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JP5573723B2 - Antenna exchange method, antenna carrier system, and antenna carrier device - Google Patents
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JP5573723B2 - Antenna exchange method, antenna carrier system, and antenna carrier device - Google Patents

Antenna exchange method, antenna carrier system, and antenna carrier device Download PDF

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JP5573723B2 JP2011032873A JP2011032873A JP5573723B2 JP 5573723 B2 JP5573723 B2 JP 5573723B2 JP 2011032873 A JP2011032873 A JP 2011032873A JP 2011032873 A JP2011032873 A JP 2011032873A JP 5573723 B2 JP5573723 B2 JP 5573723B2
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Description

本発明は、真空チャンバ内でプラズマを発生させてフィルム基材表面に薄膜を生成するアレイアンテナ式プラズマCVD装置のアンテナ交換方法、アンテナ搬送システム、およびアンテナ搬送装置に関する。   The present invention relates to an antenna replacement method, an antenna transfer system, and an antenna transfer device for an array antenna type plasma CVD apparatus that generates plasma in a vacuum chamber to generate a thin film on the surface of a film substrate.

近年、軽量化、施工性、量産性を向上させるために、ガラス基板に換えて、樹脂性や金属性のフィルム基材に非結晶シリコン膜または微結晶シリコン膜などの薄膜を成膜するプラズマCVD装置が開発されている。このようなフィルム基材を成膜するプラズマCVD装置は、例えば、送出ローラと巻取ローラとの間に1組の電極を設けておき、送出ローラから送り出したフィルム基材を1組の電極の間に通過させて成膜を行っている(例えば、特許文献1)。   In recent years, plasma CVD that forms thin films such as amorphous silicon films or microcrystalline silicon films on resinous or metallic film substrates instead of glass substrates in order to improve weight reduction, workability, and mass productivity Equipment has been developed. In such a plasma CVD apparatus for forming a film substrate, for example, one set of electrodes is provided between a feed roller and a take-up roller, and the film substrate fed from the feed roller is used as one set of electrodes. The film formation is performed while passing between them (for example, Patent Document 1).

一方、特許文献2〜4に示されるアレイアンテナ式プラズマCVD装置が知られている。これらのアレイアンテナ式プラズマCVD装置は、内部を真空状態に減圧可能な真空チャンバを備えており、この真空チャンバの天井部に、高周波電源に電気的に接続された複数のコネクタが配設されている。また、真空チャンバ内には、複数本の電極棒を有するアレイアンテナユニットが設けられており、このアレイアンテナユニットの電極棒が、複数のコネクタそれぞれに接続されている。   On the other hand, an array antenna type plasma CVD apparatus disclosed in Patent Documents 2 to 4 is known. These array antenna type plasma CVD apparatuses include a vacuum chamber that can be evacuated to a vacuum state, and a plurality of connectors electrically connected to a high-frequency power source are disposed on the ceiling of the vacuum chamber. Yes. An array antenna unit having a plurality of electrode rods is provided in the vacuum chamber, and the electrode rods of the array antenna unit are connected to the plurality of connectors.

このようなアレイアンテナ式プラズマCVD装置でフィルム基材を成膜する場合、真空状態に減圧された真空チャンバ内に材料ガスを供給し、高周波電力が供給された電極棒と対向するようにフィルム基材を通過させる。これにより、真空雰囲気中にプラズマが発生するとともに、プラズマによって分解された材料ガスの成分がフィルム基材の表面に付着し、非結晶シリコン膜または微結晶シリコン膜などの薄膜がフィルム基材の表面に生成されることとなる。   When a film substrate is formed using such an array antenna type plasma CVD apparatus, a material gas is supplied into a vacuum chamber whose pressure is reduced to a vacuum state, and the film substrate is opposed to the electrode rod to which high-frequency power is supplied. Allow the material to pass through. As a result, plasma is generated in the vacuum atmosphere, the component of the material gas decomposed by the plasma adheres to the surface of the film substrate, and a thin film such as an amorphous silicon film or a microcrystalline silicon film is formed on the surface of the film substrate. Will be generated.

特開2010−121156号公報JP 2010-121156 A 特開2007−262541号公報JP 2007-262541 A 特開2003−86581号公報JP 2003-86581 A 特開2003−109798号公報JP 2003-109798 A

上記アレイアンテナ式プラズマCVD装置を利用してフィルム基材を効率よく成膜するために、送出ローラと巻取ローラとの間に、複数本の電極棒が設置された真空チャンバを複数設けておき、複数の真空チャンバ内にフィルム基材を通過させることで、所望する膜厚の薄膜をより短時間でフィルム基材に成膜することが考えられる。   In order to efficiently form a film substrate using the above array antenna type plasma CVD apparatus, a plurality of vacuum chambers in which a plurality of electrode rods are installed are provided between the feeding roller and the winding roller. It is conceivable to form a thin film having a desired film thickness on the film substrate in a shorter time by passing the film substrate through a plurality of vacuum chambers.

一方、上記アレイアンテナ式プラズマCVD装置においては、フィルム基材表面に薄膜を生成する成膜処理の過程で、電極棒の表面に皮膜が付着することから、アレイアンテナユニットを定期的にメンテナンスする必要がある。アレイアンテナユニットをメンテナンスする際には、真空チャンバを大気開放する必要があるが、成膜途中で真空チャンバを大気開放してしまうと、フィルム基材が汚染されてしまうため、1ロール分のフィルム基材の成膜が終了した後でないとアレイアンテナユニットをメンテナンスすることができない。そのため、複数の真空チャンバに設けられたアレイアンテナユニットを一度にメンテナンスしなければならず、メンテナンスに長時間を要してしまい、装置の稼働停止時間が長期化して稼働率が低下することがあった。   On the other hand, in the array antenna type plasma CVD apparatus, since the film adheres to the surface of the electrode rod in the process of forming a thin film on the surface of the film substrate, it is necessary to periodically maintain the array antenna unit. There is. When maintaining the array antenna unit, it is necessary to open the vacuum chamber to the atmosphere. However, if the vacuum chamber is opened to the atmosphere during film formation, the film base material will be contaminated. The array antenna unit cannot be maintained until after the film formation on the substrate is completed. For this reason, the array antenna units provided in a plurality of vacuum chambers must be maintained at the same time, which requires a long time for maintenance, prolonging the operation stop time of the apparatus and reducing the operation rate. It was.

ここで、フィルム基材を通過させる真空チャンバを少なくすればメンテナンスに要する時間を短くすることができるが、所望する膜厚に成膜するために、フィルム基材の送り出し速度を遅くしたり、フィルム基材を、真空チャンバ内を往復させたりする必要が生じる。結局、電極棒に付着する皮膜の量が多くなり、アレイアンテナユニットのメンテナンス周期が短くなってしまい、1メンテナンス周期で成膜できるフィルム基材の長さが制限されてしまう。   Here, if the number of vacuum chambers through which the film substrate passes is reduced, the time required for maintenance can be shortened. However, in order to form a film with a desired film thickness, the film substrate feed rate can be reduced, The substrate needs to reciprocate in the vacuum chamber. Eventually, the amount of the film adhering to the electrode rod increases, the maintenance cycle of the array antenna unit is shortened, and the length of the film substrate that can be formed in one maintenance cycle is limited.

本発明は、このような課題に鑑み、メンテナンス作業による装置の稼働停止時間を短縮することにより、装置の稼働率を向上することができるアンテナ交換方法、アンテナ搬送システム、およびアンテナ搬送装置を提供することを目的としている。   In view of the above problems, the present invention provides an antenna replacement method, an antenna transport system, and an antenna transport apparatus that can improve the operation rate of the apparatus by reducing the operation stop time of the apparatus due to maintenance work. The purpose is that.

上記課題を解決するために、本発明のアレイアンテナ式プラズマCVD装置のアンテナ交換方法は、真空状態に減圧可能な内部にガス供給源から材料ガスが供給される複数の真空チャンバと、前記複数の真空チャンバそれぞれに設けられ高周波電源に電気的に接続可能な複数のコネクタと、前記真空チャンバ内で前記複数のコネクタそれぞれに接続可能な複数本の電極棒を有し、前記電極棒がコネクタに接続された状態で前記高周波電源から電力供給されることによりプラズマを発生させるアレイアンテナユニットと、前記複数の真空チャンバを、該複数の真空チャンバそれぞれの1つの側面で連通させる基材搬送チャンバと、前記基材搬送チャンバの水平方向の一方の端部に設けられ、フィルム基材を送り出す送出ローラと、前記基材搬送チャンバの水平方向の他方の端部に設けられ、前記送出ローラが送り出したフィルム基材を巻き取る巻取ローラと、前記基材搬送チャンバにおいて、前記送出ローラと前記巻取ローラとの間に設けられ、前記フィルム基材の搬送を案内し、かつ、該フィルム基材に所定の張力をかけるための複数の搬送案内ローラと、前記複数の真空チャンバそれぞれに設けられ、前記搬送案内ローラ間を移動する前記フィルム基材と前記アレイアンテナユニットとが対向するように該フィルム基材を案内し、かつ、該フィルム基材に所定の張力をかけるための成膜案内ローラと、を備えたアレイアンテナ式プラズマCVD装置においてアレイアンテナユニットを交換するアレイアンテナ交換方法であって、前記複数の真空チャンバの内部および前記基材搬送チャンバの内部を真空状態に減圧する工程と、アンテナ搬送チャンバの内部を真空状態に減圧する工程と、前記アンテナ搬送チャンバと前記真空チャンバとを連結し、該アンテナ搬送チャンバと該真空チャンバとの内部を真空状態に維持したまま当該両チャンバを連通する工程と、前記真空チャンバから前記アレイアンテナユニットを取り外す工程と、取り外された前記アレイアンテナユニットを前記真空チャンバから前記アンテナ搬送チャンバに搬送する工程と、を含むことを特徴とする。   In order to solve the above-described problems, an antenna replacement method for an array antenna type plasma CVD apparatus according to the present invention includes a plurality of vacuum chambers in which a material gas is supplied from a gas supply source into an interior that can be decompressed to a vacuum state, Each of the vacuum chambers has a plurality of connectors that can be electrically connected to a high-frequency power source, and a plurality of electrode bars that can be connected to each of the plurality of connectors in the vacuum chamber, and the electrode bars are connected to the connectors. An array antenna unit that generates plasma by being supplied with electric power from the high-frequency power source in a state in which the plurality of vacuum chambers communicate with each other on one side surface of the plurality of vacuum chambers; A feed roller that is provided at one end in the horizontal direction of the substrate transport chamber and feeds the film substrate, and the substrate transport A winding roller provided at the other end in the horizontal direction of the chamber and winding up the film substrate sent out by the sending roller, and provided between the sending roller and the winding roller in the substrate transport chamber. A plurality of transport guide rollers for guiding the transport of the film base material and applying a predetermined tension to the film base material, and provided between each of the plurality of vacuum chambers and moving between the transport guide rollers. A film forming guide roller for guiding the film base so that the film base and the array antenna unit face each other and applying a predetermined tension to the film base; An array antenna exchange method for exchanging an array antenna unit in a plasma CVD apparatus, wherein the inside of the plurality of vacuum chambers and the substrate transport A step of depressurizing the interior of the chamber to a vacuum state, a step of depressurizing the interior of the antenna transfer chamber to a vacuum state, connecting the antenna transfer chamber and the vacuum chamber, and an interior of the antenna transfer chamber and the vacuum chamber. Communicating the two chambers while maintaining a vacuum state, removing the array antenna unit from the vacuum chamber, and transporting the removed array antenna unit from the vacuum chamber to the antenna transport chamber; , Including.

上記アンテナ交換方法は、前記アンテナ搬送チャンバの内部を真空状態に減圧する前に、該アンテナ搬送チャンバに新たなアレイアンテナユニットを収容しておき、前記取り外されたアレイアンテナユニットを前記真空チャンバから前記アンテナ搬送チャンバに搬送する前記工程に続いて、互いに真空状態を維持したまま内部が連通された前記両チャンバ間で、前記アンテナ搬送チャンバから前記真空チャンバに前記新たなアレイアンテナユニットを搬入する工程と、前記新たなアレイアンテナユニットの電極棒それぞれが、前記複数のコネクタに接続されるように該新たなアレイアンテナユニットを前記真空チャンバ内に掛け止めする工程と、を含んでもよい。   In the antenna replacement method, before the inside of the antenna transfer chamber is decompressed to a vacuum state, a new array antenna unit is accommodated in the antenna transfer chamber, and the removed array antenna unit is removed from the vacuum chamber. Subsequent to the step of transferring to the antenna transfer chamber, a step of transferring the new array antenna unit from the antenna transfer chamber to the vacuum chamber between the two chambers that communicate with each other while maintaining a vacuum state. And a step of latching the new array antenna unit in the vacuum chamber so that each electrode rod of the new array antenna unit is connected to the plurality of connectors.

上記課題を解決するために、本発明のアレイアンテナ式プラズマCVD装置のアンテナ搬送システムは、真空状態に減圧可能な内部にガス供給源から材料ガスが供給される複数の真空チャンバと、前記複数の真空チャンバそれぞれに設けられ高周波電源に電気的に接続可能な複数のコネクタと、前記真空チャンバ内で前記複数のコネクタそれぞれに接続可能な複数本の電極棒を有し、前記電極棒がコネクタに接続された状態で前記高周波電源から電力供給されることによりプラズマを発生させるアレイアンテナユニットと、前記複数の真空チャンバを、該複数の真空チャンバそれぞれの1つの側面で連通させる基材搬送チャンバと、前記基材搬送チャンバの水平方向の一方の端部に設けられ、フィルム基材を送り出す送出ローラと、前記基材搬送チャンバの水平方向の他方の端部に設けられ、前記送出ローラが送り出したフィルム基材を巻き取る巻取ローラと、前記基材搬送チャンバにおいて、前記送出ローラと前記巻取ローラとの間に設けられ、前記フィルム基材の搬送を案内し、かつ、該フィルム基材に所定の張力をかけるための複数の搬送案内ローラと、前記複数の真空チャンバそれぞれに設けられ、前記搬送案内ローラ間を移動する前記フィルム基材と前記アレイアンテナユニットとが対向するように該フィルム基材を案内し、かつ、該フィルム基材に所定の張力をかけるための成膜案内ローラと、前記アレイアンテナユニットを収容可能であって、内部を真空状態に維持したまま前記真空チャンバに連通可能なアンテナ搬送チャンバと、互いに真空状態を維持したまま内部が連通された前記アンテナ搬送チャンバおよび前記真空チャンバ間で、前記アレイアンテナユニットを往来可能とするアンテナ搬送手段と、前記アンテナ搬送手段によって前記真空チャンバ内に搬入された前記アレイアンテナユニットを着脱自在に掛け止めするアンテナ掛止手段と、を備えたことを特徴とする。   In order to solve the above-described problems, an antenna transfer system for an array antenna type plasma CVD apparatus according to the present invention includes a plurality of vacuum chambers in which a material gas is supplied from a gas supply source into an interior that can be decompressed to a vacuum state, Each of the vacuum chambers has a plurality of connectors that can be electrically connected to a high-frequency power source, and a plurality of electrode bars that can be connected to each of the plurality of connectors in the vacuum chamber, and the electrode bars are connected to the connectors. An array antenna unit that generates plasma by being supplied with electric power from the high-frequency power source in a state in which the plurality of vacuum chambers communicate with each other on one side surface of the plurality of vacuum chambers; A feed roller that is provided at one end in the horizontal direction of the substrate transport chamber and feeds the film substrate; A take-up roller which is provided at the other end in the horizontal direction of the feed chamber and winds up the film substrate sent out by the feed roller; and between the feed roller and the take-up roller in the substrate transport chamber A plurality of transport guide rollers for guiding the transport of the film base material and applying a predetermined tension to the film base material, and provided in each of the plurality of vacuum chambers, and between the transport guide rollers. A film forming guide roller for guiding the film base so that the moving film base and the array antenna unit face each other and applying a predetermined tension to the film base, and the array antenna unit An antenna transfer chamber that can be accommodated and communicated with the vacuum chamber while maintaining the interior in a vacuum state, Between the antenna transfer chamber and the vacuum chamber communicated with each other, the antenna transfer means for allowing the array antenna unit to travel between the antenna transfer chamber and the array antenna unit carried into the vacuum chamber by the antenna transfer means. And an antenna latching means for latching.

前記アンテナ搬送手段は、前記アンテナ搬送チャンバおよび前記真空チャンバに設けられたガイドレールと、前記ガイドレール上を転動可能であって前記アレイアンテナユニットに一体的あるいは着脱自在に設けられたガイドローラと、を含んでもよい。   The antenna transfer means includes a guide rail provided in the antenna transfer chamber and the vacuum chamber, and a guide roller that can roll on the guide rail and is provided integrally or detachably with the array antenna unit. , May be included.

上記課題を解決するために、本発明の他のアレイアンテナ式プラズマCVD装置のアンテナ交換方法は、真空状態に減圧可能な内部にガス供給源から材料ガスが供給される複数の真空チャンバと、前記複数の真空チャンバそれぞれに設けられ高周波電源に電気的に接続可能な複数のコネクタと、前記真空チャンバ内で前記複数のコネクタそれぞれに接続可能な複数本の電極棒を有し、前記電極棒がコネクタに接続された状態で前記高周波電源から電力供給されることによりプラズマを発生させるアレイアンテナユニットと、前記複数の真空チャンバを、該複数の真空チャンバそれぞれの1つの側面で連通させる基材搬送チャンバと、前記基材搬送チャンバの水平方向の一方の端部に設けられ、フィルム基材を送り出す送出ローラと、前記基材搬送チャンバの水平方向の他方の端部に設けられ、前記送出ローラが送り出したフィルム基材を巻き取る巻取ローラと、前記基材搬送チャンバにおいて、前記送出ローラと前記巻取ローラとの間に設けられ、前記フィルム基材の搬送を案内し、かつ、該フィルム基材に所定の張力をかけるための複数の搬送案内ローラと、前記複数の真空チャンバそれぞれに設けられ、前記搬送案内ローラ間を移動する前記フィルム基材と前記アレイアンテナユニットとが対向するように該フィルム基材を案内し、かつ、該フィルム基材に所定の張力をかけるための成膜案内ローラと、前記真空チャンバと前記基材搬送チャンバとの間で前記成膜案内ローラを移動させるローラ移動機構と、を備えたアレイアンテナ式プラズマCVD装置においてアレイアンテナユニットを交換するアレイアンテナ交換方法であって、前記複数の真空チャンバの内部および前記基材搬送チャンバの内部を真空状態に減圧する工程と、前記ローラ移動機構によって、真空状態を維持したまま連通された前記複数の真空チャンバのうちいずれか1または複数の真空チャンバから前記基材搬送チャンバに前記成膜案内ローラを移動させる工程と、真空状態を維持したまま、前記成膜案内ローラが前記基材搬送チャンバに移動された真空チャンバと、前記基材搬送チャンバとの連通を解除する工程と、前記成膜案内ローラが基材搬送チャンバに移動された真空チャンバから前記アレイアンテナユニットを取り外す工程と、を含むことを特徴とする。   In order to solve the above-described problems, another antenna antenna plasma CVD method for an array antenna plasma CVD apparatus of the present invention includes a plurality of vacuum chambers in which a material gas is supplied from a gas supply source into an interior that can be decompressed to a vacuum state, A plurality of connectors provided in each of the plurality of vacuum chambers and electrically connectable to a high-frequency power supply; and a plurality of electrode rods connectable to each of the plurality of connectors in the vacuum chamber, wherein the electrode rods are connectors An array antenna unit that generates plasma by being supplied with power from the high-frequency power source while being connected to a substrate, and a substrate transfer chamber that communicates the plurality of vacuum chambers with one side of each of the plurality of vacuum chambers; A feed roller that is provided at one end in the horizontal direction of the substrate transport chamber and feeds the film substrate; and the substrate A take-up roller which is provided at the other end in the horizontal direction of the feed chamber and winds up the film substrate sent out by the feed roller; and between the feed roller and the take-up roller in the substrate transport chamber A plurality of transport guide rollers for guiding the transport of the film base material and applying a predetermined tension to the film base material, and provided in each of the plurality of vacuum chambers, and between the transport guide rollers. A film forming guide roller for guiding the film base so that the moving film base and the array antenna unit face each other and applying a predetermined tension to the film base, the vacuum chamber, and the vacuum chamber An array antenna plasma CVD apparatus comprising: a roller moving mechanism for moving the film forming guide roller between the substrate conveying chamber and the substrate conveying chamber; An array antenna exchanging method for exchanging units, wherein the inside of the plurality of vacuum chambers and the inside of the substrate transport chamber are reduced in pressure to a vacuum state and communicated while maintaining the vacuum state by the roller moving mechanism. A step of moving the film forming guide roller from any one or more of the plurality of vacuum chambers to the base material transport chamber, and the film forming guide roller is configured to move the base material while maintaining a vacuum state. A step of releasing communication between the vacuum chamber moved to the transfer chamber and the substrate transfer chamber, a step of removing the array antenna unit from the vacuum chamber where the film formation guide roller is moved to the substrate transfer chamber, It is characterized by including.

