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JP5145679B2 - Image display medium and manufacturing method thereof - Google Patents
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Description

本発明は、画像表示媒体及びその製造方法に関し、さらに詳しくは、電極間の短絡の発生が有効に防止されて、表示部分の信頼性が高く、欠陥の少ない、高品質で簡易かつ安価な画像表示媒体、及びその画像表示媒体を少ない環境負荷で効率的に製造することが可能な製造方法に関する。   The present invention relates to an image display medium and a method for manufacturing the same, and more specifically, the occurrence of a short circuit between electrodes is effectively prevented, and the display portion has high reliability, few defects, high quality, simple and inexpensive image. The present invention relates to a display medium and a manufacturing method capable of efficiently manufacturing the image display medium with a small environmental load.

近年、画像表示媒体として、紙媒体や電子ディスプレイデバイスの他に、両者の長所を併せ持った、紙の長所とされる視認性や携帯性を保持した表示媒体のうち表示内容を電気的に書き換えることができる「電子ペーパー」又「はデジタルペーパー」と呼ばれる画像表示媒体が注目されている。すなわち、RFID(RFタグ)に代表される非接触式ICを備えたカード類(例えば、定期券、診察券、会員カード、IDカード、キャッシュカード、クレジットカード、商品流通用タグ等)が普及するに従い、これらのカード上に文字、図形等の内容を書き換え可能に表示したいという要請が高まって来たことから、「電子ペーパー」等に対して大きな需要が見込まれるようになっている。   In recent years, in addition to paper media and electronic display devices as image display media, the contents of both have been combined, and the display contents are electrically rewritten among display media that have the advantages of paper and retain visibility and portability. An image display medium called “electronic paper” or “digital paper” that can be used is attracting attention. That is, cards (for example, commuter pass, examination ticket, membership card, ID card, cash card, credit card, merchandise distribution tag, etc.) having a non-contact IC represented by RFID (RF tag) are widely used. Accordingly, there has been a growing demand for rewritable display of characters, graphics, and the like on these cards, so that there is a great demand for “electronic paper” and the like.

このような「電子ペーパー」技術の中でも、単純な給電手段で短時間に高精彩の表示が可能で、表示面に対して非接触の書き込みが可能なことから、書き換え回数の多いICカード等への応用が期待される光書き込み型の「電子ペーパー」技術が注目されている(特許文献1参照)。このようなICカードに用いられるフレキシブルな「電子パーパー」を製造する場合、予め薄膜電極を形成したフレキシブルな基板の間に液晶層等を設け、貼り合わせた後、所望の形に切断して形成している。この場合、基板に形成する薄膜電極を全面形状とすれば、特別な加工が不要でコストを低減することができるが、実際には、上述の貼り合わせ後の切断時に、切断面で薄膜電極の剥離やささくれが発生したり、切断面に存在する水分によって、薄膜電極間に短絡が発生するという問題がある。   Among these “electronic paper” technologies, high-definition display can be achieved in a short time with simple power supply means, and non-contact writing can be performed on the display surface. The optical writing type “electronic paper” technology that is expected to be applied is attracting attention (see Patent Document 1). When manufacturing flexible "electronic paper" used in such IC cards, a liquid crystal layer is provided between flexible substrates on which thin film electrodes have been formed in advance, and then bonded to each other and then cut into the desired shape. doing. In this case, if the thin film electrode formed on the substrate has the entire shape, no special processing is required and the cost can be reduced. There is a problem that peeling or rolling occurs, or a short circuit occurs between thin film electrodes due to moisture present on the cut surface.

このような問題を改善するため、いずれか一方の基板の薄膜電極が切断部分で露出するのを以下のようにして防止している。すなわち、基板全面に薄膜電極を形成後、エッチング等で薄膜電極の所定箇所を取り除く。このような薄膜電極付き基板の間に、上述のエッチングによる除去去部分も含めた基板全面に対応する大きさの液晶層等を設け、貼り合わせた後、所定箇所が取り除かれた後の薄膜電極の平面的な大きさよりも若干大きい所望の形に切断することによって対処している。しかしながら、エッチング処理は工程が長く高コストにならざるを得ないこと、また、エッチング処理液の薄膜電極付き基板からの除去工程(エッチング処理後に行う洗浄工程)において、洗浄不足により基板上にエッチング液が残存すると、その部分がそのまま欠陥となったり、層形成時にその部分でハジキなどの欠陥が発生する。さらに、エッチング液の廃棄により環境負荷を増大させること等の問題が発生しているのが現状である。
特開2005−18348号公報
In order to improve such a problem, the thin film electrode of one of the substrates is prevented from being exposed at the cut portion as follows. That is, after forming a thin film electrode on the entire surface of the substrate, a predetermined portion of the thin film electrode is removed by etching or the like. Between such substrates with thin film electrodes, a liquid crystal layer having a size corresponding to the entire surface of the substrate including the portion removed by etching as described above is provided, and after bonding, the thin film electrode after a predetermined portion is removed This is dealt with by cutting into a desired shape that is slightly larger than the planar size. However, the etching process must be long and expensive, and in the process of removing the etching process liquid from the substrate with the thin film electrode (cleaning process performed after the etching process), the etching liquid on the substrate due to insufficient cleaning. If this remains, the portion becomes a defect as it is, or a defect such as a repellency occurs in the portion when the layer is formed. Furthermore, there are currently problems such as an increase in environmental load due to disposal of the etching solution.
JP 2005-18348 A

本発明は上述の背景技術に鑑みてなされたものであり、電極間の短絡の発生が有効に防止されて、表示部分の信頼性が高く、欠陥の少ない、高品質で簡易かつ安価な画像表示媒体、及びその画像表示媒体を少ない環境負荷で効率的に製造することが可能な製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described background art, and the occurrence of a short circuit between electrodes is effectively prevented, and the display portion has high reliability, few defects, high quality, simple and inexpensive image display. An object of the present invention is to provide a manufacturing method capable of efficiently manufacturing a medium and the image display medium with a small environmental load.

上記目的を達成するため、本発明によれば、以下の画像表示媒体及びその製造方法が提供される。   In order to achieve the above object, according to the present invention, the following image display medium and a manufacturing method thereof are provided.

[1]第1の基板上に、第1の薄膜電極及び第1の表示層が形成された第1の積層体と、第2の基板上に、周縁から所定距離だけ離れた領域(除去部分)が除去された第2の薄膜電極、及び前記除去部分に対応する領域が除去されるとともに前記第2の薄膜電極の除去断面と同一面上に除去断面を有する第2の表示層が形成された第2の積層体とを、前記第1の表示層と前記第2の表示層とが対向する向きで備えた画像表示媒体であって、前記第1の表示層は、前記第2の基板の表面と接触するように折れ曲がって前記第2の薄膜電極を覆い、かつ前記第1の積層体と前記第2の基板とは、前記除去部分の少なくとも一部で接触することを特徴とする画像表示媒体[1] A first stacked body in which a first thin film electrode and a first display layer are formed on a first substrate, and a region (removed portion) on the second substrate that is a predetermined distance away from the periphery. And the second display layer having the removal cross section on the same plane as the removal cross section of the second thin film electrode is formed. and a second laminate, a picture image display medium comprising the above orientation of the first display layer and the second display layer are opposed, the first display layer, the second The second thin film electrode is bent so as to be in contact with the surface of the substrate, and the first stacked body and the second substrate are in contact with each other at least at a part of the removal portion. Image display medium .

]前記第2の薄膜電極及び第2の表示層における前記除去部分は、レーザー加工によって形成されたものであることを特徴とする前記[1]に記載の画像表示媒体。 [ 2 ] The image display medium according to [1], wherein the removed portion of the second thin film electrode and the second display layer is formed by laser processing.

]前記第1の表示層及び第2の表示層は、液晶層及び光導電体層を含むことを特徴とする前記[1]に記載の画像表示媒体。 [ 3 ] The image display medium according to [1], wherein the first display layer and the second display layer include a liquid crystal layer and a photoconductor layer.

