵抗VR3,VR4は、Lレベルの電源遮断制御信号MSに応じて、基準電圧VRとして高電位基準電圧VRHを生成するための抵抗値に設定される。また、第3及び第4可変抵抗VR3,VR4は、Hレベルの電源遮断制御信号MSに応じて、基準電圧VRとして低電位基準電圧VRLを生成するための抵抗値に設定される。なお、これら第3及び第4可変抵抗VR3,VR4は、上記第1及び第2可変抵抗VR1,VR2と略同様に構成される。但し、試験用制御回路70からの試験制御信号TSが入力されない点については異なる。   Here, the resistance values of the third and fourth variable resistors VR3 and VR4 are set based on the power cutoff control signal MS. More specifically, the third and fourth variable resistors VR3 and VR4 are set to resistance values for generating the high-potential reference voltage VRH as the reference voltage VR according to the L-level power cutoff control signal MS. Further, the third and fourth variable resistors VR3 and VR4 are set to resistance values for generating the low potential reference voltage VRL as the reference voltage VR in accordance with the H level power cutoff control signal MS. The third and fourth variable resistors VR3 and VR4 are configured in substantially the same manner as the first and second variable resistors VR1 and VR2. However, the difference is that the test control signal TS from the test control circuit 70 is not input.

また、第4可変抵抗VR4と低電位電源VSSとの間には、第2スイッチSW2が挿入接続されている。この第2スイッチSW2は、第1スイッチSW1と同様に、試験用制御回路70から入力されるテストモード信号TMによりオンオフされ、第4可変抵抗VR4(第2分圧回路51)と低電位電源VSSとの間を接離する。   A second switch SW2 is inserted and connected between the fourth variable resistor VR4 and the low potential power supply VSS. Similar to the first switch SW1, the second switch SW2 is turned on / off by the test mode signal TM input from the test control circuit 70, and the fourth variable resistor VR4 (second voltage dividing circuit 51) and the low-potential power supply VSS. To and from.

電圧比較回路60は、その非反転入力端子に比較電圧Vnが入力され、反転入力端子に基準電圧VRが入力される。電圧比較回路60は、比較電圧Vnが基準電圧VRよりも高いときにHレベルの判定信号JSを出力し、比較電圧Vnが基準電圧VRよりも低いときにLレベルの判定信号JSを出力する。従って、電源遮断回路20の電源通電動作についての電源通電試験では、比較電圧Vnが高電位基準電圧VRHよりも高く、Hレベルの判定信号JSが出力されたときにその機能が正常であると判定される。一方、電源遮断回路20の電源遮断動作についての電源遮断試験では、比較電圧Vnが低電位基準電圧VRLよりも低く、Lレベルの判定信号JSが出力されたときにその機能が正常であると判定される。   In the voltage comparison circuit 60, the comparison voltage Vn is input to the non-inverting input terminal, and the reference voltage VR is input to the inverting input terminal. The voltage comparison circuit 60 outputs an H level determination signal JS when the comparison voltage Vn is higher than the reference voltage VR, and outputs an L level determination signal JS when the comparison voltage Vn is lower than the reference voltage VR. Therefore, in the power supply energization test for the power supply energization operation of the power cut-off circuit 20, it is determined that the function is normal when the comparison voltage Vn is higher than the high potential reference voltage VRH and the H level determination signal JS is output. Is done. On the other hand, in the power-off test for the power-off operation of the power-off circuit 20, it is determined that the function is normal when the comparison voltage Vn is lower than the low potential reference voltage VRL and the L-level determination signal JS is output. Is done.

次に、このように構成された動作判定回路30のテストモード時における電源通電試験及び電源遮断試験について図5及び図6に従って説明する。
はじめに、電源遮断回路20の電源通電動作が正常に機能しているかを判定するための電源通電試験について図5に従って説明する。
Next, a power supply energization test and a power cut-off test in the test mode of the operation determination circuit 30 configured as described above will be described with reference to FIGS.
First, a power supply energization test for determining whether the power supply energization operation of the power cut-off circuit 20 is functioning normally will be described with reference to FIG.

まず、テストモードを示すHレベルのテストモード信号TMが第1及び第2スイッチSW1,SW2に入力され、それらスイッチSW1,SW2がオンされる。すなわち、電圧シフト回路40及び基準電圧生成回路50が活性化される(ステップS1)。次に、電源遮断回路20等にLレベルの電源遮断制御信号MSが入力される(ステップS2)。   First, an H-level test mode signal TM indicating the test mode is input to the first and second switches SW1 and SW2, and the switches SW1 and SW2 are turned on. That is, the voltage shift circuit 40 and the reference voltage generation circuit 50 are activated (step S1). Next, the L level power cutoff control signal MS is input to the power cutoff circuit 20 or the like (step S2).

続いて、上記Lレベルの電源遮断制御信号MSに基づいて、第1〜第4可変抵抗VR1〜VR4の抵抗値が設定される(ステップS3)。詳述すると、第1及び第2可変抵抗VR1,VR2については、仮想電源電圧VD1を比較電圧Vnに変換させるための抵抗値であって、且つ第2可変抵抗VR2の抵抗値が図4に示す内部回路10の抵抗成分Rmの抵抗値よりも十分に大きくなるように設定される。また、第3及び第4可変抵抗VR3,VR4は、基準電圧VRとして高電位基準電圧VRHを生成するための抵抗値に設定される。   Subsequently, the resistance values of the first to fourth variable resistors VR1 to VR4 are set based on the L-level power cutoff control signal MS (step S3). Specifically, the first and second variable resistors VR1 and VR2 have resistance values for converting the virtual power supply voltage VD1 into the comparison voltage Vn, and the resistance values of the second variable resistor VR2 are shown in FIG. It is set to be sufficiently larger than the resistance value of the resistance component Rm of the internal circuit 10. The third and fourth variable resistors VR3 and VR4 are set to resistance values for generating the high potential reference voltage VRH as the reference voltage VR.

第1〜第4可変抵抗VR1〜VR4の抵抗値が設定されると、電圧比較回路60は、電圧シフト回路40から入力される比較電圧Vnと、基準電圧生成回路50から入力される高電位基準電圧VRHとを比較し、その比較結果に応じた判定信号JSを生成する。そして、この電圧比較回路60から出力される判定信号JSを出力パッド75を介して検出し、その判定信号JSの論理レベルに応じて、電源遮断回路20の電源通電動作が正常に機能しているか否かが判定される(ステップS4)。すなわち、電源遮断回路20の電源通電動作が正常に機能している場合には、電圧シフト回路40にて生成される比較電圧Vnが高電位基準電圧VRHよりも高くなる。従って、比較電圧Vnが高電位基準電圧VRHよりも高いときに電圧比較回路60から出力されるHレベルの判定信号JSが検出されると、電源遮断回路20の電源通電動作が正常に機能していると判定される。反対に、Lレベルの判定信号JSが検出された場合には、電源遮断回路20の電源通電動作が異常であると判定される。   When the resistance values of the first to fourth variable resistors VR <b> 1 to VR <b> 4 are set, the voltage comparison circuit 60 includes the comparison voltage Vn input from the voltage shift circuit 40 and the high potential reference input from the reference voltage generation circuit 50. The voltage VRH is compared, and a determination signal JS corresponding to the comparison result is generated. Then, the determination signal JS output from the voltage comparison circuit 60 is detected via the output pad 75, and whether the power supply energization operation of the power cut-off circuit 20 functions normally according to the logic level of the determination signal JS. It is determined whether or not (step S4). That is, when the power supply energization operation of the power supply cutoff circuit 20 is functioning normally, the comparison voltage Vn generated by the voltage shift circuit 40 becomes higher than the high potential reference voltage VRH. Accordingly, when the H level determination signal JS output from the voltage comparison circuit 60 is detected when the comparison voltage Vn is higher than the high potential reference voltage VRH, the power supply operation of the power supply cutoff circuit 20 functions normally. It is determined that On the other hand, when the L level determination signal JS is detected, it is determined that the power supply energization operation of the power cut-off circuit 20 is abnormal.

次に、電源遮断回路20の電源遮断動作が正常に機能しているかを判定するための電源遮断試験について図6に従って説明する。
まず、テストモードを示すHレベルのテストモード信号TMが第1及び第2スイッチSW1,SW2に入力され、それらスイッチSW1,SW2がオンされる。すなわち、電圧シフト回路40及び基準電圧生成回路50が活性化される(ステップS11)。次に、電源遮断回路20等にHレベルの電源遮断制御信号MSが入力される(ステップS12)。
Next, a power shutdown test for determining whether the power shutdown operation of the power shutdown circuit 20 is functioning normally will be described with reference to FIG.
First, an H-level test mode signal TM indicating the test mode is input to the first and second switches SW1 and SW2, and the switches SW1 and SW2 are turned on. That is, the voltage shift circuit 40 and the reference voltage generation circuit 50 are activated (step S11). Next, the H level power cutoff control signal MS is input to the power cutoff circuit 20 or the like (step S12).

