JP5439066B2 - Method and apparatus for chamfering hard brittle plate - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 33
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 21
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 30
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 30
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 239000002173 cutting fluid Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 2
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 239000006063 cullet Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000013011 mating Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- B24B9/00—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor
- B24B9/02—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground
- B24B9/06—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground of non-metallic inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain
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Description
この発明は、ディスプレイパネルのガラス基板その他の硬質脆性板の面取加工方法及び装置に関するものである。 The present invention relates to a method and apparatus for chamfering a glass substrate of a display panel and other hard brittle plates.
ディスプレイパネルのガラス基板は、割断によって所定寸法に切断されるが、割断面(割断により形成される板厚方向の面)とパネルの表裏面とが交わる部分に鋭い稜線(エッジ)が形成される。この稜線は、鋭利な刃物となって当該パネルを取り扱う作業者に危害を与えるおそれがある。また、当該稜線には往々にして小さな欠け(チッピング)や水平クラックと呼ばれる小さなひび割れ(以下、「チッピング」と総称する。)が存在しており、このチッピングを起点にして大きな欠けや割れが発生したり、これによって生じたカレットと呼ばれるガラス片が基板表面に付着して、不良品となることが往々にして生ずる。そこで回転砥石をこの稜線に沿って走行させて、当該稜線を斜めに削り取る面取加工が行われる。 The glass substrate of the display panel is cut to a predetermined size by cleaving, but a sharp ridge line (edge) is formed at a portion where the cut surface (surface in the plate thickness direction formed by cleaving) and the front and back surfaces of the panel intersect. . This ridgeline may become a sharp blade and may cause harm to an operator who handles the panel. In addition, there are often small cracks (chipping) and small cracks called horizontal cracks (hereinafter collectively referred to as “chipping”) on the ridgeline, and large chippings and cracks are generated starting from this chipping. In many cases, a glass piece called a cullet is attached to the substrate surface, resulting in a defective product. Therefore, a chamfering process is performed in which the rotating grindstone is run along the ridgeline and the ridgeline is cut off obliquely.
面取加工に用いる砥石の形状やその回転軸の方向等については、種々のものが提案されている。近年多く用いられている砥石ユニットとして、面取しようとする稜線と平行な砥石軸に複数の円板状の砥石を、その軸方向に間隔を開けて固定し、この複数の円板砥石を同時回転させながらガラス基板の稜線と平行に相対移動させるという方法がある。この面取加工方法では、図1に示すように、ガラス基板2の割断面22の外側上下に砥石軸5u、5dを配置し、各砥石軸に取付けた複数枚の円板砥石1(1a〜1d)を互いに間隔を開けて、かつ上下の砥石軸5u、5dに取付けた円板砥石1a〜1d相互が相手側の円板砥石1の間に入り込むように配置して、上下の円板砥石1の外周面で割断面22の上下の稜線7(7u、7d)を同時に面取加工する。