]前記第2の表示層は、前記光導電体層であり、前記光導電体層の前記除去部分が除去されたことを特徴とする前記[1]に記載の画像表示媒体。 [ 4 ] The image display medium according to [1], wherein the second display layer is the photoconductor layer, and the removed portion of the photoconductor layer is removed.

]前記第1の表示層と前記第2の表示層との間に、接着剤層をさらに備えたことを特徴とする前記[1]に記載の画像表示媒体。 [ 5 ] The image display medium according to [1], further comprising an adhesive layer between the first display layer and the second display layer.

]前記除去断面と前記第2の基板の表面とが形成する角度は、90度よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載の画像表示媒体。 [ 6 ] The image display medium according to claim 1, wherein an angle formed by the removal cross section and the surface of the second substrate is smaller than 90 degrees.

]前記第1及び第2の薄膜電極の表面に接続された、外部との電気的な接続を行うための第1及び第2の取出電極をさらに備えたことを特徴とする前記[1]に記載の画像表示媒体。 [ 7 ] The above [1], further comprising first and second extraction electrodes connected to the surfaces of the first and second thin film electrodes for electrical connection with the outside. ] The image display medium as described in.

]全体を被覆する保護層をさらに備えたことを特徴とする前記[1]に記載の画像表示媒体。 [ 8 ] The image display medium according to [1], further comprising a protective layer covering the whole.

]第1の基板上に第1の薄膜電極及び第1の表示層が形成された第1の積層体を用意する第1の工程と、第2の基板上に第2の薄膜電極及び第2の表示層が形成された第2の積層体を用意するとともに、前記第2の積層体における前記第2の薄膜電極及び第2の表示層の、前記第2の基板の周縁から所定距離だけ離れた領域(除去部分)を、前記第2の表示層が前記第2の薄膜電極の除去断面と同一面上に除去断面を有するように除去する第2の工程と、前記第1の積層体と前記第2の積層体とを、前記第1の表示層と前記第2の表示層とが対向する向きで貼り合わせる第3の工程とを含む画像表示媒体の製造方法であって、前記第3の工程において、前記第1の積層体と前記第2の積層体とを、第1の表示層が、前記第2の基板の表面と接触するように折れ曲がって前記第2の薄膜電極を覆い、かつ前記第1の積層体と前記第2の基板とが、前記除去部分の少なくとも一部で接触するように貼り合わせることを特徴とする画像表示媒体の製造方法[ 9 ] A first step of preparing a first stacked body in which a first thin film electrode and a first display layer are formed on a first substrate; a second thin film electrode on the second substrate; A second stacked body on which a second display layer is formed is prepared, and a predetermined distance from the periphery of the second substrate of the second thin film electrode and the second display layer in the second stacked body. A second step of removing a region (removed portion) separated by a distance so that the second display layer has a removed cross section on the same plane as a removed cross section of the second thin film electrode, and the first stack and said the body second laminate to a process for the preparation of the first display layer and the third step and the including images display medium and the second display layer are bonded in a direction opposite In the third step, the first laminated body and the second laminated body, the first display layer is a surface of the second substrate. The second thin film electrode is bent so as to be in contact with the first thin film electrode, and the first stacked body and the second substrate are bonded so as to be in contact with at least a part of the removed portion. A method for manufacturing an image display medium .

10]前記第2の工程において、前記第2の薄膜電極及び第2の表示層の前記除去部分をレーザー加工によって除去することを特徴とする前記[]に記載の画像表示媒体の製造方法。 [ 10 ] The method for manufacturing an image display medium according to [ 9 ], wherein in the second step, the removed portions of the second thin film electrode and the second display layer are removed by laser processing. .

11]前記第1の表示層として液晶層を用いるとともに、前記第2の表示層として光導電体層を用いることを特徴とする前記[]に記載の画像表示媒体の製造方法。 [ 11 ] The method for producing an image display medium according to [ 9 ], wherein a liquid crystal layer is used as the first display layer, and a photoconductor layer is used as the second display layer.

12]前記第1の工程において、前記第1の表示層の上にさらに接着剤層を積層して第1の積層体を形成することを特徴とする前記[]に記載の画像表示媒体の製造方法。 [ 12 ] The image display medium according to [ 9 ], wherein in the first step, an adhesive layer is further laminated on the first display layer to form a first laminate. Manufacturing method.

13]前記第2の工程において、前記除去断面と前記第2の基板の表面とが形成する角度を、90度よりも小さくすることを特徴とする前記[]に記載の画像表示媒体の製造方法。 [ 13 ] The image display medium according to [ 9 ], wherein in the second step, an angle formed by the removal cross section and the surface of the second substrate is made smaller than 90 degrees. Production method.

14]前記第1及び第2の薄膜電極の表面に、外部との電気的な接続を行うための第1及び第2の取出電極を接続する第4の工程をさらに含むことを特徴とする前記[]に記載の画像表示媒体の製造方法。 [ 14 ] The method further includes a fourth step of connecting the first and second extraction electrodes for electrical connection to the outside to the surfaces of the first and second thin film electrodes. The method for producing an image display medium according to [ 9 ].

15]全体を被覆する保護層を形成する第5の工程をさらに含むことを特徴とする前記[]に記載の画像表示媒体の製造方法。 [ 15 ] The method for producing an image display medium as described in [ 9 ], further comprising a fifth step of forming a protective layer covering the whole.

本発明の請求項1に係る画像表示媒体によって、電極間の短絡の発生が有効に防止されて、表示部分の信頼性が高く、欠陥の少ない、高品質で簡易かつ安価な構成が実現される。   The image display medium according to claim 1 of the present invention effectively prevents the occurrence of a short circuit between the electrodes, and realizes a high-quality, simple and inexpensive configuration with high reliability of the display portion, few defects, and the like. .

本発明の請求項に係る画像表示媒体によって、上述の効果が円滑かつ確実に発揮される。 With the image display medium according to claim 2 of the present invention, the above-described effects can be exhibited smoothly and reliably.

本発明の請求項3〜8に係る画像表示媒体によって、上述の効果を円滑かつ確実に発揮する光書き込み型の「電子ペーパー」が実現される。 With the image display medium according to claims 3 to 8 of the present invention, an optical writing type “electronic paper” that exhibits the above-mentioned effects smoothly and reliably is realized.

本発明の請求項に係る画像表示媒体の製造方法によって、電極間の短絡の発生が有効に防止されて、表示部分の信頼性が高く、欠陥の少ない、高品質で簡易かつ安価な画像表示媒体が、少ない環境負荷で効率的に製造される。 By the method for manufacturing an image display medium according to claim 9 of the present invention, the occurrence of a short circuit between electrodes is effectively prevented, the display portion has high reliability, few defects, high quality, simple and inexpensive image display. The medium is efficiently manufactured with a low environmental load.

本発明の請求項10に係る画像表示媒体の製造方法によって、上述の効果が円滑かつ確実に発揮される。 By the method for manufacturing an image display medium according to the tenth aspect of the present invention, the above-described effects can be exhibited smoothly and reliably.

本発明の請求項11〜15に係る画像表示媒体の製造方法によって、上述の効果を円滑かつ確実に発揮する光書き込み型の「電子ペーパー」が効率的に製造される。 By the method for manufacturing an image display medium according to claims 11 to 15 of the present invention, an optical writing type “electronic paper” that exhibits the above-described effects smoothly and reliably is efficiently manufactured.

〔第1の実施の形態〕
(画像表示媒体の構成)
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る画像表示媒体を示し、(a)は平面図、(b)はA−A線断面図、(c)はB−B線断面図、(d)は一部拡大したC−C線断面図である。
[First Embodiment]
(Configuration of image display medium)
1A and 1B show an image display medium according to a first embodiment of the present invention, in which FIG. 1A is a plan view, FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line AA, and FIG. (D) is CC line sectional drawing which expanded partially.

