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JP5223549B2 - Coating equipment - Google Patents
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JP5223549B2 - Coating equipment - Google Patents

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Description

本発明は塗布タンク内のコーティング液中に被塗布物を浸漬してコーティング液を塗布するコーティング装置に関する。   The present invention relates to a coating apparatus for applying a coating liquid by immersing an object to be coated in a coating liquid in an application tank.

特許文献1には、被塗布物を塗布タンク内に搬入し、その後、塗布タンク内にコーティング液を供給して被塗布物をコーティング液中に浸漬し、所定時間浸漬した後、コーティング液を塗布タンクから抜き出すことによって、被塗布物にコーティング液を塗布するようにしたコーティング装置が開示されている。
特開2007−203145号公報
In Patent Document 1, an object to be coated is carried into an application tank, and then a coating liquid is supplied into the application tank so that the object to be coated is immersed in the coating liquid. After being immersed for a predetermined time, the coating liquid is applied. A coating apparatus is disclosed in which a coating liquid is applied to an object to be coated by being extracted from a tank.
JP 2007-203145 A

特許文献1のコーティング装置では、コーティング液が塗布タンクから抜き出されると、その後、被塗布物から余分のコーティング液が滴り落ちる。このコーティング液が滴り落ちている間は、被塗布物を塗布タンクから取り出すことはできない。特に、被塗布物が、隙間をもっているような場合、その隙間内に入っているコーティング液がなかなか抜け出ず、液切りに長時間を要するという問題があった。   In the coating apparatus of Patent Document 1, when the coating liquid is extracted from the application tank, excess coating liquid drops from the object to be applied. While the coating liquid is dripping, the object to be coated cannot be taken out from the coating tank. In particular, when the object to be coated has a gap, there is a problem that the coating liquid contained in the gap does not easily escape and it takes a long time to drain the liquid.

本発明は上記の事情に鑑みてなされたもので、その目的は、被塗布物の液切りに要する時間を短縮することができるコーティング装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a coating apparatus that can shorten the time required for draining an object to be coated.

請求項1の発明では、塗布タンクに、被塗布物の外面および被塗布物の所要部位に空気を流すための給気孔が設けられているので、塗布タンクからコーティング液が排出された後、給気孔から空気を吹き出させることにより、被塗布物の外面および被塗布物の所要部位に空気を流すことができる。この吸気孔から吹き出される空気により、被塗布物の外面や、所要部位、例えば隙間内に浸入している余分のコーティング液が空気流により流されて被塗布物から除去される。
また、第1のタンクと第2のタンクとを横方向への移動によって合わせることができるので、被塗布物を塗布タンク内に収容する作業が容易となる。また、第1のタンクと第2のタンクとの間に被塗布物のコーティング液塗布不要部分を挟持できるので、被塗布物を塗布タンク内に保持するための構成が簡単となる。
In the first aspect of the present invention, the air supply hole for flowing air to the outer surface of the object to be coated and the required part of the object to be coated is provided in the coating tank. By blowing air out of the pores, the air can flow on the outer surface of the object to be coated and the required part of the object to be coated. Due to the air blown out from the air intake holes, the outer surface of the object to be coated and a surplus coating liquid that has entered a required portion, for example, a gap, are flowed by the air flow and removed from the object to be coated.
In addition, since the first tank and the second tank can be aligned by moving in the lateral direction, the work of storing the object to be coated in the coating tank is facilitated. Moreover, since the coating liquid application unnecessary part of a to-be-coated object can be pinched | interposed between a 1st tank and a 2nd tank, the structure for hold | maintaining a to-be-coated object in an application tank becomes easy.

請求項2の発明では、排液孔と排気孔とが塗布タンクの底部に形成された多機能孔によって兼用されているので、被塗布物から除去されて塗布タンク内に滴下する余分のコーティング液を速やかに塗布タンク内から排出できる。
In the invention of claim 2, since the drainage hole and the exhaust hole are shared by the multi-function hole formed at the bottom of the coating tank, the extra coating liquid removed from the object to be coated and dripped into the coating tank Can be quickly discharged from the coating tank.

以下本発明の一実施形態を図面に基づいて説明する。図6はコーティング液を塗布する対象物である被塗布物の一例を示す。この被塗布物は、2個の半導体チップ1,2を2枚のヒートシンク3,4によって挟んで構成される半導体装置5である。図6は半導体チップ1,2を一方のヒートシンク3に半田付けした状態で示されており、この後、他方のヒートシンク4を半導体チップ1,2に半田付けして半導体チップ1,2を2枚のヒートシンク3,4で挟んでなる半導体装置5が構成される。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 6 shows an example of an object to be applied, which is an object to which the coating liquid is applied. The object to be coated is a semiconductor device 5 configured by sandwiching two semiconductor chips 1 and 2 between two heat sinks 3 and 4. FIG. 6 shows a state in which the semiconductor chips 1 and 2 are soldered to one heat sink 3. After that, the other heat sink 4 is soldered to the semiconductor chips 1 and 2, and two semiconductor chips 1 and 2 are shown. A semiconductor device 5 sandwiched between the heat sinks 3 and 4 is configured.

