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JP5644530B2 - Infrared imaging device - Google Patents
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JP5644530B2 - Infrared imaging device - Google Patents

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Description

本発明は、赤外線撮像装置に関する。   The present invention relates to an infrared imaging device.

例えば量子井戸型赤外線フォトディテクタ(QWIP;Quantum Well Infrared Photodetector)などの量子型赤外線フォトディテクタによって各画素を構成した赤外線イメージセンサを備える赤外線撮像装置がある。   For example, there is an infrared imaging device including an infrared image sensor in which each pixel is configured by a quantum infrared photodetector such as a quantum well infrared photodetector (QWIP).

Leonard Chen et al., “Overview of advances in high performance ROIC designs for use with IRFPAs”, Proceedings of SPIE, Vol.4028(2000), pp.124-138Leonard Chen et al., “Overview of advances in high performance ROIC designs for use with IRFPAs”, Proceedings of SPIE, Vol.4028 (2000), pp.124-138

ところで、赤外線イメージセンサにおいて、高解像度化を図るために各画素の面積を小さくすると、各画素の信号強度が相対的に小さくなるため、従来問題にならなかったことがノイズの原因になって、S/N比(Signal to Noise ratio)が低下することになる。
例えば、撮像対象に輝度分布がある場合、即ち、赤外線イメージセンサに入射する赤外線に入射量分布がある場合、これがノイズの原因となる。
By the way, in the infrared image sensor, if the area of each pixel is reduced in order to achieve high resolution, the signal intensity of each pixel is relatively reduced, and this has caused noise that was not a problem in the past. The S / N ratio (Signal to Noise ratio) decreases.
For example, when there is a luminance distribution in the imaging target, that is, when there is an incident amount distribution in infrared rays incident on the infrared image sensor, this causes noise.

つまり、赤外線イメージセンサの各画素に入射した赤外線の一部は、各画素を構成する赤外線検知素子の内部で熱に変換され、赤外線検知素子の熱容量や熱抵抗などによって、赤外線検知素子の温度が上昇することになる。
そして、赤外線検知素子は、素子抵抗が温度依存性を持っているため、素子温度が変化すると素子抵抗が変化してしまい、暗電流や光電流が変化してしまうことになる。
In other words, a part of the infrared light incident on each pixel of the infrared image sensor is converted into heat inside the infrared detection element that constitutes each pixel, and the temperature of the infrared detection element depends on the heat capacity or thermal resistance of the infrared detection element. Will rise.
In the infrared detection element, since the element resistance has temperature dependence, when the element temperature changes, the element resistance changes, and the dark current and the photocurrent change.

この場合、赤外線イメージセンサの各画素に入射する赤外線の入射量にばらつきがあると、各画素を構成する赤外線検知素子間で温度差が生じてしまうことになる。例えば、強い光が入射した画素では、弱い光が入射した画素に比べて、赤外線検知素子の温度が上昇してしまい、各画素を構成する赤外線検知素子間で温度差が生じてしまうことになる。この結果、各画素を構成する赤外線検知素子間で抵抗差が生じてしまい、これが暗電流や光電流に影響を与え、ノイズの原因となる。   In this case, if there is a variation in the amount of infrared rays incident on each pixel of the infrared image sensor, a temperature difference occurs between the infrared detection elements constituting each pixel. For example, in a pixel where strong light is incident, the temperature of the infrared detection element rises compared to a pixel where weak light is incident, and a temperature difference occurs between the infrared detection elements constituting each pixel. . As a result, a resistance difference occurs between the infrared detection elements constituting each pixel, which affects the dark current and the photocurrent and causes noise.

そこで、赤外線イメージセンサの各画素を構成する赤外線検知素子間で温度差が生じてしまうことによってS/N比が低下してしまうのを防止できるようにしたい。   Therefore, it is desired to prevent the S / N ratio from being lowered due to a temperature difference between the infrared detection elements constituting each pixel of the infrared image sensor.

本赤外線撮像装置は、複数の赤外線検知素子を備える赤外線検知素子アレイと、複数の赤外線検知素子のそれぞれに、赤外線検知素子によって検知しうる波長を持つ補償用赤外線を照射する補償用赤外線照射部と、赤外線検知素子に流れる電流を検知する検知期間内に複数の赤外線検知素子のそれぞれに入射する撮像対象からの赤外線と補償用赤外線の総光量が同一になるように、補償用赤外線照射部によって複数の赤外線検知素子のそれぞれに照射する補償用赤外線の強度を制御するとともに、複数の赤外線検知素子のそれぞれによって検知された赤外線の強度及び補償用赤外線照射部によって複数の赤外線検知素子のそれぞれに照射した補償用赤外線の強度に基づいて、撮像対象から複数の赤外線検知素子のそれぞれに入射した赤外線の強度を求める制御演算部とを備えることを要件とする。 The infrared imaging device includes an infrared detection element array including a plurality of infrared detection elements, a compensation infrared irradiation unit that irradiates each of the plurality of infrared detection elements with a compensation infrared having a wavelength that can be detected by the infrared detection elements; A plurality of compensation infrared irradiating units so that the total amount of infrared light from the imaging target and the compensation infrared light incident on each of the plurality of infrared sensing elements is the same within a sensing period for detecting the current flowing through the infrared sensing element. The intensity of the infrared rays for compensation irradiated to each of the infrared detector elements is controlled, and the intensity of the infrared rays detected by each of the plurality of infrared detector elements and each of the plurality of infrared detector elements are irradiated by the infrared irradiation unit for compensation Based on the intensity of the compensating infrared ray, the infrared ray incident on each of the plurality of infrared detection elements from the imaging target Further comprising a control arithmetic unit for determining the degree to requirements.

本赤外線撮像装置は、複数の赤外線検知素子を備える赤外線検知素子アレイと、複数の赤外線検知素子のそれぞれに、赤外線検知素子によって検知しうる波長以外の波長を持つ補償用赤外線を照射する補償用赤外線照射部と、赤外線検知素子に流れる電流を検知する検知期間内に複数の赤外線検知素子のそれぞれに入射する撮像対象からの赤外線と補償用赤外線の総光量が同一になるように、補償用赤外線照射部によって複数の赤外線検知素子のそれぞれに照射する補償用赤外線の強度を制御する制御演算部とを備えることを要件とする。 The infrared imaging device includes an infrared detection element array including a plurality of infrared detection elements, and a compensation infrared that irradiates each of the plurality of infrared detection elements with a compensation infrared having a wavelength other than a wavelength that can be detected by the infrared detection element. Compensation infrared irradiation so that the total amount of infrared light from the imaging object and the compensation infrared light incident on each of the plurality of infrared detection elements is the same within the detection period for detecting the current flowing through the irradiation unit and the infrared detection element. And a control operation unit for controlling the intensity of the compensating infrared ray irradiated to each of the plurality of infrared detection elements by the unit.

本赤外線撮像装置は、複数の赤外線検知素子を備える赤外線検知素子アレイと、複数の赤外線検知素子のそれぞれに、赤外線検知素子によって検知しうる波長を持つ補償用赤外線を照射する補償用赤外線照射部と、赤外線検知素子に流れる電流を検知する検知期間内に複数の赤外線検知素子のそれぞれに流れる総電流量が同一になるように、補償用赤外線照射部によって複数の赤外線検知素子のそれぞれに照射する補償用赤外線の強度を制御するとともに、複数の赤外線検知素子のそれぞれによって検知された赤外線の強度及び補償用赤外線照射部によって複数の赤外線検知素子のそれぞれに照射した補償用赤外線の強度に基づいて、撮像対象から複数の赤外線検知素子のそれぞれに入射した赤外線の強度を求める制御演算部とを備えることを要件とする。   The infrared imaging device includes an infrared detection element array including a plurality of infrared detection elements, a compensation infrared irradiation unit that irradiates each of the plurality of infrared detection elements with a compensation infrared having a wavelength that can be detected by the infrared detection elements; Compensation for irradiating each of the plurality of infrared detection elements by the infrared irradiation unit for compensation so that the total amount of current flowing to each of the plurality of infrared detection elements becomes the same within a detection period for detecting the current flowing to the infrared detection element And controlling the intensity of infrared rays for imaging, and imaging based on the intensity of infrared rays detected by each of the plurality of infrared detecting elements and the intensity of compensating infrared rays irradiated to each of the plurality of infrared detecting elements by the compensating infrared irradiation unit A control operation unit for obtaining the intensity of infrared rays incident on each of a plurality of infrared detection elements from a target. And requirements.

本赤外線撮像装置は、複数の赤外線検知素子を備える赤外線検知素子アレイと、複数の赤外線検知素子のそれぞれに、赤外線検知素子によって検知しうる波長以外の波長を持つ補償用赤外線を照射する補償用赤外線照射部と、赤外線検知素子に流れる電流を検知する検知期間内に複数の赤外線検知素子のそれぞれに流れる総電流量が同一になるように、補償用赤外線照射部によって複数の赤外線検知素子のそれぞれに照射する補償用赤外線の強度を制御する制御演算部とを備えることを要件とする。   The infrared imaging device includes an infrared detection element array including a plurality of infrared detection elements, and a compensation infrared that irradiates each of the plurality of infrared detection elements with a compensation infrared having a wavelength other than a wavelength that can be detected by the infrared detection element. The compensation infrared irradiation unit causes each of the plurality of infrared detection elements to have the same total current flowing through each of the plurality of infrared detection elements within the detection period for detecting the current flowing through the irradiation unit and the infrared detection element. It is necessary to include a control calculation unit that controls the intensity of the compensating infrared ray to be irradiated.

したがって、本赤外線撮像装置によれば、赤外線イメージセンサの各画素を構成する赤外線検知素子間で温度差が生じてしまうことによってS/N比が低下してしまうのを防止できるという利点がある。   Therefore, according to the present infrared imaging device, there is an advantage that it is possible to prevent the S / N ratio from being lowered due to a temperature difference between the infrared detection elements constituting each pixel of the infrared image sensor.

第1実施形態にかかる赤外線撮像装置の構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of the infrared imaging device concerning 1st Embodiment. 第1実施形態にかかる赤外線撮像装置の構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of the infrared imaging device concerning 1st Embodiment. 第1実施形態にかかる赤外線撮像装置の構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of the infrared imaging device concerning 1st Embodiment. (A)〜(D)は、第1実施形態にかかる赤外線撮像装置の動作を説明するための図である。(A)-(D) are the figures for demonstrating operation | movement of the infrared imaging device concerning 1st Embodiment. (A)〜(C)は、第1実施形態にかかる赤外線撮像装置に備えられる赤外線イメージセンサの赤外線検知素子アレイの構成を示す模式図である。(A)-(C) are schematic diagrams which show the structure of the infrared detection element array of the infrared image sensor with which the infrared imaging device concerning 1st Embodiment is equipped. (A)、(B)は、第1実施形態にかかる赤外線撮像装置に備えられる赤外線イメージセンサの読出回路チップの構成を示す模式図である。(A), (B) is a schematic diagram which shows the structure of the read-out circuit chip | tip of the infrared image sensor with which the infrared imaging device concerning 1st Embodiment is equipped. 第1実施形態にかかる赤外線撮像装置に備えられる補償用赤外線照射部の構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of the infrared irradiation part for compensation with which the infrared imaging device concerning 1st Embodiment is equipped. (A)、(B)は、第1実施形態にかかる赤外線撮像装置に備えられる補償用赤外線照射部の構成を示す模式図である。(A), (B) is a schematic diagram which shows the structure of the infrared irradiation part for compensation with which the infrared imaging device concerning 1st Embodiment is equipped. 第1実施形態にかかる赤外線撮像装置の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the infrared imaging device concerning 1st Embodiment. 第1実施形態にかかる赤外線撮像装置に備えられる制御演算部の出力換算回路を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the output conversion circuit of the control calculating part with which the infrared imaging device concerning 1st Embodiment is equipped. 第1実施形態にかかる赤外線撮像装置に備えられる制御演算部の補償用赤外線強度決定回路を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the compensation infrared intensity determination circuit of the control calculating part with which the infrared imaging device concerning 1st Embodiment is equipped. (A)〜(G)は、第1実施形態にかかる赤外線撮像装置の動作を説明するためのタイムチャートである。(A)-(G) are time charts for demonstrating operation | movement of the infrared imaging device concerning 1st Embodiment. 第1実施形態にかかる赤外線撮像装置による効果を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the effect by the infrared imaging device concerning 1st Embodiment. 第1実施形態にかかる赤外線撮像装置に備えられる補償用赤外線照射部の変形例の構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of the modification of the infrared irradiation part for compensation with which the infrared imaging device concerning 1st Embodiment is equipped. 第1実施形態にかかる赤外線撮像装置に備えられる制御演算部の出力換算回路の変形例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the modification of the output conversion circuit of the control calculating part with which the infrared imaging device concerning 1st Embodiment is equipped. 第1実施形態にかかる赤外線撮像装置に備えられる制御演算部の補償用赤外線強度決定回路の変形例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the modification of the infrared rays intensity determination circuit for compensation of the control calculating part with which the infrared imaging device concerning 1st Embodiment is equipped. 第2実施形態にかかる赤外線撮像装置の構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of the infrared imaging device concerning 2nd Embodiment. (A)〜(C)は、第2実施形態にかかる赤外線撮像装置の動作を説明するための図である。(A)-(C) are the figures for demonstrating operation | movement of the infrared imaging device concerning 2nd Embodiment. 第2実施形態にかかる赤外線撮像装置に備えられる補償用赤外線照射部の温度板の構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of the temperature plate of the infrared irradiation part for compensation with which the infrared imaging device concerning 2nd Embodiment is equipped. 第2実施形態にかかる赤外線撮像装置の変形例の構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of the modification of the infrared imaging device concerning 2nd Embodiment.