続いて、上記Hレベルの電源遮断制御信号MSが出力された直後に、試験用制御回路70から試験制御信号TSが出力される。この試験制御信号TSに基づいて、第1及び第2可変抵抗VR1,VR2の抵抗値が、図4に示す内部回路10の抵抗成分Rmの抵抗値よりも十分低く(VR1<<Rm、VR2<<Rm)なるように設定される(ステップS13)。これにより、ノードAから低電位電源VSSへの低抵抗による放電経路が形成されるため、電源遮断回路20により高電位電源VDDが正常に遮断された場合には、内部回路10の容量成分に蓄積された電荷がそれら可変抵抗VR1,VR2を介して速やかに低電位電源VSSに放電される。   Subsequently, immediately after the H-level power cutoff control signal MS is output, the test control signal TS is output from the test control circuit 70. Based on the test control signal TS, the resistance values of the first and second variable resistors VR1 and VR2 are sufficiently lower than the resistance value of the resistance component Rm of the internal circuit 10 shown in FIG. 4 (VR1 << Rm, VR2 < <Rm) is set (step S13). As a result, a discharge path with a low resistance is formed from the node A to the low potential power supply VSS. Therefore, when the high potential power supply VDD is normally shut off by the power shutoff circuit 20, it accumulates in the capacitance component of the internal circuit 10. The charged charges are quickly discharged to the low potential power supply VSS via the variable resistors VR1 and VR2.

次に、上記Hレベルの電源遮断制御信号MSに基づいて、第1〜第4可変抵抗VR1〜VR4の抵抗値が設定される(ステップS14)。詳述すると、第1及び第2可変抵抗VR1,VR2については、仮想電源電圧VD1を比較電圧Vnに変換させるための抵抗値であって、且つ第2可変抵抗VR2の抵抗値が図4に示す内部回路10の抵抗成分Rmの抵抗値よりも十分に大きくなるように設定される。また、第3及び第4可変抵抗VR3,VR4は、低電位基準電圧VRLを生成するための抵抗値に設定される。   Next, the resistance values of the first to fourth variable resistors VR1 to VR4 are set based on the H-level power cutoff control signal MS (step S14). Specifically, the first and second variable resistors VR1 and VR2 have resistance values for converting the virtual power supply voltage VD1 into the comparison voltage Vn, and the resistance values of the second variable resistor VR2 are shown in FIG. It is set to be sufficiently larger than the resistance value of the resistance component Rm of the internal circuit 10. The third and fourth variable resistors VR3 and VR4 are set to resistance values for generating the low potential reference voltage VRL.

第1〜第4可変抵抗VR1〜VR4の抵抗値が設定されると、電圧比較回路60は、電圧シフト回路40から入力される比較電圧Vnと、基準電圧生成回路50から入力される低電位基準電圧VRLとを比較し、その比較結果に応じた判定信号JSを生成する。そして、この電圧比較回路60から出力される判定信号JSを出力パッド75を介して検出し、その判定信号JSの論理レベルに応じて、電源遮断回路20の電源遮断動作が正常に機能しているか否かが判定される(ステップS15)。すなわち、電源遮断回路20の電源遮断動作が正常に機能している場合には、電圧シフト回路40にて生成される比較電圧Vnが低電位基準電圧VRLよりも低くなる。従って、比較電圧Vnが低電位基準電圧VRLよりも低いときに電圧比較回路60から出力されるLレベルの判定信号JSが検出されると、電源遮断回路20の電源遮断動作が正常に機能していると判定される。反対に、Hレベルの判定信号JSが検出された場合には、電源遮断回路20の電源遮断動作が異常であると判定される。   When the resistance values of the first to fourth variable resistors VR <b> 1 to VR <b> 4 are set, the voltage comparison circuit 60 includes the comparison voltage Vn input from the voltage shift circuit 40 and the low potential reference input from the reference voltage generation circuit 50. The voltage VRL is compared, and a determination signal JS corresponding to the comparison result is generated. Then, the determination signal JS output from the voltage comparison circuit 60 is detected via the output pad 75, and whether the power cut-off operation of the power cut-off circuit 20 functions normally according to the logic level of the determination signal JS. It is determined whether or not (step S15). That is, when the power cutoff operation of the power cutoff circuit 20 is functioning normally, the comparison voltage Vn generated by the voltage shift circuit 40 is lower than the low potential reference voltage VRL. Therefore, when the L level determination signal JS output from the voltage comparison circuit 60 is detected when the comparison voltage Vn is lower than the low potential reference voltage VRL, the power shutdown operation of the power shutdown circuit 20 functions normally. It is determined that On the other hand, when the determination signal JS at the H level is detected, it is determined that the power cutoff operation of the power cutoff circuit 20 is abnormal.

以上説明した本実施形態によれば、以下の効果を奏することができる。
(1)電源遮断回路20が正常に機能しているかを示す判定信号JSを生成する動作判定回路30を設けるようにした。従って、出力パッド75を介してこの判定信号JSを検出することにより、電源遮断回路20が正常に機能しているかを試験することができる。また、動作判定回路30から出力パッド75に上記判定信号JSを出力するようにした。これにより、動作判定回路30から出力パッド75までの配線を、電源配線WPよりも配線幅の狭い信号配線WSにすることができる。従って、内部回路110と電源遮断回路120との間のノードAから電源パッド130までの配線が電源配線WPにて形成される場合(図13参照)に比べて、配線領域の増大を抑制することができる。
According to this embodiment described above, the following effects can be obtained.
(1) An operation determination circuit 30 that generates a determination signal JS indicating whether the power shutoff circuit 20 is functioning normally is provided. Therefore, by detecting this determination signal JS via the output pad 75, it can be tested whether the power shutoff circuit 20 is functioning normally. Further, the determination signal JS is output from the operation determination circuit 30 to the output pad 75. Thereby, the wiring from the operation determination circuit 30 to the output pad 75 can be a signal wiring WS having a wiring width narrower than that of the power supply wiring WP. Therefore, an increase in the wiring area is suppressed as compared with the case where the wiring from the node A to the power supply pad 130 between the internal circuit 110 and the power supply cutoff circuit 120 is formed by the power supply wiring WP (see FIG. 13). Can do.

さらに、動作判定回路30(電圧比較回路60)の出力端子を入出力回路(図示略)を介して出力パッド75に接続するようにしたため、ノードA(仮想電源)と電源パッド130とが直接接続される場合(図13参照)に比べて、静電気放電(ESD:Electro Static Discharge)に対する耐性を向上させることができる。   Furthermore, since the output terminal of the operation determination circuit 30 (voltage comparison circuit 60) is connected to the output pad 75 via an input / output circuit (not shown), the node A (virtual power supply) and the power supply pad 130 are directly connected. Compared to the case (see FIG. 13), resistance to electrostatic discharge (ESD) can be improved.

(2)電源通電試験では、仮想電源電圧VD1に基づいて生成される比較電圧Vnと高電位基準電圧VRHとを比較し、電源遮断試験では、比較電圧Vnと低電位基準電圧VRLとを比較することにより、判定信号JSを生成するようにした。このように動作状態に応じた基準電圧VRと比較電圧Vnとを比較することによって、電源遮断回路20の電源通電動作と電源遮断動作との双方について、それらの動作が正常に機能しているかを確実に試験することができる。   (2) In the power supply energization test, the comparison voltage Vn generated based on the virtual power supply voltage VD1 is compared with the high potential reference voltage VRH, and in the power interruption test, the comparison voltage Vn is compared with the low potential reference voltage VRL. Thus, the determination signal JS is generated. In this way, by comparing the reference voltage VR according to the operation state and the comparison voltage Vn, it is determined whether or not these operations are functioning normally for both the power supply operation and the power supply operation of the power supply circuit 20. Can be tested reliably.

(3)基準電圧生成回路50は、電源遮断回路20の電源通電動作及び電源遮断動作を切り替え制御する電源遮断制御信号MSに応じて、高電位基準電圧VRH及び低電位基準電圧VRLを切り替えて生成するようにした。このように元々存在する電源遮断制御信号MSを、基準電圧VRの切り替えのための制御信号として共用するようにしたため、制御信号数の増大を抑制することができる。   (3) The reference voltage generation circuit 50 generates the high-potential reference voltage VRH and the low-potential reference voltage VRL by switching according to the power-off control signal MS for switching and controlling the power-on / off operation of the power-off circuit 20. I tried to do it. Thus, since the power cutoff control signal MS that originally exists is shared as a control signal for switching the reference voltage VR, an increase in the number of control signals can be suppressed.

(4)電源遮断試験において、Hレベルの電源遮断制御信号MSに基づいて試験用制御回路70にて生成される試験制御信号TSに応じて、電圧シフト回路40を放電回路として機能させるようにした。これにより、電源遮断回路20の電源遮断動作の開始後に、内部回路10内の容量成分Cmに充電された電荷を、放電回路として機能する電圧シフト回路40(第1及び第2可変抵抗VR1,VR2)を介して速やかに放電させることができる。従って、電源遮断動作に移行後、速やかに電圧比較回路60における比較動作を実施することができ、試験時間を短縮することができる。   (4) In the power-off test, the voltage shift circuit 40 is caused to function as a discharge circuit in accordance with the test control signal TS generated by the test control circuit 70 based on the H-level power-off control signal MS. . As a result, after the start of the power shutoff operation of the power shutoff circuit 20, the voltage shift circuit 40 (first and second variable resistors VR1 and VR2) that functions as a discharge circuit converts the charge charged in the capacitance component Cm in the internal circuit 10 into the voltage shift circuit 40. ) Can be quickly discharged. Therefore, after shifting to the power shut-off operation, the comparison operation in the voltage comparison circuit 60 can be performed quickly, and the test time can be shortened.

