Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP5613081B2 - Developing roll for electrophotographic apparatus and method for producing mold - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP5613081B2 - Developing roll for electrophotographic apparatus and method for producing mold - Google Patents

Developing roll for electrophotographic apparatus and method for producing mold Download PDF

Info

Publication number
JP5613081B2
JP5613081B2 JP2011038383A JP2011038383A JP5613081B2 JP 5613081 B2 JP5613081 B2 JP 5613081B2 JP 2011038383 A JP2011038383 A JP 2011038383A JP 2011038383 A JP2011038383 A JP 2011038383A JP 5613081 B2 JP5613081 B2 JP 5613081B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
rubber elastic
elastic layer
layer
mold
dispersed particles
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2011038383A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2012173703A (en
Inventor
真吾 仲市
真吾 仲市
片山 直樹
直樹 片山
早崎 康行
康行 早崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Riko Co Ltd
Original Assignee
Tokai Rubber Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokai Rubber Industries Ltd filed Critical Tokai Rubber Industries Ltd
Priority to JP2011038383A priority Critical patent/JP5613081B2/en
Publication of JP2012173703A publication Critical patent/JP2012173703A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5613081B2 publication Critical patent/JP5613081B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Dry Development In Electrophotography (AREA)

Description

本発明は、電子写真機器用現像ロールおよび電子写真機器用現像ロールのゴム弾性層を型成形するのに好適な成形型の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a developing roll for electrophotographic equipment and a method for producing a mold suitable for molding a rubber elastic layer of a developing roll for electrophotographic equipment.

電子写真方式を採用する複写機、プリンター、ファクシミリなどの電子写真機器の現像ロールは、一般に、軸体の外周面にゴム材料などからなる弾性層が形成され、さらにその外周面に種々の機能を付与する目的などから表層が形成されたものなどが知られている。現像ロールは、感光ドラムなどの像担持体にトナーを搬送するものであり、現像ロールにトナー搬送機能を持たせるため、ロール表面を粗面化することがある。   The developing rolls of electrophotographic equipment such as copiers, printers and facsimiles that employ an electrophotographic method generally have an elastic layer made of a rubber material or the like formed on the outer peripheral surface of the shaft body, and various functions on the outer peripheral surface. Those having a surface layer formed for the purpose of imparting are known. The developing roll conveys toner to an image carrier such as a photosensitive drum, and the roll surface may be roughened in order to give the developing roll a toner conveying function.

例えば特許文献1には、軸体と、軸体の外周面に形成された弾性層と、弾性層の外周に形成された最外層とを有する現像ロールにおいて、最外層の外周面に多数の凹部を形成することにより粗面化することが記載されている。特許文献1には、レーザーエッチングによりアルミマスターロールに多数の凹部を形成し、これに対応する凸部を成形型の型内面に電鋳法で形成し、この成形型を用いて成形することにより現像ロールの弾性層の外周面に多数の凹部を形成することが記載されている。   For example, in Patent Document 1, in a developing roll having a shaft body, an elastic layer formed on the outer peripheral surface of the shaft body, and an outermost layer formed on the outer periphery of the elastic layer, a large number of recesses are formed on the outer peripheral surface of the outermost layer. It is described that the surface is roughened by forming. In Patent Document 1, a large number of recesses are formed in an aluminum master roll by laser etching, and the corresponding protrusions are formed on the inner surface of the mold by electroforming, and are molded using this mold. It describes that a large number of recesses are formed on the outer peripheral surface of the elastic layer of the developing roll.

特許文献2には、軸体と、軸体の外周面に形成された弾性層と、弾性層の外周に粗さ形成用粒子を含む組成物により形成された保護層とを有する現像ロールにおいて、保護層の外周面付近に埋没する粗さ形成用粒子を取り除くことにより凹凸面を形成することが記載されている。   In Patent Document 2, in a developing roll having a shaft, an elastic layer formed on the outer peripheral surface of the shaft, and a protective layer formed of a composition containing roughness forming particles on the outer periphery of the elastic layer, It is described that an uneven surface is formed by removing roughness forming particles buried in the vicinity of the outer peripheral surface of a protective layer.

特開2006−309128号公報JP 2006-309128 A 特開2008−116869号公報JP 2008-116869 A

しかしながら、特許文献1では、アルミマスターロールの凹部はレーザーエッチングにより形成されている。このため、現像ロールの表面には、開口径が大きくて深さの浅い凹部が形成される。そうすると、現像ロール表面の凹部内に収容されたトナー粒子は層形成ブレードにより押圧されやすく、トナー粒子へのストレスが発生するおそれがあった。   However, in Patent Document 1, the recess of the aluminum master roll is formed by laser etching. For this reason, a recess having a large opening diameter and a shallow depth is formed on the surface of the developing roll. As a result, the toner particles accommodated in the recesses on the surface of the developing roll are easily pressed by the layer forming blade, and there is a possibility that stress is applied to the toner particles.

一方、特許文献2に記載の技術は、保護層に凹部を形成するものである。このため、弾性層の表面に凹部を形成する場合には、この技術を適用することはできない。   On the other hand, the technique described in Patent Document 2 forms a recess in the protective layer. For this reason, this technique cannot be applied when forming a recessed part in the surface of an elastic layer.

本発明が解決しようとする課題は、適切なトナー搬送量が得られるとともに、トナー粒子へのストレスをより低減できる電子写真機器用現像ロールを提供することにある。また、他の課題としては、このような電子写真機器用現像ロールを製造できる成形型の製造方法を提供することにある。   SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a developing roll for an electrophotographic apparatus that can obtain an appropriate toner conveyance amount and can further reduce stress on toner particles. Another object is to provide a method for manufacturing a mold that can manufacture such a developing roll for an electrophotographic apparatus.

上記課題を解決するため本発明に係る電子写真機器用現像ロールは、軸体と、前記軸体の外周に形成されたゴム弾性層と、を備え、前記ゴム弾性層の表面には、下記の式(1)〜(3)を満たす凹部が多数形成されていることを要旨とするものである。
1≦φ≦10 ・・・(1)
1≦d ・・・(2)
30.0≦Ap≦78.5 ・・・(3)
但し、
φ:凹部の開口径(μm)
d:凹部の深さ(μm)
Ap:ゴム弾性層表面の撮影画像を判別分析法を用いて二値化したときの凹部の面積割合(%)
In order to solve the above problems, an electrophotographic apparatus developing roll according to the present invention includes a shaft body and a rubber elastic layer formed on the outer periphery of the shaft body. The gist is that a large number of recesses satisfying the formulas (1) to (3) are formed.
1 ≦ φ 1 ≦ 10 (1)
1 ≦ d (2)
30.0 ≦ Ap 1 ≦ 78.5 (3)
However,
φ 1 : Opening diameter of the recess (μm)
d: Depth of recess (μm)
Ap 1 : Area ratio (%) of the recess when the photographed image of the rubber elastic layer surface is binarized using a discriminant analysis method

この際、前記ゴム弾性層の表面には、トナー離型性を高める表面改質が施されていることが望ましい。あるいは、前記ゴム弾性層の表面には、トナー離型性を高める表層が形成されていることが望ましい。   At this time, it is desirable that the surface of the rubber elastic layer is subjected to surface modification for improving toner releasability. Alternatively, it is desirable that a surface layer for improving toner releasability is formed on the surface of the rubber elastic layer.

一方、本発明に係る成形型の製造方法は、電子写真機器用現像ロールのゴム弾性層の形成に用いる成形型の製造方法であって、円筒状の成形型基材の型内面に、分散粒子を含有するめっき液を用いた共析めっきを行うことにより、前記分散粒子の一部が表面に露出した共析めっき層を形成する共析めっき工程と、前記共析めっき層の表面全体にめっきを行うことにより、前記分散粒子の露出表面を覆う被覆めっき工程と、を備え、前記型内面に前記分散粒子に基づく多数の凸部を形成することを要旨とするものである。   On the other hand, the method for producing a mold according to the present invention is a method for producing a mold used for forming a rubber elastic layer of a developing roll for an electrophotographic apparatus, wherein dispersed particles are formed on the inner surface of a cylindrical mold base. A eutectoid plating step of forming a eutectoid plating layer in which a part of the dispersed particles are exposed on the surface by performing eutectoid plating using a plating solution containing, and plating on the entire surface of the eutectoid plating layer And a coating plating step for covering the exposed surface of the dispersed particles to form a large number of convex portions based on the dispersed particles on the inner surface of the mold.

本発明に係る電子写真機器用現像ロールによれば、弾性層の表面に多数の凹部が形成されているため、トナーの搬送を行う際に、この凹部内にトナー粒子を収容することができる。そして、この凹部の開口径および深さが特定の大きさに設定されているため、凹部に収容されたトナー粒子が層形成ブレードにより押し潰されるのを防止することができる。これにより、トナー粒子へのストレスをより低減できる。また、弾性層の表面に、多数の凹部が特定の割合で分布しているため、適切なトナー搬送量が得られるとともに、トナー粒子へのストレスをより低減できる。   According to the developing roll for an electrophotographic apparatus according to the present invention, since a large number of recesses are formed on the surface of the elastic layer, toner particles can be accommodated in the recesses when the toner is transported. And since the opening diameter and depth of this recessed part are set to the specific magnitude | size, it can prevent that the toner particle accommodated in the recessed part is crushed by the layer formation blade. Thereby, the stress on the toner particles can be further reduced. In addition, since a large number of concave portions are distributed at a specific ratio on the surface of the elastic layer, an appropriate toner conveyance amount can be obtained and stress on the toner particles can be further reduced.

そして、本発明に係る成形型の製造方法によれば、適切なトナー搬送量が得られるとともにトナー粒子へのストレスをより低減できる特徴的な表面構造を持った現像ロールの弾性層を形成できる成形型を得ることができる。   According to the method for manufacturing a mold according to the present invention, a molding capable of forming an elastic layer of a developing roll having a characteristic surface structure capable of obtaining an appropriate toner conveyance amount and further reducing stress on the toner particles. A mold can be obtained.

本発明の一実施形態に係る現像ロールの外観模式図(a)と、そのA−A線断面図(周方向断面図)である。1A is a schematic external view of a developing roll according to an embodiment of the present invention, and FIG. 本発明の一実施形態に係る現像ロールのゴム弾性層表面の拡大図であり、図1(b)のB点の拡大図である。It is an enlarged view of the rubber elastic layer surface of the developing roll which concerns on one Embodiment of this invention, and is an enlarged view of the B point of FIG.1 (b). 本発明の一実施形態に係る現像ロールのゴム弾性層表面の撮影画像を判別分析法を用いて二値化した状態を表す模式図である。It is a schematic diagram showing the state which binarized the picked-up image of the rubber elastic layer surface of the image development roll concerning one Embodiment of this invention using the discriminant analysis method. 本発明の他の実施形態に係る現像ロールの周方向断面図である。It is a circumferential direction sectional view of the development roll concerning other embodiments of the present invention. 本発明の他の実施形態に係る現像ロールのゴム弾性層表面の拡大図であり、図4のC点の拡大図である。It is an enlarged view of the rubber elastic layer surface of the image development roll which concerns on other embodiment of this invention, and is an enlarged view of the C point of FIG. 本発明の一実施形態に係る現像ロールのゴム弾性層と層形成ブレードとが接触した状態の模式図である。It is a schematic diagram of the state which the rubber elastic layer and layer forming blade of the image development roll which concern on one Embodiment of this invention contacted. 本発明の一実施形態に係る現像ロールのゴム弾性層表面の凹部内にトナー粒子が収容されている状態の模式図である。FIG. 3 is a schematic view showing a state in which toner particles are accommodated in a recess on the surface of a rubber elastic layer of a developing roll according to an embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態に係る現像ロールのゴム弾性層を成形するのに好適な成形型の周方向断面図である。1 is a circumferential cross-sectional view of a mold suitable for molding a rubber elastic layer of a developing roll according to an embodiment of the present invention. 本発明に係る成形型の製造方法の一例を説明する模式図である。It is a schematic diagram explaining an example of the manufacturing method of the shaping | molding die which concerns on this invention. 実施例2の成形型の表面の拡大写真(a)と断面の拡大写真(b)である。It is the enlarged photograph (a) of the surface of the shaping | molding die of Example 2, and the enlarged photograph (b) of a cross section. 実施例2のゴム弾性層表面の拡大写真(a)とその3D写真(b)である。It is an enlarged photograph (a) of the rubber elastic layer surface of Example 2, and its 3D photograph (b).

次に、本発明の電子写真機器用現像ロール(以下、現像ロールということがある。)について、図を参照しつつ、詳細に説明する。電子写真機器用現像ロールは、電子写真方式を採用する複写機、プリンター、ファクシミリなどの電子写真機器に組み込まれる現像ロールであり、電子写真機器の内部に組み込まれる感光ドラムの周囲に配設されるものである。   Next, the developing roll for electrophotographic equipment of the present invention (hereinafter sometimes referred to as a developing roll) will be described in detail with reference to the drawings. The developing roll for an electrophotographic apparatus is a developing roll incorporated in an electrophotographic apparatus such as a copying machine, a printer, and a facsimile employing an electrophotographic system, and is disposed around a photosensitive drum incorporated in the electrophotographic apparatus. Is.

図1は、本発明の一実施形態に係る現像ロール10の模式図および断面図である。図2は、現像ロール10のゴム弾性層の表面構造を示す断面図である。図3は、現像ロール10のゴム弾性層の表面の撮影画像を二値化した状態を表す模式図である。   FIG. 1 is a schematic view and a cross-sectional view of a developing roll 10 according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view showing the surface structure of the rubber elastic layer of the developing roll 10. FIG. 3 is a schematic diagram showing a binarized state of a captured image of the surface of the rubber elastic layer of the developing roll 10.

図1に示すように、現像ロール10は、軸体12と、軸体12の外周に形成されたゴム弾性層14とを備えている。現像ロール10は、トナー離型性を高めるなどの観点から、ゴム弾性層の表面にトナー離型性を高める表面改質が施されていても良いし、ゴム弾性層の表面にトナー離型性を高める表層が形成されていても良い。   As shown in FIG. 1, the developing roll 10 includes a shaft body 12 and a rubber elastic layer 14 formed on the outer periphery of the shaft body 12. From the viewpoint of enhancing toner releasability, the developing roll 10 may be subjected to surface modification that enhances toner releasability on the surface of the rubber elastic layer, or toner releasability on the surface of the rubber elastic layer. The surface layer which raises may be formed.

