JP5098766B2 - Suspension board, suspension, suspension with head and hard disk - Google Patents
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Description
本発明は、例えばHDDに用いられるサスペンション用基板に関するものである。 The present invention relates to a suspension substrate used in, for example, an HDD.
近年、インターネットの普及等によりパーソナルコンピュータの情報処理量の増大や情報処理速度の高速化が要求されてきており、それに伴って、パーソナルコンピュータに組み込まれているハードディスクドライブ(HDD)も大容量化や情報伝達速度の高速化が必要となってきている。そして、このHDDに用いられる磁気ヘッドを支持している磁気ヘッドサスペンションと呼ばれる部品も、従来の金ワイヤ等の信号線を接続するタイプから、ステンレスのばねに直接銅配線等の信号線が形成されている、いわゆるワイヤレスサスペンションと呼ばれる配線一体型のもの(フレキシャー)に移行している。 In recent years, due to the spread of the Internet and the like, there has been a demand for an increase in the amount of information processing of personal computers and an increase in information processing speed, and along with this, the capacity of hard disk drives (HDD) incorporated in personal computers has increased. Increasing information transmission speed is required. In addition, a component called a magnetic head suspension that supports the magnetic head used in the HDD also has a signal line such as a copper wiring directly formed on a stainless steel spring from a conventional type in which a signal line such as a gold wire is connected. The so-called wireless suspension is now integrated into a wiring integrated type (flexure).
最近では、携帯用途を初めとする各種小型機器に搭載するHDDへの要求が増加してきており、そのためHDDが高密度化すると共に磁気ヘッドの小型化が進み、磁気ヘッドはその高感度化により、静電気の帯電による影響を受け易くなっている。したがって、スライダーに溜まる電荷により、小型の磁気ヘッド素子の特性が変化したり、最悪の場合は破壊するという問題があった。 Recently, there has been an increase in demand for HDDs mounted on various small devices such as portable applications. For this reason, HDDs have become denser and magnetic heads have become smaller, and magnetic heads have become more sensitive. It is easily affected by static electricity. Therefore, there has been a problem that the characteristics of the small magnetic head element are changed by the electric charge accumulated in the slider, or in the worst case, it is destroyed.
また、別の問題として、HDDの信号伝達速度および精度を向上させるために、近年、より高周波数の電気信号が用いられる傾向があるが、周波数が高くなるにつれ、送信される電気信号のノイズが増加するという問題があった。 Further, as another problem, in order to improve the signal transmission speed and accuracy of the HDD, in recent years, there has been a tendency to use a higher frequency electric signal. However, as the frequency becomes higher, the noise of the transmitted electric signal becomes smaller. There was a problem of increasing.
これらの問題に対して、磁気ヘッドスライダーとサスペンションとの間に導電性樹脂を用いて電気的接続を行う接地手段が用いられてきた。しかしながら、現状の導電性樹脂は、導電性が十分ではないため、このような導電性樹脂を用いた接続では、十分に静電気を除去することができないという問題があった。また、上記導電性樹脂は、十分な接着力を持たないため、スライダーとサスペンションとを十分な強度で接着することができないという問題があった。 In order to solve these problems, a grounding means has been used for electrical connection using a conductive resin between the magnetic head slider and the suspension. However, since the current conductive resin is not sufficiently conductive, there is a problem that static electricity cannot be sufficiently removed by connection using such a conductive resin. Further, since the conductive resin does not have a sufficient adhesive force, there is a problem that the slider and the suspension cannot be bonded with sufficient strength.
これに対して、特許文献1では、スライダーに接続した接地用配線を、金属基板上で、導電性樹脂を用いて電気的接続を行うこと等を提案している。このような方法によれば、スライダーと金属基板との接着に、導電性樹脂等の接着力の低い接着剤を用いる必要がなく、強い接着力を有する接着剤を用いることができるが、上記接地用配線と、金属基板とを導電性樹脂を用いて接続しているため、静電気を十分に除去することができないという問題があった。
On the other hand,
また、特許文献2では、静電破壊防止およびノイズ抑制のために、金属基板上に積層された絶縁層の表面上に金属パッドが形成され、さらに上記絶縁層および金属パッドに金属基板が露出するように形成された貫通孔に、上記金属基板および金属パッドを接続するグランド端子が形成された接地手段が提案されている。このような接地手段によれば、上記金属パッドに、スライダーと接続した接地用配線を接続することで、上記スライダーの静電破壊防止を図ることができる。また、上記金属パットを信号用配線の近傍に設置することにより、サスペンション用基板上に発生するノイズの抑制を図ることができ、信号用配線を通る信号の安定化を図ることができる。
しかしながら、特許文献2に開示されている接地手段では、通常、上記金属パッドに上記グランド端子によって被覆されない箇所であるプラットホームが形成されるため、上記金属パッドの設置面積が広いものとなり、近年のHDDの高密度化に伴う磁気ヘッドの小型化によって、設置スペースの微小化が求められているサスペンション用基板への設置が困難となる場合が生じる可能性があるといった問題があった。また、このようなプラットホームを有する金属パッドを小型化した場合、グランド端子を形成する際に、高い位置精度が要求されることにより、形成が困難となる可能性があるといった問題があった。
In
However, in the grounding means disclosed in
また、このようなサスペンション用基板において、金属パッドとしては、通常、配線と同様に銅からなるものが用いられ、金属基板としてはステンレスが用いられる。さらに、一般的にグランド端子の形成に用いられるはんだペーストは、ステンレスよりも銅との濡れ性が高いものである。このため、特許文献3に開示されているように、金属パッドに形成された貫通孔に、はんだペースト等を印刷等により付着させグランド端子を形成した場合、溶融後のはんだは、金属基板よりも濡れ性の高い金属パッド上に移動する。その結果、はんだが、貫通孔内に十分に充填されず、金属パッドと金属基板との接続が不安定なものとなるといった問題があった。
In such a suspension substrate, the metal pad is usually made of copper like the wiring, and the metal substrate is stainless steel. Furthermore, the solder paste generally used for forming the ground terminal is higher in wettability with copper than stainless steel. Therefore, as disclosed in
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、高密度化されてピッチの狭い信号用配線が形成されている場合であっても、静電破壊防止やノイズ抑制を十分、かつ、確実に図ることができる接地手段を有するサスペンション用基板を提供することを主目的とするものである。 The present invention has been made in view of the above problems, and even when the signal wiring is formed with a high density and a narrow pitch, sufficient prevention of electrostatic breakdown and noise suppression, and The main object of the present invention is to provide a suspension substrate having a grounding means that can be reliably achieved.
本発明は、上記目的を達成するために、金属基板と、上記金属基板上に形成され、上記金属基板が露出するグランド端子用開口部を有する絶縁層と、上記絶縁層上に形成され、上記グランド端子用開口部の周囲を囲む開口形成部を含む接地用配線と、上記グランド端子用開口部にグランド端子用材料が充填されて形成され、上記金属基板および上記接地用配線に接続されたグランド端子とを有するサスペンション用基板であって、上記開口形成部が、上記グランド端子用材料によって全幅にわたって被覆され、上記グランド端子が、上記グランド端子用開口部内の上記金属基板を給電層として用いた電解めっき法により充填された上記グランド端子用材料からなるものであることを特徴とするサスペンション用基板を提供する。 In order to achieve the above object, the present invention is formed on a metal substrate, an insulating layer formed on the metal substrate and having a ground terminal opening from which the metal substrate is exposed, and formed on the insulating layer. A ground wiring including an opening forming portion surrounding the periphery of the ground terminal opening, and a ground connected to the metal substrate and the ground wiring formed by filling the ground terminal opening with a ground terminal material. A suspension substrate having a terminal, wherein the opening forming portion is covered with the ground terminal material over the entire width, and the ground terminal is an electrolysis using the metal substrate in the opening for the ground terminal as a power feeding layer. Provided is a suspension substrate characterized by being made of the above ground terminal material filled by plating.
本発明によれば、上記接地用配線に含まれる開口形成部が、上記グランド端子用材料によって全幅にわたって被覆されていることにより、上記グランド端子用材料の形成時に高い位置精度が要求されず、上記開口形成部の小型化を容易なものとすることができる。このため、高密度化されてピッチの狭い信号用配線が形成されていても、上記開口形成部を含む接地用配線を、容易に形成することができ、静電破壊防止やノイズ抑制を十分に図ることができる。
また、上記開口形成部が、上記グランド端子用材料によって全幅にわたって被覆されていることにより、接続安定性に優れたものとすることができる。
さらに、上記グランド端子が電解めっき法により充填されて形成されていることにより、上記グランド端子が上記金属基板および上記接地用配線と安定的に接続するものとすることができる。その結果、静電破壊防止やノイズ抑制を確実に図ることができる。
According to the present invention, since the opening forming portion included in the ground wiring is covered with the ground terminal material over the entire width, high positional accuracy is not required when the ground terminal material is formed. The opening forming portion can be easily reduced in size. For this reason, even if the signal wiring having a high density and a narrow pitch is formed, the grounding wiring including the opening forming portion can be easily formed, sufficiently preventing electrostatic breakdown and suppressing noise. You can plan.
Further, since the opening forming portion is covered with the ground terminal material over the entire width, the connection stability can be improved.
Furthermore, since the ground terminal is formed by being filled by electrolytic plating, the ground terminal can be stably connected to the metal substrate and the grounding wiring. As a result, it is possible to reliably prevent electrostatic breakdown and suppress noise.
本発明においては、上記接地用配線の表面が、上記グランド端子を形成するグランド端子用材料によって直接被覆されているものであっても良い。上記接地用配線の表面が、上記グランド端子を形成するグランド端子用材料によって直接被覆されていることにより、上記接地用配線の表面に保護めっき層が形成されない場合であっても、上記接地用配線の腐食防止を図ることができ、本発明のサスペンション用基板を、容易に製造できるものとすることができるからである。また、上記保護めっき層の形成に必要となる、上記接地用配線と、サスペンション用基板上の信号用配線との接続を考慮しなくて良いため、上記接地用配線の信号用配線設計の自由度を大きなものとすることができるからである。さらに、ブリッジの形成を不要なものとすることができるため、本発明のサスペンション用基板を、ばね特性等の調整が容易なものとすることができるからである。 In the present invention, the surface of the ground wiring may be directly covered with a ground terminal material forming the ground terminal. Even if the surface of the ground wiring is directly covered with the ground terminal material forming the ground terminal, no protective plating layer is formed on the surface of the ground wiring. This is because the suspension substrate of the present invention can be easily manufactured. In addition, since it is not necessary to consider the connection between the grounding wiring and the signal wiring on the suspension board, which is necessary for forming the protective plating layer, the degree of freedom in designing the signal wiring of the grounding wiring. This is because it can be made large. Furthermore, since it is possible to eliminate the formation of a bridge, the suspension substrate of the present invention can be easily adjusted in spring characteristics and the like.
本発明においては、上記接地用配線の表面が、保護めっき層によって直接被覆されているものであっても良い。上記接地用配線の表面が、保護めっき層によって直接被覆されているものであることにより、上記接地用配線を腐食に強いものとすることができるからである。 In the present invention, the surface of the ground wiring may be directly covered with a protective plating layer. This is because the surface of the grounding wiring is directly covered with a protective plating layer, whereby the grounding wiring can be made resistant to corrosion.
本発明においては、上記接地用配線の開口形成部の外径が、50μm〜400μmの範囲内であることが好ましい。上記接地用配線の開口形成部の外径が上記範囲内であることにより、上記接地用配線の面積を狭いものとすることができるため、高密度化されてピッチの狭い信号用配線が形成されていても、上記接地用配線を容易に形成することができるからである。 In the present invention, it is preferable that the outer diameter of the opening forming portion of the ground wiring is in the range of 50 μm to 400 μm. Since the outer diameter of the opening forming portion of the grounding wiring is within the above range, the area of the grounding wiring can be reduced, so that the signal wiring with a high density and a narrow pitch is formed. This is because the grounding wiring can be easily formed.