上記ヒートシンク3,4は、それぞれリードフレーム6,7のアイランドとして構成されている。そして、一方のリードフレーム6は、ヒートシンク3と一体に端子8、リード9、このリード9をヒートシンク3に繋ぎとめるためのタイバー10などを一体に有している。他方のリードフレーム7は、端子11のみを有している。これら2個のリードフレーム6,7において、端子8,11、リード9およびタイバー10がヒートシンク3,4との接続部分で曲げられており、これにより、ヒートシンク3,4が半導体チップ1,2の両側に半田付けされたとき、端子8,11、リード9およびタイバー10が同一平面上に位置するようになっている。   The heat sinks 3 and 4 are configured as islands of the lead frames 6 and 7, respectively. One lead frame 6 integrally includes a terminal 8, a lead 9, a tie bar 10 for connecting the lead 9 to the heat sink 3, and the like integrally with the heat sink 3. The other lead frame 7 has only terminals 11. In these two lead frames 6 and 7, the terminals 8 and 11, the lead 9 and the tie bar 10 are bent at the connection portions with the heat sinks 3 and 4, whereby the heat sinks 3 and 4 are connected to the semiconductor chips 1 and 2. When soldered to both sides, the terminals 8 and 11, the lead 9 and the tie bar 10 are located on the same plane.

なお、半導体チップ1はリード9とボンディングワイヤ12によって接続されている。そして、最終的には、この半導体装置5は、ヒートシンク3,4の外側面を露出させるように樹脂封止され、リードフレーム6,7の余分の部分が切断されて封止樹脂からリード9、端子8,11が突出した樹脂封止型半導体装置として構成される。   The semiconductor chip 1 is connected to the leads 9 and bonding wires 12. Finally, the semiconductor device 5 is resin-sealed so as to expose the outer surfaces of the heat sinks 3 and 4, and excess portions of the lead frames 6 and 7 are cut to remove the leads 9 from the sealing resin. It is configured as a resin-encapsulated semiconductor device in which terminals 8 and 11 protrude.

半導体装置5には、樹脂封止前の適宜の時期に、コーティング液が塗布される。図1はコーティング液の塗布を行うコーティング装置13を示している。このコーティング装置13は、コーティング液を貯留して半導体装置5を浸漬させる塗布タンク14を主体としている。この塗布タンク14は、定位置に固定された固定タンク(第1のタンク)15と、図示しない駆動機構により駆動されて固定タンク15に対して接離する方向に移動する可動タンク(第2のタンク)16からなる。   A coating liquid is applied to the semiconductor device 5 at an appropriate time before resin sealing. FIG. 1 shows a coating apparatus 13 for applying a coating liquid. The coating apparatus 13 is mainly composed of an application tank 14 that stores the coating liquid and immerses the semiconductor device 5. The application tank 14 includes a fixed tank (first tank) 15 fixed at a fixed position, and a movable tank (second tank) that is driven by a driving mechanism (not shown) and moves in a direction in contact with and away from the fixed tank 15. Tank) 16.

固定タンク15と可動タンク16は、互いに突き合わされたとき、コーティング液を貯める貯液室17を構成するための凹部15aおよび16aをそれぞれ有している。固定タンク15は、可動タンク16との突合せ面に、図4に示すねじ18により締め付け固定された矩形状の枠体19を有している。この枠体19の下辺および左右両側辺には、断面凸字形の透溝20が連続して形成されており、この透溝20内に断面凸字側のパッキン21が嵌め込まれている。このパッキン21の先端部21aは透溝20から外方に突出しており、可動タンク16を固定タンク15に突き合わせたとき、このパッキン21の先端部21aが可動タンク16に接して固定タンク15と可動タンク16の突き合せ面間をシールする。   The fixed tank 15 and the movable tank 16 have recesses 15a and 16a, respectively, for constituting a liquid storage chamber 17 that stores the coating liquid when they are abutted against each other. The fixed tank 15 has a rectangular frame 19 that is fastened and fixed by a screw 18 shown in FIG. A through-groove 20 having a convex cross section is formed continuously on the lower side and the left and right sides of the frame body 19, and a packing 21 having a convex cross section is fitted into the through-groove 20. The tip 21 a of the packing 21 protrudes outward from the through groove 20. When the movable tank 16 is abutted against the fixed tank 15, the tip 21 a of the packing 21 is in contact with the movable tank 16 and is movable with the fixed tank 15. The space between the butt surfaces of the tank 16 is sealed.

