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JP5547570B2 - Conductive paste - Google Patents
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JP5547570B2 - Conductive paste - Google Patents

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Description

本発明は、導電性ペーストに関し、特に、基板上に回路などを形成するための導電性ペーストに関する。   The present invention relates to a conductive paste, and more particularly to a conductive paste for forming a circuit or the like on a substrate.

従来、電子機器の基板上に配線を描画して金属導電膜の配線からなる回路などを形成するために、銀粒子などの金属粒子をバインダー樹脂および溶剤と混合してペースト状にした熱硬化型導電性ペーストを使用して、基板上に配線を描画し、150〜200℃の温度で加熱してバインダー樹脂を硬化させることによって、金属粒子間の接触部分により導通させる方法が知られている。この方法では、150〜200℃の低温で加熱して金属導電膜の配線を形成しているため、耐熱性がそれ程高くない基板を使用することができるので、ポリイミド(PI)基板のようにフレキシブルな基板を使用することもできる。   Conventionally, a thermosetting type in which metal particles such as silver particles are mixed with a binder resin and a solvent to form a circuit made of metal conductive film by drawing wiring on a substrate of an electronic device. A method is known in which a conductive paste is used to draw a wiring on a substrate, and the binder resin is cured by heating at a temperature of 150 to 200 ° C., thereby conducting electrical conduction at a contact portion between metal particles. In this method, since the wiring of the metal conductive film is formed by heating at a low temperature of 150 to 200 ° C., it is possible to use a substrate that is not so high in heat resistance, so that it is flexible like a polyimide (PI) substrate. A simple substrate can also be used.

近年、電子機器の小型化に伴って、基板上に描画する配線としてさらに微細な配線を形成することが望まれている。しかし、熱硬化型導電性ペーストを使用する方法では、金属粒子の融点より低い150〜200℃の温度で加熱しているので、金属粒子間の接触が不十分になって電気抵抗値が高くなることにより、導電性に劣る場合があった。   In recent years, with the miniaturization of electronic devices, it is desired to form finer wiring as wiring to be drawn on a substrate. However, in the method using the thermosetting conductive paste, since the heating is performed at a temperature of 150 to 200 ° C. lower than the melting point of the metal particles, the contact between the metal particles becomes insufficient and the electric resistance value becomes high. As a result, the conductivity may be inferior.

このような問題を解消するため、熱硬化型導電性ペーストの金属成分として、平均粒径が0.1μm以上の(銀粒子などの)金属粒子とともに、平均粒径が100nm未満の(銀微粒子などの)金属微粒子(金属ナノ粒子)を使用する方法が提案されている。このように金属成分として金属粒子とともに金属ナノ粒子を使用することにより、金属粒子間の接触を十分に確保して電気抵抗値を低減し、微細な配線を形成する場合でも、導電性に優れた配線を形成することができる。   In order to solve such a problem, as the metal component of the thermosetting conductive paste, the average particle size is less than 100 nm (silver fine particles or the like) together with metal particles (such as silver particles) having an average particle size of 0.1 μm or more. A method using metal fine particles (metal nanoparticles) has been proposed. Thus, by using metal nanoparticles together with metal particles as a metal component, sufficient contact between the metal particles is ensured to reduce the electrical resistance value, and even when forming a fine wiring, it has excellent conductivity. Wiring can be formed.

例えば、回路を微細化してもその導電性および密着性が良好な導電性ペーストとして、平均粒径0.5〜20μmの銀粒子(A)と一次粒子の平均粒径が50nm以下の球状銀粒子(B)とを主成分とする銀粉末と、バインダー樹脂と、溶剤とを含み、銀粒子(A)と球状銀粒子(B)の混合比が(A):(B)=99.1〜80:20の範囲にあり、銀粉末とバインダー樹脂の配合比率が銀粉末:バインダー樹脂=85:15〜95:5であり、150℃で30分間加熱して得られた硬化膜の体積抵抗率が20μΩ・cm程度である導電性ペーストが提案されている(例えば、特許文献1参照)。   For example, as a conductive paste having good conductivity and adhesion even when the circuit is miniaturized, silver particles (A) having an average particle size of 0.5 to 20 μm and spherical silver particles having an average primary particle size of 50 nm or less A silver powder containing (B) as a main component, a binder resin, and a solvent, and the mixing ratio of silver particles (A) and spherical silver particles (B) is (A) :( B) = 99.1. The volume resistivity of the cured film obtained by heating at 150 ° C. for 30 minutes in the range of 80:20, the blending ratio of silver powder and binder resin being silver powder: binder resin = 85: 15 to 95: 5. Has been proposed (see, for example, Patent Document 1).

また、粒子径が0.1μm〜50μm未満の範囲にある銀粒子と、粒子径が1nm〜100nm未満の範囲にある微小銀粒子と、熱硬化型樹脂とを含み、銀粒子と微小銀粒子の総量が80〜95質量%であり、200℃で60分間加熱して得られた硬化膜の体積抵抗率が63μΩ・cm以上である熱硬化型導電性ペーストが提案されている(例えば、特許文献2参照)。   In addition, silver particles having a particle diameter in the range of 0.1 μm to less than 50 μm, fine silver particles having a particle diameter in the range of 1 nm to less than 100 nm, and a thermosetting resin, the silver particles and the fine silver particles A thermosetting conductive paste having a total amount of 80 to 95% by mass and having a volume resistivity of 63 μΩ · cm or more of a cured film obtained by heating at 200 ° C. for 60 minutes has been proposed (for example, Patent Documents). 2).

これらの特許文献1および2で提案された導電性ペーストでは、導電性ペーストの流動性が低下し、樹脂と銀粉末(銀粒子と微小銀粒子)の密着力(凝集力)が弱くなって、基板に対する密着性や印刷性が低下するのを防止するために、銀粉末(銀粒子と微小銀粒子)の総量を95質量%以下にしている。   In the conductive pastes proposed in these Patent Documents 1 and 2, the fluidity of the conductive paste is lowered, and the adhesion (cohesive force) between the resin and silver powder (silver particles and fine silver particles) is weakened. In order to prevent deterioration in adhesion and printability to the substrate, the total amount of silver powder (silver particles and fine silver particles) is 95% by mass or less.

特開2005−294254号公報(段落番号0006−0018)Japanese Patent Laying-Open No. 2005-294254 (paragraph numbers 0006-0018) 特開2009−252507号公報(段落番号0022−0026)JP 2009-252507 A (paragraph numbers 0022-0026)

特許文献1の導電性ペーストを使用して導電膜の配線を形成するためには、150℃で30分間加熱する必要があり、特許文献2の導電性ペーストを使用して導電膜の配線を形成するためには、200℃で60分間加熱する必要があるが、さらに低い温度で加熱して導電膜の配線を形成することができれば、導電性ペーストの用途がさらに広がることが期待される。   In order to form the conductive film wiring using the conductive paste of Patent Document 1, it is necessary to heat at 150 ° C. for 30 minutes. The conductive paste of Patent Document 2 is used to form the conductive film wiring. In order to do so, it is necessary to heat at 200 ° C. for 60 minutes. However, if the wiring of the conductive film can be formed by heating at a lower temperature, the use of the conductive paste is expected to further expand.

また、上述したように、特許文献1の導電性ペーストを使用して150℃で30分間加熱して得られた硬化膜の体積抵抗率は20μΩ・cm程度であり、特許文献2の導電性ペーストを使用して200℃で60分間加熱して得られた硬化膜の体積抵抗率は63μΩ・cm以上であるが、さらに体積抵抗率を低くすることができる導電性ペーストが望まれている。   Moreover, as described above, the volume resistivity of the cured film obtained by heating at 150 ° C. for 30 minutes using the conductive paste of Patent Document 1 is about 20 μΩ · cm, and the conductive paste of Patent Document 2 is used. The volume resistivity of the cured film obtained by heating at 200 ° C. for 60 minutes using is a 63 μΩ · cm or more, and a conductive paste that can further reduce the volume resistivity is desired.

一方、導電性ペーストを使用した導電膜の配線の体積抵抗率をさらに低くするために、導電性ペースト中の銀粉末(銀粒子と微小銀粒子)の総量を多くすることも考えられるが、上述したように、特許文献1および2で提案された導電性ペーストでは、導電性ペースト中の銀粉末の総量を95質量%より多くすると、導電性ペーストの流動性が低下し、樹脂と銀粉末の密着力(凝集力)が弱くなって、基板に対する密着性や印刷性が低下するという問題がある。   On the other hand, in order to further reduce the volume resistivity of the conductive film wiring using the conductive paste, it is conceivable to increase the total amount of silver powder (silver particles and fine silver particles) in the conductive paste. As described above, in the conductive pastes proposed in Patent Documents 1 and 2, when the total amount of silver powder in the conductive paste is more than 95% by mass, the fluidity of the conductive paste decreases, and the resin and silver powder There is a problem in that the adhesion (cohesive force) becomes weak and the adhesion to the substrate and the printability are lowered.