図1に示すように、本実施の形態の画像表示媒体10は、第1の基板1a上に、第1の薄膜電極1b及び第1の表示層3aが形成された第1の積層体1と、第2の基板2a上に、周縁から所定距離Dだけ離れた領域(除去部分)Eが除去された第2の薄膜電極2b及び第2の表示層3bが形成された第2の積層体2とを、第1の表示層3aと第2の表示層3bとが対向する向きで備えた構成を有している。   As shown in FIG. 1, an image display medium 10 according to the present embodiment includes a first laminate 1 in which a first thin film electrode 1b and a first display layer 3a are formed on a first substrate 1a. The second laminated body 2 in which the second thin film electrode 2b and the second display layer 3b from which the region (removed portion) E away from the periphery by a predetermined distance D is removed are formed on the second substrate 2a. Are arranged in a direction in which the first display layer 3a and the second display layer 3b face each other.

なお、図1においては、第1の表示層3aとして液晶層及び第2の表示層3bとして光導電体層を用いた場合であって、第2の表示層(光導電体層)3bの除去部分Eが除去された場合を示している。また、図1においては、第1の表示層3a(液晶層)は第1の薄膜電極1b側に配置され、第2の表示層(光導電体層)3bは第2の薄膜電極2b側に配置された場合を示しているが、これらは逆に配置されてもよい。   In FIG. 1, a liquid crystal layer is used as the first display layer 3a and a photoconductor layer is used as the second display layer 3b, and the second display layer (photoconductor layer) 3b is removed. The case where the part E was removed is shown. In FIG. 1, the first display layer 3a (liquid crystal layer) is disposed on the first thin film electrode 1b side, and the second display layer (photoconductor layer) 3b is disposed on the second thin film electrode 2b side. Although the case where it arrange | positions is shown, these may be arrange | positioned conversely.

また、本実施の形態の画像表示媒体10においては、第1の表示層3a(液晶層)と第2の表示層(光導電体層)3bとの間に接着剤層4が配置されている。接着剤層4は、実際に画像表示媒体10を作製する場合、予め液晶層3a側に配置しても、光導電体層3b側に配置してもよいが、上下基板の密着性を確保するため、除去しない側に設ける方が好ましい。また、接着剤層4は、配置を省略してもよい。   In the image display medium 10 of the present embodiment, the adhesive layer 4 is disposed between the first display layer 3a (liquid crystal layer) and the second display layer (photoconductor layer) 3b. . When the image display medium 10 is actually manufactured, the adhesive layer 4 may be disposed in advance on the liquid crystal layer 3a side or on the photoconductor layer 3b side, but ensures the adhesion between the upper and lower substrates. Therefore, it is preferable to provide it on the side not to be removed. Further, the arrangement of the adhesive layer 4 may be omitted.

また、本実施の形態の画像表示媒体10においては、第1及び第2の薄膜電極1b、2bの表面に接続された、外部との電気的な接続を行うための第1及び第2の取出電極1c、2cが配置されている。   Further, in the image display medium 10 of the present embodiment, the first and second takeouts for electrical connection with the outside connected to the surfaces of the first and second thin film electrodes 1b and 2b. Electrodes 1c and 2c are arranged.

さらに、本実施の形態の画像表示媒体10においては、第1及び第2の薄膜電極1b、2bとして、第1及び第2の基板1a、2aの全面に形成された全面電極が用いられている。   Furthermore, in the image display medium 10 according to the present embodiment, full surface electrodes formed on the entire surfaces of the first and second substrates 1a and 2a are used as the first and second thin film electrodes 1b and 2b. .

本実施の形態における画像表示媒体10は、例えば、光書き込み型、トナーディスプレイ型、電気泳動方式等の「電子ペーパー」による表示機能を付加したICカード等として用いられる。以下、構成要素ごとに具体的に説明する。   The image display medium 10 in the present embodiment is used as an IC card or the like to which a display function using “electronic paper” such as an optical writing type, a toner display type, and an electrophoretic method is added. Hereinafter, each component will be specifically described.

(積層体)
第1の積層体1は、第1の基板1a上に、第1の薄膜電極1b及び第1の表示層3aが形成されて構成されている。第2の積層体2は、第2の基板2a上に、周縁から所定距離Dだけ離れた領域(除去部分)Eが除去された第2の薄膜電極2b及び第2の表示層3bが形成されて構成されている。
(Laminate)
The first stacked body 1 is configured by forming a first thin film electrode 1b and a first display layer 3a on a first substrate 1a. In the second stacked body 2, the second thin film electrode 2 b and the second display layer 3 b are formed on the second substrate 2 a by removing the region (removed portion) E away from the periphery by a predetermined distance D. Configured.

<基板>
第1及び第2の積層体1、2を構成する第1及び第2の基板1a、2aとしては、少なくとも表示側に位置する一方が、例えば、厚さが50〜150μmのポリエチレンテレフタレート(PET)等の透明な樹脂材料からなるように構成されたものを挙げることができる。
<Board>
As the first and second substrates 1a and 2a constituting the first and second laminates 1 and 2, at least one on the display side is, for example, polyethylene terephthalate (PET) having a thickness of 50 to 150 μm. The thing comprised so that it might consist of transparent resin materials, such as the above, can be mentioned.

<薄膜電極>
第1及び第2の積層体1、2を構成する第1及び第2の薄膜電極1b、2bとしては、少なくとも表示側に位置する一方が、例えば、10〜200nmの酸化インジウム錫(ITO)、酸化亜鉛等からなる透明電極からなるように構成されたものを挙げることができる。
<Thin film electrode>
As 1st and 2nd thin film electrode 1b, 2b which comprises the 1st and 2nd laminated bodies 1 and 2, at least one located in the display side is 10-200 nm indium tin oxide (ITO), for example, What was comprised so that it might consist of a transparent electrode which consists of zinc oxide etc. can be mentioned.

<表示層>
第1及び第2の積層体1、2を構成する第1の表示層3a及び第2の表示層3bとしては、画像表示媒体10の種類により異なるが、例えば、液晶、着色粒子等を有する層からなるものを挙げることができる。本実施の形態の場合のように、画像表示媒体10が光書き込み型の「電子ペーパー」である場合、第1の表示層3aとして液晶層及び光導電体層3bを含むものが好ましい。本実施の形態においては、第1の表示層3aとして液晶層及び第2の表示層3bとして光導電体層を用いた場合について説明するが、この他に、例えば、光を吸収する光吸収層、光の照射によって抵抗値が小さくなる光導電体層を表示面側から順に積層した構成、又は、光吸収層、光導電体層、隔離層、液晶層を表示面側から順に積層した構成を有するものであってもよい。
<Display layer>
The first display layer 3a and the second display layer 3b constituting the first and second laminates 1 and 2 are different depending on the type of the image display medium 10, for example, a layer having liquid crystal, colored particles, or the like. Can be mentioned. When the image display medium 10 is an optical writing type “electronic paper” as in the present embodiment, it is preferable that the first display layer 3a includes a liquid crystal layer and a photoconductor layer 3b. In the present embodiment, a case where a liquid crystal layer is used as the first display layer 3a and a photoconductor layer is used as the second display layer 3b will be described. In addition to this, for example, a light absorption layer that absorbs light A structure in which a photoconductor layer whose resistance value is reduced by light irradiation is laminated in order from the display surface side, or a structure in which a light absorption layer, a photoconductor layer, an isolation layer, and a liquid crystal layer are laminated in order from the display surface side. You may have.

なお、液晶層3aとしては、高分子分散液晶、マイクロカプセル化液晶(例えば、コレステリック液晶が封入されたマイクロカプセルを有するように構成されたもの)を挙げることができる。また、光導電体層3bとしては、電荷輸送層と、この電荷輸送層の両側に積層された一対の電荷発生層とからなるように構成されたものを挙げることができる。これにより、液晶層3aへの交流電圧の印加が可能となるため、液晶層3aの劣化を抑えることができ、駆動電圧の低電圧化、電子ペーパーの高寿命化を実現することができる。さらに、第1の表示層3a及び第2の表示層3bとしては、上述の他に、マイクロカプセル化電気泳動素子、ジリコン(Gyricon)素子等であってもよい。表示層3と薄膜電極1b、2bとの接合方法としては、例えば、塗布や圧着等による貼り合わせ等を挙げることができる。   Examples of the liquid crystal layer 3a include polymer-dispersed liquid crystals and microencapsulated liquid crystals (for example, those configured to have microcapsules in which cholesteric liquid crystals are enclosed). Examples of the photoconductor layer 3b include a charge transport layer and a pair of charge generation layers stacked on both sides of the charge transport layer. Thereby, since an alternating voltage can be applied to the liquid crystal layer 3a, deterioration of the liquid crystal layer 3a can be suppressed, and the driving voltage can be lowered and the lifetime of the electronic paper can be increased. Furthermore, in addition to the above, the first display layer 3a and the second display layer 3b may be microencapsulated electrophoretic elements, gyricon elements, or the like. Examples of a method for joining the display layer 3 and the thin film electrodes 1b and 2b include bonding by application, pressure bonding, and the like.