上記アンテナ交換方法は、前記成膜案内ローラが基材搬送チャンバに移動された真空チャンバから前記アレイアンテナユニットを取り外す前記工程に続いて、前記成膜案内ローラが基材搬送チャンバに移動された真空チャンバに、新たなアレイアンテナユニットを搬入し、該新たなアレイアンテナユニットの電極棒それぞれが、前記複数のコネクタに接続されるように該新たなアレイアンテナユニットを該真空チャンバ内に掛け止めする工程と、前記新たなアレイアンテナユニットが掛け止めされた真空チャンバと前記基材搬送チャンバとの内部を真空状態に維持したまま当該両チャンバを連通する工程と、前記ローラ移動機構によって、前記基材搬送チャンバから前記新たなアレイアンテナユニットが掛け止めされた真空チャンバに前記成膜案内ローラを移動させる工程と、を含んでもよい。   In the antenna replacement method, following the step of removing the array antenna unit from the vacuum chamber in which the film formation guide roller has been moved to the substrate transfer chamber, the film formation guide roller has been moved to the substrate transfer chamber. A step of bringing a new array antenna unit into the chamber and latching the new array antenna unit in the vacuum chamber so that each electrode rod of the new array antenna unit is connected to the plurality of connectors. A step of communicating the two chambers while maintaining the inside of the vacuum chamber in which the new array antenna unit is hooked and the base material transport chamber in a vacuum state, and the base material transport by the roller moving mechanism. From the chamber to the vacuum chamber to which the new array antenna unit is hung, And moving the guide rollers may include.

上記課題を解決するために、本発明の他のアレイアンテナ式プラズマCVD装置のアンテナ搬送システムは、真空状態に減圧可能な内部にガス供給源から材料ガスが供給される複数の真空チャンバと、前記複数の真空チャンバそれぞれに設けられ高周波電源に電気的に接続可能な複数のコネクタと、前記真空チャンバ内で前記複数のコネクタそれぞれに接続可能な複数本の電極棒を有し、前記電極棒がコネクタに接続された状態で前記高周波電源から電力供給されることによりプラズマを発生させるアレイアンテナユニットと、前記複数の真空チャンバを、該複数の真空チャンバそれぞれの1つの側面で連通させる基材搬送チャンバと、前記基材搬送チャンバの水平方向の一方の端部に設けられ、フィルム基材を送り出す送出ローラと、前記基材搬送チャンバの水平方向の他方の端部に設けられ、前記送出ローラが送り出したフィルム基材を巻き取る巻取ローラと、前記基材搬送チャンバにおいて、前記送出ローラと前記巻取ローラとの間に設けられ、前記フィルム基材の搬送を案内し、かつ、該フィルム基材に所定の張力をかけるための複数の搬送案内ローラと、前記複数の真空チャンバそれぞれに設けられ、前記搬送案内ローラ間を移動する前記フィルム基材と前記アレイアンテナユニットとが対向するように該フィルム基材を案内し、かつ、該フィルム基材に所定の張力をかけるための成膜案内ローラと、前記真空チャンバと前記基材搬送チャンバとの間で前記成膜案内ローラを移動させるローラ移動機構と、前記真空チャンバ内に搬入された前記アレイアンテナユニットを着脱自在に掛け止めするアンテナ掛止手段と、を備えたことを特徴とする。   In order to solve the above-described problems, another antenna transfer system for an array antenna type plasma CVD apparatus according to the present invention includes a plurality of vacuum chambers in which a material gas is supplied from a gas supply source into an interior that can be decompressed to a vacuum state, A plurality of connectors provided in each of the plurality of vacuum chambers and electrically connectable to a high-frequency power supply; and a plurality of electrode rods connectable to each of the plurality of connectors in the vacuum chamber, wherein the electrode rods are connectors An array antenna unit that generates plasma by being supplied with power from the high-frequency power source while being connected to a substrate, and a substrate transfer chamber that communicates the plurality of vacuum chambers with one side of each of the plurality of vacuum chambers; A feed roller that is provided at one end in the horizontal direction of the base material transport chamber and feeds the film base material; A take-up roller that is provided at the other end in the horizontal direction of the material transport chamber and winds up the film base material sent out by the feed roller; and between the feed roller and the take-up roller in the base material transport chamber. A plurality of transport guide rollers for guiding the transport of the film base material and applying a predetermined tension to the film base material, and provided between each of the plurality of vacuum chambers, and between the transport guide rollers A film forming guide roller for guiding the film base so that the film base and the array antenna unit moving on the surface face each other, and applying a predetermined tension to the film base, and the vacuum chamber A roller moving mechanism for moving the film forming guide roller between the substrate transport chamber and the array antenna unit carried into the vacuum chamber; An antenna latching means for hooked detachably, characterized by comprising a.

上記課題を解決するために、本発明のアンテナ搬送装置は、真空状態に減圧可能な内部にガス供給源から材料ガスが供給される複数の真空チャンバと、前記複数の真空チャンバそれぞれに設けられ高周波電源に電気的に接続可能な複数のコネクタと、前記真空チャンバ内で前記複数のコネクタそれぞれに接続可能な複数本の電極棒を有し、前記電極棒がコネクタに接続された状態で前記高周波電源から電力供給されることによりプラズマを発生させるアレイアンテナユニットと、前記複数の真空チャンバを、該複数の真空チャンバそれぞれの1つの側面で連通させる基材搬送チャンバと、前記基材搬送チャンバの水平方向の一の端部に設けられ、フィルム基材を送り出す送出ローラと、前記基材搬送チャンバの水平方向の他方の端部に設けられ、前記送出ローラが送り出したフィルム基材を巻き取る巻取ローラと、前記基材搬送チャンバにおいて、前記送出ローラと前記巻取ローラとの間に設けられ、前記フィルム基材の搬送を案内し、かつ、該フィルム基材に所定の張力をかけるための複数の搬送案内ローラと、前記複数の真空チャンバそれぞれに設けられ、前記搬送案内ローラ間を移動する前記フィルム基材と前記アレイアンテナユニットとが対向するように該フィルム基材を案内し、かつ、該フィルム基材に所定の張力をかけるための成膜案内ローラと、前記真空チャンバ内に搬入された前記アレイアンテナユニットを着脱自在に掛け止めするアンテナ掛止手段と、を備えるアレイアンテナ式プラズマCVD装置に連結されるアンテナ搬送装置であって、前記アレイアンテナユニットを収容可能であって、真空状態を維持したまま前記真空チャンバと連通可能なアンテナ搬送チャンバと、互いに真空状態を維持したまま内部が連通された前記アンテナ搬送チャンバおよび前記真空チャンバ間で、前記アレイアンテナユニットを往来可能とするアンテナ搬送手段と、を備え、前記アンテナ掛止手段は、前記アンテナ搬送手段によって前記真空チャンバ内に搬入された前記アレイアンテナユニットを着脱自在に掛け止めすることを特徴とする。
前記アンテナ搬送手段は、前記アンテナ搬送チャンバおよび前記真空チャンバに設けられたガイドレールと、前記ガイドレール上を転動可能であって前記アレイアンテナユニットに一体的あるいは着脱自在に設けられたガイドローラと、を含んでもよい。
In order to solve the above-described problems, an antenna carrier device according to the present invention includes a plurality of vacuum chambers in which a material gas is supplied from a gas supply source in an interior that can be decompressed to a vacuum state, and a high frequency provided in each of the plurality of vacuum chambers A plurality of connectors electrically connectable to a power supply; and a plurality of electrode bars connectable to each of the plurality of connectors in the vacuum chamber; and the high frequency power supply in a state where the electrode bars are connected to the connectors An array antenna unit that generates plasma by being supplied with electric power, a substrate transport chamber that communicates the plurality of vacuum chambers with one side of each of the plurality of vacuum chambers, and a horizontal direction of the substrate transport chamber A feed roller that feeds the film substrate, and a horizontal end of the substrate transport chamber. A take-up roller that winds up the film substrate sent out by the feed roller, and the base material transport chamber, and is provided between the feed roller and the take-up roller to guide the transport of the film base material, And a plurality of transport guide rollers for applying a predetermined tension to the film base, and the film base and the array antenna unit provided between each of the plurality of vacuum chambers and moving between the transport guide rollers. A film forming guide roller for guiding the film base so as to face each other and applying a predetermined tension to the film base, and the array antenna unit carried into the vacuum chamber are detachably latched. An antenna carrying device coupled to an array antenna type plasma CVD apparatus, the array antenna comprising: An antenna transfer chamber that can accommodate a knit and can communicate with the vacuum chamber while maintaining a vacuum state, and the antenna transfer chamber and the vacuum chamber that communicate with each other while maintaining a vacuum state. An antenna carrier unit that allows the array antenna unit to come and go, wherein the antenna latch unit detachably latches the array antenna unit carried into the vacuum chamber by the antenna carrier unit. And
The antenna transfer means includes a guide rail provided in the antenna transfer chamber and the vacuum chamber, and a guide roller that can roll on the guide rail and is provided integrally or detachably with the array antenna unit. , May be included.

本発明によれば、メンテナンス作業による装置の稼働停止時間を短縮することにより、装置の稼働率を向上することができる。   According to the present invention, the operating rate of the apparatus can be improved by shortening the operation stop time of the apparatus due to the maintenance work.

第1の実施形態にかかるアレイアンテナ式プラズマCVD装置のアンテナ搬送システムの構成を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the structure of the antenna conveyance system of the array antenna type plasma CVD apparatus concerning 1st Embodiment. 真空チャンバの正面側を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the front side of a vacuum chamber. 真空チャンバの背面側を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the back side of a vacuum chamber. 真空チャンバの正面側の断面を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the cross section of the front side of a vacuum chamber. 真空チャンバの右側面図である。It is a right view of a vacuum chamber. アレイアンテナユニットの斜視図である。It is a perspective view of an array antenna unit. 図6の部分拡大図である。It is the elements on larger scale of FIG. (a)は図7のVII(a)−VII(a)線断面図、(b)は図7のVII(b)−VII(b)線断面図である。(A) is the VII (a) -VII (a) sectional view taken on the line of FIG. 7, (b) is the VII (b) -VII (b) sectional view taken on the line of FIG. (a)は図7の上面図、(b)は第1アンテナ側コネクタの斜視図である。(A) is a top view of FIG. 7, (b) is a perspective view of a first antenna side connector. アレイアンテナユニットが掛け止められた状態の真空チャンバの正面側断面図である。It is front sectional drawing of the vacuum chamber of the state by which the array antenna unit was latched. アレイアンテナユニットが掛け止められた状態の真空チャンバの右側面図である。It is a right view of the vacuum chamber in the state where the array antenna unit is hooked. (a)はアンテナ搬送体の斜視図、(b)は(a)の一点鎖線部分の拡大図である。(A) is a perspective view of an antenna carrier, and (b) is an enlarged view of an alternate long and short dash line portion of (a). 図12(b)の部分拡大図である。It is the elements on larger scale of FIG.12 (b). アンテナ搬送体にアレイアンテナユニットが保持されたときの、調整部材とアレイアンテナユニットとの関係を説明する図である。It is a figure explaining the relationship between an adjustment member and an array antenna unit when an array antenna unit is hold | maintained at the antenna conveyance body. アレイアンテナユニットがアンテナ搬送体に保持された状態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the state by which the array antenna unit was hold | maintained at the antenna carrier. 真空チャンバ内にアレイアンテナユニットを掛け止める過程を説明する図である。It is a figure explaining the process which latches an array antenna unit in a vacuum chamber. アンテナ搬送体を搬出する過程を説明する概念図である。It is a conceptual diagram explaining the process of carrying out an antenna carrier. アンテナ搬送体の搬送過程を説明する図である。It is a figure explaining the conveyance process of an antenna carrier. アンテナ搬送体の搬送過程を説明する図である。It is a figure explaining the conveyance process of an antenna carrier. アンテナ搬送チャンバの変形例を説明する概念図である。It is a conceptual diagram explaining the modification of an antenna conveyance chamber. アンテナ搬送チャンバの変形例を説明する概念図である。It is a conceptual diagram explaining the modification of an antenna conveyance chamber. アンテナ搬送チャンバの変形例を説明する概念図である。It is a conceptual diagram explaining the modification of an antenna conveyance chamber. アンテナ搬送手段の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of an antenna conveyance means. 第2の実施形態にかかるアレイアンテナ式プラズマCVD装置のアンテナ搬送システムの構成を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the structure of the antenna conveyance system of the array antenna type plasma CVD apparatus concerning 2nd Embodiment. 成膜案内ローラの移動過程を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the movement process of the film-forming guide roller. 成膜案内ローラの移動過程を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the movement process of the film-forming guide roller.

以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。かかる実施形態に示す寸法、材料、その他具体的な数値等は、発明の理解を容易とするための例示にすぎず、特に断る場合を除き、本発明を限定するものではない。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能、構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略し、また本発明に直接関係のない要素は図示を省略する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The dimensions, materials, and other specific numerical values shown in the embodiments are merely examples for facilitating the understanding of the invention, and do not limit the present invention unless otherwise specified. In the present specification and drawings, elements having substantially the same function and configuration are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted, and elements not directly related to the present invention are not illustrated. To do.

(第1の実施形態:アンテナ搬送システム100)
図1は、本実施形態にかかるアレイアンテナ式プラズマCVD装置のアンテナ搬送システム100の構成を説明するための説明図である。図1に示すように、アンテナ搬送システム100は、真空チャンバ1と、アレイアンテナユニット30と、基材搬送チャンバ150と、アンテナ搬送手段としてのアンテナ搬送体70と、アンテナ搬送チャンバ200とを含んで構成される。以下、真空チャンバ1、アレイアンテナユニット30、基材搬送チャンバ150、アンテナ搬送体70、アンテナ搬送チャンバ200の各構成について詳述する。
(First embodiment: antenna carrier system 100)
FIG. 1 is an explanatory diagram for explaining a configuration of an antenna transfer system 100 of an array antenna type plasma CVD apparatus according to the present embodiment. As shown in FIG. 1, the antenna transfer system 100 includes a vacuum chamber 1, an array antenna unit 30, a substrate transfer chamber 150, an antenna transfer body 70 as an antenna transfer means, and an antenna transfer chamber 200. Composed. Hereinafter, each structure of the vacuum chamber 1, the array antenna unit 30, the base material transfer chamber 150, the antenna transfer body 70, and the antenna transfer chamber 200 will be described in detail.

(真空チャンバの構成)
まず、図2〜図5を用いて、本実施形態のアレイアンテナ式(誘導結合型)プラズマCVD装置の真空チャンバの構造について説明する。図2は、真空チャンバの正面側を示す斜視図、図3は、真空チャンバの背面側を示す斜視図である。
(Configuration of vacuum chamber)
First, the structure of the vacuum chamber of the array antenna type (inductively coupled) plasma CVD apparatus according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 2 is a perspective view showing the front side of the vacuum chamber, and FIG. 3 is a perspective view showing the back side of the vacuum chamber.

図2および図3に示すように、真空チャンバ1は、筐体2を備えて構成されている。この筐体2は、図中y方向に対面配置された天井部2aおよび底面部2bと、図中x方向に対面配置された右側面部2cおよび左側面部2dと、図中z方向に対面配置された正面部2eおよび背面部2fと、を備えている。以下では、天井部2a側を真空チャンバ1の上方または上面とし、右側面部2c側を真空チャンバ1の右方または右側面とし、左側面部2d側を真空チャンバ1の左方または左側面として説明する。   As shown in FIGS. 2 and 3, the vacuum chamber 1 includes a housing 2. The housing 2 is arranged facing the ceiling 2a and the bottom 2b facing in the y direction in the figure, the right side 2c and the left side 2d facing in the x direction in the figure, and in the z direction in the figure. A front part 2e and a back part 2f. In the following description, the ceiling 2a side is defined as the upper or upper surface of the vacuum chamber 1, the right side 2c side is defined as the right or right side of the vacuum chamber 1, and the left side 2d side is defined as the left or left side of the vacuum chamber 1. .

正面部2eおよび背面部2fには、それぞれフロント開口部3およびリヤ開口部4が形成されており、これらフロント開口部3およびリヤ開口部4を開閉するフロント開閉扉5およびリヤ開閉扉6がそれぞれ設けられている。また、右側面部2cには右開口部7が形成されており、左側面部2dには左開口部9が形成されている。詳しくは後述するが、この左開口部9は、ゲートバルブ151を介して基材搬送チャンバ150に連結可能となっており、また、右開口部7は、ゲートバルブ201を介してアンテナ搬送チャンバ200に連結可能となっている(図1参照)。   A front opening 3 and a rear opening 4 are formed in the front part 2e and the back part 2f, respectively. A front opening / closing door 5 and a rear opening / closing door 6 for opening and closing the front opening 3 and the rear opening 4 are respectively provided. Is provided. A right opening 7 is formed in the right side 2c, and a left opening 9 is formed in the left side 2d. As will be described in detail later, the left opening 9 can be connected to the substrate transfer chamber 150 via a gate valve 151, and the right opening 7 can be connected to the antenna transfer chamber 200 via a gate valve 201. (See FIG. 1).