したがって、本発明は、このような従来の問題点に鑑み、従来の導電性ペーストより低い温度で加熱しても導電膜の配線を形成することができるとともに、従来の導電性ペーストより体積抵抗率が低い導電膜の配線を形成することができ、且つ基板に対する密着性や印刷性に優れた導電性ペーストを提供することを目的とする。   Therefore, in view of such a conventional problem, the present invention can form conductive film wiring even when heated at a lower temperature than the conventional conductive paste, and has a volume resistivity higher than that of the conventional conductive paste. An object of the present invention is to provide a conductive paste which can form a conductive film having a low thickness and has excellent adhesion to a substrate and printability.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究した結果、金属成分と、バインダー樹脂またはバインダー樹脂および硬化剤と、溶剤とを含み、金属成分が平均粒径0.5μm以上の銀粒子と平均一次粒子径10〜200nmの銀微粒子とからなる導電性ペーストにおいて、分散剤を添加するなどによって銀微粒子の分散性を向上させれば、導電性ペースト中の金属成分とバインダー樹脂(またはバインダー樹脂および硬化剤)の総量に対する金属成分の割合を95質量%より多くしても、導電性ペーストの流動性の低下や、樹脂と金属成分の密着力(凝集力)の低下により、基板に対する密着性や印刷性が低下するのを防止することができることを見出した。また、金属成分と、バインダー樹脂またはバインダー樹脂および硬化剤と、溶剤とを含み、金属成分が平均粒径0.5μm以上の銀粒子と平均一次粒子径10〜200nmの銀微粒子とからなる導電性ペーストにおいて、金属成分とバインダー樹脂(またはバインダー樹脂および硬化剤)の総量に対する金属成分の割合(以下、「F値」という)を95質量%より多くすることにより、従来の導電性ペーストより低い温度で加熱しても導電膜の配線を形成することができるとともに、従来の導電性ペーストより体積抵抗率が低い導電膜の配線を形成することができ、且つ基板に対する密着性や印刷性に優れた導電性ペーストを製造することができることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that silver particles containing a metal component, a binder resin or a binder resin and a curing agent, and a solvent, the metal component having an average particle size of 0.5 μm or more. If the dispersibility of the silver fine particles is improved by adding a dispersant or the like in the conductive paste consisting of silver fine particles having an average primary particle size of 10 to 200 nm, the metal component and the binder resin (or binder) in the conductive paste Even if the ratio of the metal component to the total amount of the resin and the curing agent is greater than 95% by mass, the adhesion to the substrate is reduced due to the decrease in the fluidity of the conductive paste and the decrease in the adhesion (cohesion) between the resin and the metal component. It has been found that deterioration of printability and printability can be prevented. Also, a conductive material comprising a metal component, a binder resin or a binder resin and a curing agent, and a solvent, the metal component comprising silver particles having an average particle size of 0.5 μm or more and silver fine particles having an average primary particle size of 10 to 200 nm. In the paste, the ratio of the metal component to the total amount of the metal component and the binder resin (or the binder resin and the curing agent) (hereinafter referred to as “F value”) is more than 95% by mass, so that the temperature is lower than that of the conventional conductive paste. It is possible to form a conductive film wiring even when heated by heating, to form a conductive film wiring having a volume resistivity lower than that of a conventional conductive paste, and to have excellent adhesion and printability to a substrate. The inventors have found that a conductive paste can be produced, and have completed the present invention.

すなわち、本発明による導電性ペーストは、金属成分と、バインダー樹脂またはバインダー樹脂および硬化剤と、溶剤とを含み、金属成分が平均粒径0.5μm以上の銀粒子と平均一次粒子径10〜200nmの銀微粒子とからなり、金属成分とバインダー樹脂またはバインダー樹脂および硬化剤との総量に対する金属成分が95質量%より多いことを特徴とする。   That is, the conductive paste according to the present invention includes a metal component, a binder resin or a binder resin and a curing agent, and a solvent, and the metal component has silver particles having an average particle size of 0.5 μm or more and an average primary particle size of 10 to 200 nm. The silver component is more than 95% by mass with respect to the total amount of the metal component and the binder resin or the binder resin and the curing agent.

この導電性ペーストにおいて、分散剤を添加した溶剤を使用するのが好ましい。また、200℃で60分間加熱してバインダー樹脂を硬化させた後の体積抵抗率が10μΩ・cm以下の導電性ペーストであるのが好ましい。また、銀粒子の平均粒径が0.5〜10μmであるのが好ましく、金属成分中の銀微粒子の添加量が1〜70質量%であるのが好ましい。また、銀微粒子が有機化合物で被覆されているのが好ましい。この場合、有機化合物が脂肪酸であるのが好ましく、その脂肪酸がソルビン酸などのカルボン酸であるのがさらに好ましい。また、バインダー樹脂がフェノール樹脂またはエポキシ樹脂であるのが好ましく、エポキシ樹脂の場合、導電性ペーストがさらに硬化剤を含むのが好ましい。また、溶媒が極性溶媒であるのが好ましい。   In this conductive paste, it is preferable to use a solvent to which a dispersant is added. Further, it is preferably a conductive paste having a volume resistivity of 10 μΩ · cm or less after the binder resin is cured by heating at 200 ° C. for 60 minutes. Moreover, it is preferable that the average particle diameter of a silver particle is 0.5-10 micrometers, and it is preferable that the addition amount of the silver fine particle in a metal component is 1-70 mass%. The silver fine particles are preferably coated with an organic compound. In this case, the organic compound is preferably a fatty acid, more preferably a carboxylic acid such as sorbic acid. The binder resin is preferably a phenol resin or an epoxy resin. In the case of an epoxy resin, the conductive paste preferably further contains a curing agent. The solvent is preferably a polar solvent.

本発明によれば、従来の導電性ペーストより低い温度で加熱しても導電膜の配線を形成することができるとともに、従来の導電性ペーストより体積抵抗率が低い導電膜の配線を形成することができ、且つ基板に対する密着性や印刷性に優れた導電性ペーストを製造することができる。   According to the present invention, a conductive film wiring can be formed even when heated at a lower temperature than a conventional conductive paste, and a conductive film wiring having a lower volume resistivity than a conventional conductive paste is formed. In addition, it is possible to manufacture a conductive paste that is excellent in adhesion to the substrate and printability.

導電性ペーストを使用して基板上に描画した配線にかすれやにじみがない状態を示す図である。It is a figure which shows the state in which there is no blur and blur in the wiring drawn on the board | substrate using the electrically conductive paste. 導電性ペーストを使用して基板上に描画した配線にかすれがある状態を示す図である。It is a figure which shows the state which has a faint in the wiring drawn on the board | substrate using the electrically conductive paste. 導電性ペーストを使用して基板上に描画した配線ににじみがある状態を示す図である。It is a figure which shows the state which has a blur in the wiring drawn on the board | substrate using the electrically conductive paste. 導電性ペーストを使用して基板上に描画した配線が断線している状態を示す図である。It is a figure which shows the state in which the wiring drawn on the board | substrate using the electrically conductive paste is disconnected.

本発明による導電性ペーストの実施の形態は、金属成分と、バインダー樹脂またはバインダー樹脂および硬化剤と、溶剤とを含み、金属成分が平均粒径0.5μm以上の銀粒子と平均一次粒子径10〜200nmの銀微粒子とからなり、金属成分とバインダー樹脂(またはバインダー樹脂および硬化剤)の総量に対する金属成分の割合(F値)が95質量%より多い。この導電性ペーストにおいて、分散剤を添加した溶剤を使用するのが好ましい。また、導電性ペーストを200℃で60分間加熱してバインダー樹脂を硬化させた後の体積抵抗率が10μΩ・cm以下であるのが好ましい。   The embodiment of the conductive paste according to the present invention includes a metal component, a binder resin or a binder resin and a curing agent, and a solvent, and the metal component has silver particles having an average particle size of 0.5 μm or more and an average primary particle size of 10 It consists of silver fine particles of ˜200 nm, and the ratio (F value) of the metal component to the total amount of the metal component and the binder resin (or binder resin and curing agent) is more than 95% by mass. In this conductive paste, it is preferable to use a solvent to which a dispersant is added. The volume resistivity after the conductive paste is heated at 200 ° C. for 60 minutes to cure the binder resin is preferably 10 μΩ · cm or less.

銀微粒子としては、透過型電子顕微鏡写真より測定した平均一次粒子径が10〜200nm、好ましくは10〜150nm、さらに好ましくは10〜100nmの銀微粒子(銀ナノ粒子)を使用する。なお、銀微粒子として、異なる平均一次粒子径の複数の銀微粒子を混合して使用してもよい。このような粒子径の銀微粒子を使用することにより、耐熱性の低い基板に影響を与えない程度の低温環境下で熱処理した場合でも、熱硬化後の導電性が良好な導電性ペーストを得ることができる。   As the silver fine particles, silver fine particles (silver nanoparticles) having an average primary particle diameter measured from a transmission electron micrograph of 10 to 200 nm, preferably 10 to 150 nm, and more preferably 10 to 100 nm are used. As silver fine particles, a plurality of silver fine particles having different average primary particle diameters may be mixed and used. By using silver fine particles with such a particle size, a conductive paste with good conductivity after thermosetting can be obtained even when heat-treated in a low temperature environment that does not affect the substrate with low heat resistance. Can do.

銀微粒子は、粒子の表面の活性が非常に高いので、粒子の表面が露出していると、隣接する粒子同士が焼結する場合や、空気中で激しく酸化する場合がある。このような焼結や酸化を抑制して粒子を独立して安定した状態で保存できるようにするために、銀微粒子の表面を有機化合物で被覆することが知られている。しかし、銀微粒子の表面を被覆する有機化合物の分子量が大き過ぎると、銀微粒子を導電性ペースト中の銀粒子の接合材として使用する際に多少加熱しても分解または蒸散し難くなる。一方、分子量が小さ過ぎると、銀微粒子が安定して存在し難くなって取扱いに不便になる。したがって、銀微粒子の表面を被覆する有機化合物の分子量は、適度な分子量にする必要があり、低温で焼結させるためには、適度に短い分子鎖の有機化合物にする必要がある。このような有機化合物として、炭素数3〜8の低炭素の脂肪酸を使用するのが好ましく、脂肪酸として酢酸、乳酸、ヘキサン酸、ソルビン酸などのカルボン酸を使用するのが好ましい。この脂肪酸として不飽和脂肪酸を使用する場合には、その構造中に少なくとも一つの不飽和結合を有し、その不飽和結合の形態は二重結合または三重結合のいずれの形態でもよく、芳香族環を有してもよい。特に、銀微粒子の表面を被覆する有機化合物として、飽和脂肪酸であるヘキサン酸や不飽和脂肪酸であるソルビン酸などを使用すれば、銀微粒子を安定な粉末状態として得ることができる。また、それぞれ異なる種類の有機化合物で表面を被覆した銀微粒子を使用してもよい。例えば、不飽和脂肪酸で表面を被覆した銀微粒子と、飽和脂肪酸で表面を被覆した銀微粒子を混合して使用してもよい。   Silver fine particles have a very high activity on the surface of the particles. If the surface of the particles is exposed, adjacent particles may sinter or may be violently oxidized in the air. In order to suppress such sintering and oxidation so that the particles can be stored independently in a stable state, it is known to coat the surface of the silver fine particles with an organic compound. However, if the molecular weight of the organic compound covering the surface of the silver fine particles is too large, the silver fine particles are difficult to decompose or evaporate even when heated slightly when used as a bonding material for silver particles in the conductive paste. On the other hand, if the molecular weight is too small, the silver fine particles are difficult to stably exist, which is inconvenient to handle. Therefore, the molecular weight of the organic compound covering the surface of the silver fine particles needs to be an appropriate molecular weight, and in order to sinter at a low temperature, it is necessary to use an organic compound having an appropriately short molecular chain. As such an organic compound, it is preferable to use a low-carbon fatty acid having 3 to 8 carbon atoms, and it is preferable to use a carboxylic acid such as acetic acid, lactic acid, hexanoic acid or sorbic acid as the fatty acid. When an unsaturated fatty acid is used as this fatty acid, it has at least one unsaturated bond in its structure, and the unsaturated bond may be either a double bond or a triple bond, and an aromatic ring You may have. In particular, if the organic compound that covers the surface of the silver fine particles is hexanoic acid that is a saturated fatty acid or sorbic acid that is an unsaturated fatty acid, the silver fine particles can be obtained in a stable powder state. Alternatively, silver fine particles whose surfaces are coated with different types of organic compounds may be used. For example, silver fine particles whose surfaces are coated with unsaturated fatty acids and silver fine particles whose surfaces are coated with saturated fatty acids may be mixed and used.