第2の薄膜電極2b及び後述する第2の表示層(光導電体層)3bの除去部分Eの形成方法は、媒体の表示品質に影響を与えないものであれば特に制限はないが、例えば、レーザー加工による方法を好適例として挙げることができる。このようなレーザー加工としては、例えば、COレーザー加工を挙げることができる。レーザー光のパワー、照射領域等を制御することによって、除去部分の範囲、深さ等を高精細に制御することができる。 The method of forming the removed portion E of the second thin film electrode 2b and the second display layer (photoconductor layer) 3b described later is not particularly limited as long as it does not affect the display quality of the medium. A method by laser processing can be mentioned as a preferred example. Examples of such laser processing include CO 2 laser processing. By controlling the power of the laser beam, the irradiation region, etc., the range, depth, etc. of the removed portion can be controlled with high definition.

(接着剤層)
本実施の形態においては、第1の表示層3a及び第2の表示層3bの接合性を高めるため、接着剤層4を配置している。このような接着剤層4としては、例えば、アクリル系、ウレタン系の接着剤又は粘着剤を挙げることができる。接着剤層の厚さは、例えば、
1〜10μmであることが好ましい。
(Adhesive layer)
In the present embodiment, the adhesive layer 4 is disposed in order to improve the bondability between the first display layer 3a and the second display layer 3b. Examples of such an adhesive layer 4 include acrylic and urethane adhesives and pressure-sensitive adhesives. The thickness of the adhesive layer is, for example,
It is preferable that it is 1-10 micrometers.

(取出電極)
第1及び第2の取出電極1c、2cとしては、例えば、厚さが100〜200μmのNi等の金属からなり、第1及び第2の薄膜電極1b、2bよりも高い剛性、又は硬度を有するものであることが好ましい。
(Extraction electrode)
The first and second extraction electrodes 1c and 2c are made of, for example, a metal such as Ni having a thickness of 100 to 200 μm, and have higher rigidity or hardness than the first and second thin film electrodes 1b and 2b. It is preferable.

(保護層)
本実施の形態においては、図示はしないが、全体を被覆する保護層をさらに備えた構成とすることが好ましい。このような保護層としては、例えば、PET(ポリエチレンテレフタレート)、非晶質PET(PET−G)、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、又はこれらを組み合わせて用いた透明な熱可塑性樹脂からなる熱可塑性フィルムを挙げることができる。このような熱可塑性フィルムは、例えば、熱可塑性部材を画像表示媒体10の表面にボンディングツールを用いて熱圧着することにより形成される。この場合、外部から第1及び第2の取出電極1c、2cに接続するための取出孔を有するように構成することが好ましい。なお、取出孔の磨耗を防止するため、取出孔に、Niやステンレス等の金属のパイプを嵌合し、この金属のパイプの中に第1及び第2の取出電極1c、2cを配線するようにしてもよい。
(Protective layer)
In the present embodiment, although not shown, it is preferable to further include a protective layer covering the whole. As such a protective layer, for example, a thermoplastic film made of a transparent thermoplastic resin using PET (polyethylene terephthalate), amorphous PET (PET-G), polyvinyl chloride, polyester, or a combination thereof. Can be mentioned. Such a thermoplastic film is formed, for example, by thermocompression bonding a thermoplastic member to the surface of the image display medium 10 using a bonding tool. In this case, it is preferable to have an extraction hole for connecting to the first and second extraction electrodes 1c and 2c from the outside. In order to prevent wear of the extraction hole, a metal pipe such as Ni or stainless steel is fitted into the extraction hole, and the first and second extraction electrodes 1c and 2c are wired in the metal pipe. It may be.

(ICチップ)
本実施の形態においては、図示はしないが、必要に応じて、無線タグ等のICチップを所定の領域に搭載してもよい。
(IC chip)
In this embodiment mode, although not illustrated, an IC chip such as a wireless tag may be mounted in a predetermined area as necessary.

(画像表示媒体の作製)
図2は、本発明の第1の実施の形態に係る画像表示媒体の製造工程を工程順に示す断面図であり、(a)は第1の基板上に第1の薄膜電極、第1の表示層及び接着剤層が形成された第1の積層体を用意する第1の工程、(b)は第2の基板上に第2の薄膜電極及び第2の表示層が形成された第2の積層体を用意するとともに、第2の積層体における第2の薄膜電極及び第2の表示層の、前記第2の基板の周縁から所定距離だけ離れた領域(除去部分)を除去する第2の工程、(c)は第1の積層体と第2の積層体とを、第1の表示層と第2の表示層とが対向する向きで貼り合わせる第3の工程、(d)は、貼り合わせた後、得られた画像表示媒体をそれぞれ示す。
(Production of image display medium)
FIG. 2 is a cross-sectional view showing the manufacturing process of the image display medium according to the first embodiment of the present invention in the order of steps, in which (a) shows the first thin film electrode and the first display on the first substrate. A first step of preparing a first laminate in which a layer and an adhesive layer are formed, and (b) is a second step in which a second thin film electrode and a second display layer are formed on a second substrate. A second body is prepared, and a second thin film electrode and a second display layer in the second stacked body are removed by removing a region (removed portion) away from the periphery of the second substrate by a predetermined distance. Step (c) is a third step of bonding the first laminate and the second laminate in the direction in which the first display layer and the second display layer face each other. (D) After the combination, the obtained image display media are shown.

(第1の工程)
図2(a)に示すように、PETからなる第1の基板1a上にITOからなる第1の薄膜電極1bをスパッタリングにより形成し、第1の基板積層体S1とする。次に、第1の薄膜電極1b上に、第1の表示層(液晶層)3a及び接着剤層4を積層、配置して第1の積層体とする。ここで、第1の表示層(液晶層)3a及び接着剤層4の積層、配置方法としては特に制限はなく、汎用されている方法を用いることができるが、コストの点で塗布による方法が好ましい。
(First step)
As shown in FIG. 2A, a first thin film electrode 1b made of ITO is formed on a first substrate 1a made of PET by sputtering to form a first substrate laminate S1. Next, the first display layer (liquid crystal layer) 3a and the adhesive layer 4 are stacked and arranged on the first thin film electrode 1b to form the first stacked body. Here, there is no restriction | limiting in particular as a lamination | stacking and arrangement | positioning method of the 1st display layer (liquid crystal layer) 3a and the adhesive bond layer 4, Although the method currently used widely can be used, The method by application | coating is a point of cost. preferable.

(第2の工程)
図2(b)に示すように、PETからなる第2の基板2a上にITOからなる第2の薄膜電極2bを形成して第2の基板積層体S2とする。この第2の基板積層体2上に第2の表示層(光導電体層)3bを積層、配置する。ここで、光導電体層3bの積層、配置方法としては特に制限はなく、汎用されている方法を用いることができるが、コストの点で塗布による方法が好ましい。次に、光導電体層3b側からレーザー光を照射して、第2の基板2b及び光導電体層3bの周縁から所定距離Dだけ離れた領域(除去部分E(図1(a)参照))を除去して第2の積層体2を形成する。
(Second step)
As shown in FIG. 2B, a second thin film electrode 2b made of ITO is formed on a second substrate 2a made of PET to form a second substrate laminate S2. A second display layer (photoconductor layer) 3b is laminated and disposed on the second substrate laminate 2. Here, there is no restriction | limiting in particular as a lamination | stacking and arrangement | positioning method of the photoconductor layer 3b, Although the method used widely can be used, The method by application | coating is preferable at the point of cost. Next, laser light is irradiated from the photoconductor layer 3b side, and a region separated by a predetermined distance D from the peripheral edges of the second substrate 2b and the photoconductor layer 3b (removed portion E (see FIG. 1A)). ) Is removed to form the second laminate 2.