以下、図面により、本発明の実施の形態にかかる赤外線撮像装置について説明する。
[第1実施形態]
まず、第1実施形態にかかる赤外線撮像装置について、図1〜図13を参照しながら説明する。
本実施形態にかかる赤外線撮像装置は、図1に示すように、赤外線イメージセンサ1と、補償用赤外線照射部2と、制御演算部3とを備える。なお、図1中、符号37、41はレンズを示している。
Hereinafter, an infrared imaging device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
[First Embodiment]
First, the infrared imaging device according to the first embodiment will be described with reference to FIGS.
As shown in FIG. 1, the infrared imaging apparatus according to the present embodiment includes an infrared image sensor 1, a compensating infrared irradiation unit 2, and a control calculation unit 3. In FIG. 1, reference numerals 37 and 41 denote lenses.

ここで、本赤外線イメージセンサは、図5(A)、図5(B)に示すように、複数の赤外線検知素子(画素)7を備える赤外線検知素子アレイ4と、複数の赤外線検知素子7のそれぞれに接続された読出回路を含む読出回路チップ5とを備える。そして、赤外線検知素子アレイ4と読出回路チップ5とは、導電性の金属バンプ電極6(ここではInバンプ電極)を介して接続されている。つまり、赤外線検知素子アレイ4と読出回路チップ5とはフリップチップボンディングによって接合されている。   Here, as shown in FIGS. 5A and 5B, the infrared image sensor includes an infrared detection element array 4 including a plurality of infrared detection elements (pixels) 7 and a plurality of infrared detection elements 7. And a read circuit chip 5 including a read circuit connected to each. The infrared detection element array 4 and the readout circuit chip 5 are connected via a conductive metal bump electrode 6 (here, In bump electrode). That is, the infrared detection element array 4 and the readout circuit chip 5 are joined by flip chip bonding.

なお、赤外線検知素子アレイ4を、センサ素子アレイ、センサアレイ、光電変換素子アレイ、赤外線焦点面アレイ(IRFPA;Infrared focal plane array)、あるいは、QWIP焦点面アレイ(QWIP−FPA)ともいう。また、赤外線検知素子7を、量子型赤外線検知素子、感光素子、受光素子、センサ素子、あるいは、QWIP素子ともいう。また、読出回路チップ5は、読出回路アレイともいう。また、読出回路は、ROIC(readout integrated circuit)、あるいは、信号処理回路ともいう。   The infrared detection element array 4 is also referred to as a sensor element array, a sensor array, a photoelectric conversion element array, an infrared focal plane array (IRFPA), or a QWIP focal plane array (QWIP-FPA). The infrared detection element 7 is also referred to as a quantum infrared detection element, a photosensitive element, a light receiving element, a sensor element, or a QWIP element. The read circuit chip 5 is also referred to as a read circuit array. The reading circuit is also referred to as a ROIC (readout integrated circuit) or a signal processing circuit.

ここで、赤外線検知素子アレイ4は、赤外線の入射量に応じて光電流を発生する赤外線検知素子7によって構成される複数の画素が二次元的に配列されている二次元赤外線検知素子アレイである。
ここでは、赤外線検知素子アレイ4は、例えばQWIPなどの量子型赤外線フォトディテクタを赤外線検知素子7として備える量子型赤外線検知素子アレイである。このため、本赤外線イメージセンサを、量子型赤外線イメージセンサともいう。
Here, the infrared detection element array 4 is a two-dimensional infrared detection element array in which a plurality of pixels configured by an infrared detection element 7 that generates a photocurrent according to the amount of incident infrared rays is two-dimensionally arranged. .
Here, the infrared detection element array 4 is a quantum type infrared detection element array including a quantum type infrared photodetector such as QWIP as the infrared detection element 7. For this reason, this infrared image sensor is also called a quantum infrared image sensor.

例えば、量子井戸型の赤外線検知素子アレイ4は、以下のように構成される。
つまり、量子井戸型の赤外線検知素子アレイ4は、図5(B)、図5(C)に示すように、GaAs基板8上に、n−GaAs下側コンタクト層9、AlGaAs/GaAs多重量子井戸(MQW)層10、n−GaAs上側コンタクト層11を積層した構造を備える。また、各赤外線検知素子7(各画素)が分離溝12によって分離されている。また、各画素7のn−GaAs上側コンタクト層11上には、それぞれ、Inバンプ電極6が設けられている。また、各画素7の側方に延びているn−GaAs下側コンタクト層9上には、共通電極としてのInバンプ電極6が設けられている。そして、これらのInバンプ電極6を介して、量子井戸型赤外線検知素子アレイ4は読出回路チップ5に接続されている。
For example, the quantum well infrared detection element array 4 is configured as follows.
That is, as shown in FIGS. 5B and 5C, the quantum well-type infrared detection element array 4 includes an n-GaAs lower contact layer 9 and an AlGaAs / GaAs multiple quantum well on a GaAs substrate 8. A structure in which an (MQW) layer 10 and an n-GaAs upper contact layer 11 are stacked is provided. In addition, each infrared detection element 7 (each pixel) is separated by a separation groove 12. An In bump electrode 6 is provided on the n-GaAs upper contact layer 11 of each pixel 7. In addition, an In bump electrode 6 as a common electrode is provided on the n-GaAs lower contact layer 9 extending to the side of each pixel 7. The quantum well infrared detecting element array 4 is connected to the readout circuit chip 5 through these In bump electrodes 6.

例えば約7μmの波長を持つ赤外線に感度を持つ量子井戸型赤外線検知素子アレイ4を構成する場合、以下のように構成すれば良い。
つまり、n−GaAs下側コンタクト層9及びn−GaAs上側コンタクト層11は、厚さを例えば約1μmとし、n型ドーパントとして例えばSiを用い、その濃度を例えば約1×1018cm−3とすれば良い。また、AlGaAs/GaAs−MQW層10は、厚さ40nmのi−Al0.3Ga0.7As層13と厚さ4nmのi−GaAs層14とを各20層交互に積層したものとすれば良い。
For example, when the quantum well infrared detecting element array 4 having sensitivity to infrared having a wavelength of about 7 μm is configured, the following configuration may be used.
That is, the n-GaAs lower contact layer 9 and the n-GaAs upper contact layer 11 have a thickness of, for example, about 1 μm, use, for example, Si as an n-type dopant, and a concentration of, for example, about 1 × 10 18 cm −3 . Just do it. The AlGaAs / GaAs-MQW layer 10 is formed by alternately stacking 20 layers of i-Al 0.3 Ga 0.7 As layers 13 having a thickness of 40 nm and i-GaAs layers 14 having a thickness of 4 nm. It ’s fine.

なお、赤外線検知素子アレイ4の構成は、これに限られるものではない。
読出回路チップ5は、赤外線が入射して各赤外線検知素子7に流れた電流量に応じた出力電圧を順次読み出すものである。ここで、読出回路チップ5は、例えばSi基板上に形成されており、図6(A)、図6(B)に示すように、読出回路17として、画素7毎に設けられた複数の駆動回路15と、各駆動回路15の出力を順次読み出すための切替回路16とを備える。ここでは、読出回路チップ5には、さらに、ADコンバータ18が集積されている。
The configuration of the infrared detection element array 4 is not limited to this.
The readout circuit chip 5 sequentially reads out the output voltage corresponding to the amount of current that has flowed through each infrared detection element 7 when infrared rays are incident. Here, the readout circuit chip 5 is formed on, for example, a Si substrate. As shown in FIGS. 6A and 6B, a plurality of driving circuits provided for each pixel 7 are provided as the readout circuit 17. A circuit 15 and a switching circuit 16 for sequentially reading the output of each drive circuit 15 are provided. Here, an AD converter 18 is further integrated in the readout circuit chip 5.

なお、ADコンバータ18を、アナログ・デジタル変換回路、AD変換回路、あるいは、AD回路ともいう。また、読出回路チップ5を、Si集積回路チップともいう。
ここで、複数の駆動回路15は、赤外線検知素子アレイ4の各赤外線検知素子7のそれぞれにバンプ電極6を介して接続されている。駆動回路15は、赤外線が入射することによって赤外線検知素子7に流れる電流を、時間で積分し、電圧に変換して出力する積分回路である。
The AD converter 18 is also referred to as an analog / digital conversion circuit, an AD conversion circuit, or an AD circuit. The read circuit chip 5 is also referred to as a Si integrated circuit chip.
Here, the plurality of drive circuits 15 are connected to each of the infrared detection elements 7 of the infrared detection element array 4 via the bump electrodes 6. The drive circuit 15 is an integration circuit that integrates the current flowing in the infrared detection element 7 by the incidence of infrared rays over time, converts the current into voltage, and outputs the voltage.

ここでは、駆動回路15は、キャパシタ19(積分容量)と、キャパシタ19を赤外線検知素子7に接続するためのスイッチ20(トランジスタ)と、キャパシタ19をバイアス電源に接続するためのスイッチ21(トランジスタ)とを備える。つまり、駆動回路15は、バンプ電極6を介して赤外線検知素子7の一側に接続されたスイッチ20と、バイアス電源に接続されたスイッチ21と、これらのスイッチ20、21に接続されたキャパシタ19とを備える。そして、キャパシタ19及びスイッチ20、21のそれぞれの端子を接続した接点Xに出力端子22が接続されている。なお、赤外線検知素子7の他側には共通電極6が接続されている。   Here, the drive circuit 15 includes a capacitor 19 (integration capacitor), a switch 20 (transistor) for connecting the capacitor 19 to the infrared detection element 7, and a switch 21 (transistor) for connecting the capacitor 19 to a bias power source. With. That is, the drive circuit 15 includes a switch 20 connected to one side of the infrared detection element 7 via the bump electrode 6, a switch 21 connected to a bias power source, and a capacitor 19 connected to these switches 20 and 21. With. The output terminal 22 is connected to a contact X connecting the terminals of the capacitor 19 and the switches 20 and 21. A common electrode 6 is connected to the other side of the infrared detection element 7.

また、各駆動回路15の出力端子22には、切替回路16が接続されている。
つまり、切替回路16は、複数のソースフォロワトランジスタ23と、複数の行選択トランジスタ24と、複数の行線25と、複数の列線26と、複数の列選択トランジスタ27と、読み出し線28と、負荷トランジスタ29と、増幅器30と、垂直走査シフトレジスタ31と、水平走査シフトレジスタ32とを備える。そして、各ソースフォロワトランジスタ23のゲート端子に、それぞれ、各駆動回路15の出力端子22が接続されている。
The switching circuit 16 is connected to the output terminal 22 of each drive circuit 15.
That is, the switching circuit 16 includes a plurality of source follower transistors 23, a plurality of row selection transistors 24, a plurality of row lines 25, a plurality of column lines 26, a plurality of column selection transistors 27, a readout line 28, A load transistor 29, an amplifier 30, a vertical scanning shift register 31, and a horizontal scanning shift register 32 are provided. The output terminal 22 of each drive circuit 15 is connected to the gate terminal of each source follower transistor 23.

なお、列線26及び読み出し線28を、出力線ともいう。また、増幅器30を、最終出力段増幅器、出力アンプ、電圧バッファ、DCアンプ、あるいは、インピーダンス変換回路ともいう。また、行選択トランジスタ24を、垂直選択スイッチともいう。また、列選択トランジスタ27を、水平選択スイッチともいう。
ここで、ソースフォロワトランジスタ23は、ゲート端子に駆動回路15の出力端子22が接続されており、駆動回路15の出力に応じて動作するようになっている。なお、各ソースフォロワトランジスタ23のドレイン端子は、図示しない電源に接続されており、電源電圧が供給されている。
Note that the column line 26 and the readout line 28 are also referred to as output lines. The amplifier 30 is also referred to as a final output stage amplifier, an output amplifier, a voltage buffer, a DC amplifier, or an impedance conversion circuit. The row selection transistor 24 is also referred to as a vertical selection switch. The column selection transistor 27 is also referred to as a horizontal selection switch.
Here, the source follower transistor 23 has the gate terminal connected to the output terminal 22 of the drive circuit 15 and operates according to the output of the drive circuit 15. Note that the drain terminal of each source follower transistor 23 is connected to a power supply (not shown) and is supplied with a power supply voltage.