Various shapes have been proposed for the shape of the grindstone used for chamfering, the direction of its rotation axis, and the like. As a grindstone unit that is widely used in recent years, a plurality of disc-shaped grindstones are fixed to a grindstone shaft parallel to the ridge line to be chamfered at intervals in the axial direction, and the plurality of disc grindstones are simultaneously attached. There is a method of relatively moving in parallel with the ridgeline of the glass substrate while rotating. In this chamfering method, as shown in FIG. 1, a plurality of disc grindstones 1 (1a to 1a) are arranged with
従来、この面取加工の際に円板砥石1で斜めに削られた面(面取面)9(9u、9d)とガラス基板の板面(表裏面)8u、8dとの夾角(面取角)は40〜45度程度であり、円板砥石1の回転方向は、図6に矢印Bで示すように、円板砥石1の周面11が面取面9を板面8側から割断面22側へと摺擦する方向であった。
Conventionally, a chamfer angle (chamfering) between the surfaces (chamfered surfaces) 9 (9u, 9d) and the plate surfaces (front and back surfaces) 8u, 8d of the glass substrate which are cut obliquely by the
従来の面取加工において、円板砥石の周面11が面取面9を板面8側から割断面22側へと抜ける(摺擦する)方向に砥石を回転させているのは、砥石の抜け側にチッピングが多く発生するためである。すなわち、ディスプレイパネルのガラス基板の板面には、回路パターンが設けられており、この回路パターンが設けられている側にチッピングが発生するのを可及的に防止するためである。
In the conventional chamfering process, the grindstone is rotated in such a direction that the
また、加工に用いる複数の円板砥石は、その刃先(外周部)の関係を図7に誇張して示すように、各円板砥石1の相対移動方向前方の外周縁に、その相対移動によってガラス基板を切り込む円錐状の切込面11aを形成し、その相対移動方向後方をスパークアウトを行わせるための円筒面11bとしており、複数の円板砥石の相対移動方向前方のもの(先にガラス基板に当接するもの)を後方のものより小径とし、かつ前後の円板砥石の径差を後方の円板砥石間ほど小さくするという構造が採用されている。
Further, the plurality of disc grindstones used for the processing are shown in FIG. 7 by exaggerating the relationship between their cutting edges (outer peripheral portions), by the relative movement of the
電子機器の小型化及び軽量化に伴ってディスプレイパネルのガラス基板の厚さが薄くなり(薄肉化)、生産性の向上の要請からガラス基板に対する回転砥石の相対移動速度(送り速度)の高速化が要求され、この薄肉化と高速化に伴って増加傾向となる不良品の発生を防止する必要が生じている。すなわち、砥石の送り速度を高速化すると、チッピングが発生しやすくなり、また、ガラス基板の薄肉化に伴って、面取加工の際に発生したチッピングが後工程で大きな割れや欠けになる可能性が増大する傾向となるので、これを防止して製品の歩留まりを向上する必要が生じている。 As electronic devices become smaller and lighter, the glass substrate of the display panel becomes thinner (thinner), and the relative movement speed (feed speed) of the rotating grindstone with respect to the glass substrate is increased due to the demand for improved productivity. Therefore, it is necessary to prevent the generation of defective products that tend to increase with the reduction in thickness and speed. In other words, chipping is likely to occur when the grinding stone feed rate is increased, and the chipping that occurs during chamfering may become large cracks or chips in the subsequent process as the glass substrate becomes thinner. Therefore, there is a need to prevent this and improve the yield of products.