(第3の工程)
図2(c)に示すように、第1の積層体1と第2の積層体2とを貼り合わせる。この場合、例えば、台上に固定した第1の積層体1と第2の積層体2との全体にボンディングツールを用いて、緩衝材を挟んで鉛直上方向から加熱(例えば、60〜150℃)、加圧(例えば、0.1〜1N/mm)を施すことによって貼り合わせることができる。また、例えば、加熱ローラーを用いたラミネート法等を用いて、第1の積層体1と第2の積層体2の裏表両面から同条件で加熱、加圧を施してもよい。また、接合面に接着剤を用いてもよい。
(Third step)
As shown in FIG.2 (c), the 1st laminated body 1 and the 2nd laminated body 2 are bonded together. In this case, for example, the first laminated body 1 and the second laminated body 2 fixed on the stand are heated from the vertical direction with a cushioning material sandwiched between them using a bonding tool (for example, 60 to 150 ° C. ) And applying pressure (for example, 0.1 to 1 N / mm 2 ). Further, for example, heating and pressurization may be performed under the same conditions from both the front and back surfaces of the first laminate 1 and the second laminate 2 by using a laminating method using a heating roller. Moreover, you may use an adhesive agent for a joint surface.

第1の積層体1と第2の積層体2とを貼り合わせた後、図1(a)に示す平面形状に打ち抜くことによって、図2(d)に示す画像表示媒体10が得られる。ここで、図2(d)は、図1(d)に対応している。図2(d)に示すように、第2の基板2b及び光導電体層3bの周縁から所定距離Dだけ離れた領域(除去部分E(図1(a)参照)が除去されているため、第1の積層体1の最下層部分である接着剤層4が第2の基板2aの表面と接触するように折れ曲がって第2の薄膜電極2bを覆い隠し、第1の薄膜電極1bとの短絡を有効に防止している。   After the first laminated body 1 and the second laminated body 2 are bonded together, the image display medium 10 shown in FIG. 2D is obtained by punching into the planar shape shown in FIG. Here, FIG. 2D corresponds to FIG. As shown in FIG. 2 (d), the region (removed portion E (see FIG. 1 (a)) separated by a predetermined distance D from the peripheral edges of the second substrate 2b and the photoconductor layer 3b is removed. The adhesive layer 4 which is the lowermost layer portion of the first laminated body 1 is bent so as to be in contact with the surface of the second substrate 2a so as to cover the second thin film electrode 2b and short-circuit with the first thin film electrode 1b. Is effectively prevented.

(第4の工程)
次に、第1及び第2の薄膜電極1b、2bの表面に、外部との電気的な接続を行うための第1及び第2の取出電極1c、2c(図1(a)参照)を接続する。
(Fourth process)
Next, first and second extraction electrodes 1c and 2c (see FIG. 1A) for electrical connection with the outside are connected to the surfaces of the first and second thin film electrodes 1b and 2b. To do.

(第5の工程)
次に、必要に応じて、無線タグ等のICチップを搭載するとともに、全体を被覆する保護層を形成する。
(Fifth step)
Next, if necessary, an IC chip such as a wireless tag is mounted and a protective layer covering the whole is formed.

このようにして、第2の基板2b及び光導電体層3bの周縁から所定距離Dだけ離れた領域(除去部分E(図1(a)参照))が除去された、短絡し難い画像表示媒体10を得ることができる。また、この実施の形態の方法は、除去部分E等の除去にレーザー光を用いているため、エッチング処理によるパターニングが不要で、環境に過大な負荷を与えることもなく、またエッチングに起因する欠陥を発生させることもなしに、高品質で、低コストの画像表示媒体10を作製することができる。   In this way, an image display medium that is less likely to be short-circuited, in which the region (removed portion E (see FIG. 1A)) that is a predetermined distance D away from the periphery of the second substrate 2b and the photoconductor layer 3b is removed. 10 can be obtained. In addition, since the method of this embodiment uses a laser beam for removing the removed portion E and the like, patterning by etching is unnecessary, does not give an excessive load to the environment, and defects caused by etching. The image display medium 10 with high quality and low cost can be produced without generating the above.

(画像表示媒体の他の作製例)
図3は、本発明の第1の実施の形態に係る画像表示媒体の他の製造工程を工程順に示す説明図であり、(a)は、第1の基板上に第1の薄膜電極を形成して第1の基板積層体とする工程、(b)は、第1の基板積層体上に第1の表示層及び接着剤層を形成して第1の積層体とする工程、(c)は、第1の積層体に取出電極との接続部分を形成するため第1のカット部分を形成する工程をそれぞれ示す平面図及び断面図である。図4は、図3に示す製造工程の後の製造工程を工程順に示す説明図であり、(a)は、第2の基板上に第2の薄膜電極を形成して第2の基板積層体とする工程、(b)は、第2の基板積層体上に第2の表示層を形成する工程、(c)は、第2の積層体に取出電極との接続部分を形成するため第2のカット部分を形成する工程、(d)は、第2の積層体における第2の薄膜電極及び第2の表示層の、第2の基板の周縁から所定距離だけ離れた領域(除去部分)を除去する工程をそれぞれ示す平面図及び断面図である。
(Another example of manufacturing an image display medium)
FIG. 3 is an explanatory view showing another manufacturing process of the image display medium according to the first embodiment of the present invention in the order of steps. FIG. 3A shows the formation of the first thin film electrode on the first substrate. And (b) is a step of forming a first display layer and an adhesive layer on the first substrate laminate to obtain the first laminate, (c) These are the top view and sectional drawing which show the process of forming the 1st cut part in order to form the connection part with an extraction electrode in the 1st laminated body, respectively. FIG. 4 is an explanatory view showing the manufacturing process after the manufacturing process shown in FIG. 3 in the order of processes. FIG. 4A shows a second substrate laminate in which a second thin film electrode is formed on a second substrate. (B) is a step of forming a second display layer on the second substrate laminate, and (c) is a second step for forming a connection portion with the extraction electrode on the second laminate. (D) is a step (d) in which a region (removal portion) of the second thin film electrode and the second display layer in the second stacked body that is separated from the peripheral edge of the second substrate by a predetermined distance is removed. It is the top view and sectional drawing which show the process to remove, respectively.

(第1の工程)
以下の画像表示媒体の他の作製例においては、図1(a)に示す画像表示媒体10を同時に3個作製する場合を示す。図3(a)に示すように、PETからなる第1の基板1a上にITOからなる第1の薄膜電極1bをスパッタリングにより形成し、第1の基板積層体S1とする。次に、図3(b)に示すように、第1の薄膜電極1bの全面上に、第1の表示層(液晶層)3a及び接着剤層4を積層、配置して第1の積層体1とする。ここで、第1の表示層(液晶層)3a及び接着剤層4の積層、配置方法としては特に制限はなく、汎用されている方法を用いることができるが、コストの点で塗布による方法が好ましい。次に、図3(c)に示すように、外部との電気的な接続を行うための取出電極(図1(a)参照)との接続部分を形成するため、第1の基板積層体S1、第1の表示層(液晶層)3a及び接着剤層4の一部を貫通するようにカットして第1のカット部分1dを形成する。
(First step)
In another example of manufacturing the image display medium below, three image display media 10 shown in FIG. 1A are manufactured at the same time. As shown in FIG. 3A, a first thin film electrode 1b made of ITO is formed on a first substrate 1a made of PET by sputtering to form a first substrate laminate S1. Next, as shown in FIG. 3 (b), the first display layer (liquid crystal layer) 3a and the adhesive layer 4 are laminated and arranged on the entire surface of the first thin film electrode 1b to form the first laminated body. Set to 1. Here, there is no restriction | limiting in particular as a lamination | stacking and arrangement | positioning method of the 1st display layer (liquid crystal layer) 3a and the adhesive bond layer 4, Although the method currently used widely can be used, The method by application | coating is a point of cost. preferable. Next, as shown in FIG. 3C, in order to form a connection portion with the extraction electrode (see FIG. 1A) for electrical connection with the outside, the first substrate laminate S1 is formed. Then, the first cut layer 1d is formed by cutting the first display layer (liquid crystal layer) 3a and part of the adhesive layer 4 so as to penetrate.

