JP5629993B2 - 有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタおよび有機エレクトロルミネッセンス表示装置 - Google Patents
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Description
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタおよび有機エレクトロルミネッセンス表示装置に関するものである。
有機エレクトロルミネッセンス（以下、有機ＥＬと略す。）表示装置は、自己発色により視認性が高いこと、液晶表示装置と異なり全固体ディスプレイであるため耐衝撃性に優れていること、応答速度が速いこと、温度変化による影響が少ないこと、および、視野角が大きいことなどの利点が注目されている。
有機ＥＬ素子の構成は、陽極／有機ＥＬ層／陰極の積層構造を基本としている。また、カラー表示が可能な有機ＥＬ表示装置として、このような有機ＥＬ素子を有する有機ＥＬ素子側基板とカラーフィルタとを組み合わせたものが知られている。
ここで、有機ＥＬ素子に用いられる有機ＥＬ層は、水分、酸素、その他ガス成分に対する耐性が弱く、これらの水分、酸素、その他ガス成分の影響によりシュリンクやダークスポットなどが発生する。ここで、シュリンクとは、時間が経つにつれて、あたかも発光領域が収縮するように非発光領域の拡大が進行する現象をいう。また、ダークスポットとは、有機ＥＬ素子の作製直後に生じる黒点のような非発光領域をいう。このダークスポットも時間の経過とともに拡大することがある。すなわち、上記有機ＥＬ素子は、水分等が存在することにより、経時的に劣化するのである。
この水分の有機ＥＬ表示装置への侵入を防止する手法として、例えば有機ＥＬ素子の作製方法として、有機ＥＬ層上に、厚さ０．０１μｍ〜２００μｍの絶縁性の無機酸化膜層を設けることが開示されている（特許文献１）。また、有機ＥＬ層上に、オーバーコート層および絶縁性の無機酸化膜層を設けることが開示されている（特許文献２）。
また、有機ＥＬ表示装置には、上記有機ＥＬ素子が大気中の水分等と接触することを抑制することを目的として、上記有機ＥＬ素子側基板と上記カラーフィルタとの周縁部にシール剤を形成する技術も提案されている。
しかしながら、上述した技術のみで、大気中の水分等の浸入を完全に防ぐことは手間がかかり困難であった。
そこで、上記技術と組み合わせることにより、より簡便に、かつ、完全に有機ＥＬ素子内への大気中の水分、酸素等の侵入を防止する技術が望まれていた。
そこで、上記技術と組み合わせることにより、より簡便に、かつ、完全に有機ＥＬ素子内への大気中の水分、酸素等の侵入を防止する技術が望まれていた。
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、水分や酸素による有機ＥＬ層の劣化を防ぎ、経時安定性に優れる有機ＥＬ表示装置に用いられる有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタおよびそれを用いた有機ＥＬ表示装置を提供することを主目的とする。
本発明は、上記目的を達成するために、透明基板と、上記透明基板上の表示領域に形成された着色層と、上記透明基板上の非表示領域に上記表示領域を囲うように形成された隔壁とを有する有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタであって、上記隔壁は、上記有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタに有機ＥＬ素子を有する有機ＥＬ素子側基板を対向させて貼り合わせた際に、上記有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタおよび上記有機ＥＬ素子側基板の間の気密性を保持できる高さに形成され、かつ、ガスバリア性を有することを特徴とする有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタを提供する。
本発明によれば、本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタと上記有機ＥＬ素子側基板とを貼り合わせた際、上記隔壁によって、シール剤を通り抜けた水分、酸素等の侵入を防ぐことができる。これにより、有機ＥＬ層の経時的な劣化を防ぐことができる。
また本発明においては、上記隔壁が、台座部と、上記台座部を覆うように形成されたガスバリア性を有する無機材料からなるバリア膜とから形成されることが好ましい。隔壁により高いガスバリア性を付与することができるからである。
上記の場合、上記台座部が上記着色層の材料と同一の材料からなるものであってもよい。着色層を積層させることによって、隔壁の形成工程を簡略化でき、コストを下げることができるからである。
また、上記の場合、上記着色層上全面に着色層を覆う着色層被覆膜を有し、上記着色層被覆膜が上記バリア膜と一体で形成されているものであってもよい。上記着色層被覆膜を形成することにより、透明基板上の着色層からの脱ガス等を防止することができる。また、上記着色層被覆膜と上記バリア膜とを同時に形成することができるため、製造工程を簡略化することができる。
さらに、上記の場合、上記透明基板上に上記表示領域の画素を画定する遮光部が形成されており、上記バリア膜が上記遮光部の材料と同一の材料からなるものであってもよい。バリア膜が遮光性を有することにより、表示領域と非表示領域とを画定する周縁遮光部としての機能を備えることができる。また、本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタと有機ＥＬ素子側基板とを対向させて有機ＥＬ表示装置を作製した場合、バリア膜が遮光性を有することにより、有機ＥＬ素子側基板の背面電極層の取り出し電極部を遮光することができ、外光反射による視認性の低下および外光による取り出し電極部の劣化を防ぐことができる。さらに、バリア膜と遮光部とを同時に形成することができるため、製造工程を簡略化することができる。
本発明においては、上記着色層上全面に着色層を覆う着色層被覆膜を有し、上記着色層被覆膜が上記隔壁と一体で形成されていてもよい。上記着色層被覆膜を形成することにより、透明基板上の着色層からの脱ガス等を防止することができる。また、上記着色層被覆膜と上記隔壁とを同時に形成することができるため、製造工程を簡略化することができる。
本発明においては、上記隔壁が、上記透明基板の非表示領域に複数形成されていてもよい。上記隔壁を複数有することによって、より高いガスバリア性を有することができるからである。
本発明は、上述した有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタを用いた有機ＥＬ表示装置を提供する。
本発明によれば、上述した有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタを用いることにより、水分、酸素等による有機ＥＬ層の劣化を抑えることができ、経時安定性の優れた有機ＥＬ表示装置とすることができる。
本発明においては、上述したように、ガスバリア性を有する隔壁を有することにより、有機ＥＬ表示装置に用いられた場合に、水分や酸素による有機ＥＬ層の劣化を防ぐことができる有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタを提供することができ、これを用いることにより経時安定性に優れる有機ＥＬ表示装置を提供することができるという効果を奏する。
Ａ．有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ
本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタは、透明基板と、上記透明基板上の表示領域に形成された着色層と、上記透明基板上の非表示領域に上記表示領域を囲うように形成された隔壁とを有する有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタであって、上記隔壁は、上記有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタに有機ＥＬ素子を有する有機ＥＬ素子側基板を対向させて貼り合わせた際に、上記有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタおよび上記有機ＥＬ素子側基板の間の気密性を保持できる高さに形成され、かつ、ガスバリア性を有することを特徴とするものである。
本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタは、透明基板と、上記透明基板上の表示領域に形成された着色層と、上記透明基板上の非表示領域に上記表示領域を囲うように形成された隔壁とを有する有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタであって、上記隔壁は、上記有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタに有機ＥＬ素子を有する有機ＥＬ素子側基板を対向させて貼り合わせた際に、上記有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタおよび上記有機ＥＬ素子側基板の間の気密性を保持できる高さに形成され、かつ、ガスバリア性を有することを特徴とするものである。
本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタについて、図面を参照しながら説明する。
図１は、本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの一例を示した模式図である。図１（ａ）は、図１（ｂ）のＡ−Ａ線断面図である。
図１（ａ）に示すように、本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ１は、透明基板２と、透明基板２上の表示領域ａに形成された着色層３（図１中では３Ｒ、３Ｇ、３Ｂ）と、透明基板２上の非表示領域ｂに形成された隔壁４とを有するものである。隔壁４は、ガスバリア性を有するものであり、例えば台座部４ｃと、台座部４ｃを覆うようにして形成されたガスバリア性を有する無機材料からなるバリア膜４ｄとから形成される。また、隔壁４の高さは、有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタに有機ＥＬ素子を有する有機ＥＬ素子側基板を対向させて貼り合わせた際に気密性を有するような高さである必要がある。
図１は、本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの一例を示した模式図である。図１（ａ）は、図１（ｂ）のＡ−Ａ線断面図である。
図１（ａ）に示すように、本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ１は、透明基板２と、透明基板２上の表示領域ａに形成された着色層３（図１中では３Ｒ、３Ｇ、３Ｂ）と、透明基板２上の非表示領域ｂに形成された隔壁４とを有するものである。隔壁４は、ガスバリア性を有するものであり、例えば台座部４ｃと、台座部４ｃを覆うようにして形成されたガスバリア性を有する無機材料からなるバリア膜４ｄとから形成される。また、隔壁４の高さは、有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタに有機ＥＬ素子を有する有機ＥＬ素子側基板を対向させて貼り合わせた際に気密性を有するような高さである必要がある。
本発明によれば、有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタが隔壁を有することにより、有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタと有機ＥＬ素子側基板とを貼り合わせた際に、水分、酸素等の侵入を防ぐことができるので、有機ＥＬ層が水分、酸素によって劣化するのを抑制することができる。
以下、本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの各構成について説明する。
以下、本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの各構成について説明する。
１．隔壁
本発明に用いられる隔壁は、透明基板上の非表示領域に表示領域を囲うように形成されるものであり、本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタに有機ＥＬ素子を有する有機ＥＬ素子側基板を対向させて貼り合わせた際に、気密性を有する高さに形成され、かつ、ガスバリア性を有するものである。
本発明に用いられる隔壁は、透明基板上の非表示領域に表示領域を囲うように形成されるものであり、本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタに有機ＥＬ素子を有する有機ＥＬ素子側基板を対向させて貼り合わせた際に、気密性を有する高さに形成され、かつ、ガスバリア性を有するものである。
本発明に用いられる隔壁は、非表示領域に形成され、ガスバリア性を有するものであれば、特に限定されない。