この発明は、このような問題を解決するためになされたもので、チッピングの発生を可及的に抑えながら、より高速でガラス基板の面取加工を行うことが可能な技術手段を得ることを課題としている。 The present invention has been made to solve such a problem, and is to obtain technical means capable of chamfering a glass substrate at a higher speed while suppressing the occurrence of chipping as much as possible. It is an issue.
この発明の面取加工方法は、ディスプレイパネルのガラス基板その他の硬質脆性板2の割断面22と板面8とが交わる部分に形成された鋭い稜線7を、当該稜線と平行な砥石軸5回りに回転する複数枚の円板砥石1を稜線7と平行に送りながら、当該稜線を円板砥石1の周面11で斜めに削り取る面取加工方法に関するものである。
The chamfering method according to the present invention includes a sharp ridge line 7 formed at a portion where the
この発明の面取加工方法では、稜線7を削り取ることによって形成される斜めの面取面9と板面8との夾角(面取角)θを35度〜15度の範囲の角度とし、円板砥石1の回転方向を従来とは逆の方向、すなわち回転砥石の周面11が面取面9を割断面22側から板面8側へ摺擦する方向の回転とすることにより、上記課題を解決している。
In the chamfering method of the present invention, the depression angle (chamfering angle) θ between the oblique chamfered surface 9 and the
すなわち、この発明に係る硬質脆性板の面取加工方法は、硬質脆性板2の板面8(8u、8d)と割断面22とが交わる稜線7を、この稜線と平行な砥石軸5(5u、5d)回りに回転しかつ当該稜線と平行に相対送り移動する複数の円板砥石1(1a〜1d)の短円錐状ないし短円筒状の周面11(11a、11b)で研削して、当該稜線7を斜めに削り取る硬質脆性板の面取加工方法において、板面8と斜めに削り取られる面(面取面)9との夾角を35〜15度の角度に設定すると共に、円板砥石1の周面11が当該稜線7ないし面取面9をその割断面22側から板面8側へと摺擦する方向に、円板砥石1を回転させることを特徴とするものである。
That is, the chamfering method of the hard brittle plate according to the present invention is such that the ridge line 7 where the plate surface 8 (8u, 8d) of the hard
1本の砥石軸5に3個以上の円板砥石1a〜1dを間隔を開けて配置する上記の面取加工方法における当該3個以上の円板砥石1a〜1dの径について、削り取られる稜線7ないし面取面9を最初に摺接する円板砥石1aの径を2番目に摺擦する円板砥石1bの径より小径にすると共に、最後に摺擦する円板砥石1dの径と最後の1つ前に摺擦する円板砥石1cの径とを同径として面取加工を行うことにより、特に板厚の薄い硬質脆性板の面取加工において、より滑らかな面取面を得ることができる。
The ridgeline 7 to be scraped off with respect to the diameter of the three or
この発明の面取加工方法を実施するのに適した面取加工装置は、硬質脆性板の下面を載置した状態で支持するテーブル3と、このテーブルの幅方向両側に配置された砥石ユニット4と、当該砥石ユニットをテーブル3に対して当該テーブルの面内で前記幅方向Xと直交する方向Yに相対移動させる送り装置とを備え、前記砥石ユニット4は、面取りしようとする硬質脆性板の稜線7と平行な上下の砥石軸5回りに回転する複数の円板砥石1を備え、硬質脆性板2の板面8と割断面22とが交わる前記稜線7を、前記円板砥石1の短円錐状ないし短円筒状の周面11で研削する硬質脆性板の面取装置において、前記砥石軸5を正逆方向に回転駆動する砥石モータ6(6u、6d)と、前記上下の砥石軸5の間隔を設定する昇降マウント14とを備え、前記上下の砥石1の一方がこの昇降マウント14を介して砥石台12に装着されており、前記砥石ユニット4は、それぞれの砥石軸5回りに回転する3個以上の前記円板砥石1を備え、当該3個以上の円板砥石1は、前記相対送り移動により削り取られる面を最初に摺接する初段の円板砥石1aの径が第2段の円板砥石1bの径より小径とされると共に、最後に摺擦する最後段の円板砥石1dの径と最後の1つ前の段の円板砥石1cの径とが同径とされていることを特徴とする、硬質脆性板の面取加工装置である。
A chamfering apparatus suitable for carrying out the chamfering method of the present invention includes a table 3 that supports the bottom surface of a hard brittle plate placed thereon, and a
上記構造の面取加工装置を用いることにより、従来方法での面取加工と、この発明の方法による面取加工とを同一の装置で行うことが可能である。 By using the chamfering apparatus having the above structure, the chamfering process by the conventional method and the chamfering process by the method of the present invention can be performed by the same apparatus.