固定タンク15と可動タンク16のうちの一方、例えば固定タンク15の下面壁部分には、多機能孔22が形成されており、この多機能孔22の一端は、凹部15aの内底部の奥側の隅角部において開口されている。この多機能孔22の他端開口には、接続管23が連結され、その先端側は二分岐されている。接続管23の一方の分岐管23aは、2個の第1の開閉弁24および第2の開閉弁25を介して貯液槽26内のコーティング液中に没入された液給排管27に接続されている。そして、第1の開閉弁24と第2の開閉弁25との間に液給排シリンダ装置(液給排手段)28が接続されている。一方、他方の分岐管23bは、第3の開閉弁29を介して気液分離タンク(気液分離手段)30に接続され、更に、この気液分離タンク30が、真空吸引機などの吸気装置(吸気手段)31に接続されている。   A multifunctional hole 22 is formed in one of the fixed tank 15 and the movable tank 16, for example, a lower wall portion of the fixed tank 15, and one end of the multifunctional hole 22 is at the back of the inner bottom portion of the recess 15 a. Are opened at the corners. A connecting pipe 23 is connected to the other end opening of the multi-function hole 22, and the tip side is bifurcated. One branch pipe 23 a of the connection pipe 23 is connected to the liquid supply / discharge pipe 27 immersed in the coating liquid in the liquid storage tank 26 through the two first on-off valves 24 and the second on-off valve 25. Has been. A liquid supply / discharge cylinder device (liquid supply / discharge means) 28 is connected between the first on-off valve 24 and the second on-off valve 25. On the other hand, the other branch pipe 23b is connected to a gas-liquid separation tank (gas-liquid separation means) 30 via a third on-off valve 29. The gas-liquid separation tank 30 is further connected to an intake device such as a vacuum suction machine. (Intake means) 31 is connected.

上記液給排シリンダ装置28は、シリンダチューブ28a内にピストン28bを往復移動可能に収納してなるもので、第1の開閉弁24、第2の開閉弁25および第3の開閉弁29の開閉を選択することによって、貯液槽26内のコーティング液を塗布タンク14の貯液室17に供給する給液動作と、貯液室17内のコーティング液を貯液槽26内に排出する排液動作とを選択できるようになっている。   The liquid supply / discharge cylinder device 28 is configured such that a piston 28b is housed in a cylinder tube 28a so as to be able to reciprocate. The first on-off valve 24, the second on-off valve 25, and the third on-off valve 29 are opened and closed. The liquid supply operation for supplying the coating liquid in the liquid storage tank 26 to the liquid storage chamber 17 of the application tank 14 and the drainage liquid for discharging the coating liquid in the liquid storage chamber 17 into the liquid storage tank 26 are selected. The operation can be selected.

即ち、第1の開閉弁24を閉じ第2の開閉弁25を開いた状態でピストン28bが図示しない駆動装置によって矢印A方向に移動されると、貯液槽26内のコーティング液がシリンダチューブ28a内に吸入される。そして、第1の開閉弁24を開き第2の開閉弁25および第3の開閉弁29を閉じた状態でピストン28bが図示しない駆動装置によって矢印B方向に移動されると、シリンダチューブ28b内のコーティング液が多機能孔22を通じて塗布タンク14の貯液室17内に供給される(以上、給液動作)。   That is, when the piston 28b is moved in the direction of arrow A by a driving device (not shown) with the first on-off valve 24 closed and the second on-off valve 25 opened, the coating liquid in the liquid storage tank 26 is transferred to the cylinder tube 28a. Inhaled. When the piston 28b is moved in the direction of arrow B by a driving device (not shown) with the first on-off valve 24 opened and the second on-off valve 25 and the third on-off valve 29 closed, the inside of the cylinder tube 28b The coating liquid is supplied into the liquid storage chamber 17 of the application tank 14 through the multifunction hole 22 (the liquid supply operation).