本発明においては、図２に例示するように、隔壁４が、ガスバリア性を有する材料のみを用いて、台座部とバリア膜とが一体で形成される実施態様（以下、第１実施態様とする。）と、図１（ａ）に例示されるように、隔壁４が、台座部４ｃと、上記台座部４ｃを覆うようにして形成されるガスバリア性を有する材料からなるバリア膜４ｄとから形成される実施態様（以下、第２実施態様とする。）と、が考えられる。
ここで、図２において説明していない符号については、図１と同様であるため、ここでの記載は省略する。
以下、それぞれの実施態様について説明する。
本発明においては、図２に例示するように、隔壁４が、ガスバリア性を有する材料のみを用いて、台座部とバリア膜とが一体で形成される実施態様（以下、第１実施態様とする。）と、図１（ａ）に例示されるように、隔壁４が、台座部４ｃと、上記台座部４ｃを覆うようにして形成されるガスバリア性を有する材料からなるバリア膜４ｄとから形成される実施態様（以下、第２実施態様とする。）と、が考えられる。
ここで、図２において説明していない符号については、図１と同様であるため、ここでの記載は省略する。
以下、それぞれの実施態様について説明する。
（１）第１実施態様
本実施態様の隔壁は、ガスバリア性を有する材料のみを用いて台座部とバリア膜とが一体で形成されるものである。
本実施態様の隔壁は、ガスバリア性を有する材料のみを用いて台座部とバリア膜とが一体で形成されるものである。
上記隔壁に用いられる材料としては、ガスバリア性を有し、かつ、所望する隔壁を形成することができるのであれば特に限定されるものではなく、例えば、有機材料としては、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリアクリルニトリル、ポリイミド、ポリアミド、ポリ塩化ビニルなどが用いられる。また、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリビニルアルコール樹脂などの有機材料に、無機材料であるシリカなどを含有させた有機無機ハイブリッド樹脂も好適に用いられる。
上記隔壁の高さとしては、上記隔壁を用いて形成した有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタを、有機ＥＬ素子側基板と対向させて貼り合わせた際に、気密性を保持できる程度であれば、特に限定されるものではない。通常、上記隔壁の高さは、有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの透明基板および有機ＥＬ素子側基板の両基板の間の距離（以下、基板間距離とする場合がある。）と同等もしくは大きく形成される。本発明においては、有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタおよび有機ＥＬ素子側基板を貼り合わせる際に圧力を加え隔壁を有機ＥＬ素子側基板に圧着させることにより気密性を保持するものであるため、基板間距離よりも上記隔壁の高さが低い場合は気密性を保つことができないからである。
上記隔壁の高さと基板間距離との差（隔壁の高さ−基板間距離）としては、０μｍ〜１０μｍの範囲内が好ましく、中でも０μｍ〜８μｍの範囲内、特に０μｍ〜５μｍの範囲内であることが好ましい。
また、上記隔壁の高さとしては、用いられる有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの種類によって適宜調整されるものであるが、１μｍ〜１５μｍの範囲内が好ましく、中でも３μｍ〜１０μｍの範囲内、特に５μｍ〜８μｍの範囲内であることが好ましい。上記範囲に満たない場合、有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタおよび有機ＥＬ素子側基板の間の気密性を保つことが困難であるからであり、上記範囲を超える場合、圧力をかけても基板間距離より大きくなってしまうからである。
上記隔壁の高さと基板間距離との差（隔壁の高さ−基板間距離）としては、０μｍ〜１０μｍの範囲内が好ましく、中でも０μｍ〜８μｍの範囲内、特に０μｍ〜５μｍの範囲内であることが好ましい。
また、上記隔壁の高さとしては、用いられる有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの種類によって適宜調整されるものであるが、１μｍ〜１５μｍの範囲内が好ましく、中でも３μｍ〜１０μｍの範囲内、特に５μｍ〜８μｍの範囲内であることが好ましい。上記範囲に満たない場合、有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタおよび有機ＥＬ素子側基板の間の気密性を保つことが困難であるからであり、上記範囲を超える場合、圧力をかけても基板間距離より大きくなってしまうからである。
上記隔壁の線幅としては、本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタを有機ＥＬ素子側基板と貼り合わせた際に、気密性を有することができる線幅であれば、特に限定されるものではないが、５μｍ〜５００μｍの範囲内、中でも１０μｍ〜４００μｍの範囲内、特に３０μｍ〜３００μｍの範囲内であることが好ましい。上記隔壁の線幅が、上記範囲に満たない場合、有機ＥＬ素子側基板と圧着させても気密性を保持することが困難になる可能性があるからであり、上記範囲を超える場合、表示領域に隔壁が形成されてしまうからである。
上記隔壁の断面形状としては、本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタに用いられた場合に気密性を保持できる形状であれば特に限定されず、矩形形状、台形形状等とされる。
上記隔壁上面には、接着層を設けてもよい。有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタおよび有機ＥＬ素子側基板の２つの基板を固定することができるからである。また、気密性を向上することができるからである。
本実施態様の隔壁の形成方法としては、所望する形状の隔壁を形成することができるのであれば特に限定されるものでもなく、例えばフォトリソ法、印刷法等が挙げられる。
また、本実施態様においては、図３に示すように、隔壁４と、着色層被覆膜５とが一体で形成されていてもよい。ここで、着色層被覆膜とは、着色層からの脱ガスにより有機ＥＬ素子が劣化するのを防ぐために着色層全面に形成されるものであり、ガスバリア性を有するものである。隔壁と着色層被覆膜とを一体で形成することにより、別途着色層被覆膜を形成しなくてもよく、製造工程を簡略化することができる。
ここで、図３において、説明していない符号については図１と同様であるため、ここでの説明は省略する。
ここで、図３において、説明していない符号については図１と同様であるため、ここでの説明は省略する。
上述したように、隔壁と着色層被覆膜とを一体で形成する場合、用いられる材料としては、隔壁と着色層被覆膜とを一体で形成することが可能であり、かつ、透明性およびガスバリア性を有するものであれば特に限定されるものではない。このような材料としては、上述した隔壁と同様であるため、ここでの記載は省略する。
隔壁と着色層被覆膜とが一体で形成されている場合、隔壁および着色層被覆膜の形成方法としては、例えば、階調マスクを用いたフォトリグラフィー法が挙げられる。
本実施態様の隔壁としては、図４（ａ）に示すように、隔壁４が複数（図４中では２つ）形成されていてもよい。上記隔壁が複数形成されていることで、より高いガスバリア性を有することができるからである。
上記隔壁が複数形成される場合、２個〜１０個の範囲内が好ましく、中でも２個であることが好ましい。上記範囲を超える場合、表示領域に隔壁が形成されてしまう恐れがあるからである。ここで、図４（ａ）において説明していない符号については、図１と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
上記隔壁が複数形成される場合、２個〜１０個の範囲内が好ましく、中でも２個であることが好ましい。上記範囲を超える場合、表示領域に隔壁が形成されてしまう恐れがあるからである。ここで、図４（ａ）において説明していない符号については、図１と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
（２）第２実施態様
本実施態様の隔壁は、台座部と、上記台座部を覆うように形成されたガスバリア性を有する無機材料からなるバリア膜とから形成されることを特徴とするものである。本実施態様の隔壁は、台座部をバリア膜により覆うことで、より高いガスバリア性を有することができる。
以下、台座部および隔壁についてそれぞれ説明する。
本実施態様の隔壁は、台座部と、上記台座部を覆うように形成されたガスバリア性を有する無機材料からなるバリア膜とから形成されることを特徴とするものである。本実施態様の隔壁は、台座部をバリア膜により覆うことで、より高いガスバリア性を有することができる。
以下、台座部および隔壁についてそれぞれ説明する。
ａ．台座部
本実施態様に用いられる台座部は、透明基板上に形成されるものである。
本実施態様に用いられる台座部は、透明基板上に形成されるものである。
上記台座部に用いられる材料としては、台座部を所望する形状に形成でき、形成した台座部上に後述するバリア膜を形成することができるものであれば特に限定されず、ガスバリア性を有するものであってもよいし、ガスバリア性を有しないものであってもよい。
ガスバリア性を有する材料としては、有機材料としては、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリアクリルニトリル、ポリイミド、ポリアミド、ポリ塩化ビニルなどが用いられる。また、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリビニルアルコール樹脂などの有機材料に無機材料であるシリカなどを含有させた有機無機ハイブリッド樹脂も好適に用いられる。
ガスバリア性を有する材料としては、有機材料としては、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリアクリルニトリル、ポリイミド、ポリアミド、ポリ塩化ビニルなどが用いられる。また、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリビニルアルコール樹脂などの有機材料に無機材料であるシリカなどを含有させた有機無機ハイブリッド樹脂も好適に用いられる。
また、ガスバリア性を有しない材料としては、例えば感光性アクリル樹脂、感光性ポリイミド、ポジレジスト、カルド樹脂、ポリシロキサン、ベンゾシクロブテン等が挙げられる。
本実施態様に用いられる台座部の高さ、線幅、形状は、台座部上に後述するバリア膜を形成した際に、「１．第１実施態様」の項で記載した隔壁の高さ、線幅、形状と同様となるように形成されるものである。
本実施態様の隔壁に用いられる台座部の形成方法としては、所望する形状に台座部を形成することができるのであれば特に限定されず、例えば、フォトリソグラフィー法や、印刷法等が挙げられる。
また、上記台座部としては、図５に示すように、後述する着色層に用いられる材料と同一の材料を用いて形成されるものであってもよい。
この場合の台座部の形成方法の一例を以下に説明する。まず、赤色着色層を形成する赤色着色層形成用塗工液を用いて、表示領域の所定の位置に赤色着色層３Ｒを、台座部を形成する非表示領域の所定の位置に台座部形成用層４’Ｒをそれぞれ形成する。次に、緑色着色層を形成する緑色着色層形成用塗工液を用いて、表示領域の所定の位置に緑色着色層３Ｇを、台座部形成用層４’Ｒ上に積層するように台座部形成用層４’Ｇをそれぞれ形成する。次に、青色着色層を形成する青色着色層形成用塗工液を用いて、表示領域の所定の位置に青色着色層３Ｂを、台座部形成用層４’Ｇ上に積層するように台座部形成用層４’Ｂをそれぞれ形成する。このように、着色層形成用塗工液を用いて着色層を形成する際に、同時に台座部の形成位置に台座部形成用層を積層させることにより台座部４ｃを形成する。着色層を積層させることによって、隔壁の形成工程を簡略化でき、コストを下げることができる。
このとき、台座部形成用層の積層数としては、１層〜４層の範囲内、中でも２層〜４層の範囲内、特に２層〜３層の範囲内が好ましい。上記範囲に満たない場合、台座部を所望する高さに形成するのは困難であるからであり、上記範囲を超える場合、台座部形成用層を積層させる工程が煩雑になるからである。
ここで、図５において説明していない符号については図１と同様であるので、ここでの説明は省略する。
この場合の台座部の形成方法の一例を以下に説明する。まず、赤色着色層を形成する赤色着色層形成用塗工液を用いて、表示領域の所定の位置に赤色着色層３Ｒを、台座部を形成する非表示領域の所定の位置に台座部形成用層４’Ｒをそれぞれ形成する。次に、緑色着色層を形成する緑色着色層形成用塗工液を用いて、表示領域の所定の位置に緑色着色層３Ｇを、台座部形成用層４’Ｒ上に積層するように台座部形成用層４’Ｇをそれぞれ形成する。次に、青色着色層を形成する青色着色層形成用塗工液を用いて、表示領域の所定の位置に青色着色層３Ｂを、台座部形成用層４’Ｇ上に積層するように台座部形成用層４’Ｂをそれぞれ形成する。このように、着色層形成用塗工液を用いて着色層を形成する際に、同時に台座部の形成位置に台座部形成用層を積層させることにより台座部４ｃを形成する。着色層を積層させることによって、隔壁の形成工程を簡略化でき、コストを下げることができる。