金属成分の銀粒子としては、平均粒径が0.5μm以上の銀粒子を使用する。導電性ペーストにより微細な配線を形成するためには、銀粒子の隙間を充填する銀微粒子の量を少なくしても銀微粒子が焼結した際に銀粒子同士を接合して導電性をさらに高めることができるように、銀粒子の平均粒径は10μm以下であるのが好ましい。また、球状の銀粒子の場合には、平均粒径が0.5〜1.0μmであるのが好ましく、0.5〜0.8μmであるのがさらに好ましい。フレーク状の銀粒子の場合には、平均粒径が0.5〜5.0μmであるのが好ましく、0.5〜3.5μmであるのがさらに好ましい。   As the silver particles of the metal component, silver particles having an average particle diameter of 0.5 μm or more are used. In order to form fine wiring with the conductive paste, even if the amount of silver fine particles filling the gaps between the silver particles is reduced, the silver particles are joined to each other when the silver fine particles are sintered to further increase the conductivity. It is preferable that the average particle diameter of the silver particles is 10 μm or less. In the case of spherical silver particles, the average particle size is preferably 0.5 to 1.0 μm, and more preferably 0.5 to 0.8 μm. In the case of flaky silver particles, the average particle size is preferably 0.5 to 5.0 μm, more preferably 0.5 to 3.5 μm.

また、金属成分中の銀微粒子の添加量は、1〜70質量%であるのが好ましく、5〜70質量%であるのがさらに好ましく、20〜70質量%であるの最も好ましい。   The addition amount of silver fine particles in the metal component is preferably 1 to 70% by mass, more preferably 5 to 70% by mass, and most preferably 20 to 70% by mass.

バインダー樹脂は、基板に対する密着性と、熱硬化後の強度および導電性を十分に確保するために、導電性ペーストに添加する。バインダー樹脂としては、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂などを使用することができ、フェノール樹脂またはエポキシ樹脂を使用するのが好ましい。なお、エポキシ樹脂を使用する場合には、さらに硬化剤を添加するのが好ましく、この硬化剤としては、アミン系硬化剤、尿素系硬化剤、芳香族系(アミンアダクト)硬化剤などを使用することができる。バインダー樹脂と硬化剤の総量は、溶剤を除いた成分(金属成分とバインダー樹脂と硬化剤)に対して5質量%以下であるのが好ましく、4質量%以下であるのがさらに好ましく、3質量%以下であるのが最も好ましい。バインダー樹脂と硬化剤の総量が5質量%より多いと、過剰なバインダー樹脂によって導電性に与える影響が大きくなるので好ましくない。一方、バインダー樹脂と硬化剤の総量が少な過ぎると、基板に対する密着性や熱硬化後の強度を十分に確保することができなくなるため、バインダー樹脂と硬化剤の総量は、少なくとも2質量%程度は必要である。   The binder resin is added to the conductive paste in order to sufficiently secure the adhesion to the substrate and the strength and conductivity after thermosetting. As the binder resin, a phenol resin, an epoxy resin, a polyester resin, a polyurethane resin, an acrylic resin, a melamine resin, a polyimide resin, a polyamideimide resin, or the like can be used, and it is preferable to use a phenol resin or an epoxy resin. In addition, when using an epoxy resin, it is preferable to add a curing agent. As this curing agent, an amine curing agent, a urea curing agent, an aromatic (amine adduct) curing agent, or the like is used. be able to. The total amount of the binder resin and the curing agent is preferably 5% by mass or less, more preferably 4% by mass or less, with respect to the components excluding the solvent (metal component, binder resin and curing agent). % Is most preferred. When the total amount of the binder resin and the curing agent is more than 5% by mass, it is not preferable because the influence of the excess binder resin on the conductivity is increased. On the other hand, if the total amount of the binder resin and the curing agent is too small, the adhesion to the substrate and the strength after thermosetting cannot be ensured sufficiently, so the total amount of the binder resin and the curing agent is at least about 2% by mass. is necessary.

溶剤としては、主として極性溶媒を使用する。この溶剤は、ペーストの粘度調整や揮発防止のために使用する有機溶剤や無機溶剤だけでなく、ペーストの特性を向上させるレベリング剤、粘度調整剤、レオロジーコントロール剤、消泡剤、ダレ防止剤などの添加剤を含んでもよい。   As the solvent, a polar solvent is mainly used. This solvent is not only an organic or inorganic solvent used for paste viscosity adjustment or volatilization prevention, but also leveling agents, viscosity modifiers, rheology control agents, antifoaming agents, anti-sagging agents, etc. that improve paste properties The additive may be included.

また、バインダー樹脂と相溶可能な溶剤を使用すれば問題ないが、エステル系、エーテル系、ケトン系、エーテルエステル系、アルコール系、炭化水素系、アミン系などの有機溶剤を使用するのが好ましい。また、導電性ペーストは、一般に印刷によって回路を形成するために使用されるので、印刷時の揮発性が低い高沸点溶剤を使用するのが好ましく、テルピネオールやブチルカルビトールアセテート、またはオクタンジオールなどのジオール類を使用するのがさらに好ましい。また、複数種類の溶剤を組み合わせて使用してもよい。この溶剤の量は、バインダー樹脂と金属成分の総量に対して30質量%以下であるのが好ましく、20質量%以下であるのがさらに好ましい。   In addition, there is no problem if a solvent compatible with the binder resin is used, but it is preferable to use an organic solvent such as ester, ether, ketone, ether ester, alcohol, hydrocarbon, or amine. . In addition, since the conductive paste is generally used to form a circuit by printing, it is preferable to use a high boiling point solvent having low volatility during printing, such as terpineol, butyl carbitol acetate, or octanediol. More preferably, diols are used. A plurality of types of solvents may be used in combination. The amount of the solvent is preferably 30% by mass or less, and more preferably 20% by mass or less, based on the total amount of the binder resin and the metal component.

導電性ペーストには、銀微粒子の分散性を向上させるために、一種または二種以上の分散剤を溶剤に添加するのが好ましい。この分散剤としては、銀微粒子の表面と親和性を有し且つ溶剤に対しても親和性を有するものであればよい。   In order to improve the dispersibility of the silver fine particles, it is preferable to add one or more dispersants to the solvent in the conductive paste. Any dispersing agent may be used as long as it has an affinity for the surface of the silver fine particles and also has an affinity for the solvent.

このような性質を有する分散剤の例として、脂肪酸塩(石けん)、α−スルホ脂肪酸エステル塩(MES)、アルキルベンゼンスルホン酸塩(ABS)、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩(LAS)、アルキル硫酸塩(AS)、アルキルエーテル硫酸エステル塩(AES)、アルキル硫酸トリエタノールなどの低分子陰イオン性(アニオン性)化合物や、脂肪酸エタノールアミド、ポリオキシエチレンアルキルエーテル(AE)、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル(APE)、ソルビトール、ソルビタンなどの低分子非イオン系化合物や、アルキルトリメチルアンモニウム塩、ジアルキルジメチルアンモニウムクロリド、アルキルピリジニウムクロリドなどの低分子陽イオン性(カチオン性)化合物や、アルキルカルボキシルベタイン、スルホベタイン、レシチンなどの低分子両性系化合物や、ナフタレンスルホン酸塩のホルマリン縮合物、ポリスチレンスルホン酸塩、ポリアクリル酸塩、ビニル化合物とカルボン酸系単量体の共重合体塩、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルアルコールなどの高分子水系分散剤や、ポリアクリル酸部分アルキルエステル、ポリアルキレンポリアミンなどの高分子非水系分散剤や、ポリエチレンイミン、アミノアルキルメタクリレート共重合体などの高分子カチオン系分散剤などが挙げられる。   Examples of dispersants having such properties include fatty acid salts (soap), α-sulfo fatty acid ester salts (MES), alkylbenzene sulfonates (ABS), linear alkylbenzene sulfonates (LAS), alkyl sulfates ( AS), alkyl ether sulfate (AES), low molecular weight anionic (anionic) compounds such as alkyl sulfate triethanol, fatty acid ethanolamide, polyoxyethylene alkyl ether (AE), polyoxyethylene alkyl phenyl ether ( APE), low molecular weight nonionic compounds such as sorbitol and sorbitan, low molecular weight cationic (cationic) compounds such as alkyltrimethylammonium salt, dialkyldimethylammonium chloride and alkylpyridinium chloride, and alkylcarboxyl Low molecular amphoteric compounds such as tin, sulfobetaine, lecithin, formalin condensate of naphthalene sulfonate, polystyrene sulfonate, polyacrylate, copolymer salt of vinyl compound and carboxylic acid monomer, carboxy Polymer aqueous dispersants such as methylcellulose and polyvinyl alcohol, polymer non-aqueous dispersants such as polyacrylic acid partial alkyl esters and polyalkylene polyamines, and polymer cationic dispersants such as polyethyleneimine and aminoalkyl methacrylate copolymers Etc.