面取加工の対象となる硬質脆性板2の板厚が薄くなるに伴い、その割断面側の削り代cを小さくせざるを得ず、そのため必然的に面取面9と板面8との夾角θが小さくなり、従来40〜45度であったものが35度以下、例えば30度ないし20度の角度となる。
As the plate thickness of the hard
面取面9を回転砥石1が摺擦することに伴うチッピングの発生は、切屑を本体から切り離す方向に砥粒が摺擦する砥石周面11の抜け側で発生しやすい。従って、砥石周面11を硬質脆性板の割断面22側から板面8側へと摺擦する方向に円板砥石1を回転するこの発明の方法では、チッピングの発生を嫌う板面8側にチッピングが多く発生するように考えられるが、この部分の夾角θが小さくなったことによるチッピングの抑制効果が大きく働いて、板面8側のチッピングの発生が抑えられる。
The occurrence of chipping associated with the chamfered surface 9 being rubbed by the rotating
一方、割断面22側は、砥石周面11の入り側となるので、従来方法と比べて当該割断面におけるチッピングの発生も減少する。すなわち、この発明の方法によれば、板面8側と面取面9側のチッピングが共に抑制されて、後工程でチッピングに起因する欠損により、不良品の発生を低減できる。また、割断面22側と板面8側のチッピングが共に抑制されることから、硬質脆性板に対する円板砥石1の送り速度を高速化することができ、加工速度の向上を図ることができる。
On the other hand, since the
また、硬質脆性板2の薄肉化と面取面9と板面8との間の夾角θが小さくなることに伴って、研削加工時の加工反力による硬質脆性板2の撓みが増加する。この撓みは、面取面9が円板砥石1から逃げる方向の撓みとなるので、砥石車の径差によって所望の切込み深さを得ようとしても、硬質脆性板2の撓みが大きくなった分だけ切込み深さが小さくなる。このことは、前後に隣接する円板砥石の径差を0としても硬質脆性板の撓みによって削り残った分だけ後続の円板砥石に切込みが残ることを意味する。
Further, as the hard
すなわち、1本の砥石軸に3枚以上の円板砥石を装着して、この発明の方法で面取加工を行うとき、切込量の小さい最後の砥石、場合によっては最後の砥石と最後から2番目の砥石とをその前方の砥石と同径とすることにより、適切な量の切込みが与えられて、十分なスパークアウトが行われ、滑らかな面取面を得ることができる。 That is, when three or more disc grindstones are mounted on one grindstone shaft and chamfering is performed by the method of the present invention, the last grindstone with a small depth of cut, and in some cases the last grindstone and the last grindstone By making the second grindstone the same diameter as the grindstone in front of it, an appropriate amount of incision is given, sufficient sparking is performed, and a smooth chamfered surface can be obtained.
以下、図面を参照して、この発明を更に説明する。図1及び図2は、この発明の面取加工方法を示した図で、図1は斜視図、図2は面取加工部分を砥石1の送り方向から見た図である。図の例は、1本の砥石軸に4枚の円板砥石を設けた例を示しており、図3は4枚の円板砥石の外周部の形状を模式的に示す部分断面図、図4は同他の形状を模式的に示す部分断面図である。図5は、この発明の面取装置の要部の斜視図である。
The present invention will be further described below with reference to the drawings. 1 and 2 are views showing a chamfering method according to the present invention. FIG. 1 is a perspective view, and FIG. 2 is a view of a chamfered portion as viewed from a feeding direction of a
図1、2において、加工対象となるガラス基板2は、互いに平行な対向側辺21を備えている。ガラス基板2は、テーブル3に真空吸着などにより固定されており、対向する両側辺21は、当該テーブルから張り出した状態となっている。
1 and 2, a
砥石ユニット4は、ガラス基板の側辺21と平行な方向の上下の砥石軸5u、5dと、それぞれの砥石軸に固定された各4枚の円板砥石1a〜1dとで構成されている。各砥石軸5u、5dは、基端を砥石モータ6u、6dの軸に固定して支持されている。砥石モータ6u、6dは、正逆転可能である。この発明の方法で面取加工を行うときは、砥石モータ6u、6dは、逆転、すなわち、砥石軸5u、5dを、各円板砥石の周面11がガラス基板2の稜線7部分を割断面22側から板面8側へと摺擦する方向(図2の矢印A方向)に回転する。このとき切削液(通常は純水)は、図2に示すように、砥石ユニット4の反ガラス基板側に設けた切削液ノズル19から割断面22に向けて噴射される。
The
上下の砥石モータの一方6dは、砥石台12の定位置に装着され、他方6uは、砥石台12に昇降モータ13で昇降位置決め可能に設けた昇降マウント14に装着されている。砥石台12は、テーブル3の幅方向(図1の矢印X方向)両側に設けた図示しないコラムに幅方向及び上下方向(硬質脆性板2の厚さ方向)に移動位置決め自在に装着されている。