(5)電圧シフト回路40及び基準電圧生成回路50に、テストモード時以外にオフされる第1及び第2スイッチSW1,SW2を設けるようにした。これにより、テストモード時以外において、電圧シフト回路40及び基準電圧生成回路50におけるリーク電流の発生を抑制することができる。従って、電圧シフト回路40及び基準電圧生成回路50による無駄な消費電力を低減することができる。   (5) The voltage shift circuit 40 and the reference voltage generation circuit 50 are provided with first and second switches SW1 and SW2 that are turned off except during the test mode. Thereby, it is possible to suppress the occurrence of a leak current in the voltage shift circuit 40 and the reference voltage generation circuit 50 except during the test mode. Therefore, useless power consumption by the voltage shift circuit 40 and the reference voltage generation circuit 50 can be reduced.

(第2実施形態)
以下、本発明を具体化した第2実施形態を図7に従って説明する。先の図1〜図6に示した部材と同一の部材にはそれぞれ同一の符号を付して示し、それら各要素についての詳細な説明は省略する。
(Second Embodiment)
A second embodiment embodying the present invention will be described below with reference to FIG. The same members as those shown in FIGS. 1 to 6 are denoted by the same reference numerals, and detailed description of these elements is omitted.

図7に示すように、半導体集積回路装置は、第1高電位電源電圧VDD1及び低電位電源電圧VSSが供給される第1内部回路10aと、第2高電位電源電圧VDD2及び低電位電源電圧VSSが供給される第2内部回路10bとを備えている。   As shown in FIG. 7, the semiconductor integrated circuit device includes a first internal circuit 10a to which a first high potential power supply voltage VDD1 and a low potential power supply voltage VSS are supplied, a second high potential power supply voltage VDD2, and a low potential power supply voltage VSS. Is supplied to the second internal circuit 10b.

第1内部回路10aの高電位側電源端子と第1高電位電源電圧VDD1との間には、電源遮断回路20aが挿入接続されている。これら第1内部回路10aと電源遮断回路20aとの間のノードA1には、電圧シフト回路40aが接続されている。そして、電圧シフト回路40aには、ノードA1の電圧(第1仮想電源電圧)VD1が入力される。電圧比較回路60aは、電圧シフト回路40aからの比較電圧Vnと、基準電圧生成回路50aからの基準電圧VRとを比較し、その比較結果に応じた第1判定信号JS1を生成する。この電圧比較回路60aは、生成した第1判定信号JS1を選択回路80に出力する。   A power cutoff circuit 20a is inserted and connected between the high potential side power supply terminal of the first internal circuit 10a and the first high potential power supply voltage VDD1. A voltage shift circuit 40a is connected to a node A1 between the first internal circuit 10a and the power cutoff circuit 20a. The voltage (first virtual power supply voltage) VD1 at the node A1 is input to the voltage shift circuit 40a. The voltage comparison circuit 60a compares the comparison voltage Vn from the voltage shift circuit 40a with the reference voltage VR from the reference voltage generation circuit 50a, and generates a first determination signal JS1 according to the comparison result. The voltage comparison circuit 60a outputs the generated first determination signal JS1 to the selection circuit 80.

一方、第2内部回路10bの高電位側電源端子と第2高電位電源電圧VDD2との間には、電源遮断回路20bが挿入接続されている。これら第2内部回路10bと電源遮断回路20bとの間のノードA2には、電圧シフト回路40bが接続されている。そして、電圧シフト回路40bには、ノードA2の電圧(第2仮想電源電圧)VD2が入力される。電圧比較回路60bは、電圧シフト回路40bからの比較電圧Vnと、基準電圧生成回路50bからの基準電圧VRとを比較し、その比較結果に応じた第2判定信号JS2を生成する。この電圧比較回路60bは、生成した第2判定信号JS2を選択回路80に出力する。   On the other hand, a power cutoff circuit 20b is inserted and connected between the high potential side power supply terminal of the second internal circuit 10b and the second high potential power supply voltage VDD2. A voltage shift circuit 40b is connected to the node A2 between the second internal circuit 10b and the power cutoff circuit 20b. The voltage (second virtual power supply voltage) VD2 of the node A2 is input to the voltage shift circuit 40b. The voltage comparison circuit 60b compares the comparison voltage Vn from the voltage shift circuit 40b with the reference voltage VR from the reference voltage generation circuit 50b, and generates a second determination signal JS2 according to the comparison result. The voltage comparison circuit 60b outputs the generated second determination signal JS2 to the selection circuit 80.

試験用制御回路70は、電圧シフト回路40a,40b及び基準電圧生成回路50a,50bにテストモード信号TMを出力するとともに、電圧シフト回路40a,40bに試験制御信号TSを出力する。また、試験用制御回路70は選択信号SSを選択回路80に出力する。   The test control circuit 70 outputs a test mode signal TM to the voltage shift circuits 40a and 40b and the reference voltage generation circuits 50a and 50b, and outputs a test control signal TS to the voltage shift circuits 40a and 40b. Further, the test control circuit 70 outputs a selection signal SS to the selection circuit 80.

選択回路80は、試験用制御回路70からの選択信号SSに応じて、第1判定信号JS1及び第2判定信号JS2のいずれか一方の判定信号を選択する。選択回路80は、その選択した判定信号を、信号配線WS及び入出力回路(図示略)を介して出力パッド75に出力する。すなわち、選択回路80は、電源遮断回路20aに対する電源通電試験及び電源遮断試験を行うときに第1判定信号JS1を選択するとともに、電源遮断回路20bに対する電源通電試験及び電源遮断試験を行うときに第2判定信号JS2を選択する。   The selection circuit 80 selects one of the first determination signal JS1 and the second determination signal JS2 according to the selection signal SS from the test control circuit 70. The selection circuit 80 outputs the selected determination signal to the output pad 75 via the signal wiring WS and an input / output circuit (not shown). That is, the selection circuit 80 selects the first determination signal JS1 when performing a power supply energization test and a power supply shutoff test for the power supply shutoff circuit 20a, and selects the first determination signal JS1 when performing a power supply energization test and a power supply shutoff test for the power shutoff circuit 20b. 2 Select the determination signal JS2.

以上説明した実施形態によれば、第1実施形態の(1)〜(5)の作用効果に加えて以下の効果を奏する。
(6)複数の電圧比較回路60a,60bから入力される第1及び第2判定信号JS1,JS2のうちいずれか一方の判定信号を選択し、選択した判定信号を出力パッド75に出力する選択回路80を設けるようにした。これにより、複数の電源遮断回路20a,20bの動作試験のために設けられる出力パッドを共通化することができるため、出力パッド数の増大を好適に抑制することができる。
According to the embodiment described above, the following effects are obtained in addition to the effects (1) to (5) of the first embodiment.
(6) A selection circuit that selects one of the first and second determination signals JS1 and JS2 input from the plurality of voltage comparison circuits 60a and 60b and outputs the selected determination signal to the output pad 75. 80 was provided. As a result, the output pads provided for the operation test of the plurality of power shutoff circuits 20a and 20b can be shared, so that an increase in the number of output pads can be suitably suppressed.

(7)異なる電源電圧(第1高電位電源電圧VDD1あるいは第2高電位電源電圧VDD2)が供給される内部回路10a,10bごとに動作判定回路を備えるようにした。これにより、各動作判定回路内の電圧シフト回路40a,40b及び基準電圧生成回路50a,50bをそれぞれの電源電圧に応じた回路構成とすることができるため、確実に所望の基準電圧VRを生成することができる。   (7) An operation determination circuit is provided for each of the internal circuits 10a and 10b to which different power supply voltages (first high potential power supply voltage VDD1 or second high potential power supply voltage VDD2) are supplied. As a result, the voltage shift circuits 40a and 40b and the reference voltage generation circuits 50a and 50b in each operation determination circuit can be configured in accordance with the respective power supply voltages, so that the desired reference voltage VR is reliably generated. be able to.

(第3実施形態)
以下、本発明を具体化した第3実施形態を図8及び図9に従って説明する。この実施形態の半導体集積回路装置は、電流検出回路90を追加した点が上記第1実施形態と異なっている。先の図1〜図7に示した部材と同一の部材にはそれぞれ同一の符号を付して示し、それら各要素についての詳細な説明は省略する。
(Third embodiment)
Hereinafter, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The semiconductor integrated circuit device of this embodiment is different from the first embodiment in that a current detection circuit 90 is added. The same members as those shown in FIGS. 1 to 7 are denoted by the same reference numerals, and detailed description of these elements is omitted.