上記の分散剤として市販の分散剤を使用することができる。例えば、三洋化成株式会社製のビューライトLCA−HやLCA−25NH、共栄社化学株式会社製のフローレンDOPA−15B、日本ルーブリゾール株式会社製のソルプラスAX5、ソルスパース9000、ソルシックス250、エフカアディディブズ社製のEFKA4008、味の素ファインテクノ株式会社製のアジスパーPA111、コグニクスジャパン株式会社製のTEXAPHOR−UV21、ビックケミー・ジャパン株式会社製のDisperBYK2020やBYK220S、楠本化成株式会社製のディスパロン1751NやハイプラッドED−152、株式会社ネオス製のFTX−207Sやフタージェント212P、東亞合成株式会社製のAS−1100、花王株式会社製のカオーセラ2000、KDH−154、MX−2045L、ホモゲノールL−18、レオドールSP−010V、第一工業製薬株式会社製のエパンU103、シアノールDC902B、ノイゲンEA−167、プライサーフA219B、DIC株式会社製のメガファックF−477、日信化学工業株式会社製のシルフェイスSAG503Aやダイノール604、サンノプコ株式会社製のSNスパーズ2180やSNレベラーS−906、AGCセイミケミカル社製のS−386などの市販の分散剤を使用することができる。   A commercially available dispersing agent can be used as said dispersing agent. For example, Viewlight LCA-H and LCA-25NH manufactured by Sanyo Kasei Co., Ltd., Floren DOPA-15B manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., Solplus AX5 manufactured by Nippon Lubrizol Co., Ltd., Solsperse 9000, Sol Six 250, Fuka Addy Dives EFKA4008 manufactured by Ajinomoto Co., Ltd., Ajisper PA111 manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd., TEXAPHOR-UV21 manufactured by Cognics Japan Co., Ltd. Neos FTX-207S and Footage 212P, Toagosei Co., Ltd. AS-1100, Kao Co., Ltd. Kaosela 2000, KDH-154, MX 2045L, Homogenol L-18, Rheodor SP-010V, Epan U103 manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., Cyanol DC902B, Neugen EA-167, Prisurf A219B, MegaFuck F-477 manufactured by DIC Corporation, Nissin Chemical Industry Commercially available dispersants such as Silface SAG503A and Dinol 604 manufactured by Sanyo Co., Ltd., SN Spurs 2180 and SN Leveler S-906 manufactured by Sannopco, and S-386 manufactured by AGC Seimi Chemical Co., Ltd. can be used.

分散剤の添加量は、金属成分に対して5質量%以下であるのが好ましく、3質量%以下であるのがさらに好ましく、2質量%以下であるのが最も好ましい。分散剤の添加量が5質量%より多いと、加熱時に分散剤を十分に除去することができなくなるとともに、熱硬化後の導電性に与える影響が大きくなるので好ましくない。一方、分散剤の添加量が少な過ぎると、特に銀微粒子同士が凝集してペースト中の分散が完全でなくなってしまうため、銀微粒子が銀粒子の隙間の部分に存在し難しくなって、熱硬化後の体積抵抗率が上昇してしまうので適当ではない。そのため、分散剤の添加量は、少なくとも0.5質量%程度添加するのが好ましい。   The addition amount of the dispersant is preferably 5% by mass or less, more preferably 3% by mass or less, and most preferably 2% by mass or less based on the metal component. When the amount of the dispersant added is more than 5% by mass, it is not preferable because the dispersant cannot be sufficiently removed during heating and the influence on the conductivity after thermosetting becomes large. On the other hand, if the amount of the dispersant added is too small, the silver fine particles will aggregate and the dispersion in the paste will not be complete, making it difficult for the silver fine particles to exist in the gaps between the silver particles, and heat curing. Since the volume resistivity later increases, it is not appropriate. Therefore, it is preferable to add at least about 0.5% by mass of the dispersant.

また、金属成分をバインダー樹脂および溶剤に分散させるために、適当な機械的分散処理を行ってもよい。この機械的分散処理には、粒子の著しい改質を伴わないという条件下において、超音波分散、ディスパー、三本ロールミル、ボールミル、ビーズミル、二軸ニーダー、自公転式攪拌機などを単独で、あるいは併用して使用することができる。   Further, in order to disperse the metal component in the binder resin and the solvent, an appropriate mechanical dispersion treatment may be performed. In this mechanical dispersion treatment, ultrasonic dispersion, disperser, three-roll mill, ball mill, bead mill, twin-screw kneader, self-revolving stirrer, etc. are used alone or in combination under the condition that there is no significant modification of particles. Can be used.

なお、銀微粒子または銀粒子が有機化合物で被覆されている場合には、銀微粒子または銀粒子の重量(有機化合物で被覆された銀微粒子または銀粒子中の銀の重量)は、有機化合物で被覆された銀微粒子または銀粒子(銀粉末)の重量に、有機化合物で被覆された銀微粒子または銀粒子中の銀の割合を示す値(係数)を乗じることによって得られる。これらの係数は、有機化合物で被覆された銀微粒子または銀粒子を大気中において500℃で加熱したときに有機化合物の重量が減少して最終的に有機化合物に被覆されていない銀微粒子または銀粒子になるとみなして、有機化合物で被覆された銀微粒子または銀粒子(銀粉末)10gを大気中において500℃で重量減少がなくなるまで加熱処理した後の重量を測定し、得られた重量を10で除すことによって、有機化合物で被覆された銀微粒子または銀粒子1g当りの銀微粒子または銀粒子の重量として得られる。   When silver fine particles or silver particles are coated with an organic compound, the weight of the silver fine particles or silver particles (silver fine particles coated with the organic compound or the weight of silver in the silver particles) is covered with the organic compound. It is obtained by multiplying the weight of the silver fine particles or silver particles (silver powder) by a value (coefficient) indicating the ratio of silver in the silver fine particles or silver particles coated with the organic compound. These coefficients indicate that when the silver fine particles or silver particles coated with the organic compound are heated in the atmosphere at 500 ° C., the weight of the organic compound is reduced and finally the silver fine particles or silver particles not coated with the organic compound As a result, the weight after heating 10 g of silver fine particles or silver particles (silver powder) coated with an organic compound at 500 ° C. until no weight loss occurs in the air is measured. By dividing, it is obtained as the weight of silver fine particles or silver particles per gram of silver fine particles or silver particles coated with an organic compound.

また、バインダー樹脂が固形分以外を含む場合には、バインダー樹脂の重量は、バインダー樹脂中の固形分の重量であり、固形分およびそれ以外を含むバインダー樹脂の重量に、固形分およびそれ以外を含むバインダー樹脂中の固形分の割合を示す値(係数)を乗じることによって得られる。   Further, when the binder resin contains other than the solid content, the weight of the binder resin is the weight of the solid content in the binder resin, and the weight of the binder resin including the solid content and the other includes the solid content and the other. It is obtained by multiplying the value (coefficient) indicating the ratio of the solid content in the binder resin to be included.

以下、本発明による導電性ペーストの実施例について詳細に説明する。   Hereinafter, the Example of the electrically conductive paste by this invention is described in detail.

[実施例1]
有機溶剤としてのテルピネオール(異性体混合物)12.5gに対して、バインダー樹脂としてのエポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン株式会社製の828XA、係数1.0)1.67gと、硬化剤としての3級アミン(味の素ファインテクノ株式会社製のMY−24)0.33gと、分散剤(味の素ファインテクノ株式会社製の高分子系顔料分散剤アジスパーPA111)0.20gを溶解させた。このようにして得られた溶液に、有機化合物としてヘキサン酸(炭素数6の直鎖脂肪酸)で被覆された平均一次粒子径14nmの銀微粒子(係数0.969)49.5g(銀として47.97g)を加え、10分間手攪拌して混合した後、平均粒径2.8μmのフレーク状の銀粒子(DOWAエレクトロニクス製、係数0.9962)49.5g(銀として49.31g)を加えて、さらに10分間攪拌した。この溶液に色ムラや粉の塊がないことを確認した後、この溶液を三本ロールミルに通し、混練脱泡を行って導電性ペーストを作製した。この導電性ペーストのF値は97.99になる。
[Example 1]
16.7 g of terpineol (isomer mixture) as an organic solvent, 1.67 g of epoxy resin (828XA manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., coefficient 1.0) as a binder resin, and tertiary amine as a curing agent 0.33 g (MY-24 manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.) and 0.20 g dispersant (polymer pigment dispersant Ajisper PA111 manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.) were dissolved. 49.5 g of silver fine particles (coefficient 0.969) having an average primary particle diameter of 14 nm coated with hexanoic acid (straight fatty acid having 6 carbon atoms) as an organic compound was added to the solution thus obtained (47. 97 g) and stirring for 10 minutes to mix, and then adding 49.5 g (49.31 g as silver) of flaky silver particles having an average particle size of 2.8 μm (manufactured by DOWA Electronics, coefficient 0.9962) The mixture was further stirred for 10 minutes. After confirming that this solution had no color unevenness or lump of powder, this solution was passed through a three-roll mill and kneaded and defoamed to produce a conductive paste. The F value of this conductive paste is 99.99.

このようにして作製した導電性ペーストを用いて配線を描画した配線の印刷性および密着性の評価を以下のように行うとともに、配線の体積抵抗率の算出を以下のように行った。なお、導電性ペーストの作製に使用した銀微粒子の平均一次粒子径および銀粒子の平均粒径の測定と、有機化合物で被覆された銀微粒子中の銀含有量の算出は以下のように行った。   Evaluation of the printability and adhesion of the wiring in which the wiring was drawn using the conductive paste thus produced was performed as follows, and the volume resistivity of the wiring was calculated as follows. In addition, the measurement of the average primary particle diameter of the silver fine particles used for preparation of the conductive paste and the average particle diameter of the silver particles, and the calculation of the silver content in the silver fine particles coated with the organic compound were performed as follows. .