逆に、第1の開閉弁24を開き第2の開閉弁25および第3の開閉弁29を閉じた状態でピストン28bが図示しない駆動装置によって矢印A方向に移動されると、貯液室17内のコーティング液が多機能孔22からシリンダチューブ28b内に吸入される。そして、第1の開閉弁24を閉じ第2の開閉弁25を開いた状態でピストン28bが図示しない駆動装置によって矢印B方向に移動されると、シリンダチューブ28a内のコーティング液が貯液槽26内に供給される(以上、排液動作)。   On the contrary, when the piston 28b is moved in the direction of arrow A by a driving device (not shown) with the first on-off valve 24 opened and the second on-off valve 25 and the third on-off valve 29 closed, the liquid storage chamber 17 The coating liquid inside is sucked into the cylinder tube 28b from the multi-function hole 22. Then, when the piston 28b is moved in the arrow B direction by a driving device (not shown) with the first on-off valve 24 closed and the second on-off valve 25 opened, the coating liquid in the cylinder tube 28a is stored in the liquid storage tank 26. Is supplied to the inside (drainage operation).

また、吸気装置31は、第1の開閉弁24を閉じ第3の開閉弁29を開くことによって貯液室17内の空気を多機能孔22から吸引する吸気動作を行うようになっている。以上のことから、多機能孔22は、コーティング液を貯液室17内に供給する給液孔、貯液室17からコーティング液を排出する排液孔および貯液室17内の空気を排出する排気孔としての機能を兼用している。   The intake device 31 performs an intake operation of sucking air in the liquid storage chamber 17 from the multi-function hole 22 by closing the first on-off valve 24 and opening the third on-off valve 29. From the above, the multi-function hole 22 discharges the air in the liquid supply hole for supplying the coating liquid into the liquid storage chamber 17, the drain hole for discharging the coating liquid from the liquid storage chamber 17, and the air in the liquid storage chamber 17. It also functions as an exhaust hole.

さて、固定タンク15の上面壁部分には、複数の通気孔(給気孔)32が形成されている。これら通気孔32は、一端が凹部15aの内上面の奥面側において開口し、他端が外部に開口している。また、図2に示すように、固定タンク15の左側面壁部分および右側面壁部分には、第1の送気路(給気孔)33、第2の送気路(給気孔)34および第3の送気路(給気孔)35が形成されている。ここで、凹部15aを上下方向に3段階に分けたとき、第1の送気路33の一端は凹部15aの内側面の上段部において開口し、第2の送気路34の一端は凹部15aの内側面中段部において開口し、第3の送気路35の一端は凹部15aの内側面下段部において開口している。そして、第1の送気路33、第2の送気路34および第3の送気路35の他端は、いずれも図示しない開閉弁を介してコンプレッサなどの圧縮空気供給源に接続されている。   A plurality of ventilation holes (air supply holes) 32 are formed in the upper wall portion of the fixed tank 15. One end of each of these vent holes 32 is opened on the back side of the inner upper surface of the recess 15a, and the other end is opened to the outside. Further, as shown in FIG. 2, a first air supply path (air supply hole) 33, a second air supply path (air supply hole) 34, and a third air supply path 33 are provided in the left side wall portion and the right side wall portion of the fixed tank 15. An air supply path (air supply hole) 35 is formed. Here, when the concave portion 15a is divided into three stages in the vertical direction, one end of the first air supply path 33 opens at the upper step of the inner surface of the concave portion 15a, and one end of the second air supply path 34 is the concave portion 15a. The one end of the third air supply path 35 is opened at the lower step on the inner side surface of the recess 15a. The other ends of the first air supply path 33, the second air supply path 34, and the third air supply path 35 are all connected to a compressed air supply source such as a compressor via an on-off valve (not shown). Yes.

一方、図3に示すように、可動タンク16の上面部を構成する上面板36には、第4の送気路(給気孔)37が形成されている。図1に示すように、この第4の送気路37は、一端側が複数に分岐されており、各分岐端が凹部16aの内上面の奥面側において開口している。そして、第4の送気路37の他端も、上記の図示しない開閉弁を介して圧縮空気供給源に接続されている。   On the other hand, as shown in FIG. 3, a fourth air supply path (air supply hole) 37 is formed in the upper surface plate 36 constituting the upper surface portion of the movable tank 16. As shown in FIG. 1, the fourth air supply path 37 has one end branched into a plurality of branches, and each branch end is open on the inner surface of the inner surface of the recess 16a. The other end of the fourth air supply path 37 is also connected to the compressed air supply source via the above-described on-off valve (not shown).