本発明においては、上記絶縁層のグランド端子用開口部の直径が、30μm〜300μmの範囲内であることが好ましい。上記絶縁層のグランド端子用開口部の直径が、上記範囲より大きいと、高密度化されてピッチの狭い信号用配線が形成されているサスペンション用基板上に、上記グランド端子用開口部を形成することが困難となるからであり、上記範囲より小さいと、形成が困難となるからである。 In the present invention, the diameter of the opening for the ground terminal of the insulating layer is preferably in the range of 30 μm to 300 μm. If the diameter of the ground terminal opening in the insulating layer is larger than the above range, the ground terminal opening is formed on the suspension substrate on which the signal wiring with a high density and a narrow pitch is formed. This is because it becomes difficult, and if it is smaller than the above range, formation becomes difficult.
本発明は、上記サスペンション用基板を含むことを特徴とするサスペンションを提供する。 The present invention provides a suspension including the suspension substrate.
本発明によれば、上記サスペンション用基板を含むものであるため、静電破壊やノイズの少ないものとすることができる。 According to the present invention, since the suspension substrate is included, electrostatic breakdown and noise can be reduced.
本発明は、上記サスペンションと、上記サスペンション上に搭載された磁気ヘッドスライダーとを有することを特徴とするヘッド付サスペンションを提供する。 The present invention provides a suspension with a head comprising the suspension and a magnetic head slider mounted on the suspension.
本発明によれば、上記サスペンションを含むものであるため、静電破壊やノイズの少ないものとすることができる。 According to the present invention, since the suspension is included, electrostatic breakdown and noise can be reduced.
本発明は、上記ヘッド付サスペンションを含むことを特徴とするハードディスクドライブを提供する。 The present invention provides a hard disk drive including the suspension with a head.
本発明によれば、上記ヘッド付サスペンションを含むものであるため、静電破壊やノイズの少ないものとすることができる。その結果、データ信頼性等に優れたものとすることができる。 According to the present invention, since the suspension with the head is included, the electrostatic breakdown and noise can be reduced. As a result, the data reliability and the like can be improved.
本発明においては、高密度化されてピッチの狭い信号用配線が形成されている場合であっても、静電破壊防止やノイズ抑制を十分、かつ、確実に図ることができる接地手段を有するサスペンション用基板を提供することできるという効果を奏する。 In the present invention, a suspension having a grounding means capable of sufficiently and reliably preventing electrostatic breakdown and suppressing noise even when a signal wiring having a high density and a narrow pitch is formed. There is an effect that a circuit board can be provided.
本発明は、サスペンション用基板、これを用いたサスペンション、ヘッド付サスペンション、およびハードディスクドライブに関するものである。
以下、本発明のサスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、およびハードディスクドライブについて詳細に説明する。
The present invention relates to a suspension board, a suspension using the same, a suspension with a head, and a hard disk drive.
Hereinafter, the suspension substrate, suspension, suspension with head, and hard disk drive of the present invention will be described in detail.
A.サスペンション用基板
まず、本発明のサスペンション用基板について説明する。本発明のサスペンション用基板は、金属基板と、上記金属基板上に形成され、上記金属基板が露出するグランド端子用開口部を有する絶縁層と、上記絶縁層上に形成され、上記グランド端子用開口部の周囲を囲む開口形成部を含む接地用配線と、上記グランド端子用開口部にグランド端子用材料が充填されて形成され、上記金属基板および上記接地用配線に接続されたグランド端子とを有し、上記グランド端子が、上記グランド端子用開口部内の上記金属基板を給電層として用いた電解めっき法により充填された上記グランド端子用材料からなるものであることを特徴とするものであって、上記接地用配線の表面が、保護めっき層によって直接被覆されている態様(第1態様)と、上記接地用配線の表面が、上記グランド端子を形成するグランド端子用材料によって直接被覆されている態様(第2態様)との2つの態様に分けることができる。以下、本発明のサスペンション用基板を、各態様に分けて説明する。
A. First, the suspension substrate of the present invention will be described. The suspension substrate of the present invention includes a metal substrate, an insulating layer formed on the metal substrate and having a ground terminal opening from which the metal substrate is exposed, and formed on the insulating layer, the ground terminal opening. A grounding wiring including an opening forming portion surrounding the periphery of the portion, and a ground terminal formed by filling the ground terminal opening with a ground terminal material and connected to the metal substrate and the grounding wiring. The ground terminal is made of the ground terminal material filled by an electrolytic plating method using the metal substrate in the opening for the ground terminal as a power feeding layer, A mode in which the surface of the grounding wiring is directly covered with a protective plating layer (first mode) and a surface on which the surface of the grounding wiring forms the ground terminal. It can be divided into two aspects of the embodiment (second embodiment), which is covered directly by a mode pin material. Hereinafter, the suspension substrate of the present invention will be described separately for each embodiment.
1.第1態様
まず、本発明のサスペンション用基板の第1態様について説明する。本態様のサスペンション用基板は、上述したサスペンション用基板において、上記接地用配線の表面が、保護めっき層によって直接被覆されている態様である。
1. First Aspect First, a first aspect of the suspension substrate of the present invention will be described. The suspension substrate according to this aspect is an aspect in which the surface of the ground wiring is directly covered with a protective plating layer in the above-described suspension substrate.
このような本態様のサスペンション用基板を、図を参照して説明する。図1は、本態様のサスペンション用基板の一例を示す平面図であり、図2は、図1のA−A線の断面図である。図1および図2に例示するように、本態様のサスペンション用基板10は、金属基板1と、上記金属基板1上に形成され、上記金属基板1が露出するグランド端子用開口部3を有する絶縁層2と、上記絶縁層2上に形成され、上記グランド端子用開口部3の周囲を囲む開口形成部5を含む接地用配線4と、上記グランド端子用開口部3にグランド端子用材料6が充填されて形成され、上記金属基板1および上記接地用配線4に接続されたグランド端子7とを有するものである。
ここで、上記開口形成部5は、その上面が上記グランド端子用材料6によって全幅にわたって被覆されており、上記グランド端子用材料6によって被覆されていない箇所であるプラットホームが形成されていない。また、上記開口形成部5を含む接地用配線4の表面の全てが、保護めっき層8によって直接被覆されている。
また、上記グランド端子は、上記グランド端子用開口部内の上記金属基板を給電層として用いた電解めっき法により充填された上記グランド端子用材料からなるものである。
Such a suspension substrate of this embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a plan view showing an example of the suspension substrate according to this embodiment, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. As illustrated in FIGS. 1 and 2, the
Here, the upper surface of the
The ground terminal is made of the ground terminal material filled by an electrolytic plating method using the metal substrate in the opening for the ground terminal as a power feeding layer.
従来では、図20に例示する平面図、および図20のB−B線断面図である図21に例示するように、金属基板101と、金属基板101上に形成され、グランド端子用開口部103を有する絶縁層102と、上記グランド端子用開口部103の周囲を囲むように形成された開口形成部105を含む接地用配線104と、上記接地用配線104の表面を直接被覆するように形成された保護めっき層108と、上記金属基板101および接地用配線105に接続するように充填されたグランド端子用材料106と、上記グランド端子用材料106が上記グランド端子用開口部103に充填されることにより形成されたグランド端子107とを有するものであり、さらに上記接地用配線104に含まれる開口形成部105が、その上面に上記グランド端子用材料106によって被覆されていない箇所であるプラットホーム109を有するサスペンション用基板100が用いられてきた。このように、従来のサスペンション用基板は、上記接地用配線に含まれる開口形成部に、上記グランド端子によって被覆されない箇所であるプラットホームを有するように形成されるものであるため、上記接地用配線の設置面積が広いものとなり、近年のHDDの高密度化に伴う磁気ヘッドの小型化によって、設置スペースの微小化が求められているサスペンション用基板の用途に用いることが困難となるといった問題があった。また、このようなプラットホームが形成される開口形成部を小型化した場合、それに合わせて、上記グランド端子用材料の形成面積も狭くなり、グランド端子を形成する際に、高い位置精度が要求され、形成が困難であるといった問題があった。
Conventionally, as illustrated in FIG. 21 which is a plan view illustrated in FIG. 20 and a cross-sectional view taken along the line BB in FIG. 20, the
一方、本態様によれば、上記接地用配線に含まれる開口形成部が、上記グランド端子用材料によって全幅にわたって被覆されていることにより、上記開口形成部を小型化した場合であっても、上記グランド端子用材料の形成時に高い位置精度が要求されないものとすることができる。このため、上記開口形成部の小型化を容易なものとすることができ、高密度化されてピッチの狭い信号用配線が形成されていても、上記開口形成部を含む接地用配線を、容易に形成することができる。
また、上記開口形成部が、上記グランド端子用材料によって全幅にわたって被覆されていることにより、接続安定性に優れたものとすることができる。
さらに、上記グランド端子用開口部に上記グランド端子用材料が充填されて形成され、上記金属基板および上記接地用配線に接続されたグランド端子を有することにより、このような接地用配線を、例えば、スライダーに接続した場合には、上記スライダーの静電破壊防止、およびノイズの抑制を十分に図ることができる。またサスペンション用基板上に形成された信号用配線の近傍に設置した場合には、上記サスペンション用基板上に発生するノイズの抑制を十分に図ることができ、信号用配線を通る信号の安定化を図ることができる。
またさらに、上記接地用配線に、保護めっき層が形成されているため、上記接地用配線を腐食に強いものとすることができる。
On the other hand, according to this aspect, even if the opening forming portion included in the grounding wiring is covered over the entire width by the ground terminal material, the opening forming portion can be downsized. It is possible that high positional accuracy is not required when forming the ground terminal material. For this reason, it is possible to easily reduce the size of the opening forming portion, and even if the signal wiring having a high density and a narrow pitch is formed, the grounding wiring including the opening forming portion can be easily formed. Can be formed.
Further, since the opening forming portion is covered with the ground terminal material over the entire width, the connection stability can be improved.
Further, the ground terminal material is formed by filling the ground terminal opening with the ground terminal material, and has a ground terminal connected to the metal substrate and the ground wiring. When connected to the slider, the slider can be sufficiently prevented from electrostatic damage and noise can be sufficiently suppressed. In addition, when installed near the signal wiring formed on the suspension board, noise generated on the suspension board can be sufficiently suppressed, and the signal passing through the signal wiring can be stabilized. You can plan.
Furthermore, since the protective plating layer is formed on the ground wiring, the ground wiring can be made resistant to corrosion.
また、上記金属基板を給電層として用いることにより、上記グランド端子用材料は、上記金属基板表面から積層される。このため、上記グランド端子用開口部内は、上記グランド端子用材料により確実に充填される。このようなことから、上記接地用配線が上記グランド端子用材料と接した状態とすることにより、上記接地用配線は、上記金属基板と確実に接続されたものとすることができる。したがって、上記グランド端子が電解めっき法により充填されて形成されていることにより、上記グランド端子が上記金属基板および上記接地用配線と安定的に接続するものとすることができるのである。また、その結果、静電破壊防止やノイズ抑制を確実に図ることができるのである。 Further, by using the metal substrate as a power feeding layer, the ground terminal material is laminated from the surface of the metal substrate. For this reason, the inside of the opening for ground terminal is reliably filled with the material for ground terminal. For this reason, by setting the grounding wiring in contact with the ground terminal material, the grounding wiring can be reliably connected to the metal substrate. Therefore, the ground terminal can be stably connected to the metal substrate and the ground wiring by being formed by filling the ground terminal by an electrolytic plating method. As a result, it is possible to reliably prevent electrostatic breakdown and suppress noise.
