JP5145679B2 - 画像表示媒体及びその製造方法 - Google Patents
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Description
(画像表示媒体の構成)
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る画像表示媒体を示し、(a)は平面図、(b)はA−A線断面図、(c)はB−B線断面図、(d)は一部拡大したC−C線断面図である。
第1の積層体1は、第1の基板1a上に、第1の薄膜電極1b及び第1の表示層3aが形成されて構成されている。第2の積層体2は、第2の基板2a上に、周縁から所定距離Dだけ離れた領域(除去部分)Eが除去された第2の薄膜電極2b及び第2の表示層3bが形成されて構成されている。
第1及び第2の積層体1、2を構成する第1及び第2の基板1a、2aとしては、少なくとも表示側に位置する一方が、例えば、厚さが50〜150μmのポリエチレンテレフタレート(PET)等の透明な樹脂材料からなるように構成されたものを挙げることができる。
第1及び第2の積層体1、2を構成する第1及び第2の薄膜電極1b、2bとしては、少なくとも表示側に位置する一方が、例えば、10〜200nmの酸化インジウム錫(ITO)、酸化亜鉛等からなる透明電極からなるように構成されたものを挙げることができる。
第1及び第2の積層体1、2を構成する第1の表示層3a及び第2の表示層3bとしては、画像表示媒体10の種類により異なるが、例えば、液晶、着色粒子等を有する層からなるものを挙げることができる。本実施の形態の場合のように、画像表示媒体10が光書き込み型の「電子ペーパー」である場合、第1の表示層3aとして液晶層及び光導電体層3bを含むものが好ましい。本実施の形態においては、第1の表示層3aとして液晶層及び第2の表示層3bとして光導電体層を用いた場合について説明するが、この他に、例えば、光を吸収する光吸収層、光の照射によって抵抗値が小さくなる光導電体層を表示面側から順に積層した構成、又は、光吸収層、光導電体層、隔離層、液晶層を表示面側から順に積層した構成を有するものであってもよい。
本実施の形態においては、第1の表示層3a及び第2の表示層3bの接合性を高めるため、接着剤層4を配置している。このような接着剤層4としては、例えば、アクリル系、ウレタン系の接着剤又は粘着剤を挙げることができる。接着剤層の厚さは、例えば、
1〜10μmであることが好ましい。
第1及び第2の取出電極1c、2cとしては、例えば、厚さが100〜200μmのNi等の金属からなり、第1及び第2の薄膜電極1b、2bよりも高い剛性、又は硬度を有するものであることが好ましい。
本実施の形態においては、図示はしないが、全体を被覆する保護層をさらに備えた構成とすることが好ましい。このような保護層としては、例えば、PET(ポリエチレンテレフタレート)、非晶質PET(PET−G)、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、又はこれらを組み合わせて用いた透明な熱可塑性樹脂からなる熱可塑性フィルムを挙げることができる。このような熱可塑性フィルムは、例えば、熱可塑性部材を画像表示媒体10の表面にボンディングツールを用いて熱圧着することにより形成される。この場合、外部から第1及び第2の取出電極1c、2cに接続するための取出孔を有するように構成することが好ましい。なお、取出孔の磨耗を防止するため、取出孔に、Niやステンレス等の金属のパイプを嵌合し、この金属のパイプの中に第1及び第2の取出電極1c、2cを配線するようにしてもよい。
本実施の形態においては、図示はしないが、必要に応じて、無線タグ等のICチップを所定の領域に搭載してもよい。
図2は、本発明の第1の実施の形態に係る画像表示媒体の製造工程を工程順に示す断面図であり、(a)は第1の基板上に第1の薄膜電極、第1の表示層及び接着剤層が形成された第1の積層体を用意する第1の工程、(b)は第2の基板上に第2の薄膜電極及び第2の表示層が形成された第2の積層体を用意するとともに、第2の積層体における第2の薄膜電極及び第2の表示層の、前記第2の基板の周縁から所定距離だけ離れた領域(除去部分)を除去する第2の工程、(c)は第1の積層体と第2の積層体とを、第1の表示層と第2の表示層とが対向する向きで貼り合わせる第3の工程、(d)は、貼り合わせた後、得られた画像表示媒体をそれぞれ示す。
図2(a)に示すように、PETからなる第1の基板1a上にITOからなる第1の薄膜電極1bをスパッタリングにより形成し、第1の基板積層体S1とする。次に、第1の薄膜電極1b上に、第1の表示層(液晶層)3a及び接着剤層4を積層、配置して第1の積層体とする。ここで、第1の表示層(液晶層)3a及び接着剤層4の積層、配置方法としては特に制限はなく、汎用されている方法を用いることができるが、コストの点で塗布による方法が好ましい。