One of the upper and lower
ガラス基板2の上下の稜線を同じ面取角θかつ面取量cで面取りするときは、上下の砥石軸5u、5dの間隔がガラス基板の厚さに対応する間隔になるように昇降マウント14の位置を調整し、上下の砥石軸5u、5dの中間高さがガラス基板の厚さ中心となる高さに砥石台12の高さを設定し、送り方向最後段の円板砥石1dの周面が所定の面取面9を削成する位置に、砥石台12の幅方向位置を設定する。厚さが同じガラス基板に対しては、昇降マウント14の位置設定により、面取角θが変化する。すなわち、上下の砥石軸5u、5dを接近させると面取角θは大きくなり、離隔させると面取角θは小さくなる。
When chamfering the upper and lower ridge lines of the
ガラス基板の縁の上下の稜線を異なる面取角θで面取加工するときは、砥石台12をガラス基板の縁21と平行な軸回りに揺動位置決め可能とするか、砥石軸5u、5dの一方をガラス基板の幅方向に位置調整可能に砥石台12に装着する。
When chamfering the upper and lower ridge lines of the edge of the glass substrate with different chamfering angles θ, the
ガラス基板2を固定しているテーブル3は、砥石ユニット4、4に対して稜線7と平行な図1の矢印Y方向に送り移動され、この送り移動に伴う研削加工において、円板砥石1aが初段の円板砥石となり、円板砥石1dが最後段の円板砥石となる。
The table 3 fixing the
各円板砥石1a〜1dの各ガラス基板の進入側となる外周前縁には、切込用の円錐面11aが設けられている。この円錐面は、頂角が90度の円錐面で、その切込寸法(実際の切込量はこれより小さい)Lは、例えば図3の例では、初段が0.3mm、第2段〜最後段が0.2mmとしている。また図4の例では、初段が0.2mm、第2段〜最後段が0.1mmとしている。
A
両側の砥石ユニット4を上述のように設定して砥石軸5u、5dを回転し、ガラス基板の縁21が一方の端部23から他方の端部24へと砥石ユニット4を通過するようにテーブル3を送ることにより、ガラス基板2の両側の縁の上下の稜線7u、7dが同時に面取加工される。
Tables are set so that the
図8及び図9は、面取加工しようとする稜線と平行な軸回りに回転する1枚の円板砥石を用いて、切込深さを100ミクロン及び200ミクロンとした場合の、面取角が30度と20度の場合について、砥石の相対送り速度と面取加工を行ったときに発生した最大のチッピングの寸法との関係を試験した結果を示す図である。図において、A〜Eは砥石の種類を示し、A〜Eの文字に続く100及び200は、切込み深さを示す。図に示すように、面取角が20度のものは、面取角が30度のものに比べて1個の異常点pを除き、発生したチッピングの寸法が小さくなっている。また、この試験結果により、送り速度の低い側と送り速度が40m/minを超える高速送り領域とでチッピングの寸法が小さくなっており、面取角が小さくなる板厚の薄い硬質脆性板の面取加工において、この発明の方法によりチッピングの発生の少ない高速での面取加工を行うことができることが判る。 8 and 9 show chamfer angles when a cutting depth is set to 100 microns and 200 microns using a single disc grindstone rotating around an axis parallel to the ridge line to be chamfered. It is a figure which shows the result of having tested the relationship between the relative feed rate of a grindstone, and the dimension of the largest chipping generate | occur | produced when chamfering was performed about the case of 30 degrees and 20 degrees. In the figure, A to E indicate the types of grindstones, and 100 and 200 following the letters A to E indicate the depth of cut. As shown in the figure, when the chamfering angle is 20 degrees, the size of the generated chipping is smaller than that of the chamfering angle is 30 degrees except for one abnormal point p. Also, as a result of this test, the surface of the hard brittle plate with a thin plate thickness, in which the chipping dimension is small on the low feed rate side and the high feed region where the feed rate exceeds 40 m / min, the chamfer angle is reduced. In the chamfering process, it can be seen that the chamfering process can be performed at a high speed with less occurrence of chipping by the method of the present invention.