このとき、台座部形成用層の積層数としては、１層〜４層の範囲内、中でも２層〜４層の範囲内、特に２層〜３層の範囲内が好ましい。上記範囲に満たない場合、台座部を所望する高さに形成するのは困難であるからであり、上記範囲を超える場合、台座部形成用層を積層させる工程が煩雑になるからである。
ここで、図５において説明していない符号については図１と同様であるので、ここでの説明は省略する。
さらに、図６（ｂ）に例示するように、台座部４ｃは、後述する着色層被覆膜第１層５ａと一体で形成されていてもよい。台座部と着色層被覆膜第１層とを一体で形成することにより、製造工程を簡略化することができる。
台座部と着色層被覆膜第１層とが一体で形成されている場合、台座部に用いられる材料としては、台座部と着色層被覆膜第１層とを一体で形成することが可能であり、かつ、透明性およびガスバリア性を有するものであれば特に限定されるものではない。このような材料としては、上述のガスバリア性を有する材料を用いることができる。
また、台座部と着色層被覆膜第１層とを一体で形成する場合、台座部および着色層被覆膜第１層の形成方法としては、例えば、階調マスクを用いたフォトリグラフィー法が挙げられる。
台座部と着色層被覆膜第１層とが一体で形成されている場合、台座部に用いられる材料としては、台座部と着色層被覆膜第１層とを一体で形成することが可能であり、かつ、透明性およびガスバリア性を有するものであれば特に限定されるものではない。このような材料としては、上述のガスバリア性を有する材料を用いることができる。
また、台座部と着色層被覆膜第１層とを一体で形成する場合、台座部および着色層被覆膜第１層の形成方法としては、例えば、階調マスクを用いたフォトリグラフィー法が挙げられる。
本実施態様の隔壁に用いられる台座部は、遮光性を有していてもよい。上記台座部が遮光性を有することにより、表示領域と非表示領域とを画定する周縁遮光部としての機能を有することができるからである。
ｂ．バリア膜
本実施態様の隔壁に用いられるバリア膜は、上記台座部を覆うように形成され、ガスバリア性を有する無機材料からなるものである。
本実施態様の隔壁に用いられるバリア膜は、上記台座部を覆うように形成され、ガスバリア性を有する無機材料からなるものである。
このような上記バリア膜に用いられる材料としては、ガスバリア性を有するものであれば、特に限定されるものではないが、通常、無機酸化膜、無機酸化窒化膜、無機窒化膜、または金属膜のいずれか１種または２種以上を組み合わせたものを使用することができる。上記無機酸化膜としては、酸化ケイ素膜、酸化アルミニウム膜、酸化マグネシウム膜、酸化チタン膜、酸化スズ膜、酸化インジウム合金膜が挙げられる。また、上記無機酸化窒化膜としては、酸化窒化ケイ素膜が挙げられ、上記無機窒化膜としては、窒化ケイ素膜、窒化アルミニウム膜、窒化チタン膜が挙げられる。さらに、上記金属膜としては、アルミニウム膜、銀膜、錫膜、クロム膜、ニッケル膜、チタン膜が挙げられる。
本実施態様においては、上記の材料の中でも、酸化ケイ素膜または酸化窒化ケイ素膜であることが好ましい。これらの材料は密着性が良好であるからである。
また、バリア膜４ｄは、図６（ａ）に例示するように着色層被覆膜５と一体で形成されていてもよく、図６（ｂ）に例示するように着色層被覆膜第２層５ｂと一体で形成されていてもよい。バリア膜と着色層被覆膜または着色層被覆膜第２層とを一体で形成することにより、製造工程を簡略化することができる。
バリア膜と着色層被覆膜もしくは着色層被覆膜第２層とを一体で形成する場合に用いられる材料としては、ガスバリア性を有し、かつ、透明性を有するものであれば特に限定されない。このような材料としては、上述したバリア膜と同様とすることができる。中でも、無機酸化膜、無機酸化窒化膜、無機窒化膜が好ましい。バリア膜の膜厚が比較的厚くても、透明性を確保することができるからである。
さらに、図７に例示するように、バリア膜４ｄは、後述する遮光部７に用いられる材料と同一の材料からなるものであってもよい。バリア膜が遮光性を有することにより、表示領域と非表示領域とを画定する周縁遮光部としての機能を備えることができる。また、本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタと有機ＥＬ素子側基板とを対向させて有機ＥＬ表示装置を作製した場合、バリア膜が遮光性を有することにより、有機ＥＬ素子側基板の背面電極層の取り出し電極部を遮光することができ、外光反射による視認性の低下および外光による取り出し電極部の劣化を防ぐことができる。さらに、バリア膜と遮光部とを同時に形成することができるため、製造工程を簡略化することができる。
この場合、例えば、着色層および台座部が形成された透明基板上の全面に金属膜を形成した後、金属膜上にレジストを塗布し、レジストのパターン露光および現像、ならびに金属膜のエッチングを行うことで、同一材料からなるバリア膜および遮光部を同時に形成することができる。また、例えば、台座部が形成された透明基板上の全面に金属膜を形成した後、金属膜上にレジストを塗布し、レジストのパターン露光および現像、ならびに金属膜のエッチングを行うことで、同一材料からなるバリア膜および遮光部を同時に形成することができる。後者の場合、バリア膜および遮光部の形成後に、着色層が形成される。
ここで、図７において説明していない符号については図１と同様であるので、ここでの説明は省略する。
この場合、例えば、着色層および台座部が形成された透明基板上の全面に金属膜を形成した後、金属膜上にレジストを塗布し、レジストのパターン露光および現像、ならびに金属膜のエッチングを行うことで、同一材料からなるバリア膜および遮光部を同時に形成することができる。また、例えば、台座部が形成された透明基板上の全面に金属膜を形成した後、金属膜上にレジストを塗布し、レジストのパターン露光および現像、ならびに金属膜のエッチングを行うことで、同一材料からなるバリア膜および遮光部を同時に形成することができる。後者の場合、バリア膜および遮光部の形成後に、着色層が形成される。
ここで、図７において説明していない符号については図１と同様であるので、ここでの説明は省略する。
バリア膜が遮光部の材料と同一の材料からなる場合、バリア膜としては、ガスバリア性および遮光性を有するものであれば特に限定されるものではなく、例えば、上述の金属膜や、酸化クロム膜、窒化クロム膜、酸化窒化クロム膜の単膜もしくは積層膜を用いることができる。中でも、アルミニウム膜、クロム膜が好ましい。これらは安価な材料だからである。
上記バリア膜の膜厚としては、形成された隔壁がガスバリア性を有するのであれば特に限定されるものではないが、２０ｎｍ〜１００００ｎｍの範囲内、中でも５０ｎｍ〜８０００ｎｍの範囲内、特に１００ｎｍ〜５０００ｎｍの範囲内であることが好ましい。上記範囲に満たない場合、隔壁に十分なガスバリア性を付与できない可能性があるからであり、上記範囲を超える場合、製膜に時間がかかりすぎ、コスト面で問題となったり、本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタと有機ＥＬ素子側基板とを貼り合わせた際に、バリア膜に割れを生じたりするからである。
バリア膜が着色層被覆膜または着色層被覆膜第２層と一体で形成されている場合、バリア膜の膜厚は、バリア膜がガスバリア性および透明性を有するように、上述の範囲内で材料の種類に応じて適宜選択される。一方、バリア膜が遮光部の材料と同一の材料からなる場合、バリア膜の膜厚は、バリア膜がガスバリア性および遮光性を有するように、上述の範囲内で材料の種類に応じて適宜選択される。
バリア膜が着色層被覆膜または着色層被覆膜第２層と一体で形成されている場合、バリア膜の膜厚は、バリア膜がガスバリア性および透明性を有するように、上述の範囲内で材料の種類に応じて適宜選択される。一方、バリア膜が遮光部の材料と同一の材料からなる場合、バリア膜の膜厚は、バリア膜がガスバリア性および遮光性を有するように、上述の範囲内で材料の種類に応じて適宜選択される。
上記バリア膜の形成方法としては、例えばスパッタリング法、化学気相成長（ＣＶＤ）法、イオンプレーティング法、電子ビーム（ＥＢ）蒸着法や抵抗加熱法等の真空蒸着法、レーザーアブレーション法等が挙げられる。このうち、有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの生産性を考慮すると、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法が好ましく、さらには、スパッタリング法を用いることがより好ましい。スパッタリング法を用いることにより、高生産性で、品質安定性に優れたバリア膜を形成することができるからである。また、バリア膜のパターニング方法としては、例えば、フォトエッチング法、メタルマスクを用いる方法を挙げることができる。
ｃ．隔壁
本実施態様の隔壁は、上述した台座部およびバリア膜からなるものである。
本実施態様の隔壁は、上述した台座部およびバリア膜からなるものである。
上記隔壁の高さ、線幅、形状等は「１．第１実施態様」の項で説明した隔壁の高さ、線幅、形状と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
本実施態様の隔壁としては、例えば図６（ａ）のように、着色層３上全面および台座部４上に、着色層３を覆う着色層被覆膜５と、上記バリア膜４ｄとが一体で形成されたものであってもよい。バリア膜と着色層被覆膜とを同時に形成することができるため、製造工程を簡略化することができる。
また、本実施態様の隔壁としては、図６（ｂ）に示すように、着色層３上全面を覆う着色層被覆膜５と、台座部４ｃおよびバリア膜４ｄからなる隔壁４とが一体で形成されたものであってもよい。この場合の着色層被覆膜５は、着色層３上全面に形成され台座部４ｃと同じ材料からなる着色層被覆膜第１層５ａと、着色層被覆膜第１層５ａ上全面に形成されバリア膜４ｄと同じ材料からなる着色層被覆膜第２層５ｂとから構成されるものであり、着色層被覆膜第１層５ａおよび台座部４ｃが一体で形成され、着色層被覆膜第２層５ｂおよびバリア膜４ｄが一体で形成されるものである。台座部と着色層被覆膜第１層とを同時に形成し、かつ、バリア膜と着色層被覆膜第２層とを同時に形成することができるため、製造工程を簡略化することができる。
ここで、図６において説明していない符号については、図１と同様とすることができるのでここでの説明は省略する。
また、本実施態様の隔壁としては、図６（ｂ）に示すように、着色層３上全面を覆う着色層被覆膜５と、台座部４ｃおよびバリア膜４ｄからなる隔壁４とが一体で形成されたものであってもよい。この場合の着色層被覆膜５は、着色層３上全面に形成され台座部４ｃと同じ材料からなる着色層被覆膜第１層５ａと、着色層被覆膜第１層５ａ上全面に形成されバリア膜４ｄと同じ材料からなる着色層被覆膜第２層５ｂとから構成されるものであり、着色層被覆膜第１層５ａおよび台座部４ｃが一体で形成され、着色層被覆膜第２層５ｂおよびバリア膜４ｄが一体で形成されるものである。台座部と着色層被覆膜第１層とを同時に形成し、かつ、バリア膜と着色層被覆膜第２層とを同時に形成することができるため、製造工程を簡略化することができる。
ここで、図６において説明していない符号については、図１と同様とすることができるのでここでの説明は省略する。
本実施態様においては、図４（ｂ）に示すように、隔壁４が複数形成されていてもよい。上記隔壁を複数形成することにより、より高いガスバリア性を有することができるからである。好ましい隔壁の数については「１．第１実施態様」の項で記載したものと同様とできるので、ここでの説明は省略する。また、図４（ｂ）において説明していない符号については、図１と同様とすることができるのでここでの説明は省略する。
２．透明基板
本発明に用いられる透明基板は、上記隔壁を形成可能であり、可視光に対して透明な透明基板であれば特に限定されるものではなく、一般的なカラーフィルタに用いられる透明基板と同様のものとすることができる。
本発明に用いられる透明基板は、上記隔壁を形成可能であり、可視光に対して透明な透明基板であれば特に限定されるものではなく、一般的なカラーフィルタに用いられる透明基板と同様のものとすることができる。
具体的には、石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、合成石英板等の可撓性のない透明なリジッド材、あるいは、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブル材等が挙げられる。
３．着色層
本発明に用いられる着色層は、上記透明基板上の表示領域に形成されるものである。
本発明に用いられる着色層は、上記透明基板上の表示領域に形成されるものである。
本発明における着色層は、図１に例示するように、一般に、赤色着色層３Ｒ、緑色着色層３Ｇ、および青色着色層３Ｂから構成される。上記着色層における着色パターン形状は、ストライプ型、モザイク型、トライアングル型、４画素配置型等の公知の配列とすることができ、着色面積は任意に設定することができる。
なお、本発明に用いられる着色層の材料については、公知のカラーフィルタの着色層に用いられる材料を使用することができる。
また、本発明において、着色層の形成方法としては、一般的なカラーフィルタにおける着色層の形成方法、例えばフォトリソグラフィー法、インクジェット法、印刷法等と同様とすることができる。中でも、隔壁または隔壁の台座部の形成後に着色層を形成する場合には、インクジェット法、ダイコート法、ドライフィルム転写法を用いることが好ましい。これらの方法であれば、隔壁または隔壁の台座部が形成されていても、塗布ムラを生じることなく、着色層を形成することができるからである。