また、天井部2aには、2列のコネクタ群11a、11bが設けられている。これらコネクタ群11a、11bは、複数のコネクタが図中x方向に沿って直列配置されたものであり、図中z方向に所定の間隔を維持している。   The ceiling portion 2a is provided with two rows of connector groups 11a and 11b. In the connector groups 11a and 11b, a plurality of connectors are arranged in series along the x direction in the figure, and a predetermined interval is maintained in the z direction in the figure.

図4は、真空チャンバ1の正面側の断面を模式的に示す図である。この図に示すように、コネクタ群11aは、高周波電力を供給する高周波電源12の供給側(非接地側)に電気的に接続された第1天井側コネクタ13と、高周波電源12の接地側に電気的に接続された第2天井側コネクタ14と、が所定の間隔を維持して交互に設けられている。これら第1天井側コネクタ13および第2天井側コネクタ14は、その接続部が鉛直方向下方(底面部2b)に向けられており、後述するアレイアンテナユニット30の電極棒が、鉛直方向下方から上方に向かって接続可能なように配置されている。   FIG. 4 is a diagram schematically showing a cross section of the front side of the vacuum chamber 1. As shown in this figure, the connector group 11 a includes a first ceiling-side connector 13 electrically connected to a supply side (non-grounded side) of a high-frequency power source 12 that supplies high-frequency power, and a ground side of the high-frequency power source 12. The second ceiling-side connectors 14 that are electrically connected are alternately provided while maintaining a predetermined interval. The first ceiling side connector 13 and the second ceiling side connector 14 have their connecting portions directed downward in the vertical direction (bottom surface portion 2b), and electrode rods of an array antenna unit 30 described later are directed upward from the lower side in the vertical direction. It is arranged so that it can be connected toward.

また、詳しくは後述するが、第2天井側コネクタ14にはガス供給源15が接続されており、このガス供給源15から供給される材料ガスが、第2天井側コネクタ14に接続されたアレイアンテナユニット30の電極棒から真空チャンバ1内に噴出可能となっている。なお、ここではコネクタ群11aについて説明したが、コネクタ群11bも上記と同様の構成となっている。さらに、筐体2の天井部2aには真空ポンプ16が接続されており、内部空間10を密閉した状態で真空ポンプ16を駆動することにより、真空チャンバ1内が真空状態に減圧可能となっている。   As will be described in detail later, a gas supply source 15 is connected to the second ceiling-side connector 14, and the material gas supplied from the gas supply source 15 is connected to the second ceiling-side connector 14. It can be ejected from the electrode rod of the antenna unit 30 into the vacuum chamber 1. Although the connector group 11a has been described here, the connector group 11b has the same configuration as described above. Further, a vacuum pump 16 is connected to the ceiling 2a of the housing 2, and the vacuum chamber 1 can be decompressed to a vacuum state by driving the vacuum pump 16 with the internal space 10 sealed. Yes.

また、筐体2の底面部2bには、右側面部2cから左側面部2dまで図中x方向に沿って延在するガイドレール17が設けられている。図5は、真空チャンバ1の右側面図であるが、この図に示すように、ガイドレール17は、正面部2e近傍と背面部2f近傍とにそれぞれ設けられており、したがって、図中z方向に間隔を維持して一対配置されることとなる。これら一対のガイドレール17は、アレイアンテナユニット30を真空チャンバ1内に搬入したり、あるいは真空チャンバ1内から搬出したりする際の案内として機能するものである。   In addition, a guide rail 17 extending along the x direction in the drawing is provided on the bottom surface portion 2b of the housing 2 from the right side surface portion 2c to the left side surface portion 2d. FIG. 5 is a right side view of the vacuum chamber 1. As shown in this figure, the guide rails 17 are provided in the vicinity of the front portion 2e and in the vicinity of the back portion 2f, and accordingly, in the z direction in the drawing. Thus, a pair is arranged with the interval maintained. The pair of guide rails 17 function as a guide when the array antenna unit 30 is carried into or out of the vacuum chamber 1.

さらに、図4に示すように、筐体2の右側面部2c側の底面部2bには、成膜案内ローラ20が設けられている。図5は、真空チャンバ1の右側面図であるが、この図に示すように、成膜案内ローラ20(図5中、20a、20b、20cで示す)は、図中z方向に沿って直列配置されている。これら成膜案内ローラ20は、アレイアンテナユニット30に対向するように、後述する搬送案内ローラ164間を移動するフィルム基材を案内し、かつ、フィルム基材に所定の張力をかけるものである。   Further, as shown in FIG. 4, a film forming guide roller 20 is provided on the bottom surface portion 2 b on the right side surface portion 2 c side of the housing 2. FIG. 5 is a right side view of the vacuum chamber 1. As shown in this figure, the film forming guide rollers 20 (indicated by 20a, 20b, and 20c in FIG. 5) are arranged in series along the z direction in the figure. Has been placed. These film forming guide rollers 20 guide a film base that moves between conveyance guide rollers 164 described later so as to face the array antenna unit 30 and apply a predetermined tension to the film base.

(アレイアンテナユニットの構成)
次に、図6〜図9を用いてアレイアンテナユニットの構成について説明する。図6は、アレイアンテナユニット30の斜視図であり、図7は、図6の部分拡大図である。これらの図に示すように、アレイアンテナユニット30は、アンテナ支持部材31を備えており、このアンテナ支持部材31に複数本の誘導結合型電極50が支持されている。
(Configuration of array antenna unit)
Next, the configuration of the array antenna unit will be described with reference to FIGS. 6 is a perspective view of the array antenna unit 30, and FIG. 7 is a partially enlarged view of FIG. As shown in these drawings, the array antenna unit 30 includes an antenna support member 31, and a plurality of inductively coupled electrodes 50 are supported on the antenna support member 31.

この誘導結合型電極50は、第1電極棒51と第2電極棒52とが、接続金具53によって電気的に接続されたアンテナ素子であり、アンテナ支持部材31の長手方向に沿って複数本支持されている。具体的には、両電極棒51、52は、その長手方向に直交する方向に所定の間隔を維持して交互に直列配置された状態で、その上端部がアンテナ支持部材31に支持されている。これにより、両電極棒51、52は、それらの長手方向を鉛直方向に沿わせた状態で、アンテナ支持部材31に垂下支持されることとなる。   This inductively coupled electrode 50 is an antenna element in which a first electrode bar 51 and a second electrode bar 52 are electrically connected by a connection fitting 53, and a plurality of inductive coupling electrodes 50 are supported along the longitudinal direction of the antenna support member 31. Has been. Specifically, the upper ends of the electrode rods 51 and 52 are supported by the antenna support member 31 in a state where the electrode rods 51 and 52 are alternately arranged in series while maintaining a predetermined interval in a direction orthogonal to the longitudinal direction. . Thereby, both the electrode rods 51 and 52 are suspended and supported by the antenna support member 31 in a state in which their longitudinal directions are along the vertical direction.

図8(a)は、図7のVII(a)−VII(a)線断面図であり、図8(b)は、図7のVII(b)−VII(b)線断面図である。これらの図に示すように、アンテナ支持部材31は、断面U字形の部材によって構成されており、その開口を鉛直方向下方に臨ませている。このアンテナ支持部材31は、図8(b)からも明らかなように、その幅方向中央にアンテナ支持孔32が形成されている。このアンテナ支持孔32は、図8(a)および図9(a)に示すとおり、アンテナ支持部材31の長手方向に沿って形成される長孔形状をなしており、このアンテナ支持孔32に、第1電極棒51および第2電極棒52が交互に垂下支持されている。   8A is a cross-sectional view taken along line VII (a) -VII (a) in FIG. 7, and FIG. 8B is a cross-sectional view taken along line VII (b) -VII (b) in FIG. As shown in these drawings, the antenna support member 31 is formed of a member having a U-shaped cross section, and its opening faces downward in the vertical direction. As is apparent from FIG. 8B, the antenna support member 31 has an antenna support hole 32 formed at the center in the width direction. As shown in FIGS. 8A and 9A, the antenna support hole 32 has a long hole shape formed along the longitudinal direction of the antenna support member 31, and the antenna support hole 32 has The first electrode rod 51 and the second electrode rod 52 are supported in a suspended manner alternately.

より詳細に説明すると、第1電極棒51の上端部には、真空チャンバ1の天井部2aに設けられた第1天井側コネクタ13に接続可能な第1アンテナ側コネクタ54が固定されている。また、第2電極棒52の上端部には、真空チャンバ1の天井部2aに設けられた第2天井側コネクタ14に接続可能な第2アンテナ側コネクタ55が固定されている。   More specifically, the first antenna-side connector 54 that can be connected to the first ceiling-side connector 13 provided on the ceiling 2 a of the vacuum chamber 1 is fixed to the upper end of the first electrode bar 51. A second antenna-side connector 55 that can be connected to the second ceiling-side connector 14 provided on the ceiling 2 a of the vacuum chamber 1 is fixed to the upper end of the second electrode rod 52.

図9(a)は、図7の上面図であり、図9(b)は、第1アンテナ側コネクタ54の斜視図である。ただし、図9(a)においては、後述するカバー部材33を取り外した状態を示している。この図に示すとおり、第1アンテナ側コネクタ54は、円筒状の本体54aを備えており、この本体54aの底面部54bに、第1電極棒51が貫通した状態で固定されている。また、本体54aの開口側には、当該本体54aよりも大径のフランジ部54cが設けられている。このフランジ部54cは、アンテナ支持部材31に形成されたアンテナ支持孔32の幅よりも大径となる寸法関係を維持している。また、本体54aには、円筒状の外周面の対向する一部を面取りした一対の平面部54d、54dが形成されている。これら平面部54d、54dは、その対向間隔がアンテナ支持孔32の幅よりも僅かに小さくなる寸法関係を維持している。   FIG. 9A is a top view of FIG. 7, and FIG. 9B is a perspective view of the first antenna-side connector 54. However, FIG. 9A shows a state in which a cover member 33 described later is removed. As shown in this figure, the first antenna-side connector 54 includes a cylindrical main body 54a, and is fixed to the bottom surface portion 54b of the main body 54a with the first electrode rod 51 penetrating therethrough. A flange portion 54c having a larger diameter than that of the main body 54a is provided on the opening side of the main body 54a. The flange portion 54 c maintains a dimensional relationship that has a larger diameter than the width of the antenna support hole 32 formed in the antenna support member 31. The main body 54a is formed with a pair of flat surface portions 54d and 54d having chamfered portions facing each other on the cylindrical outer peripheral surface. The planar portions 54d and 54d maintain a dimensional relationship in which the facing distance is slightly smaller than the width of the antenna support hole 32.

したがって、アンテナ支持孔32の上方から第1アンテナ側コネクタ54を挿入すると、本体54aがアンテナ支持孔32を挿通するとともに、フランジ部54cがアンテナ支持部材31の上面に接触して掛け止められ、これによって第1電極棒51がアンテナ支持部材31に垂下支持されることとなる。   Therefore, when the first antenna side connector 54 is inserted from above the antenna support hole 32, the main body 54a is inserted through the antenna support hole 32, and the flange portion 54c is brought into contact with the upper surface of the antenna support member 31, and is latched. As a result, the first electrode rod 51 is suspended and supported by the antenna support member 31.

また、このとき、平面部54d、54d間の幅は、アンテナ支持部材31の幅方向に対する第1アンテナ側コネクタ54の移動を、第1天井側コネクタ13に接続可能な範囲内に制限する寸法関係を維持している。しかも、アンテナ支持部材31に支持された第1アンテナ側コネクタ54に回転応力が作用したとしても、平面部54d、54dがアンテナ支持孔32の内周縁に接触し、第1アンテナ側コネクタ54の回転が制限される。このようにして、第1電極棒51は、アンテナ支持部材31の幅方向の位置決めがなされて直列配置されるとともに、全ての第1電極棒51が同一方向を向いて垂下支持されることとなる。   At this time, the width between the flat portions 54 d and 54 d is a dimensional relationship that restricts the movement of the first antenna-side connector 54 in the width direction of the antenna support member 31 within a range that can be connected to the first ceiling-side connector 13. Is maintained. In addition, even if rotational stress acts on the first antenna-side connector 54 supported by the antenna support member 31, the flat portions 54 d and 54 d come into contact with the inner peripheral edge of the antenna support hole 32, and the first antenna-side connector 54 rotates. Is limited. In this way, the first electrode rods 51 are positioned in series with the antenna support member 31 positioned in the width direction, and all the first electrode rods 51 are supported hanging down in the same direction. .

なお、ここでは第1アンテナ側コネクタ54について説明したが、第2アンテナ側コネクタ55の構成も上記第1アンテナ側コネクタ54と同様である。つまり、第2アンテナ側コネクタ55は、本体55aと、底面部55bと、フランジ部55cと、一対の平面部55d、55dと、を備えており、底面部55bに第2電極棒52が貫通した状態で固定されている。   Although the first antenna side connector 54 has been described here, the configuration of the second antenna side connector 55 is the same as that of the first antenna side connector 54. That is, the second antenna-side connector 55 includes a main body 55a, a bottom surface portion 55b, a flange portion 55c, and a pair of flat surface portions 55d and 55d, and the second electrode rod 52 penetrates the bottom surface portion 55b. It is fixed in the state.

そして、本体55aの開口側には、当該本体55aよりも大径のフランジ部55cが設けられている。このように、この第2アンテナ側コネクタ55も、上記第1アンテナ側コネクタ54と同様に、回転およびアンテナ支持部材31の幅方向に対する移動が制限され、第2電極棒52も直列配置されるとともに、全ての第2電極棒52が同一方向を向いて垂下支持されることとなる。   And the flange part 55c larger diameter than the said main body 55a is provided in the opening side of the main body 55a. As described above, the second antenna-side connector 55 is also restricted from rotating and moving in the width direction of the antenna support member 31 as in the case of the first antenna-side connector 54, and the second electrode rod 52 is also arranged in series. All the second electrode rods 52 are supported in a suspended manner in the same direction.

また、図8(a)に示すように、各第1電極棒51は、その外周にセラミックスまたは樹脂などの誘電体からなる外筒56を備えている。一方、各第2電極棒52は円筒形状をなしており、その長手方向に延在するガス供給路52aが内部に形成されている。また、各第2電極棒52は、ガス供給路52aに垂直に連通する噴出孔52bを備えている。この第2電極棒52は、上述したように、アレイアンテナユニット30が真空チャンバ1内に掛け止められたときに、第2天井側コネクタ14に接続されて、上記したガス供給源15とガス供給路52aとが連通する関係をなしている。   Further, as shown in FIG. 8A, each first electrode bar 51 includes an outer cylinder 56 made of a dielectric material such as ceramics or resin on the outer periphery thereof. On the other hand, each second electrode rod 52 has a cylindrical shape, and a gas supply path 52a extending in the longitudinal direction is formed inside. Each second electrode rod 52 includes an ejection hole 52b that communicates perpendicularly to the gas supply path 52a. As described above, the second electrode rod 52 is connected to the second ceiling-side connector 14 when the array antenna unit 30 is hooked in the vacuum chamber 1, and is connected to the gas supply source 15 and the gas supply. The road 52a communicates with each other.

したがって、アレイアンテナユニット30が真空チャンバ1内に掛け止められた状態で、ガス供給源15から材料ガスが供給されることにより、噴出孔52bから真空チャンバ1の内部空間10に向けて材料ガスが噴出することとなる。   Accordingly, when the material gas is supplied from the gas supply source 15 in a state where the array antenna unit 30 is hooked in the vacuum chamber 1, the material gas is directed from the ejection holes 52 b toward the internal space 10 of the vacuum chamber 1. It will be ejected.

なお、図6〜図9に示すように、アンテナ支持部材31には、両アンテナ側コネクタ54、55を被覆する断面U字形のカバー部材33が固定されている。このカバー部材33には、両アンテナ側コネクタ54、55の本体54a、55aに一致する円形の貫通孔33aが複数設けられている。これにより、各アンテナ側コネクタ54、55の本体54a、55aの開口、すなわち、両電極棒51、52の上端は、カバー部材33の貫通孔33aを介して上方に臨むこととなる。   As shown in FIGS. 6 to 9, a cover member 33 having a U-shaped cross section that covers both antenna-side connectors 54 and 55 is fixed to the antenna support member 31. The cover member 33 is provided with a plurality of circular through holes 33a that coincide with the main bodies 54a, 55a of the antenna-side connectors 54, 55. As a result, the openings of the main bodies 54 a and 55 a of the antenna-side connectors 54 and 55, that is, the upper ends of both the electrode bars 51 and 52 face upward through the through-holes 33 a of the cover member 33.

また、アンテナ支持部材31の幅方向両側面には防着パネル34が設けられており、また、アンテナ支持部材31の上面には、上方に垂直に起立し、先端にテーパが形成された位置決めピン35が設けられている。この位置決めピン35は、複数本の第1電極棒51および第2電極棒52のうち、もっとも外側に位置する電極棒よりもさらにアンテナ支持部材31の長手方向外方に設けられている。さらに、アンテナ支持部材31の長手方向両端部近傍には、掛止孔36が貫通形成されている。この掛止孔36は、アレイアンテナユニット30を真空チャンバ1に掛け止めるためのものである。   In addition, an adhesion preventing panel 34 is provided on both side surfaces of the antenna support member 31 in the width direction. On the upper surface of the antenna support member 31 is a positioning pin that stands vertically upward and is tapered at the tip. 35 is provided. The positioning pin 35 is provided further outward in the longitudinal direction of the antenna support member 31 than the electrode rod located on the outermost side among the plurality of first electrode rods 51 and second electrode rods 52. Further, a hooking hole 36 is formed in the vicinity of both ends in the longitudinal direction of the antenna support member 31. The retaining hole 36 is for retaining the array antenna unit 30 on the vacuum chamber 1.

図10は、アレイアンテナユニット30が掛け止められた状態の真空チャンバ1の正面側断面図である。この図に示すように、真空チャンバ1の天井部2aには、右側面部2cおよび左側面部2d近傍それぞれに、鉛直方向に貫通するとともに鉛直方向下方にテーパが形成された位置決め孔18が設けられている。また、この位置決め孔18よりも図中x方向外方には、下方に垂下する掛止ピン19が固定されている。上記の位置決め孔18は、アレイアンテナユニットの位置決めピン35に対応しており、上記の掛止ピン19は、アレイアンテナユニット30の掛止孔36に対応している。   FIG. 10 is a front sectional view of the vacuum chamber 1 in a state where the array antenna unit 30 is hooked. As shown in this figure, the ceiling portion 2a of the vacuum chamber 1 is provided with positioning holes 18 penetrating in the vertical direction and tapered downward in the vertical direction in the vicinity of the right side surface portion 2c and the left side surface portion 2d. Yes. Further, a latch pin 19 that hangs downward is fixed to the outside of the positioning hole 18 in the x direction in the figure. The positioning hole 18 corresponds to the positioning pin 35 of the array antenna unit, and the locking pin 19 corresponds to the locking hole 36 of the array antenna unit 30.