本態様のサスペンション用基板は、金属基板、絶縁層、接地用配線、グランド端子、および保護めっき層を有するものである。以下、本態様のサスペンション用基板の各構成について説明する。 The suspension substrate of this aspect has a metal substrate, an insulating layer, a grounding wiring, a ground terminal, and a protective plating layer. Hereinafter, each configuration of the suspension substrate according to this aspect will be described.
(1)グランド端子
本態様に用いられるグランド端子は、グランド端子用開口部に、グランド端子用材料が充填されて形成され、後述する接地用配線および金属基板に接続されるものである。
ここで、金属基板および接地用配線に接続されるとは、上記金属基板および接地用配線に直接接触していることのみを指すのではなく、上記グランド端子が、上記金属基板および接地用配線を電気的に接続し、導通させることができることをいう。したがって、上記金属基板および接地用配線と、上記グランド端子とが導電性を有する材料からなる他の層を介して接続している場合も含むものである。
(1) Ground terminal The ground terminal used in this embodiment is formed by filling a ground terminal material in a ground terminal opening, and is connected to a ground wiring and a metal substrate described later.
Here, being connected to the metal substrate and the ground wiring does not only mean that the metal substrate and the ground wiring are in direct contact, but the ground terminal connects the metal substrate and the ground wiring. It means that it can be electrically connected and conducted. Therefore, the case where the metal substrate and the grounding wiring are connected to the ground terminal via another layer made of a conductive material is included.
(a)グランド端子用開口部
本態様に用いられるグランド端子が形成されるグランド端子用開口部は、後述する絶縁層に金属基板が露出するように形成されるものであり、その周囲が後述する接地用配線に含まれる開口形成部によって囲まれているものである。
(A) Opening for ground terminal The opening for ground terminal in which the ground terminal used in this embodiment is formed is formed so that the metal substrate is exposed in an insulating layer to be described later, and its periphery will be described later. It is surrounded by an opening forming portion included in the ground wiring.
本態様に用いられるグランド端子用開口部の平面視形状としては、グランド端子用材料を充填し、グランド端子を形成することができるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、半円状、円状、楕円状、四角形または五角形等の任意の多角形状、櫛状、十字状および棒状等を挙げることができるが、通常、円状のものが用いられる。
本態様において、上記グランド端子用開口部の形状が円状である場合、その直径は、30μm〜300μmの範囲内であることが好ましく、なかでも30μm〜200μmの範囲内であることが好ましく、特に50μm〜100μmの範囲内であることが好ましく、なかでも特に、50μm〜60μmの範囲内であることが好ましい。上記範囲より大きいと、高密度化されてピッチの狭い信号用配線が形成されているサスペンション用基板上に、上記グランド端子用開口部を形成することが困難となるからであり、上記範囲より小さいと、形成が困難となるからである。
The shape of the opening for ground terminal used in the present embodiment in plan view is not particularly limited as long as it can fill the ground terminal material and form the ground terminal. Shape, circle, ellipse, quadrilateral or pentagonal polygonal shape, comb shape, cross shape, rod shape and the like can be mentioned, but a circular shape is usually used.
In this aspect, when the shape of the opening for the ground terminal is circular, the diameter thereof is preferably within a range of 30 μm to 300 μm, and more preferably within a range of 30 μm to 200 μm. It is preferably in the range of 50 μm to 100 μm, and particularly preferably in the range of 50 μm to 60 μm. If it is larger than the above range, it becomes difficult to form the ground terminal opening on the suspension substrate on which the signal wiring with high density and narrow pitch is formed. This is because formation becomes difficult.
本態様のグランド端子用開口部の、後述する接地用配線の開口形成部に対する形成位置としては、上記グランド端子用開口部の周囲の全てが、上記開口形成部によって、囲まれるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、図3に示すように上記グランド端子用開口部の外縁部と、上記開口形成部の外縁部との距離が一定となるように形成されたものであっても良く、図4および図5に示すように、上記グランド端子用開口部の外縁部と、上記開口形成部の外縁部との距離が一定でないように形成されたものであっても良い。
本態様においては、なかでも、図3および図4に示すように、上記開口形成部が、上記接地用配線のうち上記グランド端子用開口部の近隣でその外径が広くなるように形成されていることが好ましい。上記開口形成部によって周囲を囲まれたグランド端子用開口部を容易に形成することができるからである。
また、本態様においては、特に、上記グランド端子用開口部の外縁部と、上記開口形成部の外縁部との距離が一定となるように形成されていることが好ましい。上記開口形成部によって囲まれたグランド端子用開口部をより容易に形成することができるからである。
なお、図3〜5では、上記接地用配線の説明の容易のため、本態様のサスペンション用基板を構成するグランド端子用材料、保護めっき層についての描画を省略した。
As the formation position of the ground terminal opening of this aspect with respect to the opening forming portion of the grounding wiring to be described later, particularly if the entire periphery of the ground terminal opening is surrounded by the opening forming portion. For example, as shown in FIG. 3, the distance between the outer edge of the ground terminal opening and the outer edge of the opening forming part may be constant. As shown in FIGS. 4 and 5, the distance between the outer edge of the opening for ground terminal and the outer edge of the opening forming portion may be not constant.
In this aspect, as shown in FIG. 3 and FIG. 4, the opening forming portion is formed so that its outer diameter is wide in the vicinity of the ground terminal opening in the ground wiring. Preferably it is. This is because a ground terminal opening surrounded by the opening forming portion can be easily formed.
In this aspect, it is particularly preferable that the distance between the outer edge portion of the ground terminal opening and the outer edge portion of the opening forming portion is constant. This is because the ground terminal opening surrounded by the opening forming portion can be formed more easily.
In FIGS. 3 to 5, the drawing of the ground terminal material and the protective plating layer constituting the suspension substrate of this aspect is omitted for easy explanation of the ground wiring.
(b)グランド端子用材料
本態様に用いられるグランド端子用材料は、上記グランド端子用開口部に充填され、上記接地用配線および金属基板に接続されるものであって、さらに後述する接地用配線に含まれる開口形成部を全幅にわたって被覆するように形成されるものである。
ここで、開口形成部を全幅にわたって被覆するとは、上記グランド端子用開口部の周囲を囲むように形成される開口形成部の表面のうち、少なくとも上面の全てを被覆するものである。
(B) Ground terminal material The ground terminal material used in this embodiment is filled in the opening for the ground terminal and connected to the ground wiring and the metal substrate. Is formed so as to cover the entire width of the opening forming portion included in the.
Here, covering the opening forming portion over the entire width means covering at least the entire upper surface of the surface of the opening forming portion formed so as to surround the periphery of the opening for ground terminal.
本態様に用いられるグランド端子用材料の種類は、優れた導電性を有する導電性材料であって、上記グランド端子用開口部に充填することができるものであれば、特に限定されるものではないが、上金属基板および接地用配線との密着性に優れた材料であることが好ましい。このような材料としては金属を挙げることができる。具体的には、銀(Ag)、金(Au)、銅(Cu)、ニッケル(Ni)等を用いることができ、なかでも銀(Ag)、ニッケル(Ni)を好ましく用いることができ、特にニッケル(Ni)を好ましく用いることができる。導電性に優れ、かつ安価だからである。また、耐腐食性に優れた材料だからである。
なお、これらの材料は、XPS(X-ray Photoelectron Spectroscopy)により同定することができる。
The type of the ground terminal material used in this embodiment is not particularly limited as long as it is a conductive material having excellent conductivity and can fill the opening for the ground terminal. However, it is preferable that the material has excellent adhesion to the upper metal substrate and the ground wiring. Examples of such a material include metals. Specifically, silver (Ag), gold (Au), copper (Cu), nickel (Ni) and the like can be used, and among them, silver (Ag) and nickel (Ni) can be preferably used. Nickel (Ni) can be preferably used. This is because it is highly conductive and inexpensive. Moreover, it is because it is a material excellent in corrosion resistance.
These materials can be identified by XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy).
本発明に用いられるグランド端子用材料を充填する方法としては、上記グランド端子用材料が金属の場合には、電解めっきを用いることができる。グランド端子の抵抗値を低くできること、微細化が容易なことから好ましいからである。また、上記グランド端子が電解めっき法により充填されて形成されていることにより、上記グランド端子が上記金属基板および上記接地用配線と安定的に接続するものとすることができる。その結果、静電破壊防止やノイズ抑制を確実に図ることができるからである。 As a method of filling the ground terminal material used in the present invention, when the ground terminal material is a metal, electrolytic plating can be used. This is because the resistance value of the ground terminal can be lowered and miniaturization is easy. Further, since the ground terminal is formed by being filled by electrolytic plating, the ground terminal can be stably connected to the metal substrate and the grounding wiring. As a result, it is possible to reliably prevent electrostatic breakdown and suppress noise.
また、上記グランド端子用材料としてニッケルを用い、電解めっき法によりグランド端子を形成する場合、電解Niめっき液としては、所望の形状にグランド端子を形成することができるものであれば良いが、ワット浴、スルファミン酸浴等を用いることができる。また、めっき浴には、適宜、添加剤を入れることにより、光沢度や皮膜応力を調整することが可能である。 In addition, when nickel is used as the ground terminal material and the ground terminal is formed by electrolytic plating, any electrolytic Ni plating solution may be used as long as it can form the ground terminal in a desired shape. A bath, a sulfamic acid bath, or the like can be used. Moreover, it is possible to adjust glossiness and film | membrane stress by adding an additive to a plating bath suitably.
本態様に用いられるグランド端子用材料の形成箇所としては、上記グランド端子用開口部に充填され、上記接地用配線および金属基板に接続されるものであって、少なくとも後述する接地用配線に含まれる開口形成部を全幅にわたって被覆するように形成されているものであれば特に限定されるものではなく、既に説明した図1に示すように、平面視上、上記開口形成部の表面の全て、および上記グランド端子用開口部3に隣接する接地用配線の表面を被覆するように形成されるものであっても良く、図6に例示するように、上記開口形成部を含む接地用配線の表面の全てを被覆するように形成されるものであっても良い。
The ground terminal material used in this aspect is formed in the ground terminal opening and is connected to the ground wiring and the metal substrate, and is included in at least the ground wiring described later. It is not particularly limited as long as it is formed so as to cover the entire width of the opening forming portion, and as shown in FIG. 1 described above, in plan view, all of the surface of the opening forming portion, and It may be formed so as to cover the surface of the grounding wiring adjacent to the
本態様に用いられるグランド端子用材料の、上記グランド端子用開口部における膜厚としては、後述する金属基板および接地用配線に安定に接続することができ、さらに上記接地用配線に含まれる開口形成部を安定的に被覆するものであれば良く、また、後述する絶縁層の膜厚によっても異なるものであるが、100nm〜50μmの範囲内であることが好ましく、なかでも1μm〜20μmの範囲内であることが好ましい。上記範囲であることにより、上記グランド端子用材料が、上記金属基板および接地用配線に安定的に接続することができ、また上記開口形成部を全幅にわたって安定的に被覆することができるからである。
なお、上記グランド端子用開口部における膜厚とは、上記金属基板表面から鉛直方向に、上記グランド端子用材料の表面までの距離のうち、最も短い距離である。
Regarding the film thickness of the ground terminal material used in this embodiment, the film thickness in the opening for the ground terminal can be stably connected to a metal substrate and a grounding wiring, which will be described later. However, it is preferably within the range of 100 nm to 50 μm, and more preferably within the range of 1 μm to 20 μm. It is preferable that By being in the above range, the ground terminal material can be stably connected to the metal substrate and the ground wiring, and the opening forming portion can be stably covered over the entire width. .
The film thickness in the opening for the ground terminal is the shortest distance among the distances from the surface of the metal substrate to the surface of the ground terminal material in the vertical direction.