図8に示すように、内部回路10と電源遮断回路20との間のノードAに接続され、そのノードA(仮想電源VD1)に流れる仮想電源電流ID1を検出する電流検出回路90が設けられている。この電流検出回路90は、検出した仮想電源電流ID1の電流量に応じた電流検出信号DSを出力パッド76に出力する。このような電流検出回路90の内部構成の一例を図9に示した。   As shown in FIG. 8, there is provided a current detection circuit 90 that is connected to a node A between the internal circuit 10 and the power cutoff circuit 20 and detects a virtual power supply current ID1 flowing through the node A (virtual power supply VD1). Yes. The current detection circuit 90 outputs a current detection signal DS corresponding to the detected current amount of the virtual power supply current ID1 to the output pad 76. An example of the internal configuration of such a current detection circuit 90 is shown in FIG.

図9に示すように、電流検出回路90は、ノードAと低電位電源VSSとの間に接続された抵抗Rdを備えている。この抵抗Rdの両端子は、電流増幅器91の入力端子に接続されている。電流増幅器91は、抵抗Rdに流れる電流ID1、すなわち仮想電源電流を検出し、その電流量に応じた検出信号をA/D変換器92に出力する。A/D変換器92は、上記検出信号をデジタル信号(電流検出信号DS)に変換して、その電流検出信号DSを出力パッド76に出力する。   As shown in FIG. 9, the current detection circuit 90 includes a resistor Rd connected between the node A and the low potential power supply VSS. Both terminals of the resistor Rd are connected to the input terminal of the current amplifier 91. The current amplifier 91 detects the current ID1 flowing through the resistor Rd, that is, the virtual power supply current, and outputs a detection signal corresponding to the amount of current to the A / D converter 92. The A / D converter 92 converts the detection signal into a digital signal (current detection signal DS) and outputs the current detection signal DS to the output pad 76.

以上説明した実施形態によれば、第1実施形態の(1)〜(5)の作用効果に加えて以下の効果を奏する。
(8)図10(a)及び図10(b)に示すように、1つの電源(例えば、高電位電源VDD)に対して複数(図10では2つ)の内部回路10a,10bが接続される場合には、高電位電源VDDに流れる電流は各内部回路10a,10bに流れる電流の総和となる。そのため、特定の内部回路への高電位電源電圧VDDの供給が遮断された場合には、高電位電源VDDに流れる電流を測定したとしても、各内部回路のノードAに流れる電流を予想することは困難である。従って、その仮想電源電流と高電位電源電圧VDDとを乗算することにより算出される各内部回路の消費電力を計算することも困難となる。
According to the embodiment described above, the following effects are obtained in addition to the effects (1) to (5) of the first embodiment.
(8) As shown in FIGS. 10A and 10B, a plurality (two in FIG. 10) of internal circuits 10a and 10b are connected to one power source (for example, the high potential power source VDD). In this case, the current flowing through the high potential power supply VDD is the sum of the currents flowing through the internal circuits 10a and 10b. Therefore, when the supply of the high-potential power supply voltage VDD to a specific internal circuit is cut off, even if the current flowing through the high-potential power supply VDD is measured, the current flowing through the node A of each internal circuit cannot be predicted. Have difficulty. Therefore, it is difficult to calculate the power consumption of each internal circuit calculated by multiplying the virtual power supply current and the high potential power supply voltage VDD.

これに対して、本実施形態では、仮想電源(ノードA)に流れる仮想電源電流ID1を検出する電流検出回路90を設けるようにした。これにより、特定の内部回路への高電位電源電圧VDDの供給が遮断された場合であっても、各内部回路の仮想電源電流を電流検出回路90によって検出することができる。従って、その電流検出回路90により検出された電流値を用いて、各内部回路の消費電力を容易に計算することができる。   In contrast, in the present embodiment, the current detection circuit 90 that detects the virtual power supply current ID1 flowing in the virtual power supply (node A) is provided. Thus, even when the supply of the high potential power supply voltage VDD to a specific internal circuit is interrupted, the virtual power supply current of each internal circuit can be detected by the current detection circuit 90. Therefore, the power consumption of each internal circuit can be easily calculated using the current value detected by the current detection circuit 90.

なお、上記実施形態は、これを適宜変更した以下の態様にて実施することもできる。
・上記各実施形態では、ノードAの電圧(仮想電源電圧)を検出し、その仮想電源電圧を基準電圧VRと比較することにより、電源遮断回路20が正常に機能しているかを判定するようにした。これに限らず、例えば、ノードAに流れる電流(仮想電源電流)を検出し、その電流を基準電流と比較することにより、電源遮断回路20が正常に機能しているかを判定するようにしてもよい。
In addition, the said embodiment can also be implemented in the following aspects which changed this suitably.
In each of the embodiments described above, the voltage of the node A (virtual power supply voltage) is detected, and the virtual power supply voltage is compared with the reference voltage VR to determine whether the power shutoff circuit 20 is functioning normally. did. For example, a current (virtual power supply current) flowing through the node A is detected, and the current is compared with a reference current to determine whether the power shutoff circuit 20 is functioning normally. Good.

・上記各実施形態では、内部回路10の高電位側電源端子と高電位電源VDDとの間に電源遮断回路20を挿入接続するようにした。これに限らず、例えば図11に示すように、内部回路10の低電位側電源端子と低電位電源VSSとの間に電源遮断回路20を挿入接続するようにしてもよい。なお、この場合の電源遮断回路20は、例えばNチャネルMOSトランジスタなどにより構成される。あるいは、内部回路10と高電位電源VDDとの間及び内部回路10と低電位電源VSSとの間の双方に電源遮断回路を挿入接続するようにしてもよい。   In each of the above embodiments, the power cutoff circuit 20 is inserted and connected between the high potential side power supply terminal of the internal circuit 10 and the high potential power supply VDD. For example, as illustrated in FIG. 11, the power cutoff circuit 20 may be inserted and connected between the low potential power supply terminal of the internal circuit 10 and the low potential power supply VSS. In this case, the power cut-off circuit 20 is configured by, for example, an N-channel MOS transistor. Alternatively, a power cutoff circuit may be inserted and connected both between the internal circuit 10 and the high potential power supply VDD and between the internal circuit 10 and the low potential power supply VSS.

・上記各実施形態における試験用制御回路70から出力される試験制御信号TSを省略するようにしてもよい。すなわち、この場合、電源遮断回路20の電源遮断動作についての試験方法におけるステップS13(図6参照)が省略される。   The test control signal TS output from the test control circuit 70 in each of the above embodiments may be omitted. That is, in this case, step S13 (see FIG. 6) in the test method for the power-off operation of the power-off circuit 20 is omitted.

・上記各実施形態では、電圧シフト回路40及び基準電圧生成回路50の抵抗値の設定等を行う信号として、電源遮断回路20の動作を制御する電源遮断制御信号MSを利用するようにした。これに限らず、電圧シフト回路40及び基準電圧生成回路50に、電圧シフト回路40及び基準電圧生成回路50を制御するための専用の制御信号を入力するようにしてもよい。   In each of the above embodiments, the power cutoff control signal MS for controlling the operation of the power cutoff circuit 20 is used as a signal for setting the resistance values of the voltage shift circuit 40 and the reference voltage generation circuit 50. However, the present invention is not limited thereto, and a dedicated control signal for controlling the voltage shift circuit 40 and the reference voltage generation circuit 50 may be input to the voltage shift circuit 40 and the reference voltage generation circuit 50.

・上記各実施形態では、電源遮断制御信号MSが外部から入力されるようにしたが、電源遮断制御信号MSを出力する回路を半導体チップ上に設けるようにしてもよい。
・上記各実施形態における試験用制御回路70は、Hレベルの電源遮断制御信号MSの入力に応じて試験制御信号TSを生成するようにしたが、例えば電源遮断試験の開始や電源遮断回路20の電源遮断動作の開始に応じて試験制御信号TSを生成するようにしてもよい。
In each of the above embodiments, the power cutoff control signal MS is input from the outside, but a circuit for outputting the power cutoff control signal MS may be provided on the semiconductor chip.
The test control circuit 70 in each of the above embodiments generates the test control signal TS in response to the input of the H level power shutoff control signal MS. The test control signal TS may be generated in response to the start of the power shutoff operation.

・上記各実施形態では、試験用制御回路70が試験制御信号TS及びテストモード信号TMを出力するようにしたが、これら試験制御信号TS及びテストモード信号TMはそれぞれ外部から入力されるようにしてもよい。   In each of the above embodiments, the test control circuit 70 outputs the test control signal TS and the test mode signal TM. However, the test control signal TS and the test mode signal TM are input from the outside, respectively. Also good.

・上記各実施形態における各可変抵抗VR1〜VR4の内部構成は、図3に示した構成に特に制限されない。例えば、各可変抵抗VR1〜VR4をPチャネルMOSトランジスタにより構成するようにしてもよい。この場合、制御素子(ゲート)に印加される電圧を変動させることにより抵抗値を変更させることができる。   The internal configuration of each of the variable resistors VR1 to VR4 in the above embodiments is not particularly limited to the configuration illustrated in FIG. For example, each of the variable resistors VR1 to VR4 may be configured by a P channel MOS transistor. In this case, the resistance value can be changed by changing the voltage applied to the control element (gate).