アレイアンテナユニット30の取り付け方法の詳細については後述するが、アレイアンテナユニット30を真空チャンバ1内に掛け止める際には、位置決め孔18に位置決めピン35を挿通させるように、アレイアンテナユニット30を天井部2aの下方から上方に持ち上げる。すると、掛止ピン19にアレイアンテナユニット30の掛止孔36が挿通するとともに、このとき、天井部2aに設けられた第1天井側コネクタ13および第2天井側コネクタ14のそれぞれが、アレイアンテナユニット30の第1アンテナ側コネクタ54および第2アンテナ側コネクタ55のそれぞれに嵌合する。この状態で、掛止ピン19の下方からボルト等の固定手段を固定することにより、図示のように、アレイアンテナユニット30が真空チャンバ1の天井部2aに掛け止められることとなる。   Although details of the method of attaching the array antenna unit 30 will be described later, when the array antenna unit 30 is hooked in the vacuum chamber 1, the array antenna unit 30 is mounted on the ceiling so that the positioning pins 35 are inserted into the positioning holes 18. Lift up from below the part 2a. Then, the latch holes 36 of the array antenna unit 30 are inserted into the latch pins 19, and at this time, the first ceiling-side connector 13 and the second ceiling-side connector 14 provided on the ceiling portion 2 a are respectively connected to the array antenna. The unit 30 is fitted into each of the first antenna side connector 54 and the second antenna side connector 55. In this state, by fixing a fixing means such as a bolt from below the latch pin 19, the array antenna unit 30 is latched on the ceiling portion 2 a of the vacuum chamber 1 as shown in the figure.

図11は、アレイアンテナユニット30が掛け止められた状態の真空チャンバ1の右側面図である。上記したとおり、天井部2aには、コネクタ群11a、11bが2列設けられており、これらコネクタ群11a、11bに、アレイアンテナユニット30が接続可能となっている。したがって、全てのコネクタ群11a、11bにアレイアンテナユニット30が接続されると、図示のように、2体のアレイアンテナユニット30が、図中z方向に所定の間隔を維持して位置することとなる。   FIG. 11 is a right side view of the vacuum chamber 1 in a state where the array antenna unit 30 is hooked. As described above, the ceiling portion 2a is provided with two rows of connector groups 11a and 11b, and the array antenna unit 30 can be connected to the connector groups 11a and 11b. Therefore, when the array antenna unit 30 is connected to all the connector groups 11a and 11b, the two array antenna units 30 are positioned at a predetermined distance in the z direction in the figure as shown in the figure. Become.

そして、上記のようにアレイアンテナユニット30が掛け止められた真空チャンバ1内には、成膜案内ローラ20に案内されてフィルム基材が搬入される。このフィルム基材の搬入および搬出について、基材搬送チャンバ150の構成とともに図1に戻って説明する。   Then, the film base material is carried into the vacuum chamber 1 where the array antenna unit 30 is hooked as described above, guided by the film forming guide roller 20. The carrying-in and carrying-out of the film base material will be described with reference to FIG.

(基材搬送チャンバの構成およびフィルム基材の搬送の過程)
図1に示すように、真空チャンバ1の左開口部9には、ゲートバルブ151を介して基材搬送チャンバ150が連結されている。基材搬送チャンバ150は不図示の真空ポンプによって真空状態に減圧可能となっており、通常、真空状態を維持したまま複数の真空チャンバ1に連通される。つまり、ゲートバルブ151は、真空チャンバ1の内部と基材搬送チャンバ150の内部とを、真空状態を維持したまま連通するものである。
(Configuration of base material transfer chamber and film base material transfer process)
As shown in FIG. 1, a base material transfer chamber 150 is connected to the left opening 9 of the vacuum chamber 1 via a gate valve 151. The substrate transfer chamber 150 can be decompressed to a vacuum state by a vacuum pump (not shown), and is normally communicated with the plurality of vacuum chambers 1 while maintaining the vacuum state. That is, the gate valve 151 communicates the inside of the vacuum chamber 1 and the inside of the base material transfer chamber 150 while maintaining a vacuum state.

図1に示すように、基材搬送チャンバ150は、送出ローラ160と、巻取ローラ162と、複数の搬送案内ローラ164(図1中、8個)とを含んで構成される。送出ローラ160は、基材搬送チャンバ150の水平方向(ここでは長手方向)の一方の端部に設けられ、フィルム基材Wを送り出す。巻取ローラ162は、基材搬送チャンバ150の水平方向(ここでは長手方向)の他方の端部に設けられ、送出ローラ160が送り出したフィルム基材Wを巻き取る。なお、フィルム基材Wを往復させて成膜することもあるため、巻取ローラ162がフィルム基材Wを送り出し、送出ローラ160がフィルム基材Wを巻き取ることもある(図1中、白抜きの両矢印で示す)。搬送案内ローラ164は、基材搬送チャンバ150において、送出ローラ160と巻取ローラ162との間に設けられ、フィルム基材Wの搬送を案内し、かつ、フィルム基材Wに所定の張力をかける。   As shown in FIG. 1, the substrate transport chamber 150 includes a feed roller 160, a take-up roller 162, and a plurality of transport guide rollers 164 (eight in FIG. 1). The delivery roller 160 is provided at one end in the horizontal direction (longitudinal direction here) of the substrate transport chamber 150 and feeds the film substrate W. The take-up roller 162 is provided at the other end in the horizontal direction (here, the longitudinal direction) of the base material transport chamber 150, and takes up the film base material W sent out by the feed roller 160. Since film formation may be performed by reciprocating the film base W, the take-up roller 162 may send out the film base W and the feed roller 160 may take up the film base W (in FIG. (Indicated by an open double arrow). The conveyance guide roller 164 is provided between the delivery roller 160 and the take-up roller 162 in the substrate conveyance chamber 150, guides conveyance of the film substrate W, and applies a predetermined tension to the film substrate W. .

したがって、フィルム基材Wは、送出ローラ160から送出され、搬送案内ローラ164と、成膜案内ローラ20とに案内されて、図1中、白抜き矢印に示す方向に複数の真空チャンバ1を通過するように搬送され、巻取ローラ162に巻き取られる。なお、図1に示す例では、成膜案内ローラ20は、上面視反時計回りに転動し、送出ローラ160、巻取ローラ162、搬送案内ローラ164は上面視時計回りに転動する。また、真空チャンバ1において、フィルム基材Wは、片面がアレイアンテナユニット30に対向するように搬送される。   Accordingly, the film substrate W is fed from the feed roller 160 and guided by the conveyance guide roller 164 and the film forming guide roller 20 and passes through the plurality of vacuum chambers 1 in the direction indicated by the white arrow in FIG. And is wound around the winding roller 162. In the example shown in FIG. 1, the film forming guide roller 20 rolls counterclockwise when viewed from above, and the feed roller 160, the winding roller 162, and the conveyance guide roller 164 roll clockwise when viewed from above. Further, in the vacuum chamber 1, the film substrate W is transported so that one side faces the array antenna unit 30.

なお、本実施形態において、被成膜対象として、樹脂性や金属性、ガラス性のフィルム基材Wを挙げて説明するが、送出ローラ160が送り出し(巻きだす)、巻取ローラ162が巻き取ることができれば(ロール・ツー・ロール法が利用できれば)、基材の材質や形状は問わない。以下に、成膜処理の手順について説明する。   In this embodiment, the film deposition target is a resinous, metallic, or glassy film substrate W. However, the feeding roller 160 feeds out (winds out) and the winding roller 162 winds up. If it is possible (if the roll-to-roll method can be used), the material and shape of the base material are not limited. The procedure of the film forming process will be described below.

(成膜処理)
まず、基材搬送チャンバ150の送出ローラ160からフィルム基材Wを引き出し、搬送案内ローラ164、成膜案内ローラ20に巻回し、最終的に巻取ローラ162に巻き付ける。その後、真空チャンバ1の内部空間10を密閉するとともに、ゲートバルブ151を開にして、真空ポンプ16および基材搬送チャンバ150に設置された真空ポンプを駆動して内部空間10および基材搬送チャンバ150内部空間を真空状態に減圧する。そして、図1に示すように送出ローラ160からフィルム基材Wを送出しながら(巻取ローラ162でフィルム基材Wを巻き取りながら)、ガス供給源15から第2電極棒52に材料ガスを供給して、噴出孔52bから真空チャンバ1内に材料ガスを噴出させる。この状態で、高周波電源12によって誘導結合型電極50に高周波電力を供給すると、アレイアンテナユニット30の周辺にプラズマが発生し、このプラズマによって分解された材料ガスの成分がフィルム基材Wの表面に付着する。このようにして、フィルム基材Wの表面に、非結晶シリコン膜または微結晶シリコン膜などの薄膜が成膜されることとなる。
(Deposition process)
First, the film substrate W is pulled out from the delivery roller 160 of the substrate conveyance chamber 150, wound around the conveyance guide roller 164 and the film formation guide roller 20, and finally wound around the take-up roller 162. Thereafter, the internal space 10 of the vacuum chamber 1 is sealed, the gate valve 151 is opened, and the vacuum pump 16 and the vacuum pump installed in the base material transport chamber 150 are driven to drive the internal space 10 and the base material transport chamber 150. The internal space is depressurized to a vacuum state. Then, as shown in FIG. 1, while feeding the film base material W from the feed roller 160 (while winding the film base material W by the winding roller 162), the material gas is supplied from the gas supply source 15 to the second electrode rod 52. Then, the material gas is ejected into the vacuum chamber 1 from the ejection hole 52b. In this state, when high frequency power is supplied to the inductively coupled electrode 50 by the high frequency power source 12, plasma is generated around the array antenna unit 30, and the component of the material gas decomposed by the plasma is applied to the surface of the film substrate W. Adhere to. In this way, a thin film such as an amorphous silicon film or a microcrystalline silicon film is formed on the surface of the film substrate W.

そして、上記のようにしてフィルム基材Wの移動に伴って、各真空チャンバ1でフィルム基材Wに成膜処理が施され、成膜処理が終了したら、巻取ローラ162に巻き取られる。以後、1ロール分のフィルム基材Wごとに上記の各工程が繰り返し行われることとなる。   Then, with the movement of the film substrate W as described above, a film forming process is performed on the film substrate W in each vacuum chamber 1, and when the film forming process is completed, the film substrate W is wound around the winding roller 162. Thereafter, the above steps are repeated for each roll of film base W.

ここで、成膜処理を行う過程では、アレイアンテナユニット30に皮膜が付着するため、定期的にアレイアンテナユニット30を真空チャンバ1から取り外してメンテナンスする必要がある。以下では、アレイアンテナユニット30のメンテナンスに際して、当該アレイアンテナユニット30を真空チャンバ1に搬入したり、あるいは真空チャンバ1から搬出したりするアンテナ搬送体の構成を説明し、その後、アレイアンテナユニット30の着脱方法について説明する。   Here, during the film forming process, a film adheres to the array antenna unit 30, and therefore, it is necessary to periodically remove the array antenna unit 30 from the vacuum chamber 1 for maintenance. In the following, the configuration of the antenna carrier that carries the array antenna unit 30 into and out of the vacuum chamber 1 during maintenance of the array antenna unit 30 will be described. The attachment / detachment method will be described.

(アンテナ搬送体の構成)
図12(a)は、アンテナ搬送体70の斜視図であり、図12(b)は、図12(a)の一点鎖線の部分拡大図である。この図に示すように、アンテナ搬送体70は、上記した基台71を備えており、この基台71の幅方向(図中z方向)両端に車輪72が複数設けられている。この車輪72は、アンテナ搬送体70が図中x方向に一直線上に移動可能となるように設けられており、真空チャンバ1内において、上記したガイドレール17上を転動することにより、アンテナ搬送体70の真空チャンバ1内での移動を可能としている。
(Configuration of antenna carrier)
FIG. 12A is a perspective view of the antenna carrier 70, and FIG. 12B is a partially enlarged view of an alternate long and short dash line in FIG. As shown in this figure, the antenna carrier 70 includes the base 71 described above, and a plurality of wheels 72 are provided at both ends in the width direction (z direction in the drawing) of the base 71. The wheels 72 are provided so that the antenna carrier 70 can move in a straight line in the x direction in the figure. The wheels 72 roll on the guide rail 17 in the vacuum chamber 1, thereby The body 70 can be moved in the vacuum chamber 1.

また、基台71には、アレイアンテナユニット30を保持する2つのアンテナ保持部材73が、アンテナ搬送体70の搬送方向に直交する水平方向に間隔を維持して設けられている。このアンテナ保持部材73は、アンテナ搬送体70の搬送方向両端において基台71に固定されたスライド装置74と、このスライド装置74から上方に垂直に起立する一対の支柱75a、75bと、を備えている。これら一対の支柱75a、75bは、スライド装置74によって、アンテナ搬送体70の搬送方向(x方向)に直交する水平方向(z方向)にスライド可能に構成されている。   In addition, the base 71 is provided with two antenna holding members 73 that hold the array antenna unit 30 while maintaining a gap in the horizontal direction perpendicular to the direction in which the antenna carrier 70 is carried. The antenna holding member 73 includes a slide device 74 that is fixed to the base 71 at both ends of the antenna carrier 70 in the carrying direction, and a pair of support columns 75a and 75b that stand vertically upward from the slide device 74. Yes. The pair of support columns 75 a and 75 b are configured to be slidable in a horizontal direction (z direction) orthogonal to the transport direction (x direction) of the antenna transport body 70 by the slide device 74.

一対の支柱75a、75bそれぞれには、伸縮ロッド76aを鉛直方向に伸縮させるエアシリンダ76が収容されている。そして、このエアシリンダ76の伸縮ロッド76a先端には、荷重受け部77を介して薄板状の調整部材78の両端部が載置されており、これによって、調整部材78が一対の支柱75a、75bに懸架されることとなる。   Each of the pair of struts 75a and 75b accommodates an air cylinder 76 that expands and contracts the telescopic rod 76a in the vertical direction. At both ends of the telescopic rod 76a of the air cylinder 76, both end portions of a thin plate-like adjusting member 78 are placed via a load receiving portion 77, whereby the adjusting member 78 becomes a pair of support columns 75a and 75b. Will be suspended.

なお、基台71における支柱75bの間には、切り欠き部71aが形成されており、アンテナ搬送体70を真空チャンバ1に搬入する際には、切り欠き部71aが成膜案内ローラ20を通過することになる。   A notch 71 a is formed between the columns 75 b of the base 71. When the antenna carrier 70 is carried into the vacuum chamber 1, the notch 71 a passes through the film forming guide roller 20. Will do.

図13は、図12(b)の部分拡大図である。この図に示すように、伸縮ロッド76aの先端には、荷重受け部77が設けられている。この荷重受け部77は、伸縮ロッド76aの先端に固定され、上方に凹状の受け面79aを臨ませる受け部79と、受け面79a上に載置され、調整部材78の下面に一体的に設けられた揺動部80と、によって構成される。これら受け部79および揺動部80は、ステンレスなどの金属によって構成されているが、例えば樹脂など金属以外の材料で構成しても構わない。   FIG. 13 is a partially enlarged view of FIG. As shown in this figure, a load receiving portion 77 is provided at the tip of the telescopic rod 76a. The load receiving portion 77 is fixed to the distal end of the telescopic rod 76 a and is placed on the receiving surface 79 a so that the concave receiving surface 79 a faces upward, and is provided integrally on the lower surface of the adjusting member 78. And the oscillating portion 80 formed. The receiving portion 79 and the swinging portion 80 are made of metal such as stainless steel, but may be made of a material other than metal such as resin.

揺動部80は、半球状の球面部80aを、受け部79の受け面79aに接触させているが、このとき、受け面79aの曲率が球面部80aの曲率よりも小さくなっている。したがって、球面部80aと受け面79aとの間には隙間が形成され、これによって揺動部80が受け部79に対して揺動可能となっている。換言すれば、上記の荷重受け部77の構成により、調整部材78が水平方向に移動したり傾いたりすることが可能となっている。ただし、揺動部80が受け面79a上で所定角度傾くと、調整部材78が受け部79の外周縁に接触し、それ以上の傾きが制限されるようになっている。つまり、調整部材78は、受け部79から脱落しない範囲内で傾斜が許容されるように設計されている。   In the swinging portion 80, the hemispherical spherical surface portion 80a is in contact with the receiving surface 79a of the receiving portion 79. At this time, the curvature of the receiving surface 79a is smaller than the curvature of the spherical surface portion 80a. Therefore, a gap is formed between the spherical surface portion 80 a and the receiving surface 79 a, so that the swinging portion 80 can swing with respect to the receiving portion 79. In other words, the configuration of the load receiving portion 77 described above allows the adjustment member 78 to move or tilt in the horizontal direction. However, when the swinging portion 80 is inclined at a predetermined angle on the receiving surface 79a, the adjustment member 78 comes into contact with the outer peripheral edge of the receiving portion 79, and the inclination beyond that is limited. That is, the adjustment member 78 is designed to be allowed to tilt within a range that does not fall off the receiving portion 79.

図14は、アンテナ搬送体70にアレイアンテナユニット30が保持されたときの、調整部材78とアレイアンテナユニット30との関係を説明する図である。調整部材78は、アンテナ搬送体70の搬送方向に沿って延在する延在部78a、および、この延在部78aから水平方向に交差(本実施形態では直交)する方向に突出する複数の移動制限部78bを備えてなる、平面が櫛状をなす薄板部材によって構成されている。この複数の移動制限部78bは、延在部78aの長手方向すなわちアンテナ搬送体70の搬送方向に所定の間隔を維持して設けられている。   FIG. 14 is a diagram for explaining a relationship between the adjustment member 78 and the array antenna unit 30 when the array antenna unit 30 is held on the antenna carrier 70. The adjustment member 78 extends in the conveying direction of the antenna carrier 70, and a plurality of movements projecting from the extending portion 78a in a direction intersecting in the horizontal direction (orthogonal in the present embodiment). The flat surface formed by the limiting portion 78b is formed of a thin plate member having a comb shape. The plurality of movement restricting portions 78b are provided at predetermined intervals in the longitudinal direction of the extending portion 78a, that is, in the conveying direction of the antenna carrier 70.

そして、図示のように、アレイアンテナユニット30をアンテナ搬送体70に保持させると、アレイアンテナユニット30のアンテナ支持部材31の下面と、調整部材78の上面とが、面接触状態で圧接する。これにより、アレイアンテナユニット30の荷重が調整部材78を介して荷重受け部77に作用し、アレイアンテナユニット30がアンテナ搬送体70のアンテナ保持部材73に保持されることとなる。   As shown in the figure, when the array antenna unit 30 is held by the antenna carrier 70, the lower surface of the antenna support member 31 of the array antenna unit 30 and the upper surface of the adjustment member 78 are in pressure contact with each other in a surface contact state. Thereby, the load of the array antenna unit 30 acts on the load receiving portion 77 via the adjustment member 78, and the array antenna unit 30 is held by the antenna holding member 73 of the antenna carrier 70.