(第2の工程)
図4(a)に示すように、PETからなる第2の基板2a上にITOからなる第2の薄膜電極2bを形成して第2の基板積層体S2とする。次に、図4(b)に示すように、この第2の基板積層体S2上に第2の表示層(光導電体層)3bを積層、配置する。ここで、光導電体層3bの積層、配置方法としては特に制限はなく、汎用されている方法を用いることができるが、コストの点で塗布による方法が好ましい。次に、図4(c)に示すように、外部との電気的な接続を行うための取出電極(図1(a)参照)との接続部分を形成するため、第2の基板積層体S2、第2の表示層(光導電体層)3bの一部を貫通するようにカットして第2のカット部分2dを形成する。次に、図4(d)に示すように、光導電体層3b側からレーザー光を照射して、第2の薄膜電極2b及び光導電体層3bの周縁から所定距離Dだけ離れた領域(除去部分E(図1(a)参照))を除去して第2の積層体2を形成する。
(Second step)
As shown in FIG. 4A, a second thin film electrode 2b made of ITO is formed on a second substrate 2a made of PET to form a second substrate laminate S2. Next, as shown in FIG. 4B, a second display layer (photoconductor layer) 3b is laminated and disposed on the second substrate laminate S2. Here, there is no restriction | limiting in particular as a lamination | stacking and arrangement | positioning method of the photoconductor layer 3b, Although the method used widely can be used, The method by application | coating is preferable at the point of cost. Next, as shown in FIG. 4C, in order to form a connection portion with the extraction electrode (see FIG. 1A) for electrical connection with the outside, the second substrate laminate S2 is formed. Then, a second cut portion 2d is formed by cutting a part of the second display layer (photoconductor layer) 3b. Next, as shown in FIG. 4D, laser light is irradiated from the photoconductor layer 3b side, and a region (a predetermined distance D away from the periphery of the second thin film electrode 2b and the photoconductor layer 3b). The removed portion E (see FIG. 1A)) is removed, and the second stacked body 2 is formed.

(以降の工程)
図5は、図3及び図4に示すカット部分が形成された積層体を互いに貼り合わせた状態を示す平面図である。図6は、図5に示す第1の積層体と第2の積層体との貼り合わせ体を3つの画像表示媒体の形状に打ち抜いた状態を示す平面図である。図7は、図6に示す打ち抜き体における、取出電極との接続のため層を剥離して電極部分を剥き出すための層剥離部分を示す平面図である。
(Subsequent processes)
FIG. 5 is a plan view showing a state in which the laminates formed with the cut portions shown in FIGS. 3 and 4 are bonded together. FIG. 6 is a plan view showing a state in which the bonded body of the first laminated body and the second laminated body shown in FIG. 5 is punched into the shapes of three image display media. FIG. 7 is a plan view showing a layer peeling portion for peeling the layer for connection with the extraction electrode and stripping the electrode portion in the punched body shown in FIG.

以下、図5〜図7を用いて第2の工程の以降の工程について説明する。図5に示すように、第1の工程で得られた第1のカット部分1dが形成された第1の積層体1と、第2の工程で得られた第2のカット部分2dが形成された第2の積層体2とを互いに貼り合わせる。この後、貼り合わせ体は、2点鎖線で示す打ち抜き線Lの部分で打ち抜かれて、図6に示す3つの打ち抜き体に形成される。図5において、打ち抜き線Lに囲まれた3つの四角形状のうち、左側に位置するものの斜線を付した部分は第2の積層体2の第2のカット部分2dを示し、真ん中に位置するものの斜線を付した部分は第1の積層体1の第1のカット部分1dを示し、右側に位置するものの斜線を付した部分は第1及び第2の積層体1、2の第1及び第2のカット部分1d、2dを重ねて示している。   Hereinafter, steps subsequent to the second step will be described with reference to FIGS. As shown in FIG. 5, the 1st laminated body 1 in which the 1st cut part 1d obtained by the 1st process was formed, and the 2nd cut part 2d obtained by the 2nd process were formed. The second laminate 2 is bonded together. Thereafter, the bonded body is punched at a portion of a punching line L indicated by a two-dot chain line, and formed into three punched bodies shown in FIG. In FIG. 5, among the three quadrangular shapes surrounded by the punching line L, the hatched portion of the one located on the left side shows the second cut portion 2d of the second laminate 2, and is located in the middle. The hatched portion shows the first cut portion 1d of the first laminate 1, and the hatched portion of the first laminate 1 is the first and second of the first and second laminates 1 and 2. The cut portions 1d and 2d of FIG.

図6は、上述のように、打ち抜き線Lの部分で打ち抜かれて、3つの打ち抜き体(第1及び第2の積層体1、2)を形成した状態を示している。この打ち抜き体は、図1(a)における形状から第1及び第2の取出電極1c、2cを取り除いた形状に対応している。   FIG. 6 shows a state in which three punched bodies (first and second laminated bodies 1 and 2) are formed by punching at the portion of the punching line L as described above. This punched body corresponds to a shape obtained by removing the first and second extraction electrodes 1c and 2c from the shape in FIG.

図7に示すように、図6に示す3つの打ち抜き体(第1及び第2の積層体1、2)のそれぞれの、斜線で示す層剥離部分Fから第1及び第2の表示層3a、3b並びに接着剤層4を剥離して第1及び第2の薄膜電極1b、2b部分を剥き出しにし、第1及び第2の取出電極1c、2cとの接続を可能にする。なお、この層剥離工程は、打ち抜き工程の後に行った場合を示したが、層(第1及び第2の表示層3a、3b並びに接着剤層)の形成後であれば、第1及び第2のカット部分1d、2dを形成する前に行ってもよく、打ち抜き工程の前に行ってもよい。   As shown in FIG. 7, each of the three punched bodies (first and second laminated bodies 1 and 2) shown in FIG. 3b and the adhesive layer 4 are peeled off to expose the first and second thin film electrodes 1b and 2b, thereby enabling connection with the first and second extraction electrodes 1c and 2c. In addition, although this layer peeling process showed the case where it performed after the punching process, if it is after formation of a layer (1st and 2nd display layer 3a, 3b and adhesive layer), 1st and 2nd It may be performed before the cut portions 1d and 2d are formed, or may be performed before the punching step.

次に、上述の第1及び第2の薄膜電極1b、2bの剥き出しにした部分に第1及び第2の取出電極1c、2cを接続し、必要に応じて、無線タグ等のICチップを搭載するとともに、全体を被覆する保護層を形成する。   Next, the first and second extraction electrodes 1c and 2c are connected to the exposed portions of the first and second thin film electrodes 1b and 2b, and an IC chip such as a wireless tag is mounted if necessary. At the same time, a protective layer covering the whole is formed.

このようにして、第2の基板2b及び光導電体層3bの周縁から所定距離Dだけ離れた領域(除去部分E(図1(a)参照))が除去された、短絡し難い画像表示媒体10を3個同時に得ることができる。   In this way, an image display medium that is less likely to be short-circuited, in which the region (removed portion E (see FIG. 1A)) that is a predetermined distance D away from the periphery of the second substrate 2b and the photoconductor layer 3b is removed. Three 10 can be obtained simultaneously.

〔第2の実施の形態〕
(画像表示媒体の構成)
は、本発明の第2の実施の形態に係る画像表示媒体の、第1の実施の形態において図1(d)が示す部分に対応する部分を示す断面図である。
[Second Embodiment]
(Configuration of image display medium)
FIG. 8 is a cross-sectional view showing a portion corresponding to the portion shown in FIG. 1D in the first embodiment of the image display medium according to the second embodiment of the present invention.