・上記各実施形態における電圧シフト回路40の内部構成は、図2に示した構成に特に制限されない。例えば、電圧シフト回路40の第1スイッチSW1を省略するようにしてもよい。この場合、例えばテストモード時以外に、可変抵抗VR1,VR2の抵抗値を内部回路10の抵抗成分Rmの抵抗値よりも十分高く設定し、ノードAから低電位電源VSSに流れるリーク電流の発生を低減するようにしてもよい。あるいは、第1及び第2可変抵抗VR1,VR2を固定抵抗に変更するようにしてもよい。   The internal configuration of the voltage shift circuit 40 in each of the above embodiments is not particularly limited to the configuration shown in FIG. For example, the first switch SW1 of the voltage shift circuit 40 may be omitted. In this case, for example, other than in the test mode, the resistance values of the variable resistors VR1 and VR2 are set sufficiently higher than the resistance value of the resistance component Rm of the internal circuit 10, and leakage current flowing from the node A to the low potential power source VSS is generated. You may make it reduce. Alternatively, the first and second variable resistors VR1 and VR2 may be changed to fixed resistors.

・上記各実施形態における基準電圧生成回路50の内部構成は、図2に示した構成に特に制限されない。例えば、基準電圧生成回路50の第2スイッチSW2を省略するようにしてもよい。なお、この基準電圧生成回路50は、対応する内部回路10への高電位電源電圧VDDの供給・遮断の切り替わりに応じて、高電位基準電圧VRH及び低電位基準電圧VRLを切り替えて生成する回路であることが好ましい。   The internal configuration of the reference voltage generation circuit 50 in each of the above embodiments is not particularly limited to the configuration shown in FIG. For example, the second switch SW2 of the reference voltage generation circuit 50 may be omitted. The reference voltage generation circuit 50 is a circuit that switches and generates the high potential reference voltage VRH and the low potential reference voltage VRL in accordance with switching between supply / cutoff of the high potential power supply voltage VDD to the corresponding internal circuit 10. Preferably there is.

・上記各実施形態における基準電圧生成回路50は、1つの第2分圧回路51により、高電位基準電圧VRHと低電位基準電圧VRLを生成するようにした。これに限らず、例えば基準電圧生成回路50を、高電位基準電圧VRHを生成する回路と、低電位基準電圧VRLを生成する回路とにより構成するようにしてもよい。   In the above-described embodiments, the reference voltage generation circuit 50 generates the high potential reference voltage VRH and the low potential reference voltage VRL by using one second voltage dividing circuit 51. For example, the reference voltage generation circuit 50 may be configured by a circuit that generates the high potential reference voltage VRH and a circuit that generates the low potential reference voltage VRL.

・上記各実施形態では、基準電圧生成回路50に高電位電源電圧VDD及び低電位電源電圧VSSを供給するようにしたが、例えば高電位電源電圧VDD及び低電位電源電圧VSSとは異なる電源電圧を基準電圧生成回路50に供給するようにしてもよい。   In each of the above embodiments, the high potential power supply voltage VDD and the low potential power supply voltage VSS are supplied to the reference voltage generation circuit 50. However, for example, a power supply voltage different from the high potential power supply voltage VDD and the low potential power supply voltage VSS is used. The reference voltage generation circuit 50 may be supplied.

・上記各実施形態における電圧シフト回路40を省略するようにしてもよい。なお、この場合、基準電圧生成回路50にて生成される高電位基準電圧VRHあるいは低電位基準電圧VRLの電圧値を、電圧比較回路60に入力される仮想電源電圧VD1に応じて設定することが好ましい。例えば、高電位基準電圧VRHは、Lレベルの電源遮断制御信号MSに応じて電源遮断回路20が正常に電源通電動作したときの仮想電源電圧VD1よりも低い電圧値に設定される。また、低電位基準電圧VRLは、Hレベルの電源遮断制御信号MSに応じて電源遮断回路20が正常に電源遮断動作したときの仮想電源電圧VD1よりも高い電圧値に設定される。   The voltage shift circuit 40 in each of the above embodiments may be omitted. In this case, the voltage value of the high potential reference voltage VRH or the low potential reference voltage VRL generated by the reference voltage generation circuit 50 can be set according to the virtual power supply voltage VD1 input to the voltage comparison circuit 60. preferable. For example, the high potential reference voltage VRH is set to a voltage value lower than the virtual power supply voltage VD1 when the power supply cutoff circuit 20 normally performs the power supply operation according to the L level power supply cutoff control signal MS. Further, the low potential reference voltage VRL is set to a voltage value higher than the virtual power supply voltage VD1 when the power shutdown circuit 20 normally performs the power shutdown operation in response to the H level power shutdown control signal MS.

・上記第2実施形態における内部回路10(第1及び第2内部回路10a,10b)の数に特に制限はない。また、第1及び第2内部回路10a,10bには、それぞれ異なる高電位電源電圧VDD1,VDD2が供給されるようにしたが、同一の高電位電源電圧を供給するようにしてもよい。   -There is no restriction | limiting in particular in the number of the internal circuits 10 (1st and 2nd internal circuit 10a, 10b) in the said 2nd Embodiment. The first and second internal circuits 10a and 10b are supplied with different high-potential power supply voltages VDD1 and VDD2, respectively, but may be supplied with the same high-potential power supply voltage.

・上記第2実施形態における選択回路80は、試験用制御回路70から入力される選択信号SSに基づいて、第1及び第2判定信号JS1,JS2のいずれか一方を選択するようにした。これに限らず、例えば電源遮断回路20a,20bに入力される電源遮断制御信号MS1,MS2のいずれか一方を選択信号として利用するようにしてもよい。また、上記選択信号SSは外部から入力されるようにしてもよい。   In the second embodiment, the selection circuit 80 selects one of the first and second determination signals JS1 and JS2 based on the selection signal SS input from the test control circuit 70. For example, any one of the power cutoff control signals MS1 and MS2 input to the power cutoff circuits 20a and 20b may be used as a selection signal. The selection signal SS may be input from the outside.

・上記第2実施形態では、複数の内部回路10a,10bに対して試験用制御回路70を共通化するようにしたが、各内部回路ごとに試験用制御回路70を設けるようにしてもよい。   In the second embodiment, the test control circuit 70 is shared by the plurality of internal circuits 10a and 10b. However, the test control circuit 70 may be provided for each internal circuit.

・上記第2実施形態では、電圧比較回路60a,60bの判定信号JS1,JS2を選択回路80で選択するようにした。これに限らず、例えば図12に示すように、第1内部回路10aの仮想電源電圧VD1と第2内部回路10bの仮想電源電圧VD2とを選択回路85で選択するようにしてもよい。この構成によれば、選択回路85により選択された仮想電源電圧VD1,VD2のいずれか一方が電圧シフト回路40に入力される。これにより、複数(図12では2つ)の電源遮断回路20a,20bに対して1つの動作判定回路30(電圧シフト回路40、基準電圧生成回路50、電圧比較回路60、試験用制御回路70)を設けるのみで、それらの電源遮断回路20a,20bが正常に機能しているか否かを判定することができる。従って、回路面積を大幅に縮小することができる。   In the second embodiment, the selection circuit 80 selects the determination signals JS1 and JS2 from the voltage comparison circuits 60a and 60b. For example, as shown in FIG. 12, the selection circuit 85 may select the virtual power supply voltage VD1 of the first internal circuit 10a and the virtual power supply voltage VD2 of the second internal circuit 10b. According to this configuration, one of the virtual power supply voltages VD 1 and VD 2 selected by the selection circuit 85 is input to the voltage shift circuit 40. Thus, one operation determination circuit 30 (voltage shift circuit 40, reference voltage generation circuit 50, voltage comparison circuit 60, test control circuit 70) for a plurality (two in FIG. 12) of power shutoff circuits 20a and 20b. It is possible to determine whether or not the power shutoff circuits 20a and 20b are functioning normally. Therefore, the circuit area can be greatly reduced.

なお、この図12の構成の場合、電圧シフト回路40及び基準電圧生成回路50は、電源遮断制御信号MS1,MS2及び選択信号SSの組み合わせに応じて、それぞれの電源に対応する比較電圧Vn及び基準電圧VRを生成するようになっている。   In the case of the configuration of FIG. 12, the voltage shift circuit 40 and the reference voltage generation circuit 50 correspond to the comparison voltage Vn and the reference corresponding to each power source according to the combination of the power cutoff control signals MS1, MS2 and the selection signal SS. A voltage VR is generated.

・上記第3実施形態における電流検出回路90の内部構成は、図9に示した構成に特に制限されない。
・上記第3実施形態の電流検出回路90を第2実施形態の半導体集積回路装置あるいは図12の半導体集積回路装置に適用してもよい。なお、これらの場合、選択回路80,85に対応する電流検出回路90のための選択回路を設ける必要がある。
The internal configuration of the current detection circuit 90 in the third embodiment is not particularly limited to the configuration shown in FIG.
The current detection circuit 90 of the third embodiment may be applied to the semiconductor integrated circuit device of the second embodiment or the semiconductor integrated circuit device of FIG. In these cases, it is necessary to provide a selection circuit for the current detection circuit 90 corresponding to the selection circuits 80 and 85.