本態様に用いられるグランド端子用材料の、上記開口形成部の上面における膜厚としては、上記グランド端子用材料が、上記開口形成部を全幅にわたって被覆するように形成することができるものであれば特に限定されるものではないが、5μm〜40μmの範囲内であることが好ましく、なかでも15μm〜35μmの範囲内であることが好ましい。上記範囲であることにより、上記グランド端子用材料が、上記開口形成部を全幅にわたって安定的に被覆することを容易なものとすることができるからである。また、本態様のサスペンション用基板と、上記サスペンション用基板に設置されるスライダー等の部品とが接触する恐れを少ないものとすることができるからである。 As the film thickness of the ground terminal material used in this embodiment on the upper surface of the opening forming portion, the ground terminal material can be formed so as to cover the entire width of the opening forming portion. Although not particularly limited, it is preferably in the range of 5 to 40 μm, and more preferably in the range of 15 to 35 μm. This is because, by being in the above range, the ground terminal material can easily cover the opening forming portion stably over the entire width. Further, it is possible to reduce the possibility of contact between the suspension substrate of this aspect and a component such as a slider installed on the suspension substrate.
(c)グランド端子
本態様に用いられるグランド端子は、上記グランド端子用開口部に、上記グランド端子用材料が充填されて形成され、後述する接地用配線および金属基板に接続されるものである。
(C) Ground terminal The ground terminal used in this aspect is formed by filling the ground terminal material with the ground terminal material, and is connected to a ground wiring and a metal substrate, which will be described later.
上記グランド端子の抵抗値としては、静電破壊防止およびノイズ抑制を図ることができるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、5Ω以下であることが好ましく、なかでも1Ω以下であることが好ましく、特に0.10Ω〜0.25Ωの範囲内であることが好ましい。 The resistance value of the ground terminal is not particularly limited as long as it can prevent electrostatic breakdown and suppress noise. For example, it is preferably 5Ω or less, and more preferably 1Ω or less. It is particularly preferable that it is in the range of 0.10Ω to 0.25Ω.
(2)接地用配線
本態様に用いられる接地用配線は、後述する絶縁層上に形成され、開口形成部を含むものである。
(2) Grounding wiring The grounding wiring used in this embodiment is formed on an insulating layer described later and includes an opening forming portion.
(a)開口形成部
本態様に用いられる開口形成部は、上記接地用配線のうち、上記グランド端子用開口部の周囲を囲むように形成されている箇所である。
(A) Opening formation part The opening formation part used for this aspect is a location formed so that the circumference | surroundings of the said opening part for ground terminals may be enclosed among the said wiring for grounding.
本態様に用いられる接地用配線の開口形成部の形状としては、上記グランド端子用開口部の周囲を囲むように形成されているものであれば特に限定されるものではなく、既に説明した図3に示すように、上記グランド端子用開口部の外縁部と、上記開口形成部の外縁部との距離が一定となるように形成されたものであっても良く、図4および図5に示すように、上記グランド端子用開口部の外縁部と、上記開口形成部の外縁部との距離が一定でないように形成されたものであっても良い。
本態様においては、上記のいずれも好適に用いることができるが、なかでも、上述したように、上記開口形成部が、上記接地用配線のうち、上記グランド端子用開口部の近隣で、外径が広くなるように形成されるものであることが好ましく、特に、上記グランド端子用開口部の外縁部と、上記開口形成部の外縁部との距離が一定となるように形成されたものであることが好ましい。上記開口形成部が上記グランド端子用開口部の周囲を囲むように形成されることを容易なものとすることができるからである。
The shape of the opening forming portion of the ground wiring used in this embodiment is not particularly limited as long as it is formed so as to surround the ground terminal opening, and has already been described with reference to FIG. As shown in FIGS. 4 and 5, the distance between the outer edge portion of the ground terminal opening portion and the outer edge portion of the opening forming portion may be constant. Further, it may be formed such that the distance between the outer edge portion of the ground terminal opening and the outer edge portion of the opening forming portion is not constant.
In this aspect, any of the above can be suitably used. Especially, as described above, the opening forming portion has an outer diameter in the vicinity of the ground terminal opening in the ground wiring. Is preferably formed such that the distance between the outer edge of the opening for ground terminal and the outer edge of the opening forming portion is constant. It is preferable. This is because the opening forming portion can be easily formed to surround the ground terminal opening.
本態様に用いられる開口形成部の外径は、上記開口形成部が、上記グランド端子用開口部の周囲の全てを囲むように形成されるものであるため、上記グランド端子用開口部より大きいものであれば特に限定されるものではないが、50μm〜400μmの範囲内であることが好ましく、なかでも80μm〜300μmの範囲内であることが好ましく、特に100μm〜200μmの範囲内であることが好ましい。上記範囲であることにより、上記開口形成部の設置面積を狭いものとすることができるため、高密度化されて狭いピッチで信号用配線が形成されていても、上記開口形成部を含む接地用配線を容易に形成することができるからである。
また、本態様においては、上記開口形成部が、上記グランド端子用材料によって全幅にわたって被覆されていることにより、上記グランド端子用材料の形成時に高い位置精度が要求されず、上記開口形成部の小型化を容易なものとすることができる。このため、上記範囲であることにより、本態様のサスペンション用基板の効果をより発揮することができるからである。
さらに、上記開口形成部が上記グランド端子用材料によって被覆されることを容易なものとすることができるからである。
なお、上記外径とは、上記開口形成部の最大幅をいうこととする。
The outer diameter of the opening forming portion used in this aspect is larger than the opening for the ground terminal because the opening forming portion is formed so as to surround the entire periphery of the opening for the ground terminal. If it is, it is not particularly limited, but is preferably in the range of 50 μm to 400 μm, more preferably in the range of 80 μm to 300 μm, and particularly preferably in the range of 100 μm to 200 μm. . Since the installation area of the opening forming portion can be narrowed by being in the above range, even if the signal wiring is formed with a high density and a narrow pitch, the grounding including the opening forming portion is included. This is because the wiring can be easily formed.
Further, in this aspect, since the opening forming portion is covered over the entire width by the ground terminal material, high positional accuracy is not required when the ground terminal material is formed, and the opening forming portion is small. Can be made easy. For this reason, it is because the effect of the board | substrate for suspensions of this aspect can be exhibited more by being in the said range.
Further, it is possible to easily cover the opening forming portion with the ground terminal material.
The outer diameter refers to the maximum width of the opening forming portion.
(b)接地用配線
本態様に用いられる接地用配線は、上記開口形成部を含むものであり、開口形成部以外に、例えばスライダー接触部等の他の部分を含んでいても良い。
(B) Grounding wiring The grounding wiring used in this aspect includes the opening forming portion, and may include other portions such as a slider contact portion in addition to the opening forming portion.
このような接地用配線の形成位置としては、所望の静電破壊防止およびノイズ抑制を図ることができるものであれば特に限定されるものではなく、本発明のサスペンション用基板の用途等に応じて適宜設定することができる。具体的には、図7に例示するように、磁気ヘッドスライダーが搭載される、サスペンション用基板の先端部に設けても良い。図7においては、サスペンション用基板10の先端部にグランド端子用開口部3が形成され、スライダー設置位置20にスライダーが設置された際に、スライダーと接続することが可能な位置まで伸ばされ、開口形成部5を含む接地用配線4および電気信号を伝送する信号用配線14が形成されている。
また、図8に例示するように上記接地用配線4が、上記スライダー設置位置20を囲むように形成されるものであっても良い。通常、サスペンション用基板とスライダーとは接着剤を用いて接着されるものであるため、上記接地用配線が、上記サスペンション用基板とスライダーとが接着する箇所であるスライダー設置位置を囲むように形成されることで、接着剤の流れ出しを防ぐことができるからである。
さらに、図9に例示するように、サスペンション用基板の先端部以外の部分に設けても良い。図9においては、接地用配線4が、信号用配線14と信号用配線14との間に形成されており、また、開口形成部5およびグランド端子用開口部3も上記信号用配線14と信号用配線14との間に設けられている。このようにサスペンション用基板の先端部以外の部分に配置された配線間に設けられる場合には、上記接地用配線が上記配線に沿って形成されることが好ましい。ノイズ除去効果等に優れたものとすることができるからである。
なお、図7〜9では、上記接地用配線の説明の容易のため、本態様のサスペンション用基板を構成するグランド端子用材料、保護めっき層についての描画を省略した。
The position for forming such a grounding wiring is not particularly limited as long as it can achieve desired electrostatic breakdown prevention and noise suppression, depending on the use of the suspension substrate of the present invention. It can be set appropriately. Specifically, as illustrated in FIG. 7, the magnetic head slider may be provided at the tip of the suspension substrate on which the magnetic head slider is mounted. In FIG. 7, the
Further, as illustrated in FIG. 8, the
Furthermore, as illustrated in FIG. 9, it may be provided in a portion other than the tip portion of the suspension substrate. In FIG. 9, the
In FIGS. 7 to 9, drawing of the ground terminal material and the protective plating layer constituting the suspension substrate of the present embodiment is omitted for easy explanation of the grounding wiring.
本態様に用いられる接地用配線の材料としては、例えば銅(Cu)等を挙げることができる。 Examples of the material for the grounding wiring used in this embodiment include copper (Cu).
本態様に用いられる接地用配線の厚みとしては、所望の導電性を発揮することができれば、特に限定されるものではないが、通常6μm〜18μmの範囲内であることが好ましく、なかでも8μm〜12μmの範囲内であることが好ましい。上記範囲であることにより、本発明のサスペンション用基板に設置されるスライダー等の部品と接触する等の問題が生じないものとすることができるからである。 The thickness of the grounding wiring used in this embodiment is not particularly limited as long as the desired electrical conductivity can be exhibited, but it is usually preferably in the range of 6 μm to 18 μm, and more preferably 8 μm to It is preferably within the range of 12 μm. This is because within the above range, problems such as contact with parts such as a slider installed on the suspension substrate of the present invention can be prevented.
本態様に用いられる接地用配線の、上記開口形成部以外の線幅としては、10μm〜100μmの範囲内であることが好ましく、なかでも15μm〜50μmの範囲内であることが好ましい。上記範囲であることにより、高密度化によりピッチの狭い信号用配線が形成されている場合であっても、上記接地用配線を容易に形成することができるからである。 The line width other than the opening forming portion of the grounding wiring used in this embodiment is preferably within a range of 10 μm to 100 μm, and more preferably within a range of 15 μm to 50 μm. This is because, by being in the above range, the grounding wiring can be easily formed even when the signal wiring having a narrow pitch is formed by increasing the density.
(3)絶縁層
本態様に用いられる絶縁層は、後述する金属基板上に形成され、上記金属基板が露出するグランド端子用開口部を有するものである。
(3) Insulating layer The insulating layer used in this embodiment is formed on a metal substrate, which will be described later, and has a ground terminal opening through which the metal substrate is exposed.
上記絶縁層の材料としては、例えばポリイミド(PI)等を挙げることができる。 Examples of the material for the insulating layer include polyimide (PI).
上記絶縁層の厚みとしては、所望の絶縁性を発揮することができれば、特に限定されるものではないが、通常5μm〜30μm程度である。 The thickness of the insulating layer is not particularly limited as long as a desired insulating property can be exhibited, but is usually about 5 μm to 30 μm.
(4)金属基板
本態様に用いられる金属基板は、導電性を有し、さらにサスペンション用途に用いられるため、通常、適度なばね性を有するものである。
(4) Metal substrate The metal substrate used in this embodiment has electrical conductivity and is used for suspension applications, and therefore usually has an appropriate spring property.
上記金属基板の材料としては、例えば、SUS等を挙げることができる。 Examples of the material of the metal substrate include SUS.