また、アレイアンテナユニット30がアンテナ保持部材73に保持された状態では、隣り合う移動制限部78bの間隔に、第1アンテナ側コネクタ54の本体54a、および、第2アンテナ側コネクタ55の本体55aが交互に臨んで位置するようになっている。このとき、移動制限部78bの間隔は、第1アンテナ側コネクタ54の本体54a、および、第2アンテナ側コネクタ55の本体55aの直径よりも僅かに大きく形成されている。これにより、移動制限部78bは、隣り合う第1電極棒51(第1アンテナ側コネクタ54)と第2電極棒52(第2アンテナ側コネクタ55)との対向面に臨んで、アンテナ搬送体70の搬送方向に対する両電極棒51、52の移動を制限することとなる。   In the state where the array antenna unit 30 is held by the antenna holding member 73, the main body 54a of the first antenna-side connector 54 and the main body 55a of the second antenna-side connector 55 are spaced apart from each other by the movement restriction portions 78b adjacent to each other. It is designed to be located alternately. At this time, the distance between the movement restricting portions 78b is slightly larger than the diameter of the main body 54a of the first antenna side connector 54 and the main body 55a of the second antenna side connector 55. As a result, the movement restricting portion 78b faces the opposing surface between the adjacent first electrode rod 51 (first antenna side connector 54) and the second electrode rod 52 (second antenna side connector 55), and the antenna carrier 70. The movement of both electrode bars 51 and 52 with respect to the transport direction is limited.

なお、調整部材78は、延在部78aが両電極棒51、52の一方の側にのみ設けられており、アンテナ搬送体70の搬送方向(x方向)に直交する水平方向(z方向)への両電極棒51、52の移動を制限する機能は備えていない。つまり、調整部材78は、少なくとも両電極棒51、52の移動をアンテナ搬送体70の搬送方向(x方向)に制限することとなる。   The adjustment member 78 has an extending portion 78a provided only on one side of the electrode rods 51 and 52, and extends in the horizontal direction (z direction) orthogonal to the conveyance direction (x direction) of the antenna carrier 70. The function of restricting the movement of the electrode rods 51 and 52 is not provided. That is, the adjustment member 78 restricts at least the movement of the electrode bars 51 and 52 in the transport direction (x direction) of the antenna transport body 70.

これに対して、すでに説明したとおり、搬送方向に直交する水平方向への両電極棒51、52の移動は、アンテナ支持部材31のアンテナ支持孔32によって制限されている(図9参照)。このとき、アンテナ支持孔32は、アンテナ支持部材31の長手方向に連続する長孔形状に形成されているため、アレイアンテナユニット30においては、両電極棒51、52の配列方向への移動が制限されていない。つまり、アンテナ支持部材31は、両電極棒51、52の移動をアンテナ搬送体70の搬送方向に直交する水平方向にのみ制限している。   On the other hand, as already described, the movement of the electrode rods 51 and 52 in the horizontal direction orthogonal to the transport direction is limited by the antenna support hole 32 of the antenna support member 31 (see FIG. 9). At this time, since the antenna support hole 32 is formed in a long hole shape that is continuous in the longitudinal direction of the antenna support member 31, in the array antenna unit 30, movement of both electrode bars 51 and 52 in the arrangement direction is restricted. It has not been. That is, the antenna support member 31 restricts the movement of the electrode rods 51 and 52 only in the horizontal direction orthogonal to the conveyance direction of the antenna carrier 70.

図15は、アレイアンテナユニット30がアンテナ搬送体70に保持された状態を示す斜視図である。この図に示すように、アレイアンテナユニット30がアンテナ搬送体70に保持された状態では、搬送方向(図中x方向)への両電極棒51、52の移動が、アンテナ搬送体70(調整部材78)によって制限され、搬送方向に直交する水平方向(図中z方向)への両電極棒51、52の移動が、アレイアンテナユニット30(アンテナ支持部材31)によって制限されている。   FIG. 15 is a perspective view showing a state in which the array antenna unit 30 is held by the antenna carrier 70. As shown in this figure, in a state where the array antenna unit 30 is held by the antenna carrier 70, the movement of the electrode rods 51 and 52 in the carrying direction (x direction in the figure) 78), and the movement of both electrode bars 51 and 52 in the horizontal direction (z direction in the figure) orthogonal to the transport direction is limited by the array antenna unit 30 (antenna support member 31).

アレイアンテナユニット30は、高温の真空チャンバ1内に置かれるため、アンテナ支持部材31が熱膨張する。そこで、搬送方向に直交する水平方向への両電極棒51、52の移動を制限しながらも、アンテナ支持孔32を長孔形状にすることによって、熱膨張時の逃げを確保し、部材間の干渉を防ぐようにしている。しかしながら、上記のように熱膨張時の逃げを確保すると、アレイアンテナユニット30を真空チャンバ1内に掛け止める際に、各電極棒51、52の位置がずれてしまい、これら各電極棒51、52を各天井側コネクタ13、14に接続する作業が煩雑になってしまう。   Since the array antenna unit 30 is placed in the high-temperature vacuum chamber 1, the antenna support member 31 is thermally expanded. Therefore, while restricting the movement of the electrode rods 51 and 52 in the horizontal direction perpendicular to the transport direction, the antenna support hole 32 has a long hole shape to ensure escape during thermal expansion, and between the members. I try to prevent interference. However, if the escape at the time of thermal expansion is ensured as described above, when the array antenna unit 30 is hooked in the vacuum chamber 1, the positions of the electrode bars 51, 52 are shifted, and the electrode bars 51, 52 are shifted. The operation of connecting the cables to the ceiling side connectors 13 and 14 becomes complicated.

そこで、本実施形態においては、成膜処理中に外部に搬出されるアンテナ搬送体70に調整部材78を設けるとともに、この調整部材78によって、搬送方向への両電極棒51、52の移動を制限することとしている。これにより、アレイアンテナユニット30を真空チャンバ1内に掛け止める際の位置決め精度を確保することが可能となり、掛け止め時の作業効率を向上することができる。つまり、上記の構成とすることで、成膜処理中における熱膨張時の逃げの確保と、アレイアンテナユニット30の掛け止め時の位置決め精度と、からなる2つの相反する要求に応えることが可能となっている。以下では、アレイアンテナユニット30を真空チャンバ1内に掛け止める際の作用について説明する。   Therefore, in the present embodiment, the adjustment member 78 is provided on the antenna carrier 70 that is carried outside during the film forming process, and the movement of the electrode rods 51 and 52 in the conveyance direction is restricted by the adjustment member 78. To do. As a result, it is possible to ensure the positioning accuracy when the array antenna unit 30 is hooked in the vacuum chamber 1, and the working efficiency at the time of hooking can be improved. In other words, with the above-described configuration, it is possible to meet two conflicting requirements consisting of securing escape during thermal expansion during film formation and positioning accuracy when latching the array antenna unit 30. It has become. Hereinafter, an operation when the array antenna unit 30 is hooked in the vacuum chamber 1 will be described.

(アレイアンテナユニットの掛け止め過程)
図16は、真空チャンバ1内にアレイアンテナユニット30を掛け止める過程を説明する図である。図16中、理解を容易にするために、成膜案内ローラ20の図示を省略する。図16(a)は、図15に示すように、洗浄を完了した(メンテナンス済みの)アレイアンテナユニット30を保持するアンテナ搬送体70が、真空チャンバ1内に搬入され、不図示のストッパーに接触して所定位置に停止した状態を示している。
(Holding process of array antenna unit)
FIG. 16 is a diagram for explaining a process of hanging the array antenna unit 30 in the vacuum chamber 1. In FIG. 16, the film formation guide roller 20 is not shown for easy understanding. In FIG. 16A, as shown in FIG. 15, the antenna carrier 70 holding the array antenna unit 30 that has been cleaned (maintained) is carried into the vacuum chamber 1 and contacts a stopper (not shown). Thus, it shows a state stopped at a predetermined position.

そして、この状態からエアシリンダ76の伸縮ロッド76aを上方に伸長させると、図16(b)に示すように、アレイアンテナユニット30の位置決めピン35が、真空チャンバ1の天井部2aに設けられた位置決め孔18に挿通する。これにより、アレイアンテナユニット30は、真空チャンバ1に対して位置決めがなされた状態で上昇することとなる。また、アレイアンテナユニット30が上昇する過程では、天井部2aに設けられた掛止ピン19が掛止孔36に挿通するとともに、第1天井側コネクタ13が第1アンテナ側コネクタ54に嵌合し、第2天井側コネクタ14が第2アンテナ側コネクタ55に嵌合する。   When the telescopic rod 76a of the air cylinder 76 is extended upward from this state, the positioning pins 35 of the array antenna unit 30 are provided on the ceiling portion 2a of the vacuum chamber 1 as shown in FIG. The positioning hole 18 is inserted. As a result, the array antenna unit 30 is lifted while being positioned with respect to the vacuum chamber 1. In the process of raising the array antenna unit 30, the latch pin 19 provided on the ceiling portion 2 a is inserted into the latch hole 36, and the first ceiling-side connector 13 is fitted to the first antenna-side connector 54. The second ceiling side connector 14 is fitted to the second antenna side connector 55.

このとき、アレイアンテナユニット30は、荷重受け部77、すなわち、受け面79aと揺動部80とによる荷重受け構造により、アンテナ搬送体70に揺動可能に保持されている(図13参照)。そのため、仮に、アレイアンテナユニット30が掛け止め位置からずれたとしても、当該アレイアンテナユニット30を揺動させることにより、所定の掛け止め位置に調整することができる。これにより、位置決めピン35や位置決め孔18、あるいは各コネクタ13、14、54、55の寸法管理が厳密でなかったとしても、確実にアレイアンテナユニット30を天井部2aに掛け止めることができる。   At this time, the array antenna unit 30 is swingably held on the antenna carrier 70 by a load receiving portion 77, that is, a load receiving structure including the receiving surface 79a and the swinging portion 80 (see FIG. 13). Therefore, even if the array antenna unit 30 is deviated from the latching position, the array antenna unit 30 can be adjusted to a predetermined latching position by swinging the array antenna unit 30. Thereby, even if the dimensional management of the positioning pin 35, the positioning hole 18, or the connectors 13, 14, 54, 55 is not strict, the array antenna unit 30 can be reliably hung on the ceiling portion 2a.

そして、図16(b)に示す状態で、アレイアンテナユニット30の掛止孔36を挿通した掛止ピン19に、その下方から不図示の固定装置によってボルト等の固定手段を固定することにより、アレイアンテナユニット30が真空チャンバ1内に掛け止められることとなる。このようにして、アレイアンテナユニット30が掛け止められたら、エアシリンダ76の伸縮ロッド76aを下方に収縮させる。すると、図16(c)に示すように、支柱75a、75bに懸架された調整部材78が降下して、アンテナ搬送体70からアレイアンテナユニット30が離脱する。   Then, in the state shown in FIG. 16 (b), fixing means such as a bolt is fixed to the latch pin 19 inserted through the latch hole 36 of the array antenna unit 30 from below by a fixing device (not shown). The array antenna unit 30 is hooked in the vacuum chamber 1. When the array antenna unit 30 is hooked in this way, the telescopic rod 76a of the air cylinder 76 is contracted downward. Then, as shown in FIG. 16 (c), the adjustment member 78 suspended on the columns 75 a and 75 b is lowered, and the array antenna unit 30 is detached from the antenna carrier 70.

ただし、この状態では、真空チャンバ1の天井部2aから垂下する第1電極棒51および第2電極棒52と、支柱75a、75bと、がアンテナ搬送体70の搬送方向において、同一直線上に位置したままとなっている。また、一対の支柱75a、75bに懸架される調整部材78の移動制限部78bが、第1電極棒51および第2電極棒52に臨んだままの状態となっている。したがって、このままの状態では、アンテナ搬送体70を真空チャンバ1から搬出することができない。   However, in this state, the first electrode rod 51 and the second electrode rod 52 hanging from the ceiling portion 2a of the vacuum chamber 1 and the columns 75a and 75b are positioned on the same straight line in the conveyance direction of the antenna carrier 70. It has been done. Further, the movement restricting portion 78b of the adjustment member 78 suspended from the pair of support columns 75a and 75b remains facing the first electrode rod 51 and the second electrode rod 52. Therefore, in this state, the antenna carrier 70 cannot be carried out of the vacuum chamber 1.

そこで、図17に示すように、スライド装置74を駆動して、一対の支柱75a、75bを、アンテナ搬送体70の搬送方向に直交する水平方向にスライドさせ、一対の支柱75a、75bを第1電極棒51および第2電極棒52の配列直線上から退避させる。これにより、調整部材78の移動制限部78bも、隣り合う第1電極棒51および第2電極棒52の対向面から退避することとなる。そして、アンテナ搬送体70を、再びガイドレール17に沿って真空チャンバ1の外に搬出すれば、メンテナンス作業が終了となる。   Therefore, as shown in FIG. 17, the slide device 74 is driven to slide the pair of support columns 75a and 75b in the horizontal direction orthogonal to the transfer direction of the antenna carrier 70, and to move the pair of support columns 75a and 75b to the first. The electrode rod 51 and the second electrode rod 52 are retracted from the alignment line. As a result, the movement restricting portion 78b of the adjustment member 78 is also retracted from the opposing surfaces of the adjacent first electrode rod 51 and second electrode rod 52. Then, when the antenna carrier 70 is carried out of the vacuum chamber 1 along the guide rail 17 again, the maintenance work is completed.

なお、メンテナンスが必要となったアレイアンテナユニット30を、真空チャンバ1内から搬出する際には、上記の各工程を逆の順序で行えばよい。すなわち、一対の支柱75a、75bが、第1電極棒51および第2電極棒52の配列直線上から退避した状態にある空のアンテナ搬送体70を、真空チャンバ1内に搬入する。そして、スライド装置74を駆動して、一対の支柱75a、75bを、第1電極棒51および第2電極棒52の配列直線上にスライドさせた後、エアシリンダ76の伸縮ロッド76aを上方に伸長させる。この状態で、ボルト等の固定手段を取り外して、アレイアンテナユニット30の荷重を荷重受け部77に作用させた後、伸縮ロッド76aを収縮させ、アンテナ搬送体70を真空チャンバ1内から搬出すればよい。   In addition, when carrying out the array antenna unit 30 which needed maintenance from the inside of the vacuum chamber 1, what is necessary is just to perform said each process in reverse order. That is, the empty antenna carrier 70 in a state in which the pair of support columns 75 a and 75 b are retracted from the arrangement line of the first electrode rod 51 and the second electrode rod 52 is carried into the vacuum chamber 1. Then, the slide device 74 is driven to slide the pair of support columns 75a and 75b on the alignment line of the first electrode rod 51 and the second electrode rod 52, and then the telescopic rod 76a of the air cylinder 76 extends upward. Let In this state, after fixing means such as bolts are removed and the load of the array antenna unit 30 is applied to the load receiving portion 77, the telescopic rod 76a is contracted, and the antenna carrier 70 is carried out of the vacuum chamber 1. Good.

(アンテナ搬送チャンバの構成およびアンテナ搬送体の搬送過程)
図18、図19は、アンテナ搬送体70の搬送過程を説明する図である。図1に示すように、真空チャンバ1の左開口部9には、ゲートバルブ151を介して基材搬送チャンバ150が連結され、真空チャンバ1の右開口部7には、ゲートバルブ201を介してアンテナ搬送チャンバ200が連結されている。
(Configuration of antenna transfer chamber and transfer process of antenna transfer body)
18 and 19 are diagrams for explaining the transport process of the antenna transport body 70. FIG. As shown in FIG. 1, a base material transfer chamber 150 is connected to the left opening 9 of the vacuum chamber 1 via a gate valve 151, and to the right opening 7 of the vacuum chamber 1 via a gate valve 201. An antenna transfer chamber 200 is connected.

アンテナ搬送チャンバ200は、ゲートバルブ201が連結される面と対向する面に設けられた開口部202に開閉扉204を備え、開閉扉204によって、アンテナ搬送チャンバ200の内部が大気圧にある外部と連通されたり、あるいはその連通が解除されたりするようになっている。アンテナ搬送チャンバ200は、不図示の真空ポンプによって真空状態に減圧可能となっており、通常、真空状態を維持したまま真空チャンバ1に連通される。つまり、ゲートバルブ151は、真空チャンバ1の内部と基材搬送チャンバ150の内部とを、真空状態を維持したまま連通するものであり、ゲートバルブ201は、真空チャンバ1の内部とアンテナ搬送チャンバ200の内部とを、真空状態を維持したまま連通するものである。   The antenna transfer chamber 200 includes an opening / closing door 204 in an opening 202 provided on a surface opposite to a surface to which the gate valve 201 is connected. The opening / closing door 204 allows the inside of the antenna transfer chamber 200 to be connected to the outside at atmospheric pressure. The communication is made or the communication is released. The antenna transfer chamber 200 can be decompressed to a vacuum state by a vacuum pump (not shown), and is normally communicated with the vacuum chamber 1 while maintaining the vacuum state. That is, the gate valve 151 communicates the inside of the vacuum chamber 1 and the inside of the substrate transfer chamber 150 while maintaining a vacuum state, and the gate valve 201 is connected to the inside of the vacuum chamber 1 and the antenna transfer chamber 200. Are communicated with each other while maintaining a vacuum state.

また、アンテナ搬送チャンバ200には、例えば、ベルトコンベヤなど、アンテナ搬送体70をゲートバルブ201に対面する位置まで搬送する不図示の運搬装置が設けられている。さらに、アンテナ搬送チャンバ200には、図1に示すようにアンテナ搬送体70の車輪72をガイドするガイドレール210が、真空チャンバ1に対面する位置に設けられている。   The antenna transfer chamber 200 is provided with a transfer device (not shown) that transfers the antenna transfer body 70 to a position facing the gate valve 201, such as a belt conveyor. Further, as shown in FIG. 1, a guide rail 210 for guiding the wheels 72 of the antenna carrier 70 is provided in the antenna carrier chamber 200 at a position facing the vacuum chamber 1.

ただし、これらガイドレール210は、鉛直方向に上昇可能または下降可能に構成されており、通常、アンテナ搬送チャンバ200内におけるアンテナ搬送体70の移動軌跡範囲よりも下方に退避して位置している。これにより、運搬装置によってアンテナ搬送チャンバ200内を移動するアンテナ搬送体70は、通常、ガイドレール210の上方を移動することとなる。   However, these guide rails 210 are configured to be able to ascend or descend in the vertical direction, and are normally retracted and positioned below the moving locus range of the antenna carrier 70 in the antenna carrier chamber 200. As a result, the antenna carrier 70 moving in the antenna transfer chamber 200 by the transfer device normally moves above the guide rail 210.

なお、ガイドレール210がアンテナ搬送体70と一体的にアンテナ搬送チャンバ200内を移動するようにしても構わない。つまり、アンテナ搬送体70が、ガイドレール210上に載置された状態で、目的となる真空チャンバ1に対面する位置まで搬送される構成であってもよい。   Note that the guide rail 210 may move in the antenna transfer chamber 200 integrally with the antenna transfer body 70. In other words, the antenna carrier 70 may be carried to a position facing the target vacuum chamber 1 while being placed on the guide rail 210.

そして、アンテナ搬送チャンバ200には、アンテナ搬送体70を当該アンテナ搬送チャンバ200側から真空チャンバ1側に押し出したり、あるいは、アンテナ搬送体70を真空チャンバ1側からアンテナ搬送チャンバ200側に引き寄せたりする不図示の装置が設けられている。   Then, the antenna carrier 70 is pushed out from the antenna carrier chamber 200 side to the vacuum chamber 1 side, or the antenna carrier 70 is drawn from the vacuum chamber 1 side to the antenna carrier chamber 200 side. A device (not shown) is provided.