各行選択トランジスタ24は、複数のソースフォロワトランジスタ23のソース端子のそれぞれに接続されている。また、各行線25は、それぞれ、各行の行選択トランジスタ24のゲート端子に接続されている。
各列線26は、行選択トランジスタ24を介してソースフォロワトランジスタ23に接続されている。つまり、各列線26は、それぞれ、行選択トランジスタ24を介して、各列のソースフォロワトランジスタ23に接続されている。また、各列選択トランジスタ27は、複数の列線26のそれぞれに接続されている。さらに、読み出し線28は、全ての列選択トランジスタ27に接続されている。
Each row selection transistor 24 is connected to each of the source terminals of the plurality of source follower transistors 23. Each row line 25 is connected to the gate terminal of the row selection transistor 24 in each row.
Each column line 26 is connected to a source follower transistor 23 via a row selection transistor 24. That is, each column line 26 is connected to the source follower transistor 23 of each column via the row selection transistor 24. Each column selection transistor 27 is connected to each of the plurality of column lines 26. Further, the read line 28 is connected to all the column selection transistors 27.

垂直走査シフトレジスタ31は、全ての行線25に接続されており、各行線25を順次駆動し、各行線25に接続されている行選択トランジスタ24の導通・非導通制御を行なうようになっている。また、水平走査シフトレジスタ32は、全ての列選択トランジスタ27に接続されており、各列選択トランジスタ27を順次駆動し、各列選択トランジスタ27の導通・非導通制御を行なうようになっている。   The vertical scanning shift register 31 is connected to all the row lines 25, sequentially drives each row line 25, and performs conduction / non-conduction control of the row selection transistor 24 connected to each row line 25. Yes. The horizontal scanning shift register 32 is connected to all the column selection transistors 27 and sequentially drives each column selection transistor 27 to control conduction / non-conduction of each column selection transistor 27.

読み出し線28は、一方が増幅器30を介して出力端子VOUTに接続されており、他方が負荷トランジスタ29を介してグランド電位(GND)に接続されている。
そして、制御演算部3から画素の選択信号が入力され、垂直走査シフトレジスタ31によって行線25が選択されると、選択された行線25に接続された行選択トランジスタ24は導通状態(オン状態)となる。行選択トランジスタ24が導通状態となると、各赤外線検知素子7(各画素)からの出力信号が、駆動回路15、ソースフォロワトランジスタ23及び行選択トランジスタ24を介して、列線26に出力される。
One of the read lines 28 is connected to the output terminal VOUT through the amplifier 30, and the other is connected to the ground potential (GND) through the load transistor 29.
When a pixel selection signal is input from the control calculation unit 3 and the row line 25 is selected by the vertical scanning shift register 31, the row selection transistor 24 connected to the selected row line 25 is in a conductive state (ON state). ) When the row selection transistor 24 becomes conductive, an output signal from each infrared detection element 7 (each pixel) is output to the column line 26 via the drive circuit 15, the source follower transistor 23, and the row selection transistor 24.

一方、制御演算部3から画素の選択信号が入力され、水平走査シフトレジスタ32によって列選択トランジスタ27が選択されると、選択された列選択トランジスタ27は導通状態(オン状態)となる。列選択トランジスタ27が導通状態となると、上述のようにして各列線26に出力されている出力信号が、列選択トランジスタ27を介して読み出し線28に出力される。読み出し線28に出力された出力信号は増幅器30を介して出力端子VOUTに出力される。 On the other hand, when a pixel selection signal is input from the control calculation unit 3 and the column selection transistor 27 is selected by the horizontal scanning shift register 32, the selected column selection transistor 27 is turned on (on state). When the column selection transistor 27 becomes conductive, the output signal output to each column line 26 as described above is output to the readout line 28 via the column selection transistor 27. The output signal output to the readout line 28 is output to the output terminal VOUT via the amplifier 30.

そして、本実施形態では、切替回路16の出力端子VOUTにADコンバータ18が接続されており、切替回路16からの出力信号であるアナログ電気信号がデジタル電気信号に変換され、デジタル電気信号が読出回路チップ5から制御演算部3へ出力されるようになっている。
ところで、本実施形態では、上述のように構成される赤外線検知素子アレイ4及び読出回路チップ5を含む赤外線イメージセンサ1は、図3に示すように、赤外線が入射しうる窓33Aを有する真空容器33内に設けられたコールドシールド34内に設置されており、冷却系(冷却器)35によって冷却されるようになっている。つまり、本赤外線イメージセンサ1は、冷却型赤外線イメージセンサである。
In this embodiment, the AD converter 18 is connected to the output terminal VOUT of the switching circuit 16, the analog electrical signal that is the output signal from the switching circuit 16 is converted into a digital electrical signal, and the digital electrical signal is read out. The signal is output from the circuit chip 5 to the control calculation unit 3.
By the way, in this embodiment, the infrared image sensor 1 including the infrared detection element array 4 and the readout circuit chip 5 configured as described above has a vacuum container having a window 33A through which infrared rays can enter as shown in FIG. It is installed in a cold shield 34 provided in 33 and is cooled by a cooling system (cooler) 35. That is, the infrared image sensor 1 is a cooling infrared image sensor.

さらに、本赤外線撮像装置は、撮像対象(観察対象)からの赤外線のうち撮像したい波長の赤外線を赤外線イメージセンサ1上に結像させるために、撮像対象からの赤外線のうち撮像したい波長の赤外線のみを透過するバンドパスフィルタ36、レンズ37を備える。そして、撮像対象からの赤外線は、バンドパスフィルタ36を透過した後、レンズ37によって赤外線検知素子アレイ4上に結像するようになっている。なお、レンズ37は、光学レンズ、レンズ系、あるいは、光学系ともいう。   Furthermore, in order to form an infrared image of the wavelength desired to be imaged on the infrared image sensor 1 among the infrared rays from the imaging target (observation target), the present infrared imaging device only includes the infrared rays of the wavelength desired to be imaged among the infrared rays from the imaging target. A band pass filter 36 and a lens 37 are provided. The infrared rays from the imaging target pass through the band-pass filter 36 and then form an image on the infrared detection element array 4 by the lens 37. The lens 37 is also referred to as an optical lens, a lens system, or an optical system.

ところで、赤外線イメージセンサ1において、高解像度化を図るために各画素7の面積を小さくすると、各画素7の信号強度が相対的に小さくなるため、従来問題にならなかったことがノイズの原因になって、S/N比が低下してしまう。
特に、冷却系を備える冷却型赤外線イメージセンサ1では、画素数を増やす場合、コストのかかる冷却部の体積を増やさないようにすべく、各画素7の面積を小さくすることになるため、S/N比が低下してしまう。
By the way, in the infrared image sensor 1, if the area of each pixel 7 is reduced in order to achieve high resolution, the signal intensity of each pixel 7 becomes relatively small. As a result, the S / N ratio decreases.
In particular, in the cooling infrared image sensor 1 including the cooling system, when the number of pixels is increased, the area of each pixel 7 is reduced so as not to increase the volume of the costly cooling unit. N ratio will fall.

例えば、赤外線イメージセンサ1に入射する赤外線に入射量分布がある場合、即ち、赤外線イメージセンサ1で受光する赤外線に受光量分布がある場合、これがノイズの原因となる。
つまり、赤外線イメージセンサ1の各画素7に入射した赤外線の一部は、各画素7を構成する赤外線検知素子の内部で熱に変換され、赤外線検知素子7の熱容量や熱抵抗などによって、赤外線検知素子7の温度が上昇してしまう。
For example, when there is an incident amount distribution in the infrared light incident on the infrared image sensor 1, that is, when there is a received light amount distribution in the infrared light received by the infrared image sensor 1, this causes noise.
In other words, a part of the infrared light incident on each pixel 7 of the infrared image sensor 1 is converted into heat inside the infrared detection element constituting each pixel 7, and the infrared detection is performed by the heat capacity or thermal resistance of the infrared detection element 7. The temperature of the element 7 will rise.

通常、各赤外線検知素子7で発生した熱はInバンプ電極6を経由して読出回路チップ5側へ放出されることになるが、画素数の増加に伴って赤外線検知素子アレイ4と読出回路チップ5とを接続するInバンフ電極6の微細化も図られるため、この部分の熱抵抗も増加することになる。この結果、赤外線検知素子7の温度が上昇してしまう。
また、画素数の増加に伴う各画素7の面積縮小により、同一機能をもつ読出回路チップ5を用いる場合、配線層数の増加などが必要になるため、読出回路チップ5側への縦方向の熱伝導率が低下する傾向にあり、この結果、赤外線検知素子7の温度が上昇してしまう。
Normally, the heat generated in each infrared detecting element 7 is released to the reading circuit chip 5 side via the In bump electrode 6, but the infrared detecting element array 4 and the reading circuit chip are increased as the number of pixels increases. Since the In-buff electrode 6 connected to the semiconductor device 5 is miniaturized, the thermal resistance of this portion also increases. As a result, the temperature of the infrared detection element 7 rises.
Further, when the readout circuit chip 5 having the same function is used due to the reduction in the area of each pixel 7 with the increase in the number of pixels, it is necessary to increase the number of wiring layers. The thermal conductivity tends to decrease, and as a result, the temperature of the infrared detection element 7 increases.

そして、QWIP等の赤外線検知素子7は、素子抵抗が温度依存性を持っているため、素子温度が変化すると素子抵抗が変化してしまい、暗電流や光電流が変化してしまう。
この場合、赤外線イメージセンサ1の各画素7に入射する赤外線の入射量にばらつきがあると、各画素7を構成する赤外線検知素子間で温度差が生じてしまう。例えば、強い光が入射した画素7では、弱い光が入射した画素7に比べて、赤外線検知素子7の温度が上昇してしまい、赤外線検知素子間で温度差が生じてしまう。
In addition, since the element resistance of the infrared detection element 7 such as QWIP has temperature dependence, the element resistance changes when the element temperature changes, and the dark current and the photocurrent change.
In this case, if there is a variation in the amount of infrared rays incident on each pixel 7 of the infrared image sensor 1, a temperature difference occurs between the infrared detection elements constituting each pixel 7. For example, in the pixel 7 where the strong light is incident, the temperature of the infrared detection element 7 is increased compared to the pixel 7 where the weak light is incident, and a temperature difference is generated between the infrared detection elements.

この結果、各画素7を構成する赤外線検知素子間で抵抗差が生じてしまい、これが暗電流や光電流に影響を与え、ノイズの原因となる。これにより、撮像対象に輝度分布がある場合、均一な温度面を観察する場合と比較して、S/N比が低下してしまう。つまり、赤外線イメージセンサ1の各画素7に入射する赤外線の強度に面内でばらつきがあると、S/N比が低下してしまう。   As a result, a resistance difference is generated between the infrared detection elements constituting each pixel 7, which affects the dark current and the photocurrent and causes noise. Thereby, when there is a luminance distribution in the imaging target, the S / N ratio is reduced as compared with the case where a uniform temperature surface is observed. That is, if the intensity of infrared rays incident on each pixel 7 of the infrared image sensor 1 varies in the plane, the S / N ratio is lowered.

そこで、赤外線イメージセンサ1の各画素7を構成する赤外線検知素子間で温度差が生じてしまうのを抑制すべく、本赤外線撮像装置は、赤外線検知素子アレイ4に備えられる複数の赤外線検知素子7のそれぞれに補償用赤外線を照射する補償用赤外線照射部2を備える。
そして、後述するように、赤外線検知素子7に流れる電流を検知する検知期間内に複数の赤外線検知素子7のそれぞれに入射する赤外線の総光量が同一になるように、補償用赤外線照射部2によって複数の赤外線検知素子7のそれぞれに照射する補償用赤外線の強度を制御するようにしている。
Therefore, in order to suppress the occurrence of a temperature difference between the infrared detection elements constituting each pixel 7 of the infrared image sensor 1, the infrared imaging device includes a plurality of infrared detection elements 7 provided in the infrared detection element array 4. Each is provided with a compensating infrared irradiation unit 2 that emits a compensating infrared ray.
Then, as will be described later, the compensating infrared irradiation unit 2 causes the total amount of infrared light incident on each of the plurality of infrared detection elements 7 to be the same within a detection period in which a current flowing through the infrared detection element 7 is detected. The intensity of the compensating infrared ray irradiated to each of the plurality of infrared detecting elements 7 is controlled.