本態様においては、上記金属基板が、グランド端子用開口部が形成される表面側に、導電層を有していることが好ましい。導電層を設けることにより、グランド端子による導通がより効率的になるからである。上記導電層の材料としては、具体的には、銅(Cu)等を挙げることができる。上記導電層は、例えばめっき法等により形成することができる。 In this aspect, it is preferable that the metal substrate has a conductive layer on the surface side where the ground terminal opening is formed. This is because by providing the conductive layer, conduction by the ground terminal becomes more efficient. Specific examples of the material for the conductive layer include copper (Cu). The conductive layer can be formed by, for example, a plating method.
上記金属基板の厚さとしては、所望のばね特性を発揮することができるものであれば特に限定されるものではなく、金属基板の材料等により異なるものであるが、通常10μm〜30μmの範囲内であることが好ましく、なかでも15μm〜25μmの範囲内であることが好ましい。 The thickness of the metal substrate is not particularly limited as long as a desired spring characteristic can be exhibited, and varies depending on the material of the metal substrate, but is usually within a range of 10 μm to 30 μm. It is preferable that it is in the range of 15 micrometers-25 micrometers especially.
(5)保護めっき層
本態様に用いられる保護めっき層は、上記接地用配線の表面に直接形成されるものである。上記接地用配線の材質は、通常、銅(Cu)であり、腐食を生じやすい。このため、上記接地用配線の表面に、他の金属からなる、保護めっき層を形成することによって、上記接地用配線を腐食に強いものとすることができる。
(5) Protective plating layer The protective plating layer used in this embodiment is directly formed on the surface of the ground wiring. The material of the grounding wiring is usually copper (Cu) and is likely to be corroded. For this reason, the grounding wiring can be made resistant to corrosion by forming a protective plating layer made of another metal on the surface of the grounding wiring.
本態様に用いられる保護めっき層は、上記接地用配線の表面のうち、少なくとも、後述するカバーレイ等が形成されず、腐食等から保護されない表面の全てを被覆するように形成されていれば良い。したがって、上記接地用配線の全ての表面を被覆するように形成されていても良く、カバーレイ等で被覆されない露出部分のみ形成されたものであっても良い。 The protective plating layer used in this embodiment may be formed so as to cover at least the entire surface of the grounding wiring that is not protected from corrosion or the like by a coverlay or the like to be described later. . Therefore, it may be formed so as to cover the entire surface of the grounding wiring, or only an exposed portion that is not covered with a coverlay or the like may be formed.
本態様に用いられる保護めっき層の形成材料としては、ニッケル(Ni)、金(Au)を用いることができ、なかでも、金(Au)を好ましく用いることができる。耐腐食性に優れる金属であるため、上記接地用配線を腐食に強いものとすることができるからである。 As a material for forming the protective plating layer used in this embodiment, nickel (Ni) or gold (Au) can be used, and among these, gold (Au) can be preferably used. This is because the metal having excellent corrosion resistance can make the grounding wiring resistant to corrosion.
本態様に用いられる保護めっき層の膜厚は、5μm以下、であることが好ましく、なかでも1μm〜2μmの範囲内であることが好ましい。上記範囲であることにより、上記接地用配線の表面に、上記保護めっき層を安定的に形成することが容易であるからである。 The thickness of the protective plating layer used in this embodiment is preferably 5 μm or less, and more preferably in the range of 1 μm to 2 μm. It is because it is easy to form the said protective plating layer stably in the surface of the said grounding wiring because it is the said range.
本態様に用いられる保護めっき層の形成方法としては、通常、低コスト化のために、上述した絶縁層上に、サスペンション用基板上で電気信号等を伝送する信号用配線、および接地用配線を、上記信号用配線および接地用配線が接続配線を介して接続するように形成する。次いで、上記信号用配線および接地用配線を給電層として用いることにより、上記信号用配線および接地用配線の表面に保護めっき層が形成される方法が好適に用いられる。また、上記信号用配線との接続配線を形成しないで、無電解めっきによって形成する方法も用いることができる。 As a method for forming the protective plating layer used in this embodiment, in order to reduce the cost, signal wiring for transmitting an electrical signal or the like on the above-described insulating layer and a grounding wiring are usually provided on the above-described insulating layer. The signal wiring and the ground wiring are formed so as to be connected via a connection wiring. Next, a method in which a protective plating layer is formed on the surfaces of the signal wiring and the ground wiring by using the signal wiring and the ground wiring as a power feeding layer is preferably used. Further, a method of forming by electroless plating without forming the connection wiring with the signal wiring can also be used.
(6)サスペンション用基板
本態様のサスペンション用基板は、必要に応じて、上記絶縁層上にカバーレイ(CL)を有するものであっても良い。上記カバーレイの厚みとしては、特に限定されるものではないが、通常5μm〜30μm程度である。上記カバーレイの材料としては、特に限定されるものではなく、一般的なフレキシブル基板等に用いられるカバーレイと同様の材料を用いることができる。
(6) Suspension substrate The suspension substrate of this aspect may have a cover lay (CL) on the insulating layer as necessary. Although it does not specifically limit as thickness of the said coverlay, Usually, it is about 5 micrometers-about 30 micrometers. The material of the cover lay is not particularly limited, and the same material as the cover lay used for a general flexible substrate or the like can be used.
このような材料としては、具体的には、感光性ドライフィルムや、液状カバー材を挙げることができる。
ここで、上記感光性ドライフィルムを用いたカバーレイの形成方法としては、上記感光性ドライフィルムを、ドライフィルムラミネータにて配線面上にラミネートする。次いで、露光用パターンを介して紫外線を照射することにより、必要な部分のみ像を形成する。そして、不要部については、使用したドライフィルムに適した現像液を用いて除去する方法を挙げることができる。また、このカバーレイヤーは、更に紫外線(UV)照射、加熱処理、またはUV照射と加熱処理との両者を行い、必要な物性を発現させるものであっても良い。
また、上記液状カバー材としては、耐熱性や耐薬品性のある樹脂皮膜が形成できるものであればよく、エポキシ系やポリイミド系の樹脂を用いることができる。樹脂組成物は、単一、もしくは混合物のどちらでも良い。また、上記液状カバー材を用いたカバーレイの形成方法としては、上記液状カバー材の塗布、乾燥を行い、次いで、感光性ドライフィルムを用いる場合と同様に露光および現像を行う方法を挙げることができる。
Specific examples of such a material include a photosensitive dry film and a liquid cover material.
Here, as a method for forming a cover lay using the photosensitive dry film, the photosensitive dry film is laminated on a wiring surface by a dry film laminator. Next, an ultraviolet ray is irradiated through the exposure pattern to form an image only at a necessary portion. And about an unnecessary part, the method of removing using the developing solution suitable for the used dry film can be mentioned. Further, this cover layer may be further subjected to ultraviolet (UV) irradiation, heat treatment, or both UV irradiation and heat treatment to develop necessary physical properties.
The liquid cover material may be any material that can form a resin film having heat resistance and chemical resistance, and an epoxy-based or polyimide-based resin can be used. The resin composition may be either a single composition or a mixture. In addition, as a method for forming a cover lay using the liquid cover material, there is a method in which the liquid cover material is applied and dried, and then exposed and developed in the same manner as in the case of using a photosensitive dry film. it can.
また、本態様のサスペンション用基板は、上述した接地用配線の他に、電気信号を伝送する信号用配線を有する。上記信号用配線は、通常、書込み用配線および読出し用配線を含む。また、上記信号用配線は、上述した接地用配線と同じ材料から形成されていても良く、異なる材料から形成されていても良いが、通常、同じ材料(同じ配線形成用層)から形成される。コストの低減を図ることができるからである。
また、本態様に用いられる信号用配線間のピッチ幅としては、最も狭い箇所において、60μm〜200μmの範囲内であることが好ましく、なかでも60μm〜100μmの範囲内であることが好ましい。上記範囲であることにより、本態様のサスペンション用基板は、その効果をより発揮することができるからである。
Further, the suspension board of this aspect has signal wiring for transmitting an electrical signal in addition to the above-described ground wiring. The signal wiring usually includes a write wiring and a read wiring. The signal wiring may be formed of the same material as the grounding wiring described above, or may be formed of a different material, but is usually formed of the same material (the same wiring forming layer). . This is because the cost can be reduced.
In addition, the pitch width between the signal wirings used in this embodiment is preferably in the range of 60 μm to 200 μm, particularly preferably in the range of 60 μm to 100 μm, at the narrowest portion. It is because the suspension substrate of this aspect can exhibit the effect more by being in the above range.
本態様のサスペンション用基板の製造方法としては、上記サスペンション用基板の各構成を所望の位置に精度良く配置することができるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、図10(a)に示すように、金属基板1と、上記金属基板1上に形成され、絶縁層を構成する材料からなる絶縁層形成用層2´および接地用配線を構成する材料からなる接地用配線形成用層4´とを有する積層体を形成する。次いで、上記積層体の両面にドライフィルム等のフォトレジスト11を設け、所定の形状にパターニングする(図10(b))。その後、上記接地用配線形成用層4´をエッチングによりパターニング(図10(c))し、上記フォトレジスト11を剥離することにより、開口形成部5を含む接地用配線4を形成する(図10(d))。また、この段階で必要に応じて信号用配線も同時に形成する。
続いて、図11(a)に示すように、ドライフィルム等のフォトレジスト11を設け、所定の形状にパターニングする。次いで、絶縁層形成用層2´をエッチングによりパターニング(図11(b))し、上記フォトレジスト11を剥離することにより、グランド端子用開口部3を有する絶縁層2を形成する(図11(c))。
さらに、上記接地用配線4を給電層として用いて、上記接地用配線4の表面に保護めっき層8を形成する(図11(d))。
さらにその後、上記積層体の両面にドライフィルム等のフォトレジスト11を設け、所定の形状にパターニングし(図11(e))、上記金属基板1を給電層として用いて電解めっきにより、上記グランド端子用材料6として金属を、上記グランド端子用開口部3に充填し、上記金属基板1と、上記接地用配線4とを接続するグランド端子7を形成した後、上記フォトレジスト11を剥離することにより、本態様のサスペンション用基板10を形成する方法を用いることができる(図11(f))。
ここで、図10(a)〜(d)が、接地用配線形成工程であり、図11(a)〜(c)が、絶縁層形成工程である。また、図11(d)が、保護めっき層形成工程であり、図11(e)〜(f)が、グランド端子形成工程である。
The method for manufacturing the suspension substrate according to this aspect is not particularly limited as long as each component of the suspension substrate can be accurately placed at a desired position. For example, FIG. As shown in FIG. 2, the
Subsequently, as shown in FIG. 11A, a
Further, a
Further, after that, a
Here, FIGS. 10A to 10D are ground wiring forming steps, and FIGS. 11A to 11C are insulating layer forming steps. Moreover, FIG.11 (d) is a protective plating layer formation process, and FIG.11 (e)-(f) is a ground terminal formation process.
本態様のサスペンション用基板の用途としては、ハードディスクドライブ(HDD)の磁気ヘッドサスペンション等に用いられ、なかでも高密度化されてピッチの狭い信号用配線が形成されたハードディスクドライブ(HDD)の磁気ヘッドサスペンション用基板に好適に用いられる。 The suspension substrate of this embodiment is used for a magnetic head suspension or the like of a hard disk drive (HDD), and in particular, a magnetic head of a hard disk drive (HDD) having a high-density signal wiring with a narrow pitch. It is suitably used for a suspension substrate.
2.第2態様
次に、本発明のサスペンション用基板の第2態様について説明する。本態様のサスペンション用基板は、上述したサスペンション用基板において、上記接地用配線の表面が、上記グランド端子を形成するグランド端子用材料によって直接被覆されている態様である。
2. Second Aspect Next, a second aspect of the suspension substrate of the present invention will be described. The suspension substrate of this aspect is an aspect in which the surface of the ground wiring is directly covered with the ground terminal material forming the ground terminal in the suspension substrate described above.