そして、例えば、真空チャンバ1Aにおいて、アレイアンテナユニット30の交換が必要であったとすると、まず、図18(a)に示すように、真空チャンバ1Aのゲートバルブ201に大気圧となっているアンテナ搬送チャンバ200を連結する。次に、図18(b)に示すように、開閉扉204を通じて空のアンテナ搬送体70Aをアンテナ搬送チャンバ200におけるゲートバルブ201に対面する位置まで搬送する。そして、アンテナ搬送チャンバ200の開閉扉204を閉じ、アンテナ搬送チャンバ200に設けられた真空ポンプでアンテナ搬送チャンバ200内を真空状態に減圧する。   For example, if it is necessary to replace the array antenna unit 30 in the vacuum chamber 1A, first, as shown in FIG. 18 (a), the antenna conveyance at atmospheric pressure is applied to the gate valve 201 of the vacuum chamber 1A. The chambers 200 are connected. Next, as shown in FIG. 18B, the empty antenna carrier 70 </ b> A is conveyed through the opening / closing door 204 to a position facing the gate valve 201 in the antenna conveyance chamber 200. Then, the open / close door 204 of the antenna transfer chamber 200 is closed, and the inside of the antenna transfer chamber 200 is decompressed to a vacuum state by a vacuum pump provided in the antenna transfer chamber 200.

次に、図19(a)に示すように、ゲートバルブ201を開いて、真空チャンバ1Aの内部とアンテナ搬送チャンバ200の内部とを真空状態を維持したまま連通するとともに、図19(a)の白抜き矢印で示すように、アンテナ搬送体70Aを真空チャンバ1A内に搬入する。このように、アンテナ搬送体70Aが真空チャンバ1A内に搬入されたら、真空チャンバ1Aの天井部2aに掛け止められているアレイアンテナユニット30を取り外してアンテナ搬送体70Aに保持させる。   Next, as shown in FIG. 19 (a), the gate valve 201 is opened to allow the inside of the vacuum chamber 1A and the inside of the antenna transfer chamber 200 to communicate with each other while maintaining the vacuum state. As indicated by the white arrow, the antenna carrier 70A is carried into the vacuum chamber 1A. Thus, when the antenna carrier 70A is carried into the vacuum chamber 1A, the array antenna unit 30 hung on the ceiling portion 2a of the vacuum chamber 1A is removed and held by the antenna carrier 70A.

そして、図19(b)の白抜き矢印に示すように、アレイアンテナユニット30を保持したアンテナ搬送体70Aを真空チャンバ1Aからアンテナ搬送チャンバ200に搬出するとともに、ゲートバルブ201を閉じる。   Then, as shown by the white arrow in FIG. 19B, the antenna carrier 70A holding the array antenna unit 30 is carried out from the vacuum chamber 1A to the antenna carrier chamber 200, and the gate valve 201 is closed.

このようにして、真空チャンバ1Bおよび基材搬送チャンバ150の真空状態を維持したまま、すなわち真空チャンバ1Bにおける成膜処理と並行して、真空チャンバ1Aから使用済みのアレイアンテナユニット30を搬出することができる。したがって、従来のように、アレイアンテナユニット30を取り出す際に、基材搬送チャンバ150および基材搬送チャンバ150に接続されたすべての真空チャンバ1を大気開放することなく、任意の真空チャンバ1Bで成膜処理を行いながら、別の真空チャンバ1Aのアレイアンテナユニット30を取り外すことができる。これにより、メンテナンスによる装置稼働停止時間を短縮することができ、装置の稼働率を向上することができる。   In this way, the used array antenna unit 30 is unloaded from the vacuum chamber 1A while maintaining the vacuum state of the vacuum chamber 1B and the substrate transfer chamber 150, that is, in parallel with the film forming process in the vacuum chamber 1B. Can do. Therefore, when the array antenna unit 30 is taken out as in the prior art, the base material transfer chamber 150 and all the vacuum chambers 1 connected to the base material transfer chamber 150 are not opened to the atmosphere, and any vacuum chamber 1B is formed. While performing the film processing, the array antenna unit 30 of another vacuum chamber 1A can be removed. Thereby, the apparatus operation stop time due to maintenance can be shortened, and the operation rate of the apparatus can be improved.

さらに、他の真空チャンバ1における成膜処理と並行して、真空チャンバ1のアレイアンテナユニット30を交換することができる。すなわち1ロール分の成膜処理が終了しているか否かに拘わらず、アレイアンテナユニット30を交換できる。従来は、アレイアンテナユニットを交換するタイミングに1ロール分の成膜処理が終了するタイミングを合わせる必要があったため、アレイアンテナユニットの交換周期に応じて1ロール分のフィルム基材の長さが制限されていた。しかし、本実施形態では、1ロール分の成膜処理が終了しているか否かに拘わらずアレイアンテナユニット30を交換できるので、フィルム基材Wの長さが制限される事態を回避することが可能となる。   Furthermore, the array antenna unit 30 in the vacuum chamber 1 can be replaced in parallel with the film forming process in the other vacuum chamber 1. That is, the array antenna unit 30 can be replaced regardless of whether the film forming process for one roll has been completed. Conventionally, it was necessary to match the timing for completing the film forming process for one roll with the timing for replacing the array antenna unit, so the length of the film base for one roll is limited according to the replacement period of the array antenna unit. It had been. However, in this embodiment, since the array antenna unit 30 can be replaced regardless of whether or not the film forming process for one roll has been completed, it is possible to avoid a situation in which the length of the film base W is limited. It becomes possible.

また、この際、送出ローラ160と巻取ローラ162との回転速度を遅くすることで、真空チャンバ1Bのみで成膜処理を行っても、真空チャンバ1Aおよび真空チャンバ1Bで成膜処理を行う場合と同等の膜厚に成膜することが可能となる。   At this time, the film forming process is performed in the vacuum chamber 1A and the vacuum chamber 1B even if the film forming process is performed only in the vacuum chamber 1B by slowing the rotation speeds of the delivery roller 160 and the take-up roller 162. It becomes possible to form into a film thickness equivalent to.

さらに、複数の真空チャンバ1の構成を同一としているため、1つのアンテナ搬送チャンバ200で複数の真空チャンバ1のアレイアンテナユニット30の交換を行うことが可能となる。また、アンテナ搬送体70は、成膜処理中に真空チャンバ1内に留める必要がないことから、複数の真空チャンバ1が設けられたプラズマCVD装置であっても、1体のアンテナ搬送体70によってメンテナンスを行うことも可能である。   Furthermore, since the configurations of the plurality of vacuum chambers 1 are the same, it is possible to replace the array antenna units 30 of the plurality of vacuum chambers 1 with one antenna transfer chamber 200. Further, since the antenna carrier 70 does not need to be kept in the vacuum chamber 1 during the film forming process, even if it is a plasma CVD apparatus provided with a plurality of vacuum chambers 1, Maintenance can also be performed.

なお、メンテナンス済みのアレイアンテナユニット30を、真空チャンバ1内に搬入する際には、上記の各工程を逆の順序で行えばよい。   When the array antenna unit 30 that has been maintained is carried into the vacuum chamber 1, the above steps may be performed in the reverse order.

図20〜図22は、アンテナ搬送チャンバ300の変形例を説明する概念図である。図20〜図22では、理解を容易にするためにガイドレール17およびガイドレール210の図示を省略する。以下では、変形例のアンテナ搬送チャンバ300を説明するにあたって、上記実施形態と同様の構成については同一の符号を付するとともに、その詳細な説明は省略する。図20〜図22に示すように、この変形例のアンテナ搬送チャンバ300は、アンテナ搬送体70を3台収容可能な大きさを有しており、ゲートバルブ201を介して真空チャンバ1に連結される。このアンテナ搬送チャンバ300も、真空チャンバ1と同様に、真空ポンプによって内部を真空状態に減圧可能に構成されている。アンテナ搬送チャンバ300には、ゲートバルブ201が連結される面と対向する面に設けられた開口部302に開閉扉304を備え、開閉扉304によって、アンテナ搬送チャンバ300の内部が大気圧にある外部と連通されたり、あるいはその連通が解除されたりするようになっている。   20 to 22 are conceptual diagrams for explaining modifications of the antenna transfer chamber 300. 20 to 22, the guide rail 17 and the guide rail 210 are not shown for easy understanding. Hereinafter, in describing the antenna transfer chamber 300 of the modified example, the same reference numerals are given to the same configurations as those of the above-described embodiment, and detailed description thereof is omitted. As shown in FIGS. 20 to 22, the antenna transfer chamber 300 of this modification has a size that can accommodate three antenna transfer bodies 70 and is connected to the vacuum chamber 1 via the gate valve 201. The Similarly to the vacuum chamber 1, the antenna transfer chamber 300 is configured so that the inside can be decompressed to a vacuum state by a vacuum pump. The antenna transfer chamber 300 is provided with an opening / closing door 304 in an opening 302 provided on a surface opposite to a surface to which the gate valve 201 is connected, and the outside of the antenna transfer chamber 300 is at atmospheric pressure by the opening / closing door 304. Is communicated with, or the communication is released.

また、アンテナ搬送チャンバ300には、ベルトコンベヤなどの運搬装置が設けられており、この運搬装置によって、アンテナ搬送体70が搬送可能となっている。そして、アレイアンテナユニット30のメンテナンスが必要となった場合、アンテナ搬送体70がアンテナ搬送チャンバ300内を移動して、真空チャンバ1に搬入されたり、あるいは真空チャンバ1から搬出されたりする。   The antenna transfer chamber 300 is provided with a transport device such as a belt conveyor, and the antenna transport body 70 can be transported by the transport device. When maintenance of the array antenna unit 30 becomes necessary, the antenna carrier 70 moves in the antenna carrier chamber 300 and is carried into the vacuum chamber 1 or unloaded from the vacuum chamber 1.

例えば、真空チャンバ1Aにおいて、アレイアンテナユニット30の交換が必要であったとすると、まず図20(a)に示すように、真空チャンバ1Aのゲートバルブ201に大気圧となっているアンテナ搬送チャンバ300を連結するとともに、開閉扉304を通じて、空のアンテナ搬送体70Aと、新たな(メンテナンス済みの)アレイアンテナユニット30が保持されたアンテナ搬送体70Bを搬入する。そして、空のアンテナ搬送体70Aをアンテナ搬送チャンバ300におけるゲートバルブ201に対面する位置まで搬送し、開閉扉304を閉じて、アンテナ搬送チャンバ300に設けられた真空ポンプでアンテナ搬送チャンバ300内を真空状態に減圧する。   For example, if it is necessary to replace the array antenna unit 30 in the vacuum chamber 1A, first, as shown in FIG. 20A, the antenna transfer chamber 300 that is at atmospheric pressure is placed in the gate valve 201 of the vacuum chamber 1A. At the same time, the empty antenna carrier 70A and the antenna carrier 70B holding the new (maintenanced) array antenna unit 30 are carried through the open / close door 304. Then, the empty antenna carrier 70A is conveyed to a position facing the gate valve 201 in the antenna conveyance chamber 300, the open / close door 304 is closed, and the inside of the antenna conveyance chamber 300 is evacuated by a vacuum pump provided in the antenna conveyance chamber 300. Depressurize to the state.

次に、図20(b)に示すように、ゲートバルブ201を開いて、真空チャンバ1Aの内部とアンテナ搬送チャンバ300の内部とを真空状態を維持したまま連通するとともに、図20(b)の白抜き矢印で示すようにアンテナ搬送体70Aを真空チャンバ1A内に搬入する。そして、図21(a)に示すように、アンテナ搬送体70Aにアレイアンテナユニット30を保持させたら、アンテナ搬送体70Aを真空チャンバ1Aから搬出してアンテナ搬送チャンバ300に移動させる。そして、図21(a)の白抜き矢印で示すように、アンテナ搬送チャンバ300に設けられた運搬装置によって、アンテナ搬送体70Bがゲートバルブ201に対面する位置まで移動され、これに伴って、アンテナ搬送体70Aはゲートバルブ201に対面する位置から図21中右の方向に移動する。また、図21(b)の白抜き矢印で示すように、アンテナ搬送チャンバ300から真空チャンバ1Aにアンテナ搬送体70Bを搬入する。そして、アンテナ搬送体70Bに保持されたアレイアンテナユニット30を真空チャンバ1Aに掛け止めたら、図22(a)中白抜き矢印で示すように、空になったアンテナ搬送体70Bを真空チャンバ1Aから搬出して、アンテナ搬送チャンバ300に移動させる。   Next, as shown in FIG. 20B, the gate valve 201 is opened, and the inside of the vacuum chamber 1A and the inside of the antenna transfer chamber 300 are communicated with each other while maintaining a vacuum state. As indicated by the white arrow, the antenna carrier 70A is carried into the vacuum chamber 1A. Then, as shown in FIG. 21A, when the antenna carrier 70A holds the array antenna unit 30, the antenna carrier 70A is unloaded from the vacuum chamber 1A and moved to the antenna carrier chamber 300. 21A, the antenna carrier 70B is moved to the position facing the gate valve 201 by the carrier device provided in the antenna carrier chamber 300, and accordingly, the antenna The transport body 70A moves from the position facing the gate valve 201 in the right direction in FIG. Further, as shown by the white arrow in FIG. 21B, the antenna carrier 70B is carried from the antenna carrier chamber 300 to the vacuum chamber 1A. When the array antenna unit 30 held by the antenna carrier 70B is hooked on the vacuum chamber 1A, the emptied antenna carrier 70B is removed from the vacuum chamber 1A as indicated by the white arrow in FIG. Unload and move to the antenna transfer chamber 300.

アンテナ搬送体70A、70Bがそれぞれアンテナ搬送チャンバ300に戻ったら、図22(b)に示すように、ゲートバルブ201を閉じてアンテナ搬送チャンバ300の内部と真空チャンバ1Aの内部との連通を解除する。そして、アンテナ搬送チャンバ300の開閉扉304を開いて、両アンテナ搬送体70A、70Bをアンテナ搬送チャンバ300から搬出し、メンテナンス作業が終了となる。   When the antenna carriers 70A and 70B return to the antenna carrier chamber 300, respectively, as shown in FIG. 22B, the gate valve 201 is closed to release the communication between the antenna carrier chamber 300 and the vacuum chamber 1A. . Then, the open / close door 304 of the antenna transfer chamber 300 is opened, and both the antenna transfer bodies 70A and 70B are carried out of the antenna transfer chamber 300, and the maintenance work is completed.

上記の変形例によっても、真空チャンバ1Bにおいて成膜処理を行うとともに、真空チャンバ1Aのアレイアンテナユニット30をメンテナンスすることができるので、上記実施形態と同様の作用効果を実現することができる。   Also according to the above modification, the film forming process can be performed in the vacuum chamber 1B, and the array antenna unit 30 of the vacuum chamber 1A can be maintained, so that the same operational effects as in the above embodiment can be realized.

なお、上記実施形態においては、アンテナ搬送体70を搬送するための搬送手段として、真空チャンバ1内にガイドレール17が設けられるとともに、アンテナ搬送体70に車輪72が設けられることとした。   In the above-described embodiment, the guide rail 17 is provided in the vacuum chamber 1 and the wheels 72 are provided on the antenna carrier 70 as a carrier means for carrying the antenna carrier 70.

しかしながら、これとは逆に、真空チャンバ内に複数のガイドローラを配列するとともに、アンテナ搬送体に、上記のガイドローラに摺接する板状の部材を設けるようにしても構わない。いずれにしても、真空チャンバとアンテナ搬送チャンバとの間で搬送体を往来可能とする搬送手段が設けられていればよい。   However, conversely, a plurality of guide rollers may be arranged in the vacuum chamber, and a plate-like member that slides on the guide rollers may be provided on the antenna carrier. In any case, it suffices to provide a transport means that allows the transport body to travel between the vacuum chamber and the antenna transport chamber.

例えば、図23に示す変形例のように、真空チャンバ1の天井部2aに、アンテナ搬送用のガイドレール25を設けるとともに、このガイドレール25上を転動するガイドローラ26を、アレイアンテナユニット30に一体的もしくは着脱自在に設けるようにしてもよい。この場合には、ガイドレール25とガイドローラ26とによってアンテナ搬送手段が構成されることとなる。なお、この変形例においても、アレイアンテナユニット30を真空チャンバ1内の所定の位置まで搬入した後、当該アレイアンテナユニット30を鉛直方向に上昇させて真空チャンバ1内に掛け止めることとなる(図中左側に位置するアレイアンテナユニット30)。このとき、アレイアンテナユニット30を上昇させたり、下降させたり、掛け止めしたりする機構は、真空チャンバ1に設ければよい。   For example, as in the modification shown in FIG. 23, the antenna rail guide rail 25 is provided on the ceiling 2a of the vacuum chamber 1, and the guide roller 26 that rolls on the guide rail 25 is replaced with the array antenna unit 30. May be provided integrally or detachably. In this case, the antenna conveying means is constituted by the guide rail 25 and the guide roller 26. In this modification as well, after the array antenna unit 30 is carried to a predetermined position in the vacuum chamber 1, the array antenna unit 30 is raised in the vertical direction and hooked in the vacuum chamber 1 (FIG. The array antenna unit 30 located on the middle left side). At this time, a mechanism for raising, lowering, and latching the array antenna unit 30 may be provided in the vacuum chamber 1.

(第2の実施形態)
上述した第1の実施形態では、アレイアンテナユニット30の交換を必要とする真空チャンバ1Aにアンテナ搬送チャンバ300を連通することで、他の真空チャンバ1Bにおける成膜処理を中断することなく、真空チャンバ1Aのアレイアンテナユニット30をメンテナンスすることが可能となるアンテナ搬送システム100について説明したが、成膜案内ローラを工夫することで、アンテナ搬送チャンバ300を設けずとも真空チャンバ1Aのアレイアンテナユニット30をメンテナンスすることが可能となる。以下の実施形態では、アンテナ搬送チャンバ300を設けずとも、真空チャンバ1Bにおける成膜処理と並行して真空チャンバ1Aのアレイアンテナユニット30をメンテナンスすることが可能なアンテナ搬送システム400について説明する。
(Second Embodiment)
In the first embodiment described above, by connecting the antenna transfer chamber 300 to the vacuum chamber 1A that requires replacement of the array antenna unit 30, the vacuum chamber can be obtained without interrupting the film forming process in the other vacuum chamber 1B. Although the antenna transfer system 100 capable of maintaining the array antenna unit 30 of 1A has been described, the array antenna unit 30 of the vacuum chamber 1A can be installed without providing the antenna transfer chamber 300 by devising the film formation guide roller. Maintenance is possible. In the following embodiment, an antenna transfer system 400 capable of maintaining the array antenna unit 30 of the vacuum chamber 1A in parallel with the film forming process in the vacuum chamber 1B without providing the antenna transfer chamber 300 will be described.