４．その他の部材
本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタは、上述した隔壁、透明基板、着色層以外にも適宜必要な部材を有することができる。例えば、表示領域の画素を画定する遮光部や、着色層を被覆して着色層からの脱ガスを防ぐ着色層被覆膜等が挙げられる。
本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタは、上述した隔壁、透明基板、着色層以外にも適宜必要な部材を有することができる。例えば、表示領域の画素を画定する遮光部や、着色層を被覆して着色層からの脱ガスを防ぐ着色層被覆膜等が挙げられる。
（１）着色層被覆膜
本発明に用いられる着色層被覆膜は、着色層からの脱ガスにより有機ＥＬ素子が劣化するのを防ぐために着色層全面に形成されるものであり、ガスバリア性を有するものである。
本発明に用いられる着色層被覆膜は、着色層からの脱ガスにより有機ＥＬ素子が劣化するのを防ぐために着色層全面に形成されるものであり、ガスバリア性を有するものである。
着色層被覆膜５は、図３に例示するように隔壁４と一体で形成されていてもよく、図６（ａ）に例示するように隔壁４のバリア膜４ｄと一体で形成されていてもよく、図６（ｂ）に例示するように隔壁４の台座部４ｃおよびバリア膜４ｄとそれぞれ一体で形成されていてもよく、図示しないが隔壁と別個に形成されていてもよい。
着色層被覆膜が、隔壁と一体で形成されている場合、隔壁のバリア膜と一体で形成されている場合、ならびに、隔壁の台座部およびバリア膜とそれぞれ一体で形成されている場合については、上述の「１．隔壁」の項に記載したのでここでの説明は省略する。
着色層被覆膜が隔壁と別個に形成されている場合、着色層被覆膜に用いられる材料としては、透明性およびガスバリア性を有するものであれば特に限定されるものではない。このような材料としては、上述の第１実施態様の隔壁または第２実施態様の隔壁のバリア膜と同様の材料を用いることができる。
後述するように、透明基板上に遮光部が形成されており、遮光部が隔壁のバリア膜の材料と同一の材料を用いて形成されている場合であって、着色層および隔壁の台座部の形成後に、同一材料からなる隔壁のバリア膜および遮光部を同時に形成する場合には、図８（ａ）に例示するように、着色層３上に着色層被覆膜５が形成され、着色層被覆膜５上に遮光部７が形成されていることが好ましい。着色層上に着色層被覆膜が形成されていることで、遮光部形成時に着色層を保護することができるからである。
上記着色層被覆膜の膜厚としては、０．１μｍ〜８．０μｍの範囲内、中でも０．５μｍ〜５．０μｍの範囲内、特に１．０μｍ〜３．０μｍの範囲内であることが好ましい。上記範囲に満たない場合、上記着色層被覆膜を均一に形成できない可能性があるからであり、上記範囲を超える場合、本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタと、有機ＥＬ素子側基板を対向させて貼り合わせるのが困難になるからである。
着色層被覆膜の形成方法としては、上述の第１実施態様の隔壁または第２実施態様の隔壁のバリア膜と同様の方法を用いることができる。
なお、着色層被覆膜のその他の点については、上述した「１．隔壁」の項で説明したのでここでの説明は省略する。
（２）遮光部
本発明に用いられる遮光部は、表示領域の画素を画定するものである。
このような遮光部の材料、形状、および形成方法としては、一般的な有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタに用いられるものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
本発明に用いられる遮光部は、表示領域の画素を画定するものである。
このような遮光部の材料、形状、および形成方法としては、一般的な有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタに用いられるものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
遮光部７は、図７に例示するように隔壁４のバリア膜４ｄの材料と同一の材料を用いて形成されていてもよく、図示しないが隔壁のバリア膜の材料と異なる材料を用いて形成されていてもよい。
遮光部が隔壁のバリア膜の材料と同一の材料を用いて形成されている場合であって、着色層上に着色層被覆膜が形成されている場合、遮光部７は、図８（ａ）に例示するように着色層被覆膜５上に形成されていてもよく、図８（ｂ）に例示するように透明基板２と着色層被覆膜５との間に形成されていてもよい。上述したように、着色層および隔壁の台座部の形成後に、同一材料からなる隔壁のバリア膜および遮光部を同時に形成する場合には、図８（ａ）に例示するように、着色層３上に着色層被覆膜５が形成され、着色層被覆膜５上に遮光部７が形成されていることが好ましい。
５．有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの製造方法
本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの製造方法としては、上述したような有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタを製造することができる方法であれば、特に限定されるものではない。以下に具体例を示す。
本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの製造方法としては、上述したような有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタを製造することができる方法であれば、特に限定されるものではない。以下に具体例を示す。
図９（ａ）〜（ｃ）は、隔壁および着色層被覆膜を一体で形成する場合の本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの製造方法の一例を示す工程図である。まず、図９（ａ）に示すように、遮光部７および着色層３（３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ）が形成された透明基板２上に、透明なネガ型感光性樹脂組成物を塗布し、塗布膜１１を形成する。次に、図９（ｂ）に示すように、透明基板５１上に遮光膜５２および半透明膜５３が形成された階調マスクを用いて、塗布膜１１に紫外光５５を照射し、その後、現像する。このようにして、図９（ｃ）に示すように、隔壁４および着色層被覆膜５を一体でかつ同時に形成することができる。
図１０（ａ）〜（ｃ）は、隔壁のバリア膜および着色層被覆膜を一体で形成する場合の本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの製造方法の一例を示す工程図である。まず、図１０（ａ）に示すように、透明基板２上に、遮光部７、着色層３（３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ）および隔壁の台座部４ｃを順に形成する。次に、図１０（ｂ）に示すように、遮光部７、着色層３（３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ）および隔壁の台座部４ｃが形成された透明基板２上に、無機材料を蒸着し、隔壁４のバリア膜４ｄおよび着色層被覆膜５を一体で形成する。このようにして、隔壁のバリア膜および着色層被覆膜を同時に形成することができる。
この場合、隔壁のバリア膜および着色層被覆膜の厚みは、ほぼ同じとなる。
また、この場合、着色層の形成後に、隔壁の台座部を形成することが好ましい。着色層形成用塗工液を塗布する際に、隔壁の台座部によって塗布ムラが生じるのを抑制することができるからである。
この場合、隔壁のバリア膜および着色層被覆膜の厚みは、ほぼ同じとなる。
また、この場合、着色層の形成後に、隔壁の台座部を形成することが好ましい。着色層形成用塗工液を塗布する際に、隔壁の台座部によって塗布ムラが生じるのを抑制することができるからである。
図１１（ａ）〜（ｄ）は、同一の材料からなる隔壁のバリア膜および遮光部を同時に形成する場合の本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの製造方法の一例を示す工程図である。まず、図１１（ａ）に示すように、着色層３（３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ）、着色層被覆膜５および隔壁の台座部４ｃが形成された透明基板２上に、金属膜７ａを形成する。次に、図１１（ｂ）に示すように、金属膜７ａ上にレジストを塗布し、レジスト層１２ａを形成する。その後、レジスト層１２ａを露光および現像し、図１１（ｃ）に示すように、レジストパターン１２ｂを形成する。次いで、金属膜７ａをエッチングし、図１１（ｄ）に示すように、隔壁４のバリア膜４ｄおよび遮光部７を得る。このようにして、隔壁のバリア膜および遮光部を同時に形成することができる。
この場合、金属膜の形成前に、着色層上に着色層被覆膜を形成することが好ましい。着色層上に着色層被覆膜が形成されていることで、遮光部の形成時、特に金属膜のエッチング時に着色層を保護することができる。
また、この場合、着色層および着色層被覆膜の形成後に、隔壁の台座部を形成することが好ましい。着色層形成用塗工液を塗布する際に、隔壁の台座部によって塗布ムラが生じるのを抑制することができるからである。
この場合、金属膜の形成前に、着色層上に着色層被覆膜を形成することが好ましい。着色層上に着色層被覆膜が形成されていることで、遮光部の形成時、特に金属膜のエッチング時に着色層を保護することができる。
また、この場合、着色層および着色層被覆膜の形成後に、隔壁の台座部を形成することが好ましい。着色層形成用塗工液を塗布する際に、隔壁の台座部によって塗布ムラが生じるのを抑制することができるからである。
図１２（ａ）〜（ｅ）は、同一の材料からなる隔壁のバリア膜および遮光部を同時に形成する場合の本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの製造方法の他の例を示す工程図である。まず、図１２（ａ）に示すように、隔壁の台座部４ｃが形成された透明基板２上に、金属膜７ａを形成する。次に、図１２（ｂ）に示すように、金属膜７ａ上にレジストを塗布し、レジスト層１２ａを形成する。その後、レジスト層１２ａを露光および現像し、図１２（ｃ）に示すように、レジストパターン１２ｂを形成する。次いで、金属膜７ａをエッチングし、図１２（ｄ）に示すように、隔壁４のバリア膜４ｄおよび遮光部７を得る。このようにして、隔壁のバリア膜および遮光部を同時に形成することができる。次に、図１２（ｅ）に示すように、透明基板２上の遮光部７の開口部に、各色の着色層形成用塗工液を塗布して、着色層３（３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ）を形成する。その後、図示しないが、着色層を覆うように着色層被覆膜を形成してもよい。
この場合、隔壁の台座部の形成後に着色層を形成することから、着色層形成用塗工液の塗布方法としては、上述したように、ダイコート法、インクジェット法、ドライフィルム転写法を用いることが好ましい。
この場合、隔壁の台座部の形成後に着色層を形成することから、着色層形成用塗工液の塗布方法としては、上述したように、ダイコート法、インクジェット法、ドライフィルム転写法を用いることが好ましい。
６．用途
本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタは、有機ＥＬ素子を有する有機ＥＬ素子側基板と対向させて貼り合わせを行う際に、有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ、および有機ＥＬ素子側基板の間の気密性を保つことができるものである。これにより、有機ＥＬ層の水分、酸素等による劣化を防ぎ、経時安定性に優れた有機ＥＬ表示基板を提供することができる。
このような有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタと対向させる有機ＥＬ素子側基板について以下に説明する。
本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタは、有機ＥＬ素子を有する有機ＥＬ素子側基板と対向させて貼り合わせを行う際に、有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ、および有機ＥＬ素子側基板の間の気密性を保つことができるものである。これにより、有機ＥＬ層の水分、酸素等による劣化を防ぎ、経時安定性に優れた有機ＥＬ表示基板を提供することができる。
このような有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタと対向させる有機ＥＬ素子側基板について以下に説明する。
（有機ＥＬ素子側基板）
本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタと対向させる有機ＥＬ素子側基板は、基板と、有機ＥＬ素子とを少なくとも有するものであり、通常、絶縁層を有するものである。