半導体装置5は貯液室17内に図1〜図3に示すような状態で収容されるが、第1の送気路33は、圧縮空気を半導体装置5に対して、2枚のヒートシンク3,4間の隙間38の上部位に向けて圧縮空気を横向きに吹き出し、第2の送気路34は2枚のヒートシンク3,4間の隙間38の中間部位に向けて圧縮空気を横向きに吹き出し、第3の送気路35は2枚のヒートシンク3,4間の隙間38の下部位に向けて圧縮空気を横向きに吹き出し、第4の送気路37は一方のヒートシンク3と可動タンク16の凹部16aの奥面との間に圧縮空気を下向き吹き出すようになっている。また、通気孔32は、吸気装置31が貯液室17内の空気を吸引すると、これに伴って外気を吸引して他方のヒートシンク4と固定タンク15の凹部15aの奥面との間に圧縮空気を下向き吹き出すようになっている。   The semiconductor device 5 is accommodated in the liquid storage chamber 17 in a state as shown in FIGS. 1 to 3, but the first air supply path 33 has two heat sinks 3 for supplying compressed air to the semiconductor device 5. , 4 blows out compressed air sideways toward the upper part of the gap 38, and the second air supply path 34 blows out compressed air sideways toward the intermediate part of the gap 38 between the two heat sinks 3, 4. The third air supply path 35 blows out compressed air laterally toward the lower portion of the gap 38 between the two heat sinks 3 and 4, and the fourth air supply path 37 connects the one heat sink 3 and the movable tank 16. Compressed air is blown downward between the inner surface of the recess 16a. Further, when the air suction device 31 sucks air in the liquid storage chamber 17, the vent hole 32 sucks outside air and compresses it between the other heat sink 4 and the inner surface of the recessed portion 15 a of the fixed tank 15. The air is blown downward.

次に上記構成の作用を説明する。コンベアによってコーティング装置13の近傍に搬送されてきた半導体装置5は、図示しないロボットによって、例えばリードフレーム6のタイバー10の先端部および端子8,11の先端部が把持されて、離間状態にある固定タンク15と可動タンク16の間に搬送される。その後、可動タンク16が図示しない駆動機構によって固定タンク15に向かって移動される。   Next, the operation of the above configuration will be described. The semiconductor device 5 transported to the vicinity of the coating device 13 by the conveyor is fixed in a separated state by gripping, for example, the tip portion of the tie bar 10 and the tip portions of the terminals 8 and 11 of the lead frame 6 by a robot (not shown). It is conveyed between the tank 15 and the movable tank 16. Thereafter, the movable tank 16 is moved toward the fixed tank 15 by a driving mechanism (not shown).

この移動過程で、可動タンク16は、半導体装置に当接し、ロボットと共に固定タンク15側へ移動させる。このとき、所定の位置決め機構、例えば可動タンク16側に設けられた位置決めピンと半導体装置5側に設けられた位置決め孔(いずれも図示せず)との嵌合によって可動タンク16に対する半導体装置5の位置決めがなされる。そして、この位置決めされた半導体装置5のリードフレーム6のタイバー10の先端側と、リードフレーム6,7の端子8,11の先端側が固定タンク15と可動タンク16の突き合わせ面間に挟持され、その挟持部の間の部分、つまり2個の半導体チップ3を2枚のヒートシンク3,4により挟んだ形態にある半導体装置5の主部が貯液室17内に収容された状態となる。なお、パッキン21の先端部21aがタイバー10の先端側と端子8,11の先端側に倣うことによって固定タンク15と可動タンク16の突き合わせ面間のシールが維持される。   In this movement process, the movable tank 16 contacts the semiconductor device and moves together with the robot to the fixed tank 15 side. At this time, the semiconductor device 5 is positioned relative to the movable tank 16 by fitting a predetermined positioning mechanism, for example, a positioning pin provided on the movable tank 16 side and a positioning hole (none of which is shown) provided on the semiconductor device 5 side. Is made. The leading end side of the tie bar 10 of the lead frame 6 of the semiconductor device 5 thus positioned and the leading end side of the terminals 8 and 11 of the lead frames 6 and 7 are sandwiched between the butted surfaces of the fixed tank 15 and the movable tank 16, A portion between the sandwiching portions, that is, a main portion of the semiconductor device 5 in a form in which the two semiconductor chips 3 are sandwiched between the two heat sinks 3 and 4 is accommodated in the liquid storage chamber 17. Note that the seal between the abutting surfaces of the fixed tank 15 and the movable tank 16 is maintained by the tip 21 a of the packing 21 following the tip of the tie bar 10 and the tips of the terminals 8 and 11.