このような本態様のサスペンション用基板を、図を参照して説明する。図12は、本態様のサスペンション用基板の平面図であり、図13は、図12のA−A線断面図である。図12および図13に例示するように、本態様のサスペンション用基板10は、金属基板1と、上記金属基板1上に形成され、上記金属基板1が露出するグランド端子用開口部3を有する絶縁層2と、上記絶縁層2上に形成され、上記グランド端子用開口部3の周囲を囲む開口形成部5を含む接地用配線4と、上記グランド端子用開口部3にグランド端子用材料6が充填されて形成され、上記金属基板1および上記接地用配線4に接続されたグランド端子7とを有するものである。
ここで、上記開口形成部5は、その表面の全てが上記グランド端子用材料6によって被覆されており、上記グランド端子用材料6によって被覆されていない箇所であるプラットホームが形成されていない。また、上記接地用配線4の表面の全てが、上記グランド端子7を形成するグランド端子用材料6によって直接被覆されているものである。
また、上記グランド端子は、上記グランド端子用開口部内の上記金属基板を給電層として用いた電解めっき法により充填された上記グランド端子用材料からなるものである。
Such a suspension substrate of this embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 12 is a plan view of the suspension substrate of this embodiment, and FIG. 13 is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. As illustrated in FIG. 12 and FIG. 13, the
Here, the entire surface of the
The ground terminal is made of the ground terminal material filled by an electrolytic plating method using the metal substrate in the opening for the ground terminal as a power feeding layer.
本態様によれば、上記接地用配線の面積を狭いものとすることができるため、ピッチの狭い信号用配線が形成されていても、上記接地用配線を、容易に形成することができ、静電破壊防止やノイズ抑制を十分に図ることができる。 According to this aspect, since the area of the grounding wiring can be reduced, the grounding wiring can be easily formed even if the signal wiring with a narrow pitch is formed, Electric breakdown prevention and noise suppression can be sufficiently achieved.
また、上記接地用配線の表面が、上記グランド端子を形成するグランド端子用材料によって直接被覆されていることにより、上記接地用配線の表面に形成される保護めっき層がない場合であっても、上記接地用配線の腐食防止を図ることができる。このため、上記「1.第1態様」の「(5)保護めっき層」の項に記載したような、上記接地用配線と、上記信号用配線との接続を考慮しなくて良いため、上記接地用配線を、上記信号用配線の形成と分けて、独立に形成することを可能とし、上記サスペンション用基板上に、上記信号用配線および上記接地用配線をどのように配置するかといった配線設計の自由度を大きなものとすることができる。したがって、例えば、図14に例示するように、金属基板1と、上記金属基板1上に形成された絶縁層2と、上記絶縁層2上に形成され、電気信号等を伝送する信号用配線14とを有し、上記信号用配線14と信号用配線14との間に、これらの信号用配線14と電気的に接続されていない、独立した、グランド端子7および上記グランド端子用材料6によって被覆された接地用配線を容易に形成することができる。
Moreover, even when there is no protective plating layer formed on the surface of the grounding wiring by directly covering the surface of the grounding wiring with the ground terminal material forming the ground terminal, It is possible to prevent corrosion of the ground wiring. For this reason, since it is not necessary to consider the connection between the grounding wiring and the signal wiring as described in “(5) Protective plating layer” of “1. The ground wiring can be formed independently of the formation of the signal wiring, and the wiring design such as how to arrange the signal wiring and the ground wiring on the suspension substrate. The degree of freedom can be increased. Therefore, for example, as illustrated in FIG. 14, the
さらに、上記信号用配線と上記接地用配線との接続配線を形成する必要がないため、ブリッジを形成する必要がない。ここでブリッジとは、本態様のサスペンション用基板において、上記信号用配線および接地用配線を接続するための接続配線が形成されている箇所である。従来であれば、上記サスペンション用基板が比較的大型であり、配線設計の自由度が高かったため、例えば、接地用配線を、グランド端子が形成される箇所から離れた位置まで延長し、ブリッジを形成することが可能であった。しかしながら、高密度化されてピッチの狭い信号用配線等が形成されたサスペンション用基板においては、接地用配線を、グランド端子が形成される位置から離れた位置まで延長することが困難な場合が多く、その場合には、ブリッジは、グランド端子が形成される位置の周辺に形成されることが要求される。このようなブリッジが、上記サスペンション用基板のなかでも、ディスクへのデータの読み書きを行うスライダーが搭載される先端部に形成された場合、上記サスペンション用基板は、ばね特性等の調整が困難となり、ハードディスクのディスク上を安定に浮遊しながら、上記スライダーを介したデータの読み取り、書き込み等を行うことが困難となる恐れがある。一方、本態様においては、上記接続配線を形成する必要がなく、ブリッジの形成を不要なものとすることができるため、本態様のサスペンション用基板を、ばね特性等の調整が容易なものとすることができる。 Further, since it is not necessary to form a connection wiring between the signal wiring and the ground wiring, it is not necessary to form a bridge. Here, the bridge is a portion where the connection wiring for connecting the signal wiring and the ground wiring is formed in the suspension substrate of this aspect. Conventionally, the suspension board is relatively large and has a high degree of freedom in wiring design. For example, the grounding wiring is extended to a position away from the location where the ground terminal is formed to form a bridge. It was possible to do. However, it is often difficult to extend the grounding wiring to a position away from the position where the ground terminal is formed in the suspension board on which the signal wiring and the like having a high density and a narrow pitch are formed. In this case, the bridge is required to be formed around the position where the ground terminal is formed. When such a bridge is formed at the tip portion on which a slider for reading and writing data to and from the disk is mounted among the suspension substrates, the suspension substrate is difficult to adjust spring characteristics and the like. There is a risk that it may be difficult to read and write data through the slider while stably floating on the hard disk. On the other hand, in this aspect, it is not necessary to form the connection wiring, and it is possible to eliminate the formation of a bridge. Therefore, the suspension substrate of this aspect can be easily adjusted in spring characteristics and the like. be able to.
また、上記グランド端子が電解めっき法により充填されて形成されていることにより、静電破壊防止やノイズ抑制を確実に図ることができる。 Further, since the ground terminal is formed by being filled by electrolytic plating, it is possible to reliably prevent electrostatic breakdown and suppress noise.
本態様のサスペンション用基板は、金属基板、絶縁層、接地用配線、およびグランド端子を少なくとも有するものである。以下、本態様のサスペンション用基板の各構成について説明する。なお、上記金属基板、絶縁層、および接地用配線については、上記「1.第1態様」の項に記載したものと同様の内容であるので、ここでの記載は省略する。 The suspension substrate according to this aspect includes at least a metal substrate, an insulating layer, a grounding wiring, and a ground terminal. Hereinafter, each configuration of the suspension substrate according to this aspect will be described. The metal substrate, the insulating layer, and the grounding wiring have the same contents as those described in the above section “1. First aspect”, and thus description thereof is omitted here.
(1)グランド端子
本態様に用いられるグランド端子は、グランド端子用開口部に、グランド端子用材料が充填されて形成され、上記接地用配線および金属基板に接続されるものである。
なお、上記グランド端子用開口部は、上記「1.第1態様」の項に記載したものと同様の内容とすることができる。
(1) Ground terminal The ground terminal used in this embodiment is formed by filling the ground terminal material with the ground terminal material, and is connected to the ground wiring and the metal substrate.
In addition, the said opening part for ground terminals can be made into the content similar to what was described in the term of the said "1. 1st aspect."
本態様に用いられるグランド端子用材料は、上記接地用配線の表面を直接被覆するように形成されているものである。すなわち、上記接地用配線は、その表面が、保護めっき層等を介さずに、上記グランド端子を形成するグランド端子用材料が直接接触するように被覆されているものである。
ここで、上記グランド端子用材料は、上記接地用配線の表面のうち、少なくとも上記接地用配線に含まれる開口形成部の全幅と、後述するカバーレイ等が形成されず、腐食等から保護されない表面の全てとを被覆するように形成されていれば良い。したがって、上記接地用配線の全ての表面を被覆するように形成されていても良く、上記開口形成部の上面の全て、およびカバーレイ等で被覆されない露出部分のみ被覆するように形成されたものであっても良い。
The ground terminal material used in this embodiment is formed so as to directly cover the surface of the ground wiring. That is, the ground wiring is coated so that the surface of the ground terminal is directly in contact with the ground terminal without forming a protective plating layer or the like.
Here, the ground terminal material is a surface of the surface of the grounding wiring that is not protected from corrosion or the like by forming at least the full width of the opening forming portion included in the grounding wiring and a coverlay described later. What is necessary is just to be formed so that all may be covered. Accordingly, it may be formed so as to cover all the surfaces of the grounding wiring, and it is formed so as to cover all of the upper surface of the opening forming portion and only the exposed portion not covered with a coverlay or the like. There may be.
このようなグランド端子用材料の形成箇所および断面形状としては、具体的には、既に説明した図12および図13に例示したものとすることができる。
また、図15および図15のC−C線断面図である図16に例示するように、上記接地用配線4がカバーレイ9により被覆された箇所以外の表面のみを被覆するように上記グランド端子用材料5が形成されたものとすることができる。すなわち、上記接地用配線の全表面が、上記グランド端子用材料またはカバーレイにより被覆されているものとすることができる。
なお、図15および図16中の符号については、図12および図13のものと同一のものである。
Specifically, the formation location and the cross-sectional shape of such a ground terminal material may be those exemplified in FIGS. 12 and 13 already described.
Further, as illustrated in FIG. 16, which is a cross-sectional view taken along the line CC of FIGS. 15 and 15, the ground terminal is arranged such that the
Note that the reference numerals in FIGS. 15 and 16 are the same as those in FIGS. 12 and 13.
本態様に用いられるグランド端子用材料の、上記グランド端子用開口部における膜厚としては、上記グランド端子用材料を、上記開口形成部の全幅および上記接地用配線のうち腐食等から保護されない表面の全てに形成することができるものであれば良く、また上記絶縁層の膜厚によっても異なるものであるが、8μm〜50μmであることが好ましく、なかでも15μm〜25μmの範囲内であることが好ましい。上記範囲であることにより、上記グランド端子用材料を、上記開口形成部の全幅および上記接地用配線のうち腐食等から保護されない表面の全てに安定的に形成することができるからである。
なお、上記グランド端子用開口部における膜厚とは、上記金属基板表面から、上記グランド端子用材料の表面までの距離のうち、最も短い距離である。
As the film thickness of the ground terminal material used in this embodiment, the ground terminal material is formed on the surface of the ground terminal material that is not protected from corrosion or the like of the entire width of the opening forming portion and the ground wiring. Any material can be used as long as it can be formed, and it varies depending on the film thickness of the insulating layer. However, it is preferably 8 μm to 50 μm, and more preferably within a range of 15 μm to 25 μm. . By being in the above range, the ground terminal material can be stably formed on the entire width of the opening forming portion and the entire surface of the ground wiring that is not protected from corrosion or the like.
The film thickness in the ground terminal opening is the shortest distance among the distances from the metal substrate surface to the surface of the ground terminal material.