(銀微粒子の平均一次粒子径の測定)
銀微粒子の平均一次粒子径は、透過型電子顕微鏡写真(TEM像)に基づいて以下のように測定した。
(Measurement of average primary particle size of silver fine particles)
The average primary particle diameter of the silver fine particles was measured as follows based on a transmission electron micrograph (TEM image).

まず、銀微粒子2質量%をシクロヘキサン96質量%とオレイン酸2質量%との混合溶液に添加し、超音波によって分散させた。この分散溶液を支持膜付きCuマイクログリッドに滴下して乾燥させることによってTEM測定用試料を作製した。このようにして作製したTEM測定用試料について、透過型電子顕微鏡(日本電子株式会社製のJEM−100CXMark−II型)を使用し、加速電圧を100kVとして明視野で銀微粒子を観察した像を倍率300,000倍で撮影した。   First, 2% by mass of silver fine particles were added to a mixed solution of 96% by mass of cyclohexane and 2% by mass of oleic acid, and dispersed by ultrasonic waves. The dispersion solution was dropped on a Cu microgrid with a support film and dried to prepare a sample for TEM measurement. Using the transmission electron microscope (JEM-100CXMark-II type, manufactured by JEOL Ltd.) and accelerating voltage of 100 kV, an image obtained by observing silver fine particles in a bright field is magnified. Taken at 300,000 times.

このようにして得られた300,000倍のTEM像に基づいて、画像解析ソフト(旭化成エンジニアリング株式会社製のA像くん(登録商標))を用いて、銀微粒子の平均一次粒子径を測定した。この画像解析ソフトは、色の濃淡で個々の粒子を識別するものであり、300,000倍のTEM像に対して、「粒子の明度」を「暗」、「雑音除去フィルタ」を「有」、「円形しきい値」を「20」、「重なり度」を「50」とする条件で、円形粒子解析を行って平均一次粒子径を測定した。なお、TEM像中に凝結粒子や異形粒子が多数ある場合は、測定不能であるとした。   Based on the 300,000-fold TEM image obtained in this way, the average primary particle diameter of the silver fine particles was measured using image analysis software (A image-kun (registered trademark) manufactured by Asahi Kasei Engineering Co., Ltd.). . This image analysis software identifies individual particles by color shading. For a 300,000-fold TEM image, the “particle brightness” is “dark” and the “noise removal filter” is “present”. The average primary particle size was measured by performing circular particle analysis under the condition that the “circular threshold” was “20” and the “overlapping degree” was “50”. In addition, when there were many condensed particles and irregular shaped particles in the TEM image, it was determined that measurement was impossible.

(有機化合物で被覆された銀微粒子中の銀含有量の算出)
有機化合物で被覆された銀微粒子中の銀含有量は、灰分測定用灰皿に試料(有機化合物で被覆された銀微粒子)を0.5g以上秤量し、マッフル炉(ヤマト科学株式会社製のFO310)において約10℃/分の速度で700℃まで昇温させて、銀微粒子の表面に存在する有機化合物を除去した後、自然放冷により炉内の温度が500℃以下になった段階で灰皿を取り出して、デシケーター内で常温まで冷却し、冷却後の試料の重量と加熱処理前の重量を比較することによって算出した。
(Calculation of silver content in silver fine particles coated with organic compounds)
The silver content in the silver fine particles coated with the organic compound was measured by weighing 0.5 g or more of the sample (silver fine particles coated with the organic compound) in an ash measuring ashtray, and a muffle furnace (FO310 manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd.). The temperature is raised to 700 ° C. at a rate of about 10 ° C./min to remove the organic compound present on the surface of the silver fine particles, and then the ashtray is removed when the temperature in the furnace becomes 500 ° C. or lower by natural cooling. The sample was taken out, cooled to room temperature in a desiccator, and calculated by comparing the weight of the sample after cooling with the weight before heat treatment.

(銀粒子の平均粒径の測定)
銀粒子の平均粒径の測定は、以下のようにレーザー回折法に基づいて行った。すなわち、銀粒子の試料0.3gをイソプロピルアルコール50mLに入れ、出力50Wの超音波洗浄器で5分間分散させた後、マイクロトラック粒度分布測定装置(ハネウエル−日機装製の9320−X100)によってレーザー回折法で測定した際のD50(累積50質量%粒径)の値を平均粒径とした。
(Measurement of average particle diameter of silver particles)
The average particle size of the silver particles was measured based on the laser diffraction method as follows. That is, 0.3 g of a silver particle sample was put in 50 mL of isopropyl alcohol, dispersed for 5 minutes with an ultrasonic cleaner with an output of 50 W, and then laser diffraction was performed by a microtrack particle size distribution measuring device (Honeywell-Nikkiso 9320-X100). The value of D 50 (cumulative 50% by mass particle size) when measured by the method was defined as the average particle size.

(配線の印刷性の評価)
作製した導電性ペーストを用いて、スクリーン印刷機(マイクロテック社製のMT−320T)による配線を描画した。この配線の描画では、ステンレス製の配線用スクリーン版(250メッシュ、乳剤厚10μm、ソノコム社製)を用いて、線幅300μmで線長42mmの配線と、線幅80μmで線長20mmの配線をガラス基板上に描画し、配線の印刷性の評価を行った。
(Evaluation of printability of wiring)
Wiring by a screen printer (MT-320T manufactured by Microtech Co., Ltd.) was drawn using the produced conductive paste. In this wiring drawing, a wiring screen plate made of stainless steel (250 mesh, emulsion thickness 10 μm, manufactured by Sonocom Co., Ltd.) was used, wiring with a line width of 300 μm and a line length of 42 mm, and wiring with a line width of 80 μm and a line length of 20 mm. Drawing on a glass substrate and evaluating the printability of the wiring.

この配線の印刷性の評価では、基板上に描画した配線をデジタルマイクロスコープ(株式会社キーエンス製のVHX−900)で拡大して、図1Aに示すようにかすれやにじみがない配線の印刷性を良好であると評価し、図1Bに示すように断線していないがかすれがある配線や、図1Cに示すように断線していないがにじみがある配線の印刷性を良好でないと評価し、図1Dに示すように断線している配線の印刷性を不良と評価した。その結果、本実施例では、線幅300μmの配線と線幅80μmの配線のいずれも印刷性が良好であった。   In the evaluation of the printability of the wiring, the wiring drawn on the substrate is enlarged with a digital microscope (VHX-900 manufactured by Keyence Corporation), and the printability of the wiring without blurring or blurring is obtained as shown in FIG. 1A. Evaluated as good, evaluated the printability of the wiring that is not disconnected but blurred as shown in FIG. 1B, and the wiring that is not disconnected but blurred as shown in FIG. As shown in 1D, the printability of the disconnected wiring was evaluated as poor. As a result, in this example, both the wiring with a line width of 300 μm and the wiring with a line width of 80 μm had good printability.

(配線の密着性の評価)
作製した導電性ペーストを用いて、上記と同様の方法で線幅300μmの配線を描画した基板を、オーブン(ヤマト科学株式会社製のDKM400)によって、大気中において200℃でそれぞれ30分間および60分間加熱して、サンプルを作製し、配線の密着性の評価を行った。
(Evaluation of wiring adhesion)
Using the produced conductive paste, a substrate on which a wiring having a line width of 300 μm was drawn in the same manner as described above was subjected to an oven (DKM400 manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd.) in the atmosphere at 200 ° C. for 30 minutes and 60 minutes, respectively. A sample was prepared by heating, and the adhesion of the wiring was evaluated.

この配線の密着性の評価では、基板上に形成された配線に幅24mmのセロハンテープ(ニチバン社製)を貼り付け、5kg重程度の荷重をかけた後、配線とセロハンテープの間の気泡がなくなるよう加重を擦過させることによって、気泡を除去してセロハンテープと基板を密着させ、その後、基板を固定してセロハンテープを持ち上げ、基板とテープの角度が約90度になるように注意しながら約0.6秒の速度で一気に引き剥がし、テープに配線の剥離が全く付着していない場合に密着性が良好であると評価し、エッジの一部のみが剥離している場合に密着性が良好でないと評価し、断線して線抵抗が測定できないほど剥離している場合に密着性が不良であると評価した。その結果、本実施例では、配線の密着性は良好であった。   In this wiring adhesion evaluation, a cellophane tape (made by Nichiban Co., Ltd.) with a width of 24 mm is attached to the wiring formed on the substrate, and after applying a load of about 5 kg, bubbles between the wiring and the cellophane tape are formed. By rubbing the weight so that it disappears, the bubbles are removed and the cellophane tape and the substrate are brought into close contact with each other. Then, the substrate is fixed and the cellophane tape is lifted, taking care that the angle between the substrate and the tape is about 90 degrees. Peel off at a speed of about 0.6 seconds, evaluate that the adhesion is good when there is no wiring peeling on the tape, and if only a part of the edge is peeling, the adhesion is It was evaluated that it was not good, and it was evaluated that the adhesion was poor when it was disconnected and peeled so that the line resistance could not be measured. As a result, in this example, the adhesion of the wiring was good.

(配線の体積抵抗率の算出)
作製した導電性ペーストを用いて、上記と同様の方法で線幅300μmの配線を描画した基板を、オーブン(ヤマト科学株式会社製のDKM400)によって、大気中において、120℃でそれぞれ10分間および60分間加熱したサンプルと、200℃でそれぞれ10分間および60分間加熱したサンプルを作製し、これらのサンプルを用いて配線の体積抵抗率を算出した。
(Calculation of volume resistivity of wiring)
Using the produced conductive paste, a substrate on which wiring having a line width of 300 μm was drawn in the same manner as described above was subjected to an oven (DKM400 manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd.) in the atmosphere at 120 ° C. for 10 minutes and 60 minutes, respectively. Samples heated for 10 minutes and samples heated at 200 ° C. for 10 minutes and 60 minutes, respectively, were prepared, and the volume resistivity of the wiring was calculated using these samples.