以上の様々な実施の形態をまとめると、以下のようになる。
(付記1)
電源電圧が供給される内部回路と、前記内部回路と前記電源電圧を供給する電源との間に接続され、前記内部回路への前記電源電圧の供給・遮断を電源遮断制御信号に応じて制御する電源遮断回路と、を備えた半導体集積回路装置において、
前記電源遮断回路の動作を試験する動作試験時に、前記内部回路と前記電源遮断回路との間の接続点の仮想電源電圧あるいは仮想電源電流に基づいて、前記電源遮断回路が正常に機能しているか否かを示す判定信号を生成し、その生成した判定信号を出力パッドに出力する動作判定回路を備えることを特徴とする半導体集積回路装置。
(付記2)
それぞれ対応する電源電圧が供給される複数の内部回路と、前記各内部回路と前記対応する電源電圧を供給する電源との間に接続され、前記各内部回路への前記対応する電源電圧の供給・遮断を電源遮断制御信号に応じて制御する複数の電源遮断回路と、を備えた半導体集積回路装置において、
電源端子をそれぞれ有する複数の内部回路と、前記各内部回路の電源端子にそれぞれ対応する電源電圧を供給する単一あるいは複数の電源と、前記各内部回路の電源端子と前記電源との間に接続され、前記各内部回路への前記電源電圧の供給・遮断を電源遮断制御信号に応じて制御する複数の電源遮断回路と、を備えた半導体集積回路装置において、
前記各内部回路と前記各電源遮断回路との間の接続点の仮想電源電圧あるいは仮想電源電流に基づいて、前記各電源遮断回路が正常に機能しているか否かを示す判定信号を生成する複数の動作判定回路と、
前記各動作判定回路から入力される複数の判定信号のいずれか1つの判定信号を選択し、該選択した判定信号を出力パッドに出力する選択回路と、を備えることを特徴とする半導体集積回路装置。
(付記3)
前記動作判定回路は、
前記電源遮断回路が前記内部回路に前記電源電圧を供給する電源通電動作のときに第1基準電圧を生成し、前記電源遮断回路が前記内部回路への前記電源電圧の供給を遮断する電源遮断動作のときに第2基準電圧を生成する基準電圧生成回路と、
前記基準電圧生成回路からの前記第1基準電圧あるいは前記第2基準電圧と、仮想電源電圧とを比較し、前記判定信号を生成する比較回路と、
を含むことを特徴とする付記1又は2に記載の半導体集積回路装置。
(付記4)
前記基準電圧生成回路は、前記電源遮断制御信号に応じて、前記第1基準電圧及び前記第2基準電圧を切り替えて生成することを特徴とする付記3に記載の半導体集積回路装置。
(付記5)
前記基準電圧生成回路は、直列に接続された可変抵抗によって、高電位電源と低電位電源との電位差を分圧した分圧電圧を、前記第1基準電圧あるいは前記第2基準電圧として生成する分圧回路を含み、
前記分圧回路は、前記電源遮断制御信号に応じて前記可変抵抗の抵抗値を変更することで、前記分圧電圧として前記第1基準電圧及び前記第2基準電圧を切り替えて生成する、ことを特徴とする付記3又は4に記載の半導体集積回路装置。
(付記6)
前記動作判定回路は、前記仮想電源電圧を、前記比較回路の感度に応じた比較電圧に変換する電圧シフト回路を含み、
前記比較回路は、前記基準電圧生成回路からの前記第1基準電圧あるいは前記第2基準電圧と、前記電圧シフト回路からの前記比較電圧とを比較し、前記判定信号を生成することを特徴とする付記3〜5のいずれか1つに記載の半導体集積回路装置。
(付記7)
前記電源遮断回路は、前記内部回路に供給される第1電源電圧及び第2電源電圧のうち前記第1電源電圧の前記内部回路への供給・遮断を制御する回路であって、
前記電圧シフト回路は、直列に接続された可変抵抗によって、前記仮想電源電圧と前記第2電源電圧との電位差を分圧した分圧電圧を前記比較電圧として生成する分圧回路を含み、
前記動作判定回路は、前記電源遮断回路の前記電源遮断動作の開始に応じて試験制御信号を生成する制御回路を含み、
前記分圧回路は、前記電源遮断制御信号に応じて前記可変抵抗を前記比較電圧を生成するための抵抗値に設定するとともに、前記制御回路からの前記試験制御信号に応じて前記可変抵抗の抵抗値を前記内部回路内の抵抗成分の抵抗値よりも低く設定することを特徴とする付記6に記載の半導体集積回路装置。
(付記8)
前記電圧シフト回路及び前記基準電圧生成回路は、前記動作試験を行うテストモードを示すテストモード信号により活性化されることを特徴とする付記6又は7に記載の半導体集積回路装置。
(付記9)
前記内部回路と前記電源遮断回路との間の接続点に流れる前記仮想電源電流を検出する電流検出回路を備えることを特徴とする付記3〜8のいずれか1つに記載の半導体集積回路装置。
(付記10)
電源端子をそれぞれ有する複数の内部回路と、前記各内部回路の電源端子にそれぞれ対応する電源電圧を供給する単一あるいは複数の電源と、前記各内部回路の電源端子と前記電源との間に接続され、前記各内部回路への前記電源電圧の供給・遮断を電源遮断制御信号に応じて制御する複数の電源遮断回路と、を備えた半導体集積回路装置において、
前記各内部回路と前記各電源遮断回路との間の接続点の仮想電源電圧あるいは仮想電源電流が入力され、その複数の仮想電源電圧のいずれか1つの仮想電源電圧あるいは複数の仮想電源電流のいずれか1つの仮想電源電流を選択する選択回路と、
前記選択回路により選択された仮想電源電圧あるいは仮想電源電流に基づいて、対応する前記電源遮断回路が正常に機能しているか否かを示す判定信号を生成し、その生成した判定信号を出力パッドに出力する動作判定回路と、を備えることを特徴とする半導体集積回路装置。
(付記11)
電源電圧が供給される内部回路と、前記内部回路と前記電源電圧を供給する電源との間に接続され、前記内部回路に前記電源電圧を供給する電源通電動作と前記内部回路への前記電源電圧の供給を遮断する電源遮断動作とを電源遮断制御信号に応じて切り替えて実行する電源遮断回路と、前記内部回路と前記電源遮断回路との間の接続点の仮想電源電圧に基づいて、前記電源遮断回路の電源通電動作及び電源遮断動作が正常に機能しているか否かを示す判定信号を生成して出力パッドに出力する動作判定回路と、を備えた半導体集積回路装置の試験方法であって、
前記動作判定回路は、
前記電源遮断回路の前記電源通電動作についての試験時に、前記電源遮断回路の前記電源通電動作の開始に応じて第1基準電圧を生成し、該第1基準電圧と前記仮想電源電圧とを比較して前記判定信号を生成するとともに、
前記電源遮断回路の前記電源遮断動作についての試験時に、前記電源遮断回路の前記電源遮断動作の開始に応じて第2基準電圧を生成し、該第2基準電圧と前記仮想電源電圧とを比較して前記判定信号を生成することを特徴とする半導体集積回路装置の試験方法。
(付記12)
前記動作判定回路は、
前記電源遮断動作の試験において、前記電源遮断回路を前記電源遮断動作させるための前記電源遮断制御信号に応じて試験制御信号を生成し、該試験制御信号に応じて前記内部回路の容量成分に充電された電荷を放電させる、前記内部回路の抵抗成分よりも低抵抗の放電経路を形成する、ことを特徴とする付記11に記載の半導体集積回路装置の試験方法。
The various embodiments described above can be summarized as follows.
(Appendix 1)
Connected between an internal circuit to which a power supply voltage is supplied and the internal circuit and a power supply for supplying the power supply voltage, and controls supply / cutoff of the power supply voltage to the internal circuit according to a power supply cutoff control signal. In a semiconductor integrated circuit device comprising a power cutoff circuit,
Whether the power shutoff circuit is functioning normally based on the virtual power supply voltage or virtual power supply current at the connection point between the internal circuit and the power shutoff circuit during an operation test for testing the operation of the power shutoff circuit A semiconductor integrated circuit device comprising: an operation determination circuit that generates a determination signal indicating whether or not and outputs the generated determination signal to an output pad.
(Appendix 2)
A plurality of internal circuits each supplied with a corresponding power supply voltage, and connected between each internal circuit and a power supply that supplies the corresponding power supply voltage, and supply of the corresponding power supply voltage to each internal circuit In a semiconductor integrated circuit device comprising a plurality of power shut-off circuits for controlling shut-off according to a power shut-off control signal,
A plurality of internal circuits each having a power supply terminal, a single or a plurality of power supplies for supplying a power supply voltage corresponding to each of the power supply terminals of each internal circuit, and a connection between the power supply terminal of each internal circuit and the power supply A plurality of power shut-off circuits that control supply / shut-off of the power supply voltage to each internal circuit in accordance with a power shut-off control signal,
A plurality of determination signals indicating whether or not each of the power supply cutoff circuits is functioning normally based on a virtual power supply voltage or a virtual power supply current at a connection point between each of the internal circuits and each of the power supply cutoff circuits An operation determination circuit of
A semiconductor integrated circuit device comprising: a selection circuit that selects any one of a plurality of determination signals input from each of the operation determination circuits and outputs the selected determination signal to an output pad; .
(Appendix 3)
The operation determination circuit includes:
A power cutoff operation in which the power cutoff circuit generates a first reference voltage during a power supply energization operation for supplying the power supply voltage to the internal circuit, and the power cutoff circuit cuts off the supply of the power supply voltage to the internal circuit A reference voltage generating circuit for generating a second reference voltage at the time of
A comparison circuit that compares the first reference voltage or the second reference voltage from the reference voltage generation circuit with a virtual power supply voltage and generates the determination signal;
The semiconductor integrated circuit device according to appendix 1 or 2, characterized by comprising:
(Appendix 4)
4. The semiconductor integrated circuit device according to appendix 3, wherein the reference voltage generation circuit switches and generates the first reference voltage and the second reference voltage in accordance with the power cutoff control signal.
(Appendix 5)
The reference voltage generation circuit generates a divided voltage obtained by dividing a potential difference between a high potential power source and a low potential power source as a first reference voltage or a second reference voltage by a variable resistor connected in series. Pressure circuit,
The voltage dividing circuit generates the divided voltage by switching the first reference voltage and the second reference voltage by changing a resistance value of the variable resistor according to the power-off control signal. The semiconductor integrated circuit device according to appendix 3 or 4, characterized by the above.
(Appendix 6)
The operation determination circuit includes a voltage shift circuit that converts the virtual power supply voltage into a comparison voltage corresponding to the sensitivity of the comparison circuit,
The comparison circuit compares the first reference voltage or the second reference voltage from the reference voltage generation circuit with the comparison voltage from the voltage shift circuit, and generates the determination signal. The semiconductor integrated circuit device according to any one of appendices 3 to 5.
(Appendix 7)
The power cutoff circuit is a circuit that controls supply / cutoff of the first power supply voltage to the internal circuit among the first power supply voltage and the second power supply voltage supplied to the internal circuit,
The voltage shift circuit includes a voltage dividing circuit that generates, as the comparison voltage, a divided voltage obtained by dividing a potential difference between the virtual power supply voltage and the second power supply voltage by a variable resistor connected in series.
The operation determination circuit includes a control circuit that generates a test control signal in response to the start of the power-off operation of the power-off circuit.
The voltage dividing circuit sets the variable resistor to a resistance value for generating the comparison voltage according to the power-off control signal, and also sets a resistance of the variable resistor according to the test control signal from the control circuit. The semiconductor integrated circuit device according to appendix 6, wherein a value is set lower than a resistance value of a resistance component in the internal circuit.
(Appendix 8)
8. The semiconductor integrated circuit device according to appendix 6 or 7, wherein the voltage shift circuit and the reference voltage generation circuit are activated by a test mode signal indicating a test mode for performing the operation test.
(Appendix 9)
The semiconductor integrated circuit device according to any one of appendices 3 to 8, further comprising a current detection circuit that detects the virtual power supply current that flows to a connection point between the internal circuit and the power supply cutoff circuit.
(Appendix 10)
A plurality of internal circuits each having a power supply terminal, a single or a plurality of power supplies for supplying a power supply voltage corresponding to each of the power supply terminals of each internal circuit, and a connection between the power supply terminal of each internal circuit and the power supply A plurality of power shut-off circuits that control supply / shut-off of the power supply voltage to each internal circuit in accordance with a power shut-off control signal,
A virtual power supply voltage or a virtual power supply current at a connection point between each internal circuit and each power supply cutoff circuit is input, and any one of the plurality of virtual power supply voltages or any one of the plurality of virtual power supply currents is input. A selection circuit for selecting one virtual power supply current;
Based on the virtual power supply voltage or virtual power supply current selected by the selection circuit, a determination signal indicating whether or not the corresponding power cutoff circuit is functioning normally is generated, and the generated determination signal is output to the output pad. A semiconductor integrated circuit device comprising: an operation determination circuit for outputting.
(Appendix 11)
A power supply energizing operation for supplying the power supply voltage to the internal circuit and the power supply voltage to the internal circuit connected between the internal circuit to which the power supply voltage is supplied, the internal circuit and the power supply for supplying the power supply voltage A power cutoff circuit that switches and executes a power cutoff operation that cuts off the supply of power according to a power cutoff control signal, and the power supply based on a virtual power supply voltage at a connection point between the internal circuit and the power cutoff circuit A test method for a semiconductor integrated circuit device comprising: an operation determination circuit that generates a determination signal indicating whether or not a power supply energization operation and a power supply disconnection operation of a cutoff circuit are functioning normally and outputs them to an output pad ,
The operation determination circuit includes:
When testing the power supply energization operation of the power supply cut-off circuit, a first reference voltage is generated in response to the start of the power supply energization operation of the power supply cut-off circuit, and the first reference voltage is compared with the virtual power supply voltage. And generating the determination signal,
When testing the power shutdown operation of the power shutdown circuit, a second reference voltage is generated in response to the start of the power shutdown operation of the power shutdown circuit, and the second reference voltage is compared with the virtual power supply voltage. A test method for a semiconductor integrated circuit device, wherein the determination signal is generated.
(Appendix 12)
The operation determination circuit includes:
In the test of the power shutdown operation, a test control signal is generated according to the power shutdown control signal for causing the power shutdown circuit to perform the power shutdown operation, and a capacitance component of the internal circuit is charged according to the test control signal 12. The test method for a semiconductor integrated circuit device according to appendix 11, wherein a discharge path having a resistance lower than a resistance component of the internal circuit is formed to discharge the generated charge.

第1実施形態の半導体集積回路装置を示すブロック図。1 is a block diagram showing a semiconductor integrated circuit device according to a first embodiment. 電圧シフト回路及び基準電圧生成回路の内部構成例を示す回路図。The circuit diagram which shows the internal structural example of a voltage shift circuit and a reference voltage generation circuit. 可変抵抗の内部構成例を示す回路図。The circuit diagram which shows the internal structural example of a variable resistance. モデル化した内部回路を示す説明図。Explanatory drawing which shows the modeled internal circuit. 電源通電動作についての試験方法を示すフローチャート。The flowchart which shows the test method about power supply energization operation | movement. 電源遮断動作についての試験方法を示すフローチャート。The flowchart which shows the test method about power-off operation. 第2実施形態の半導体集積回路装置を示すブロック図。The block diagram which shows the semiconductor integrated circuit device of 2nd Embodiment. 第3実施形態の半導体集積回路装置を示すブロック図。The block diagram which shows the semiconductor integrated circuit device of 3rd Embodiment. 電流検出回路の内部構成例を示す回路図。The circuit diagram which shows the internal structural example of a current detection circuit. (a)、(b)は、それぞれ複数の内部回路を備える半導体集積回路装置を示すブロック図。(A), (b) is a block diagram which shows a semiconductor integrated circuit device provided with a some internal circuit, respectively. 別例における半導体集積回路装置を示すブロック図。The block diagram which shows the semiconductor integrated circuit device in another example. 別例における半導体集積回路装置を示すブロック図。The block diagram which shows the semiconductor integrated circuit device in another example. 従来の試験方法を説明するための説明図。Explanatory drawing for demonstrating the conventional test method.

符号の説明Explanation of symbols

10,10a,10b 内部回路
20,20a,20b 電源遮断回路
30 動作判定回路
40,40a,40b 電圧シフト回路
41 分圧回路
50,50a,50b 基準電圧生成回路
51 分圧回路
60,60a,60b 電圧比較回路(比較回路)
70 試験用制御回路(制御回路)
75 出力パッド
80 選択回路
90 電流検出回路
VDD 高電位電源電圧(電源電圧、第1電源電圧)
VSS 低電位電源電圧(電源電圧、第2電源電圧)
VD1,VD2 仮想電源電圧
VR 基準電圧
Vn 比較電圧
VR1〜VR4 可変抵抗
Rm 抵抗成分
Cm 容量成分
10, 10a, 10b Internal circuit 20, 20a, 20b Power cut-off circuit 30 Operation determination circuit 40, 40a, 40b Voltage shift circuit 41 Voltage divider circuit 50, 50a, 50b Reference voltage generation circuit 51 Voltage divider circuit 60, 60a, 60b Voltage Comparison circuit (comparison circuit)
70 Test control circuit (control circuit)
75 Output pad 80 Selection circuit 90 Current detection circuit VDD High potential power supply voltage (power supply voltage, first power supply voltage)
VSS Low potential power supply voltage (power supply voltage, second power supply voltage)
VD1, VD2 Virtual power supply voltage VR Reference voltage Vn Comparison voltage VR1-VR4 Variable resistance Rm Resistance component Cm Capacity component

Claims (7)