に示すように、第2の実施の形態に係る画像表示媒体10の基本的な構成は、図1(d)に示す第1の実施の形態の場合と同じであるが、第2の実施の形態に係る画像表示媒体10の場合、第2の薄膜電極2b及び光導電体層3bの除去部分E(図1(a)参照))を除去した後の端面と第2の基板2aの表面とが形成する角度(カット角度)θが、第1の実施の形態の場合、90度であるのに対し、これよりも小さい角度、すなわち、第1の積層体1の最下層部分である接着剤層4が第2の基板2aの表面と接触するように折れ曲がって第2の薄膜電極2bを覆い隠す時に、覆い隠す度合いが増加する角度、例えば、θ=30〜60度に構成され、さらに確実に短絡を防止することができるように構成されている。このようにカット角度θを制御する方法としては特に制限はないが、例えば、レーザー光の入射角θ(レーザー光と第2の基板2aの表面の法線とのなす角度(90−θ))が、60〜30度となるように制御して、レーザー光を照射することを挙げることができる。 As shown in FIG. 8 , the basic configuration of the image display medium 10 according to the second embodiment is the same as that of the first embodiment shown in FIG. In the case of the image display medium 10 according to the embodiment, the end surface after removing the second thin film electrode 2b and the removed portion E (see FIG. 1A) of the photoconductor layer 3b and the second substrate 2a. The angle (cut angle) θ formed with the surface is 90 degrees in the case of the first embodiment, but is smaller than this, that is, the lowermost layer portion of the first laminate 1. When the adhesive layer 4 is bent so as to be in contact with the surface of the second substrate 2a to cover the second thin film electrode 2b, the angle is increased, for example, θ = 30 to 60 degrees. Furthermore, it is comprised so that a short circuit can be prevented reliably. The method for controlling the cut angle θ is not particularly limited. For example, the incident angle θ of the laser beam (the angle between the laser beam and the normal of the surface of the second substrate 2a (90−θ)). However, it can control to be set to 60 to 30 degrees and irradiate laser light.

なお、本発明は、上記各実施の形態に限定されることはなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲内において種々変形実施が可能である。また、発明の趣旨を逸脱しない範囲内において上記各実施の形態の構成要素を任意に組み合わせてもよい。   The present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the spirit of the invention. In addition, the constituent elements of the above-described embodiments may be arbitrarily combined within a scope that does not depart from the spirit of the invention.

本発明の画像表示媒体は、視認性や携帯性を保持するとともに、表示内容を電気的に書き換えることができる「電子ペーパー」又「はデジタルペーパー」等の応用としての、RFID(RFタグ)に代表される非接触式ICを備えたカード類(例えば、定期券、診察券、会員カード、IDカード、キャッシュカード、クレジットカード、商品流通用タグ等)や情報媒体(例えば、書籍、広告等)を取り扱う各種産業分野、例えば、交通業、医療業、金融業、流通業、出版業、情報伝達業、電子機器製造業等において有効に利用される。   The image display medium of the present invention can be used as an RFID (RF tag) as an application such as “electronic paper” or “digital paper” that can maintain the visibility and portability and can electrically rewrite display contents. Cards (eg, commuter pass, examination ticket, membership card, ID card, cash card, credit card, merchandise distribution tag, etc.) and information media (eg, books, advertisements, etc.) equipped with representative non-contact ICs It is effectively used in various industrial fields that deal with, for example, transportation industry, medical industry, financial industry, distribution industry, publishing industry, information transmission industry, electronic equipment manufacturing industry, and the like.

本発明の第1の実施の形態に係る画像表示媒体を示し、(a)は平面図、(b)はA−A線断面図、(c)はB−B線断面図、(d)は一部拡大したC−C線断面図である。The image display medium which concerns on the 1st Embodiment of this invention is shown, (a) is a top view, (b) is AA sectional view, (c) BB sectional drawing, (d) is It is CC sectional view taken on the line which expanded partially. 本発明の第1の実施の形態に係る画像表示媒体の製造工程を工程順に示す断面図であり、(a)は第1の基板上に第1の薄膜電極、第1の表示層及び接着剤層が形成された第1の積層体を用意する第1の工程、(b)は第2の基板上に第2の薄膜電極及び第2の表示層が形成された第2の積層体を用意するとともに、第2の積層体における第2の薄膜電極及び第2の表示層の、前記第2の基板の周縁から所定距離だけ離れた領域(除去部分)を除去する第2の工程、(c)は第1の積層体と第2の積層体とを、第1の表示層と第2の表示層とが対向する向きで貼り合わせる第3の工程、(d)は、貼り合わせた後、得られた画像表示媒体をそれぞれ示す。It is sectional drawing which shows the manufacturing process of the image display medium which concerns on the 1st Embodiment of this invention in order of a process, (a) is a 1st thin film electrode, a 1st display layer, and an adhesive agent on a 1st board | substrate. A first step of preparing a first laminated body in which a layer is formed, and (b) preparing a second laminated body in which a second thin film electrode and a second display layer are formed on a second substrate. And (c) removing a region (removed portion) of the second thin film electrode and the second display layer in the second stacked body that is separated from the peripheral edge of the second substrate by a predetermined distance (c). ) Is a third step of bonding the first stacked body and the second stacked body in the direction in which the first display layer and the second display layer face each other, (d) Each of the obtained image display media is shown. 本発明の第1の実施の形態に係る画像表示媒体の他の製造工程を工程順に示す説明図であり、(a)は、第1の基板上に第1の薄膜電極を形成して第1の基板積層体とする工程、(b)は、第1の基板積層体上に第1の表示層及び接着剤層を形成して第1の積層体とする工程、(c)は、第1の積層体に電極部分を形成するためカットする工程をそれぞれ示す平面図及び断面図である。It is explanatory drawing which shows the other manufacturing process of the image display medium based on the 1st Embodiment of this invention in process order, (a) forms a 1st thin film electrode on a 1st board | substrate, and is 1st. (B) is a step of forming a first display layer and an adhesive layer on the first substrate laminate to form a first laminate, and (c) is a first laminate. It is the top view and sectional drawing which show the process cut | disconnected in order to form an electrode part in the laminated body of, respectively. 図3に示す製造工程の後の製造工程を工程順に示す説明図であり、(a)は、第2の基板上に第2の薄膜電極を形成して第2の基板積層体とする工程、(b)は、第2の基板積層体上に第2の表示層を形成する工程、(c)は、第2の積層体に電極部分を形成するためカットする工程、(d)は、第2の積層体における第2の薄膜電極及び第2の表示層の、第2の基板の周縁から所定距離だけ離れた領域(除去部分)を除去する工程をそれぞれ示す平面図及び断面図である。It is explanatory drawing which shows the manufacturing process after the manufacturing process shown in FIG. 3 in order of a process, (a) is the process of forming a 2nd thin film electrode on a 2nd board | substrate, and setting it as a 2nd board | substrate laminated body, (B) is a step of forming a second display layer on the second substrate laminate, (c) is a step of cutting to form an electrode portion on the second laminate, and (d) is a step of forming a second display layer. FIG. 10 is a plan view and a cross-sectional view showing a step of removing a region (removed portion) of the second thin film electrode and the second display layer in the stacked body of FIG. 図3及び図4に示すカット部分が形成された積層体を互いに貼り合わせた状態を示す平面図である。It is a top view which shows the state which bonded together the laminated body in which the cut part shown in FIG.3 and FIG.4 was formed. 図5に示す第1の積層体と第2の積層体との貼り合わせ体を3つの画像表示媒体の形状に打ち抜いた状態を示す平面図である。FIG. 6 is a plan view showing a state in which the bonded body of the first laminated body and the second laminated body shown in FIG. 5 is punched into the shapes of three image display media. 図6に示す打ち抜き体における、取出電極との接続のため層を剥離して電極部分を剥き出すための層剥離部分を示す平面図である。It is a top view which shows the layer peeling part for peeling a layer for the connection with an extraction electrode in the punching body shown in FIG. 6, and exposing an electrode part. 本発明の第2の実施の形態に係る画像表示媒体の、第1の実施の形態において図1(d)が示す部分に対応する部分を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the part corresponding to the part which FIG.1 (d) shows in 1st Embodiment of the image display medium which concerns on the 2nd Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 第1の基板積層体
1a 第1の基板
1b 第1の薄膜電極
1c 第1の取出電極
1d 第1のカット部分
2 第2の基板積層体
2a 第2の基板
2b 第2の薄膜電極
2c 第2の取出電極
2d 第2のカット部分
3 表示層
3a 液晶層
3b 光導電体層
4 接着剤層
10 画像表示媒体
D 周縁からの距離
E 除去部分(対応除去部分)
F 層剥離部分
S1 第1の積層体
S2 第2の積層体
θ カット角度
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 1st board | substrate laminated body 1a 1st board | substrate 1b 1st thin film electrode 1c 1st extraction electrode 1d 1st cut part 2 2nd board | substrate laminated body 2a 2nd board | substrate 2b 2nd thin film electrode 2c 2nd 2 extraction electrode 2d 2nd cut part 3 Display layer 3a Liquid crystal layer 3b Photoconductor layer 4 Adhesive layer 10 Image display medium D Distance E from peripheral edge Removal part (corresponding removal part)
F layer peeling portion S1 first laminate S2 second laminate θ cut angle