1(1a〜1d) 円板砥石
2 硬質脆性板
3 テーブル
4 砥石ユニット
5(5u、5d) 砥石軸
6(6u、6d) 砥石モータ
7 稜線
8(8u、8d) 板面
9 面取面
11(11a、11b) 円板砥石の周面
12 砥石台
13 昇降モータ
14 昇降マウント
22 割断面
θ 夾角
X 幅方向
Y 送り方向
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 (1a-1d)
Claims (2)
前記砥石軸のそれぞれに3個以上の前記円板砥石を間隔を開けて配置すると共に、前記相対送り移動により削り取られる面を最初に摺接する初段の円板砥石の径を第2段の円板砥石の径より小径とし、かつ、最後に摺擦する最後段の円板砥石の径と最後の1つ前の段の円板砥石の径とを同径とし、
前記板面と前記斜めに削り取られる面との夾角を35〜15度の角度に設定すると共に、円板砥石の前記周面が当該削り取られる面をその割断面側から板面側へと摺擦する方向に前記円板砥石を回転させることを特徴とする、硬質脆性板の面取加工方法。 A short conical or short cylindrical peripheral surface of a disc grindstone that rotates around a grindstone axis parallel to the ridgeline and moves relative to and parallel to the ridgeline where the plate surface of the hard brittle plate intersects with the split section. In the chamfering method of a hard brittle plate that is ground with
Three or more disc grindstones are arranged at intervals on each of the grindstone shafts, and the diameter of the first disc grindstone that first slidably contacts the surface scraped by the relative feed movement is set to the second disc. The diameter of the wheel grindstone is smaller than the diameter of the grindstone, and the diameter of the last disk grindstone to be rubbed last is the same as the diameter of the disk grindstone of the last previous stage,
The depression angle between the plate surface and the obliquely scraped surface is set at an angle of 35 to 15 degrees, and the surface of the peripheral surface of the disc grindstone is rubbed from the split cross section side to the plate surface side. A chamfering method for a hard brittle plate, characterized in that the disc grindstone is rotated in a direction to be cut.
前記砥石軸を正逆方向に回転駆動する砥石モータと、前記上下の砥石軸の間隔を設定する昇降マウントとを備え、前記上下の砥石の一方がこの昇降マウントを介して砥石台に装着されており、前記砥石ユニットは、それぞれの砥石軸回りに回転する3個以上の前記円板砥石を備え、当該3個以上の円板砥石は、前記相対送り移動により削り取られる面を最初に摺接する初段の円板砥石の径が第2段の円板砥石の径より小径とされると共に、最後に摺擦する最後段の円板砥石の径と最後の1つ前の段の円板砥石の径とが同径とされている、硬質脆性板の面取加工装置。 A table that supports the lower surface of the hard brittle plate placed thereon, a grindstone unit disposed on both sides of the table in the width direction, and the grindstone unit orthogonal to the width direction in the plane of the table with respect to the table The grindstone unit includes a plurality of disc grindstones that rotate about upper and lower grindstone axes parallel to the ridgeline of the hard brittle plate to be chamfered, and a plate of the hard brittle plate. In a chamfering device for a hard brittle plate that grinds a ridge line where a surface and a split section intersect with a short conical or short cylindrical peripheral surface of the disc grindstone,
A grindstone motor that rotates the grindstone shaft in forward and reverse directions; and a lift mount that sets a distance between the upper and lower grindstone shafts. One of the upper and lower grindstones is attached to the grindstone table via the lift mount. And the grindstone unit includes three or more disc grindstones that rotate around respective grindstone axes, and the three or more disc grindstones are first contacted with a surface scraped off by the relative feed movement first. The diameter of the disk whetstone is smaller than the diameter of the second stage disk whetstone, the diameter of the last disk whetstone to be rubbed last and the diameter of the disk whetstone of the last previous stage Is a chamfering machine for hard brittle plates.