例えば、撮像対象からの赤外線の強度が弱く、検知期間内に赤外線検知素子7に入射する赤外線の総光量が少ない画素に対しては補償用赤外線照射部2によって補償用赤外線を照射することで、検知期間内に各赤外線検知素子7に入射する赤外線の総光量が一定になるようにしている。
本実施形態では、赤外線検知素子7によって検知しうる波長を持つ補償用赤外線を照射する補償用赤外線照射部2を備える。
For example, by irradiating the compensation infrared ray by the compensation infrared irradiating unit 2 to a pixel whose intensity of the infrared ray from the imaging target is weak and the total amount of infrared rays incident on the infrared detection element 7 is small during the detection period, The total amount of infrared light incident on each infrared detection element 7 during the detection period is made constant.
In the present embodiment, a compensation infrared irradiation unit 2 that irradiates a compensation infrared having a wavelength that can be detected by the infrared detection element 7 is provided.

具体的には、補償用赤外線照射部2は、補償用赤外線を出射する複数の発光素子39を備える発光素子アレイ38と、発光素子アレイ38に接続されたアレイ駆動回路チップ40と、レンズ41と、ハーフミラー42とを含むものとして構成される。
なお、発光素子39を、赤外線源、あるいは、補償光光源ともいう。また、発光素子アレイ38を、赤外線源アレイ、あるいは、補償光光源アレイともいう。また、レンズ41は、光学レンズ、レンズ系、あるいは、光学系ともいう。また、ハーフミラーは、光学系ともいう。また、アレイ駆動回路チップ40を、Si集積回路チップともいう。
Specifically, the compensating infrared irradiating unit 2 includes a light emitting element array 38 including a plurality of light emitting elements 39 that emit compensating infrared rays, an array drive circuit chip 40 connected to the light emitting element array 38, a lens 41, and the like. And the half mirror 42.
The light emitting element 39 is also referred to as an infrared source or a compensation light source. The light emitting element array 38 is also referred to as an infrared source array or a compensation light source array. The lens 41 is also referred to as an optical lens, a lens system, or an optical system. The half mirror is also called an optical system. The array drive circuit chip 40 is also referred to as a Si integrated circuit chip.

ここで、発光素子アレイ38では、発光素子39が複数の赤外線検知素子7のそれぞれに対応して設けられている。また、発光素子アレイ38は、赤外線検知素子アレイ4と同一の素子配列になっており、発光素子アレイ38を構成する各素子39と、赤外線検知素子アレイ4を構成する各素子7とが一対一に対応するようになっている。
ここでは、発光素子アレイ38は、補償用赤外線を出射する複数のLED(Light emitting diode)を備えるLEDアレイである。本実施形態では、撮像対象からの赤外線のうち撮像したい波長の赤外線のみを透過するバンドパスフィルタ36を用いているため、このバンドパスフィルタ36を透過する波長の赤外線と同じ波長の赤外線を出射する複数のLED39を備えるLEDアレイ38を用いている。
Here, in the light emitting element array 38, the light emitting elements 39 are provided corresponding to the plurality of infrared detection elements 7. The light emitting element array 38 has the same element arrangement as the infrared detecting element array 4, and each element 39 constituting the light emitting element array 38 and each element 7 constituting the infrared detecting element array 4 are in a one-to-one relationship. It comes to correspond to.
Here, the light emitting element array 38 is an LED array including a plurality of LEDs (Light emitting diodes) that emit compensating infrared rays. In this embodiment, since the band-pass filter 36 that transmits only the infrared ray having the wavelength to be imaged among the infrared rays from the imaging target is used, the infrared ray having the same wavelength as the infrared ray having the wavelength that passes through the band-pass filter 36 is emitted. An LED array 38 having a plurality of LEDs 39 is used.

具体的には、図7に示すように、化合物半導体基板43上に形成された化合物半導体積層構造44を有し、各LED39(各素子)が分離溝45によって分離されている。また、各素子39のコンタクト層上には、それぞれ、バンプ電極46が設けられており、各素子39の側方に延びているコンタクト層上には、共通電極としてのバンプ電極47が設けられている。そして、これらのバンプ電極46、47を介して、LEDアレイ38はアレイ駆動回路チップ40に接続されている。   Specifically, as shown in FIG. 7, the semiconductor device has a compound semiconductor stacked structure 44 formed on the compound semiconductor substrate 43, and each LED 39 (each element) is separated by a separation groove 45. A bump electrode 46 is provided on the contact layer of each element 39, and a bump electrode 47 as a common electrode is provided on the contact layer extending to the side of each element 39. Yes. The LED array 38 is connected to the array drive circuit chip 40 via these bump electrodes 46 and 47.

アレイ駆動回路チップ40は、発光素子アレイ38を駆動するためのものである。このアレイ駆動回路チップ40は、例えばSi基板48上に形成されており、アレイ駆動回路49と、発光素子39毎に設けられた複数のPWM(Pulse width modulation)回路50とを備える。そして、複数のPWM回路50は、発光素子アレイ38の各発光素子39のそれぞれにバンプ電極46を介して接続されている。つまり、発光素子アレイ38とアレイ駆動回路チップ40とはフリップチップボンディングによって接合されている。   The array drive circuit chip 40 is for driving the light emitting element array 38. The array drive circuit chip 40 is formed on, for example, a Si substrate 48 and includes an array drive circuit 49 and a plurality of PWM (Pulse width modulation) circuits 50 provided for each light emitting element 39. The plurality of PWM circuits 50 are connected to the respective light emitting elements 39 of the light emitting element array 38 via the bump electrodes 46. That is, the light emitting element array 38 and the array drive circuit chip 40 are joined by flip chip bonding.

このように、アレイ駆動回路チップ40は、発光素子39毎にPWM回路50を備え、アレイ駆動回路49によって各PWM回路50を駆動させることで、各PWM回路50によって発光素子39毎に発光強度を制御することができるようになっている。
ここでは、図8(A)に示すように、アレイ駆動回路49には、後述の制御演算部3に含まれるタイミング制御回路65から画素の選択信号が入力されるとともに、後述の制御演算部3に含まれるメモリ回路63から読み出された各画素7の補償用赤外線強度設定値が入力されるようになっている。そして、アレイ駆動回路49は、選択された画素に接続されているPWM回路50へその画素の補償用赤外線強度設定値を出力するようになっている。
As described above, the array driving circuit chip 40 includes the PWM circuit 50 for each light emitting element 39, and each PWM circuit 50 is driven by the array driving circuit 49, so that each PWM circuit 50 increases the light emission intensity for each light emitting element 39. It can be controlled.
Here, as shown in FIG. 8A, a pixel selection signal is input to the array drive circuit 49 from a timing control circuit 65 included in the control calculation unit 3 described later, and the control calculation unit 3 described later. The compensation infrared intensity setting value of each pixel 7 read out from the memory circuit 63 included in is input. The array drive circuit 49 outputs the compensation infrared intensity setting value for the pixel to the PWM circuit 50 connected to the selected pixel.

PWM回路50は、図8(B)に示すように、PWM変換回路51と、LED駆動回路52とを備える。そして、PWM回路50は、PWM変換回路51でアレイ駆動回路49からの補償用赤外線強度設定値をPWM変換し、PWM変換された信号をLED駆動回路52によってLED39へ出力するようになっている。このようにして、LED39が駆動されるようになっている。なお、LED駆動回路52を、発光素子駆動回路ともいう。   The PWM circuit 50 includes a PWM conversion circuit 51 and an LED drive circuit 52 as shown in FIG. The PWM circuit 50 performs PWM conversion on the compensation infrared intensity setting value from the array drive circuit 49 by the PWM conversion circuit 51 and outputs the PWM converted signal to the LED 39 by the LED drive circuit 52. In this way, the LED 39 is driven. The LED drive circuit 52 is also referred to as a light emitting element drive circuit.

このように構成される補償用赤外線照射部2の発光素子アレイ38を構成する各発光素子39から出射された補償用赤外線は、図3に示すように、それぞれ、レンズ41を通過し、ハーフミラー42で反射されて、赤外線検知素子アレイ4を構成する各赤外線検知素子7のそれぞれに照射されるようになっている。一方、撮像対象からの赤外線は、バンドパスフィルタ36及びレンズ37を通過し、ハーフミラー42を透過して、補償用赤外線とともに、各赤外線検知素子7のそれぞれに入射することになる。   As shown in FIG. 3, the compensating infrared rays emitted from the light emitting elements 39 constituting the light emitting element array 38 of the compensating infrared irradiation unit 2 configured as described above pass through the lens 41 and are half mirrors. Each of the infrared detection elements 7 constituting the infrared detection element array 4 is reflected by 42 and irradiated. On the other hand, the infrared rays from the imaging target pass through the band-pass filter 36 and the lens 37, pass through the half mirror 42, and enter the infrared detection elements 7 together with the compensation infrared rays.

ところで、本赤外線撮像装置は、図9に示すように、読出回路チップ5からの出力信号を処理するとともに、補償用赤外線照射部2に対する制御を含む各種の制御を行なう制御演算部3と、撮像された画像を表示するモニタ60とを備える。
本実施形態では、制御演算部3は、赤外線検知素子7に流れる電流を検知する検知期間内に複数の赤外線検知素子7のそれぞれに入射する赤外線の総光量が同一になるように、補償用赤外線照射部2によって複数の赤外線検知素子7のそれぞれに照射する補償用赤外線の強度を制御するようになっている。なお、制御演算部3は、コンピュータやコントローラによって構成される。
By the way, as shown in FIG. 9, the infrared imaging apparatus processes an output signal from the readout circuit chip 5 and performs various controls including control for the compensating infrared irradiation unit 2, and an imaging unit. And a monitor 60 for displaying the processed image.
In the present embodiment, the control arithmetic unit 3 compensates infrared rays so that the total amount of infrared rays incident on each of the plurality of infrared detection elements 7 is the same during a detection period in which a current flowing through the infrared detection element 7 is detected. The irradiation part 2 controls the intensity of the compensating infrared rays irradiated to each of the plurality of infrared detection elements 7. The control calculation unit 3 is configured by a computer or a controller.

このように、検知期間内に各赤外線検知素子7に入射する赤外線の総光量が同一になるようにすることで、検知期間内に各赤外線検知素子が受ける総熱量が同一になり、赤外線検知素子7間で温度差が生じるのを防止することができる。
ここでは、図2に示すように、検知期間内に撮像対象から複数の赤外線検知素子7のそれぞれに入射する赤外線の強度にばらつきがある場合、各赤外線検知素子7のそれぞれに入射する赤外線の総光量が目標値になるように、補償用赤外線照射部2によって各赤外線検知素子7のそれぞれに照射する補償用赤外線の強度を制御するようにしている。
In this way, by making the total amount of infrared rays incident on each infrared detection element 7 within the detection period equal, the total amount of heat received by each infrared detection element within the detection period becomes the same, and the infrared detection element It is possible to prevent the temperature difference between the seven.
Here, as shown in FIG. 2, when there is a variation in the intensity of infrared rays incident on each of the plurality of infrared detection elements 7 from the imaging target within the detection period, the total of infrared rays incident on each of the infrared detection elements 7 is different. The intensity of the compensation infrared rays irradiated to each of the infrared detection elements 7 is controlled by the compensation infrared irradiation unit 2 so that the light amount becomes a target value.

ここで、目標値は、赤外線検知素子7の入射許容量、即ち、赤外線検知素子7のフルレンジの範囲内の任意の値に設定される。なお、目標値を、基準値、一定値、あるいは、総光量合わせ込み基準量ともいう。
これにより、各赤外線検知素子7のそれぞれに入射する赤外線の総光量は、目標値又は目標値近傍の一定の範囲内となる。つまり、検知期間内に各赤外線検知素子7のそれぞれに入射する赤外線の総光量が同一又はほぼ同一になり、即ち、赤外線検知素子アレイの受光領域の面内で赤外線の総光量が均一になり、赤外線検知素子7間で温度差が生じるのを防止することができる。この結果、赤外線検知素子7間で抵抗差が生じるのを防止することができるため、S/N比が低下してしまうのを防止することができる。
Here, the target value is set to an allowable value of the infrared detecting element 7, that is, an arbitrary value within the full range of the infrared detecting element 7. The target value is also referred to as a reference value, a constant value, or a total amount adjustment reference amount.
As a result, the total amount of infrared light incident on each of the infrared detection elements 7 is within a certain range near the target value or the target value. That is, the total amount of infrared light incident on each of the infrared detection elements 7 within the detection period is the same or substantially the same, that is, the total amount of infrared light becomes uniform within the surface of the light receiving region of the infrared detection element array, It is possible to prevent a temperature difference from occurring between the infrared detection elements 7. As a result, it is possible to prevent a resistance difference from occurring between the infrared detection elements 7, and thus it is possible to prevent the S / N ratio from being lowered.

なお、例えばLEDを用いて補償用赤外線の強度を制御する場合、補償用赤外線の強度はスタティックに変化させる必要はなく、検知期間よりも十分に短い周期でLEDを点滅させることで検知期間内での総光量を制御すれば良い。なお、検知期間は撮像フレーム期間に含まれる。つまり、撮像フレーム期間は、検知期間と読出期間とを含む。なお、撮像フレーム期間を、撮像フレーム、あるいは、フレームともいう。   For example, when the intensity of the compensating infrared light is controlled using an LED, the intensity of the compensating infrared light does not need to be statically changed, and the LED is blinked at a period sufficiently shorter than the sensing period to within the sensing period. It is sufficient to control the total amount of light. Note that the detection period is included in the imaging frame period. That is, the imaging frame period includes a detection period and a reading period. Note that the imaging frame period is also referred to as an imaging frame or a frame.

また、以下のようにして、撮像対象から入射した赤外線の総光量を求めるようにしている。
ここでは、図4(A)に示すように、ある画素において、撮像フレーム毎に撮像対象から入射する赤外線の総光量が時間変化するものとする。なお、図4(A)中の番号は、フレーム番号を示している。
In addition, the total amount of infrared light incident from the imaging target is obtained as follows.
Here, as shown in FIG. 4A, it is assumed that the total amount of infrared light incident from the imaging target for each imaging frame changes with time in a certain pixel. Note that the numbers in FIG. 4A indicate frame numbers.

本赤外線撮像装置の起動直後は、補償用赤外線照射部2を用いて補償用赤外線を照射していないため、1フレーム目の撮像時には、図4(C)に示すように、画素7に入射する赤外線の総光量は、撮像対象から入射した赤外線の総光量となる。
次に、図4(B)、図4(C)に示すように、1フレーム目の撮像時に画素7に入射する赤外線の総光量と目標値とのずれ量、即ち、1フレーム目の撮像時に画素7に入射する赤外線の総光量と目標値との差分に相当する光量の補償用赤外線を、次の2フレーム目の撮像時に、補償用赤外線照射部2から照射する。
Immediately after the activation of the infrared imaging device, the compensating infrared irradiation unit 2 is not used to irradiate the compensating infrared ray, and therefore the pixel 7 is incident upon imaging of the first frame as shown in FIG. The total amount of infrared light is the total amount of infrared light incident from the imaging target.
Next, as shown in FIGS. 4B and 4C, the amount of deviation between the total amount of infrared light incident on the pixel 7 and the target value when the first frame is imaged, that is, when the first frame is imaged. The compensation infrared irradiation unit 2 emits a compensation infrared ray having a light amount corresponding to the difference between the total amount of infrared rays incident on the pixel 7 and the target value.

ここで、目標値としては、赤外線検知素子7が正常に動作するフルレンジから1フレームで変化することが予想される撮像対象からの赤外線の光量の変化分のマージンを差し引いた値を設定するのが望ましい。
同様に、3フレーム目以降の撮像時にも、直前のフレームにおいて撮像対象から入射した赤外線の総光量と目標値との差分に相当する光量の補償用赤外線を、補償用赤外線照射部2から照射する。
Here, as the target value, a value obtained by subtracting a margin corresponding to a change in the amount of infrared light from the imaging target that is expected to change in one frame from the full range in which the infrared detection element 7 operates normally is set. desirable.
Similarly, at the time of imaging after the third frame, the compensation infrared irradiating unit 2 irradiates the compensation infrared irradiation unit 2 with the amount of light corresponding to the difference between the total amount of infrared light incident from the imaging target and the target value in the immediately preceding frame. .

この場合、2フレーム目以降の撮像時には、撮像対象から入射した赤外線の総光量を、次式により求めることができ、これに基づいてモニタ60に撮像した画像を表示させることができる。
撮像対象から入射した赤外線の総光量=画素が検知した赤外線の総光量−補償用赤外線照射部から照射した補償用赤外線の総光量
また、上述の場合、全てのフレームにおいて、画素7が検知する赤外線の総光量、即ち、撮像対象及び補償用赤外線照射部2から画素7に入射する赤外線の総光量は、目標値付近になる。そこで、ここでは、画素7が検知した赤外線の総光量(アナログ信号)をデジタル信号に変換するADコンバータ18の変換特性を、図4(D)に示すように、非線形曲線特性とし、目標値付近で細かく、それ以外で荒くなる特性としている。つまり、ADコンバータ18の量子化の区切りを目標値付近で細かく、それ以外で荒くしている。ADコンバータ18の変換特性としてこのような変換特性を用いることにより、フルレンジで高分解能を得ることができる。つまり、目標値付近に細かい分解能を与えることで、全フレームにおいて目標値付近になる画素7からの出力を高分解能でデジタル信号に変換でき、撮像対象からの赤外線の強度のフレーム毎の変化を確実に検知することができるようになる。
In this case, at the time of imaging from the second frame onward, the total amount of infrared light incident from the imaging target can be obtained by the following equation, and based on this, the image captured on the monitor 60 can be displayed.
The total amount of infrared light incident from the imaging target = the total amount of infrared light detected by the pixel−the total amount of infrared light for compensation irradiated from the compensation infrared irradiation unit In the above case, the infrared light detected by the pixel 7 in all frames The total amount of infrared light, that is, the total amount of infrared light incident on the pixel 7 from the imaging target and the compensating infrared irradiation unit 2 is near the target value. Therefore, here, the conversion characteristic of the AD converter 18 that converts the total amount of infrared light (analog signal) detected by the pixel 7 into a digital signal is a non-linear curve characteristic as shown in FIG. It is fine and rough. That is, the quantization delimiter of the AD converter 18 is fine near the target value, and rough elsewhere. By using such conversion characteristics as the conversion characteristics of the AD converter 18, high resolution can be obtained over the full range. In other words, by giving a fine resolution near the target value, the output from the pixel 7 that is near the target value in all frames can be converted into a digital signal with high resolution, and the change in the intensity of infrared rays from the imaging target for each frame is assured. Can be detected.

本実施形態では、制御演算部3は、各赤外線検知素子7によって検知された赤外線の強度及び補償用赤外線照射部2によって各赤外線検知素子7に照射した補償用赤外線の強度に基づいて、撮像対象から各赤外線検知素子7に入射した赤外線の強度を求めるようになっている。
ここでは、制御演算部3は、各赤外線検知素子7によって検知された赤外線の強度と、補償用赤外線照射部2によって各赤外線検知素子7に照射した補償用赤外線の強度との差を求め、撮像対象から各赤外線検知素子7に入射した赤外線の強度を求めるようになっている。
In the present embodiment, the control calculation unit 3 is based on the intensity of the infrared rays detected by each infrared detection element 7 and the intensity of the compensation infrared ray irradiated to each infrared detection element 7 by the compensation infrared irradiation unit 2. Thus, the intensity of the infrared light incident on each infrared detecting element 7 is obtained.
Here, the control calculation unit 3 obtains a difference between the intensity of the infrared rays detected by each infrared detection element 7 and the intensity of the infrared rays for compensation irradiated to each infrared detection element 7 by the compensation infrared irradiation unit 2. The intensity of infrared rays incident on each infrared detection element 7 from the object is obtained.

具体的には、制御演算部3は、図9に示すように、出力換算回路61と、補償用赤外線強度決定回路62と、メモリ回路63と、表示回路64と、タイミング制御回路65とを含むものとして構成される。
なお、制御演算部3を、制御演算回路ともいう。また、出力換算回路61及び補償用赤外線強度決定回路62を、演算回路ともいう。また、出力換算回路61、補償用赤外線強度決定回路62、メモリ回路63及び表示回路64を、信号処理回路ともいう。また、タイミング制御回路65を、制御回路、あるいは、コントローラともいう。
Specifically, as shown in FIG. 9, the control calculation unit 3 includes an output conversion circuit 61, a compensating infrared intensity determination circuit 62, a memory circuit 63, a display circuit 64, and a timing control circuit 65. Configured as a thing.
The control calculation unit 3 is also referred to as a control calculation circuit. The output conversion circuit 61 and the compensating infrared intensity determination circuit 62 are also referred to as an arithmetic circuit. The output conversion circuit 61, the compensating infrared intensity determination circuit 62, the memory circuit 63, and the display circuit 64 are also referred to as signal processing circuits. The timing control circuit 65 is also referred to as a control circuit or a controller.

ここで、出力換算回路61は、赤外線イメージセンサ7の読出回路チップ5からの各画素7の出力信号を、メモリ回路63に記憶されている各画素7の補償用赤外線強度設定値を用いて、撮像対象から各画素7に入射する赤外線の強度に相当する各画素7の出力信号に換算するものである。
ここでは、出力換算回路61は、読出回路チップ5に含まれるADコンバータ18で変換された各画素のAD変換値(デジタル信号値)を読み出し、これを図10に示すような変換特性(ここでは非線形の変換特性)に基づいて変換して、各画素7に入射した赤外線の強度に相当する信号として出力する回路を含む。この場合、各画素7に入射した赤外線の強度に相当する信号は、撮像対象からの赤外線の強度に相当する信号と補償用赤外線照射部2からの補償用赤外線の強度に相当する信号とを合わせたものである。
Here, the output conversion circuit 61 uses the compensation infrared intensity setting value of each pixel 7 stored in the memory circuit 63 as the output signal of each pixel 7 from the readout circuit chip 5 of the infrared image sensor 7. This is converted into an output signal of each pixel 7 corresponding to the intensity of infrared rays incident on each pixel 7 from the imaging target.
Here, the output conversion circuit 61 reads the AD conversion value (digital signal value) of each pixel converted by the AD converter 18 included in the reading circuit chip 5 and converts it into a conversion characteristic (here, shown in FIG. 10). And a circuit that outputs the signal corresponding to the intensity of the infrared light incident on each pixel 7. In this case, the signal corresponding to the intensity of the infrared light incident on each pixel 7 is a combination of the signal corresponding to the intensity of the infrared light from the imaging target and the signal corresponding to the intensity of the compensating infrared light from the compensating infrared irradiation unit 2. It is a thing.

そして、出力換算回路61は、図10に示すように、上述の各画素7に入射した赤外線の強度と、メモリ回路63から読み出した各画素7に照射している補償用赤外線強度設定値との差を求め、撮像対象から各画素7に入射する赤外線の強度に相当する信号を求めるようになっている。なお、このようにして求められた撮像対象から各画素7に入射する赤外線の強度に相当する信号を、換算後の各画素7の出力という。   Then, as shown in FIG. 10, the output conversion circuit 61 calculates the intensity of the infrared light incident on each pixel 7 described above and the compensation infrared intensity setting value applied to each pixel 7 read from the memory circuit 63. The difference is obtained, and a signal corresponding to the intensity of the infrared light incident on each pixel 7 from the object to be imaged is obtained. A signal corresponding to the intensity of infrared light incident on each pixel 7 from the imaging target thus obtained is referred to as an output of each pixel 7 after conversion.

補償用赤外線強度決定回路62は、図9に示すように、出力換算回路61によって換算された各画素7の出力と、目標赤外線強度値とに基づいて、補償用赤外線照射部2によって各画素7に照射する補償用赤外線の強度を決定し、決定した補償用赤外線強度設定値をメモリ回路63に記憶させるものである。
ここでは、補償用赤外線強度決定回路62は、図11に示すように、出力換算回路61によって換算された各画素7の出力と目標赤外線強度値との差分を、補償用赤外線照射部2によって各画素7に照射する補償用赤外線の強度、即ち、補償用赤外線強度設定値として決定するようになっている。
As shown in FIG. 9, the compensation infrared intensity determination circuit 62 uses the compensation infrared irradiation unit 2 to output each pixel 7 based on the output of each pixel 7 converted by the output conversion circuit 61 and the target infrared intensity value. The intensity of the compensation infrared ray to be irradiated to the laser beam is determined, and the determined compensation infrared ray intensity setting value is stored in the memory circuit 63.
Here, as shown in FIG. 11, the compensation infrared intensity determination circuit 62 calculates the difference between the output of each pixel 7 converted by the output conversion circuit 61 and the target infrared intensity value by the compensation infrared irradiation unit 2. The intensity of the compensation infrared ray irradiated to the pixel 7, that is, the compensation infrared intensity setting value is determined.