本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタと対向させる有機ＥＬ素子側基板は、基板と、有機ＥＬ素子とを少なくとも有するものであり、通常、絶縁層を有するものである。
図１３は、本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタと対向させる有機ＥＬ素子側基板の一例を示す概略断面図である。図１３に示すように、有機ＥＬ素子側基板２０は、基板２２と、基板２２上に形成された背面電極層２３、背面電極層２３上に形成された有機ＥＬ層２４、および有機ＥＬ層２４上に形成された透明電極層２５からなる有機ＥＬ素子２６とを有するものである。また通常、基板２２上の背面電極層２３の開口部には絶縁層２７が形成される。
以下、有機ＥＬ素子側基板の各構成について説明する。
以下、有機ＥＬ素子側基板の各構成について説明する。
ａ．基板
本発明に用いられる基板としては、後述する有機ＥＬ素子等を支持することができるものであれば良く、有機ＥＬ表示装置に一般的に用いられるものを使用することができる。
なお、本発明においては、上記有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ側から光が取り出されるものであるため、上記基板としては、透明であっても、不透明であっても良い。
本発明に用いられる基板としては、後述する有機ＥＬ素子等を支持することができるものであれば良く、有機ＥＬ表示装置に一般的に用いられるものを使用することができる。
なお、本発明においては、上記有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ側から光が取り出されるものであるため、上記基板としては、透明であっても、不透明であっても良い。
ｂ．有機ＥＬ素子
本発明における有機ＥＬ素子は、背面電極層および透明電極層と、上記両電極層により挟まれ、発光層を少なくとも含む有機ＥＬ層とを含むものである。
本発明における有機ＥＬ素子は、背面電極層および透明電極層と、上記両電極層により挟まれ、発光層を少なくとも含む有機ＥＬ層とを含むものである。
（ｉ）有機ＥＬ層
本発明に用いられる有機ＥＬ層は、少なくとも発光層を含む１層もしくは複数層の有機層から構成されるものであり、通常、正孔注入層や電子注入層といった電荷注入層や、発光層に正孔を輸送する正孔輸送層、発光層に電子を輸送する電子輸送層といった電荷輸送層を有するものとすることができる。
本発明に用いられる有機ＥＬ層は、少なくとも発光層を含む１層もしくは複数層の有機層から構成されるものであり、通常、正孔注入層や電子注入層といった電荷注入層や、発光層に正孔を輸送する正孔輸送層、発光層に電子を輸送する電子輸送層といった電荷輸送層を有するものとすることができる。
（ｉｉ）透明電極層および背面電極層
本発明における透明電極層は、透明電極層と背面電極層との間に挟まれた有機ＥＬ層に電圧をかけ、発光層で発光を起こさせるために設けられるものである。また、発光層で発生した光を、上記有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ側に透過させるものである。したがって、上記有機ＥＬ層と、上記有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタとの間に配置されるものである。
また、本発明における背面電極層は、上記有機ＥＬ層と、上記基板との間に配置されたものである。背面電極層は、有機ＥＬ層を発光させるための他方の電極をなすものであり、上記透明電極層と反対の電荷をもつ電極である。
本発明における透明電極層は、透明電極層と背面電極層との間に挟まれた有機ＥＬ層に電圧をかけ、発光層で発光を起こさせるために設けられるものである。また、発光層で発生した光を、上記有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ側に透過させるものである。したがって、上記有機ＥＬ層と、上記有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタとの間に配置されるものである。
また、本発明における背面電極層は、上記有機ＥＬ層と、上記基板との間に配置されたものである。背面電極層は、有機ＥＬ層を発光させるための他方の電極をなすものであり、上記透明電極層と反対の電荷をもつ電極である。
このような透明電極層および背面電極層としては、発光層に所望の発光をさせることができるものであれば良く、有機ＥＬ表示装置に一般的に用いられるものを使用することができる。
ｃ．絶縁層
本発明における絶縁層は、透明電極層と背面電極層とが直接接触することを防ぐために形成されるものである。
このような絶縁層としては、有機ＥＬ表示装置に一般的に用いられるものを使用することができるため、ここでの説明は省略する。
本発明における絶縁層は、透明電極層と背面電極層とが直接接触することを防ぐために形成されるものである。
このような絶縁層としては、有機ＥＬ表示装置に一般的に用いられるものを使用することができるため、ここでの説明は省略する。
Ｂ．有機ＥＬ表示装置
次に本発明の有機ＥＬ表示装置について説明する。
本発明の有機ＥＬ表示装置は、上述した有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタを用いることを特徴とするものである。
次に本発明の有機ＥＬ表示装置について説明する。
本発明の有機ＥＬ表示装置は、上述した有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタを用いることを特徴とするものである。
このような有機ＥＬ表示装置の具体例を図１４を参照して説明する。図１４は、有機ＥＬ表示装置の一例を示す概略断面図である。図１４に例示するように、本発明の有機ＥＬ表示装置３０は、基板２２および上記基板２２上に形成され有機ＥＬ素子２６を有する有機ＥＬ素子側基板２０と、透明基板２、上記透明基板２上の表示領域に形成された着色層３（図１４では３Ｒ、３Ｂ、３Ｇ）、および上記透明基板２上の非表示領域に表示領域を囲うように形成された隔壁４を有し、上記着色層３および隔壁４が形成された面が、有機ＥＬ素子側基板２０の有機ＥＬ素子２６が形成された面と対向するように配置された有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ１とを有するものである。また、通常、有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ１および有機ＥＬ素子側基板２０の周縁部に形成され、上記有機ＥＬ素子２５を封止するシール剤２９と、上記有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ１および上記有機ＥＬ素子２６の間に配置された乾燥剤層２８とを有するものである。
なお、図１４においては、上記有機ＥＬ素子２６が、背面電極層２３、有機ＥＬ層２４、および透明電極層２５を含むものであり、上記有機ＥＬ素子側基板２０が、上記背面電極層２３の開口部に形成された絶縁層２７を有するものである。
なお、図１４においては、上記有機ＥＬ素子２６が、背面電極層２３、有機ＥＬ層２４、および透明電極層２５を含むものであり、上記有機ＥＬ素子側基板２０が、上記背面電極層２３の開口部に形成された絶縁層２７を有するものである。
本発明によれば、上記有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタを用いることによって、経時安定性に優れた有機ＥＬ表示装置とすることができる。
上記有機ＥＬ表示装置は、有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタと、有機ＥＬ素子側基板とを有するものである。また、通常は、有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ、および有機ＥＬ素子側基板の他に、シール剤と、乾燥剤層とを有するものである。
有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ、および有機ＥＬ素子側基板については、「Ａ．有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ」の項で説明したので、ここでの記載は省略する。
以下、乾燥剤層、およびシール剤について説明する。
有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ、および有機ＥＬ素子側基板については、「Ａ．有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ」の項で説明したので、ここでの記載は省略する。
以下、乾燥剤層、およびシール剤について説明する。
１．乾燥剤層
本発明に用いられる乾燥剤層は、一般的な有機ＥＬ表示装置に用いられる乾燥剤層と同様である。また、本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの画素部形成側表面、すなわち、着色層もしくは着色層被覆膜と接するように配置されるものである。
本発明に用いられる乾燥剤層は、一般的な有機ＥＬ表示装置に用いられる乾燥剤層と同様である。また、本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの画素部形成側表面、すなわち、着色層もしくは着色層被覆膜と接するように配置されるものである。
本発明においては、上記乾燥剤層を有することにより、上記有機ＥＬ素子が、水分等により劣化することを防ぐことができる。
本発明に用いられる乾燥剤層を構成する乾燥剤層形成材料としては、一般的な有機ＥＬ表示装置に用いられる乾燥剤層形成材料と同様とすることができ、例えば、上記アルカリ金属またはアルカリ土類金属の酸化物と、乾燥剤層用バインダ樹脂とを有する乾燥剤層形成用樹脂組成物や、上記アルカリ金属またはアルカリ土類金属の酸化物のみからなるものを挙げることができる。
本発明においては、なかでも、上記乾燥剤層形成用樹脂組成物であることが好ましい。蒸着装置等の高価な装置が不要であり、低コストなものとすることができるからである。
本発明においては、なかでも、上記乾燥剤層形成用樹脂組成物であることが好ましい。蒸着装置等の高価な装置が不要であり、低コストなものとすることができるからである。
ここで、上記乾燥剤層用バインダ樹脂としては、透明性に優れ、かつ、耐アルカリ性を有するものであれば良く、例えば、上述した非アルカリ現像性硬化性樹脂を用いることができる。
本発明に用いられる乾燥剤層の形成箇所としては、乾燥剤層が、上記有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの着色層もしくは着色層被覆膜と接触するものであれば良い。例えば、既に説明した図１４に示すように、上記乾燥剤層２８が、上記有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ１と、上記有機ＥＬ素子側基板２０との間を充填するように形成され、上記有機ＥＬ素子２６および上記有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ１の間を満たすものであっても良い。また、図１５に例示するように、上記乾燥剤層２８が、上記有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ１と、上記有機ＥＬ素子側基板２０とに挟持されるように配置され、上記有機ＥＬ素子２６および上記有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ１の間を満たすものであっても良い。
また、図１６に例示するように、上記乾燥剤層２８が、本発明の有機ＥＬ素子用カラーフィルタ１の着色層３上に積層され、上記有機ＥＬ素子２６と接触しないように形成されるものであっても良い。
本発明においては、なかでも、乾燥剤層が、上記有機ＥＬ素子と上記有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタとの間を満たすように形成されるものであることが好ましい。上記有機ＥＬ素子と上記有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタとの間が、均一な物質で満たされることになることにより、上記有機ＥＬ素子から生じた光が光散乱等することを抑制することができる。したがって、発光効率に優れたものとすることができるからである。
なお、図１５〜１６中の符号は、図１４と同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。
また、図１６に例示するように、上記乾燥剤層２８が、本発明の有機ＥＬ素子用カラーフィルタ１の着色層３上に積層され、上記有機ＥＬ素子２６と接触しないように形成されるものであっても良い。
本発明においては、なかでも、乾燥剤層が、上記有機ＥＬ素子と上記有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタとの間を満たすように形成されるものであることが好ましい。上記有機ＥＬ素子と上記有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタとの間が、均一な物質で満たされることになることにより、上記有機ＥＬ素子から生じた光が光散乱等することを抑制することができる。したがって、発光効率に優れたものとすることができるからである。