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009160044A JP5439066B2 (en) | 2009-07-06 | 2009-07-06 | Method and apparatus for chamfering hard brittle plate |
| CN201010216940.6A CN102059612B (en) | 2009-07-06 | 2010-06-24 | The chamfer processing method of hard brittle plate and chamfer processing method and device |
| KR1020100063850A KR101712668B1 (en) | 2009-07-06 | 2010-07-02 | Method and apparatus for chamfering hard brittle plate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009160044A JP5439066B2 (en) | 2009-07-06 | 2009-07-06 | Method and apparatus for chamfering hard brittle plate |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2011011323A JP2011011323A (en) | 2011-01-20 |
| JP5439066B2 true JP5439066B2 (en) | 2014-03-12 |
Family
ID=43590681
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009160044A Expired - Fee Related JP5439066B2 (en) | 2009-07-06 | 2009-07-06 | Method and apparatus for chamfering hard brittle plate |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5439066B2 (en) |
| KR (1) | KR101712668B1 (en) |
| CN (1) | CN102059612B (en) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101452250B1 (en) * | 2013-05-28 | 2014-10-22 | 코닝정밀소재 주식회사 | Method and appratus of symmetrically chamfering a substrate |
| CN105437015B (en) * | 2015-12-19 | 2017-08-25 | 重庆天和玻璃有限公司 | Glass edge polishing device |
| CN106736977A (en) * | 2017-01-20 | 2017-05-31 | 京东方科技集团股份有限公司 | Grinding mechanism and milling apparatus |
| TW201843008A (en) * | 2017-04-27 | 2018-12-16 | 美商康寧公司 | Edge processing of glass for light coupling |
| CN107775483A (en) * | 2017-11-29 | 2018-03-09 | 重庆市国宇钢化玻璃有限公司 | Glass edge polishing device |
| CN108032168A (en) * | 2017-11-30 | 2018-05-15 | 重庆丰胜天家具有限公司 | Marble chamfer angle technique |
| CN108032169A (en) * | 2017-11-30 | 2018-05-15 | 重庆丰胜天家具有限公司 | Transmission equipment for stone material |
| CN108673270B (en) * | 2018-07-03 | 2023-08-08 | 黄山市皖金铝业科技有限公司 | Aluminum alloy door and window subassembly burring device with fixed function |
| KR102728003B1 (en) * | 2019-11-14 | 2024-11-12 | 삼성디스플레이 주식회사 | Foldable glass substrate, and foldable display device including the thereof |
| CN111823091A (en) * | 2020-06-01 | 2020-10-27 | 南京冠石科技股份有限公司 | Angle-controllable liquid crystal display grinding system |
| CN114211315A (en) * | 2021-12-14 | 2022-03-22 | 上海汉虹精密机械有限公司 | High-speed constant-force floating quartz crucible chamfering grinding wheel device |
| CN114734333A (en) * | 2022-05-05 | 2022-07-12 | 北京天科合达半导体股份有限公司 | Chamfering method |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0798450A (en) * | 1993-09-28 | 1995-04-11 | Tekunisuko:Kk | Chamfering machine for liquid crystal plate |
| US5816897A (en) * | 1996-09-16 | 1998-10-06 | Corning Incorporated | Method and apparatus for edge finishing glass |
| JP3011129B2 (en) * | 1997-03-31 | 2000-02-21 | 日本電気株式会社 | Glass substrate edge polishing machine and edge polishing method |
| JP2000052213A (en) * | 1998-07-31 | 2000-02-22 | Casio Comput Co Ltd | Hard board chamfering device |
| US6325704B1 (en) * | 1999-06-14 | 2001-12-04 | Corning Incorporated | Method for finishing edges of glass sheets |
| JP4302336B2 (en) * | 2001-05-23 | 2009-07-22 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション | Grinding apparatus and grinding method |
| JP2006026845A (en) | 2004-07-20 | 2006-02-02 | Nakamura Tome Precision Ind Co Ltd | Adjustment method for tool position of chamfering machine |
| JP2006082147A (en) | 2004-09-14 | 2006-03-30 | Nakamura Tome Precision Ind Co Ltd | Side working device of hard brittle substrate |
| JP4313285B2 (en) * | 2004-11-17 | 2009-08-12 | 中村留精密工業株式会社 | Edge processing device for plate workpiece |
| JP4969197B2 (en) * | 2006-10-11 | 2012-07-04 | 中村留精密工業株式会社 | Side processing equipment for plate material |
-
2009
- 2009-07-06 JP JP2009160044A patent/JP5439066B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-06-24 CN CN201010216940.6A patent/CN102059612B/en not_active Expired - Fee Related
- 2010-07-02 KR KR1020100063850A patent/KR101712668B1/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2011011323A (en) | 2011-01-20 |
| CN102059612A (en) | 2011-05-18 |
| KR20110004295A (en) | 2011-01-13 |
| KR101712668B1 (en) | 2017-03-06 |
| CN102059612B (en) | 2016-03-16 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120626 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130830 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130903 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
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|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131216 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5439066 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
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|
| R250 | Receipt of annual fees |
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|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |