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JP5437228B2 - Copper or copper alloy foil - Google Patents
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JP5437228B2 - Copper or copper alloy foil - Google Patents

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Description

本発明は耐塩水腐食性に優れるとともに、はんだ濡れ性も良好な銅箔または銅合金箔に関する。   The present invention relates to a copper foil or a copper alloy foil having excellent salt corrosion resistance and good solder wettability.

電気機器或いは電子機器に使用される銅箔または銅合金箔は、ケースに入れられている場合も含め、外気に晒された状態で使用される。屋外に設置されたり、使用されたりする電子機器については、例えば、携帯電話・デジタルカメラ・ポータブルナビゲーションなどがあり、それらは、昨今の電子機器の軽薄短小化により、従来のものと比較すると、加速度的にダウンサイジングが進んでいる。
その際に、従来に増して重要な特性として挙げられるのが、外気の、特に腐食性成分、例えば塩分を含む水などに対する耐食性である。このような耐食性を検証する試験としては複数あるが、中でも塩水噴霧試験が代表例といえる。特に、軽薄短小化する電子機器を構成する部品を構成する金属材料として銅または銅合金に求められる耐食性も日々シビアなものとなってきている。銅または銅合金のように塩水に対して耐腐食性を有しない金属材料の場合、たとえ合金などに代えて耐腐食性能を改善しようとしても、満足の得られるような結果が得られなかった。
A copper foil or copper alloy foil used for an electric device or an electronic device is used in a state where it is exposed to the outside air even when it is put in a case. Electronic devices that are installed or used outdoors include, for example, mobile phones, digital cameras, and portable navigation systems. These devices are faster than conventional devices due to the lighter, thinner and smaller electronic devices. Downsizing is progressing.
In this case, the more important characteristic than before is the corrosion resistance of the outside air, particularly to corrosive components such as water containing salt. Although there are a plurality of tests for verifying such corrosion resistance, the salt spray test is a typical example. In particular, the corrosion resistance required for copper or copper alloys as metal materials constituting parts that make up electronic devices that are becoming lighter and thinner is becoming more severe every day. In the case of a metal material that does not have corrosion resistance to salt water such as copper or a copper alloy, satisfactory results could not be obtained even if an attempt was made to improve the corrosion resistance performance in place of the alloy.

このような問題を解決するために、塩水に対して耐腐食性を有しない銅または銅合金の腐食を抑制・阻害するために、有機材料または無機材料により金属表面を被覆して守る処理が検討されている。例えば、ベンゾトリアゾールやエポキシシランを用いた表面処理剤がよく用いられている。しかし、従来の表面処理では、金属表面を処理し皮膜を形成することによって、表面の金属としての特性の劣化、その一つの指標として、はんだ濡れ性が劣化する傾向が見られた。   In order to solve these problems, in order to suppress or inhibit the corrosion of copper or copper alloys that do not have corrosion resistance against salt water, a treatment that covers and protects the metal surface with organic or inorganic materials is examined. Has been. For example, a surface treatment agent using benzotriazole or epoxysilane is often used. However, in the conventional surface treatment, by treating the metal surface and forming a film, the characteristics of the surface as a metal deteriorated, and as one of the indicators, solder wettability tended to deteriorate.

また、含フッ素有機化合物に関しては、特定のフルオロ炭化水素基と極性基を有する含フッ素化合物を含有するエポキシブリードアウト防止剤が知られている(特許文献1)。リードフレームやプリント配線基板等の半導体基材を該エポキシブリードアウト防止剤で処理することにより、ダイボンディング強度やアセンブリ特性に悪影響を与えず、変色防止処理や封孔処理効果を損なうことなく、ダイボンディング工程におけるエポキシブリードアウトを防止することができるとしている。しかしこの処理はエポキシレジンを使用する回路プロセス前に行なうものであり、また、銅箔または銅合金箔の耐塩水腐食性に関する記載はない。   Moreover, regarding the fluorine-containing organic compound, an epoxy bleed-out preventing agent containing a fluorine-containing compound having a specific fluorohydrocarbon group and a polar group is known (Patent Document 1). By treating semiconductor base materials such as lead frames and printed wiring boards with the epoxy bleed-out inhibitor, the die bonding strength and assembly characteristics are not adversely affected, and the anti-discoloration treatment and sealing treatment effects are not impaired. Epoxy bleed-out in the bonding process can be prevented. However, this treatment is performed before the circuit process using the epoxy resin, and there is no description regarding the salt water corrosion resistance of the copper foil or the copper alloy foil.

国際公開第2007/083538号パンフレットInternational Publication No. 2007/083538 Pamphlet

本発明は、塩分を含む湿気に晒されて腐食することを防止するとともに、はんだ濡れ性を良好なままに保つことができる銅箔又は銅合金箔を実現することを目的とする。   An object of this invention is to implement | achieve the copper foil or copper alloy foil which can keep corrosive by being exposed to the moisture containing salt, and can keep solder wettability favorable.

これらの問題を解決するために、本発明者らは鋭意検討を行なった結果、銅箔または銅合金箔上に特定の含フッ素化合物を含有する厚さ0.1〜10nmの薄膜を形成することにより、はんだ濡れ性を損なうことなく、耐塩水腐食性を向上させることができることを見出し、もって本発明を完成させるに至った。   In order to solve these problems, as a result of intensive studies, the present inventors have formed a thin film having a thickness of 0.1 to 10 nm containing a specific fluorine-containing compound on a copper foil or a copper alloy foil. Thus, it has been found that the salt water corrosion resistance can be improved without impairing the solder wettability, and the present invention has been completed.

即ち、本発明は以下の通りである。
(1)銅箔または銅合金箔であって、その片面または両面に、フルオロ炭化水素基CxHyFz−(x=3〜24、y=0〜48、z=1〜49、y+z≦2x+1)と、水酸基、メルカプト基、アミノ基、リン酸エステル基、カルボキシル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基及びテトラゾリル基またはその誘導体からなる群から選ばれた極性基R−を有する含フッ素有機化合物を含有する厚さ0.1〜10nmの薄膜を備えることを特徴とする銅箔または銅合金箔。
(2)前記銅合金が、チタン、スズ、ニッケル、コバルト、銀、鉛、亜鉛、アルミニウム、ベリリウム、マンガン、鉄、ジルコニウム、クロム、リン、ケイ素、マグネシウム、ヒ素、テルルの中から選ばれる少なくとも一つ以上の元素と銅とを含有することを特徴とする前記(1)記載の銅箔または銅合金箔。
That is, the present invention is as follows.
(1) Copper foil or copper alloy foil, on one or both sides thereof, a fluorohydrocarbon group CxHyFz- (x = 3 to 24, y = 0 to 48, z = 1 to 49, y + z ≦ 2x + 1), Thickness containing a fluorine-containing organic compound having a polar group R- selected from the group consisting of a hydroxyl group, a mercapto group, an amino group, a phosphate ester group, a carboxyl group, an imidazolyl group, a triazolyl group, a tetrazolyl group or a derivative thereof A copper foil or a copper alloy foil comprising a thin film of 1 to 10 nm.
(2) The copper alloy is at least one selected from titanium, tin, nickel, cobalt, silver, lead, zinc, aluminum, beryllium, manganese, iron, zirconium, chromium, phosphorus, silicon, magnesium, arsenic, and tellurium. Two or more elements and copper are contained, The copper foil or copper alloy foil as described in said (1) characterized by the above-mentioned.

本発明によると、塩分を含む湿気に晒されて腐食することを防止できるとともに、はんだ濡れ性を良好なままに保つことができる銅箔又は銅合金箔を実現することができる。   According to the present invention, it is possible to realize a copper foil or a copper alloy foil that can be prevented from being corroded by being exposed to moisture containing salt, and that can maintain good solder wettability.

本発明の銅箔又は銅合金箔は、フルオロ炭化水素基CxHyFz−(x=3〜24、y=0〜48、z=1〜49、y+z≦2x+1)と、水酸基、メルカプト基、アミノ基、リン酸エステル基、カルボキシル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基及びテトラゾリル基またはその誘導体からなる群から選ばれた極性基R−を有する含フッ素有機化合物を含有する厚さ0.1〜10nmの薄膜を備える。   The copper foil or copper alloy foil of the present invention comprises a fluorohydrocarbon group CxHyFz- (x = 3 to 24, y = 0 to 48, z = 1 to 49, y + z ≦ 2x + 1), a hydroxyl group, a mercapto group, an amino group, A thin film having a thickness of 0.1 to 10 nm containing a fluorine-containing organic compound having a polar group R- selected from the group consisting of a phosphate ester group, a carboxyl group, an imidazolyl group, a triazolyl group, a tetrazolyl group or a derivative thereof. .

前記フルオロ炭化水素基としては、フルオロアルキル基、2重結合を含むフルオロアルケニル基、3重結合を含むフルオロアルキニル基等が挙げられ、フルオロアルキル基が好ましい。また、これらのフルオロ炭化水素基は、フルオロ炭化水素基全体の炭素原子が3個から24個であれば、直鎖状のものであっても良いし、側鎖を有していても良い。フルオロ炭化水素基の炭素数xは、3〜24であり、5〜12のものが特に好ましい。炭素数が少なすぎると腐食防止について十分な効果が得られず、炭素数が多すぎると、はんだ濡れ性が劣化する恐れがある。また、フッ素数zは、少ないと腐食防止について十分な効果が得られず、炭素数が多く分子が長い場合には、フッ素数が多すぎるとはんだ濡れ性が劣化するので、フッ素数zは11〜25が好ましい。   Examples of the fluorohydrocarbon group include a fluoroalkyl group, a fluoroalkenyl group containing a double bond, a fluoroalkynyl group containing a triple bond, and the like, and a fluoroalkyl group is preferred. Further, these fluorohydrocarbon groups may be linear or have a side chain as long as the total number of carbon atoms in the fluorohydrocarbon group is 3 to 24. Carbon number x of a fluoro hydrocarbon group is 3-24, and the thing of 5-12 is especially preferable. If the carbon number is too small, a sufficient effect for preventing corrosion cannot be obtained. If the carbon number is too large, solder wettability may be deteriorated. On the other hand, if the fluorine number z is small, a sufficient effect for preventing corrosion cannot be obtained. If the number of carbon atoms is large and the molecule is long, the solder wettability deteriorates if the fluorine number is too large. ~ 25 is preferred.

前記フルオロ炭化水素基としては、F(CF2)6−、F(CF2)8−、F(CF2)10−、F(CF2)6(CH2)2−、F(CF2)8(CH2)2−、F(CF2)10(CH2)2−、等を好ましく用いることができる。 As the fluorohydrocarbon group, F (CF 2) 6 - , F (CF 2) 8 -, F (CF 2) 10 -, F (CF 2) 6 (CH 2) 2 -, F (CF 2) 8 (CH 2 ) 2 —, F (CF 2 ) 10 (CH 2 ) 2 —, and the like can be preferably used.

また、前記極性基R−は、水酸基、メルカプト基、アミノ基、リン酸エステル基、カルボキシル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、及びテトラゾリル基、またはその誘導体からなる群から選ばれる。前記極性基がリン酸エステル基の場合は、モノエステル(−OP(O)(OH)2)、ジエステル((−O)2P(O)(OH))、トリエステル((−O)3P(O))を用いることができる。 The polar group R- is selected from the group consisting of a hydroxyl group, a mercapto group, an amino group, a phosphate ester group, a carboxyl group, an imidazolyl group, a triazolyl group, a tetrazolyl group, or a derivative thereof. When the polar group is a phosphate group, a monoester (—OP (O) (OH) 2 ), a diester ((—O) 2 P (O) (OH)), a triester ((—O) 3 P (O)) can be used.

イミダゾリル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基の含窒素環状化合物については、異性体が存在するが、本発明においては、異性体のどれをも用いることができ、また、混合物でも構わない。合成の都合上、含窒素環状化合物の窒素が直接フルオロ炭化水素基と結合しているものが得られやすく、好ましく用いることができる。また、イミダゾリル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基の誘導体としては、置換基としてアルキル基やフェニル基を有するもの等が挙げられる。   There are isomers of nitrogen-containing cyclic compounds having an imidazolyl group, triazolyl group, or tetrazolyl group. In the present invention, any of the isomers can be used, and a mixture may be used. For the convenience of synthesis, it is easy to obtain a nitrogen-containing cyclic compound in which nitrogen of the nitrogen-containing cyclic compound is directly bonded to a fluorohydrocarbon group, and it can be preferably used. Examples of the imidazolyl group, triazolyl group, and tetrazolyl group derivative include those having an alkyl group or a phenyl group as a substituent.

したがって、好ましい含フッ素有機化合物としては、前記フルオロ炭化水素基CxHyFz−をA−として示すと、例えば、A−OH、A−SH、A−NH2、A−OP(O)(OH)2、(A−O)2P(O)(OH)、(A−O)3P(O)、A−COOH、A−N233(1−イミダゾリル)、A−N322(1,2,3−トリアゾル−1−イル)、A−N4CH(1−テトラゾリル)等を挙げることができる。 Thus, preferred fluorine-containing organic compound, indicating CxHyFz- the fluorohydrocarbon group as A-, for example, A-OH, A-SH , A-NH 2, A-OP (O) (OH) 2, (A-O) 2 P (O) (OH), (A-O) 3 P (O), A-COOH, A-N 2 C 3 H 3 (1-imidazolyl), A-N 3 C 2 H 2 (1,2,3-triazol-1-yl), A—N 4 CH (1-tetrazolyl) and the like.

本発明の銅箔又は銅合金箔は、前記含フッ素有機化合物を主成分として水に溶解させた処理液を用い、処理されることにより得られる。
処理される銅箔、銅合金箔としては、一般的な公知の製造方法にて得られるものでよく、銅合金としてはチタン、スズ、ニッケル、コバルト、銀、鉛、亜鉛、アルミニウム、ベリリウム、マンガン、鉄、ジルコニウム、クロム、リン、ケイ素、マグネシウム、ヒ素、テルルの中から選ばれる少なくとも一つ以上の元素と銅とを含有する合金が挙げられる。銅合金は銅の含有量が50重量%を超えるのものが好ましい。
The copper foil or copper alloy foil of the present invention can be obtained by processing using a processing solution in which the fluorine-containing organic compound as a main component is dissolved in water.
The copper foil and copper alloy foil to be treated may be obtained by a generally known production method, and the copper alloy may be titanium, tin, nickel, cobalt, silver, lead, zinc, aluminum, beryllium, manganese. And an alloy containing copper and at least one element selected from iron, zirconium, chromium, phosphorus, silicon, magnesium, arsenic, and tellurium. The copper alloy preferably has a copper content exceeding 50% by weight.

前記処理液中の上記含フッ素有機化合物の濃度は10mg/L〜10g/Lが好ましい。上記濃度が10mg/L未満では耐塩水腐食性効果が弱く、10g/Lを超えても効果が飽和し、それ以上の効果を期待できないため好ましくない。   The concentration of the fluorine-containing organic compound in the treatment liquid is preferably 10 mg / L to 10 g / L. If the concentration is less than 10 mg / L, the salt corrosion resistance effect is weak, and if it exceeds 10 g / L, the effect is saturated, and further effects cannot be expected.

上記含フッ素有機化合物が水に溶けにくい場合には、必要に応じてアルコール、ケトンなどの有機溶剤を添加することができる。添加する量は、上記含フッ素有機化合物が水に溶けるのに必要な濃度でよいが、通常0.1g/L〜200g/Lが好ましく、1g/L〜50g/Lがより好ましい。0.1g/L未満では上記含フッ素有機化合物の溶解性を改善する効果が低く、また200g/Lを超えても上記含フッ素有機化合物を溶解する効果が飽和しそれ以上の効果を期待できないため好ましくない。   When the fluorine-containing organic compound is hardly soluble in water, an organic solvent such as alcohol or ketone can be added as necessary. The amount to be added may be a concentration necessary for the fluorine-containing organic compound to dissolve in water, but is usually preferably 0.1 g / L to 200 g / L, more preferably 1 g / L to 50 g / L. If the amount is less than 0.1 g / L, the effect of improving the solubility of the fluorine-containing organic compound is low, and if the amount exceeds 200 g / L, the effect of dissolving the fluorine-containing organic compound is saturated and no further effect can be expected. It is not preferable.