なお、図１５〜１６中の符号は、図１４と同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。
本発明に用いられる乾燥剤層の形成方法としては、所望の形成箇所に上記乾燥剤層を形成することができる方法であれば良く、例えば、上記有機ＥＬ素子側基板および上記有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタを対向するように配置した後、上記乾燥剤層形成用樹脂組成物を両基板の間に注入する方法や、上記有機ＥＬ素子側基板の上記有機ＥＬ素子または上記有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの着色層もしくは着色層被覆膜上に、上記乾燥剤層形成用樹脂組成物を塗布した後、硬化させることにより、所望の厚みの乾燥剤層を形成する方法を挙げることができる。
また、上記乾燥剤層が、上記有機ＥＬ素子用カラーフィルタの着色層もしくは着色層被覆膜上に積層するように形成されるものである場合には、上記着色層もしくは着色層被覆膜上に、上記アルカリ金属またはアルカリ土類金属を蒸着法により製膜し、次いで、製膜されたアルカリ金属またはアルカリ土類金属の層を酸化する方法を用いることができる。
また、上記乾燥剤層が、上記有機ＥＬ素子用カラーフィルタの着色層もしくは着色層被覆膜上に積層するように形成されるものである場合には、上記着色層もしくは着色層被覆膜上に、上記アルカリ金属またはアルカリ土類金属を蒸着法により製膜し、次いで、製膜されたアルカリ金属またはアルカリ土類金属の層を酸化する方法を用いることができる。
本発明に用いられる乾燥剤層の厚みとしては、所望の吸湿性を発揮するものであれば良く、上記乾燥剤層形成材料、上記有機ＥＬ表示装置の用途等に応じて適宜設定されるものである。
２．シール剤
本発明に用いられるシール剤は、上記カラーフィルタおよび有機ＥＬ素子側基板の周縁部に形成され、上記有機ＥＬ素子を封止するものである。
本発明に用いられるシール剤は、上記カラーフィルタおよび有機ＥＬ素子側基板の周縁部に形成され、上記有機ＥＬ素子を封止するものである。
このようなシール剤の構成材料としては、上記有機ＥＬ素子を、大気中の水分等と接触することを抑制することができるものであれば良く、有機ＥＬ表示装置に一般的に用いられるものを使用することができる。
３．有機ＥＬ表示装置
本発明の有機ＥＬ表示装置は、上記有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ、および上記有機ＥＬ素子側基板を少なくとも有するものであり、通常はこれらに加えてシール剤、および乾燥剤層を有するものであるが、さらに必要に応じてその他の構成を有するものであっても良い。
このようなその他の構成としては、例えば、上記発光層から発せられる光を吸収し、可視光領域蛍光を発する色変換層を挙げることができる。
以下、色変換層について説明する。
本発明の有機ＥＬ表示装置は、上記有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ、および上記有機ＥＬ素子側基板を少なくとも有するものであり、通常はこれらに加えてシール剤、および乾燥剤層を有するものであるが、さらに必要に応じてその他の構成を有するものであっても良い。
このようなその他の構成としては、例えば、上記発光層から発せられる光を吸収し、可視光領域蛍光を発する色変換層を挙げることができる。
以下、色変換層について説明する。
（色変換層）
本発明に用いられる色変換層は、発光層からの光を吸収し、可視光領域蛍光を発光する蛍光材料を含有する層であり、発光層からの光を青色、赤色、または緑色とするものである。
色変換層の構成は、適用する有機ＥＬ表示装置の発光層に応じて適宜選択されるものである。例えば青色発光層の場合、色変換層は、赤色の蛍光を発光する赤色変換パターン、緑色の蛍光を発光する緑色変換パターン、および青色発光層からの光をそのまま透過する透過パターンを有する。
本発明に用いられる色変換層は、発光層からの光を吸収し、可視光領域蛍光を発光する蛍光材料を含有する層であり、発光層からの光を青色、赤色、または緑色とするものである。
色変換層の構成は、適用する有機ＥＬ表示装置の発光層に応じて適宜選択されるものである。例えば青色発光層の場合、色変換層は、赤色の蛍光を発光する赤色変換パターン、緑色の蛍光を発光する緑色変換パターン、および青色発光層からの光をそのまま透過する透過パターンを有する。
上記色変換層の形成箇所としては、上記発光層上にあれば良く、上記透明電極層上や、本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの着色層上等を挙げることができる。
色変換層の膜厚としては、発光層からの光を十分に吸収して蛍光を発することができる厚みであれば特に限定されるものではなく、使用する蛍光色素、蛍光色素の濃度等を考慮して適宜設定される。
さらに上記有機ＥＬ素子用カラーフィルタを用いた有機ＥＬ表示装置において、透明電極層の取り出し電極部および背面電極層の取り出し電極部と外部接続端子とが接続される接続部分には、色変換層が形成されていないことが好ましい。接続部分に色変換層のような柔軟な層が形成されていると、接続時に透明電極層や背面電極層が割れてしまうおそれがあるからである。
各色変換パターンは、画素に対応して規則的に配列される。色変換パターンの配列としては、各色変換パターンが巨視的に見て平均的に配列されていれば特に限定されるものではなく、例えばストライプ配列、モザイク配列、デルタ配列等が挙げられる。
色変換層は、通常、発光層からの光を吸収し、蛍光を発光する蛍光色素とマトリクス樹脂とを含有するものである。
蛍光色素は、発光層から発せられる近紫外領域または可視領域の光、特に青色または青緑色領域の光を吸収して異なる波長の可視光を蛍光として発光するものである。上記発光層が青色発光層である場合は、蛍光色素としては、例えば赤色領域の蛍光を発する蛍光色素および緑色領域の蛍光を発する蛍光色素が用いられる。
蛍光色素は、発光層から発せられる近紫外領域または可視領域の光、特に青色または青緑色領域の光を吸収して異なる波長の可視光を蛍光として発光するものである。上記発光層が青色発光層である場合は、蛍光色素としては、例えば赤色領域の蛍光を発する蛍光色素および緑色領域の蛍光を発する蛍光色素が用いられる。
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
以下に実施例および比較例を示し、本発明をさらに詳細に説明する。
[実施例１]
１．遮光部の形成
透明基板として、大きさが３００ｍｍ×４００ｍｍ、厚みが０．７ｍｍのガラス基板（コーニング社製１７３７ガラス）を準備した。この透明基板を定法にしたがって洗浄した後、ネガ型感光性ブラックレジスト（東京応化工業（株）製 ＣＦＰＲ ＤＮ−８３）を塗布し、所定のマスクを介して露光、現像、熱処理して格子状の遮光部を形成した。
１．遮光部の形成
透明基板として、大きさが３００ｍｍ×４００ｍｍ、厚みが０．７ｍｍのガラス基板（コーニング社製１７３７ガラス）を準備した。この透明基板を定法にしたがって洗浄した後、ネガ型感光性ブラックレジスト（東京応化工業（株）製 ＣＦＰＲ ＤＮ−８３）を塗布し、所定のマスクを介して露光、現像、熱処理して格子状の遮光部を形成した。
２．着色層の形成
次に、下記組成の赤色着色層用のネガ型感光性樹脂組成物、青色着色層用のネガ型感光性樹脂組成物、緑色着色層用のネガ型感光性樹脂組成物を調製した。
次に、下記組成の赤色着色層用のネガ型感光性樹脂組成物、青色着色層用のネガ型感光性樹脂組成物、緑色着色層用のネガ型感光性樹脂組成物を調製した。
＜赤色着色層用のネガ型感光性樹脂組成物＞
・赤顔料（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製 クロモフタルレッドＡ２Ｂ）
４．８重量部
・黄顔料（ＢＡＳＦ社製 パリオトールイエローＤ１８１９） １．２重量部
・分散剤（ビックケミー社製ディスパービック１６１） ３．０重量部
・モノマー（サートマー社製 ＳＲ３９９） ４．０重量部
・ポリマーＩ ５．０重量部
・開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製 イルガキュア９０７）
１．４重量部
・開始剤（２，２´−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４´，５´−テトラフェニル−１，２´−ビイミダゾール） ０．６重量部
・溶剤（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート） ８０．０重量部
・赤顔料（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製 クロモフタルレッドＡ２Ｂ）
４．８重量部
・黄顔料（ＢＡＳＦ社製 パリオトールイエローＤ１８１９） １．２重量部
・分散剤（ビックケミー社製ディスパービック１６１） ３．０重量部
・モノマー（サートマー社製 ＳＲ３９９） ４．０重量部
・ポリマーＩ ５．０重量部
・開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製 イルガキュア９０７）
１．４重量部
・開始剤（２，２´−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４´，５´−テトラフェニル−１，２´−ビイミダゾール） ０．６重量部
・溶剤（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート） ８０．０重量部
＜青色着色層用のネガ型感光性樹脂組成物＞
・青顔料（ＢＡＳＦ社製 ヘリオゲンブルーＬ６７００Ｆ） ６．０重量部
・顔料誘導体（アビシア社製 ソルスパース５０００） ０．６重量部
・分散剤（ビックケミー社製ディスパービック１６１） ２．４重量部
・モノマー（サートマー社製 ＳＲ３９９） ４．０重量部
・ポリマーＩ ５．０重量部
・開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製 イルガキュア９０７）
１．４重量部
・開始剤（２，２´−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４´，５´−テトラフェニル−１，２´−ビイミダゾール） ０．６重量部
・溶剤（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート） ８０．０重量部
・青顔料（ＢＡＳＦ社製 ヘリオゲンブルーＬ６７００Ｆ） ６．０重量部
・顔料誘導体（アビシア社製 ソルスパース５０００） ０．６重量部
・分散剤（ビックケミー社製ディスパービック１６１） ２．４重量部
・モノマー（サートマー社製 ＳＲ３９９） ４．０重量部
・ポリマーＩ ５．０重量部
・開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製 イルガキュア９０７）
１．４重量部
・開始剤（２，２´−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４´，５´−テトラフェニル−１，２´−ビイミダゾール） ０．６重量部
・溶剤（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート） ８０．０重量部
＜緑色着色層用のネガ型感光性樹脂組成物＞
・緑顔料（アビシア社製 モナストラルグリーン９Ｙ−Ｃ） ４．２重量部
・黄顔料（ＢＡＳＦ社製 パリオトールイエローＤ１８１９） １．８重量部
・分散剤（ビックケミー社製ディスパービック１６１） ３．０重量部
・モノマー（サートマー社製 ＳＲ３９９） ４．０重量部
・ポリマーＩ ５．０重量部
・開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製 イルガキュア９０７）
１．４重量部
・開始剤（２，２´−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４´，５´−テトラフェニル−１，２´−ビイミダゾール） ０．６重量部
・溶剤（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート） ８０．０重量部
・緑顔料（アビシア社製 モナストラルグリーン９Ｙ−Ｃ） ４．２重量部
・黄顔料（ＢＡＳＦ社製 パリオトールイエローＤ１８１９） １．８重量部
・分散剤（ビックケミー社製ディスパービック１６１） ３．０重量部
・モノマー（サートマー社製 ＳＲ３９９） ４．０重量部
・ポリマーＩ ５．０重量部
・開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製 イルガキュア９０７）
１．４重量部
・開始剤（２，２´−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４´，５´−テトラフェニル−１，２´−ビイミダゾール） ０．６重量部
・溶剤（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート） ８０．０重量部