本態様に用いられるグランド端子用材料の、上記接地用配線に含まれる開口形成部の上面における膜厚としては、上記グランド端子用材料が、上記開口形成部の全幅および上記接地用配線のうち腐食等から保護されない表面の全てに形成させることができるものであれば特に限定されるものではないが、5μm〜40μmの範囲内であることが好ましく、なかでも15μm〜35μmの範囲内であることが好ましい。上記範囲であることにより、上記グランド端子用材料を、上記開口形成部の全幅および上記接地用配線のうち腐食等から保護されない表面の全てに安定的に形成することができるからである。また、本態様のサスペンション用基板と、上記サスペンション用基板に設置されるスライダー等の部品とが接触する恐れを少ないものとすることができるからである。 As the film thickness of the ground terminal material used in this aspect on the upper surface of the opening forming portion included in the grounding wiring, the ground terminal material corrodes the entire width of the opening forming portion and the grounding wiring. The surface is not particularly limited as long as it can be formed on the entire surface that is not protected from the above, but is preferably in the range of 5 μm to 40 μm, and more preferably in the range of 15 μm to 35 μm. preferable. By being in the above range, the ground terminal material can be stably formed on the entire width of the opening forming portion and the entire surface of the ground wiring that is not protected from corrosion or the like. Further, it is possible to reduce the possibility of contact between the suspension substrate of this aspect and a component such as a slider installed on the suspension substrate.
本態様に用いられるグランド端子用材料の種類としては、上記「1.第1態様」の項に記載したものと同様の内容とすることができる。 The kind of the material for the ground terminal used in this aspect can be the same as that described in the above section “1. First aspect”.
本態様に用いられるグランド端子の抵抗値としては、上記「1.第1態様」の項に記載したものと同様の内容とすることができる。 The resistance value of the ground terminal used in this aspect can be the same as that described in the section “1. First aspect”.
(2)サスペンション用基板
本態様のサスペンション用基板は、通常、信号用配線を有するものである。また、必要に応じて、上記絶縁層上にカバーレイ(CL)を有するものであっても良い。上記信号用配線およびカバーレイとしては、上記「1.第1態様」の「(6)サスペンション用基板」の項に記載した内容と同様のものを用いることができる。
(2) Suspension substrate The suspension substrate of this embodiment usually has signal wiring. Moreover, you may have a coverlay (CL) on the said insulating layer as needed. As the signal wiring and the coverlay, the same as those described in the section “(6) Suspension substrate” of “1. First aspect” can be used.
また、本態様において、上記カバーレイの形成箇所としては、上記接地用配線等の配線を腐食等から保護することができる箇所に形成されるものであれば良く、上記接地用配線の表面のうち上記グランド端子用材料により被覆されない箇所にのみ形成されるものであっても良く、上記グランド端子用材料により被覆される箇所上に形成されるものとしても良い。
本態様においては、なかでも、少なくとも上記接地用配線の表面のうち上記グランド端子用材料により被覆されない箇所に形成されることが好ましい。上記接地用配線の表面が上述したような保護層に被覆されない場合であっても、上記接地用配線を腐食から安定的に保護することができるからである。
In this aspect, the coverlay may be formed at any location that can protect the wiring such as the grounding wiring from corrosion or the like, out of the surface of the grounding wiring. It may be formed only on a portion not covered with the ground terminal material, or may be formed on a portion covered with the ground terminal material.
In this aspect, in particular, it is preferably formed at least on the surface of the grounding wiring that is not covered with the ground terminal material. This is because even if the surface of the ground wiring is not covered with the protective layer as described above, the ground wiring can be stably protected from corrosion.
本態様のサスペンション用基板の製造方法としては、上述した上記接地用配線に保護めっき層を形成する保護めっき層形成工程を含まないものとすることができ、例えば、上記接地用配線形成工程、絶縁層形成工程、およびグランド端子形成工程を用いる方法を挙げることができる。 The suspension substrate manufacturing method of this aspect may not include the protective plating layer forming step of forming a protective plating layer on the grounding wiring described above. For example, the grounding wiring forming step, insulation Examples thereof include a method using a layer forming step and a ground terminal forming step.
本態様のサスペンション用基板の用途としては、ハードディスクドライブ(HDD)の磁気ヘッドサスペンション等に用いられ、なかでも高密度化されてピッチの狭い信号用配線が形成されたハードディスクドライブ(HDD)の磁気ヘッドサスペンション用基板に好適に用いられる。 The suspension substrate of this embodiment is used for a magnetic head suspension or the like of a hard disk drive (HDD), and in particular, a magnetic head of a hard disk drive (HDD) having a high-density signal wiring with a narrow pitch. It is suitably used for a suspension substrate.
B.サスペンション
次に、本発明のサスペンションについて説明する。本発明のサスペンションは、上記サスペンション用基板を含むことを特徴とするものである。
B. Suspension Next, the suspension of the present invention will be described. The suspension of the present invention includes the above-described suspension substrate.
このような本発明のサスペンションを図を参照して説明する。図17は、本発明のサスペンションの一例を示す概略図である。図17に例示するように、本発明のサスペンション30は、上記サスペンション用基板10と、上記サスペンション用基板10と、ロードビーム31とを有するものであり、ロードビーム31は上記サスペンション用基板10のうち磁気ヘッドスライダーが設置されるスライダー設置位置20が形成されていない側の表面に接着されている。
ここで、上記サスペンション用基板は、上記「A.サスペンション用基板」の項に記載のサスペンション用基板である。
なお、図17中の符号については、図7のものと同一のものである。
Such a suspension of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 17 is a schematic view showing an example of the suspension of the present invention. As illustrated in FIG. 17, the
Here, the suspension substrate is the suspension substrate described in the section “A. Suspension substrate”.
Note that the reference numerals in FIG. 17 are the same as those in FIG.
本発明によれば、上記サスペンション用基板を含むものであるため、静電破壊やノイズの少ないものとすることができる。 According to the present invention, since the suspension substrate is included, electrostatic breakdown and noise can be reduced.
本発明のサスペンションは、上記サスペンション用基板を少なくとも有するものである。
このようなサスペンション用基板としては、上記「A.サスペンション用基板」の項に記載の内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。
The suspension of the present invention has at least the suspension substrate.
Such a suspension substrate is the same as the content described in the above section “A. Suspension substrate”, and thus the description thereof is omitted here.
本発明のサスペンションは、上記サスペンション用基板を少なくとも有するものであるが、通常、ロードビームを有するものである。このようなロードビームとしては、本発明のサスペンションをハードディスクドライブに用いた際に、上記サスペンションに所望の剛性を付与することができるものであれば良く、ハードディスクドライブに一般的に使用されるものを用いることができる。 The suspension of the present invention has at least the suspension substrate, but usually has a load beam. As such a load beam, any material can be used as long as it can give a desired rigidity to the suspension when the suspension of the present invention is used in the hard disk drive. Can be used.
本発明のサスペンションの用途としては、ハードディスクドライブのヘッド付サスペンションを挙げることができ、なかでも、静電破壊およびノイズが少ないことを要求されるヘッド付サスペンションに好適に用いられる。 Examples of the use of the suspension of the present invention include a suspension with a head of a hard disk drive, and in particular, it is suitably used for a suspension with a head that requires less electrostatic breakdown and noise.
C.ヘッド付サスペンション
次に、本発明のヘッド付サスペンションについて説明する。本発明のヘッド付サスペンションは、上記サスペンションと、上記サスペンション上に搭載された磁気ヘッドスライダーとを有することを特徴とするものである。
C. Next, the suspension with a head according to the present invention will be described. A suspension with a head according to the present invention includes the suspension and a magnetic head slider mounted on the suspension.
このような本発明のヘッド付サスペンションを図を参照して説明する。図18は、本発明のヘッド付サスペンションの一例を示す概略図である。図18に例示するように、本発明のヘッド付サスペンション40は、上記サスペンション30と、上記サスペンション30上のスライダー設置位置上に搭載された磁気ヘッドスライダー41とを有するものである。
ここで、上記サスペンションは、上記「B.サスペンション」の項に記載のサスペンションである。
なお、図18中の符号については、図17のものと同一のものである。
Such a suspension with a head according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 18 is a schematic view showing an example of a suspension with a head according to the present invention. As illustrated in FIG. 18, the suspension with
Here, the suspension is the suspension described in the section “B. Suspension”.
Note that the reference numerals in FIG. 18 are the same as those in FIG.
本発明によれば、上記サスペンションを含むものであるため、静電破壊やノイズの少ないものとすることができる。 According to the present invention, since the suspension is included, electrostatic breakdown and noise can be reduced.
本発明のヘッド付サスペンションは、上記サスペンションおよび磁気ヘッドスライダーを少なくとも有するものである。
上記サスペンションとしては、上記「B.サスペンション」の項に記載の内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。
The suspension with a head of the present invention has at least the suspension and the magnetic head slider.
The suspension is the same as that described in the section “B. Suspension”, and thus the description thereof is omitted here.
本発明に用いられる磁気ヘッドスライダーとしては、本発明のヘッド付サスペンションをハードディスクドライブに用いた際に、ディスク上へのデータの書き込みおよび読み込みを行なえるものであれば良く、ハードディスクドライブに一般的に使用されるものを用いることができる。 The magnetic head slider used in the present invention is not limited as long as it can write and read data on the disk when the suspension with a head of the present invention is used in a hard disk drive. What is used can be used.
本発明のヘッド付サスペンションの用途としては、ハードディスクドライブを挙げることができ、なかでも、静電破壊およびノイズが少ないことが要求されるハードディスクドライブに好適に用いられる。 Examples of the use of the suspension with a head of the present invention include a hard disk drive, and among these, it is preferably used for a hard disk drive that is required to have less electrostatic breakdown and noise.
D.ハードディスクドライブ
次に、本発明のハードディスクドライブについて説明する。本発明のハードディスクドライブは、上記ヘッド付サスペンションを含むことを特徴とするものである。
D. Next, the hard disk drive of the present invention will be described. The hard disk drive of the present invention includes the above suspension with a head.
このような本発明のハードディスクドライブを図を参照して説明する。図19は、本発明のハードディスクドライブの内部構造の一例を示す概略平面図である。図19に例示するように、本発明のハードディスクドライブ50は、上記ヘッド付サスペンション40と、上記ヘッド付サスペンション40にデータの書き込みおよび読み込みがされるディスク51と、上記ディスク51を回転させるスピンドルモータ52と、上記ヘッド付サスペンション40に接続されたアーム53と、上記アーム53を移動することにより上記ヘッド付サスペンション40のスライダーを、上記ディスク51上の所望の位置に移動させるボイスコイルモータ54と、上記各構成を密閉するケース55とを有するものである。
ここで、上記ヘッド付サスペンションは、上記「C.ヘッド付サスペンション」の項に記載のサスペンションである。
Such a hard disk drive of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 19 is a schematic plan view showing an example of the internal structure of the hard disk drive of the present invention. As illustrated in FIG. 19, the hard disk drive 50 of the present invention includes a
Here, the suspension with a head is the suspension described in the section “C. Suspension with a head”.
本発明によれば、上記ヘッド付サスペンションを含むものであるため、静電破壊やノイズの少ないものとすることができる。その結果、データ信頼性等に優れたものとすることができる。 According to the present invention, since the suspension with the head is included, the electrostatic breakdown and noise can be reduced. As a result, the data reliability and the like can be improved.
本発明のハードディスクドライブは、上記ヘッド付サスペンションを少なくとも有するものである。
このようなヘッド付サスペンションとしては、上記「C.ヘッド付サスペンション」の項に記載の内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。
The hard disk drive of the present invention has at least the above suspension with a head.
Such a suspension with a head is the same as the content described in the section “C. Suspension with a head”, and therefore, description thereof is omitted here.
本発明のハードディスクドライブは、上記ヘッド付サスペンションを少なくとも有するものであるが、通常、ディスク、スピンドルモータ、アーム、およびボイスコイルモータを有するものである。このようなディスク、スピンドルモータ、アーム、およびボイスコイルモータとしては、ハードディスクドライブに一般的に使用されるものを用いることができる。 The hard disk drive of the present invention has at least the above suspension with a head, but usually has a disk, a spindle motor, an arm, and a voice coil motor. As such a disk, a spindle motor, an arm, and a voice coil motor, those generally used for hard disk drives can be used.