さらに、上記含フッ素有機化合物が水に溶けにくい場合には、必要に応じて、アニオン系、カチオン系、ノニオン系の界面活性剤のいずれか、またはこれらの混合物を1μg/L〜10g/L、好ましくは10μg/L〜1g/L添加してもよい。1μg/L未満では上記含フッ素有機化合物の溶解性を改善する効果が低く、また10g/Lを超えても上記含フッ素有機化合物を溶解する効果が飽和しそれ以上の効果を期待できないため好ましくない。   Further, when the fluorine-containing organic compound is hardly soluble in water, if necessary, either an anionic, cationic or nonionic surfactant, or a mixture thereof is added at 1 μg / L to 10 g / L, Preferably, 10 μg / L to 1 g / L may be added. If it is less than 1 μg / L, the effect of improving the solubility of the fluorinated organic compound is low, and if it exceeds 10 g / L, the effect of dissolving the fluorinated organic compound is saturated and no further effect can be expected. .

また、処理液は、液のpH緩衝性を向上させたい場合は、必要に応じて、リン酸系、ホウ酸系、有機酸系のpH緩衝剤を0.1g/L〜200g/L、好ましくは1〜50g/L添加してもよい。0.1g/L未満では緩衝性を向上させる効果が低く、200g/Lを超えても効果が飽和し、それ以上の効果を期待できないため好ましくない。   Further, in the treatment liquid, if it is desired to improve the pH buffering property of the liquid, 0.1 g / L to 200 g / L of a phosphoric acid, boric acid, or organic acid pH buffer is preferably used, May be added in an amount of 1 to 50 g / L. If it is less than 0.1 g / L, the effect of improving the buffering property is low, and if it exceeds 200 g / L, the effect is saturated, and further effects cannot be expected.

また、処理液中に金属の溶出がある場合は必要に応じて、金属隠蔽剤を使用することができる。この金属隠蔽剤としては、基本的には公知のものが使用できるが、特にアミン系、アミノカルボン酸系、カルボン酸系の錯化剤が好ましく、0.1g/L〜200g/L、好ましくは1g/L〜50g/L添加してもよい。0.1g/L未満であると金属の錯化力が低く、200g/Lを超えても効果が飽和し、それ以上の効果を期待できないため好ましくない。   Moreover, when there exists elution of a metal in a process liquid, a metal concealing agent can be used as needed. As this metal concealing agent, basically known ones can be used, but amine-based, aminocarboxylic acid-based and carboxylic acid-based complexing agents are particularly preferable, and 0.1 g / L to 200 g / L, preferably You may add 1g / L-50g / L. If it is less than 0.1 g / L, the complexing power of the metal is low, and if it exceeds 200 g / L, the effect is saturated and no further effect can be expected.

処理液のpHは特に限定する必要はないが、通常はpH1〜14の間であり、pH2〜12で処理することが好ましい。この範囲を逸脱すると、耐塩水腐食効果を有する皮膜形成が困難であり、かつ素材のダメージが大きい。
また、処理液の温度は、水溶液で行いうる温度範囲で可能であるが、通常5〜90℃、好ましくは10〜60℃とする。90℃を超えても作業性が悪くなるだけで、温度を高くするメリットがない。
The pH of the treatment liquid is not particularly limited, but is usually between pH 1 and 14, and it is preferable to treat at pH 2-12. If it deviates from this range, it is difficult to form a film having a saltwater corrosion resistance effect, and the material is greatly damaged.
Moreover, although the temperature of a process liquid is possible in the temperature range which can be performed with aqueous solution, it is 5-90 degreeC normally, Preferably you may be 10-60 degreeC. Even if it exceeds 90 ° C., the workability only deteriorates and there is no merit of increasing the temperature.

さらに、処理液での処理時間は、0.1秒〜300秒で効果を見て適宜調整すればよく、作業の再現性と効率を考慮すると1秒〜60秒が好ましい。0.1秒未満であると、耐塩水腐食防止効果を有する皮膜形成が困難であり、300秒を超えても効果が飽和し、かつ作業効率が低くなる。   Furthermore, the treatment time with the treatment liquid may be appropriately adjusted in view of the effect in 0.1 seconds to 300 seconds, and is preferably 1 second to 60 seconds in consideration of work reproducibility and efficiency. If it is less than 0.1 seconds, it is difficult to form a film having a saltwater corrosion resistance preventing effect, and if it exceeds 300 seconds, the effect is saturated and the working efficiency is lowered.