この配線の体積抵抗率の算出は、基板上に形成した配線の線抵抗をデジタルマルチメーター(日置電機株式会社製のミリオームハイテスタ)、配線の幅をデジタルマイクロスコープ(株式会社キーエンス製のVHX−900)、配線の厚みを表面粗度計(株式会社東京精密製のサーフコム1500D)で測定することによって行った。   For the calculation of the volume resistivity of the wiring, the wiring resistance of the wiring formed on the substrate is a digital multimeter (Miliohm Hitester manufactured by Hioki Electric Co., Ltd.), and the width of the wiring is a digital microscope (VHX manufactured by Keyence Corporation). 900), and measuring the thickness of the wiring with a surface roughness meter (Surfcom 1500D manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.).

その結果、120℃で10分間加熱したサンプルでは、配線の厚みが9.1μmで体積抵抗率は82.7μΩ・cmであり、このような低温で短時間加熱しただけでも、導電性を示すことがわかった。また、120℃で60分間加熱したサンプルでは、配線の厚みが9.7μmで体積抵抗率が89.9μΩ・cmであった。   As a result, the sample heated at 120 ° C. for 10 minutes has a wiring thickness of 9.1 μm and a volume resistivity of 82.7 μΩ · cm, and exhibits conductivity even when heated at such a low temperature for a short time. I understood. In the sample heated at 120 ° C. for 60 minutes, the wiring had a thickness of 9.7 μm and a volume resistivity of 89.9 μΩ · cm.

一方、200℃で10分間加熱したサンプルでは、配線の厚みが10.1μmで体積抵抗率は26.2μΩ・cmであった。また、200℃で60分間加熱したサンプルでは、配線の厚みが10.2μmで体積抵抗率は7.0μΩ・cmであり、極めて導電性の高い配線が得られた。   On the other hand, in the sample heated at 200 ° C. for 10 minutes, the wiring thickness was 10.1 μm and the volume resistivity was 26.2 μΩ · cm. Further, in the sample heated at 200 ° C. for 60 minutes, the thickness of the wiring was 10.2 μm and the volume resistivity was 7.0 μΩ · cm, and a highly conductive wiring was obtained.

[実施例2]
有機溶剤の量を16.4gとし、分散剤の量を0.48gとした以外は、実施例1と同様の方法により、導電性ペーストを作製した。この導電性ペーストのF値は97.99になる。
[Example 2]
A conductive paste was produced in the same manner as in Example 1 except that the amount of the organic solvent was 16.4 g and the amount of the dispersant was 0.48 g. The F value of this conductive paste is 99.99.

このようにして作製した導電性ペーストを用いて、実施例1と同様の方法により、配線を描画した配線の印刷性および密着性を評価するとともに、配線の体積抵抗率を算出した。   Using the conductive paste thus prepared, the printability and adhesion of the wiring on which the wiring was drawn were evaluated and the volume resistivity of the wiring was calculated by the same method as in Example 1.

その結果、線幅300μmの配線と線幅80μmの配線のいずれも印刷性が良好であり、配線の密着性も良好であった。   As a result, both the wiring with a line width of 300 μm and the wiring with a line width of 80 μm had good printability and good adhesion of the wiring.

また、120℃で10分間加熱したサンプルでは、配線の厚みが12.3μmで体積抵抗率は119.1μΩ・cmであり、このような低温で短時間加熱しただけでも、導電性を示すことがわかった。また、120℃で60分間加熱したサンプルでは、配線の厚みが9.8μmで体積抵抗率が86.4μΩ・cmであった。   In addition, the sample heated at 120 ° C. for 10 minutes has a wiring thickness of 12.3 μm and a volume resistivity of 119.1 μΩ · cm. Even if it is heated for a short time at such a low temperature, it exhibits conductivity. all right. In the sample heated at 120 ° C. for 60 minutes, the wiring had a thickness of 9.8 μm and a volume resistivity of 86.4 μΩ · cm.

一方、200℃で10分間加熱したサンプルでは、配線の厚みが8.0μmで体積抵抗率は14.2μΩ・cmであった。また、200℃で60分間加熱したサンプルでは、配線の厚みが9.3μmで体積抵抗率は6.1μΩ・cmであり、極めて導電性の高い配線が得られた。   On the other hand, in the sample heated at 200 ° C. for 10 minutes, the wiring thickness was 8.0 μm and the volume resistivity was 14.2 μΩ · cm. In the sample heated at 200 ° C. for 60 minutes, the wiring had a thickness of 9.3 μm and a volume resistivity of 6.1 μΩ · cm, and a highly conductive wiring was obtained.

[実施例3]
有機溶剤の量を11.8gとし、分散剤の量を0.96gとした以外は、実施例1と同様の方法により、導電性ペーストを作製した。この導電性ペーストのF値は97.99になる。
[Example 3]
A conductive paste was produced in the same manner as in Example 1 except that the amount of the organic solvent was 11.8 g and the amount of the dispersant was 0.96 g. The F value of this conductive paste is 99.99.

このようにして作製した導電性ペーストを用いて、実施例1と同様の方法により、配線を描画した配線の印刷性および密着性を評価するとともに、配線の体積抵抗率を算出した。   Using the conductive paste thus prepared, the printability and adhesion of the wiring on which the wiring was drawn were evaluated and the volume resistivity of the wiring was calculated by the same method as in Example 1.

その結果、線幅300μmの配線と線幅80μmの配線のいずれも印刷性が良好であり、配線の密着性も良好であった。   As a result, both the wiring with a line width of 300 μm and the wiring with a line width of 80 μm had good printability and good adhesion of the wiring.

また、120℃で10分間加熱したサンプルでは、配線の厚みが13.3μmで体積抵抗率は129.8μΩ・cmであり、このような低温で短時間加熱しただけでも、導電性を示すことがわかった。また、120℃で60分間加熱したサンプルでは、配線の厚みが12.4μmで体積抵抗率が93.1μΩ・cmであった。   In addition, the sample heated at 120 ° C. for 10 minutes has a wiring thickness of 13.3 μm and a volume resistivity of 129.8 μΩ · cm, and even when heated at such a low temperature for a short time, it exhibits conductivity. all right. In the sample heated at 120 ° C. for 60 minutes, the wiring had a thickness of 12.4 μm and a volume resistivity of 93.1 μΩ · cm.

一方、200℃で10分間加熱したサンプルでは、配線の厚みが12.0μmで体積抵抗率は46.0μΩ・cmであった。また、200℃で60分間加熱したサンプルでは、配線の厚みが11.5μmで体積抵抗率は6.8μΩ・cmであり、極めて導電性の高い配線が得られた。   On the other hand, in the sample heated at 200 ° C. for 10 minutes, the wiring thickness was 12.0 μm and the volume resistivity was 46.0 μΩ · cm. In the sample heated at 200 ° C. for 60 minutes, the thickness of the wiring was 11.5 μm and the volume resistivity was 6.8 μΩ · cm, and a highly conductive wiring was obtained.

[実施例4]
有機溶剤としてのテルピネオール1.2gに対して、バインダー樹脂としてのフェノール樹脂(ジャパンエポキシレジン株式会社製のPL4348、係数0.775)1.3g(固形分1.008g)と、分散剤(味の素ファインテクノ株式会社製の高分子系顔料分散剤アジスパーPA111)0.20gを溶解させた。このようにして得られた溶液に、有機化合物としてソルビン酸(炭素数6の不飽和脂肪酸)で被覆された平均一次粒子径61nmの銀微粒子10.0g(銀として9.86g)を加え、10分間手攪拌して混合した後、平均粒径2.8μmのフレーク状の銀粒子(DOWAエレクトロニクス製)10.0g(銀として9.96g)を加えて、さらに10分間攪拌した。この溶液に色ムラや粉の塊がないことを確認した後、この溶液を三本ロールミルに通し、混練脱泡を行って導電性ペーストを作製した。この導電性ペーストのF値は95.16になる。
[Example 4]
To 1.2 g of terpineol as an organic solvent, 1.3 g (solid content 1.008 g) of a phenol resin (PL4348, coefficient 0.775 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) as a binder resin and a dispersant (Ajinomoto Fine) 0.20 g of a polymer pigment dispersant Ajisper PA111) manufactured by Techno Co., Ltd. was dissolved. 10.0 g of silver fine particles having an average primary particle diameter of 61 nm (9.86 g as silver) coated with sorbic acid (unsaturated fatty acid having 6 carbon atoms) as an organic compound is added to the solution thus obtained. After mixing by hand stirring for a minute, 10.0 g (9.96 g as silver) of flaky silver particles (DOWA Electronics) having an average particle size of 2.8 μm was added, and the mixture was further stirred for 10 minutes. After confirming that this solution had no color unevenness or lump of powder, this solution was passed through a three-roll mill and kneaded and defoamed to produce a conductive paste. The F value of this conductive paste is 95.16.

このようにして作製した導電性ペーストを用いて、実施例1と同様の方法により、配線を描画した配線の印刷性および密着性を評価するとともに、配線の体積抵抗率を算出した。   Using the conductive paste thus prepared, the printability and adhesion of the wiring on which the wiring was drawn were evaluated and the volume resistivity of the wiring was calculated by the same method as in Example 1.

その結果、線幅300μmの配線と線幅80μmの配線のいずれも印刷性が良好であり、配線の密着性も良好であった。   As a result, both the wiring with a line width of 300 μm and the wiring with a line width of 80 μm had good printability and good adhesion of the wiring.

また、120℃で10分間加熱したサンプルでは、配線の厚みが15.0μmで体積抵抗率は185.9μΩ・cmであり、このような低温で短時間加熱しただけでも、導電性を示すことがわかった。また、120℃で60分間加熱したサンプルでは、配線の厚みが15.3μmで体積抵抗率が170.8μΩ・cmであった。   In addition, the sample heated at 120 ° C. for 10 minutes has a wiring thickness of 15.0 μm and a volume resistivity of 185.9 μΩ · cm, and even when heated at such a low temperature for a short time, it exhibits conductivity. all right. In the sample heated at 120 ° C. for 60 minutes, the wiring had a thickness of 15.3 μm and a volume resistivity of 170.8 μΩ · cm.