固定タンク15に可動タンク16が突き合わされると、次に、前述の液給排シリンダ装置28による給液動作が複数回繰り返えされて貯液室17内に所定量のコーティング液が供給され、半導体装置5はこの貯液室17内のコーティング液に浸漬される。半導体装置5をコーティング液に所定時間浸漬した後、前述の液給排シリンダ装置28による排液動作が複数回繰り返されて貯液室17内のコーティング液が貯液槽26内に戻される。   When the movable tank 16 is abutted against the fixed tank 15, the liquid supply operation by the liquid supply / discharge cylinder device 28 is repeated a plurality of times, and a predetermined amount of coating liquid is supplied into the liquid storage chamber 17. The semiconductor device 5 is immersed in the coating liquid in the liquid storage chamber 17. After the semiconductor device 5 is immersed in the coating liquid for a predetermined time, the liquid discharging operation by the liquid supply / discharge cylinder device 28 is repeated a plurality of times, and the coating liquid in the liquid storage chamber 17 is returned to the liquid storage tank 26.

貯液室17からコーティング液が排出されたとき、貯液室17内面(凹部15a内面および凹部16a内面)には余分のコーティング液が残っているし、また半導体装置5の表面にも、余分のコーティング液が付着して残っている。特に、2面に挟まれた部分である両ヒートシンク3,4間の隙間38内には、図5にCで示すように、表面張力によって多くのコーティング液が残留している。   When the coating liquid is discharged from the liquid storage chamber 17, excess coating liquid remains on the inner surface of the liquid storage chamber 17 (the inner surface of the concave portion 15 a and the inner surface of the concave portion 16 a), and also on the surface of the semiconductor device 5. The coating liquid remains attached. In particular, a large amount of coating liquid remains in the gap 38 between the two heat sinks 3 and 4 that are sandwiched between the two surfaces due to surface tension, as indicated by C in FIG.

その後、第1の開閉弁24が閉じ第3の開閉弁29が開き、この状態で吸気装置31が駆動される。同時に、圧縮空気供給源から第1の送気路33〜第3の送気路35および第4の送気路37に圧縮空気が供給される。なお、吸気装置31の吸気量は、第1の送気路33〜第3の送気路35および第4の送気路37から吐出される空気量よりも多くなるように定められている。   Thereafter, the first on-off valve 24 is closed and the third on-off valve 29 is opened, and the intake device 31 is driven in this state. At the same time, compressed air is supplied from the compressed air supply source to the first air supply path 33 to the third air supply path 35 and the fourth air supply path 37. The intake air amount of the intake device 31 is determined to be larger than the air amount discharged from the first air supply passage 33 to the third air supply passage 35 and the fourth air supply passage 37.

すると、貯液室17内の空気が吸気装置31により多機能孔22を通じて吸引されることにより、貯液室17内の圧力が低下するため、外気が通気孔32から貯液室17内に吸入され、そして、その吸入空気は主としてヒートシンク4と固定タンク15の凹部15aの奥面との間の隙間を多機能孔22に向かって流れ、その流通過程で、ヒートシンク4の表面の余分のコーティング液や凹部15aの内面に付着しているコーティング液を流し落とす。   Then, the air in the liquid storage chamber 17 is sucked through the multi-function hole 22 by the intake device 31, and the pressure in the liquid storage chamber 17 is reduced, so that the outside air is sucked into the liquid storage chamber 17 from the vent hole 32. Then, the intake air mainly flows through the gap between the heat sink 4 and the inner surface of the concave portion 15a of the fixed tank 15 toward the multi-function hole 22, and in the course of the circulation, excess coating liquid on the surface of the heat sink 4 Or the coating liquid adhering to the inner surface of the recess 15a is poured off.

また、第1の送気路33、第2の送気路34および第3の送気路35から吹き出る空気は、半導体装置5の内部の所要部位、つまり両ヒートシンク3,4間の隙間38のうち、半導体チップ1上に残っているコーティング液、両半導体チップ1,2間に残っているコーティング液および半導体チップ2の下方に残っているコーティング液を吹き流す。更に、第4の送気路37から吹き出る空気は、主としてヒートシンク3と可動タンク16の凹部16aの奥面との間の隙間を下方に流れてヒートシンク3の外表面の余分のコーティング液および凹部16aの内面に付着しているコーティング液を吹き流す。   The air blown out from the first air supply path 33, the second air supply path 34, and the third air supply path 35 is a necessary portion inside the semiconductor device 5, that is, a gap 38 between the heat sinks 3 and 4. Among these, the coating liquid remaining on the semiconductor chip 1, the coating liquid remaining between the semiconductor chips 1 and 2, and the coating liquid remaining below the semiconductor chip 2 are blown off. Further, the air blown out from the fourth air supply path 37 mainly flows downward through the gap between the heat sink 3 and the inner surface of the concave portion 16a of the movable tank 16, and the excess coating liquid on the outer surface of the heat sink 3 and the concave portion 16a. The coating liquid adhering to the inner surface of is blown off.

そして、通気孔32から吸入された空気、第1の送気路33〜第3の送気路35および第4の送気路37から吹き出された空気は、以上のように半導体装置5の表面に付着している余分のコーティング液および貯液室17の内面に付着しているコーティング液を吹き流しながら多機能孔22から気液分岐タンク29内に流れる。気液分離タンク30内に流入した空気は、コーティング液を搬送してくるが、気液分離タンク30でコーティング液と空気とが分離されてコーティング液は気液分離タンク30内に溜められ、空気のみが吸気装置31へと吸引されてゆく。気液分離タンク30に溜められたコーティング液は、やがて貯液槽26に戻される。   The air sucked from the air holes 32 and the air blown from the first air supply passage 33 to the third air supply passage 35 and the fourth air supply passage 37 are the surface of the semiconductor device 5 as described above. The excess coating liquid adhering to the liquid and the coating liquid adhering to the inner surface of the liquid storage chamber 17 flow into the gas-liquid branch tank 29 from the multi-function hole 22 while blowing. The air that has flowed into the gas-liquid separation tank 30 carries the coating liquid, but the coating liquid and air are separated in the gas-liquid separation tank 30 and the coating liquid is stored in the gas-liquid separation tank 30, and the air Only the air is sucked into the intake device 31. The coating liquid stored in the gas-liquid separation tank 30 is eventually returned to the liquid storage tank 26.

このようにして半導体装置5および貯液室17に付着している余分のコーティング液を排除した後、可動タンク16が固定タンク15から離される。そして、コーティング液を塗布された半導体装置5は、図示しないロボットによって次工程へと搬送される。なお、ロボットは、上記半導体装置5へのコーティング液の塗布中、半導体装置5を把持したままのように思われるかもしれないが、塗布タンク14を複数設け、各塗布タンク14へ半導体装置5を搬送したら、別の塗布タンク14へ塗布後の半導体装置5を搬送したり、別の塗布タンク14で塗布を終えた半導体装置5を次工程へ搬送したりするといった動作を順次行わせることが可能となる。   In this way, after the excess coating liquid adhering to the semiconductor device 5 and the liquid storage chamber 17 is removed, the movable tank 16 is separated from the fixed tank 15. Then, the semiconductor device 5 coated with the coating liquid is transported to the next process by a robot (not shown). Although the robot may seem to hold the semiconductor device 5 during application of the coating liquid to the semiconductor device 5, the robot is provided with a plurality of application tanks 14, and the semiconductor device 5 is attached to each application tank 14. Once transported, it is possible to sequentially perform operations such as transporting the semiconductor device 5 after coating to another coating tank 14 or transporting the semiconductor device 5 that has been coated in another coating tank 14 to the next process. It becomes.

以上のように本実施形態によれば、コーティング液を半導体装置5に塗布した後、半導体装置5および貯液室17内の余分のコーティング液を、第1の送気路33〜第4の送気路37から噴出される圧縮空気や通気孔32から貯液室17内に吸入される外気によって強制的に排除することができるので、半導体装置5の液切り、貯液室17の液除去を短時間で行うことができる。   As described above, according to the present embodiment, after the coating liquid is applied to the semiconductor device 5, the excess coating liquid in the semiconductor device 5 and the liquid storage chamber 17 is passed through the first air supply path 33 to the fourth air supply path. Since it can be forcibly excluded by the compressed air ejected from the air passage 37 or the outside air sucked into the liquid storage chamber 17 from the vent hole 32, the semiconductor device 5 can be drained and the liquid storage chamber 17 can be removed. It can be done in a short time.

また、液切りされて貯液室17の底部に流れ出たコーティング液は、多機能孔22からの流れ出る空気流に搬送されて速やかに排除されるので、可動タンク16を固定タンク15から速やかに離反させることができ、しかも、離反させたとき、コーティング液が凹部15a,16aから流れ出ることがない。   Further, since the coating liquid that has been drained and has flowed to the bottom of the liquid storage chamber 17 is conveyed to the air flow flowing out from the multi-function hole 22 and quickly removed, the movable tank 16 is quickly separated from the fixed tank 15. In addition, when separated, the coating liquid does not flow out of the recesses 15a and 16a.