電源電圧が供給される内部回路と、前記内部回路と前記電源電圧を供給する電源との間に接続され、前記内部回路への前記電源電圧の供給・遮断を電源遮断制御信号に応じて制御する電源遮断回路と、を備えた半導体集積回路装置において、
前記電源遮断回路の動作を試験する動作試験時に、前記内部回路と前記電源遮断回路との間の接続点の仮想電源電圧あるいは仮想電源電流に基づいて、前記電源遮断回路が正常に機能しているか否かを示す判定信号を生成し、その生成した判定信号を出力パッドに出力する動作判定回路を備えることを特徴とする半導体集積回路装置。
Connected between an internal circuit to which a power supply voltage is supplied and the internal circuit and a power supply for supplying the power supply voltage, and controls supply / cutoff of the power supply voltage to the internal circuit according to a power supply cutoff control signal. In a semiconductor integrated circuit device comprising a power cutoff circuit,
Whether the power shutoff circuit is functioning normally based on the virtual power supply voltage or virtual power supply current at the connection point between the internal circuit and the power shutoff circuit during an operation test for testing the operation of the power shutoff circuit A semiconductor integrated circuit device comprising: an operation determination circuit that generates a determination signal indicating whether or not and outputs the generated determination signal to an output pad.
それぞれ対応する電源電圧が供給される複数の内部回路と、前記各内部回路と前記対応する電源電圧を供給する電源との間に接続され、前記各内部回路への前記対応する電源電圧の供給・遮断を電源遮断制御信号に応じて制御する複数の電源遮断回路と、を備えた半導体集積回路装置において、
前記各内部回路と前記各電源遮断回路との間の接続点の仮想電源電圧あるいは仮想電源電流に基づいて、前記各電源遮断回路が正常に機能しているか否かを示す判定信号を生成する複数の動作判定回路と、
前記各動作判定回路から入力される複数の判定信号のいずれか1つの判定信号を選択し、該選択した判定信号を出力パッドに出力する選択回路と、を備えることを特徴とする半導体集積回路装置。
A plurality of internal circuits each supplied with a corresponding power supply voltage, and connected between each internal circuit and a power supply that supplies the corresponding power supply voltage, and supply of the corresponding power supply voltage to each internal circuit In a semiconductor integrated circuit device comprising a plurality of power shut-off circuits for controlling shut-off according to a power shut-off control signal,
A plurality of determination signals indicating whether or not each of the power supply cutoff circuits is functioning normally based on a virtual power supply voltage or a virtual power supply current at a connection point between each of the internal circuits and each of the power supply cutoff circuits An operation determination circuit of
A semiconductor integrated circuit device comprising: a selection circuit that selects any one of a plurality of determination signals input from each of the operation determination circuits and outputs the selected determination signal to an output pad; .
前記動作判定回路は、
前記電源遮断回路が前記内部回路に前記電源電圧を供給する電源通電動作のときに第1基準電圧を生成し、前記電源遮断回路が前記内部回路への前記電源電圧の供給を遮断する電源遮断動作のときに第2基準電圧を生成する基準電圧生成回路と、
前記基準電圧生成回路からの前記第1基準電圧あるいは前記第2基準電圧と、仮想電源電圧とを比較し、前記判定信号を生成する比較回路と、
を含むことを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体集積回路装置。
The operation determination circuit includes:
A power cutoff operation in which the power cutoff circuit generates a first reference voltage during a power supply energization operation for supplying the power supply voltage to the internal circuit, and the power cutoff circuit cuts off the supply of the power supply voltage to the internal circuit A reference voltage generating circuit for generating a second reference voltage at the time of
A comparison circuit that compares the first reference voltage or the second reference voltage from the reference voltage generation circuit with a virtual power supply voltage and generates the determination signal;
The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, comprising:
前記基準電圧生成回路は、直列に接続された可変抵抗によって、高電位電源と低電位電源との電位差を分圧した分圧電圧を、前記第1基準電圧あるいは前記第2基準電圧として生成する分圧回路を含み、
前記分圧回路は、前記電源遮断制御信号に応じて前記可変抵抗の抵抗値を変更することで、前記分圧電圧として前記第1基準電圧及び前記第2基準電圧を切り替えて生成する、ことを特徴とする請求項3に記載の半導体集積回路装置。
The reference voltage generation circuit generates a divided voltage obtained by dividing a potential difference between a high potential power source and a low potential power source as a first reference voltage or a second reference voltage by a variable resistor connected in series. Pressure circuit,
The voltage dividing circuit generates the divided voltage by switching the first reference voltage and the second reference voltage by changing a resistance value of the variable resistor according to the power-off control signal. 4. The semiconductor integrated circuit device according to claim 3, wherein:
前記動作判定回路は、前記仮想電源電圧を、前記比較回路の感度に応じた比較電圧に変換する電圧シフト回路を含み、
前記比較回路は、前記基準電圧生成回路からの前記第1基準電圧あるいは前記第2基準電圧と、前記電圧シフト回路からの前記比較電圧とを比較し、前記判定信号を生成することを特徴とする請求項3又は4に記載の半導体集積回路装置。
The operation determination circuit includes a voltage shift circuit that converts the virtual power supply voltage into a comparison voltage corresponding to the sensitivity of the comparison circuit,
The comparison circuit compares the first reference voltage or the second reference voltage from the reference voltage generation circuit with the comparison voltage from the voltage shift circuit, and generates the determination signal. The semiconductor integrated circuit device according to claim 3 or 4.
前記電源遮断回路は、前記内部回路に供給される第1電源電圧及び第2電源電圧のうち前記第1電源電圧の前記内部回路への供給・遮断を制御する回路であって、
前記電圧シフト回路は、直列に接続された可変抵抗によって、前記仮想電源電圧と前記第2電源電圧との電位差を分圧した分圧電圧を前記比較電圧として生成する分圧回路を含み、
前記動作判定回路は、前記電源遮断回路の前記電源遮断動作の開始に応じて試験制御信号を生成する制御回路を含み、
前記分圧回路は、前記電源遮断制御信号に応じて前記可変抵抗を前記比較電圧を生成するための抵抗値に設定するとともに、前記制御回路からの前記試験制御信号に応じて前記可変抵抗の抵抗値を前記内部回路内の抵抗成分の抵抗値よりも低く設定することを特徴とする請求項5に記載の半導体集積回路装置。
The power cutoff circuit is a circuit that controls supply / cutoff of the first power supply voltage to the internal circuit among the first power supply voltage and the second power supply voltage supplied to the internal circuit,
The voltage shift circuit includes a voltage dividing circuit that generates, as the comparison voltage, a divided voltage obtained by dividing a potential difference between the virtual power supply voltage and the second power supply voltage by a variable resistor connected in series.
The operation determination circuit includes a control circuit that generates a test control signal in response to the start of the power-off operation of the power-off circuit.
The voltage dividing circuit sets the variable resistor to a resistance value for generating the comparison voltage according to the power-off control signal, and also sets a resistance of the variable resistor according to the test control signal from the control circuit. 6. The semiconductor integrated circuit device according to claim 5, wherein a value is set lower than a resistance value of a resistance component in the internal circuit.
電源電圧が供給される内部回路と、前記内部回路と前記電源電圧を供給する電源との間に接続され、前記内部回路に前記電源電圧を供給する電源通電動作と前記内部回路への前記電源電圧の供給を遮断する電源遮断動作とを電源遮断制御信号に応じて切り替えて実行する電源遮断回路と、前記内部回路と前記電源遮断回路との間の接続点の仮想電源電圧に基づいて、前記電源遮断回路の電源通電動作及び電源遮断動作が正常に機能しているか否かを示す判定信号を生成して出力パッドに出力する動作判定回路と、を備えた半導体集積回路装置の試験方法であって、
前記動作判定回路は、
前記電源遮断回路の前記電源通電動作についての試験時に、前記電源遮断回路の前記電源通電動作の開始に応じて第1基準電圧を生成し、該第1基準電圧と前記仮想電源電圧とを比較して前記判定信号を生成するとともに、
前記電源遮断回路の前記電源遮断動作についての試験時に、前記電源遮断回路の前記電源遮断動作の開始に応じて第2基準電圧を生成し、該第2基準電圧と前記仮想電源電圧とを比較して前記判定信号を生成することを特徴とする半導体集積回路装置の試験方法。
A power supply energizing operation for supplying the power supply voltage to the internal circuit and the power supply voltage to the internal circuit connected between the internal circuit to which the power supply voltage is supplied, the internal circuit and the power supply for supplying the power supply voltage A power cutoff circuit that switches and executes a power cutoff operation that cuts off the supply of power according to a power cutoff control signal, and the power supply based on a virtual power supply voltage at a connection point between the internal circuit and the power cutoff circuit A test method for a semiconductor integrated circuit device comprising: an operation determination circuit that generates a determination signal indicating whether or not a power supply energization operation and a power supply disconnection operation of a cutoff circuit are functioning normally and outputs them to an output pad ,
The operation determination circuit includes:
When testing the power supply energization operation of the power supply cut-off circuit, a first reference voltage is generated in response to the start of the power supply energization operation of the power supply cut-off circuit, and the first reference voltage is compared with the virtual power supply voltage. And generating the determination signal,
When testing the power shutdown operation of the power shutdown circuit, a second reference voltage is generated in response to the start of the power shutdown operation of the power shutdown circuit, and the second reference voltage is compared with the virtual power supply voltage. A test method for a semiconductor integrated circuit device, wherein the determination signal is generated.
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