なお、上記のポリマーＩは、ベンジルメタクリレート：スチレン：アクリル酸：２−ヒドロキシエチルメタクリレート＝１５．６：３７．０：３０．５：１６．９（モル比）の共重合体１００モル％に対して、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートを１６．９モル％付加したものであり、重量平均分子量は４２５００である。
ここで、上記重量平均分子量は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により、標準ポリスチレン換算値として求めたものである。
ここで、上記重量平均分子量は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により、標準ポリスチレン換算値として求めたものである。
次いで、上記透明基板上に遮光部を覆うように赤色着色層用のネガ型感光性樹脂組成物をスピンコート法により塗布し、赤色着色層用のフォトマスクを介して、露光、現像して、赤色着色層を形成した。
青色着色層および緑色着色層も同様に形成した。
青色着色層および緑色着色層も同様に形成した。
３．隔壁用台座部の形成
次に、上記の着色層を形成したガラス基板上に、下記の透明樹脂組成物をスピンコート法により塗布した。
次に、上記の着色層を形成したガラス基板上に、下記の透明樹脂組成物をスピンコート法により塗布した。
（透明樹脂組成物の組成）
・メタクリル酸メチル−スチレン−アクリル酸共重合体 ３２重量部
・エピコート１８０Ｓ７０（ジャパンエポキシレジン（株）製） １８重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート ４２重量部
・開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製イルガキュア９０７） ８重量部
・３−メトキシブチルアセテート（メトアセと記す） ３００重量部
・メタクリル酸メチル−スチレン−アクリル酸共重合体 ３２重量部
・エピコート１８０Ｓ７０（ジャパンエポキシレジン（株）製） １８重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート ４２重量部
・開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製イルガキュア９０７） ８重量部
・３−メトキシブチルアセテート（メトアセと記す） ３００重量部
次に、１×１０−２Ｔｏｒｒ程度の真空度で減圧乾燥した後、９０℃でプリベークした後、透明樹脂組成物の塗布膜から１００μｍの距離に所定のフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより２．０ｋＷの超高圧水銀ランプを用い、所定の位置に露光した。次いで、０．０５％水酸化カリウム水溶液（液温２３℃）中に１分間浸漬してアルカリ現像し、塗布膜の未硬化部分のみを除去して隔壁用台座部を形成した。
４．隔壁用バリア膜の形成
次に、上記の隔壁用台座部を形成したガラス基板上に酸化ケイ素膜を下記の条件でスパッタリング法にて成膜した。バリア膜の膜厚は１５００Åとした。
＜成膜条件＞
・ガス流量比 Ａｒ：Ｏ２＝１：０．５
・パワー：１．５ｋＷ
・ガス圧：３ｍＴｏｒｒ
上記のようにして隔壁付きカラーフィルタを作製した。形成した隔壁の高さは、ガラス基板表面から隔壁の頂部までの高さで７．５μｍであった。
次に、上記の隔壁用台座部を形成したガラス基板上に酸化ケイ素膜を下記の条件でスパッタリング法にて成膜した。バリア膜の膜厚は１５００Åとした。
＜成膜条件＞
・ガス流量比 Ａｒ：Ｏ２＝１：０．５
・パワー：１．５ｋＷ
・ガス圧：３ｍＴｏｒｒ
上記のようにして隔壁付きカラーフィルタを作製した。形成した隔壁の高さは、ガラス基板表面から隔壁の頂部までの高さで７．５μｍであった。
５．有機ＥＬ表示装置の作製
（ＴＦＴ基板の作製）
基板として、大きさが３００ｍｍ×４００ｍｍ、厚みが０．７ｍｍのガラス基板（コーニング社製１７３７ガラス）を準備した。この基板を定法にしたがってＴＦＴ基板を作製した。
（ＴＦＴ基板の作製）
基板として、大きさが３００ｍｍ×４００ｍｍ、厚みが０．７ｍｍのガラス基板（コーニング社製１７３７ガラス）を準備した。この基板を定法にしたがってＴＦＴ基板を作製した。
（透明電極層の形成）
ＴＦＴ基板上に、ＤＣスパッタリング法により膜厚０．４μｍのクロム膜を形成し、さらに連続してスパッタリング法により膜厚１５０ｎｍのＩＴＯ膜を形成した。次に、このＩＴＯ膜上の全面に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、ＩＴＯ膜のエッチングを行って、透明電極層を形成した。その後、クロム膜をパターニングするために、ＩＴＯ膜およびクロム膜の上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、クロム膜のエッチングを行って、補助電極を形成した。
ＴＦＴ基板上に、ＤＣスパッタリング法により膜厚０．４μｍのクロム膜を形成し、さらに連続してスパッタリング法により膜厚１５０ｎｍのＩＴＯ膜を形成した。次に、このＩＴＯ膜上の全面に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、ＩＴＯ膜のエッチングを行って、透明電極層を形成した。その後、クロム膜をパターニングするために、ＩＴＯ膜およびクロム膜の上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、クロム膜のエッチングを行って、補助電極を形成した。
（絶縁層の形成）
ポリイミド系樹脂（東レ社製、ＤＬ１６０２）を用いて絶縁層形成用塗工液を調製した。この絶縁層形成用塗工液をスピンコート法により背面電極層上に塗布した後、プリベーク（１００℃、５分間）を行って、厚み１μｍの樹脂膜を形成した。次に、マスク露光、現像、ポストベーク（２００℃、３０分間）を行って、絶縁層を形成した。
ポリイミド系樹脂（東レ社製、ＤＬ１６０２）を用いて絶縁層形成用塗工液を調製した。この絶縁層形成用塗工液をスピンコート法により背面電極層上に塗布した後、プリベーク（１００℃、５分間）を行って、厚み１μｍの樹脂膜を形成した。次に、マスク露光、現像、ポストベーク（２００℃、３０分間）を行って、絶縁層を形成した。
（有機ＥＬ素子用隔壁の形成）
有機ＥＬ素子用隔壁形成用塗工液（日本ゼオン社製、フォトレジスト、ＺＰＮ２６４６）をスピンコート法により絶縁層上に塗布し、プリベーク（１００℃、３分間）を行った。その後、所定のフォトマスクを用いて露光し、逆テーパー形成を安定させるためのベーク（１００℃、３分間）を行い、現像液（日本ゼオン社製、ＺＴＭＡ−１００）にて現像を行い、ポストベーク（２００℃、３０分間）を行った。これにより、絶縁層上に隔壁を形成した。この有機ＥＬ素子用隔壁は、高さ４μｍ、下部（絶縁層側）の幅１５μｍ、上部の幅２０μｍで逆テーパーの形状を有するものであった。
有機ＥＬ素子用隔壁形成用塗工液（日本ゼオン社製、フォトレジスト、ＺＰＮ２６４６）をスピンコート法により絶縁層上に塗布し、プリベーク（１００℃、３分間）を行った。その後、所定のフォトマスクを用いて露光し、逆テーパー形成を安定させるためのベーク（１００℃、３分間）を行い、現像液（日本ゼオン社製、ＺＴＭＡ−１００）にて現像を行い、ポストベーク（２００℃、３０分間）を行った。これにより、絶縁層上に隔壁を形成した。この有機ＥＬ素子用隔壁は、高さ４μｍ、下部（絶縁層側）の幅１５μｍ、上部の幅２０μｍで逆テーパーの形状を有するものであった。
（有機ＥＬ層の形成）
次いで、上記有機ＥＬ素子用隔壁をマスクとして、真空蒸着法により正孔注入層、白色発光層、電子注入層からなる有機ＥＬ層を形成した。
まず、４，４´，４´´−トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］トリフェニルアミンを、表示領域に相当する開口部を備えたマスクを介して２００ｎｍまで蒸着して成膜し、その後、４，４´−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニルを２０ｎｍ厚まで蒸着して成膜することによって、隔壁がマスクとなり、隔壁間のみに正孔注入層の形成材料を通過させて、透明電極層上に正孔注入層を形成した。
同様にして、４，４´−ビス（２，２´−ジフェニルビニル）ビフェニルを４０ｎｍ厚まで蒸着して成膜した。このとき、同時にルブレン（アルドリッチ（株）製）を少量含有させた。これにより白色発光層を形成した。
その後、トリス（８−キノリノール）アルミニウムを２０ｎｍ厚まで蒸着して成膜することにより電子注入層を形成した。
次いで、上記有機ＥＬ素子用隔壁をマスクとして、真空蒸着法により正孔注入層、白色発光層、電子注入層からなる有機ＥＬ層を形成した。
まず、４，４´，４´´−トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］トリフェニルアミンを、表示領域に相当する開口部を備えたマスクを介して２００ｎｍまで蒸着して成膜し、その後、４，４´−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニルを２０ｎｍ厚まで蒸着して成膜することによって、隔壁がマスクとなり、隔壁間のみに正孔注入層の形成材料を通過させて、透明電極層上に正孔注入層を形成した。
同様にして、４，４´−ビス（２，２´−ジフェニルビニル）ビフェニルを４０ｎｍ厚まで蒸着して成膜した。このとき、同時にルブレン（アルドリッチ（株）製）を少量含有させた。これにより白色発光層を形成した。
その後、トリス（８−キノリノール）アルミニウムを２０ｎｍ厚まで蒸着して成膜することにより電子注入層を形成した。
（対向電極層の形成）
次に、表示領域よりも広い所定の開口部を備えたマスクを介して、真空蒸着法によりマグネシウムと銀とを同時に蒸着（マグネシウムの蒸着速度＝１．３ｎｍ／秒〜１．４ｎｍ／秒、銀の蒸着速度＝０．１ｎｍ／秒）して成膜した。これにより、隔壁がマスクとなって、マグネシウム／銀化合物からなる厚み２００ｎｍの対向電極層を有機ＥＬ層上に形成した。
(有機ＥＬ表示装置の形成)
次に、窒素が充填されたグローブボックスにて予め作製したカラーフィルタにより封止を行い、有機ＥＬ表示装置を得た。
次に、表示領域よりも広い所定の開口部を備えたマスクを介して、真空蒸着法によりマグネシウムと銀とを同時に蒸着（マグネシウムの蒸着速度＝１．３ｎｍ／秒〜１．４ｎｍ／秒、銀の蒸着速度＝０．１ｎｍ／秒）して成膜した。これにより、隔壁がマスクとなって、マグネシウム／銀化合物からなる厚み２００ｎｍの対向電極層を有機ＥＬ層上に形成した。
(有機ＥＬ表示装置の形成)
次に、窒素が充填されたグローブボックスにて予め作製したカラーフィルタにより封止を行い、有機ＥＬ表示装置を得た。
６．水蒸気透過性評価用セルの作製
（対向基板の作製）
基板として、大きさが３００ｍｍ×４００ｍｍ、厚みが０．７ｍｍのガラス基板（コーニング社製１７３７ガラス）を準備した。この基板上に真空蒸着法にて蒸着させたい部分以外をメタルマスクにてマスキングし、金属カルシウムを蒸着した。金属カルシウム層の膜厚は１５００Åとした。次いで、金属カルシウム層が形成された基板全面にアルミニウム層を蒸着により形成した。アルミニウム層の膜厚は１０００Åとした。
（対向基板の作製）
基板として、大きさが３００ｍｍ×４００ｍｍ、厚みが０．７ｍｍのガラス基板（コーニング社製１７３７ガラス）を準備した。この基板上に真空蒸着法にて蒸着させたい部分以外をメタルマスクにてマスキングし、金属カルシウムを蒸着した。金属カルシウム層の膜厚は１５００Åとした。次いで、金属カルシウム層が形成された基板全面にアルミニウム層を蒸着により形成した。アルミニウム層の膜厚は１０００Åとした。
（評価用セルの作製）
次に、窒素が充填されたグローブボックスにて予め作製したカラーフィルタにより封止を行い、評価用セルを得た。
次に、窒素が充填されたグローブボックスにて予め作製したカラーフィルタにより封止を行い、評価用セルを得た。
[実施例２]
透明基板上に遮光部を覆うように赤色着色層用のネガ型感光性樹脂組成物をスピンコート法により塗布し、赤色着色層用のフォトマスクを介して、露光、現像して、赤色着色層を形成した。その際に隔壁用台座部も同時に形成した。青色着色層および緑色着色層も同様に形成した。形成した隔壁の高さは、ガラス基板表面から隔壁の頂部までの高さで７．５μｍであった。
それ以外は実施例１と同様にカラーフィルタ、有機ＥＬ表示装置および評価用セルを形成した。
透明基板上に遮光部を覆うように赤色着色層用のネガ型感光性樹脂組成物をスピンコート法により塗布し、赤色着色層用のフォトマスクを介して、露光、現像して、赤色着色層を形成した。その際に隔壁用台座部も同時に形成した。青色着色層および緑色着色層も同様に形成した。形成した隔壁の高さは、ガラス基板表面から隔壁の頂部までの高さで７．５μｍであった。
それ以外は実施例１と同様にカラーフィルタ、有機ＥＬ表示装置および評価用セルを形成した。
[実施例３]
実施例１と同様にして作製した、遮光部および着色層が形成された透明基板上に、下記の隔壁形成用組成物を用いて隔壁を形成した。
＜隔壁形成用組成物＞
・コンポセランＡＣ（荒川化学工業（株）製アクリル−シリカハイブリッド樹脂）
４２重量部
・メタクリル酸メチル−スチレン−アクリル酸共重合体 １５重量部
・エピコート１８０Ｓ７０（ジャパンエポキシレジン（株）製） １３重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート ２２重量部