一方、200℃で10分間加熱したサンプルでは、配線の厚みが12.8μmで体積抵抗率は106.1μΩ・cmであった。また、200℃で60分間加熱したサンプルでは、配線の厚みが14.3μmで体積抵抗率は6.4μΩ・cmであり、極めて導電性の高い配線が得られた。   On the other hand, in the sample heated at 200 ° C. for 10 minutes, the wiring thickness was 12.8 μm and the volume resistivity was 106.1 μΩ · cm. In addition, in the sample heated at 200 ° C. for 60 minutes, the wiring thickness was 14.3 μm and the volume resistivity was 6.4 μΩ · cm, and a highly conductive wiring was obtained.

[実施例5]
有機溶剤の量を3.7g、フェノール樹脂の量を0.5g(固形分0.4g)とするとともに、有機化合物としてソルビン酸(炭素数6の不飽和脂肪酸)で被覆された平均一次粒子径61nmの銀微粒子の代わりに、有機化合物としてヘキサン酸(炭素数6の直鎖脂肪酸)で被覆された平均一次粒子径14nmの銀微粒子10.0g(銀として9.69g)を使用した以外は、実施例4と同様の方法により、導電性ペーストを作製した。この導電性ペーストのF値は97.99になる。
[Example 5]
Average primary particle diameter of 3.7 g of organic solvent, 0.5 g of phenol resin (solid content 0.4 g) and coated with sorbic acid (unsaturated fatty acid having 6 carbon atoms) as an organic compound Except for using silver fine particles 10.0 g (9.69 g as silver) having an average primary particle diameter of 14 nm coated with hexanoic acid (straight fatty acid having 6 carbon atoms) as an organic compound instead of 61 nm silver fine particles, A conductive paste was produced in the same manner as in Example 4. The F value of this conductive paste is 99.99.

このようにして作製した導電性ペーストを用いて、実施例1と同様の方法により、配線を描画した配線の印刷性および密着性を評価するとともに、配線の体積抵抗率を算出した。   Using the conductive paste thus prepared, the printability and adhesion of the wiring on which the wiring was drawn were evaluated and the volume resistivity of the wiring was calculated by the same method as in Example 1.

その結果、線幅300μmの配線と線幅80μmの配線のいずれも印刷性が良好であり、配線の密着性も良好であった。   As a result, both the wiring with a line width of 300 μm and the wiring with a line width of 80 μm had good printability and good adhesion of the wiring.

また、120℃で10分間加熱したサンプルでは、配線の厚みが11.9μmで体積抵抗率は103.0μΩ・cmであり、このような低温で短時間加熱しただけでも、導電性を示すことがわかった。また、120℃で60分間加熱したサンプルでは、配線の厚みが9.7μmで体積抵抗率が95.8μΩ・cmであった。   In addition, the sample heated at 120 ° C. for 10 minutes has a wiring thickness of 11.9 μm and a volume resistivity of 103.0 μΩ · cm, and even when heated at such a low temperature for a short time, it exhibits conductivity. all right. In the sample heated at 120 ° C. for 60 minutes, the wiring had a thickness of 9.7 μm and a volume resistivity of 95.8 μΩ · cm.

一方、200℃で10分間加熱したサンプルでは、配線の厚みが11.0μmで体積抵抗率は20.1μΩ・cmであった。また、200℃で60分間加熱したサンプルでは、配線の厚みが9.8μmで体積抵抗率は4.9μΩ・cmであり、極めて導電性の高い配線が得られた。   On the other hand, in the sample heated at 200 ° C. for 10 minutes, the wiring thickness was 11.0 μm and the volume resistivity was 20.1 μΩ · cm. In the sample heated at 200 ° C. for 60 minutes, the wiring had a thickness of 9.8 μm and a volume resistivity of 4.9 μΩ · cm, and a highly conductive wiring was obtained.

[比較例1]
有機溶剤の量を0.3g、フェノール樹脂の量を2.2g(固形分1.7g)とした以外は、実施例4と同様の方法により、導電性ペーストを作製した。この導電性ペーストのF値は91.98になる。
[Comparative Example 1]
A conductive paste was produced in the same manner as in Example 4 except that the amount of the organic solvent was 0.3 g and the amount of the phenol resin was 2.2 g (solid content: 1.7 g). The F value of this conductive paste is 91.98.

このようにして作製した導電性ペーストを用いて、実施例1と同様の方法により、配線を描画した配線の印刷性および密着性を評価するとともに、配線の体積抵抗率を算出した。   Using the conductive paste thus prepared, the printability and adhesion of the wiring on which the wiring was drawn were evaluated and the volume resistivity of the wiring was calculated by the same method as in Example 1.

その結果、線幅300μmの配線と線幅80μmの配線のいずれも印刷性が良好であり、配線の密着性も良好であった。   As a result, both the wiring with a line width of 300 μm and the wiring with a line width of 80 μm had good printability and good adhesion of the wiring.

しかし、120℃で10分間加熱したサンプルでは、配線の厚みが15.3μmで体積抵抗率が1110.1μΩ・cmと非常に高く、120℃で60分間加熱したサンプルでも、配線の厚みが14.3μmで体積抵抗率が854.9μΩ・cmと非常に高かった。   However, in the sample heated at 120 ° C. for 10 minutes, the wiring thickness is very high at 15.3 μm and the volume resistivity is 1110.1 μΩ · cm. Even in the sample heated at 120 ° C. for 60 minutes, the wiring thickness is 14. The volume resistivity at 3 μm was very high at 854.9 μΩ · cm.

一方、200℃で10分間加熱したサンプルでは、配線の厚みが15.5μmで体積抵抗率が294.3μΩ・cmと高く、200℃で60分間加熱したサンプルでは、配線の厚みが13.5μmで体積抵抗率が9.4μΩ・cmであった。   On the other hand, in the sample heated at 200 ° C. for 10 minutes, the wiring thickness was as high as 15.5 μm and the volume resistivity was 294.3 μΩ · cm, and in the sample heated at 200 ° C. for 60 minutes, the wiring thickness was 13.5 μm. The volume resistivity was 9.4 μΩ · cm.

[比較例2]
有機溶剤の量を5.7g、エポキシ樹脂の量を6.67g、硬化剤の量を1.33g、分散剤の量を0.23g、銀微粒子の量を46.5g(銀として45.06g)、銀粒子の量を46.5g(銀として46.32g)とした以外は、実施例1と同様の方法により、導電性ペーストを作製した。この導電性ペーストのF値は91.95になる。
[Comparative Example 2]
The amount of organic solvent is 5.7 g, the amount of epoxy resin is 6.67 g, the amount of curing agent is 1.33 g, the amount of dispersant is 0.23 g, the amount of silver fine particles is 46.5 g (45.06 g as silver) ), A conductive paste was produced in the same manner as in Example 1 except that the amount of silver particles was changed to 46.5 g (46.32 g as silver). The F value of this conductive paste is 91.95.

このようにして作製した導電性ペーストを用いて、実施例1と同様の方法により、配線を描画した配線の印刷性および密着性を評価するとともに、配線の体積抵抗率を算出した。   Using the conductive paste thus prepared, the printability and adhesion of the wiring on which the wiring was drawn were evaluated and the volume resistivity of the wiring was calculated by the same method as in Example 1.

その結果、線幅300μmの配線と線幅80μmの配線のいずれも印刷性が良好であり、配線の密着性も良好であった。   As a result, both the wiring with a line width of 300 μm and the wiring with a line width of 80 μm had good printability and good adhesion of the wiring.

しかし、120℃で10分間加熱したサンプルでは、配線の厚みが12.2μmで体積抵抗率が956.5μΩ・cmと非常に高く、120℃で60分間加熱したサンプルでも、配線の厚みが13.5μmで体積抵抗率が774.1μΩ・cmと非常に高かった。   However, the sample heated at 120 ° C. for 10 minutes has a very high wiring resistivity of 12.2 μm and a volume resistivity of 956.5 μΩ · cm, and the sample heated at 120 ° C. for 60 minutes has a wiring thickness of 13. The volume resistivity at 5 μm was very high at 774.1 μΩ · cm.

一方、200℃で10分間加熱したサンプルでは、配線の厚みが12.5μmで体積抵抗率が1721.8μΩ・cmと非常に高く、200℃で60分間加熱したサンプルでも、配線の厚みが10.9μmで体積抵抗率が408.9μΩ・cmと高かった。   On the other hand, the sample heated at 200 ° C. for 10 minutes has a very high wiring resistivity of 12.5 μm and a volume resistivity of 1721.8 μΩ · cm, and the sample heated at 200 ° C. for 60 minutes has a wiring thickness of 10. The volume resistivity was as high as 408.9 μΩ · cm at 9 μm.

[比較例3]
有機溶剤の量を9.2gとし、分散剤の量を0.45gとした以外は、比較例2と同様の方法により、導電性ペーストを作製した。この導電性ペーストのF値は91.95になる。
[Comparative Example 3]
A conductive paste was produced in the same manner as in Comparative Example 2 except that the amount of the organic solvent was 9.2 g and the amount of the dispersant was 0.45 g. The F value of this conductive paste is 91.95.

このようにして作製した導電性ペーストを用いて、実施例1と同様の方法により、配線を描画した配線の印刷性および密着性を評価するとともに、配線の体積抵抗率を算出した。   Using the conductive paste thus prepared, the printability and adhesion of the wiring on which the wiring was drawn were evaluated and the volume resistivity of the wiring was calculated by the same method as in Example 1.

その結果、線幅300μmの配線と線幅80μmの配線のいずれも印刷性が良好であり、配線の密着性も良好であった。   As a result, both the wiring with a line width of 300 μm and the wiring with a line width of 80 μm had good printability and good adhesion of the wiring.