メモリ回路63は、図9に示すように、補償用赤外線強度決定回路62によって決定された画素毎の補償用赤外線強度設定値を記憶するものである。
表示回路64は、撮像された画像をモニタ60に表示させるために、出力換算回路61によって求められた各画素7の出力を変換する回路であって、例えばフォーマット変換回路やDA変換回路などである。
As shown in FIG. 9, the memory circuit 63 stores the compensation infrared intensity setting value for each pixel determined by the compensation infrared intensity determination circuit 62.
The display circuit 64 is a circuit that converts the output of each pixel 7 obtained by the output conversion circuit 61 in order to display the captured image on the monitor 60, and is, for example, a format conversion circuit or a DA conversion circuit. .

タイミング制御回路65は、制御演算部3の出力換算回路61、補償用赤外線強度決定回路62、メモリ回路63及び表示回路64、並びに、赤外線イメージセンサ1の読出回路チップ5、並びに、補償用赤外線照射部2のアレイ駆動回路チップ40に対して、所定のタイミングで制御信号として画素の選択信号を出力するものである。
このように構成される赤外線撮像装置では、以下のような処理が行なわれる。
The timing control circuit 65 includes an output conversion circuit 61 of the control calculation unit 3, a compensation infrared intensity determination circuit 62, a memory circuit 63 and a display circuit 64, a readout circuit chip 5 of the infrared image sensor 1, and a compensation infrared irradiation. A pixel selection signal is output as a control signal to the array drive circuit chip 40 of the section 2 at a predetermined timing.
In the infrared imaging apparatus configured as described above, the following processing is performed.

本赤外線撮像装置では、検知期間及び読出期間を含む1フレームの読出期間内に、タイミング制御回路65から出力される画素の選択信号を順番に切り替えることで、各画素7の出力(AD変換値)を順番に読み出して、処理を行なうようになっている。
ここでは、jフレーム、j+1フレームにおいて、i画素の出力を読み出して処理を行なう場合を例に挙げて、図12を参照しながら説明する。
In the infrared imaging device, the output (AD conversion value) of each pixel 7 is switched by sequentially switching the pixel selection signal output from the timing control circuit 65 within the reading period of one frame including the detection period and the reading period. Are sequentially read and processed.
Here, an example in which the output of i pixels is read and processed in the j frame and the j + 1 frame will be described with reference to FIG.

まず、図12(A)に示すように、jフレームにおいてi画素の出力を読み出す場合、タイミング制御回路65から画素の選択信号としてi画素を選択するための制御信号が出力される。このi画素を選択するための制御信号が出力されている期間が、i画素の出力を読み出す読出期間となる。
次に、図12(B)に示すように、出力換算回路61は、i画素を選択するための制御信号に基づいて、読出回路チップ5に含まれるADコンバータ18で変換されたi画素のAD変換値を読み出し、これを図10に示すような変換特性に基づいて変換して、i画素に入射した赤外線の強度に相当する信号として出力する。なお、i画素に入射した赤外線の強度に相当する信号に、図12(B)では符号(1)を付している。
First, as shown in FIG. 12A, when the output of the i pixel is read in the j frame, the timing control circuit 65 outputs a control signal for selecting the i pixel as the pixel selection signal. The period during which the control signal for selecting the i pixel is output is the readout period for reading the output of the i pixel.
Next, as shown in FIG. 12B, the output conversion circuit 61 converts the i pixel AD converted by the AD converter 18 included in the readout circuit chip 5 based on the control signal for selecting the i pixel. The conversion value is read out, converted based on the conversion characteristics as shown in FIG. 10, and output as a signal corresponding to the intensity of the infrared light incident on the i pixel. Note that the signal corresponding to the intensity of the infrared light incident on the i pixel is denoted by reference numeral (1) in FIG.

この例では、図12(C)に示すように、メモリ回路63に記憶されているi画素の補償用赤外線強度設定値に基づく強度の補償用赤外線が、補償用赤外線照射部2に含まれ、i画素に対応する位置に設けられたLED39によってi画素に照射されているものとする。このため、i画素に入射した赤外線の強度に相当する信号は、撮像対象からの赤外線の強度に相当する信号とi画素に対応する位置に設けられたLED39からの赤外線の強度に相当する信号とを合わせたものである。なお、i画素の補償用赤外線強度設定値、即ち、これに基づいて補償用赤外線照射部2から照射されている補償用赤外線の強度に、図12(C)では符号(2)を付している。   In this example, as shown in FIG. 12C, the compensation infrared irradiating unit 2 includes a compensation infrared ray having an intensity based on the compensation infrared intensity setting value of the i pixel stored in the memory circuit 63. It is assumed that the i pixel is irradiated by the LED 39 provided at a position corresponding to the i pixel. For this reason, the signal corresponding to the intensity of the infrared ray incident on the i pixel is a signal corresponding to the intensity of the infrared ray from the imaging target and a signal corresponding to the intensity of the infrared ray from the LED 39 provided at the position corresponding to the i pixel. Are combined. In FIG. 12C, reference numeral (2) is added to the compensation infrared intensity setting value for i pixel, that is, the intensity of the compensation infrared radiation emitted from the compensation infrared irradiation unit 2 based on this. Yes.

次に、出力換算回路61は、メモリ回路63からi画素の補償用赤外線強度設定値を読み出す。そして、図12(D)に示すように、上述のi画素に入射した赤外線の強度に相当する信号と、メモリ回路63から読み出したi画素の補償用赤外線強度設定値との差を求め、撮像対象からi画素に入射する赤外線の強度に相当する信号、即ち、換算後のi画素の出力を求める。なお、換算後のi画素の出力に、図12(D)では符号(3)を付している。   Next, the output conversion circuit 61 reads the compensation infrared intensity setting value for i pixel from the memory circuit 63. Then, as shown in FIG. 12D, the difference between the signal corresponding to the intensity of the infrared light incident on the above-described i pixel and the compensation infrared intensity setting value of the i pixel read from the memory circuit 63 is obtained, and imaging is performed. A signal corresponding to the intensity of infrared rays incident on the i pixel from the object, that is, the output of the converted i pixel is obtained. Note that the converted i pixel output is denoted by reference numeral (3) in FIG.

このようにして出力換算回路61によって求められたi画素の出力は、表示回路64へ送られ、モニタ60に表示されることになる。つまり、図12(F)に示すように、今回のjフレームにおいて出力換算回路61から出力されたi画素の出力によって、前回のj−1フレームにおいて出力換算回路61から出力されたi画素の出力が置き換えられ、モニタ60に表示されることになる。なお、今回のjフレームにおいて出力換算回路61から出力されたi画素の出力は、次回のj+1フレームにおいて出力換算回路61から出力されたi画素の出力によって再度置き換えられることになる。なお、i画素の出力に、図12(F)でが符号(5)を付している。   Thus, the output of the i pixel obtained by the output conversion circuit 61 is sent to the display circuit 64 and displayed on the monitor 60. That is, as shown in FIG. 12F, the output of the i pixel output from the output conversion circuit 61 in the previous j-1 frame is output by the output of the i pixel output from the output conversion circuit 61 in the current j frame. Will be replaced and displayed on the monitor 60. Note that the output of the i pixel output from the output conversion circuit 61 in the current j frame is again replaced by the output of the i pixel output from the output conversion circuit 61 in the next j + 1 frame. In FIG. 12F, reference numeral (5) is attached to the output of the i pixel.

次に、図12(E)に示すように、補償用赤外線強度決定回路62は、出力換算回路61からのi画素の出力と、目標赤外線強度値との差分を、i画素に対応する位置に設けられたLED39によってi画素に照射する補償用赤外線の強度として決定する。そして、決定した補償用赤外線強度設定値をメモリ回路63に記憶させる。なお、目標赤外線強度値は、図12(E)中、符号(7)で示しており、決定された補償用赤外線強度値は、図12(E)中、符合(4)で示している。つまり、今回のjフレームにおいて決定したi画素の補償用赤外線強度設定値によって前回のj−1フレームにおいて決定したi画素の補償用赤外線強度設定値を書き換えることで、メモリ回路63に記憶されているi画素の補償用赤外線強度設定値を更新する。   Next, as shown in FIG. 12E, the compensation infrared intensity determination circuit 62 sets the difference between the output of the i pixel from the output conversion circuit 61 and the target infrared intensity value to a position corresponding to the i pixel. This is determined as the intensity of the compensating infrared ray that is emitted to the i pixel by the LED 39 provided. The determined compensation infrared intensity setting value is stored in the memory circuit 63. The target infrared intensity value is indicated by reference numeral (7) in FIG. 12E, and the determined infrared intensity value for compensation is indicated by reference numeral (4) in FIG. 12E. That is, the compensation infrared intensity setting value for i pixel determined in the previous j−1 frame is rewritten with the compensation infrared intensity setting value for i pixel determined in the current j frame, and stored in the memory circuit 63. Update the compensation infrared intensity setting value of i pixel.

次に、補償用赤外線照射部2のアレイ駆動回路チップ40には、メモリ回路63に記憶されている、更新されたi画素の補償用赤外線強度設定値が入力される。そして、図12(G)に示すように、i画素に接続されているPWM回路50でPWM変換された信号が、LED駆動回路52によって、i画素に対応する位置に設けられたLED39へ出力される。これにより、i画素に対応する位置に設けられたLED39が駆動され、更新されたi画素の補償用赤外線強度設定値に基づく強度の補償用赤外線がi画素に照射される。   Next, the updated infrared intensity setting value for i pixel stored in the memory circuit 63 is input to the array drive circuit chip 40 of the infrared irradiation unit 2 for compensation. Then, as shown in FIG. 12G, the signal PWM-converted by the PWM circuit 50 connected to the i pixel is output by the LED drive circuit 52 to the LED 39 provided at the position corresponding to the i pixel. The As a result, the LED 39 provided at the position corresponding to the i pixel is driven, and the i-pixel is irradiated with the compensation infrared ray having an intensity based on the updated compensation infrared intensity setting value of the i-pixel.

したがって、本実施形態にかかる赤外線撮像装置によれば、赤外線イメージセンサ1の各画素7を構成する赤外線検知素子間で温度差が生じてしまうことによってS/N比が低下してしまうのを防止できるという利点がある。特に、各画素7が微細になった高解像度の赤外線撮像装置を高いS/N比を維持したまま実現することができる。
また、上述のように、検知期間内に各赤外線検知素子7に入射する赤外線の総光量が同一になるようにすることで、検知期間内に各赤外線検知素子7に流れる総電流量が同一になり、各赤外線検知素子7に接続される読出回路チップ5内のキャパシタ19に蓄積される総電位も同一になる。このため、読出回路チップ5の内部の消費電力の変動に起因してS/N比が低下してしまうのを防止することができる。
Therefore, according to the infrared imaging device according to the present embodiment, it is possible to prevent the S / N ratio from being lowered due to a temperature difference between the infrared detection elements constituting each pixel 7 of the infrared image sensor 1. There is an advantage that you can. In particular, a high-resolution infrared imaging device in which each pixel 7 is fine can be realized while maintaining a high S / N ratio.
Further, as described above, by making the total amount of infrared light incident on each infrared detection element 7 within the detection period the same, the total amount of current flowing through each infrared detection element 7 within the detection period is the same. Thus, the total potential accumulated in the capacitor 19 in the readout circuit chip 5 connected to each infrared detection element 7 is also the same. For this reason, it is possible to prevent the S / N ratio from being lowered due to fluctuations in power consumption inside the readout circuit chip 5.

つまり、検知期間内に各赤外線検知素子7に入射する赤外線の総光量にばらつきがあると、読出回路チップ5内の回路に流れる総電流量もばらつくことになる。
図13に示すように、読出回路チップ5内では、センサーアレイ4に備えられる各画素(赤外線検知素子)7に流れる電流を、積分回路15に備えられるキャパシタ19で一定時間積分後、インピーダンス変換回路30を通し、ADコンバータ18によってデジタル信号に変換して出力する。例えば、Libin Yao, “CMOS readout circuit design for infrared image sensors”, Proc. Of SPIE, Vol.7384, 73841B (2009)参照。
That is, if there is a variation in the total amount of infrared light incident on each infrared detection element 7 within the detection period, the total amount of current flowing through the circuits in the readout circuit chip 5 also varies.
As shown in FIG. 13, in the readout circuit chip 5, the current flowing through each pixel (infrared detecting element) 7 provided in the sensor array 4 is integrated for a certain time by the capacitor 19 provided in the integration circuit 15, and then the impedance conversion circuit. 30 is converted into a digital signal by the AD converter 18 and output. For example, see Libin Yao, “CMOS readout circuit design for infrared image sensors”, Proc. Of SPIE, Vol. 7384, 73841B (2009).

インピーダンス変換回路30やADコンバータ18は、各画素7のそれぞれに備えられているわけではなく、切替回路16(マルチプレクサ)によって切り替えることで、各画素7からの出力信号を順次シーケンシャルに読み出すようになっている。
この場合、各画素7に流れる総電流量がばらつくと、各画素7に接続されたキャパシタ19に蓄積される総電位もばらつき、切替回路16以降の回路において、この画素毎に異なる電位に対応して充放電が繰り返されることになる。これにより、読出回路チップ5の内部の消費電力が変動し、これがノイズの原因となって、S/N比が低下してしまうことになる。
The impedance conversion circuit 30 and the AD converter 18 are not provided in each of the pixels 7 but are switched by the switching circuit 16 (multiplexer) so that the output signals from the pixels 7 are sequentially read out sequentially. ing.
In this case, if the total amount of current flowing through each pixel 7 varies, the total potential accumulated in the capacitor 19 connected to each pixel 7 also varies, and the circuit after the switching circuit 16 corresponds to a different potential for each pixel. Thus, charging / discharging is repeated. As a result, the power consumption inside the reading circuit chip 5 fluctuates, which causes noise, and the S / N ratio decreases.

また、冷却型赤外線イメージセンサでは、読出回路チップ5を冷却系35内に設置し、それ以降の回路を外部に設置する。この場合、読出回路チップ5に外部の電源を接続するための配線を、熱伝導の関係などで、低抵抗の配線にするのは難しい。つまり、読出回路チップ5に外部の電源を接続するための配線には、熱伝導を下げるために細い電線が使われる。例えば、Mark D. Nelson et al., “General noise processes in hybrid infrared focal plane arrays”, OPTICAL ENGINEERING, Vol. 30, No.11, pp.1682-1700, November 1991参照。このため、読出回路チップ5の内部の消費電力(消費電流)が変動すると、この配線部分のインピーダンスの影響で、読出回路チップ5の内部の電源電圧が変動しやすく、これがノイズの原因となって、S/N比が低下してしまうことになる。   In the cooled infrared image sensor, the readout circuit chip 5 is installed in the cooling system 35, and the subsequent circuits are installed outside. In this case, it is difficult to make the wiring for connecting the external power source to the readout circuit chip 5 a low resistance wiring because of heat conduction. That is, a thin electric wire is used for wiring for connecting an external power source to the readout circuit chip 5 in order to reduce heat conduction. For example, see Mark D. Nelson et al., “General noise processes in hybrid infrared focal plane arrays”, OPTICAL ENGINEERING, Vol. 30, No. 11, pp.1682-1700, November 1991. For this reason, when the power consumption (current consumption) inside the read circuit chip 5 fluctuates, the power supply voltage inside the read circuit chip 5 tends to fluctuate due to the impedance of the wiring portion, which causes noise. The S / N ratio will decrease.

これに対し、上述のように、検知期間内に各赤外線検知素子7に入射する赤外線の総光量が同一になるようにすることで、検知期間内に各赤外線検知素子7に流れる総電流量を同一にすることができる。これにより、各赤外線検知素子7に接続される読出回路チップ5内のキャパシタ19に蓄積される総電位も同一になるため、読出回路チップ5の内部の消費電力の変動に起因してS/N比が低下してしまうのを防止することができる。   On the other hand, as described above, by making the total amount of infrared light incident on each infrared detection element 7 within the detection period equal, the total amount of current flowing through each infrared detection element 7 within the detection period can be reduced. Can be the same. As a result, the total potential accumulated in the capacitor 19 in the readout circuit chip 5 connected to each infrared detection element 7 is also the same, so that the S / N is caused by fluctuations in the power consumption inside the readout circuit chip 5. It can prevent that ratio falls.

なお、上述の実施形態では、赤外線イメージセンサ1の各画素7を構成する赤外線検知素子間で温度差が生じてしまうことによってS/N比が低下してしまうのを防止するために、検知期間内に各赤外線検知素子7に入射する赤外線の総光量が同一になるようにしている。この結果、検知期間内に各赤外線検知素子7に流れる総電流量が同一になるため、読出回路チップ5の内部の消費電力の変動に起因してS/N比が低下してしまうのも防止することができる。   In the above-described embodiment, in order to prevent the S / N ratio from being lowered due to a temperature difference between the infrared detection elements constituting each pixel 7 of the infrared image sensor 1, the detection period is set. The total amount of infrared light incident on each infrared detecting element 7 is made equal. As a result, since the total amount of current flowing through each infrared detection element 7 during the detection period is the same, it is possible to prevent the S / N ratio from being reduced due to fluctuations in power consumption inside the readout circuit chip 5. can do.

一方、読出回路チップ5の内部の消費電力の変動に起因してS/N比が低下してしまうのを防止するためには、検知期間内に各赤外線検知素子7に流れる総電流量が同一になるようにすれば良い。つまり、制御演算部3を、赤外線検知素子7に流れる電流を検知する検知期間内に複数の赤外線検知素子7のそれぞれに流れる電流量が同一になるように、補償用赤外線照射部2によって複数の赤外線検知素子7のそれぞれに照射する補償用赤外線の強度を制御するとともに、複数の赤外線検知素子7のそれぞれによって検知された赤外線の強度及び補償用赤外線照射部2によって複数の赤外線検知素子7のそれぞれに照射した補償用赤外線の強度に基づいて、撮像対象から複数の赤外線検知素子のそれぞれに入射した赤外線の強度を求めるように構成すれば良い。   On the other hand, in order to prevent the S / N ratio from decreasing due to fluctuations in power consumption inside the readout circuit chip 5, the total amount of current flowing through each infrared detection element 7 within the detection period is the same. It should have become. In other words, the control calculation unit 3 causes the compensating infrared irradiation unit 2 to make a plurality of currents flowing through each of the plurality of infrared detection elements 7 within the detection period for detecting the current flowing through the infrared detection element 7. While controlling the intensity | strength of the compensation infrared rays irradiated to each of the infrared detection elements 7, the infrared intensity detected by each of the plurality of infrared detection elements 7 and each of the plurality of infrared detection elements 7 by the compensation infrared irradiation unit 2 The intensity of the infrared rays incident on each of the plurality of infrared detection elements from the imaging target may be obtained based on the intensity of the compensating infrared rays applied to the.

この場合、上述の実施形態において、検知期間内に各赤外線検知素子7に入射する赤外線の総光量が同一になるように、制御演算部3の補償用赤外線強度決定回路62で各画素7に照射する補償用赤外線強度設定値を決定するために用いる目標赤外線強度値として、一のフレームにおいて全ての画素に対して同一の目標赤外線強度値を用い、かつ、全てのフレームにおいて同一の目標赤外線強度値を用いているのに代えて、制御演算部3の補償用赤外線強度決定回路62で各画素7に照射する補償用赤外線強度設定値を決定するために用いる目標値として、一のフレームにおいて全ての画素に対して同一の目標値を用いれば良く、全てのフレームにおいて同一の目標値を用いる必要はない。つまり、各フレームにおいて異なる目標値を用いても良い。これにより、検知期間内に各赤外線検知素子7に流れる総電流量が同一になるようにすることができる。なお、この場合、各画素7に流れた電流量、即ち、出力換算回路61による換算前の各画素7の出力が、目標値としての目標電流量になるように、各画素7に照射する補償用赤外線の強度を制御することになる。   In this case, in the above-described embodiment, each pixel 7 is irradiated by the compensating infrared intensity determination circuit 62 of the control calculation unit 3 so that the total amount of infrared light incident on each infrared detection element 7 is the same during the detection period. As the target infrared intensity value used to determine the compensation infrared intensity setting value to be used, the same target infrared intensity value is used for all pixels in one frame, and the same target infrared intensity value is used in all frames. As a target value used for determining the compensation infrared intensity setting value to be irradiated to each pixel 7 by the compensation infrared intensity determination circuit 62 of the control calculation unit 3, all the values in one frame are used. The same target value may be used for the pixels, and it is not necessary to use the same target value in all frames. That is, a different target value may be used for each frame. As a result, the total amount of current flowing through each infrared detection element 7 within the detection period can be made the same. In this case, the amount of current flowing to each pixel 7, that is, the compensation applied to each pixel 7 so that the output of each pixel 7 before conversion by the output conversion circuit 61 becomes a target current amount as a target value. This will control the intensity of the infrared.

また、上述の実施形態では、補償用赤外線照射部2を、発光素子アレイ38と、アレイ駆動回路チップ40と、レンズ41と、ハーフミラー42とを含むものとして構成しているが、これに限られるものではない。
例えば、補償用赤外線照射部2を、上述の実施形態の発光素子アレイ38及びアレイ駆動回路チップ40に代えて、図14に示すように、複数の発熱抵抗素子72を備える発熱抵抗素子アレイ70と、バンドパスフィルタ71とを備えるものとして構成しても良い。つまり、補償用赤外線照射部2を、複数の赤外線検知素子7のそれぞれに対応して設けられ、赤外線を放射する複数の発熱抵抗素子72を備える発熱抵抗素子アレイ70と、発熱抵抗素子72から放射された赤外線のうち補償用赤外線の波長のみを通すバンドパスフィルタ71とを含むものとして構成しても良い。この場合も、上述の実施形態と同様に、レンズと、ハーフミラーとを含むものとするのが好ましい。なお、発熱抵抗素子72を、ヒータ素子、あるいは、抵抗素子ともいう。
In the above-described embodiment, the compensation infrared irradiation unit 2 is configured to include the light emitting element array 38, the array drive circuit chip 40, the lens 41, and the half mirror 42. However, the present invention is not limited to this. It is not something that can be done.
For example, instead of the light emitting element array 38 and the array drive circuit chip 40 in the above-described embodiment, the compensating infrared irradiation unit 2 is replaced with a heating resistor element array 70 including a plurality of heating resistor elements 72 as shown in FIG. The band-pass filter 71 may be provided. That is, the compensating infrared irradiation unit 2 is provided corresponding to each of the plurality of infrared detection elements 7, and radiates from the heating resistance element array 70 including the plurality of heating resistance elements 72 that emit infrared rays. A band pass filter 71 that passes only the wavelength of the compensating infrared ray among the infrared rays that have been emitted may be included. Also in this case, it is preferable to include a lens and a half mirror as in the above-described embodiment. The heating resistance element 72 is also referred to as a heater element or a resistance element.

具体的には、発熱抵抗素子アレイ70は、例えばSi基板73上にアレイ駆動回路74及び複数のPWM回路75を備えるSi集積回路基板の表面に、各PWM回路75のそれぞれに接続されるように、例えば金属薄膜などによって発熱抵抗素子72を形成したものである。つまり、発熱抵抗素子アレイ70は、例えばSi基板73上に形成されており、例えば金属薄膜などからなる複数の発熱抵抗素子72と、各発熱抵抗素子72に接続された複数のPWM回路75と、アレイ駆動回路74とを備える。このように、発熱抵抗素子アレイ70は、発熱抵抗素子72毎にPWM回路75を備え、これらのPWM回路75によって各発熱抵抗素子72に流す電流(電力)を制御することで、発熱抵抗素子72毎に温度を制御することができるようになっている。このようにして、発熱抵抗素子72毎に温度を制御することで、発熱抵抗素子72毎に、発熱抵抗素子72が放射する赤外線の強度を制御することができる。この場合、発熱抵抗素子72から放射される赤外線は、撮像対象からバンドパスフィルタ36(図3参照)を介して赤外線検知素子7に入射する赤外線の波長以外の波長の赤外線も含むものとなる。このため、撮像対象からバンドパスフィルタ35を介して赤外線検知素子7に入射する赤外線の波長と同じ波長の赤外線を透過するバンドパスフィルタ71を用いるようにしている。これにより、撮像対象からバンドパスフィルタ35を介して赤外線検知素子7に入射する赤外線と同じ波長の赤外線が、補償用赤外線照射部2から、即ち、発熱抵抗素子アレイ70からバンドパスフィルタ71を介して、補償用赤外線として出射されるようになっている。   Specifically, the heating resistor element array 70 is connected to each of the PWM circuits 75 on the surface of a Si integrated circuit substrate including, for example, an array drive circuit 74 and a plurality of PWM circuits 75 on a Si substrate 73. For example, the heating resistance element 72 is formed of a metal thin film or the like. That is, the heating resistor element array 70 is formed on, for example, the Si substrate 73, and includes a plurality of heating resistor elements 72 made of, for example, a metal thin film, and a plurality of PWM circuits 75 connected to the heating resistor elements 72, And an array drive circuit 74. As described above, the heating resistor element array 70 includes the PWM circuit 75 for each heating resistor element 72, and by controlling the current (electric power) flowing through each heating resistor element 72 by the PWM circuit 75, the heating resistor element 72. The temperature can be controlled every time. In this way, by controlling the temperature for each heating resistance element 72, the intensity of infrared rays emitted from the heating resistance element 72 can be controlled for each heating resistance element 72. In this case, the infrared rays radiated from the heating resistor element 72 include infrared rays having a wavelength other than that of the infrared rays incident on the infrared detection element 7 from the imaging target via the band pass filter 36 (see FIG. 3). For this reason, a band pass filter 71 that transmits infrared light having the same wavelength as the infrared light incident on the infrared detecting element 7 from the imaging target via the band pass filter 35 is used. As a result, infrared light having the same wavelength as the infrared light incident on the infrared detecting element 7 from the imaging target via the bandpass filter 35 is transmitted from the compensating infrared irradiation unit 2, that is, from the heating resistor element array 70 via the bandpass filter 71. Thus, it is emitted as a compensating infrared ray.