・開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製イルガキュア９０７） ８重量部
・３−メトキシブチルアセテート（メトアセと記す） ３００重量部
形成した隔壁の高さは、ガラス基板表面から隔壁の頂部までの高さで７．３μｍであった。
それ以外は実施例１と同様にカラーフィルタ、有機ＥＬ表示装置および評価用セルを作製した。
実施例１と同様にして作製した、遮光部および着色層が形成された透明基板上に、下記の隔壁形成用組成物を用いて隔壁を形成した。
＜隔壁形成用組成物＞
・コンポセランＡＣ（荒川化学工業（株）製アクリル−シリカハイブリッド樹脂）
４２重量部
・メタクリル酸メチル−スチレン−アクリル酸共重合体 １５重量部
・エピコート１８０Ｓ７０（ジャパンエポキシレジン（株）製） １３重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート ２２重量部
・開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製イルガキュア９０７） ８重量部
・３−メトキシブチルアセテート（メトアセと記す） ３００重量部
形成した隔壁の高さは、ガラス基板表面から隔壁の頂部までの高さで７．３μｍであった。
それ以外は実施例１と同様にカラーフィルタ、有機ＥＬ表示装置および評価用セルを作製した。
[実施例４]
実施例１と同様にして作製した、遮光部および着色層が形成された透明基板上に、実施例１に記載の透明樹脂組成物をスピンコートにて塗布した。次に、１×１０−２Ｔｏｒｒ程度の真空度で減圧乾燥した後、９０℃でプリベークした後、透明樹脂組成物の塗布膜から１００μｍの距離に所定のフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより２．０ｋＷの超高圧水銀ランプを用い、所定の位置に露光した。この際、フォトマスクとして、マスク透過部が隔壁用台座部の形成部位、マスク半透過部が着色被覆膜の形成部位となるように作製したハーフトーンマスクを使用した。次いで、０．０５％水酸化カリウム水溶液（液温２３℃）中に１分間浸漬してアルカリ現像し、塗布膜の未硬化部分のみを除去して隔壁用台座部および着色層被覆膜を同時に形成した。
次に、実施例１に記載の方法で、バリア膜を隔壁用台座部上および着色被覆膜上に形成した。
形成した隔壁の高さは、ガラス基板表面から隔壁の頂部までの高さで７．３μｍであった。
それ以外は実施例１と同様にカラーフィルタ、有機ＥＬ表示装置および評価用セルを作製した。
実施例１と同様にして作製した、遮光部および着色層が形成された透明基板上に、実施例１に記載の透明樹脂組成物をスピンコートにて塗布した。次に、１×１０−２Ｔｏｒｒ程度の真空度で減圧乾燥した後、９０℃でプリベークした後、透明樹脂組成物の塗布膜から１００μｍの距離に所定のフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより２．０ｋＷの超高圧水銀ランプを用い、所定の位置に露光した。この際、フォトマスクとして、マスク透過部が隔壁用台座部の形成部位、マスク半透過部が着色被覆膜の形成部位となるように作製したハーフトーンマスクを使用した。次いで、０．０５％水酸化カリウム水溶液（液温２３℃）中に１分間浸漬してアルカリ現像し、塗布膜の未硬化部分のみを除去して隔壁用台座部および着色層被覆膜を同時に形成した。
次に、実施例１に記載の方法で、バリア膜を隔壁用台座部上および着色被覆膜上に形成した。
形成した隔壁の高さは、ガラス基板表面から隔壁の頂部までの高さで７．３μｍであった。
それ以外は実施例１と同様にカラーフィルタ、有機ＥＬ表示装置および評価用セルを作製した。
[実施例５]
１．カラーフィルタの作製
（隔壁用台座部の形成）
ガラス基板上に、実施例１記載の透明樹脂組成物をスピンコート法により塗布した。次に、１×１０−２Ｔｏｒｒ程度の真空度で減圧乾燥した後、９０℃でプリベークした後、透明樹脂組成物の塗布膜から１００μｍの距離に所定のフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより２．０ｋＷの超高圧水銀ランプを用い、所定の位置に露光した。次いで、０．０５％水酸化カリウム水溶液（液温２３℃）中に１分間浸漬してアルカリ現像し、塗布膜の未硬化部分のみを除去して隔壁用台座部を形成した。
１．カラーフィルタの作製
（隔壁用台座部の形成）
ガラス基板上に、実施例１記載の透明樹脂組成物をスピンコート法により塗布した。次に、１×１０−２Ｔｏｒｒ程度の真空度で減圧乾燥した後、９０℃でプリベークした後、透明樹脂組成物の塗布膜から１００μｍの距離に所定のフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより２．０ｋＷの超高圧水銀ランプを用い、所定の位置に露光した。次いで、０．０５％水酸化カリウム水溶液（液温２３℃）中に１分間浸漬してアルカリ現像し、塗布膜の未硬化部分のみを除去して隔壁用台座部を形成した。
（隔壁用バリア膜および遮光膜の形成）
次に、上記の隔壁用台座部を形成したガラス基板上にクロム系膜をスパッタリング法にて成膜した。クロム系膜は、酸化クロム膜（厚み：４００Å）、窒化クロム膜（厚み：４５０Å）、およびクロム膜（厚み：１１５０Å）の積層膜であり、クロム系膜の合計膜厚は２０００Åとした。次いで、クロム系膜上に、ロームアンドハース社製フォトレジストSC500をスピンコート法にて塗布し、減圧乾燥、プリベークした後、所定のマスクにて露光、現像し、所定のパターンを形成した。次いで、そのレジストパターンをマスクとして、過塩素酸と硝酸第２セリウムアンモニウムとを主成分とするエッチング液（ザ・インクテック株式会社製：商品名「ＭＲ−ＥＳ」）にてクロム系膜をエッチングし、その後、強アルカリ水溶液でレジストパターンを剥離した。得られた隔壁用バリア膜および遮光膜のＯＤ（光学濃度）は４．４であった。また、形成した隔壁の高さは、ガラス基板表面から隔壁の頂部までの高さで７．５μｍであった。
次に、上記の隔壁用台座部を形成したガラス基板上にクロム系膜をスパッタリング法にて成膜した。クロム系膜は、酸化クロム膜（厚み：４００Å）、窒化クロム膜（厚み：４５０Å）、およびクロム膜（厚み：１１５０Å）の積層膜であり、クロム系膜の合計膜厚は２０００Åとした。次いで、クロム系膜上に、ロームアンドハース社製フォトレジストSC500をスピンコート法にて塗布し、減圧乾燥、プリベークした後、所定のマスクにて露光、現像し、所定のパターンを形成した。次いで、そのレジストパターンをマスクとして、過塩素酸と硝酸第２セリウムアンモニウムとを主成分とするエッチング液（ザ・インクテック株式会社製：商品名「ＭＲ−ＥＳ」）にてクロム系膜をエッチングし、その後、強アルカリ水溶液でレジストパターンを剥離した。得られた隔壁用バリア膜および遮光膜のＯＤ（光学濃度）は４．４であった。また、形成した隔壁の高さは、ガラス基板表面から隔壁の頂部までの高さで７．５μｍであった。
（着色層の形成）
次に、隔壁および遮光部が形成されたガラス基板上に、実施例１に記載の着色層用ネガ型感光性樹脂組成物をダイコート法により塗布し、着色層用のフォトマスクを介して、露光、現像して着色層を形成した。
次に、隔壁および遮光部が形成されたガラス基板上に、実施例１に記載の着色層用ネガ型感光性樹脂組成物をダイコート法により塗布し、着色層用のフォトマスクを介して、露光、現像して着色層を形成した。
２．有機ＥＬ表示装置および評価用セルの作製
実施例１と同様に有機ＥＬ表示装置および評価用セルを作製した。
実施例１と同様に有機ＥＬ表示装置および評価用セルを作製した。
[比較例]
カラーフィルタ上に隔壁を形成しなかった以外は実施例１と同様にカラーフィルタ、有機ＥＬ装置および評価用セルを形成した。
カラーフィルタ上に隔壁を形成しなかった以外は実施例１と同様にカラーフィルタ、有機ＥＬ装置および評価用セルを形成した。
[評価]
上記にて作製した有機ＥＬ装置を発光させ、２００時間経時時間経過後の有機ＥＬ層の画素収縮およびダークスポット発生を顕微鏡にて目視評価し、画素収縮およびダークスポットがそれぞれ発生したものを×、発生しなかったものを○とした。結果を表１に記す。
また、水蒸気透過性評価用セルを恒温恒湿オーブン中で６０℃、湿度９０％の条件下で２００時間暴露した後、カルシウムの状態を観察した。金属カルシウムは水蒸気と反応し水酸化カルシウムになった部分のみ変色する。レーザー顕微鏡にて試験前後の画像を撮影し、画像処理にて変色した部分の面積を計測した。変色面積と変色したカルシウム層膜厚から変色部分中の水分重量を算出し、隔壁面積と試験時間から水蒸気透過量(g/m2/day)を算出した。結果を表１に記す。
上記にて作製した有機ＥＬ装置を発光させ、２００時間経時時間経過後の有機ＥＬ層の画素収縮およびダークスポット発生を顕微鏡にて目視評価し、画素収縮およびダークスポットがそれぞれ発生したものを×、発生しなかったものを○とした。結果を表１に記す。
また、水蒸気透過性評価用セルを恒温恒湿オーブン中で６０℃、湿度９０％の条件下で２００時間暴露した後、カルシウムの状態を観察した。金属カルシウムは水蒸気と反応し水酸化カルシウムになった部分のみ変色する。レーザー顕微鏡にて試験前後の画像を撮影し、画像処理にて変色した部分の面積を計測した。変色面積と変色したカルシウム層膜厚から変色部分中の水分重量を算出し、隔壁面積と試験時間から水蒸気透過量(g/m2/day)を算出した。結果を表１に記す。
結果として、比較例のように作製した有機ＥＬ表示装置の有機ＥＬ層は画素収縮及びダークスポットともに発生したが、実施例１〜５の様に隔壁を備えたカラーフィルタを用いて作製した有機ＥＬ表示装置の有機ＥＬ層は画素収縮及びダークスポットともに発生しなかった。
また、実施例１〜５のようにカラーフィルタに隔壁を設けたものは、比較例のようにカラーフィルタに隔壁を設けないものより、水蒸気透過量が低かった。
また、実施例１〜５のようにカラーフィルタに隔壁を設けたものは、比較例のようにカラーフィルタに隔壁を設けないものより、水蒸気透過量が低かった。
１ … 有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ
２、 … 透明基板
３、３Ｒ、３Ｇ、３Ｂ … 着色層
４ … 隔壁
４ｃ … 台座部
４ｄ … バリア膜
４’Ｒ、４’Ｇ、４’Ｂ … 台座部形成用層
５ … 着色層被覆膜
７ … 遮光部
２０ … 有機ＥＬ素子側基板
２２ … 基板
２３ … 背面電極層
２４ … 有機ＥＬ層
２５ … 透明電極層
２６ … 有機ＥＬ素子
２７ … 絶縁層
２８ … 乾燥剤層
２９ … シール剤
３０ … 有機ＥＬ表示装置
２、 … 透明基板
３、３Ｒ、３Ｇ、３Ｂ … 着色層
４ … 隔壁
４ｃ … 台座部
４ｄ … バリア膜
４’Ｒ、４’Ｇ、４’Ｂ … 台座部形成用層
５ … 着色層被覆膜
７ … 遮光部
２０ … 有機ＥＬ素子側基板
２２ … 基板
２３ … 背面電極層
２４ … 有機ＥＬ層
２５ … 透明電極層
２６ … 有機ＥＬ素子
２７ … 絶縁層
２８ … 乾燥剤層
２９ … シール剤
３０ … 有機ＥＬ表示装置
Claims (4)
- 透明基板と、前記透明基板上の表示領域に形成された着色層と、前記透明基板上に前記表示領域の画素を画定するように形成された遮光部と、前記透明基板上の非表示領域に前記表示領域を囲うように形成された隔壁と、を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタであって、
前記隔壁は、前記有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタに有機エレクトロルミネッセンス素子を有する有機エレクトロルミネッセンス素子側基板を対向させて貼り合わせた際に、前記有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタおよび前記有機エレクトロルミネッセンス素子側基板の間の気密性を保持できる高さに形成され、かつ、ガスバリア性を有し、
前記隔壁が、台座部と、前記台座部を覆うように形成されたガスバリア性を有する無機材料からなるバリア膜とから形成され、
前記バリア膜は、前記遮光部と同一材料で構成され、
前記バリア膜は、金属膜、酸化クロム膜、窒化クロム膜、もしくは酸化窒化クロム膜の単膜、または積層膜であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタ。 - 前記台座部が、前記着色層の材料と同一の材料からなることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタ。
- 前記隔壁が、前記透明基板の非表示領域に複数形成されていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタ。
- 請求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載された有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタを用いることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
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2009
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