図2に示すように、ゴム弾性層14の表面には多数の凹部14aが形成されている。これにより、ゴム弾性層14の表面は粗面化されている。このゴム弾性層14の表面の凹部14aは、比較的開口径が小さくかつ深さが深いものとなっている。すなわち、このゴム弾性層14の表面には、開口径φが1〜10μmで深さdが1μm以上となる凹部14aが多数形成されている。また、ゴム弾性層14の表面に占める凹部14aの面積割合は30.0〜78.5%にされている。つまり、ゴム弾性層14の表面には、以下の式(1)〜(3)を満たす凹部14aが多数形成されている。
1≦φ≦10 ・・・(1)
1≦d ・・・(2)
30≦Ap≦78.5 ・・・(3)
但し、
φ:凹部の開口径(μm)
d:凹部の深さ(μm)
Ap:ゴム弾性層表面の撮影画像を判別分析法を用いて二値化したときの凹部の面積割合(%)
As shown in FIG. 2, a large number of recesses 14 a are formed on the surface of the rubber elastic layer 14. Thereby, the surface of the rubber elastic layer 14 is roughened. The concave portion 14a on the surface of the rubber elastic layer 14 has a relatively small opening diameter and a deep depth. That is, on the surface of the rubber elastic layer 14, a large number of recesses 14a having an opening diameter φ1 of 1 to 10 μm and a depth d of 1 μm or more are formed. Moreover, the area ratio of the recessed part 14a which occupies for the surface of the rubber elastic layer 14 is 30.0-78.5%. That is, on the surface of the rubber elastic layer 14, a large number of recesses 14a that satisfy the following expressions (1) to (3) are formed.
1 ≦ φ 1 ≦ 10 (1)
1 ≦ d (2)
30 ≦ Ap 1 ≦ 78.5 (3)
However,
φ 1 : Opening diameter of the recess (μm)
d: Depth of recess (μm)
Ap 1 : Area ratio (%) of the recess when the photographed image of the rubber elastic layer surface is binarized using a discriminant analysis method

ゴム弾性層14は、例えば円筒形の成形型を用いて型成形することにより形成することができる。この方法によれば、ゴム弾性層14の表面の凹部14a以外の部分は、円筒形の成形型の型内面の平滑な曲面形状が型転写されるため、凹凸の少ない平滑な曲面に形成される。ゴム弾性層14の表面の凹部14a以外の部分は、このように、凹凸の少ない平滑な曲面に形成されることが好ましい。   The rubber elastic layer 14 can be formed by molding using, for example, a cylindrical mold. According to this method, the portion other than the concave portion 14a on the surface of the rubber elastic layer 14 is formed into a smooth curved surface with less irregularities because the smooth curved surface shape of the inner surface of the cylindrical mold is transferred. . It is preferable that the portion other than the concave portion 14a on the surface of the rubber elastic layer 14 is formed in a smooth curved surface with little unevenness.

ゴム弾性層14の表面の凹部14aは、互いに独立していることが好ましい。すなわち、ゴム弾性層14の表面の凹部14aは、隣り合う凹部14aとの間で重なり合わない状態にある(連なっていない状態にある)ことが好ましい。ゴム弾性層14の表面に隣り合う凹部14aとの間で重なり合う凹部14aが存在する場合にも、極力その数を少なくすることが好ましい。凹部14a同士が重なると、ゴム弾性層14の表面の開口径が大きくなり、凹部14a内のトナー粒子が層形成ブレードから受けるストレスが大きくなるおそれがあるからである。凹部14a同士が重なりすぎるのを抑える方法としては、例えば、凹部14aが込みすぎないように凹部14aの数を調整することにより、ゴム弾性層14の表面に占める凹部14aの面積割合Apが特定の面積割合の範囲内となるように調整する方法などが挙げられる。 The recesses 14a on the surface of the rubber elastic layer 14 are preferably independent of each other. That is, it is preferable that the concave portion 14a on the surface of the rubber elastic layer 14 is in a state where it does not overlap with the adjacent concave portion 14a (in a state where it is not continuous). Even when there are overlapping concave portions 14a between adjacent concave portions 14a on the surface of the rubber elastic layer 14, it is preferable to reduce the number thereof as much as possible. This is because if the recesses 14a overlap with each other, the opening diameter of the surface of the rubber elastic layer 14 increases, and the stress that the toner particles in the recess 14a receive from the layer forming blade may increase. As a method for preventing the concave portions 14a from being excessively overlapped, for example, by adjusting the number of the concave portions 14a so that the concave portions 14a are not excessively included, the area ratio Ap 1 of the concave portions 14a in the surface of the rubber elastic layer 14 is specified. The method of adjusting so that it may become in the range of this area ratio etc. is mentioned.

ゴム弾性層14の表面に占める凹部14aの面積割合Apが特定範囲より大きいと、凹部14a同士が重なりすぎるおそれがある。これにより、ゴム弾性層14の表面の開口径が大径化され、凹部14a内のトナー粒子が層形成ブレードから受けるストレスが大きくなるおそれがある。その結果、トナー固着が生じやすくなる。一方、ゴム弾性層14の表面に占める凹部14aの面積割合Apが特定範囲より小さいと、凹部14a以外の部分の面積割合が大きくなるため、凹部14aに収容できなかったトナー粒子が凹部14a以外の部分で層形成ブレードによりストレスを強く受けるおそれがあり、層形成ブレードの表面にトナー固着が生じやすくなる。また、凹部14aの面積割合Apが小さいため、トナー搬送量が低下しやすい。ゴム弾性層14の表面に占める凹部14aの面積割合Apとしては、好ましくは70%以下、より好ましくは60%以下、さらに好ましくは50%以下である。 There is a possibility that the area ratio Ap 1 recess 14a occupying the surface of the rubber elastic layer 14 and larger than the specific range, too overlap the recess 14a together. Thereby, the opening diameter of the surface of the rubber elastic layer 14 is increased, and there is a possibility that the stress that the toner particles in the recess 14a receive from the layer forming blade is increased. As a result, toner sticking is likely to occur. On the other hand, if the area ratio Ap 1 recess 14a occupied in the surface of the rubber elastic layer 14 is less than the specified range, the area ratio of the portion other than the concave portion 14a is increased, the toner particles are non-recessed portion 14a that could not be received in the recess 14a There is a risk that the layer forming blade will be strongly stressed in this portion, and the toner adheres easily to the surface of the layer forming blade. Further, since the area ratio Ap 1 recess 14a is small, the toner conveyance amount tends to decrease. The area ratio Ap 1 of the recesses 14a occupying the surface of the rubber elastic layer 14 is preferably 70% or less, more preferably 60% or less, and even more preferably 50% or less.

凹部14aの開口径φが特定範囲より大きいと、凹部14a内のトナー粒子が層形成ブレードから受けるストレスが大きくなるおそれがある。これにより、トナー固着が生じやすくなる。一方、凹部14aの開口径φが特定範囲より小さいと、凹部14a内にトナー粒子を収容できる量が少なすぎて、トナー搬送量が低下する。凹部14aの開口径φとしては、より好ましくは3〜10μmの範囲内である。 Opening diameter phi 1 is larger than the specific range of the recess 14a, there is a possibility that stress toner particles in the recess 14a receives from the layer forming blade becomes large. As a result, toner sticking easily occurs. On the other hand, when the opening diameter phi 1 of recess 14a is smaller than the specified range, too small an amount to accommodate the toner particles in the recess 14a, the toner conveyance amount is decreased. As opening diameter (phi) 1 of the recessed part 14a, More preferably, it exists in the range of 3-10 micrometers.

凹部14aの深さdが特定範囲より浅いと、凹部14a内のトナー粒子が層形成ブレードから受けるストレスが大きくなるおそれがある。これにより、トナー固着が生じやすくなる。また、ゴム弾性層14の外周に表層を設けた場合に、表層によりゴム弾性層14の凹部14aが埋まりやすくなる。これにより、トナー搬送量が低下するおそれがある。凹部14aの深さdとしては、より好ましくは2〜10μmの範囲内である。   If the depth d of the recess 14a is shallower than the specific range, the stress that the toner particles in the recess 14a receive from the layer forming blade may increase. As a result, toner sticking easily occurs. Further, when a surface layer is provided on the outer periphery of the rubber elastic layer 14, the recess 14a of the rubber elastic layer 14 is easily filled with the surface layer. As a result, the toner conveyance amount may be reduced. The depth d of the recess 14a is more preferably in the range of 2 to 10 μm.

凹部14aの開口径φの大きさは、ゴム弾性層14の表面を観察することにより測定することができる。また、凹部14aの深さdは、ゴム弾性層14の周方向の断面を観察することにより測定することができる。これらの観察に際しては、例えば、レーザー顕微鏡((株)キーエンス製、VK−9510など)やマイクロスコープ(Nakaden製、Mx−1200Eなど)などを用いることができる。 The size of the opening diameter φ 1 of the recess 14 a can be measured by observing the surface of the rubber elastic layer 14. Further, the depth d of the recess 14a can be measured by observing a circumferential cross section of the rubber elastic layer 14. For these observations, for example, a laser microscope (manufactured by Keyence Corporation, VK-9510 or the like), a microscope (manufactured by Nakaden, Mx-1200E or the like), or the like can be used.

ゴム弾性層14の表面に占める凹部14aの面積割合Apを求めるに際し、撮影画像は、ゴム弾性層14の表面の0.4×0.4mm以上のエリアを、少なくとも1000×1000dpi以上の解像度にて撮影したものを用いると良い。このとき、画像上で、1ドットの大きさが、凹部14aの開口径φの1/15以下になるように設定すると良い。撮影画像は、二値化しやすいようにモノクロ変換すると良い。また、画像上の照度むらを平滑化するために、平滑フィルタでノイズ除去すると良い。撮影画像の二値化は、モノクロ変換し、ノイズ除去した後の画像について、判別分析法を用いて行うと良い。そして、凹部14aの面積を計算するため、また、ノイズ除去しやすくするためには、二値化した画像を白黒反転処理し、凹部14aに対応する白色部分の内部に発生しているノイズを穴埋め除去した後、白色部分の面積を計測すると良い。面積の計測は、一般的に用いられる画像処理ソフトを用いて行なうことができる。図3には、ゴム弾性層14表面の撮影画像を判別分析法を用いて二値化した状態を表す模式図を示す。 When obtaining the area ratio Ap 1 of the recesses 14a occupying the surface of the rubber elastic layer 14, the photographed image has an area of 0.4 × 0.4 mm or more on the surface of the rubber elastic layer 14 with a resolution of at least 1000 × 1000 dpi or more. It is good to use what was photographed. At this time, it is preferable that the size of one dot on the image is set to be 1/15 or less of the opening diameter φ 1 of the recess 14a. The captured image may be converted into monochrome so that it can be easily binarized. Further, in order to smooth the illuminance unevenness on the image, it is preferable to remove noise with a smoothing filter. The binarization of the captured image may be performed using a discriminant analysis method on the image after monochrome conversion and noise removal. In order to calculate the area of the recess 14a and to make it easier to remove noise, the binarized image is subjected to black-and-white reversal processing to fill in the noise generated inside the white portion corresponding to the recess 14a. After removal, the area of the white portion should be measured. The area can be measured using commonly used image processing software. In FIG. 3, the schematic diagram showing the state which binarized the picked-up image of the rubber elastic layer 14 surface using the discriminant analysis method is shown.

このような一連の画像処理には、一般的な顕微鏡を用いることができるが、特に、Nakaden製のマイクロスコープMx−1200Eなどを用いることが好ましい。一般的な顕微鏡では、例えば、ゴム弾性層14の表面の凹部14aの存在しない部分に焦点を合わせる作業を行なうが、マイクロスコープMx−1200Eでは、三次元深度合成画像を簡便に撮影できるので、凹凸のあるゴム弾性層14の表面を、よりクリアに観察することができる。二値化処理は、例えば、ナノシステム株式会社製NanoHunter NS2K−Pro/Ltなどを用いて行なうことができる。   A general microscope can be used for such a series of image processing, but it is particularly preferable to use a microscope Mx-1200E manufactured by Nakaden. In a general microscope, for example, an operation of focusing on a portion of the surface of the rubber elastic layer 14 where the concave portion 14a does not exist is performed. However, in the microscope Mx-1200E, a three-dimensional depth composite image can be easily taken. It is possible to observe the surface of the rubber elastic layer 14 with clearer. The binarization process can be performed using, for example, NanoHunter NS2K-Pro / Lt manufactured by Nanosystem Corporation.

ここで、このようなゴム弾性層14の表面にトナー離型性を高める表層16を形成した構成例については、図4および図5に示す。表層16は、トナー離型性を高める機能に加え、ロール表面に、現像ロールの表面に求められる種々の機能を付与するものであって良い。図4に示すように、現像ロール20は、軸体12と、軸体12の外周に形成されたゴム弾性層14と、ゴム弾性層14の外周に形成された表層16とを備えている。   Here, an example of a structure in which the surface layer 16 for enhancing the toner releasability is formed on the surface of the rubber elastic layer 14 is shown in FIGS. The surface layer 16 may impart various functions required for the surface of the developing roll to the surface of the roll in addition to the function of improving the toner releasability. As shown in FIG. 4, the developing roll 20 includes a shaft body 12, a rubber elastic layer 14 formed on the outer periphery of the shaft body 12, and a surface layer 16 formed on the outer periphery of the rubber elastic layer 14.

図5に示すように、ゴム弾性層14の表面には多数の凹部14aが形成されている。これにより、ゴム弾性層14の表面は粗面化されている。ゴム弾性層14の表面に占める凹部14aの面積割合Apは、上述する通りである。また、ゴム弾性層14の表面には、特定の開口径φおよび深さdを有する凹部14aが多数形成されている。凹部14aの開口径φおよび深さdは、上述する通りである。 As shown in FIG. 5, a large number of recesses 14 a are formed on the surface of the rubber elastic layer 14. Thereby, the surface of the rubber elastic layer 14 is roughened. The area ratio Ap 1 of the recess 14a occupying the surface of the rubber elastic layer 14 is as described above. A large number of recesses 14 a having a specific opening diameter φ 1 and a depth d are formed on the surface of the rubber elastic layer 14. Opening diameter phi 1 and the depth d of the recess 14a is as for above.

表層16の厚みは、凹部14aの開口径φおよび深さdとの関係によるが、10μm以下であることが好ましい。表層16の厚みが厚すぎると、ゴム弾性層14の凹部14aが埋まってトナー搬送量が低下するおそれがある。また、ロール表面が平坦化されるため、トナー粒子が層形成ブレードから受けるストレスが大きくなるおそれがある。表層16の厚みとしては、より好ましくは8μm以下である。一方、表層16の厚みの下限値としては、機能層としての機能を十分に発揮するなどの観点から、2μm以上であることが好ましい。より好ましくは5μm以上である。 The thickness of the surface layer 16, depending on the relationship between the aperture diameter phi 1 and the depth d of the recess 14a, is preferably 10μm or less. If the thickness of the surface layer 16 is too thick, the recess 14a of the rubber elastic layer 14 may be filled and the toner conveyance amount may be reduced. Further, since the roll surface is flattened, the stress that the toner particles receive from the layer forming blade may increase. The thickness of the surface layer 16 is more preferably 8 μm or less. On the other hand, the lower limit of the thickness of the surface layer 16 is preferably 2 μm or more from the viewpoint of sufficiently exerting the function as the functional layer. More preferably, it is 5 μm or more.

また、ここで、このようなゴム弾性層14の表面に行うトナー離型性を高める表面改質としては、例えば、次の1)〜5)に示す表面改質を挙げることができる。但し、Xは水素原子,アルカリ金属元素,アルカリ土類金属元素またはアルキル基、Xはハロゲン原子、nはXの価数と同一の整数を表す。 Here, examples of the surface modification that improves the toner releasability performed on the surface of the rubber elastic layer 14 include the following surface modifications 1) to 5). However, X 1 is a hydrogen atom, an alkali metal element, an alkaline earth metal element or an alkyl group, X 2 is a halogen atom, n represents the same integer as the valence of X 1.

1)トリクロロイソシアヌル酸を接触させることにより行う表面改質
2)チオール基を2つ以上有する化合物を接触させることにより行う表面改質
3)X(OXおよびBFを接触させることにより行う表面改質
4)分子中に−CONX−結合を有する化合物およびBFを接触させることにより行う表面改質
5)紫外線を照射することにより行う表面改質
1) Surface modification performed by contacting trichloroisocyanuric acid 2) Surface modification performed by contacting a compound having two or more thiol groups 3) By contacting X 1 (OX 2 ) n and BF 3 Surface modification performed 4) Surface modification performed by contacting a compound having —CONX 2 — bond in the molecule and BF 3 5) Surface modification performed by irradiation with ultraviolet rays

1)の表面改質、3)の表面改質、4)の表面改質は、ゴム弾性層14が、不飽和炭素−炭素二重結合を持つ有機成分を含有するポリマーにより形成されている場合に好適に適用することができる。2)の表面改質は、ゴム弾性層14が、チオール基と反応する官能基を持つ有機成分を含有するポリマーにより形成されている場合に好適に適用することができる。   The surface modification 1), the surface modification 3), and the surface modification 4) are performed when the rubber elastic layer 14 is formed of a polymer containing an organic component having an unsaturated carbon-carbon double bond. It can be suitably applied to. The surface modification of 2) can be suitably applied when the rubber elastic layer 14 is formed of a polymer containing an organic component having a functional group that reacts with a thiol group.

2)の表面改質を行うポリマーにおいて、チオール基と反応する官能基としては、不飽和炭素−炭素二重結合、ハロゲン基、エポキシ基、水酸基、イソシアネート基、メチロール基、カルボキシル基、カルボニル基などを挙げることができる。この点で、2)の表面改質は適用範囲が広い。   In the polymer for surface modification of 2), functional groups that react with thiol groups include unsaturated carbon-carbon double bonds, halogen groups, epoxy groups, hydroxyl groups, isocyanate groups, methylol groups, carboxyl groups, carbonyl groups, and the like. Can be mentioned. In this respect, the surface modification of 2) has a wide application range.

不飽和炭素−炭素二重結合を持つポリマーとしては、天然ゴム(NR)、イソプレンゴム(IR)、ブタジエンゴム(BR)、アクリロニトリルブタジエンゴム(NBR)、スチレンブタジエンゴム(SBR)、クロロプレンゴム(CR)、ブチルゴム(IIR)、エチレンプロピレンジエンゴム(EPDM)などを挙げることができる。   Polymers having unsaturated carbon-carbon double bonds include natural rubber (NR), isoprene rubber (IR), butadiene rubber (BR), acrylonitrile butadiene rubber (NBR), styrene butadiene rubber (SBR), and chloroprene rubber (CR. ), Butyl rubber (IIR), ethylene propylene diene rubber (EPDM), and the like.

また、本来であれば不飽和炭素−炭素二重結合を持たないポリマーであっても、不飽和炭素−炭素二重結合を持つモノマー成分との共重合により不飽和炭素−炭素二重結合が導入されたポリマーとすることができる。このような、本来であれば不飽和炭素−炭素二重結合を持たないポリマーとしては、アクリルゴム(ACM)、フッ素ゴム(FKM)、クロロスルホン化ポリエチレン(CSM)、ヒドリンゴム(CO、ECO等)、シリコーン(Q)、ウレタン(U)、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)、ポリエチレン樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミドなどを挙げることができる。   In addition, even if the polymer originally has no unsaturated carbon-carbon double bond, an unsaturated carbon-carbon double bond is introduced by copolymerization with a monomer component having an unsaturated carbon-carbon double bond. Polymer. Examples of such polymers that normally do not have unsaturated carbon-carbon double bonds include acrylic rubber (ACM), fluororubber (FKM), chlorosulfonated polyethylene (CSM), hydrin rubber (CO, ECO, etc.). , Silicone (Q), urethane (U), ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), polyethylene resin, epoxy resin, polyamide and the like.

不飽和炭素−炭素二重結合を持つモノマー成分としては、液状ゴム、ブタジエンジオールなどを挙げることができる。例えばウレタンの場合には、2液性ウレタン塗料に液状のブタジエンジオールを添加することにより、不飽和炭素−炭素二重結合をウレタン中に導入できる。   Examples of the monomer component having an unsaturated carbon-carbon double bond include liquid rubber and butadiene diol. For example, in the case of urethane, an unsaturated carbon-carbon double bond can be introduced into urethane by adding liquid butadiene diol to the two-component urethane coating.

ハロゲン基を持つポリマーとしては、例えば、ヒドリンゴム(CO、ECO等)、クロロプレンゴム(CR)などを挙げることができる。これらの他に、チオール基(−SH基)と反応する官能基を持つポリマー成分としては、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリアミドなどを挙げることができる。   Examples of the polymer having a halogen group include hydrin rubber (CO, ECO, etc.), chloroprene rubber (CR), and the like. In addition to these, examples of the polymer component having a functional group that reacts with a thiol group (-SH group) include an epoxy resin, polyurethane, and polyamide.

1)の表面改質を行うと、ゴム弾性層14の表面の不飽和炭素−炭素二重結合にトリクロロイソシアヌル酸が付加する。このとき、トリクロロイソシアヌル酸に由来する塩素原子も付加する。塩素原子は、ゴム弾性層14の表面だけでなく内部にも存在し、内部から表面に向けて塩素原子の存在量は傾斜して増大している。これらのことは、例えばX線光電子分光法(XPS)や核磁気共鳴法(NMR)などにより検出することができる。   When the surface modification of 1) is performed, trichloroisocyanuric acid is added to the unsaturated carbon-carbon double bond on the surface of the rubber elastic layer 14. At this time, a chlorine atom derived from trichloroisocyanuric acid is also added. Chlorine atoms are present not only on the surface of the rubber elastic layer 14 but also on the inside, and the abundance of chlorine atoms increases from the inside toward the surface. These can be detected by, for example, X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) or nuclear magnetic resonance (NMR).

1)の表面改質においては、トナー離型性に加え、ゴム弾性層14の表面に新たな機能を追加できる化合物をトリクロロイソシアヌル酸とともにゴム弾性層14の表面に接触させても良い。このような化合物としては、不飽和炭素−炭素二重結合とゴム弾性層14の表面に機能を付与するための官能基(以下、特定の官能基ということがある。)とを有する化合物を挙げることができる。この場合、トリクロロイソシアヌル酸のイソシアヌル酸骨格を介して、不飽和炭素−炭素二重結合と特定の官能基とを有する化合物が、ゴム弾性層14の表面に結合(付加)できる。これにより、ゴム弾性層14の表面に、特定の官能基を有する有機基が、イソシアヌル酸骨格を介して結合され、ゴム弾性層14の表面に表面改質が施される。   In the surface modification of 1), in addition to toner releasability, a compound capable of adding a new function to the surface of the rubber elastic layer 14 may be brought into contact with the surface of the rubber elastic layer 14 together with trichloroisocyanuric acid. Examples of such a compound include a compound having an unsaturated carbon-carbon double bond and a functional group for imparting a function to the surface of the rubber elastic layer 14 (hereinafter, also referred to as a specific functional group). be able to. In this case, a compound having an unsaturated carbon-carbon double bond and a specific functional group can be bonded (added) to the surface of the rubber elastic layer 14 via the isocyanuric acid skeleton of trichloroisocyanuric acid. Thereby, an organic group having a specific functional group is bonded to the surface of the rubber elastic layer 14 via the isocyanuric acid skeleton, and the surface of the rubber elastic layer 14 is subjected to surface modification.

1)の表面改質において、トリクロロイソシアヌル酸とともに不飽和炭素−炭素二重結合と特定の官能基とを有する化合物を用いた場合に得られるゴム弾性層14の表面構造の一例を下記の式1に示す。   In the surface modification of 1), an example of the surface structure of the rubber elastic layer 14 obtained when using a compound having an unsaturated carbon-carbon double bond and a specific functional group together with trichloroisocyanuric acid is represented by the following formula 1 Shown in

ただし、Rは、特定の官能基を有する置換基である。R、R、Rは、Rと同じ構造の置換基であっても良いし、Rとは異なる特定の官能基を有する置換基であっても良いし、アルキル基や水素基であっても良い。また、R、R、R、R同士が互いに異なる特定の官能基を有する置換基であっても良いし、R、R、R、Rのうちの一部が同じ置換基であっても良い。より好ましくは、安定性などの観点から、R、R、Rは水素基が良い。 However, R < 1 > is a substituent which has a specific functional group. R 2, R 3, R 4 may be a substituent of the same structure as R 1, it may be a substituent having a different particular functional group as R 1, an alkyl group or hydrogen group It may be. In addition, R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 may be substituents having specific functional groups different from each other, and some of R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 are the same. It may be a substituent. More preferably, from the viewpoint of stability and the like, R 2 , R 3 and R 4 are preferably hydrogen groups.

特定の官能基としては、シリコーン基、パーフルオロアルキル基、エステル基、アミド基、イミド基、エーテル基、アリール基、イソシアネート基、アゾ基、ジアゾ基、ニトロ基、エポキシ基、カルボニル基、ヘテロ環基、メソイオン基、ハロゲン基、アミノ基、イミノ基、アルキル基、スルホン酸基、ヒドロキシ基、アシル基、ホルミル基、カルボン酸基、ウレア基、シアノ基などを挙げることができる。これらの官能基のうち1種類の官能基のみが含まれていても良いし、2種類以上の官能基が含まれていても良い。   Specific functional groups include silicone groups, perfluoroalkyl groups, ester groups, amide groups, imide groups, ether groups, aryl groups, isocyanate groups, azo groups, diazo groups, nitro groups, epoxy groups, carbonyl groups, and heterocyclic rings. Groups, mesoionic groups, halogen groups, amino groups, imino groups, alkyl groups, sulfonic acid groups, hydroxy groups, acyl groups, formyl groups, carboxylic acid groups, urea groups, cyano groups and the like. Of these functional groups, only one type of functional group may be included, or two or more types of functional groups may be included.

ヘテロ環基としては、ピリジル基、イミダゾール基、オキサゾール基などを挙げることができる。また、メソイオン基としては、シドノン基、ミュンヘノン基などを挙げることができる。   Examples of the heterocyclic group include a pyridyl group, an imidazole group, and an oxazole group. In addition, examples of the mesoionic group include a sydnone group and a munhenone group.

特定の官能基が例えばシリコーン基である場合には、ゴム弾性層14の表面に、付着物に対する優れた離型性とともに、特定の機能として低摩擦性を併せ持つことができる。特定の官能基が例えばシリコーン基、パーフルオロアルキル基である場合には、ゴム弾性層14の表面に、特定の機能として耐汚性を併せ持つことができる。特定の官能基が例えばアミド基やエステル基である場合には、ゴム弾性層14の表面に、特定の機能として荷電性(帯電性)を併せ持つことができる。特定の官能基が例えばエーテル基である場合には、ゴム弾性層14の表面に、特定の機能として表面の電気抵抗を下げる帯電防止性を併せ持つことができる。特定の官能基がこれら以外の官能基の場合においても、ゴム弾性層14の表面に、付着物に対する優れた離型性とともに、それぞれの官能基に基づく特有の機能を併せ持つことができる。   When the specific functional group is, for example, a silicone group, the surface of the rubber elastic layer 14 can have a low friction property as a specific function as well as an excellent releasability with respect to an attached substance. When the specific functional group is, for example, a silicone group or a perfluoroalkyl group, the surface of the rubber elastic layer 14 can have antifouling property as a specific function. When the specific functional group is, for example, an amide group or an ester group, the surface of the rubber elastic layer 14 can have chargeability (chargeability) as a specific function. When the specific functional group is, for example, an ether group, the surface of the rubber elastic layer 14 can have antistatic properties that lower the electrical resistance of the surface as a specific function. Even when the specific functional group is a functional group other than these, the surface of the rubber elastic layer 14 can have a specific function based on each functional group as well as excellent releasability with respect to the attached matter.

1)の表面改質においては、トリクロロイソシアヌル酸や不飽和炭素−炭素二重結合と特定の官能基とを有する化合物などを溶解させる溶剤を用いることができる。このような溶剤としては、特に限定されるものではないが、エーテル系溶剤(THF、ジエチルエーテル、ジオキサンなど)、エステル系溶剤(酢酸エチル、酢酸ブチルなど)、ケトン系溶剤(アセトン、MEKなど)、アミド系溶剤(DMF、DMAC、NMPなど)、第3級アルコール(tert−ブチルアルコールなど)、水などを挙げることができる。これらは、単独で用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いても良い。また、1)の表面改質においては、さらに他の成分を用いることができる。他の成分としては、酸や塩基、金属塩などの触媒、界面活性剤などを挙げることができる。   In the surface modification of 1), a solvent that dissolves trichloroisocyanuric acid or a compound having an unsaturated carbon-carbon double bond and a specific functional group can be used. Such solvents are not particularly limited, but ether solvents (THF, diethyl ether, dioxane, etc.), ester solvents (ethyl acetate, butyl acetate, etc.), ketone solvents (acetone, MEK, etc.) Amide solvents (DMF, DMAC, NMP, etc.), tertiary alcohols (tert-butyl alcohol, etc.), water and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Further, in the surface modification of 1), other components can be used. Examples of other components include acids, bases, catalysts such as metal salts, and surfactants.

2)の表面改質を行うと、ゴム弾性層14の表面に、チオール基を介してチオール基を2つ以上有する化合物が付加する。このことは、例えばX線光電子分光法(XPS)や核磁気共鳴法(NMR)などにより検出することができる。   When the surface modification of 2) is performed, a compound having two or more thiol groups is added to the surface of the rubber elastic layer 14 via a thiol group. This can be detected by, for example, X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) or nuclear magnetic resonance (NMR).

チオール基を2つ以上有する化合物としては、鎖状構造に結合するチオール基を2つ以上有する鎖状のチオール化合物や、環状構造に結合するチオール基を2つ以上有する環状のチオール化合物などを挙げることができる。チオール基を2つ以上有する化合物は、複数種類の鎖状のチオール化合物および複数種類の環状のチオール化合物のうちの1種類のみであっても良いし、2種類以上の混合物であっても良い。   Examples of the compound having two or more thiol groups include a chain thiol compound having two or more thiol groups bonded to a chain structure and a cyclic thiol compound having two or more thiol groups bonded to a cyclic structure. be able to. The compound having two or more thiol groups may be only one of a plurality of types of chain thiol compounds and a plurality of types of cyclic thiol compounds, or may be a mixture of two or more types.

鎖状のチオール化合物において、鎖状構造は、炭化水素鎖で構成されていても良いし、炭化水素鎖中にエステル結合やエーテル結合などを有するものであっても良い。鎖状のチオール化合物は、比較的分子量が大きいものが好ましい。より具体的には、分子量が200〜1000の範囲内であることが好ましい。   In the chain thiol compound, the chain structure may be composed of a hydrocarbon chain, or may have an ester bond or an ether bond in the hydrocarbon chain. The chain thiol compound preferably has a relatively large molecular weight. More specifically, the molecular weight is preferably in the range of 200 to 1,000.

鎖状のチオール化合物において、チオール基は、1級チオール基であっても良いし、2級チオール基であっても良い。より好ましくは、チオール基周りの立体障害を大きくすることでチオール基を2つ以上有する化合物の安定性に優れるなどの観点から、2級チオール基である。   In the chain thiol compound, the thiol group may be a primary thiol group or a secondary thiol group. More preferably, it is a secondary thiol group from the viewpoint of increasing stability of a compound having two or more thiol groups by increasing the steric hindrance around the thiol group.

2級チオール基を2つ以上有する鎖状のチオール化合物としては、1,4−ビス(3−メルカプトブチリルオキシ)ブタン、1,3,5−トリス(3−メルカプトブチリルオキシエチル)−1,3,5−トリアジン−2,4,6−(1H,3H,5H)−トリオン、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトブチレート)などを挙げることができる。   Examples of chain thiol compounds having two or more secondary thiol groups include 1,4-bis (3-mercaptobutyryloxy) butane and 1,3,5-tris (3-mercaptobutyryloxyethyl) -1. , 3,5-triazine-2,4,6- (1H, 3H, 5H) -trione, pentaerythritol tetrakis (3-mercaptobutyrate), and the like.

環状のチオール化合物において、環状構造としては、トリアジン環、ベンゼン環、複素環、縮合環、スピロ環、炭素環などを挙げることができる。環状のチオール化合物は、比較的分子量が大きいものが好ましい。より具体的には、分子量が200〜1000の範囲内であることが好ましい。   In the cyclic thiol compound, examples of the cyclic structure include a triazine ring, a benzene ring, a heterocyclic ring, a condensed ring, a spiro ring, and a carbon ring. The cyclic thiol compound preferably has a relatively large molecular weight. More specifically, the molecular weight is preferably in the range of 200 to 1,000.

チオール基を2つ以上有する環状のチオール化合物としては、トリチオシアヌル酸、1,2−ベンゼンジチオール、1,4−ベンゼンジチオール、1,3,5−ベンゼントリチオール、1,5−ジメルカプトナフタレンなどを挙げることができる。   Examples of cyclic thiol compounds having two or more thiol groups include trithiocyanuric acid, 1,2-benzenedithiol, 1,4-benzenedithiol, 1,3,5-benzenetrithiol, 1,5-dimercaptonaphthalene, and the like. Can be mentioned.

チオール基を2つ以上有する化合物としては、特にトリチオシアヌル酸が好ましい。トリチオシアヌル酸を用いた場合、非共役電子の効果により、ゴム弾性層14の比誘電率を高くでき、ゴム弾性層14の帯電性や放電性を向上できる。   As a compound having two or more thiol groups, trithiocyanuric acid is particularly preferable. When trithiocyanuric acid is used, the dielectric constant of the rubber elastic layer 14 can be increased due to the effect of non-conjugated electrons, and the chargeability and discharge performance of the rubber elastic layer 14 can be improved.

2)の表面改質においては、1)の表面改質の場合と同様、トナー離型性に加え、ゴム弾性層14の表面に新たな機能を追加できる化合物を、チオール基を2つ以上有する化合物とともにゴム弾性層14の表面に接触させても良い。このような化合物としては、チオール基と反応可能な官能基と、ゴム弾性層14の表面に機能を付与するための官能基(特定の官能基)とを有する化合物を挙げることができる。   In the surface modification of 2), as in the case of the surface modification of 1), in addition to the toner releasability, the compound that can add a new function to the surface of the rubber elastic layer 14 has two or more thiol groups. You may make it contact the surface of the rubber elastic layer 14 with a compound. Examples of such a compound include a compound having a functional group capable of reacting with a thiol group and a functional group (specific functional group) for imparting a function to the surface of the rubber elastic layer 14.

チオール基と反応可能な官能基としては、不飽和炭素−炭素二重結合、ハロゲン基、エポキシ基、水酸基、イソシアネート基、メチロール基、カルボキシル基、カルボニル基などを挙げることができる。特定の官能基は、ゴム弾性層14の表面にさらに特定の機能を付与するための官能基であり、1)の表面改質において示したものと同様のものを挙げることができる。   Examples of the functional group capable of reacting with the thiol group include an unsaturated carbon-carbon double bond, a halogen group, an epoxy group, a hydroxyl group, an isocyanate group, a methylol group, a carboxyl group, and a carbonyl group. The specific functional group is a functional group for further imparting a specific function to the surface of the rubber elastic layer 14, and examples thereof include those similar to those shown in the surface modification of 1).

チオール基と反応可能な官能基と特定の官能基とを有する化合物を用いる場合、チオール基を2つ以上有する化合物を介して、チオール基と反応可能な官能基と特定の官能基とを有する化合物がゴム弾性層14の表面に結合(付加)できる。これにより、ゴム弾性層14の表面に、特定の官能基を有する有機基が、チオール基を2つ以上有する化合物を介して結合され、ゴム弾性層14の表面に表面改質が施される。   When a compound having a functional group capable of reacting with a thiol group and a specific functional group is used, a compound having a functional group capable of reacting with a thiol group and a specific functional group via a compound having two or more thiol groups Can be bonded (added) to the surface of the rubber elastic layer 14. As a result, an organic group having a specific functional group is bonded to the surface of the rubber elastic layer 14 via a compound having two or more thiol groups, and the surface of the rubber elastic layer 14 is subjected to surface modification.

2)の表面改質において、チオール基を2つ以上有する化合物とともにチオール基と反応可能な官能基と特定の官能基とを有する化合物を用いた場合に得られるゴム弾性層14の表面構造の一例を、チオール基を2つ以上有する化合物の例としてトリチオシアヌル酸を挙げ、チオール基と反応可能な官能基と特定の官能基とを有する化合物の例として不飽和炭素−炭素二重結合と特定の官能基とを有する化合物を挙げて、下記の式2に示す。但し、R〜Rは、式1で示したものと同様のものである。 In the surface modification of 2), an example of the surface structure of the rubber elastic layer 14 obtained when a compound having a functional group capable of reacting with a thiol group and a specific functional group is used together with a compound having two or more thiol groups Trithiocyanuric acid as an example of a compound having two or more thiol groups, and an unsaturated carbon-carbon double bond and a specific function as examples of compounds having a functional group capable of reacting with a thiol group and a specific functional group A compound having a group is shown in the following formula 2. However, R 1 to R 4 are the same as those shown in Formula 1.

2)の表面改質においては、チオール基を2つ以上有する化合物やチオール基と反応可能な官能基と特定の官能基とを有する化合物などを溶解させる溶剤を用いることができる。このような溶剤としては、1)の表面改質において示したものと同様のものを挙げることができる。また、2)の表面改質においては、さらに他の成分を用いることができる。他の成分としては、酸や塩基、金属塩などの触媒、界面活性剤などを挙げることができる。   In the surface modification of 2), a solvent that dissolves a compound having two or more thiol groups, a compound having a functional group capable of reacting with the thiol group and a specific functional group, or the like can be used. Examples of such a solvent include the same solvents as those shown in the surface modification of 1). Further, in the surface modification of 2), other components can be used. Examples of other components include acids, bases, catalysts such as metal salts, and surfactants.

3)の表面改質または4)の表面改質を行うと、ゴム弾性層14の不飽和炭素−炭素二重結合がハロゲン化され、下記の式3〜4に示す構造がゴム弾性層14の表面部分に形成される。なお、式3〜4に示す構造を有していることは、ロール表面を、X線光電子分光法(XPS)、核磁気共鳴法(NMR)などにより分析すれば確認することができる。   When the surface modification of 3) or the surface modification of 4) is performed, the unsaturated carbon-carbon double bond of the rubber elastic layer 14 is halogenated, and the structure represented by the following formulas 3 to 4 is the structure of the rubber elastic layer 14. Formed on the surface portion. In addition, it can confirm that it has the structure shown to Formula 3-4 if the roll surface is analyzed by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), a nuclear magnetic resonance method (NMR), etc.

3)の表面改質において、X(OXで表される化合物としては、より具体的には、例えば、メチルハイポクロライド、エチルハイポクロライド、第三級ブチルハイポクロライド、トリフルオロメチルハイポクロライドなどのアルキルハイポクロライド、メチルハイポフルオライド、エチルハイポフルオライド、第三級ブチルハイポフルオライド、トリフルオロメチルハイポフルオライドなどのアルキルハイポフルオライドなどといったアルキルハイポハライドや、次亜塩素酸や、次亜塩素酸リチウム、次亜塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸マグネシウム、次亜塩素酸カリウムなどの次亜塩素酸塩などを例示することができる。これらは1種または2種以上併用しても良い。 In the surface modification of 3), as the compound represented by X 1 (OX 2 ) n , more specifically, for example, methyl hypochloride, ethyl hypochloride, tertiary butyl hypochloride, trifluoromethyl hypochloride Alkyl hypohalides such as alkyl hypochlorides such as chloride, methyl hypofluoride, ethyl hypofluoride, tertiary butyl hypofluoride, alkyl hypofluoride such as trifluoromethyl hypofluoride, hypochlorous acid, Examples thereof include hypochlorites such as lithium hypochlorite, sodium hypochlorite, magnesium hypochlorite, and potassium hypochlorite. These may be used alone or in combination of two or more.

4)の表面改質において、分子中に−CONX−結合を有する化合物としては、より具体的には、例えば、N−クロロスクシンイミド、N−クロロフタルイミド、N−ブロムスクシンイミド、N−ブロムフタルイミドなどの酸イミドハロゲン化合物、トリクロロイソシアヌル酸、ジクロロイソシアヌル酸などのイソシアヌル酸ハライド、ジクロロジメチルヒダントインなどのハロゲン化ヒダントインなどを例示することができる。 In the surface modification of 4), as a compound having —CONX 2 — bond in the molecule, more specifically, for example, N-chlorosuccinimide, N-chlorophthalimide, N-bromosuccinimide, N-bromophthalimide and the like Examples thereof include acid imide halogen compounds, isocyanuric halides such as trichloroisocyanuric acid and dichloroisocyanuric acid, and halogenated hydantoins such as dichlorodimethylhydantoin.

3)の表面改質あるいは4)の表面改質においては、X(OXやBFを接触させた後、あるいは、分子中に−CONX−結合を有する化合物やBFを接触させた後、水を含む液体でゴム弾性層14の表面を洗い流すことが好ましい。これにより、ゴム弾性層14の表面に水酸基が導入されやすくなる。 In the surface modification of 3) or the surface modification of 4), after contacting X 1 (OX 2 ) n or BF 3 , or contacting a compound having a —CONX 2 — bond in the molecule or BF 3 Then, it is preferable to wash away the surface of the rubber elastic layer 14 with a liquid containing water. Thereby, a hydroxyl group is easily introduced into the surface of the rubber elastic layer 14.

5)の表面改質において、紫外線の照射条件は、用いる紫外線照射装置の種類等に応じて適宜、決定される。一般には、照射強度:20〜150mW/cm程度、紫外線の光源と弾性層表面との距離:20〜80mm程度、照射時間:5〜360秒程度の条件が採用される。紫外線照射は、窒素ガス、アルゴンガスなどの不活性ガス中、大気中などで行うことができる。 In the surface modification of 5), the ultraviolet irradiation conditions are appropriately determined according to the type of ultraviolet irradiation apparatus used. Generally, conditions of irradiation intensity: about 20 to 150 mW / cm 2 , distance between the ultraviolet light source and the elastic layer surface: about 20 to 80 mm, and irradiation time: about 5 to 360 seconds are employed. Ultraviolet irradiation can be performed in an inert gas such as nitrogen gas or argon gas, or in the air.

これらの表面改質を行うことにより、ゴム弾性層14の表面の硬さが増すため、トナー離型性を高めることができる。また、これらの表面改質を行うことにより、ゴム弾性層14から成分がブルームするのを抑えるバリア効果も得られる。また、1)〜4)の表面改質では、ゴム弾性層14の表面に対し、トナー離型性やその他の機能を高める分子や原子の共有結合が形成されるため、これらの機能の耐久性に優れる。また、5)の表面改質によっても、トナー離型性を高める機能の耐久性に優れる。   By performing these surface modifications, the hardness of the surface of the rubber elastic layer 14 is increased, so that the toner releasability can be improved. Moreover, the barrier effect which suppresses that a component blooms from the rubber elastic layer 14 is also acquired by performing these surface modifications. In addition, in the surface modification of 1) to 4), the surface of the rubber elastic layer 14 is formed with covalent bonds of molecules and atoms that enhance toner releasability and other functions. Excellent. Also, the surface modification of 5) is excellent in the durability of the function of improving the toner releasability.

以上の構成の現像ロール10は、上述するように、ロール表面に、ゴム弾性層14に形成された凹部14aに基づく開口部を備える。そこで、このような表面構造を有する現像ロール10により奏される作用効果について図を用いて説明する。なお、現像ロール20は、ゴム弾性層14の外周にさらに表層16を有する構成であるが、ロール表面に、ゴム弾性層14に形成された凹部14aに基づく開口部を備える点では現像ロール10と同様の特徴を有しているため、現像ロール10と同様の作用効果を奏する。   As described above, the developing roll 10 having the above configuration includes an opening based on the concave portion 14a formed in the rubber elastic layer 14 on the roll surface. Therefore, the effects obtained by the developing roll 10 having such a surface structure will be described with reference to the drawings. The developing roll 20 is configured to further include a surface layer 16 on the outer periphery of the rubber elastic layer 14. However, the developing roll 10 is different from the developing roll 10 in that the roll surface includes an opening portion based on the recess 14 a formed in the rubber elastic layer 14. Since it has the same characteristics, the same effect as the developing roll 10 is exhibited.

図6に示すように、現像ロール10と層形成ブレード22とが接触したときには、現像ロール10の表面は層形成ブレード22に押圧される。このとき、層形成ブレード22に接触するのはゴム弾性層14の表面の凹部14a以外の部分である。したがって、層形成ブレード22の表面は、凹部14a以外の部分(平滑面など)に面接触する。層形成ブレード22の表面に接触するロール表面の面積は大きいため、ロール表面の凹凸形状が潰れにくい。このため、凹部14a内のトナー粒子が層形成ブレード22から受けるストレスが大きくなるのを抑えることができる。   As shown in FIG. 6, when the developing roll 10 and the layer forming blade 22 come into contact with each other, the surface of the developing roll 10 is pressed against the layer forming blade 22. At this time, the portion that contacts the layer forming blade 22 is a portion other than the concave portion 14 a on the surface of the rubber elastic layer 14. Therefore, the surface of the layer forming blade 22 is in surface contact with a portion (such as a smooth surface) other than the recess 14a. Since the area of the roll surface in contact with the surface of the layer forming blade 22 is large, the uneven shape of the roll surface is not easily crushed. For this reason, it is possible to suppress an increase in the stress that the toner particles in the recess 14 a receive from the layer forming blade 22.

また、ゴム弾性層14の表面の凹部14aの深さを均一にすることに対し、凹部14a以外の部分を平滑にすることのほうが容易である。例えば、円筒形の成形型を用いることにより、容易に凹部14a以外の部分を平滑にすることができる。凹部14a以外の部分が平滑であれば、層形成ブレード22の表面はロール表面に均一に接触できる。これにより、層形成ブレード22からの圧力がゴム弾性層14の表面に均一にかかるため、ロール表面に均一なトナー層を形成でき、均一な画像が得られやすい。   Further, it is easier to smooth the portions other than the recesses 14a, while making the depth of the recesses 14a on the surface of the rubber elastic layer 14 uniform. For example, by using a cylindrical mold, it is possible to easily smooth the portions other than the recesses 14a. If the portion other than the concave portion 14a is smooth, the surface of the layer forming blade 22 can uniformly contact the roll surface. Thereby, since the pressure from the layer forming blade 22 is uniformly applied to the surface of the rubber elastic layer 14, a uniform toner layer can be formed on the roll surface, and a uniform image can be easily obtained.

また、図7に示すように、トナー粒子24を搬送する際には、ロール表面の凹部14aにトナー粒子24は収容される。このため、トナー粒子24の搬送量が多くなりすぎず、適切なトナー搬送量にすることができる。   As shown in FIG. 7, when the toner particles 24 are conveyed, the toner particles 24 are accommodated in the recesses 14a on the roll surface. For this reason, the transport amount of the toner particles 24 does not increase excessively, and an appropriate toner transport amount can be obtained.

従来、現像ロールの構成としては、軸体と、軸体の外周面に形成された弾性層と、弾性層の外周に粗さ形成用粒子を含む組成物により形成された保護層とを有する構成が知られている。このような構成の場合、保護層中の粗さ形成用粒子によってロール表面に複数の凸部が形成される。この場合、層形成ブレードの表面はロール表面の凸部に点接触する。このため、ロール表面の凸部は応力集中により潰れやすい。そうすると、凸部と凸部との間のクリアランスに収容されているトナー粒子に層形成ブレードが接触しやすい。これにより、トナー粒子へのストレスが大きくなりやすい。   Conventionally, as a configuration of the developing roll, a configuration having a shaft body, an elastic layer formed on the outer peripheral surface of the shaft body, and a protective layer formed of a composition containing roughness forming particles on the outer periphery of the elastic layer It has been known. In the case of such a configuration, a plurality of convex portions are formed on the roll surface by the roughness forming particles in the protective layer. In this case, the surface of the layer forming blade makes point contact with the convex portion of the roll surface. For this reason, the convex part of the roll surface is easily crushed due to stress concentration. If it does so, a layer formation blade will contact the toner particle accommodated in the clearance between a convex part easily. This tends to increase the stress on the toner particles.

また、ロール表面の凸部は粗さ形成用粒子に基づくことから、粒子径の違いなどによりロール表面における凸部の高さがばらつきやすい。すなわち、ロール表面の高さがばらつきやすい。このため、層形成ブレードはロール表面に均一に接触しにくい。そうすると、層形成ブレードからの圧力がゴム弾性層の表面に均一にかかりにくくなる。   Further, since the convex portions on the roll surface are based on the roughness forming particles, the height of the convex portions on the roll surface is likely to vary due to the difference in particle diameter. That is, the height of the roll surface is likely to vary. For this reason, the layer forming blade is difficult to uniformly contact the roll surface. If it does so, it will become difficult to apply the pressure from a layer formation blade uniformly on the surface of a rubber elastic layer.

また、このような従来の構成では、トナー粒子は凸部と凸部との間のクリアランスに収容される。このため、トナー搬送量が多くなりやすい。   Further, in such a conventional configuration, the toner particles are accommodated in the clearance between the convex portions. For this reason, the toner conveyance amount tends to increase.

次に、現像ロール10のゴム弾性層14の形成に用いる成形型として好適な成形型と本発明に係る成形型の製造方法(以下、本製造方法ということがある。)について説明する。図8は、本発明の一実施形態に係る現像ロール10のゴム弾性層14を成形するのに好適な成形型30の周方向断面図である。図9は、本発明に係る成形型30の製造方法の一例を説明する模式図である。   Next, a mold suitable as a mold used for forming the rubber elastic layer 14 of the developing roll 10 and a method for producing the mold according to the present invention (hereinafter sometimes referred to as the present production method) will be described. FIG. 8 is a circumferential cross-sectional view of a mold 30 suitable for molding the rubber elastic layer 14 of the developing roll 10 according to an embodiment of the present invention. FIG. 9 is a schematic diagram illustrating an example of a method for manufacturing the mold 30 according to the present invention.

図8に示すように、成形型30は、円筒状の成形型基材32を有し、成形型基材32の型内面にめっき34が施されたものからなる。このような成形型30は、本製造方法により製造することができる。   As shown in FIG. 8, the mold 30 includes a cylindrical mold base 32, and the mold inner surface of the mold base 32 is plated 34. Such a mold 30 can be manufactured by this manufacturing method.

本製造方法は、円筒状の成形型基材32の型内面に共析めっき層を形成する共析めっき工程と、共析めっき層の表面全体に被覆めっき層を形成する被覆めっき工程とを備えている。これらの工程を経て、成形型30の型内面に、分散粒子に基づく多数の凸部を形成する。   This manufacturing method includes a eutectoid plating step for forming a eutectoid plating layer on the inner surface of the cylindrical mold base 32 and a coating plating step for forming a coating plating layer on the entire surface of the eutectoid plating layer. ing. Through these steps, a large number of convex portions based on the dispersed particles are formed on the inner surface of the mold 30.

共析めっき工程では、分散粒子を含有するめっき液を用いて無電解めっきを行う。無電解めっきにより分散粒子がめっき金属と共析する。これにより、図9(a)に示すように、成形型基材32の型内面に、分散粒子36aを含有する共析めっき層36を形成する。共析めっき工程では、分散粒子36aの一部(表面の一部)が表面に露出するようにめっき金属を成長させる。共析めっき層36のめっき金属により、分散粒子36aは成形型基材32の型内面に仮固定される。   In the eutectoid plating step, electroless plating is performed using a plating solution containing dispersed particles. Dispersed particles co-deposit with the plated metal by electroless plating. As a result, as shown in FIG. 9A, the eutectoid plating layer 36 containing the dispersed particles 36 a is formed on the inner surface of the mold base 32. In the eutectoid plating step, the plating metal is grown so that a part of the dispersed particles 36a (a part of the surface) is exposed on the surface. The dispersed particles 36 a are temporarily fixed to the inner surface of the mold base 32 by the plating metal of the eutectoid plating layer 36.

被覆めっき工程では、分散粒子を含有しないめっき液を用いて無電解めっきを行う。これにより、図9(b)に示すように、共析めっき層36の上に被覆めっき層38を形成する。分散粒子36aが樹脂粒子である場合には、被覆めっき工程に先立ち、樹脂粒子36aに無電解めっき用の触媒を吸着させると、樹脂粒子36aの表面にも無電解めっきを行うことができる。被覆めっき層38を形成すると、被覆めっき層38のめっき金属により分散粒子36aは覆われるため、分散粒子36aは成形型基材32の型内面に確実に固定される。なお、被覆めっき工程では、めっき金属により分散粒子36aに基づく凸部を埋没させないようにする。   In the coating plating step, electroless plating is performed using a plating solution that does not contain dispersed particles. As a result, as shown in FIG. 9B, a coating plating layer 38 is formed on the eutectoid plating layer 36. When the dispersed particles 36a are resin particles, the surface of the resin particles 36a can be electrolessly plated by adsorbing the electroless plating catalyst to the resin particles 36a prior to the coating plating step. When the coated plating layer 38 is formed, the dispersed particles 36 a are covered with the plating metal of the coated plated layer 38, so that the dispersed particles 36 a are securely fixed to the inner surface of the mold base 32. In the coating plating step, the projections based on the dispersed particles 36a are not buried by the plating metal.

共析めっき層36の厚みは、分散粒子36aの平均粒子径の大きさに関係するが、3〜15μmの範囲内であることが好ましい。共析めっき層36の厚みが3μm未満では、分散粒子36aの仮固定が不十分になりやすい。一方、共析めっき層36の厚みが15μmを超えると、分散粒子36aの露出面積が小さくなりやすく、型内面の凸部の形成が不十分になりやすい。また、共析めっき層36の厚みとしては、より好ましくは6〜12μmの範囲内である。なお、共析めっき層36の厚みは、分散粒子36aが存在しない平坦部分における厚みである。   The thickness of the eutectoid plating layer 36 is related to the average particle size of the dispersed particles 36a, but is preferably in the range of 3 to 15 μm. If the thickness of the eutectoid plating layer 36 is less than 3 μm, the temporary fixation of the dispersed particles 36a tends to be insufficient. On the other hand, when the thickness of the eutectoid plating layer 36 exceeds 15 μm, the exposed area of the dispersed particles 36a tends to be small, and the formation of the convex portions on the inner surface of the mold tends to be insufficient. The thickness of the eutectoid plating layer 36 is more preferably in the range of 6 to 12 μm. In addition, the thickness of the eutectoid plating layer 36 is a thickness in a flat portion where the dispersed particles 36a do not exist.

被覆めっき層38の厚みは、分散粒子36aの平均粒子径の大きさや、分散粒子36aの露出の程度に関係するが、0.5〜5μmの範囲内であることが好ましい。被覆めっき層38の厚みが0.5μm未満では、分散粒子36aの固定が不十分になりやすい。一方、被覆めっき層38の厚みが5μmを超えると、分散粒子36aが埋没されて分散粒子36aに基づく凸部の形成が不十分になりやすい。被覆めっき層38の厚みとしては、より好ましくは1〜3μmの範囲内である。なお、被覆めっき層38の厚みは、分散粒子36aが存在しない平坦部分における厚みである。   The thickness of the coating plating layer 38 is related to the average particle diameter of the dispersed particles 36a and the degree of exposure of the dispersed particles 36a, but is preferably in the range of 0.5 to 5 μm. When the thickness of the coating plating layer 38 is less than 0.5 μm, the dispersion particles 36 a are not sufficiently fixed. On the other hand, when the thickness of the coating plating layer 38 exceeds 5 μm, the dispersed particles 36a are buried and the formation of the convex portions based on the dispersed particles 36a tends to be insufficient. The thickness of the coating plating layer 38 is more preferably in the range of 1 to 3 μm. In addition, the thickness of the coating plating layer 38 is a thickness in a flat portion where the dispersed particles 36a do not exist.

分散粒子36aとしては、アクリル粒子、スチレン粒子、ウレタン粒子、ナイロン粒子、シリコーン粒子、セルロース粒子、シリカ粒子などを挙げることができる。分散粒子36aとしては、単独種類のものを用いても良いし、複数種類のものを併用しても良い。このうち、めっき液への分散性に優れ、共析めっき層36の表面に均一な凹凸表面を形成できるなどの観点から、アクリル粒子、スチレン粒子が好ましい。   Examples of the dispersed particles 36a include acrylic particles, styrene particles, urethane particles, nylon particles, silicone particles, cellulose particles, and silica particles. As the dispersed particles 36a, a single type of particles may be used, or a plurality of types of particles may be used in combination. Among these, acrylic particles and styrene particles are preferable from the viewpoints of excellent dispersibility in the plating solution and formation of a uniform uneven surface on the surface of the eutectoid plating layer 36.

分散粒子36aの平均粒子径は、トナー粒子の平均粒子径を考慮して、15μm以下であることが好ましい。より好ましくは1〜12μmの範囲内、さらに好ましくは3〜10μmの範囲内である。分散粒子36aとしては、平均粒子径の異なるものを併用しても良い。分散粒子36aの平均粒子径は、日機装社製マイクロトラック粒度分布測定装置UPA−EX150型により測定できる。   The average particle size of the dispersed particles 36a is preferably 15 μm or less in consideration of the average particle size of the toner particles. More preferably, it exists in the range of 1-12 micrometers, More preferably, it exists in the range of 3-10 micrometers. As the dispersed particles 36a, particles having different average particle diameters may be used in combination. The average particle size of the dispersed particles 36a can be measured with a Microtrac particle size distribution analyzer UPA-EX150 manufactured by Nikkiso Co., Ltd.

分散粒子36aのめっき液への配合量としては、分散粒子36aの平均粒子径にも関係するが、分散粒子36a同士が互いに密着しすぎないようにするため、0.1〜100g/Lの範囲内であることが好ましい。より好ましくは3〜20g/Lの範囲内である。分散粒子36a同士が密着しすぎると、凹部14a同士が重なりすぎて連なりやすくなる。   The blending amount of the dispersed particles 36a in the plating solution is related to the average particle diameter of the dispersed particles 36a, but is in the range of 0.1 to 100 g / L in order to prevent the dispersed particles 36a from being too close to each other. It is preferable to be within. More preferably, it is in the range of 3 to 20 g / L. If the dispersed particles 36a are too close to each other, the concave portions 14a are excessively overlapped and are likely to be connected.

共析めっき工程に用いるめっき液(共析めっき用めっき液)には、金属イオン、還元剤、錯化剤、pH緩衝剤、分散粒子36aなどが含まれる。金属イオンは、めっき金属のイオンである。めっき金属としては、ニッケル、コバルト、銅、金、銀などを挙げることができる。このうち、耐食性やコスト面などからニッケルが好ましい。還元剤としては、次亜リン酸、ジメチルアミンボラン、ヒドラジンなどを挙げることができる。このうち、めっき液の安定性などの観点から、次亜リン酸が好ましい。pH緩衝剤としては、乳酸、酢酸、コハク酸などを挙げることができる。   The plating solution (plating solution for eutectoid plating) used in the eutectoid plating step includes metal ions, reducing agents, complexing agents, pH buffering agents, dispersed particles 36a, and the like. The metal ions are plating metal ions. Examples of the plating metal include nickel, cobalt, copper, gold, and silver. Among these, nickel is preferable from the viewpoint of corrosion resistance and cost. Examples of the reducing agent include hypophosphorous acid, dimethylamine borane, hydrazine and the like. Of these, hypophosphorous acid is preferred from the viewpoint of the stability of the plating solution. Examples of pH buffering agents include lactic acid, acetic acid, and succinic acid.

錯化剤としては、カルボン酸やアミン化合物を挙げることができる。錯化剤としては、カルボン酸のみを用いても良いし、アミン化合物のみを用いても良いし、カルボン酸とアミン化合物とを併用しても良い。カルボン酸とアミン化合物とを併用する場合には、めっき金属とともに分散粒子36aを高密度に共析させることができる。また、アミン化合物を用いる場合には、めっき金属を柱状に結晶成長させることができる。   Examples of complexing agents include carboxylic acids and amine compounds. As a complexing agent, only carboxylic acid may be used, only an amine compound may be used, or carboxylic acid and an amine compound may be used in combination. When the carboxylic acid and the amine compound are used in combination, the dispersed particles 36a can be co-deposited with the plating metal at a high density. Further, when an amine compound is used, the plated metal can be crystal-grown in a columnar shape.

アミン化合物としては、具体的には、グリシン、アラニン、エチレンジアミン、プロパンジアミンなどを挙げることができる。このうち、分散粒子36aの分散安定性が高いなどの観点から、グリシンが好ましい。カルボン酸としては、クエン酸、リンゴ酸、酒石酸などを挙げることができる。このうち、特に分散粒子36aを高密度に共析させやすいなどの観点から、クエン酸が好ましい。錯化剤としては、特に、グリシンとクエン酸とを併用することが好ましい。   Specific examples of the amine compound include glycine, alanine, ethylenediamine, and propanediamine. Among these, glycine is preferable from the viewpoint of high dispersion stability of the dispersed particles 36a. Examples of the carboxylic acid include citric acid, malic acid, tartaric acid and the like. Among these, citric acid is preferable from the viewpoint of easy co-deposition of the dispersed particles 36a at a high density. As the complexing agent, it is particularly preferable to use glycine and citric acid in combination.

めっき液には、さらに、界面活性剤を配合することもできる。界面活性剤としては、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤などを挙げることができる。このうち、分散粒子36aの分散度を高めることができるなどの観点から、カチオン性界面活性剤を配合することが好ましい。また、このように分散粒子36aを正電荷に帯電させてからめっき液中に添加することで、分散粒子36aの共析めっき層への共析量を上げることができる。   A surfactant can be further blended in the plating solution. Examples of the surfactant include a cationic surfactant and an amphoteric surfactant. Among these, it is preferable to mix a cationic surfactant from the viewpoint of increasing the degree of dispersion of the dispersed particles 36a. Moreover, the amount of eutectoid on the eutectoid plating layer of the dispersed particles 36a can be increased by charging the dispersed particles 36a to a positive charge and adding it to the plating solution.

カチオン性界面活性剤としては、ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、エチレンオキサイド付加型アンモニウムクロライドなどの4級アンモニウム塩型のものなどを挙げることができる。これらは単独で用いても良いし、併用しても良い。また、両性界面活性剤としては、ラウリルベタイン、アミドプロピルベタイン、ジメチルアルキルベタイン等のベタイン型のものなどを挙げることができる。これらは単独で用いても良いし、併用しても良い。カチオン性界面活性剤の配合量あるいは両性界面活性剤の配合量は、0.01〜10g/Lの範囲内であることが好ましい。   Examples of the cationic surfactant include quaternary ammonium salt types such as lauryltrimethylammonium chloride and ethylene oxide addition type ammonium chloride. These may be used alone or in combination. Examples of amphoteric surfactants include betaine types such as lauryl betaine, amidopropyl betaine, and dimethylalkylbetaine. These may be used alone or in combination. The compounding amount of the cationic surfactant or the amphoteric surfactant is preferably in the range of 0.01 to 10 g / L.

分散粒子36aには、めっき液に対する濡れ性を高めるなどの目的で、めっき液に添加する前に、塩酸や硫酸などの酸によるエッチング処理などを施すこともできる。さらに、分散粒子36aを添加しためっき液を超音波処理して、分散粒子36aの分散度をさらに高めることもできる。   The dispersed particles 36a can be subjected to etching treatment with an acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid before being added to the plating solution for the purpose of improving the wettability to the plating solution. Furthermore, the degree of dispersion of the dispersed particles 36a can be further increased by sonicating the plating solution to which the dispersed particles 36a are added.

被覆めっき工程に用いるめっき液(被覆めっき用めっき液)には、金属イオン、還元剤、錯化剤、pH緩衝剤などが含まれる。また、このめっき液には、成形型30を用いたゴム弾性層14を成形したときの離型性を高めるなどの目的で、フッ素樹脂粒子を配合することが好ましい。このフッ素樹脂粒子は、上記の分散粒子36aよりも平均粒子径が小さく、トナー粒子と比べても小さいものである。このため、このフッ素樹脂粒子は、型内面に凸部として現れてゴム弾性層14にトナー粒子を収容する凹部14aを形成するものではない。このようなフッ素樹脂粒子の平均粒子径の大きさとしては、0.5μm以下であることが好ましい。より好ましくは0.3μm以下である。フッ素樹脂粒子としては、PTFE樹脂粒子などを挙げることができる。   The plating solution (plating solution for coating plating) used in the coating plating step includes metal ions, reducing agents, complexing agents, pH buffering agents, and the like. Moreover, it is preferable to mix | blend a fluororesin particle | grain with this plating solution for the purpose of improving mold release property, when the rubber elastic layer 14 using the shaping | molding die 30 is shape | molded. The fluororesin particles have an average particle size smaller than that of the dispersed particles 36a and are smaller than the toner particles. For this reason, the fluororesin particles do not appear as convex portions on the inner surface of the mold and do not form the concave portions 14 a for accommodating the toner particles in the rubber elastic layer 14. The average particle size of such fluororesin particles is preferably 0.5 μm or less. More preferably, it is 0.3 μm or less. Examples of the fluororesin particles include PTFE resin particles.

以上のようにして、現像ロール10のゴム弾性層14の形成に用いる成形型として好適な成形型30を製造することができる。成形型30の型内面には、分散粒子36aに基づく多数の凸部が形成されている。分散粒子36aの平均粒子径の大きさを調整することにより、成形型30の凸部の径の大きさを調整することができる。また、分散粒子36aのめっき液への配合量を調整することにより、成形型30の型内面に占める凸部の面積割合を調整することができる。   As described above, a mold 30 suitable as a mold used for forming the rubber elastic layer 14 of the developing roll 10 can be manufactured. A large number of convex portions based on the dispersed particles 36 a are formed on the inner surface of the mold 30. By adjusting the average particle size of the dispersed particles 36a, the size of the diameter of the convex portion of the mold 30 can be adjusted. Moreover, the area ratio of the convex part which occupies for the type | mold inner surface of the shaping | molding die 30 can be adjusted by adjusting the compounding quantity to the plating solution of the dispersion particle 36a.

このようにして得られた、型内面に多数の凸部を有する成形型30を用いて現像ロール10のゴム弾性層14を成形することにより、ゴム弾性層14の表面には、凸部に対応する凹部14aが多数形成される(型転写される)。このようにして形成されたゴム弾性層14の表面に、上記する特徴を有する凹部14aを多数備えることができる。   By forming the rubber elastic layer 14 of the developing roll 10 using the mold 30 having a large number of convex portions on the inner surface of the mold thus obtained, the surface of the rubber elastic layer 14 corresponds to the convex portions. Many recesses 14a to be formed are formed (mold transfer). The surface of the rubber elastic layer 14 thus formed can be provided with a large number of recesses 14a having the characteristics described above.

現像ロール10のゴム弾性層14は、例えば上記の成形型30の中空部に軸体12をセットし、成形型30と軸体12との間の空隙部にゴム材料を注型して加熱架橋させた後、成形型30から脱型することにより、軸体12の外周に形成できる。得られたゴム弾性層14の表面には、トナー離型性を高める必要に応じて、上記する表面改質が行われるか、表層16が形成される。表面改質方法は、上記する通りである。   For the rubber elastic layer 14 of the developing roll 10, for example, the shaft body 12 is set in the hollow portion of the molding die 30 described above, and a rubber material is poured into the gap between the molding die 30 and the shaft body 12 to perform heat crosslinking. Then, it can be formed on the outer periphery of the shaft body 12 by removing from the mold 30. On the surface of the obtained rubber elastic layer 14, the surface modification described above is performed or a surface layer 16 is formed according to the necessity for improving the toner releasability. The surface modification method is as described above.

表層16は、例えば、表層16を形成するための塗料を調製し、調製した塗料をゴム弾性層14の表面に塗工することにより形成することができる。塗工方法としては、ロールコーティング法、スプレーコーティング法、ディッピング法などを挙げることができる。塗工後には、塗料を乾燥させ、必要に応じて加熱架橋処理することにより、表層16を形成できる。   The surface layer 16 can be formed, for example, by preparing a coating material for forming the surface layer 16 and applying the prepared coating material to the surface of the rubber elastic layer 14. Examples of the coating method include a roll coating method, a spray coating method, and a dipping method. After coating, the surface layer 16 can be formed by drying the paint and subjecting it to a heat crosslinking treatment as necessary.

次に、現像ロール10の材料や構成などについて説明する。また、上記成形型30の材料等について説明する。   Next, the material and configuration of the developing roll 10 will be described. Further, the material of the mold 30 will be described.

軸体12としては、導電性シャフトを挙げることができる。導電性シャフトとしては、金属製の中実体、金属製の円筒体、あるいは、これらにめっきが施されたものなどを挙げることができる。金属の種類としては、アルミニウム、ステンレスなどを挙げることができる。軸体12の外周面には、ゴム弾性層14との間の接着性を向上させるなどの目的で、接着剤やプライマなどを塗布しても良い。接着剤やプライマなどには、必要に応じて、導電化を行うことができる。   An example of the shaft body 12 is a conductive shaft. Examples of the conductive shaft include a metal solid body, a metal cylindrical body, and a metal plated body. Examples of the metal include aluminum and stainless steel. An adhesive, a primer, or the like may be applied to the outer peripheral surface of the shaft body 12 for the purpose of improving the adhesiveness with the rubber elastic layer 14. The adhesive or primer can be made conductive as required.

ゴム弾性層14のゴム材料としては、特に限定されるものではないが、具体的には、シリコーンゴム、ウレタンゴム、ブタジエンゴム、ヒドリンゴムなどを例示することができる。このうち、層形成ブレードや感光体などの相手部材の押圧による弾性変形の回復に優れる(耐ヘタリ性が良好である)などの観点から、シリコーンゴム、ウレタンゴムが好ましい。また、シリコーンゴムは、温度変化や湿度変化などの環境変化に対して体積変化しにくく、環境変化によるロールの外径変動が小さい利点も有するため、特に好ましい。   Although it does not specifically limit as a rubber material of the rubber elastic layer 14, Specifically, silicone rubber, urethane rubber, butadiene rubber, hydrin rubber, etc. can be illustrated. Of these, silicone rubber and urethane rubber are preferable from the viewpoint of excellent recovery of elastic deformation caused by pressing of a mating member such as a layer forming blade or a photoreceptor (good anti-sagging property). Silicone rubber is particularly preferable because it hardly changes in volume with respect to environmental changes such as temperature change and humidity change, and also has an advantage of small fluctuations in the outer diameter of the roll due to environmental changes.

ゴム弾性層14には、必要に応じて、導電剤、充填剤、増量剤、補強剤、加工助剤、硬化剤、加硫促進剤、架橋剤、架橋助剤、酸化防止剤、可塑剤、紫外線吸収剤、顔料、シリコーンオイル、助剤、界面活性剤などの各種添加剤が適宜添加されていても良い。導電剤としては、カーボンブラックなどの電子導電剤や第4級アンモニウム塩などのイオン導電剤など、一般的な導電剤を挙げることができる。   The rubber elastic layer 14 may include a conductive agent, a filler, an extender, a reinforcing agent, a processing aid, a curing agent, a vulcanization accelerator, a crosslinking agent, a crosslinking aid, an antioxidant, a plasticizer, as necessary. Various additives such as ultraviolet absorbers, pigments, silicone oils, auxiliaries, and surfactants may be appropriately added. Examples of the conductive agent include general conductive agents such as an electronic conductive agent such as carbon black and an ionic conductive agent such as a quaternary ammonium salt.

ゴム弾性層14は、発泡体であっても良いし、中実体であっても良い。ゴム弾性層14の厚みは、0.1〜10mmの範囲内にあることが好ましい。より好ましくは、1〜5mmの範囲内である。   The rubber elastic layer 14 may be a foam or a solid body. The thickness of the rubber elastic layer 14 is preferably in the range of 0.1 to 10 mm. More preferably, it exists in the range of 1-5 mm.

表層16の主材料としては、例えば、ウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、アクリルシリコーン樹脂、ブチラール樹脂(PVB)、アルキッド樹脂、ポリエステル樹脂、フッ素ゴム、フッ素樹脂、フッ素ゴムとフッ素樹脂の混合物、シリコーン樹脂、シリコーングラフトアクリルポリマー、アクリルグラフトシリコーンポリマー、ニトリルゴム、ウレタンゴム等を挙げることができる。これらは単独で用いても良いし、2種以上併せて用いても良い。なかでも、耐摩耗性の点で、ウレタン樹脂が好ましい。表層16の材料には、主材料の他に、導電剤、可塑剤、レベリング剤などを含んでいても良い。   The main material of the surface layer 16 is, for example, urethane resin, polyamide resin, acrylic resin, acrylic silicone resin, butyral resin (PVB), alkyd resin, polyester resin, fluororubber, fluororesin, mixture of fluororubber and fluororesin, silicone Resins, silicone-grafted acrylic polymers, acrylic-grafted silicone polymers, nitrile rubber, urethane rubber and the like can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, urethane resin is preferable in terms of wear resistance. The material of the surface layer 16 may contain a conductive agent, a plasticizer, a leveling agent and the like in addition to the main material.

成形型基材32の材料としては、特に限定されるものではなく、S55C等の炭素鋼材、SACM645等のアルミニウムクロムモリブデン鋼材、A5056等のアルミニウム合金、アルミニウム等を挙げることができる。   The material of the mold base 32 is not particularly limited, and examples thereof include a carbon steel material such as S55C, an aluminum chrome molybdenum steel material such as SACM645, an aluminum alloy such as A5056, and aluminum.

以下に本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

(実施例1)
<共析めっき液の調製>
平均粒径10μmのアクリル粒子(根上工業製、アートパールGR600)12g/Lをカチオン性界面活性剤(ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド)0.1g/Lにより水中に分散させて、分散粒子の分散液を調製した。次いで、硫酸ニッケル六水和物20g/L、次亜リン酸ナトリウム一水和物(還元剤)25g/L、乳酸(錯化剤)27g/L、プロピオン酸(錯化剤)2.5g/Lよりなる基本めっき液中に、分散粒子の分散液を添加して、pH4.8の共析めっき液を調製した。
Example 1
<Preparation of eutectoid plating solution>
A dispersion of dispersed particles is prepared by dispersing 12 g / L of acrylic particles having an average particle size of 10 μm (Art Pearl GR600, manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.) in water with 0.1 g / L of a cationic surfactant (lauryltrimethylammonium chloride). did. Next, nickel sulfate hexahydrate 20 g / L, sodium hypophosphite monohydrate (reducing agent) 25 g / L, lactic acid (complexing agent) 27 g / L, propionic acid (complexing agent) 2.5 g / L A dispersion of dispersed particles was added to the basic plating solution consisting of L to prepare a eutectoid plating solution having a pH of 4.8.

<被覆めっき液の調製>
平均粒径0.2μmのPTFE微粒子10g/Lをカチオン性界面活性剤(ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド)0.2g/Lにより水中に分散させて、成形型の離型処理用分散液を調製した。次いで、硫酸ニッケル六水和物20g/L、次亜リン酸ナトリウム一水和物(還元剤)25g/L、乳酸(錯化剤)27g/L、プロピオン酸(錯化剤)2.5g/Lよりなる基本めっき液中に、離型処理用分散液を添加して、被覆めっき液を調製した。
<Preparation of coating plating solution>
10 g / L of PTFE fine particles having an average particle diameter of 0.2 μm were dispersed in water with 0.2 g / L of a cationic surfactant (lauryltrimethylammonium chloride) to prepare a mold release treatment dispersion. Next, nickel sulfate hexahydrate 20 g / L, sodium hypophosphite monohydrate (reducing agent) 25 g / L, lactic acid (complexing agent) 27 g / L, propionic acid (complexing agent) 2.5 g / L Into the basic plating solution made of L, a dispersion for mold release treatment was added to prepare a coating plating solution.

<成形型の作製>
内径12mmの円筒形金型基材の型内面に、共析めっき液を用いて、めっき液温度90℃、めっき時間60分の条件で無電解めっきを行った(めっき厚み11μm)。次いで、無電解めっきを行った型内面を水洗後、アミノカルボン酸系界面活性剤(奥野製薬工業(株)製、「コンディライザーSP」)に、50℃×10分間浸漬し、表面調整を行った。その後、スズ−パラジウムコロイド(奥野製薬工業(株)製、「OPC−80キャタリスト」)中に25℃×10分間浸漬し、触媒前駆体の吸着処理を行った。水洗後、10質量%の塩酸水溶液に25℃×10分間浸漬し、パラジウム触媒活性化を行った。次いで、水洗後、被覆めっき液を用いて、めっき液温度90℃、めっき時間10分の条件で無電解めっきを行った(めっき厚み2μm)。これにより、型内面に分散粒子を固定化し、円筒形金型基材の型内面に凸形状を得た。これにより、成形型を作製した。
<Production of mold>
Electroless plating was performed on the inner surface of a cylindrical mold base having an inner diameter of 12 mm using a eutectoid plating solution under the conditions of a plating solution temperature of 90 ° C. and a plating time of 60 minutes (plating thickness: 11 μm). Next, the inner surface of the mold subjected to electroless plating was washed with water, and then immersed in an aminocarboxylic acid surfactant (Okuno Pharmaceutical Co., Ltd., “Condizer SP”) at 50 ° C. for 10 minutes to adjust the surface. It was. Then, it was immersed in tin-palladium colloid (Okuno Pharmaceutical Co., Ltd., “OPC-80 Catalyst”) at 25 ° C. for 10 minutes to perform adsorption treatment of the catalyst precursor. After washing with water, the catalyst was immersed in a 10% by mass hydrochloric acid aqueous solution at 25 ° C. for 10 minutes to activate the palladium catalyst. Next, after washing with water, electroless plating was performed using the coating plating solution under the conditions of a plating solution temperature of 90 ° C. and a plating time of 10 minutes (plating thickness 2 μm). As a result, the dispersed particles were fixed on the inner surface of the mold, and a convex shape was obtained on the inner surface of the cylindrical mold base. This produced the shaping | molding die.

<ゴム弾性層組成物の調製>
導電性シリコーンゴム(信越化学工業(株)製、「X−34−264A/B」、混合質量比A/B=30/70)をスタティックミキサにて混合することにより、C=C結合を表面に残したシリコーンゴムを含むゴム弾性層組成物を調製した。
<Preparation of rubber elastic layer composition>
Conductive silicone rubber (X-34-264A / B, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., mixing mass ratio A / B = 30/70) is mixed with a static mixer, so that the C = C bond is surfaced. The rubber elastic layer composition containing the silicone rubber left in the above was prepared.

<表層組成物の調製>
ウレタン樹脂(ニッポラン5199、日本ポリウレタン社製)100質量部に対して、カーボンブラック(デンカブラックHS−100、電気化学工業社製)10質量部をボールミルを用いて混練した後、MEK400質量部を加えて混合・攪拌することにより、表層組成物を調製した。
<Preparation of surface layer composition>
10 parts by mass of carbon black (Denka Black HS-100, manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.) is kneaded with 100 parts by mass of urethane resin (Nipporan 5199, manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) using a ball mill, and then 400 parts by mass of MEK is added. Then, a surface layer composition was prepared by mixing and stirring.

<表面改質剤の調製>
トリクロロイソシアヌル酸(東京化成工業社製)5質量部、C=C結合含有シリコーンオイル(信越シリコーン社製、X−22−174DX)1質量部、tert−ブチルアルコール80質量部、酢酸エチル20質量部を混合することにより、表面改質剤を調製した。
<Preparation of surface modifier>
5 parts by mass of trichloroisocyanuric acid (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.), 1 part by mass of C = C bond-containing silicone oil (manufactured by Shin-Etsu Silicone, X-22-174DX), 80 parts by mass of tert-butyl alcohol, 20 parts by mass of ethyl acetate Were mixed to prepare a surface modifier.

<現像ロールの作製>
成形型に導電性シャフト(φ6mm、長さ270mm)を同軸にセットし、金型内にゴム弾性層組成物を注入し、190℃で30分間加熱した後、冷却、脱型した。これにより、導電性シャフトの外周に厚さ3mmのゴム弾性層を形成した。このゴム弾性層の外周面には、成形型の型内面に形成された多数の凸部に対応する多数の凹部が型転写により形成されている。次いで、このゴム弾性層の外周面に、ロールコート法により、表層組成物をコーティングした後、170℃で60分熱処理して、厚さ5μmの表層を形成した。以上のようにして、実施例1に係る現像ロールを作製した。
<Preparation of developing roll>
A conductive shaft (φ6 mm, length 270 mm) was set coaxially in the mold, the rubber elastic layer composition was injected into the mold, heated at 190 ° C. for 30 minutes, cooled and demolded. Thereby, a rubber elastic layer having a thickness of 3 mm was formed on the outer periphery of the conductive shaft. A large number of concave portions corresponding to the large number of convex portions formed on the inner surface of the mold are formed on the outer peripheral surface of the rubber elastic layer by mold transfer. Next, the outer surface of the rubber elastic layer was coated with a surface layer composition by a roll coating method, and then heat treated at 170 ° C. for 60 minutes to form a surface layer having a thickness of 5 μm. As described above, the developing roll according to Example 1 was produced.

(実施例2〜3)
共析めっき液に添加するアクリル粒子の添加量と界面活性剤の添加量を表1に記載の量とし、表層の厚みを表1に記載の厚みとした以外は実施例1と同様にして、実施例2〜3に係る現像ロールを作製した。
(Examples 2-3)
The addition amount of the acrylic particles and the addition amount of the surfactant added to the eutectoid plating solution are the amounts shown in Table 1, and the thickness of the surface layer is the same as that of Example 1, except that the thickness is shown in Table 1. The developing roll which concerns on Examples 2-3 was produced.

(実施例4)
共析めっき液に添加するアクリル粒子として平均粒子径6μmのアクリル粒子(根上工業社製、アートパールGR800)を用い、このアクリル粒子の添加量を12g/Lとし、界面活性剤の添加量を0.2g/Lとし、共析めっきの時間を30分とし、形成する共析めっき層の厚みを5.5μmとし、表層の厚みを3μmとした以外は実施例1と同様にして、実施例4に係る現像ロールを作製した。
Example 4
As acrylic particles to be added to the eutectoid plating solution, acrylic particles having an average particle size of 6 μm (manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd., Art Pearl GR800) are used. The amount of acrylic particles added is 12 g / L, and the amount of surfactant added is 0. Example 4 was carried out in the same manner as in Example 1, except that the eutectoid plating time was 30 minutes, the thickness of the eutectoid plating layer to be formed was 5.5 μm, and the thickness of the surface layer was 3 μm. The developing roll which concerns on was produced.

(実施例5)
共析めっき液に添加するアクリル粒子として平均粒子径2μmのアクリル粒子(根上工業社製、アートパールJ4PY)を用い、このアクリル粒子の添加量を12g/Lとし、界面活性剤の添加量を0.5g/Lとし、共析めっきの時間を15分とし、形成する共析めっき層の厚みを2.3μmとし、表層の形成に代えてゴム弾性層の表面改質を室温で行った以外は実施例1と同様にして、実施例5に係る現像ロールを作製した。
(Example 5)
As acrylic particles to be added to the eutectoid plating solution, acrylic particles having an average particle diameter of 2 μm (manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd., Art Pearl J4PY) are used. The amount of acrylic particles added is 12 g / L, and the amount of surfactant added is 0. 0.5 g / L, the eutectoid plating time is 15 minutes, the thickness of the eutectoid plating layer to be formed is 2.3 μm, and the surface modification of the rubber elastic layer is performed at room temperature instead of the surface layer formation. In the same manner as in Example 1, a developing roll according to Example 5 was produced.

(実施例6)
表層の形成に代えてゴム弾性層の表面改質を行った以外は実施例1と同様にして、実施例6に係る現像ロールを作製した。
(Example 6)
A developing roll according to Example 6 was produced in the same manner as in Example 1 except that the surface modification of the rubber elastic layer was performed instead of forming the surface layer.

(比較例1)
<転写用型の作製>
ゴム弾性層の外径と同径のアルミニウム製円柱体を準備し、そのアルミニウム製円柱体の外周面に、レーザエッチングを施すことにより、多数の凹部を分布形成した。このときのレーザエッチングの条件は、レーザ光の種類:Nd−YAGレーザ、出力:50Wとし、アルミニウム製円柱体を出力:35A、周波数:5kHz、照射スピード:1030mm/秒にて回転させながら、幅50mmずつアルミニウム製円柱体の外周面にレーザを照射した。このようにしてアルミマスターロールを得、それを用いて電鋳法により転写用型を作製した。
(Comparative Example 1)
<Preparation of transfer mold>
An aluminum cylinder having the same diameter as the outer diameter of the rubber elastic layer was prepared, and laser etching was performed on the outer peripheral surface of the aluminum cylinder to form a large number of concave portions in a distributed manner. The conditions for laser etching at this time are as follows: laser beam type: Nd-YAG laser, output: 50 W, aluminum cylinder rotated at output: 35 A, frequency: 5 kHz, irradiation speed: 1030 mm / sec. Laser was irradiated to the outer peripheral surface of the aluminum cylindrical body by 50 mm. In this way, an aluminum master roll was obtained, and a transfer mold was produced by electrocasting using the aluminum master roll.

<現像ロールの作製>
上記転写用型を用いて成形(190℃×30分間)することにより、導電性シャフト(φ6mm、長さ270mm)の外周面にゴム弾性層(厚み3mm、長さ240mm)を形成した。これにより、ゴム弾性層の外周面に、多数の凹部を分布形成した。次いで、実施例5と同様、ゴム弾性層の表面改質を行った。これにより、比較例1に係る現像ロールを作製した。
<Preparation of developing roll>
A rubber elastic layer (thickness 3 mm, length 240 mm) was formed on the outer peripheral surface of the conductive shaft (φ6 mm, length 270 mm) by molding (190 ° C. × 30 minutes) using the transfer mold. As a result, a large number of concave portions were distributed and formed on the outer peripheral surface of the rubber elastic layer. Next, as in Example 5, the surface modification of the rubber elastic layer was performed. Thereby, a developing roll according to Comparative Example 1 was produced.

(比較例2)
アクリル粒子の添加量を6g/Lとし、界面活性剤の添加量を0.1g/Lとした以外は実施例4と同様にして、比較例2に係る現像ロールを作製した。
(Comparative Example 2)
A developing roll according to Comparative Example 2 was produced in the same manner as in Example 4 except that the addition amount of the acrylic particles was 6 g / L and the addition amount of the surfactant was 0.1 g / L.

(比較例3)
共析めっき液に添加するアクリル粒子として平均粒子径14μmのアクリル粒子(根上工業社製、アートパールGR400)を用い、このアクリル粒子の添加量を12g/Lとし、界面活性剤の添加量を0.1g/Lとし、共析めっきの時間を90分とし、形成する共析めっき層の厚みを16.5μmとし、表層の厚みを8μmとした以外は実施例1と同様にして、比較例3に係る現像ロールを作製した。
(Comparative Example 3)
As acrylic particles to be added to the eutectoid plating solution, acrylic particles having an average particle diameter of 14 μm (manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd., Art Pearl GR400) are used. The addition amount of the acrylic particles is 12 g / L, and the addition amount of the surfactant is 0. Comparative Example 3 in the same manner as in Example 1 except that the eutectoid plating time was 90 minutes, the thickness of the eutectoid plating layer to be formed was 16.5 μm, and the thickness of the surface layer was 8 μm. The developing roll which concerns on was produced.

(比較例4)
表層の厚みを12μmとした以外は実施例1と同様にして、比較例4に係る現像ロールを作製した。
(Comparative Example 4)
A developing roll according to Comparative Example 4 was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the surface layer was 12 μm.

(比較例5)
アクリル粒子の添加量を36g/Lとし、界面活性剤の添加量を0.6g/Lとし、表層の厚みを3μmとした以外は実施例1と同様にして、比較例5に係る現像ロールを作製した。
(Comparative Example 5)
The developing roll according to Comparative Example 5 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the addition amount of acrylic particles was 36 g / L, the addition amount of the surfactant was 0.6 g / L, and the thickness of the surface layer was 3 μm. Produced.

(比較例6)
アクリル粒子の添加量を9g/Lとし、界面活性剤の添加量を0.15g/Lとし、表層の形成に代えてゴム弾性層の表面改質を行った以外は実施例4と同様にして、比較例6に係る現像ロールを作製した。
(Comparative Example 6)
The same procedure as in Example 4 was performed except that the addition amount of the acrylic particles was 9 g / L, the addition amount of the surfactant was 0.15 g / L, and the surface modification of the rubber elastic layer was performed instead of the formation of the surface layer. A developing roll according to Comparative Example 6 was produced.

各現像ロールのゴム弾性層について、凹部の開口径φ、凹部の深さd、ゴム弾性層表面に占める凹部の面積割合Apを測定した。また、表層を有する構成の現像ロールについては、さらに表層の厚みを測定した。測定方法は以下の通りである。また、作製した各現像ロールを用いて、トナー搬送量とトナー固着性を調べた。測定方法は以下の通りである。 With respect to the rubber elastic layer of each developing roll, the opening diameter φ 1 of the recess, the depth d of the recess, and the area ratio Ap 1 of the recess in the rubber elastic layer surface were measured. Moreover, about the developing roll of the structure which has a surface layer, the thickness of the surface layer was further measured. The measuring method is as follows. Further, the amount of toner transported and the toner fixing property were examined using each of the produced developing rolls. The measuring method is as follows.

(凹部の開口径φ
ゴム弾性層の外周表面の任意の位置を、Nakaden製「Mx−1200E」で拡大観察することにより、ゴム弾性層の凹部の開口径φを測定した。
(Opening diameter of the recess φ 1 )
Any position on the outer circumference surface of the rubber elastic layer, by enlarging observed in Nakaden made "Mx-1200E", was measured opening diameter phi 1 of the concave portion of the rubber elastic layer.

(凹部の深さd)
ロール中央部で周方向に切断した断面の任意の位置を、Nakaden製「Mx−1200E」で拡大観察することにより、ゴム弾性層の凹部の深さdを測定した。
(Depth of recess d)
The depth d of the concave portion of the rubber elastic layer was measured by magnifying and observing an arbitrary position of the cross section cut in the circumferential direction at the center of the roll with “Mx-1200E” manufactured by Nakaden.

(凹部の面積割合Ap
ゴム弾性層の外周表面の任意の位置を、Nakaden製Mx−1200Eで拡大し、0.5×0.4mmの領域を1280×1024dpiの解像度で取り込んだ。次いで、得られた画像をモノクロ変換し、画像上の照度むらを平滑化するために平滑フィルタでノイズ除去した。次いで、ナノシステム株式会社製NanoHunter NS2K−Pro/Ltを用いて、判別分析法により二値化処理した。次いで、二値化した画像を白黒反転処理し、画像中で白色となっている凹部内のノイズを除去(白色部分の内部にある黒色部分を穴埋めした)した後、この白色部分の面積を計測した。この白色部分が凹部である。
(Recessed area ratio Ap 1 )
An arbitrary position on the outer peripheral surface of the rubber elastic layer was magnified by Maka 1200 made by Nakaden, and an area of 0.5 × 0.4 mm was captured at a resolution of 1280 × 1024 dpi. Next, the obtained image was subjected to monochrome conversion, and noise was removed with a smoothing filter in order to smooth the illuminance unevenness on the image. Subsequently, binarization processing was performed by a discriminant analysis method using NanoHunter NS2K-Pro / Lt manufactured by Nanosystem Corporation. Next, the binarized image is subjected to black-and-white inversion processing to remove noise in the concave portions that are white in the image (the black portion inside the white portion is filled), and then the area of this white portion is measured did. This white portion is a recess.

(表層の厚み)
現像ロールのロール中央部の3箇所について各3点の膜厚を測定し、合計9点の膜厚の平均値を表層の厚みとした。より具体的には、ロール中央部で周方向に切断した断面を、Nakaden製「Mx−1200E」で1000倍に拡大して観察し、測定した。
(Surface thickness)
The film thickness at each of three points was measured at three locations in the central part of the developing roll, and the average value of the film thickness at a total of nine points was taken as the thickness of the surface layer. More specifically, a cross section cut in the circumferential direction at the center portion of the roll was observed and measured by enlarging 1000 times with “Mx-1200E” manufactured by Nakaden.

(トナー搬送量)
各現像ロールを市販のカラーレーザープリンター(沖データ社製「C5900」)に組み込み、23℃×53%RHの環境下にてシアンカートリッジで白ベタ画像出しを行い、その時の現像ロール上6.3cmの範囲にあるトナー量を測定し、単位面積当たりのトナー搬送量を算出した。
(Toner transport amount)
Each developing roll is incorporated into a commercially available color laser printer (“C5900” manufactured by Oki Data Corporation), and a solid white image is printed with a cyan cartridge in an environment of 23 ° C. × 53% RH, and 6.3 cm above the developing roll at that time. The amount of toner in the range of 2 was measured, and the toner conveyance amount per unit area was calculated.

(トナー固着性)
各現像ロールを市販のカラーレーザープリンター(沖データ社製「C5900」)に組み込み、28℃×80%RHの環境下にて、シアンで画像出しを通紙5000枚(A4サイズ)行い、耐久後の層形成ブレードへのトナー粒子の固着具合を判定した。固着箇所が1箇所以下の場合を(○)固着箇所が2〜4箇所の場合を(△)、固着箇所が5箇所以上の場合を(×)とした。
(Toner adhesion)
Each developing roll is incorporated into a commercially available color laser printer ("C5900" manufactured by Oki Data Corporation), and images are printed out with cyan paper (A4 size) in cyan under an environment of 28 ° C x 80% RH. The degree of adhesion of the toner particles to the layer forming blade was determined. The case where the number of fixing points was 1 or less was evaluated as (◯), the case where the number of fixing sites was 2 to 4 (Δ), and the case where the number of fixing sites was 5 or more (×).

また、実施例の成形型の表面構造および断面構造を具体的に示すため、その代表例として実施例2において作製した成形型について、日立製「SEMEDX TypeN」、オリンパス製「GX51」を用いて、表面の拡大写真と断面の拡大写真を撮影した。これを図10(a)(b)に示す。また、実施例の現像ロールのゴム弾性層の表面構造を具体的に示すため、その代表例として実施例2において作製した現像ロールについて、レーザー顕微鏡((株)キーエンス製、VK−9510)を用いて、ゴム弾性層の表面の拡大写真とその3D写真を撮影した。これを図11(a)(b)に示す。   Further, in order to specifically show the surface structure and the cross-sectional structure of the mold of the example, as a representative example of the mold manufactured in Example 2, using “SEMEDX Type N” manufactured by Hitachi, “GX51” manufactured by Olympus, An enlarged photo of the surface and an enlarged photo of the cross section were taken. This is shown in FIGS. 10 (a) and 10 (b). Moreover, in order to show concretely the surface structure of the rubber elastic layer of the image development roll of an Example, about the image development roll produced in Example 2 as the representative example, a laser microscope (made by Keyence Corporation, VK-9510) was used. An enlarged photograph of the surface of the rubber elastic layer and a 3D photograph thereof were taken. This is shown in FIGS. 11 (a) and 11 (b).

図10(a)(b)によれば、成形型の型内面に、分散粒子に基づく多数の凸部が形成されていることが確認できる。また、分散粒子の表面が被覆めっき層により覆われていることが確認できる。そして、図11(a)(b)によれば、ゴム弾性層の表面に複数の凹部が形成されていることが確認できる。   10 (a) and 10 (b), it can be confirmed that a large number of convex portions based on the dispersed particles are formed on the inner surface of the mold. Further, it can be confirmed that the surface of the dispersed particles is covered with the coating plating layer. And according to Fig.11 (a) (b), it can confirm that the several recessed part is formed in the surface of a rubber elastic layer.

そして、表1から、実施例によれば、トナー搬送量は適切であり、このような適切なトナー搬送量を維持しつつ、層形成ブレードへのトナーの固着の発生も抑えられることが確認できた。   From Table 1, it can be confirmed that according to the embodiment, the toner conveyance amount is appropriate, and the occurrence of toner sticking to the layer forming blade can be suppressed while maintaining such an appropriate toner conveyance amount. It was.

これに対し、比較例1は、従来の方法によりゴム弾性層の表面に多数の凹部を形成した現像ロールであり、凹部の開口径が大きく深さが浅い。このため、層形成ブレードからのトナー粒子へのストレスが強くなり、層形成ブレードへのトナーの固着の発生量が多くなっている。   On the other hand, Comparative Example 1 is a developing roll in which many concave portions are formed on the surface of the rubber elastic layer by a conventional method, and the opening diameter of the concave portions is large and the depth is shallow. For this reason, the stress on the toner particles from the layer forming blade is increased, and the amount of toner adhering to the layer forming blade is increased.

比較例2、6では、ゴム弾性層表面に占める凹部の面積割合が小さいため、凹部以外の部分の面積割合が多くなり、層形成ブレードへのトナーの固着の発生量が多くなっている。比較例3では、凹部の開口径が大きすぎるため、層形成ブレードへのトナーの固着の発生量が多くなっている。比較例4では、表層の厚みが厚すぎるため、ゴム弾性層の表面の凹部が埋まりすぎて、層形成ブレードへのトナーの固着の発生量が多くなっている。また、トナー搬送量が低下している。比較例5では、ゴム弾性層表面に占める凹部の面積割合が大きいため、凹部同士が連なりすぎて、ロール表面の開口径が大きくなりすぎている。このため、層形成ブレードへのトナーの固着の発生量が多くなっている。   In Comparative Examples 2 and 6, since the area ratio of the recesses on the surface of the rubber elastic layer is small, the area ratio of the parts other than the recesses is increased, and the amount of toner adhering to the layer forming blade is increased. In Comparative Example 3, since the opening diameter of the concave portion is too large, the amount of toner sticking to the layer forming blade is increased. In Comparative Example 4, since the surface layer is too thick, the concave portion on the surface of the rubber elastic layer is filled too much, and the amount of toner adhered to the layer forming blade is increased. Further, the toner conveyance amount is reduced. In Comparative Example 5, since the area ratio of the recesses on the surface of the rubber elastic layer is large, the recesses are excessively connected, and the opening diameter of the roll surface is too large. For this reason, the amount of toner adhered to the layer forming blade is increased.

以上、本発明の実施の形態について詳細に説明したが、本発明は上記実施の形態に何ら限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の改変が可能である。   Although the embodiments of the present invention have been described in detail above, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the gist of the present invention.

10、20 電子写真機器用現像ロール
12 軸体
14 ゴム弾性層
14a 凹部
16 表層
30 成形型
32 成形型基材
34 めっき
36 共析めっき層
36a 分散粒子
38 被覆めっき層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10, 20 Developing roll 12 for electrophotographic apparatus Shaft body 14 Rubber elastic layer 14a Recess 16 Surface layer 30 Mold 32 Mold base 34 Plating 36 Eutectoid plating layer 36a Dispersed particles 38 Coating plating layer

Claims (4)

軸体と、前記軸体の外周に形成されたゴム弾性層と、を備え、
前記ゴム弾性層は、分散粒子を含有する共析めっき層と該共析めっき層の表面全体に形成されて前記分散粒子の露出表面を覆う被覆めっき層とが円筒状の成形型基材の型内面に形成されて前記型内面に前記分散粒子に基づく多数の凸部を有する成形型を用いて成形されてなり、
前記ゴム弾性層の表面には、下記の式(1)〜(3)を満たす凹部が多数形成され、かつ、該ゴム弾性層の表面には、トナー離型性を高める表層が厚さ10μm以下に形成されていることを特徴とする電子写真機器用現像ロール。
1≦φ1≦10・・・(1)
1≦d・・・(2)
30.0≦Ap1≦78.5・・・(3)
但し、
φ1:凹部の開口径(μm)
d:凹部の深さ(μm)
Ap1:ゴム弾性層表面の撮影画像を判別分析法を用いて二値化したときの凹部の面積割合(%)
A shaft body, and a rubber elastic layer formed on the outer periphery of the shaft body,
The rubber elastic layer is a mold of a molding die base material in which a eutectoid plating layer containing dispersed particles and a coating plating layer formed on the entire surface of the eutectoid plated layer and covering the exposed surface of the dispersed particles are cylindrical. Formed on the inner surface of the mold using a molding die having a large number of protrusions based on the dispersed particles,
On the surface of the rubber elastic layer, a large number of recesses satisfying the following formulas (1) to (3) are formed , and on the surface of the rubber elastic layer, a surface layer for improving toner releasability is 10 μm or less in thickness. A developing roll for an electrophotographic apparatus, wherein
1 ≦ φ1 ≦ 10 (1)
1 ≦ d (2)
30.0 ≦ Ap1 ≦ 78.5 (3)
However,
φ1: Opening diameter of recess (μm)
d: Depth of recess (μm)
Ap1: Area ratio (%) of the recess when the photographed image of the rubber elastic layer surface is binarized using a discriminant analysis method
軸体と、前記軸体の外周に形成されたゴム弾性層と、を備え、
前記ゴム弾性層は、分散粒子を含有する共析めっき層と該共析めっき層の表面全体に形成されて前記分散粒子の露出表面を覆う被覆めっき層とが円筒状の成形型基材の型内面に形成されて前記型内面に前記分散粒子に基づく多数の凸部を有する成形型を用いて成形されてなり、
前記ゴム弾性層の表面には、下記の式(1)〜(3)を満たす凹部が多数形成され、かつ、該ゴム弾性層の表面には、トナー離型性を高める表面改質が施されていることを特徴とする電子写真機器用現像ロール。
1≦φ1≦10・・・(1)
1≦d・・・(2)
30.0≦Ap1≦78.5・・・(3)
但し、
φ1:凹部の開口径(μm)
d:凹部の深さ(μm)
Ap1:ゴム弾性層表面の撮影画像を判別分析法を用いて二値化したときの凹部の面積割合(%)
A shaft body, and a rubber elastic layer formed on the outer periphery of the shaft body,
The rubber elastic layer is a mold of a molding die base material in which a eutectoid plating layer containing dispersed particles and a coating plating layer formed on the entire surface of the eutectoid plated layer and covering the exposed surface of the dispersed particles are cylindrical. Formed on the inner surface of the mold using a molding die having a large number of protrusions based on the dispersed particles,
The surface of the rubber elastic layer has a large number of recesses that satisfy the following formulas (1) to (3) , and the surface of the rubber elastic layer is subjected to surface modification that enhances toner releasability. A developing roll for electrophotographic equipment.
1 ≦ φ1 ≦ 10 (1)
1 ≦ d (2)
30.0 ≦ Ap1 ≦ 78.5 (3)
However,
φ1: Opening diameter of recess (μm)
d: Depth of recess (μm)
Ap1: Area ratio (%) of the recess when the photographed image of the rubber elastic layer surface is binarized using a discriminant analysis method
請求項1または2に記載の電子写真機器用現像ロールのゴム弾性層の形成に用いる成形型の製造方法であって、
円筒状の成形型基材の型内面に、分散粒子を含有するめっき液を用いた共析めっきを行うことにより、前記分散粒子の一部が表面に露出した共析めっき層を形成する共析めっき工程と、
前記共析めっき層の表面全体にめっきを行うことにより、前記分散粒子の露出表面を覆う被覆めっき工程と、を備え、
前記型内面に前記分散粒子に基づく多数の凸部を形成することを特徴とする成形型の製造方法。
A method for producing a mold used for forming a rubber elastic layer of a developing roll for an electrophotographic apparatus according to claim 1 or 2 ,
A eutectoid plating layer in which a part of the dispersed particles is exposed on the surface by performing eutectoid plating using a plating solution containing dispersed particles on the inner surface of a cylindrical mold base. Plating process,
A plating process for covering the exposed surface of the dispersed particles by plating the entire surface of the eutectoid plating layer,
A method for producing a mold, wherein a large number of convex portions based on the dispersed particles are formed on the inner surface of the mold.
請求項1または2に記載の電子写真機器用現像ロールの製造方法であって、It is a manufacturing method of the developing roll for electrophotographic equipment according to claim 1 or 2,
前記ゴム弾性層を、分散粒子を含有する共析めっき層と該共析めっき層の表面全体に形成されて前記分散粒子の露出表面を覆う被覆めっき層とが円筒状の成形型基材の型内面に形成されて前記型内面に前記分散粒子に基づく多数の凸部を有する成形型を用いて成形することを特徴とする電子写真機器用現像ロールの製造方法。The rubber elastic layer is a mold of a molding die base material in which a eutectoid plating layer containing dispersed particles and a coating plating layer that is formed on the entire surface of the eutectoid plated layer and covers the exposed surface of the dispersed particles A method for producing a developing roll for an electrophotographic apparatus, comprising forming a molding die formed on an inner surface and having a plurality of convex portions based on the dispersed particles on the inner surface of the mold.
JP2011038383A 2011-02-24 2011-02-24 Developing roll for electrophotographic apparatus and method for producing mold Active JP5613081B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011038383A JP5613081B2 (en) 2011-02-24 2011-02-24 Developing roll for electrophotographic apparatus and method for producing mold

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011038383A JP5613081B2 (en) 2011-02-24 2011-02-24 Developing roll for electrophotographic apparatus and method for producing mold

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012173703A JP2012173703A (en) 2012-09-10
JP5613081B2 true JP5613081B2 (en) 2014-10-22

Family

ID=46976606

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011038383A Active JP5613081B2 (en) 2011-02-24 2011-02-24 Developing roll for electrophotographic apparatus and method for producing mold

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5613081B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014178463A (en) * 2013-03-14 2014-09-25 Ricoh Co Ltd Developing device, process cartridge, image forming apparatus, and toner

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5085030B2 (en) * 2004-12-24 2012-11-28 東海ゴム工業株式会社 Developing roll and its production method
JP2008116869A (en) * 2006-11-08 2008-05-22 Tokai Rubber Ind Ltd Process for producing conductive roll and conductive roll obtained thereby
JP4922801B2 (en) * 2007-03-20 2012-04-25 東海ゴム工業株式会社 Developing roll for electrophotographic equipment and method for producing developing roll for electrophotographic equipment
JP5386090B2 (en) * 2008-02-05 2014-01-15 東海ゴム工業株式会社 Developing roll for electrophotographic equipment
JP5108631B2 (en) * 2008-05-29 2012-12-26 東海ゴム工業株式会社 Method for producing mold, mold and developing roll for electrophotographic apparatus
JP5209398B2 (en) * 2008-07-28 2013-06-12 東海ゴム工業株式会社 Developing roll for electrophotographic equipment
JP5473361B2 (en) * 2009-03-12 2014-04-16 キヤノン株式会社 Method for producing elastic roller for electrophotography

Also Published As

Publication number Publication date
JP2012173703A (en) 2012-09-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5783870B2 (en) Developing roll for electrophotographic equipment
JP6410664B2 (en) Electrophotographic member, process cartridge, and electrophotographic apparatus
US10678158B2 (en) Electro-conductive member for electrophotography, process cartridge, and electrophotographic image forming apparatus
JP5209398B2 (en) Developing roll for electrophotographic equipment
WO2013099207A1 (en) Conductive member for electrophotography, process cartridge, and electrophotographic apparatus
WO2012023547A1 (en) Modified polymer base material, process for producing same, and surface treatment
JP5662825B2 (en) Developing roll for electrophotographic equipment
JP5326002B2 (en) Developing roll for electrophotographic equipment
JP5613081B2 (en) Developing roll for electrophotographic apparatus and method for producing mold
JP5792095B2 (en) Developing roll
JP5465039B2 (en) Development roll for electrophotographic apparatus, method for producing molding die, and molding die
JP2001140854A (en) Semiconductive roller and image forming device
JP5612976B2 (en) Development roll for electrophotographic apparatus, method for producing mold and mold for molding, and method for producing plated film and plated film
JP6417211B2 (en) Conductive member
JP4089165B2 (en) roll
JP5759254B2 (en) Mold and mold manufacturing method
JP5108631B2 (en) Method for producing mold, mold and developing roll for electrophotographic apparatus
JP2008268864A (en) Conductive roll for electrophotographic equipment
JPH07139541A (en) Rubber roller and its manufacturing method
JP5744433B2 (en) Elastic roller
JP5408939B2 (en) Charging roll for electrophotographic equipment
JP4595538B2 (en) Developing roll manufacturing method and molding die used therefor
JP2004109206A (en) Developing roller and developing device
JP5465034B2 (en) Developing roll
JP5474708B2 (en) Developing roll for electrophotographic equipment

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20131105

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20140407

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140415

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140609

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140902

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140905

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5613081

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250