図24は、本実施形態にかかるアレイアンテナ式プラズマCVD装置のアンテナ搬送システム400の構成を説明するための説明図である。図24に示すように、アンテナ搬送システム400は、真空チャンバ401と、アレイアンテナユニット30と、基材搬送チャンバ450とを含んで構成される。また、真空チャンバ401は、筐体2、天井部2a、底面部2b、右側面部2c、左側面部2d、正面部2e、背面部2f、フロント開口部3、リヤ開口部4、フロント開閉扉5、リヤ開閉扉6、右開口部7、開閉扉8、左開口部9、コネクタ群11、高周波電源12、第1天井側コネクタ13、第2天井側コネクタ14、ガス供給源15、真空ポンプ16、ガイドレール17、ゲートバルブ201、成膜案内ローラ410を含んで構成され、基材搬送チャンバ450は、ゲートバルブ151、送出ローラ160、巻取ローラ162、搬送案内ローラ164を含んで構成される。なお、第1の実施形態と同様の構成については同一の符号を付するとともに、その詳細な説明は省略する。以下、第1の実施形態と構成の異なる成膜案内ローラ410について詳述する。 図24に示すように、真空チャンバ401に配された成膜案内ローラ410は、不図示のローラ移動機構によって基材搬送チャンバ450に移動されたり(図24中、白抜き矢印で示す)、基材搬送チャンバ450に移動された成膜案内ローラ410を真空チャンバ401に戻したりする。ここで、ローラ移動機構は、真空チャンバ401および基材搬送チャンバ450に設けられていてもよいし、成膜案内ローラ410自体が有していてもよい。以下、図25、図26を用いてローラ移動機構による成膜案内ローラ410の移動過程について説明する。   FIG. 24 is an explanatory diagram for explaining the configuration of the antenna transfer system 400 of the array antenna type plasma CVD apparatus according to the present embodiment. As shown in FIG. 24, the antenna transfer system 400 includes a vacuum chamber 401, an array antenna unit 30, and a substrate transfer chamber 450. The vacuum chamber 401 includes a housing 2, a ceiling 2a, a bottom 2b, a right side 2c, a left side 2d, a front 2e, a back 2f, a front opening 3, a rear opening 4, a front open / close door 5, Rear opening / closing door 6, right opening 7, opening / closing door 8, left opening 9, connector group 11, high frequency power supply 12, first ceiling side connector 13, second ceiling side connector 14, gas supply source 15, vacuum pump 16, The guide rail 17, the gate valve 201, and the film forming guide roller 410 are configured, and the substrate transport chamber 450 is configured to include the gate valve 151, the delivery roller 160, the take-up roller 162, and the transport guide roller 164. In addition, about the structure similar to 1st Embodiment, while attaching | subjecting the same code | symbol, the detailed description is abbreviate | omitted. Hereinafter, the film forming guide roller 410 having a configuration different from that of the first embodiment will be described in detail. As shown in FIG. 24, the film forming guide roller 410 disposed in the vacuum chamber 401 is moved to the substrate transport chamber 450 by a roller moving mechanism (not shown) (indicated by a white arrow in FIG. 24), The film formation guide roller 410 moved to the material transfer chamber 450 is returned to the vacuum chamber 401. Here, the roller moving mechanism may be provided in the vacuum chamber 401 and the substrate transport chamber 450, or the film forming guide roller 410 itself may be provided. Hereinafter, the moving process of the film forming guide roller 410 by the roller moving mechanism will be described with reference to FIGS.

(成膜案内ローラの移動過程)
図25、図26は、成膜案内ローラ410の移動過程を説明するための説明図である。例えば、真空チャンバ401Aにおいて、アレイアンテナユニット30の交換が必要であったとすると、まず、図25中白抜き矢印で示すように、ローラ移動機構は真空チャンバ401Aから基材搬送チャンバ450に成膜案内ローラ410を移動する。
(Movement process of film forming guide roller)
25 and 26 are explanatory diagrams for explaining the movement process of the film forming guide roller 410. For example, if it is necessary to replace the array antenna unit 30 in the vacuum chamber 401A, first, as shown by a white arrow in FIG. 25, the roller moving mechanism guides the film formation from the vacuum chamber 401A to the substrate transfer chamber 450. The roller 410 is moved.

次に、図26(a)に示すように、ゲートバルブ151を閉じて、真空チャンバ401Aのゲートバルブ201を開け、真空チャンバ401Aを大気開放する。そして、図26(b)に示すように、アンテナ搬送体70等を利用して、真空チャンバ401Aの天井部2aに掛け止められているアレイアンテナユニット30を取り外す。   Next, as shown in FIG. 26A, the gate valve 151 is closed, the gate valve 201 of the vacuum chamber 401A is opened, and the vacuum chamber 401A is opened to the atmosphere. Then, as shown in FIG. 26B, the array antenna unit 30 hung on the ceiling portion 2a of the vacuum chamber 401A is removed using the antenna carrier 70 or the like.

このように、本実施形態にかかるアンテナ搬送システム400は、成膜案内ローラ410を移動させるといった簡易な構成で、成膜処理を行っている真空チャンバ401Bおよび基材搬送チャンバ450の真空状態を維持したまま、真空チャンバ401Aから使用済みのアレイアンテナユニット30を搬出することができる。   As described above, the antenna transfer system 400 according to the present embodiment maintains the vacuum state of the vacuum chamber 401B and the substrate transfer chamber 450 in which the film forming process is performed with a simple configuration in which the film forming guide roller 410 is moved. In this state, the used array antenna unit 30 can be carried out from the vacuum chamber 401A.

また、この際、上述した第1の実施形態と同様に、送出ローラ160と巻取ローラ162との回転速度を遅くすることで、真空チャンバ401Bのみで成膜処理を行っても、真空チャンバ401Aおよび真空チャンバ401Bで成膜処理を行う場合と同等の膜厚に成膜することが可能となる。   At this time, similarly to the first embodiment described above, even if the film forming process is performed only in the vacuum chamber 401B by reducing the rotation speeds of the delivery roller 160 and the take-up roller 162, the vacuum chamber 401A In addition, it is possible to form a film with a film thickness equivalent to that in the case where the film forming process is performed in the vacuum chamber 401B.

なお、メンテナンス済みのアレイアンテナユニット30を、真空チャンバ401内に搬入する際には、上記の各工程を逆の順序で行えばよい。   When the array antenna unit 30 that has been maintained is carried into the vacuum chamber 401, the above steps may be performed in the reverse order.

また、上記実施形態におけるアレイアンテナユニットやアンテナ保持部材の構成は一例に過ぎない。いずれにしても、アンテナ保持部材は、アレイアンテナユニットを着脱自在に保持するものであればよい。したがって、アンテナ保持部材においては、アレイアンテナユニットに支持される電極棒の移動を制限する調整部材や、アレイアンテナユニットを揺動自在に保持するための揺動機構は必須の構成ではない。   In addition, the configurations of the array antenna unit and the antenna holding member in the above embodiment are merely examples. In any case, the antenna holding member only needs to hold the array antenna unit detachably. Therefore, in the antenna holding member, an adjustment member that restricts the movement of the electrode rod supported by the array antenna unit and a swing mechanism for swingably holding the array antenna unit are not essential components.

また、アレイアンテナユニットの構成や、当該アレイアンテナユニットを保持するアンテナ保持部材の構成によっては、アンテナ保持部材をスライドさせるスライド装置も必須ではない。つまり、アンテナ保持部材を搬送方向に直交もしくは交差する方向にスライドさせる目的は、アンテナ搬送体を搬出する際に、アンテナ保持部材とアレイアンテナユニットとの干渉を防ぐことにある。したがって、アンテナ搬送体の搬出にあたって、アンテナ搬送体とアレイアンテナユニットとが干渉しなくなれば、アンテナ保持部材の全部をスライドさせずに、例えば調整部材のみをスライドさせるなど、アンテナ保持部材の一部のみをスライドさせるようにしても構わない。なお、アンテナ保持部材を搬送方向に直交もしくは交差する方向にスライド可能とする場合に、そのスライドを上記実施形態のようにスライド装置によって自動で行うこととしてもよいし、手動によって行うこととしてもよい。このように、アンテナ保持部材の構成は、アレイアンテナユニットの構成に応じて適宜設計すればよい。   Also, depending on the configuration of the array antenna unit and the configuration of the antenna holding member that holds the array antenna unit, a slide device that slides the antenna holding member is not essential. In other words, the purpose of sliding the antenna holding member in a direction orthogonal to or intersecting the transport direction is to prevent interference between the antenna holding member and the array antenna unit when the antenna transport body is carried out. Therefore, when carrying out the antenna carrier, if the antenna carrier and the array antenna unit do not interfere with each other, only a part of the antenna holding member is slid without sliding the whole antenna holding member, for example, only the adjusting member. You may make it slide. When the antenna holding member can be slid in a direction orthogonal to or intersecting the transport direction, the slide may be automatically performed by the slide device as in the above embodiment, or may be manually performed. . As described above, the configuration of the antenna holding member may be appropriately designed according to the configuration of the array antenna unit.

また、上記実施形態においては、アンテナ搬送体にエアシリンダを設け、アレイアンテナユニットを鉛直方向に昇降可能な構成としたが、こうしたアレイアンテナユニットを変位させる変位手段は必須の構成ではない。また、上記実施形態においては、変位手段がアレイアンテナユニットを鉛直方向に昇降させる構成としたが、変位手段によるアレイアンテナユニットの変位方向はこれに限らない。つまり、変位手段によってアレイアンテナユニットを変位させる目的は、真空チャンバに設けられたコネクタに、アレイアンテナユニットの電極棒(アンテナ側コネクタ)を一括して接続することにある。したがって、例えば、真空チャンバに設けられたコネクタが、電極棒を水平方向に変位させて接続されるように配置された場合には、変位手段はアレイアンテナユニットを同一の水平方向に変位させることとなる。   In the above-described embodiment, the antenna carrier is provided with an air cylinder so that the array antenna unit can be moved up and down in the vertical direction. However, a displacement means for displacing the array antenna unit is not an essential configuration. In the above embodiment, the displacement means moves the array antenna unit up and down in the vertical direction. However, the displacement direction of the array antenna unit by the displacement means is not limited to this. In other words, the purpose of displacing the array antenna unit by the displacing means is to collectively connect the electrode rods (antenna side connector) of the array antenna unit to the connector provided in the vacuum chamber. Therefore, for example, when the connector provided in the vacuum chamber is arranged so that the electrode rod is displaced in the horizontal direction and connected, the displacing means displaces the array antenna unit in the same horizontal direction. Become.

また、上記実施形態においては、エアシリンダによってアレイアンテナユニットが鉛直方向に昇降する構成としたが、アレイアンテナユニットの変位は手動で行われるようにしても構わない。さらに、アレイアンテナユニットを自動で変位させる変位手段を設ける場合には、エアシリンダに限らず、油圧シリンダや電動シリンダなど、種々のアクチュエータによって変位手段を構成することが可能である。ただし、エアシリンダは、他の装置に比べてクッション性が高いので、上述の揺動機構と相まって、アレイアンテナユニットを掛け止める際の移動自由度が増し、取り付け容易性を向上することができる。なお、アレイアンテナユニットを上昇または下降させる変位手段は、アンテナ搬送体に設けずに真空チャンバに設けるようにしても構わない。   In the above embodiment, the array antenna unit is moved up and down in the vertical direction by the air cylinder. However, the displacement of the array antenna unit may be manually performed. Further, in the case of providing a displacement means for automatically displacing the array antenna unit, the displacement means can be configured by various actuators such as a hydraulic cylinder and an electric cylinder, not limited to an air cylinder. However, since the air cylinder has higher cushioning properties than other devices, in combination with the above-described swing mechanism, the degree of freedom of movement when the array antenna unit is hooked is increased, and the ease of attachment can be improved. The displacement means for raising or lowering the array antenna unit may be provided in the vacuum chamber without being provided in the antenna carrier.

また、上記実施形態においては、アンテナ搬送体に2体のアレイアンテナユニットが同時に保持可能な構成としたが、アンテナ搬送体に同時に保持可能なアレイアンテナユニットの数は限定されない。また、複数のアレイアンテナユニットを同時に保持する構成とした場合には、アレイアンテナユニットと同数のアンテナ保持部材を設けることとしてもよいし、1つのアンテナ保持部材に複数のアレイアンテナユニットを保持可能な構成としてもよい。   Moreover, in the said embodiment, although it was set as the structure which can hold | maintain two array antenna units simultaneously at an antenna carrier, the number of array antenna units which can be simultaneously hold | maintained at an antenna carrier is not limited. Further, when a plurality of array antenna units are configured to be held at the same time, the same number of antenna holding members as the array antenna units may be provided, and a plurality of array antenna units can be held on one antenna holding member. It is good also as a structure.

なお、上記実施形態のように、複数のアレイアンテナユニットを同時に保持可能な構成とし、かつ、これらアレイアンテナユニットを変位させる変位手段を設ける場合には、各アレイアンテナユニットを個別に変位可能とすることが望ましい。各アレイアンテナユニットを真空チャンバに掛け止める際には、コネクタの接続状態などを目視確認する必要がある。このとき、複数のアレイアンテナユニットが同時に変位することとなると、作業者から見て相対的に奥側に位置するアレイアンテナユニットの取り付け状況の確認が困難となる。したがって、変位手段によって複数のアレイアンテナユニットを変位させる場合には、変位手段が個別に作動する構成にするとよい。   In addition, when it is set as the structure which can hold | maintain several array antenna units simultaneously like the said embodiment, and the displacement means to displace these array antenna units is provided, each array antenna unit can be displaced individually. It is desirable. When each array antenna unit is hung on the vacuum chamber, it is necessary to visually check the connection state of the connector. At this time, if a plurality of array antenna units are displaced at the same time, it is difficult to confirm the mounting state of the array antenna unit positioned relatively far behind as viewed from the operator. Therefore, when a plurality of array antenna units are displaced by the displacement means, the displacement means may be configured to operate individually.

以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明はかかる実施形態に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。   As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described referring an accompanying drawing, it cannot be overemphasized that this invention is not limited to this embodiment. It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made within the scope of the claims, and these are naturally within the technical scope of the present invention. Is done.

本発明は、真空チャンバ内でプラズマを発生させてフィルム基材表面に薄膜を生成するアレイアンテナ式プラズマCVD装置のアンテナ交換方法、アンテナ搬送システム、およびアンテナ搬送装置に利用することができる。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be used for an antenna replacement method, an antenna transfer system, and an antenna transfer device of an array antenna type plasma CVD apparatus that generates plasma in a vacuum chamber to generate a thin film on the surface of a film substrate.

1、401 真空チャンバ
10 内部空間
12 高周波電源
13 第1天井側コネクタ
14 第2天井側コネクタ
15 ガス供給源
17、25 ガイドレール
19 掛止ピン
20、410 成膜案内ローラ
26 ガイドローラ
30 アレイアンテナユニット
36 掛止孔
50 誘導結合型電極
51 第1電極棒
52 第2電極棒
62 車輪
70 アンテナ搬送体
72 車輪
73 アンテナ保持部材
100、450 基材搬送チャンバ
160 送出ローラ
162 巻取ローラ
164 搬送案内ローラ
200、300 アンテナ搬送チャンバ
W フィルム基材
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,401 Vacuum chamber 10 Internal space 12 High frequency power supply 13 First ceiling side connector 14 Second ceiling side connector 15 Gas supply source 17, 25 Guide rail 19 Latching pin 20, 410 Film formation guide roller 26 Guide roller 30 Array antenna unit 36 latching hole 50 inductively coupled electrode 51 first electrode rod 52 second electrode rod 62 wheel 70 antenna carrier 72 wheel 73 antenna holding member 100, 450 substrate carrier chamber 160 delivery roller 162 take-up roller 164 carrier guide roller 200 300 Antenna transfer chamber W Film substrate

Claims (9)