しかし、120℃で10分間加熱したサンプルでは、配線の厚みが13.9μmで体積抵抗率が1870.7μΩ・cmと非常に高く、120℃で60分間加熱したサンプルでも、配線の厚みが12.4μmで体積抵抗率が722.7μΩ・cmと非常に高かった。   However, the sample heated at 120 ° C. for 10 minutes has a very high wiring resistivity of 13.9 μm and a volume resistivity of 1870.7 μΩ · cm, and the sample heated at 120 ° C. for 60 minutes has a wiring thickness of 12. The volume resistivity at 4 μm was very high at 722.7 μΩ · cm.

一方、200℃で10分間加熱したサンプルでは、配線の厚みが13.2μmで体積抵抗率が1743.6μΩ・cmと非常に高く、200℃で60分間加熱したサンプルでも、配線の厚みが11.5μmで体積抵抗率が662.3μΩ・cmと高かった。   On the other hand, in the sample heated at 200 ° C. for 10 minutes, the thickness of the wiring was 13.2 μm and the volume resistivity was very high as 1743.6 μΩ · cm, and even in the sample heated at 200 ° C. for 60 minutes, the wiring thickness was 11. The volume resistivity at 5 μm was as high as 662.3 μΩ · cm.

[比較例4]
有機溶剤の量を5.0gとし、分散剤の量を0.90gとした以外は、比較例2と同様の方法により、導電性ペーストを作製した。この導電性ペーストのF値は91.95になる。
[Comparative Example 4]
A conductive paste was prepared in the same manner as in Comparative Example 2 except that the amount of the organic solvent was 5.0 g and the amount of the dispersant was 0.90 g. The F value of this conductive paste is 91.95.

このようにして作製した導電性ペーストを用いて、実施例1と同様の方法により、配線を描画した配線の印刷性および密着性を評価するとともに、配線の体積抵抗率を算出した。   Using the conductive paste thus prepared, the printability and adhesion of the wiring on which the wiring was drawn were evaluated and the volume resistivity of the wiring was calculated by the same method as in Example 1.

その結果、線幅300μmの配線と線幅80μmの配線のいずれも印刷性が良好であり、配線の密着性も良好であった。   As a result, both the wiring with a line width of 300 μm and the wiring with a line width of 80 μm had good printability and good adhesion of the wiring.

しかし、120℃で10分間加熱したサンプルでは、配線の厚みが13.4μmで体積抵抗率が1245.2μΩ・cmと非常に高く、120℃で60分間加熱したサンプルでも、配線の厚みが14.5μmで体積抵抗率が624.3μΩ・cmと高かった。   However, the sample heated at 120 ° C. for 10 minutes has a very high wiring thickness of 13.4 μm and a volume resistivity of 1245.2 μΩ · cm, and the sample heated at 120 ° C. for 60 minutes has a wiring thickness of 14.4 μm. The volume resistivity was as high as 624.3 μΩ · cm at 5 μm.

一方、200℃で10分間加熱したサンプルでは、配線の厚みが14.3μmで体積抵抗率が1427.4μΩ・cmと非常に高く、200℃で60分間加熱したサンプルでも、配線の厚みが12.1μmで体積抵抗率が638.2μΩ・cmと高かった。   On the other hand, in the sample heated at 200 ° C. for 10 minutes, the thickness of the wiring was 14.3 μm and the volume resistivity was as high as 1427.4 μΩ · cm. Even in the sample heated at 200 ° C. for 60 minutes, the wiring thickness was 12. The volume resistivity was as high as 638.2 μΩ · cm at 1 μm.

実施例および比較例の導電性ペーストの製造条件を表1に示し、それらの導電性ペーストを用いて形成した配線の厚みおよび体積抵抗率を表2に示す。   Table 1 shows the manufacturing conditions of the conductive pastes of Examples and Comparative Examples, and Table 2 shows the thickness and volume resistivity of wirings formed using these conductive pastes.

Figure 0005547570
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Figure 0005547570
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表1および表2に示すように、実施例1〜5では、金属成分と、バインダー樹脂またはバインダー樹脂および硬化剤と、溶剤とを含み、金属成分が平均粒径0.5μm以上の銀粒子と平均一次粒子径10〜200nmの銀微粒子とからなる導電性ペーストにおいて、分散剤を加えるとともにF値を95より大きくすることにより、従来の導電性ペーストより低い温度(120℃)で加熱しても導電膜の配線を形成することができるとともに、従来の導電性ペーストより体積抵抗率が低く(10μΩ・cm以下の)非常に良好な導電性の導電膜の配線を形成することができ、且つ基板に対する密着性や印刷性に優れた導電性ペーストを得ることができる。   As shown in Table 1 and Table 2, in Examples 1 to 5, silver particles containing a metal component, a binder resin or a binder resin and a curing agent, and a solvent, the metal component having an average particle size of 0.5 μm or more In a conductive paste composed of silver fine particles having an average primary particle size of 10 to 200 nm, it can be heated at a lower temperature (120 ° C.) than a conventional conductive paste by adding a dispersant and making the F value greater than 95. The conductive film wiring can be formed, and the conductive film can be formed with a very good conductive film having a volume resistivity lower than that of the conventional conductive paste (10 μΩ · cm or less). A conductive paste excellent in adhesiveness and printability with respect to can be obtained.

本発明による導電性ペーストは、従来の導電性ペーストより低い温度で加熱しても導電膜の配線を形成することができるとともに、従来の導電性ペーストより体積抵抗率が低く非常に良好な導電性の導電膜の配線を形成することができ、且つ基板に対する密着性や印刷性に優れた導電性ペースト得ることができるので、小型電子機器の微細回路の形成や、電磁波シールドなどに利用することができる。   The conductive paste according to the present invention can form conductive film wiring even when heated at a lower temperature than the conventional conductive paste, and has a lower volume resistivity than the conventional conductive paste and very good conductivity. Can be formed, and a conductive paste having excellent adhesion and printability to a substrate can be obtained. Therefore, it can be used for forming a fine circuit of a small electronic device, an electromagnetic wave shield, and the like. it can.

Claims (12)

金属成分と、バインダー樹脂またはバインダー樹脂および硬化剤と、分散剤が添加された溶剤とを含み、金属成分が平均粒径0.5μm以上の銀粒子と平均一次粒子径10〜200nmの銀微粒子とからなり、金属成分とバインダー樹脂またはバインダー樹脂および硬化剤との総量に対する金属成分が95質量%より多いことを特徴とする、導電性ペースト。 Silver particles having a metal component, a binder resin or a binder resin and a curing agent, and a solvent to which a dispersant is added , wherein the metal component has an average particle size of 0.5 μm or more, and silver fine particles having an average primary particle size of 10 to 200 nm A conductive paste comprising a metal component and a binder resin or a binder resin or a binder resin and a curing agent, wherein the metal component is more than 95% by mass relative to the total amount. 金属成分と、バインダー樹脂またはバインダー樹脂および硬化剤と、溶剤とを含み、金属成分が平均粒径0.5μm以上の銀粒子と平均一次粒子径10〜200nmの銀微粒子とからなり、銀微粒子が有機化合物で被覆され、金属成分とバインダー樹脂またはバインダー樹脂および硬化剤との総量に対する金属成分が95質量%より多いことを特徴とする、導電性ペースト。 A metal component, a binder resin or a binder resin and a curing agent, and a solvent, wherein the metal component is composed of silver particles having an average particle diameter of 0.5 μm or more and silver fine particles having an average primary particle diameter of 10 to 200 nm. A conductive paste , characterized in that the metal component is coated with an organic compound and the metal component is more than 95% by mass relative to the total amount of the metal component and the binder resin or the binder resin and the curing agent . 前記有機化合物が脂肪酸であることを特徴とする、請求項に記載の導電性ペースト。 The conductive paste according to claim 2 , wherein the organic compound is a fatty acid. 前記有機化合物がカルボン酸であることを特徴とする、請求項に記載の導電性ペースト。 The conductive paste according to claim 2 , wherein the organic compound is a carboxylic acid. 前記有機化合物がソルビン酸であることを特徴とする、請求項に記載の導電性ペースト。 The conductive paste according to claim 2 , wherein the organic compound is sorbic acid. 前記溶剤が、分散剤が添加された溶剤であることを特徴とする、請求項2乃至5のいずれかに記載の導電性ペースト。 The conductive paste according to claim 2 , wherein the solvent is a solvent to which a dispersant is added. 前記導電性ペーストが、200℃で60分間加熱してバインダー樹脂を硬化させた後の体積抵抗率が10μΩ・cm以下の導電性ペーストであることを特徴とする、請求項1乃至6のいずれかに記載の導電性ペースト。 7. The conductive paste according to claim 1, wherein the conductive paste has a volume resistivity of 10 μΩ · cm or less after the binder resin is cured by heating at 200 ° C. for 60 minutes . The conductive paste described in 1. 前記銀粒子の平均粒径が0.5〜10μmであることを特徴とする、請求項1乃至のいずれかに記載の導電性ペースト。 Wherein the average particle diameter of the silver particles is 0.5 to 10 [mu] m, a conductive paste according to any one of claims 1 to 7. 前記金属成分中の前記銀微粒子の添加量が1〜70質量%であることを特徴とする、請求項1乃至のいずれかに記載の導電性ペースト。 The conductive paste according to any one of claims 1 to 8 , wherein an addition amount of the silver fine particles in the metal component is 1 to 70% by mass. 前記バインダー樹脂がフェノール樹脂であることを特徴とする、請求項1乃至9のいずれかに記載の導電性ペースト。 The conductive paste according to claim 1, wherein the binder resin is a phenol resin. 前記バインダー樹脂がエポキシ樹脂であり、前記導電性ペーストがさらに硬化剤を含むことを特徴とする、請求項1乃至9のいずれかに記載の導電性ペースト。 The conductive paste according to claim 1, wherein the binder resin is an epoxy resin, and the conductive paste further contains a curing agent. 前記溶剤が極性溶媒であることを特徴とする、請求項1乃至11のいずれかに記載の導電性ペースト。 The conductive paste according to claim 1, wherein the solvent is a polar solvent.
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