また、処理方法は、銅箔または銅合金箔を処理液に浸漬するか、または処理液を銅箔または銅合金箔にシャワー、スプレーなどにより散布するか、スピンコーターなどにより塗布するなどして接触させた後、水洗、乾燥すればよい。   In addition, the treatment method can be performed by immersing the copper foil or copper alloy foil in the treatment liquid, or spraying the treatment liquid on the copper foil or copper alloy foil by shower, spraying, or applying by a spin coater or the like. After washing, it may be washed with water and dried.

上記のような処理を行うことによって、銅箔または銅合金箔の片面または両面に上記含フッ素有機化合物を吸着させ、0.1〜10nmの厚さの含フッ素有機化合物を含有する皮膜を形成する。皮膜の厚さが0.1nm未満であると、腐食防止について十分な効果が得られず、10nmを超えるとはんだ濡れ性が劣化する。
得られる皮膜は撥水性が高く、皮膜が形成された表面は水に対する接触角が90度以上となる。そのため、銅箔又は銅合金箔の耐塩水腐食性が改善される。且つ含フッ素有機化合物を含有する皮膜が非常に薄いためはんだ濡れ性が損なわない。
接触角の測定は、従来公知の種々の手段によって測定することができる。本発明においては接触角計を用いて測定した。具体的には、協和界面化学(株)製接触角計CA−DTを用いて、温度25℃、液量約1.5μlで測定した。
尚、はんだ濡れ性に関しては、一般的にゼロクロスタイムで3秒以下であればはんだ濡れ性が良好であるということができる。本発明において、はんだ濡れ性を損なうことがないとは、腐食防止剤で処理した後のはんだ濡れ性が、ゼロクロスタイムで3秒よりも短く、はんだ濡れ性が良好であることを言う。好ましくはゼロクロスタイムで2秒以下であり、より好ましくは1秒以下、さらに好ましくは0.3秒以下である。
By performing the above treatment, the fluorine-containing organic compound is adsorbed on one side or both sides of the copper foil or copper alloy foil, and a film containing the fluorine-containing organic compound having a thickness of 0.1 to 10 nm is formed. . If the thickness of the film is less than 0.1 nm, a sufficient effect for preventing corrosion cannot be obtained, and if it exceeds 10 nm, solder wettability deteriorates.
The obtained film has high water repellency, and the surface on which the film is formed has a contact angle with water of 90 degrees or more. Therefore, the saltwater corrosion resistance of the copper foil or copper alloy foil is improved. Moreover, since the film containing the fluorine-containing organic compound is very thin, the solder wettability is not impaired.
The contact angle can be measured by various conventionally known means. In this invention, it measured using the contact angle meter. Specifically, using a contact angle meter CA-DT manufactured by Kyowa Interface Chemical Co., Ltd., measurement was performed at a temperature of 25 ° C. and a liquid volume of about 1.5 μl.
Regarding solder wettability, it can be said that solder wettability is generally good when the zero cross time is 3 seconds or less. In the present invention, that the solder wettability is not impaired means that the solder wettability after the treatment with the corrosion inhibitor is shorter than 3 seconds with a zero cross time and the solder wettability is good. The zero cross time is preferably 2 seconds or less, more preferably 1 second or less, still more preferably 0.3 seconds or less.

本発明の銅箔、銅合金箔は、それぞれ一般的な用途に使用できるが、特に外気に晒され、耐腐食性が要求される用途に好適である。例えば、携帯電話、デジタルカメラ、携帯音楽プレーヤー、携帯ゲーム機、ネットブック・ポータブル、GPS中の基板、コネクタ、接点などの各種部品に好適に用いることができる。前記各種部品はケース内に入れられている場合であっても、潮風等の腐食性の外気に晒される場合があり、耐腐食性が要求されている。   The copper foil and copper alloy foil of the present invention can be used for general applications, respectively, but are particularly suitable for applications that are exposed to the outside air and require corrosion resistance. For example, it can be suitably used for various parts such as a cellular phone, a digital camera, a portable music player, a portable game machine, a netbook portable, a substrate in GPS, a connector, and a contact. Even when the various parts are put in a case, they may be exposed to corrosive outside air such as sea breeze, and corrosion resistance is required.

以下、実施例に基づいて本発明を説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated based on an Example, this invention is not limited to these Examples.

実施例1〜12、比較例1〜8
表1に記載した銅または銅合金薄膜に、表1に記載の成分を水に溶解させた処理液を用い、表1に記載の処理条件により浸漬処理を行った。
尚、実施例8、9、10で用いた含フッ素有機化合物の極性基−N233、−N322、−N4CHは、それぞれ1−イミダゾリル基、1,2,3−トリアゾル−1−イル基、1−テトラゾリル基である。
また、表1中、浴組成における「−」は添加しないことを示す。
Examples 1-12, Comparative Examples 1-8
The copper or copper alloy thin film described in Table 1 was subjected to an immersion treatment under the processing conditions described in Table 1 using a processing solution in which the components described in Table 1 were dissolved in water.
The polar groups —N 2 C 3 H 3 , —N 3 C 2 H 2 , and —N 4 CH of the fluorine-containing organic compounds used in Examples 8, 9, and 10 are a 1-imidazolyl group and 1, 2 , 3-triazol-1-yl group and 1-tetrazolyl group.
Moreover, in Table 1, "-" in a bath composition shows not adding.

得られた銅箔または銅合金箔について、耐塩水腐食性とはんだ濡れ性を下記のように評価した。
耐塩水腐食性
JISZ2371に基づく塩水噴霧試験を72時間行った後に、かさのある腐食物を柔らかい紙でふき取り除去した後の単位面積あたりの重量減少量(腐食減肉量)を求めた。
はんだ濡れ性
JISC0053に基づいたはんだ槽平衡法による濡れ時間(ゼロクロスタイム)を求めた。はんだはSn−3Ag−0.5Cuの鉛フリーはんだを使用し、フラックスとしてはタムラ化研NA−200を用いた。
結果を表1に示す。
About the obtained copper foil or copper alloy foil, salt water corrosion resistance and solder wettability were evaluated as follows.
Salt Water Corrosion Resistance After performing a salt spray test based on JISZ2371, for 72 hours, the weight loss per unit area (corrosion loss) after removing the bulky corrosives with soft paper was determined.
Solder wettability Wetting time (zero cross time) by a solder bath equilibrium method based on JISC0053 was determined. The solder used was Sn-3Ag-0.5Cu lead-free solder, and Tamura Kaken NA-200 was used as the flux.
The results are shown in Table 1.

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Claims (2)

銅箔または銅合金箔であって、その片面または両面に、フルオロ炭化水素基CxHyFz−(x=3〜24、y=0〜48、z=1〜49、y+z≦2x+1)と、水酸基、メルカプト基、アミノ基、リン酸エステル基、カルボキシル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基及びテトラゾリル基またはその誘導体からなる群から選ばれた極性基R−を有する含フッ素有機化合物を含有する厚さ0.1〜10nmの薄膜を備えることを特徴とする銅箔または銅合金箔。   Copper foil or copper alloy foil, on one side or both sides thereof, a fluorohydrocarbon group CxHyFz- (x = 3 to 24, y = 0 to 48, z = 1 to 49, y + z ≦ 2x + 1), hydroxyl group, mercapto A thickness of 0.1 to 0.1% containing a fluorine-containing organic compound having a polar group R- selected from the group consisting of a group, an amino group, a phosphate ester group, a carboxyl group, an imidazolyl group, a triazolyl group and a tetrazolyl group or a derivative thereof A copper foil or copper alloy foil comprising a 10 nm thin film. 前記銅合金が、チタン、スズ、ニッケル、コバルト、銀、鉛、亜鉛、アルミニウム、ベリリウム、マンガン、鉄、ジルコニウム、クロム、リン、ケイ素、マグネシウム、ヒ素、テルルの中から選ばれる少なくとも一つ以上の元素と銅とを含有することを特徴とする請求項1記載の銅箔または銅合金箔。


The copper alloy is at least one selected from titanium, tin, nickel, cobalt, silver, lead, zinc, aluminum, beryllium, manganese, iron, zirconium, chromium, phosphorus, silicon, magnesium, arsenic, and tellurium. The copper foil or copper alloy foil according to claim 1, comprising an element and copper.


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