真空状態に減圧可能な内部にガス供給源から材料ガスが供給される複数の真空チャンバと、
前記複数の真空チャンバそれぞれに設けられ高周波電源に電気的に接続可能な複数のコネクタと、
前記真空チャンバ内で前記複数のコネクタそれぞれに接続可能な複数本の電極棒を有し、前記電極棒がコネクタに接続された状態で前記高周波電源から電力供給されることによりプラズマを発生させるアレイアンテナユニットと、
前記複数の真空チャンバを、該複数の真空チャンバそれぞれの1つの側面で連通させる基材搬送チャンバと、
前記基材搬送チャンバの水平方向の一方の端部に設けられ、フィルム基材を送り出す送出ローラと、
前記基材搬送チャンバの水平方向の他方の端部に設けられ、前記送出ローラが送り出したフィルム基材を巻き取る巻取ローラと、
前記基材搬送チャンバにおいて、前記送出ローラと前記巻取ローラとの間に設けられ、前記フィルム基材の搬送を案内し、かつ、該フィルム基材に所定の張力をかけるための複数の搬送案内ローラと、
前記複数の真空チャンバそれぞれに設けられ、前記搬送案内ローラ間を移動する前記フィルム基材と前記アレイアンテナユニットとが対向するように該フィルム基材を案内し、かつ、該フィルム基材に所定の張力をかけるための成膜案内ローラと、
を備えたアレイアンテナ式プラズマCVD装置においてアレイアンテナユニットを交換するアレイアンテナ交換方法であって、
前記複数の真空チャンバの内部および前記基材搬送チャンバの内部を真空状態に減圧する工程と、
アンテナ搬送チャンバの内部を真空状態に減圧する工程と、
前記アンテナ搬送チャンバと前記真空チャンバとを連結し、該アンテナ搬送チャンバと該真空チャンバとの内部を真空状態に維持したまま当該両チャンバを連通する工程と、
前記真空チャンバから前記アレイアンテナユニットを取り外す工程と、
取り外された前記アレイアンテナユニットを前記真空チャンバから前記アンテナ搬送チャンバに搬送する工程と、を含むことを特徴とするアレイアンテナ式プラズマCVD装置のアンテナ交換方法。
A plurality of vacuum chambers in which a material gas is supplied from a gas supply source into an interior that can be decompressed to a vacuum state;
A plurality of connectors provided in each of the plurality of vacuum chambers and electrically connectable to a high-frequency power source;
An array antenna having a plurality of electrode rods connectable to each of the plurality of connectors in the vacuum chamber, and generating plasma by supplying power from the high-frequency power source while the electrode rods are connected to the connectors Unit,
A substrate transfer chamber that communicates the plurality of vacuum chambers on one side of each of the plurality of vacuum chambers;
A feed roller that is provided at one end in the horizontal direction of the substrate transport chamber, and that feeds the film substrate;
A take-up roller that is provided at the other end in the horizontal direction of the base material transport chamber and winds up the film base material sent out by the feed roller;
In the base material transport chamber, a plurality of transport guides provided between the delivery roller and the take-up roller for guiding the transport of the film base material and applying a predetermined tension to the film base material. Laura,
Guided to each of the plurality of vacuum chambers so that the film substrate moving between the transport guide rollers and the array antenna unit are opposed to each other, and a predetermined amount is provided on the film substrate. A film forming guide roller for applying tension;
An array antenna exchange method for exchanging an array antenna unit in an array antenna type plasma CVD apparatus comprising:
Reducing the inside of the plurality of vacuum chambers and the inside of the substrate transport chamber to a vacuum state;
Reducing the inside of the antenna transfer chamber to a vacuum state;
Connecting the antenna transfer chamber and the vacuum chamber, and communicating the two chambers while maintaining the inside of the antenna transfer chamber and the vacuum chamber in a vacuum state;
Removing the array antenna unit from the vacuum chamber;
Transferring the removed array antenna unit from the vacuum chamber to the antenna transfer chamber, and replacing the antenna of the array antenna type plasma CVD apparatus.
前記アンテナ搬送チャンバの内部を真空状態に減圧する前に、該アンテナ搬送チャンバに新たなアレイアンテナユニットを収容しておき、
前記取り外されたアレイアンテナユニットを前記真空チャンバから前記アンテナ搬送チャンバに搬送する前記工程に続いて、
互いに真空状態を維持したまま内部が連通された前記両チャンバ間で、前記アンテナ搬送チャンバから前記真空チャンバに前記新たなアレイアンテナユニットを搬入する工程と、
前記新たなアレイアンテナユニットの電極棒それぞれが、前記複数のコネクタに接続されるように該新たなアレイアンテナユニットを前記真空チャンバ内に掛け止めする工程と、を含むことを特徴とする請求項1に記載のアレイアンテナ式プラズマCVD装置のアンテナ交換方法。
Before depressurizing the inside of the antenna transfer chamber to a vacuum state, a new array antenna unit is accommodated in the antenna transfer chamber,
Following the step of transporting the removed array antenna unit from the vacuum chamber to the antenna transport chamber,
Carrying the new array antenna unit from the antenna transfer chamber to the vacuum chamber between the two chambers that communicate with each other while maintaining a vacuum state;
2. The method includes: latching the new array antenna unit in the vacuum chamber so that each electrode rod of the new array antenna unit is connected to the plurality of connectors. The antenna exchange method of the array antenna type plasma CVD apparatus as described in 1 above.
真空状態に減圧可能な内部にガス供給源から材料ガスが供給される複数の真空チャンバと、
前記複数の真空チャンバそれぞれに設けられ高周波電源に電気的に接続可能な複数のコネクタと、
前記真空チャンバ内で前記複数のコネクタそれぞれに接続可能な複数本の電極棒を有し、前記電極棒がコネクタに接続された状態で前記高周波電源から電力供給されることによりプラズマを発生させるアレイアンテナユニットと、
前記複数の真空チャンバを、該複数の真空チャンバそれぞれの1つの側面で連通させる基材搬送チャンバと、
前記基材搬送チャンバの水平方向の一方の端部に設けられ、フィルム基材を送り出す送出ローラと、
前記基材搬送チャンバの水平方向の他方の端部に設けられ、前記送出ローラが送り出したフィルム基材を巻き取る巻取ローラと、
前記基材搬送チャンバにおいて、前記送出ローラと前記巻取ローラとの間に設けられ、前記フィルム基材の搬送を案内し、かつ、該フィルム基材に所定の張力をかけるための複数の搬送案内ローラと、
前記複数の真空チャンバそれぞれに設けられ、前記搬送案内ローラ間を移動する前記フィルム基材と前記アレイアンテナユニットとが対向するように該フィルム基材を案内し、かつ、該フィルム基材に所定の張力をかけるための成膜案内ローラと、
前記アレイアンテナユニットを収容可能であって、内部を真空状態に維持したまま前記真空チャンバに連通可能なアンテナ搬送チャンバと、
互いに真空状態を維持したまま内部が連通された前記アンテナ搬送チャンバおよび前記真空チャンバ間で、前記アレイアンテナユニットを往来可能とするアンテナ搬送手段と、
前記アンテナ搬送手段によって前記真空チャンバ内に搬入された前記アレイアンテナユニットを着脱自在に掛け止めするアンテナ掛止手段と、
を備えたことを特徴とするアレイアンテナ式プラズマCVD装置のアンテナ搬送システム。
A plurality of vacuum chambers in which a material gas is supplied from a gas supply source into an interior that can be decompressed to a vacuum state;
A plurality of connectors provided in each of the plurality of vacuum chambers and electrically connectable to a high-frequency power source;
An array antenna having a plurality of electrode rods connectable to each of the plurality of connectors in the vacuum chamber, and generating plasma by supplying power from the high-frequency power source while the electrode rods are connected to the connectors Unit,
A substrate transfer chamber that communicates the plurality of vacuum chambers on one side of each of the plurality of vacuum chambers;
A feed roller that is provided at one end in the horizontal direction of the substrate transport chamber, and that feeds the film substrate;
A take-up roller that is provided at the other end in the horizontal direction of the base material transport chamber and winds up the film base material sent out by the feed roller;
In the base material transport chamber, a plurality of transport guides provided between the delivery roller and the take-up roller for guiding the transport of the film base material and applying a predetermined tension to the film base material. Laura,
Guided to each of the plurality of vacuum chambers so that the film substrate moving between the transport guide rollers and the array antenna unit are opposed to each other, and a predetermined amount is provided on the film substrate. A film forming guide roller for applying tension;
An antenna transfer chamber capable of accommodating the array antenna unit and communicating with the vacuum chamber while maintaining a vacuum inside;
Antenna transfer means for allowing the array antenna unit to be able to come and go between the antenna transfer chamber and the vacuum chamber that communicate with each other while maintaining a vacuum state with each other;
Antenna latching means for detachably latching the array antenna unit carried into the vacuum chamber by the antenna transport means;
An antenna carrier system for an array antenna type plasma CVD apparatus.
前記アンテナ搬送手段は、
前記アンテナ搬送チャンバおよび前記真空チャンバに設けられたガイドレールと、
前記ガイドレール上を転動可能であって前記アレイアンテナユニットに一体的あるいは着脱自在に設けられたガイドローラと、を含むことを特徴とする請求項3に記載のアレイアンテナ式プラズマCVD装置のアンテナ搬送システム。
The antenna carrying means is
Guide rails provided in the antenna transfer chamber and the vacuum chamber;
The antenna of the array antenna type plasma CVD apparatus according to claim 3, further comprising a guide roller that can roll on the guide rail and is provided integrally or detachably on the array antenna unit. Conveying system.
真空状態に減圧可能な内部にガス供給源から材料ガスが供給される複数の真空チャンバと、
前記複数の真空チャンバそれぞれに設けられ高周波電源に電気的に接続可能な複数のコネクタと、
前記真空チャンバ内で前記複数のコネクタそれぞれに接続可能な複数本の電極棒を有し、前記電極棒がコネクタに接続された状態で前記高周波電源から電力供給されることによりプラズマを発生させるアレイアンテナユニットと、
前記複数の真空チャンバを、該複数の真空チャンバそれぞれの1つの側面で連通させる基材搬送チャンバと、
前記基材搬送チャンバの水平方向の一方の端部に設けられ、フィルム基材を送り出す送出ローラと、
前記基材搬送チャンバの水平方向の他方の端部に設けられ、前記送出ローラが送り出したフィルム基材を巻き取る巻取ローラと、
前記基材搬送チャンバにおいて、前記送出ローラと前記巻取ローラとの間に設けられ、前記フィルム基材の搬送を案内し、かつ、該フィルム基材に所定の張力をかけるための複数の搬送案内ローラと、
前記複数の真空チャンバそれぞれに設けられ、前記搬送案内ローラ間を移動する前記フィルム基材と前記アレイアンテナユニットとが対向するように該フィルム基材を案内し、かつ、該フィルム基材に所定の張力をかけるための成膜案内ローラと、
前記真空チャンバと前記基材搬送チャンバとの間で前記成膜案内ローラを移動させるローラ移動機構と、
を備えたアレイアンテナ式プラズマCVD装置においてアレイアンテナユニットを交換するアレイアンテナ交換方法であって、
前記複数の真空チャンバの内部および前記基材搬送チャンバの内部を真空状態に減圧する工程と、
前記ローラ移動機構によって、真空状態を維持したまま連通された前記複数の真空チャンバのうちいずれか1または複数の真空チャンバから前記基材搬送チャンバに前記成膜案内ローラを移動させる工程と、
真空状態を維持したまま、前記成膜案内ローラが前記基材搬送チャンバに移動された真空チャンバと、前記基材搬送チャンバとの連通を解除する工程と、
前記成膜案内ローラが基材搬送チャンバに移動された真空チャンバから前記アレイアンテナユニットを取り外す工程と、を含むことを特徴とするアレイアンテナ式プラズマCVD装置のアンテナ交換方法。
A plurality of vacuum chambers in which a material gas is supplied from a gas supply source into an interior that can be decompressed to a vacuum state;
A plurality of connectors provided in each of the plurality of vacuum chambers and electrically connectable to a high-frequency power source;
An array antenna having a plurality of electrode rods connectable to each of the plurality of connectors in the vacuum chamber, and generating plasma by supplying power from the high-frequency power source while the electrode rods are connected to the connectors Unit,
A substrate transfer chamber that communicates the plurality of vacuum chambers on one side of each of the plurality of vacuum chambers;
A feed roller that is provided at one end in the horizontal direction of the substrate transport chamber, and that feeds the film substrate;
A take-up roller that is provided at the other end in the horizontal direction of the base material transport chamber and winds up the film base material sent out by the feed roller;
In the base material transport chamber, a plurality of transport guides provided between the delivery roller and the take-up roller for guiding the transport of the film base material and applying a predetermined tension to the film base material. Laura,
Guided to each of the plurality of vacuum chambers so that the film substrate moving between the transport guide rollers and the array antenna unit are opposed to each other, and a predetermined amount is provided on the film substrate. A film forming guide roller for applying tension;
A roller moving mechanism for moving the film forming guide roller between the vacuum chamber and the substrate transport chamber;
An array antenna exchange method for exchanging an array antenna unit in an array antenna type plasma CVD apparatus comprising:
Reducing the inside of the plurality of vacuum chambers and the inside of the substrate transport chamber to a vacuum state;
Moving the film forming guide roller from any one or more of the plurality of vacuum chambers communicated while maintaining a vacuum state to the substrate transport chamber by the roller moving mechanism;
Releasing the communication between the vacuum chamber in which the film forming guide roller is moved to the base material transport chamber and the base material transport chamber while maintaining a vacuum state;
Removing the array antenna unit from the vacuum chamber in which the film forming guide roller has been moved to the substrate transport chamber, and an antenna exchange method for an array antenna type plasma CVD apparatus.
前記成膜案内ローラが基材搬送チャンバに移動された真空チャンバから前記アレイアンテナユニットを取り外す前記工程に続いて、
前記成膜案内ローラが基材搬送チャンバに移動された真空チャンバに、新たなアレイアンテナユニットを搬入し、該新たなアレイアンテナユニットの電極棒それぞれが、前記複数のコネクタに接続されるように該新たなアレイアンテナユニットを該真空チャンバ内に掛け止めする工程と、
前記新たなアレイアンテナユニットが掛け止めされた真空チャンバと前記基材搬送チャンバとの内部を真空状態に維持したまま当該両チャンバを連通する工程と、
前記ローラ移動機構によって、前記基材搬送チャンバから前記新たなアレイアンテナユニットが掛け止めされた真空チャンバに前記成膜案内ローラを移動させる工程と、を含むことを特徴とする請求項5に記載のアレイアンテナ式プラズマCVD装置のアンテナ交換方法。
Following the step of removing the array antenna unit from the vacuum chamber in which the film forming guide roller is moved to the substrate transfer chamber,
A new array antenna unit is carried into the vacuum chamber in which the film forming guide roller has been moved to the substrate transport chamber, and the electrode rods of the new array antenna unit are connected to the plurality of connectors. Hooking a new array antenna unit into the vacuum chamber;
Communicating both chambers while maintaining the inside of the vacuum chamber in which the new array antenna unit is hooked and the base material transfer chamber in a vacuum state;
The step of moving the film forming guide roller from the base material transfer chamber to a vacuum chamber on which the new array antenna unit is hooked by the roller moving mechanism. Antenna exchange method for array antenna type plasma CVD apparatus.
真空状態に減圧可能な内部にガス供給源から材料ガスが供給される複数の真空チャンバと、
前記複数の真空チャンバそれぞれに設けられ高周波電源に電気的に接続可能な複数のコネクタと、
前記真空チャンバ内で前記複数のコネクタそれぞれに接続可能な複数本の電極棒を有し、前記電極棒がコネクタに接続された状態で前記高周波電源から電力供給されることによりプラズマを発生させるアレイアンテナユニットと、
前記複数の真空チャンバを、該複数の真空チャンバそれぞれの1つの側面で連通させる基材搬送チャンバと、
前記基材搬送チャンバの水平方向の一方の端部に設けられ、フィルム基材を送り出す送出ローラと、
前記基材搬送チャンバの水平方向の他方の端部に設けられ、前記送出ローラが送り出したフィルム基材を巻き取る巻取ローラと、
前記基材搬送チャンバにおいて、前記送出ローラと前記巻取ローラとの間に設けられ、前記フィルム基材の搬送を案内し、かつ、該フィルム基材に所定の張力をかけるための複数の搬送案内ローラと、
前記複数の真空チャンバそれぞれに設けられ、前記搬送案内ローラ間を移動する前記フィルム基材と前記アレイアンテナユニットとが対向するように該フィルム基材を案内し、かつ、該フィルム基材に所定の張力をかけるための成膜案内ローラと、
前記真空チャンバと前記基材搬送チャンバとの間で前記成膜案内ローラを移動させるローラ移動機構と、
前記真空チャンバ内に搬入された前記アレイアンテナユニットを着脱自在に掛け止めするアンテナ掛止手段と、
を備えたことを特徴とするアレイアンテナ式プラズマCVD装置のアンテナ搬送システム。
A plurality of vacuum chambers in which a material gas is supplied from a gas supply source into an interior that can be decompressed to a vacuum state;
A plurality of connectors provided in each of the plurality of vacuum chambers and electrically connectable to a high-frequency power source;
An array antenna having a plurality of electrode rods connectable to each of the plurality of connectors in the vacuum chamber, and generating plasma by supplying power from the high-frequency power source while the electrode rods are connected to the connectors Unit,
A substrate transfer chamber that communicates the plurality of vacuum chambers on one side of each of the plurality of vacuum chambers;
A feed roller that is provided at one end in the horizontal direction of the substrate transport chamber, and that feeds the film substrate;
A take-up roller that is provided at the other end in the horizontal direction of the base material transport chamber and winds up the film base material sent out by the feed roller;
In the base material transport chamber, a plurality of transport guides provided between the delivery roller and the take-up roller for guiding the transport of the film base material and applying a predetermined tension to the film base material. Laura,
Guided to each of the plurality of vacuum chambers so that the film substrate moving between the transport guide rollers and the array antenna unit are opposed to each other, and a predetermined amount is provided on the film substrate. A film forming guide roller for applying tension;
A roller moving mechanism for moving the film forming guide roller between the vacuum chamber and the substrate transport chamber;
An antenna latching means for detachably latching the array antenna unit carried into the vacuum chamber;
An antenna carrier system for an array antenna type plasma CVD apparatus.
真空状態に減圧可能な内部にガス供給源から材料ガスが供給される複数の真空チャンバと、
前記複数の真空チャンバそれぞれに設けられ高周波電源に電気的に接続可能な複数のコネクタと、
前記真空チャンバ内で前記複数のコネクタそれぞれに接続可能な複数本の電極棒を有し、前記電極棒がコネクタに接続された状態で前記高周波電源から電力供給されることによりプラズマを発生させるアレイアンテナユニットと、
前記複数の真空チャンバを、該複数の真空チャンバそれぞれの1つの側面で連通させる基材搬送チャンバと、
前記基材搬送チャンバの水平方向の一の端部に設けられ、フィルム基材を送り出す送出ローラと、
前記基材搬送チャンバの水平方向の他方の端部に設けられ、前記送出ローラが送り出したフィルム基材を巻き取る巻取ローラと、
前記基材搬送チャンバにおいて、前記送出ローラと前記巻取ローラとの間に設けられ、前記フィルム基材の搬送を案内し、かつ、該フィルム基材に所定の張力をかけるための複数の搬送案内ローラと、
前記複数の真空チャンバそれぞれに設けられ、前記搬送案内ローラ間を移動する前記フィルム基材と前記アレイアンテナユニットとが対向するように該フィルム基材を案内し、かつ、該フィルム基材に所定の張力をかけるための成膜案内ローラと、
前記真空チャンバ内に搬入された前記アレイアンテナユニットを着脱自在に掛け止めするアンテナ掛止手段と、
を備えるアレイアンテナ式プラズマCVD装置に連結されるアンテナ搬送装置であって、
前記アレイアンテナユニットを収容可能であって、真空状態を維持したまま前記真空チャンバと連通可能なアンテナ搬送チャンバと、
互いに真空状態を維持したまま内部が連通された前記アンテナ搬送チャンバおよび前記真空チャンバ間で、前記アレイアンテナユニットを往来可能とするアンテナ搬送手段と、
を備え、
前記アンテナ掛止手段は、前記アンテナ搬送手段によって前記真空チャンバ内に搬入された前記アレイアンテナユニットを着脱自在に掛け止めすることを特徴とするアンテナ搬送装置。
A plurality of vacuum chambers in which a material gas is supplied from a gas supply source into an interior that can be decompressed to a vacuum state;
A plurality of connectors provided in each of the plurality of vacuum chambers and electrically connectable to a high-frequency power source;
An array antenna having a plurality of electrode rods connectable to each of the plurality of connectors in the vacuum chamber, and generating plasma by supplying power from the high-frequency power source while the electrode rods are connected to the connectors Unit,
A substrate transfer chamber that communicates the plurality of vacuum chambers on one side of each of the plurality of vacuum chambers;
A feed roller that is provided at one end in the horizontal direction of the substrate transport chamber, and that feeds the film substrate;
A take-up roller that is provided at the other end in the horizontal direction of the base material transport chamber and winds up the film base material sent out by the feed roller;
In the base material transport chamber, a plurality of transport guides provided between the delivery roller and the take-up roller for guiding the transport of the film base material and applying a predetermined tension to the film base material. Laura,
Guided to each of the plurality of vacuum chambers so that the film substrate moving between the transport guide rollers and the array antenna unit are opposed to each other, and a predetermined amount is provided on the film substrate. A film forming guide roller for applying tension;
An antenna latching means for detachably latching the array antenna unit carried into the vacuum chamber;
An antenna carrier device coupled to an array antenna type plasma CVD apparatus comprising:
An antenna transfer chamber capable of accommodating the array antenna unit and communicating with the vacuum chamber while maintaining a vacuum state;
Antenna transfer means for allowing the array antenna unit to be able to come and go between the antenna transfer chamber and the vacuum chamber that communicate with each other while maintaining a vacuum state with each other;
With
The antenna carrying device, wherein the antenna carrying device detachably latches the array antenna unit carried into the vacuum chamber by the antenna carrying device.
前記アンテナ搬送手段は、
前記アンテナ搬送チャンバおよび前記真空チャンバに設けられたガイドレールと、
前記ガイドレール上を転動可能であって前記アレイアンテナユニットに一体的あるいは着脱自在に設けられたガイドローラと、を含むことを特徴とする請求項8に記載のアンテナ搬送装置。
The antenna carrying means is
Guide rails provided in the antenna transfer chamber and the vacuum chamber;
The antenna conveyance device according to claim 8, further comprising a guide roller that can roll on the guide rail and is provided integrally or detachably on the array antenna unit.
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