Claims (15)

第1の基板上に、第1の薄膜電極及び第1の表示層が形成された第1の積層体と、
第2の基板上に、周縁から所定距離だけ離れた領域(除去部分)が除去された第2の薄膜電極、及び前記除去部分に対応する領域が除去されるとともに前記第2の薄膜電極の除去断面と同一面上に除去断面を有する第2の表示層が形成された第2の積層体とを、前記第1の表示層と前記第2の表示層とが対向する向きで備えた画像表示媒体であって、
前記第1の表示層は、前記第2の基板の表面と接触するように折れ曲がって前記第2の薄膜電極を覆い、かつ前記第1の積層体と前記第2の基板とは、前記除去部分の少なくとも一部で接触することを特徴とする画像表示媒体
A first laminate in which a first thin film electrode and a first display layer are formed on a first substrate;
On the second substrate, the second thin film electrode from which the region (removed portion) separated from the peripheral edge by a predetermined distance is removed, and the region corresponding to the removed portion is removed and the second thin film electrode is removed. images of the second display layer having a removal cross-section on the section in the same plane and a second stack formed, the first display layer and the second display layer including in a direction opposite A display medium ,
The first display layer is bent so as to be in contact with the surface of the second substrate to cover the second thin film electrode, and the first stacked body and the second substrate include the removed portion. An image display medium which contacts at least a part of the image display medium .
前記第2の薄膜電極及び第2の表示層における前記除去部分は、レーザー加工によって形成されたものであることを特徴とする請求項1に記載の画像表示媒体。   The image display medium according to claim 1, wherein the removed portion of the second thin film electrode and the second display layer is formed by laser processing. 前記第1の表示層及び第2の表示層は、液晶層及び光導電体層を含むことを特徴とする請求項1に記載の画像表示媒体。   The image display medium according to claim 1, wherein the first display layer and the second display layer include a liquid crystal layer and a photoconductor layer. 前記第2の表示層は、前記光導電体層であり、前記光導電体層の前記除去部分が除去されたことを特徴とする請求項1に記載の画像表示媒体。   The image display medium according to claim 1, wherein the second display layer is the photoconductor layer, and the removed portion of the photoconductor layer is removed. 前記第1の表示層と前記第2の表示層との間に、接着剤層をさらに備えたことを特徴とする請求項1に記載の画像表示媒体。   The image display medium according to claim 1, further comprising an adhesive layer between the first display layer and the second display layer. 前記除去断面と前記第2の基板の表面とが形成する角度は、90度よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載の画像表示媒体。   The image display medium according to claim 1, wherein an angle formed by the removal cross section and the surface of the second substrate is smaller than 90 degrees. 前記第1及び第2の薄膜電極の表面に接続された、外部との電気的な接続を行うための第1及び第2の取出電極をさらに備えたことを特徴とする請求項1に記載の画像表示媒体。   The first and second extraction electrodes connected to the surfaces of the first and second thin film electrodes for electrical connection with the outside are further provided. Image display medium. 全体を被覆する保護層をさらに備えたことを特徴とする請求項1に記載の画像表示媒体。   The image display medium according to claim 1, further comprising a protective layer covering the whole. 第1の基板上に第1の薄膜電極及び第1の表示層が形成された第1の積層体を用意する第1の工程と、
第2の基板上に第2の薄膜電極及び第2の表示層が形成された第2の積層体を用意するとともに、前記第2の積層体における前記第2の薄膜電極及び第2の表示層の、前記第2の基板の周縁から所定距離だけ離れた領域(除去部分)を、前記第2の表示層が前記第2の薄膜電極の除去断面と同一面上に除去断面を有するように除去する第2の工程と、
前記第1の積層体と前記第2の積層体とを、前記第1の表示層と前記第2の表示層とが対向する向きで貼り合わせる第3の工程とを含む画像表示媒体の製造方法であって、
前記第3の工程において、前記第1の積層体と前記第2の積層体とを、第1の表示層が、前記第2の基板の表面と接触するように折れ曲がって前記第2の薄膜電極を覆い、かつ前記第1の積層体と前記第2の基板とが、前記除去部分の少なくとも一部で接触するように貼り合わせることを特徴とする画像表示媒体の製造方法
A first step of preparing a first stacked body in which a first thin film electrode and a first display layer are formed on a first substrate;
A second stacked body in which a second thin film electrode and a second display layer are formed on a second substrate is prepared, and the second thin film electrode and the second display layer in the second stacked body are prepared. An area (removed portion) that is a predetermined distance away from the peripheral edge of the second substrate is removed so that the second display layer has a removed section on the same plane as the removed section of the second thin film electrode. A second step of:
And said second laminate and the first laminate of the first display layer and the third step and the including images display medium and the second display layer are bonded in a direction opposite A manufacturing method comprising :
In the third step, the second thin film electrode is formed by bending the first stacked body and the second stacked body so that the first display layer is in contact with the surface of the second substrate. And the first laminated body and the second substrate are bonded together so as to be in contact with at least a part of the removed portion .
前記第2の工程において、前記第2の薄膜電極及び第2の表示層の前記除去部分をレーザー加工によって除去することを特徴とする請求項に記載の画像表示媒体の製造方法。 10. The method for manufacturing an image display medium according to claim 9 , wherein, in the second step, the removed portions of the second thin film electrode and the second display layer are removed by laser processing. 前記第1の表示層として液晶層を用いるとともに、前記第2の表示層として光導電体層を用いることを特徴とする請求項に記載の画像表示媒体の製造方法。 The method for manufacturing an image display medium according to claim 9 , wherein a liquid crystal layer is used as the first display layer, and a photoconductor layer is used as the second display layer. 前記第1の工程において、前記第1の表示層の上にさらに接着剤層を積層して第1の積層体を形成することを特徴とする請求項に記載の画像表示媒体の製造方法。 The method for manufacturing an image display medium according to claim 9 , wherein, in the first step, an adhesive layer is further laminated on the first display layer to form a first laminate. 前記第2の工程において、前記除去断面と前記第2の基板の表面とが形成する角度を、90度よりも小さくすることを特徴とする請求項に記載の画像表示媒体の製造方法。 10. The method of manufacturing an image display medium according to claim 9 , wherein, in the second step, an angle formed by the removal cross section and the surface of the second substrate is made smaller than 90 degrees. 前記第1及び第2の薄膜電極の表面に、外部との電気的な接続を行うための第1及び第2の取出電極を接続する第4の工程をさらに含むことを特徴とする請求項に記載の画像表示媒体の製造方法。 10. The method according to claim 9 , further comprising a fourth step of connecting first and second extraction electrodes for electrical connection to the outside to the surfaces of the first and second thin film electrodes. The manufacturing method of the image display medium as described in 1 .. 全体を被覆する保護層を形成する第5の工程をさらに含むことを特徴とする請求項に記載の画像表示媒体の製造方法。 The method for manufacturing an image display medium according to claim 9 , further comprising a fifth step of forming a protective layer covering the whole.
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