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と、実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本発明の技術的範囲に包含される。 The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the technical idea described in the claims of the present invention has substantially the same configuration and exhibits the same function and effect regardless of the case. It is included in the technical scope of the invention.
以下、実施例を用いて、本発明をさらに具体的に説明する。
[実施例1]
(サスペンション用基板の作製)
厚さ20μmのSUS304(金属基板)と、厚さ10μmのポリイミド層(絶縁層形成用層)と、厚さ9μmの電解銅からなるCu配線層(配線層形成用層)が、この順に積層された積層体を用意し、この積層体に以下の述べる化学エッチング等を行うことにより、信号用配線と信号用配線との間に接地用配線およびグランド端子が形成され、ダウンサイジングされた接地手段を有するサスペンション用基板を得た。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples.
[Example 1]
(Production of suspension substrate)
SUS304 (metal substrate) having a thickness of 20 μm, a polyimide layer (insulating layer forming layer) having a thickness of 10 μm, and a Cu wiring layer (wiring layer forming layer) made of electrolytic copper having a thickness of 9 μm are laminated in this order. By preparing the laminated body and performing chemical etching or the like described below on the laminated body, a grounding wiring and a ground terminal are formed between the signal wiring and the signal wiring, and the downsized grounding means is provided. A suspension substrate was obtained.
まず、積層体のCu配線層を化学エッチングし、図3に示すような、外径が、150μmであり、直径50μmの開口を有する開口形成部を有する接地用配線を形成した。
ここで、上記接地用配線の上記開口形成部以外での線幅は、25μmとした。
また、上記接地用配線の形成と同時に、線幅が上記接地用配線の上記開口形成部以外での線幅と同じであり、上記接地用配線との間隔が、上記開口形成部が形成されない領域において25μmであり、上記開口形成部が形成される領域において100μmである信号用配線を形成した。
なお、上記開口形成部が形成される領域での間隔とは、上記開口形成部の外縁部と、信号用配線との距離である。
First, the Cu wiring layer of the laminated body was chemically etched to form a ground wiring having an opening forming portion having an outer diameter of 150 μm and an opening having a diameter of 50 μm, as shown in FIG.
Here, the line width of the grounding wiring other than the opening forming portion was set to 25 μm.
Further, at the same time as the formation of the grounding wiring, the line width is the same as the width of the grounding wiring other than the opening forming portion, and the distance from the grounding wiring is not formed in the opening forming portion. In the region where the opening forming portion is formed, a signal wiring having a thickness of 100 μm is formed.
The interval in the region where the opening forming portion is formed is the distance between the outer edge portion of the opening forming portion and the signal wiring.
次に、ポリイミド層に感光性レジストを用いた化学エッチングをすることにより、開口形成部の開口が形成された位置と同じ位置に、上記開口形成部の開口と同じ直径であり、金属基板が露出したグランド端子用開口部を形成した。 Next, chemical etching using a photosensitive resist is performed on the polyimide layer, so that the metal substrate is exposed at the same position as the opening of the opening forming portion and the same diameter as the opening of the opening forming portion. A ground terminal opening was formed.
次に、接地用配線および信号用配線の表面にニッケル(Ni)を電解で0.2μm程度めっきし、その後、金(Au)を電解で1.5μm程度めっきした。 Next, nickel (Ni) was plated on the surface of the ground wiring and signal wiring by about 0.2 μm by electrolysis, and then gold (Au) was plated by about 1.5 μm by electrolysis.
その後、グランド端子用材料としてニッケル(Ni)を、グランド端子用開口部に、金属基板を給電部として電解でめっきすることにより充填した。ニッケルめっきは、グランド端子用開口部が形成されたことにより露出した金属基板の表面から電着が始まり、図1に示すように、開口形成部を全幅にわたって被覆し、さらにグランド端子用開口部に隣接する接地用配線を被覆するよう形成された。電解によるめっき終了後において、開口形成部の上面におけるニッケルめっきの厚みは20μmであった。
また、上記グランド端子用材料を形成する際においては、位置ずれ等が発生することなく形成することができた。
Thereafter, nickel (Ni) was filled as a ground terminal material, and the ground terminal opening was filled by electroplating using a metal substrate as a power feeding section. In nickel plating, electrodeposition starts from the surface of the metal substrate exposed by the formation of the opening for the ground terminal, and as shown in FIG. 1, the opening forming part is covered over the entire width, and further, the opening for the ground terminal is formed. It was formed to cover the adjacent grounding wiring. After the completion of electroplating, the thickness of the nickel plating on the upper surface of the opening forming portion was 20 μm.
Further, when forming the ground terminal material, it was possible to form without causing a positional shift or the like.
さらに、配線保護の為の感光性カバーレイを塗工し、露光、現像し、所定の形状のカバーレイを形成することにより、サスペンション用基板を形成した。 Furthermore, a suspension cover substrate was formed by applying a photosensitive coverlay for wiring protection, exposing and developing, and forming a coverlay of a predetermined shape.
(評価)
実施例で作製したサスペンション用基板の接地手段のサイズおよび抵抗値を、従来のサスペンション用基板のものと比較した。
その結果、従来のサスペンション用基板では、接地用配線およびグランド端子用材料からなる接地手段の外径が270μm程度であり、接地用配線および信号用配線の配線間隔が100μm以上必要であった。これに対して、実施例で製造したサスペンション用基板は、接地用配線およびグランド端子用材料からなる接地手段の外径が、開口形成部の外径と同じである150μmであり、接地用配線および信号用配線の配線間隔が100μmと、従来のサスペンション用基板に比べ小型化を図ることができた。
また、得られたサスペンション用基板のグランド端子における抵抗値は、0.2Ωであり、従来のサスペンション用基板の接地手段におけるグランド端子と同等の特性を得ることが出来た。
(Evaluation)
The size and resistance value of the grounding means of the suspension substrate produced in the example were compared with those of the conventional suspension substrate.
As a result, in the conventional suspension board, the outer diameter of the grounding means made of the grounding wiring and the ground terminal material is about 270 μm, and the wiring spacing between the grounding wiring and the signal wiring is required to be 100 μm or more. On the other hand, the suspension substrate manufactured in the example is 150 μm in which the outer diameter of the grounding means made of the grounding wiring and the ground terminal material is the same as the outer diameter of the opening forming portion. The wiring interval of the signal wiring is 100 μm, and the size can be reduced as compared with the conventional suspension board.
Further, the resistance value at the ground terminal of the obtained suspension substrate was 0.2Ω, and the same characteristics as those of the ground terminal in the grounding means of the conventional suspension substrate could be obtained.
[実施例2]
実施例1と同様の方法により、外径が270μmであり、直径100μmの開口を有する開口形成部を有する接地用配線を形成した。
その後、実施例1と同様の方法によりニッケル(Ni)を、グランド端子用開口部に、金属基板を給電部として電解めっきすることにより充填しグランド端子を形成した。
形成されたグランド端子を実体顕微鏡(倍率100倍)により撮影した。その結果を図22に示す。また、サスペンション用基板を、断面観察用樹脂に包埋し、図22におけるX−X線の位置でダイヤモンドブレードにより切断し、その断面を、精密研磨後に実体顕微鏡(倍率100倍)により撮影した。得られた断面を図23に示す。
[Example 2]
By the same method as in Example 1, a ground wiring having an opening forming portion having an outer diameter of 270 μm and an opening having a diameter of 100 μm was formed.
Thereafter, nickel (Ni) was filled in the ground terminal opening by electrolytic plating using the metal substrate as a power feeding portion in the same manner as in Example 1 to form a ground terminal.
The formed ground terminal was photographed with a stereomicroscope (
図23および図24より、グランド端子用開口部内がニッケルめっきにより完全に充填されていることが確認できた。また、接地用配線がニッケルめっきにより被覆されていることが確認できた。 23 and 24, it was confirmed that the ground terminal opening was completely filled with nickel plating. It was also confirmed that the grounding wiring was covered with nickel plating.
[比較例]
実施例と同様の方法により、直径が100μmであり、金属基板が露出したグランド端子開口部を有する接地用配線を形成した。
次いで、はんだペーストを、上記グランド端子開口部上にディスペンス法にて塗布し、リフロー炉にて加熱処理してはんだペーストを溶融させることによりグランド端子を形成した。このようにしてサスペンション用基板を作製した。
[Comparative example]
By the same method as in the example, a grounding wiring having a diameter of 100 μm and having a ground terminal opening from which the metal substrate was exposed was formed.
Next, a solder paste was applied to the opening of the ground terminal by a dispensing method, and a ground terminal was formed by heat treatment in a reflow furnace to melt the solder paste. In this way, a suspension substrate was produced.
得られたサスペンション用基板の表面を実体顕微鏡(倍率500倍)により撮影した。結果を図24に示す。また、サスペンション用基板を、断面観察用樹脂に包埋し、図24におけるX−X線の位置でダイヤモンドブレードにより切断し、その断面を、精密研磨後に実体顕微鏡(倍率500倍)により撮影した。得られた断面を図25に示す。 The surface of the obtained suspension substrate was photographed with a stereomicroscope (magnification 500 times). The results are shown in FIG. Further, the suspension substrate was embedded in a cross-section observation resin, cut with a diamond blade at the position of line XX in FIG. 24, and the cross section was photographed with a stereomicroscope (500 times magnification) after precision polishing. The obtained cross section is shown in FIG.
図24および図25より、比較例では、はんだからなるグランド端子は、上記接地用配線上に形成され、上記グランド端子開口部内に充填されず、接地用配線と金属基板との接続が不完全となることを確認した。 24 and 25, in the comparative example, the ground terminal made of solder is formed on the ground wiring, is not filled in the opening of the ground terminal, and the connection between the ground wiring and the metal substrate is incomplete. It was confirmed that
1、101 … 金属基板
2、102 … 絶縁層
2´ … 絶縁層形成用層
3、103 … グランド端子用開口部
4、104 … 接地用配線
4´ … 接地用配線形成用層
5、105 … 開口形成部
6、106 … グランド端子用材料
7、107 … グランド端子
8、108 … 保護めっき層
10、100 … サスペンション用基板
11 … フォトレジスト
14 … 信号用配線
20 … スライダー設置位置
109 … プラットホーム
30 … サスペンション
40 … ヘッド付サスペンション
50 … ハードディスクドライブ
DESCRIPTION OF
Claims (6)
前記金属基板上に形成され、前記金属基板が露出するグランド端子用開口部を有する絶縁層と、
前記絶縁層上に形成され、前記グランド端子用開口部の周囲を囲む開口形成部を含む接地用配線と、
前記グランド端子用開口部にグランド端子用材料が充填されて形成され、前記金属基板および前記接地用配線に接続されたグランド端子とを有するサスペンション用基板であって、
前記開口形成部が、前記グランド端子用材料によって表面の全てが被覆され、
前記グランド端子が、前記グランド端子用開口部内の前記金属基板を給電層として用いた電解めっき法により充填された前記グランド端子用材料からなるものであり、
前記接地用配線の表面が、前記グランド端子を形成するグランド端子用材料によって直接被覆されていることを特徴とするサスペンション用基板。 A metal substrate;
An insulating layer formed on the metal substrate and having a ground terminal opening from which the metal substrate is exposed;
A grounding wiring formed on the insulating layer and including an opening forming portion surrounding the opening of the ground terminal;
A suspension board formed by filling the ground terminal material with a ground terminal material and having the metal board and a ground terminal connected to the ground wiring,
The opening forming portion is entirely covered with the ground terminal material,
Said ground terminal state, and are not made from the ground pin material filled by electrolytic plating method using the metal substrate in the ground terminal opening as a power supply layer,
The suspension substrate , wherein a surface of the grounding wiring is directly covered with a ground terminal material forming the ground terminal .
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