なお、本発明は上記し且つ図面に示す実施形態に限定されるものではなく、以下のような拡張或いは変更が可能である。
通気孔32に代えて圧縮空気を吹き出す送気路としても良い。
固定タンク15も可動タンク16と同様に移動可能に構成しても良い。
被塗布物は半導体装置5に限らない。
第1の送気路33〜第3の送気路35から吹き出される空気は、被塗布物によっては有底の凹部内に浸入している余分のコーティング液を除去するものであっても良い。
The present invention is not limited to the embodiment described above and shown in the drawings, and can be expanded or changed as follows.
It is good also as an air supply path which blows out compressed air instead of the ventilation hole 32. FIG.
The fixed tank 15 may be configured to be movable in the same manner as the movable tank 16.
The object to be coated is not limited to the semiconductor device 5.
The air blown out from the first air supply path 33 to the third air supply path 35 may remove excess coating liquid that has entered the recessed portion with a bottom depending on the object to be coated. .

本発明の一実施形態を示すもので、配管系統と共に示すコーティング装置の断面正面図The cross-sectional front view of the coating apparatus which shows one Embodiment of this invention and is shown with a piping system 図1のア−ア線に沿う固定タンクの縦断側面図Longitudinal side view of a fixed tank along the AA line in FIG. 図1のイ−イ線に沿う可動タンクの縦断側面図Longitudinal side view of movable tank along line II in FIG. 固定タンクの分解斜視図Exploded perspective view of fixed tank 半導体装置の縦断面図Longitudinal section of semiconductor device 半導体装置の分解斜視図Disassembled perspective view of semiconductor device

符号の説明Explanation of symbols

図面中、5は半導体装置(被塗布物)、13はコーティング装置、14は塗布タンク、15は固定タンク(第1のタンク)、16は可動タンク(第2のタンク)、17は貯液室、21はパッキン、22は多機能孔、26は貯液槽、28は液給排シリンダ装置、30は気液分離タンク、31は吸気装置、32は通気孔(給気孔)、33〜35は第1〜第3の送気路(給気孔)、37は第4の送気路(給気孔)を示す。   In the drawings, 5 is a semiconductor device (object to be coated), 13 is a coating device, 14 is a coating tank, 15 is a fixed tank (first tank), 16 is a movable tank (second tank), and 17 is a liquid storage chamber. , 21 is a packing, 22 is a multi-function hole, 26 is a liquid storage tank, 28 is a liquid supply / discharge cylinder device, 30 is a gas-liquid separation tank, 31 is an intake device, 32 is a vent (air supply hole), and 33 to 35 are 1st-3rd air supply path (air supply hole) and 37 show the 4th air supply path (air supply hole).

Claims (2)

被塗布物が収容された塗布タンク内にコーティング液を供給して前記被塗布物を前記コーティング液中に浸漬し、その後、前記塗布タンク内から前記コーティング液を排出することにより、前記被塗布物にコーティング液を塗布するコーティング装置において、
前記塗布タンクの底部に形成され、前記被塗布物を浸漬した後の前記コーティング液を前記塗布タンクから排出する排液孔と、
前記塗布タンクに形成され、前記塗布タンク内から前記コーティング液が排出された後に、前記被塗布物の外面および前記被塗布物の所要部位に空気を流すための給気孔と、
前記塗布タンクの底部に形成され、前記給気孔から前記塗布タンク内に吹き出された空気を排出する排気孔とを備え
前記塗布タンクは、横方向に分離可能な第1のタンクと第2のタンクとからなることを特徴とするコーティング装置。
The coating object is supplied by supplying a coating liquid into the coating tank in which the coating object is stored, immersing the coating object in the coating liquid, and then discharging the coating liquid from the coating tank. In a coating apparatus for applying a coating liquid to
A drainage hole formed at the bottom of the application tank, for discharging the coating liquid after immersing the object to be applied from the application tank,
An air supply hole formed in the application tank, and after the coating liquid is discharged from the application tank, for flowing air to an outer surface of the application object and a required portion of the application object,
An exhaust hole that is formed at the bottom of the application tank and discharges air blown into the application tank from the air supply hole ;
The coating tank comprises a first tank and a second tank that can be separated in a lateral direction .
前記排液孔と前記排気孔は、前記塗布タンクの底部に形成された多機能孔によって兼用
されていることを特徴とする請求項1記載のコーティング装置。
2. The coating apparatus according to claim 1, wherein the drainage hole and the exhaust hole are shared by a multi-function hole formed in a bottom portion of the coating tank.
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JPH01236965A (en) * 1987-11-30 1989-09-21 Trinity Ind Corp Dip-type coating device
JPH06292852A (en) * 1993-04-12 1994-10-21 Nippon Shokubai Co Ltd Coating method and coating device
JP3325135B2 (en) * 1994-11-22 2002-09-17 大日本スクリーン製造株式会社 Substrate processing apparatus and processing tank used therein
JP2908744B2 (en) * 1995-12-21 1999-06-21 株式会社三社電機製作所 Cleaning and drying method and apparatus

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