図2(b)に示すように、PETからなる第2の基板2a上にITOからなる第2の薄膜電極2bを形成して第2の基板積層体S2とする。この第2の基板積層体2上に第2の表示層(光導電体層)3bを積層、配置する。ここで、光導電体層3bの積層、配置方法としては特に制限はなく、汎用されている方法を用いることができるが、コストの点で塗布による方法が好ましい。次に、光導電体層3b側からレーザー光を照射して、第2の基板2b及び光導電体層3bの周縁から所定距離Dだけ離れた領域(除去部分E(図1(a)参照))を除去して第2の積層体2を形成する。
図2(c)に示すように、第1の積層体1と第2の積層体2とを貼り合わせる。この場合、例えば、台上に固定した第1の積層体1と第2の積層体2との全体にボンディングツールを用いて、緩衝材を挟んで鉛直上方向から加熱(例えば、60〜150℃)、加圧(例えば、0.1〜1N/mm2)を施すことによって貼り合わせることができる。また、例えば、加熱ローラーを用いたラミネート法等を用いて、第1の積層体1と第2の積層体2の裏表両面から同条件で加熱、加圧を施してもよい。また、接合面に接着剤を用いてもよい。
次に、第1及び第2の薄膜電極1b、2bの表面に、外部との電気的な接続を行うための第1及び第2の取出電極1c、2c(図1(a)参照)を接続する。
次に、必要に応じて、無線タグ等のICチップを搭載するとともに、全体を被覆する保護層を形成する。
図3は、本発明の第1の実施の形態に係る画像表示媒体の他の製造工程を工程順に示す説明図であり、(a)は、第1の基板上に第1の薄膜電極を形成して第1の基板積層体とする工程、(b)は、第1の基板積層体上に第1の表示層及び接着剤層を形成して第1の積層体とする工程、(c)は、第1の積層体に取出電極との接続部分を形成するため第1のカット部分を形成する工程をそれぞれ示す平面図及び断面図である。図4は、図3に示す製造工程の後の製造工程を工程順に示す説明図であり、(a)は、第2の基板上に第2の薄膜電極を形成して第2の基板積層体とする工程、(b)は、第2の基板積層体上に第2の表示層を形成する工程、(c)は、第2の積層体に取出電極との接続部分を形成するため第2のカット部分を形成する工程、(d)は、第2の積層体における第2の薄膜電極及び第2の表示層の、第2の基板の周縁から所定距離だけ離れた領域(除去部分)を除去する工程をそれぞれ示す平面図及び断面図である。
以下の画像表示媒体の他の作製例においては、図1(a)に示す画像表示媒体10を同時に3個作製する場合を示す。図3(a)に示すように、PETからなる第1の基板1a上にITOからなる第1の薄膜電極1bをスパッタリングにより形成し、第1の基板積層体S1とする。次に、図3(b)に示すように、第1の薄膜電極1bの全面上に、第1の表示層(液晶層)3a及び接着剤層4を積層、配置して第1の積層体1とする。ここで、第1の表示層(液晶層)3a及び接着剤層4の積層、配置方法としては特に制限はなく、汎用されている方法を用いることができるが、コストの点で塗布による方法が好ましい。次に、図3(c)に示すように、外部との電気的な接続を行うための取出電極(図1(a)参照)との接続部分を形成するため、第1の基板積層体S1、第1の表示層(液晶層)3a及び接着剤層4の一部を貫通するようにカットして第1のカット部分1dを形成する。
図4(a)に示すように、PETからなる第2の基板2a上にITOからなる第2の薄膜電極2bを形成して第2の基板積層体S2とする。次に、図4(b)に示すように、この第2の基板積層体S2上に第2の表示層(光導電体層)3bを積層、配置する。ここで、光導電体層3bの積層、配置方法としては特に制限はなく、汎用されている方法を用いることができるが、コストの点で塗布による方法が好ましい。次に、図4(c)に示すように、外部との電気的な接続を行うための取出電極(図1(a)参照)との接続部分を形成するため、第2の基板積層体S2、第2の表示層(光導電体層)3bの一部を貫通するようにカットして第2のカット部分2dを形成する。次に、図4(d)に示すように、光導電体層3b側からレーザー光を照射して、第2の薄膜電極2b及び光導電体層3bの周縁から所定距離Dだけ離れた領域(除去部分E(図1(a)参照))を除去して第2の積層体2を形成する。
図5は、図3及び図4に示すカット部分が形成された積層体を互いに貼り合わせた状態を示す平面図である。図6は、図5に示す第1の積層体と第2の積層体との貼り合わせ体を3つの画像表示媒体の形状に打ち抜いた状態を示す平面図である。図7は、図6に示す打ち抜き体における、取出電極との接続のため層を剥離して電極部分を剥き出すための層剥離部分を示す平面図である。
(画像表示媒体の構成)
図8は、本発明の第2の実施の形態に係る画像表示媒体の、第1の実施の形態において図1(d)が示す部分に対応する部分を示す断面図である。
1a 第1の基板
1b 第1の薄膜電極
1c 第1の取出電極
1d 第1のカット部分
2 第2の基板積層体
2a 第2の基板
2b 第2の薄膜電極
2c 第2の取出電極
2d 第2のカット部分
3 表示層
3a 液晶層
3b 光導電体層
4 接着剤層
10 画像表示媒体
D 周縁からの距離
E 除去部分(対応除去部分)
F 層剥離部分
S1 第1の積層体
S2 第2の積層体
θ カット角度
Claims (15)
- 第1の基板上に、第1の薄膜電極及び第1の表示層が形成された第1の積層体と、
第2の基板上に、周縁から所定距離だけ離れた領域(除去部分)が除去された第2の薄膜電極、及び前記除去部分に対応する領域が除去されるとともに前記第2の薄膜電極の除去断面と同一面上に除去断面を有する第2の表示層が形成された第2の積層体とを、前記第1の表示層と前記第2の表示層とが対向する向きで備えた画像表示媒体であって、
前記第1の表示層は、前記第2の基板の表面と接触するように折れ曲がって前記第2の薄膜電極を覆い、かつ前記第1の積層体と前記第2の基板とは、前記除去部分の少なくとも一部で接触することを特徴とする画像表示媒体。 - 前記第2の薄膜電極及び第2の表示層における前記除去部分は、レーザー加工によって形成されたものであることを特徴とする請求項1に記載の画像表示媒体。
- 前記第1の表示層及び第2の表示層は、液晶層及び光導電体層を含むことを特徴とする請求項1に記載の画像表示媒体。
- 前記第2の表示層は、前記光導電体層であり、前記光導電体層の前記除去部分が除去されたことを特徴とする請求項1に記載の画像表示媒体。
- 前記第1の表示層と前記第2の表示層との間に、接着剤層をさらに備えたことを特徴とする請求項1に記載の画像表示媒体。
- 前記除去断面と前記第2の基板の表面とが形成する角度は、90度よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載の画像表示媒体。
- 前記第1及び第2の薄膜電極の表面に接続された、外部との電気的な接続を行うための第1及び第2の取出電極をさらに備えたことを特徴とする請求項1に記載の画像表示媒体。
- 全体を被覆する保護層をさらに備えたことを特徴とする請求項1に記載の画像表示媒体。
- 第1の基板上に第1の薄膜電極及び第1の表示層が形成された第1の積層体を用意する第1の工程と、
第2の基板上に第2の薄膜電極及び第2の表示層が形成された第2の積層体を用意するとともに、前記第2の積層体における前記第2の薄膜電極及び第2の表示層の、前記第2の基板の周縁から所定距離だけ離れた領域(除去部分)を、前記第2の表示層が前記第2の薄膜電極の除去断面と同一面上に除去断面を有するように除去する第2の工程と、
前記第1の積層体と前記第2の積層体とを、前記第1の表示層と前記第2の表示層とが対向する向きで貼り合わせる第3の工程とを含む画像表示媒体の製造方法であって、
前記第3の工程において、前記第1の積層体と前記第2の積層体とを、第1の表示層が、前記第2の基板の表面と接触するように折れ曲がって前記第2の薄膜電極を覆い、かつ前記第1の積層体と前記第2の基板とが、前記除去部分の少なくとも一部で接触するように貼り合わせることを特徴とする画像表示媒体の製造方法。 - 前記第2の工程において、前記第2の薄膜電極及び第2の表示層の前記除去部分をレーザー加工によって除去することを特徴とする請求項9に記載の画像表示媒体の製造方法。
- 前記第1の表示層として液晶層を用いるとともに、前記第2の表示層として光導電体層を用いることを特徴とする請求項9に記載の画像表示媒体の製造方法。
- 前記第1の工程において、前記第1の表示層の上にさらに接着剤層を積層して第1の積層体を形成することを特徴とする請求項9に記載の画像表示媒体の製造方法。
- 前記第2の工程において、前記除去断面と前記第2の基板の表面とが形成する角度を、90度よりも小さくすることを特徴とする請求項9に記載の画像表示媒体の製造方法。
- 前記第1及び第2の薄膜電極の表面に、外部との電気的な接続を行うための第1及び第2の取出電極を接続する第4の工程をさらに含むことを特徴とする請求項9に記載の画像表示媒体の製造方法。
- 全体を被覆する保護層を形成する第5の工程をさらに含むことを特徴とする請求項9に記載の画像表示媒体の製造方法。
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