また、上述の実施形態では、赤外線検知素子7によって検知しうる波長を持つ補償用赤外線を照射する補償用赤外線照射部2を用いているが、これに限られるものではない。例えば、赤外線検知素子によって検知しうる波長以外の波長を持つ補償用赤外線を照射する補償用赤外線照射部を用いても良い。つまり、赤外線検知素子によって検知しうる波長以外の波長を持つ補償用赤外線を出射する複数の発光素子を備える発光素子アレイを用いても良い。例えば、撮像対象と赤外線検知素子アレイとの間に設けられたバンドパスフィルタ、即ち、撮像対象からの赤外線のうち撮像したい波長の赤外線のみを透過するバンドパスフィルタを透過する波長以外の波長を持つ赤外線を出射する複数のLEDを備えるLEDアレイを用いても良い。   In the above-described embodiment, the compensation infrared irradiation unit 2 that emits the compensation infrared radiation having a wavelength that can be detected by the infrared detection element 7 is used. However, the present invention is not limited to this. For example, a compensation infrared irradiation unit that emits compensation infrared light having a wavelength other than the wavelength that can be detected by the infrared detection element may be used. That is, a light-emitting element array including a plurality of light-emitting elements that emit compensating infrared rays having wavelengths other than those that can be detected by the infrared detection elements may be used. For example, a band-pass filter provided between the imaging target and the infrared detection element array, that is, a wavelength other than a wavelength that transmits a band-pass filter that transmits only infrared light having a wavelength to be imaged among infrared rays from the imaging target. You may use the LED array provided with several LED which radiate | emits infrared rays.

この場合、各赤外線検知素子によって検知される赤外線の強度は、補償用赤外線の強度に関係なく、撮像対象から入射する赤外線の強度によって変化することになる。
このため、赤外線撮像装置は、赤外線検知素子に流れる電流を検知する検知期間内に複数の赤外線検知素子のそれぞれに入射する総光量が同一になるように、赤外線照射部によって複数の赤外線検知素子のそれぞれに照射する補償用赤外線の強度を制御する制御演算部を備えるものとすれば良い。つまり、上述の実施形態のように、制御演算部によって、複数の赤外線検知素子のそれぞれによって検知された赤外線の強度及び赤外線照射部によって複数の赤外線検知素子のそれぞれに照射した補償用赤外線の強度に基づいて、撮像対象から複数の赤外線検知素子のそれぞれに入射した赤外線の強度を求める必要がない。
In this case, the intensity of the infrared rays detected by each infrared detection element changes depending on the intensity of the infrared rays incident from the imaging target, regardless of the intensity of the compensating infrared ray.
For this reason, the infrared imaging device has a plurality of infrared detection elements arranged by the infrared irradiation unit so that the total amount of light incident on each of the plurality of infrared detection elements is the same within a detection period in which a current flowing through the infrared detection element is detected. What is necessary is just to provide the control calculating part which controls the intensity | strength of the compensation infrared rays irradiated to each. That is, as in the above-described embodiment, the control calculation unit sets the intensity of the infrared rays detected by each of the plurality of infrared detection elements and the intensity of the infrared rays for compensation irradiated to each of the plurality of infrared detection elements by the infrared irradiation unit. Based on this, it is not necessary to obtain the intensity of the infrared light incident on each of the plurality of infrared detection elements from the imaging target.

この場合、上述の実施形態における出力換算回路61に代えて、出力換算回路を、赤外線イメージセンサの読出回路チップからの各画素の出力を、撮像対象から各画素に入射する赤外線の強度に相当する信号に換算するものとする。つまり、出力換算回路を、読出回路チップに含まれるADコンバータで変換された各画素のAD変換値(デジタル信号値)を読み出し、これを図15に示すような変換特性(ここでは線形の変換特性)に基づいて変換して、撮像対象から各画素に入射する赤外線の強度に相当する信号を求める回路を含むものとする。なお、撮像対象から各画素に入射する赤外線の強度に相当する信号を、換算後の各画素の出力という。   In this case, instead of the output conversion circuit 61 in the above-described embodiment, the output conversion circuit corresponds to the output of each pixel from the readout circuit chip of the infrared image sensor, and the intensity of infrared light incident on each pixel from the imaging target. It shall be converted into a signal. That is, the output conversion circuit reads the AD conversion value (digital signal value) of each pixel converted by the AD converter included in the reading circuit chip, and converts it into a conversion characteristic (here, linear conversion characteristic) as shown in FIG. ) To obtain a signal corresponding to the intensity of infrared light incident on each pixel from the imaging target. A signal corresponding to the intensity of infrared light incident on each pixel from the imaging target is referred to as an output of each pixel after conversion.

また、赤外線検知素子によって検知しうる波長以外の波長を持つ補償用赤外線に対しては、赤外線検知素子は感度を持たない。つまり、赤外線検知素子によって検知しうる波長以外の波長を持つ補償用赤外線は、赤外線検知素子に吸収されない。これに対し、撮像対象から赤外線検知素子に入射する赤外線に対しては、赤外線検知素子は感度を持ち、赤外線検知素子に吸収される。このため、撮像対象からの赤外線が赤外線検知素子に入射することによる赤外線検知素子の温度変化と、赤外線検知素子によって検知しうる波長以外の波長を持つ補償用赤外線が赤外線検知素子に照射されることによる赤外線検知素子の温度変化とが異なることになる。   Further, the infrared detecting element has no sensitivity to the compensating infrared light having a wavelength other than the wavelength that can be detected by the infrared detecting element. That is, compensation infrared light having a wavelength other than the wavelength that can be detected by the infrared detection element is not absorbed by the infrared detection element. On the other hand, the infrared detection element has sensitivity to infrared rays incident on the infrared detection element from the object to be imaged and is absorbed by the infrared detection element. For this reason, the infrared detecting element is irradiated with a compensating infrared ray having a wavelength other than the wavelength change that can be detected by the infrared detecting element due to the change in temperature of the infrared detecting element caused by the infrared ray from the imaging target entering the infrared detecting element. This is different from the temperature change of the infrared detecting element.

そこで、上述の実施形態における補償用赤外線強度決定回路62に代えて、補償用赤外線強度決定回路を、出力換算回路によって換算された各画素の出力と目標赤外線強度値との差分を、図16に示すような変換特性を持つ変換表(換算表)を用いて変換して、補償用赤外線照射部によって各画素に照射する補償用赤外線の強度を決定し、決定した補償用赤外線強度設定値をメモリ回路に記憶させるようにする。この場合、図16に示すような変換特性を持つ変換表として、赤外線検知素子によって検知しうる波長を持つ赤外線の強度に対する赤外線検知素子の温度変化量と、赤外線検知素子によって検知しうる波長以外の波長を持つ赤外線の強度に対する赤外線検知素子の温度変化量との対応関係に基づいて、同等の温度変化を生じる、赤外線検知素子によって検知しうる波長を持つ赤外線の強度(素子検知赤外線強度)と、赤外線検知素子によって検知しうる波長以外の波長を持つ赤外線の強度(素子非検知赤外線強度)との関係を予め求めておく。
[第2実施形態]
次に、第2実施形態にかかる赤外線撮像装置について、図17〜図19を参照しながら説明する。
Therefore, in place of the compensation infrared intensity determination circuit 62 in the above-described embodiment, the difference between the output of each pixel converted by the output conversion circuit and the target infrared intensity value is shown in FIG. Conversion is performed using a conversion table (conversion table) having the conversion characteristics as shown, the intensity of the compensation infrared rays irradiated to each pixel is determined by the compensation infrared irradiation unit, and the determined infrared intensity setting value for compensation is stored in the memory It is stored in the circuit. In this case, as a conversion table having conversion characteristics as shown in FIG. 16, the temperature change amount of the infrared detection element with respect to the intensity of infrared having a wavelength that can be detected by the infrared detection element, and the wavelength other than the wavelength that can be detected by the infrared detection element Based on the correspondence relationship between the temperature change amount of the infrared detection element with respect to the intensity of the infrared ray having the wavelength, the intensity of the infrared ray having the wavelength that can be detected by the infrared detection element (element detection infrared intensity) A relationship with the intensity of infrared rays having a wavelength other than the wavelength that can be detected by the infrared detection element (element non-detection infrared intensity) is obtained in advance.
[Second Embodiment]
Next, an infrared imaging device according to the second embodiment will be described with reference to FIGS.

本実施形態にかかる赤外線撮像装置は、上述の第1実施形態及びその変形例のものに対し、補償用赤外線照射部2の構成が異なる。
つまり、本赤外線撮像装置は、図17に示すように、赤外線を放射する温度板80、81と、バンドパスフィルタ82と、マイクロミラーアレイ83とを含む補償用赤外線照射部を備える。
The infrared imaging device according to the present embodiment is different in the configuration of the compensating infrared irradiation unit 2 from the above-described first embodiment and the modifications thereof.
That is, as shown in FIG. 17, the infrared imaging device includes a compensating infrared irradiation unit including temperature plates 80 and 81 that emit infrared rays, a band-pass filter 82, and a micromirror array 83.

ここで、温度板80、81は、一定の温度になっている一定温度板である。
ここでは、温度板として、2つの温度板、即ち、低温の温度板80と高温の温度板81とを用いている。ここで、低温の温度板80は、赤外線検知素子7の温度と同じか又はそれよりも高い温度になっている温度板である。また、高温の温度板81は、低温の温度板80よりも高い温度になっている温度板である。
Here, the temperature plates 80 and 81 are constant temperature plates that are at a constant temperature.
Here, two temperature plates, that is, a low temperature plate 80 and a high temperature plate 81 are used as the temperature plates. Here, the low temperature plate 80 is a temperature plate having a temperature equal to or higher than the temperature of the infrared detecting element 7. The high temperature plate 81 is a temperature plate having a temperature higher than that of the low temperature plate 80.

また、温度板80、81は、図19に示すように、例えばAl等の熱伝導率の良い板であり、ヒータ85及び温度センサ86が取り付けられている。そして、ヒータ85及び温度センサ86には温度制御回路87が接続されており、温度制御回路87によって温度センサ86からの検出値に基づいてヒータ85の出力を制御することで、温度板80、81を一定温度に保つことができるようになっている。ここでは、温度制御回路87は、温度センサ86からの検出値が一定値になるようにヒータ85の出力を制御するようになっている。   Further, as shown in FIG. 19, the temperature plates 80 and 81 are plates having a good thermal conductivity such as Al, for example, and are attached with a heater 85 and a temperature sensor 86. A temperature control circuit 87 is connected to the heater 85 and the temperature sensor 86, and the temperature control circuit 87 controls the output of the heater 85 based on the detected value from the temperature sensor 86, whereby the temperature plates 80 and 81 are controlled. Can be maintained at a constant temperature. Here, the temperature control circuit 87 controls the output of the heater 85 so that the detection value from the temperature sensor 86 becomes a constant value.

なお、温度板80、81を、赤外線源、赤外線放射源、あるいは、補償光光源ともいう。また、一定温度板を、均一温度板、あるいは、定温板ともいう。また、温度制御回路87を、温度コントローラともいう。
バンドパスフィルタ82は、図17に示すように、温度板80、81から放射された赤外線のうち補償用赤外線の波長のみを通すものである。
The temperature plates 80 and 81 are also referred to as an infrared source, an infrared radiation source, or a compensation light source. The constant temperature plate is also referred to as a uniform temperature plate or a constant temperature plate. The temperature control circuit 87 is also referred to as a temperature controller.
As shown in FIG. 17, the band pass filter 82 passes only the wavelength of the compensating infrared ray out of the infrared rays radiated from the temperature plates 80 and 81.

ここで、補償用赤外線としては、上述の第1実施形態のように、赤外線検知素子7によって検知しうる波長を持つ赤外線を用いても良いし、上述の第1実施形態の変形例のように、赤外線検知素子7によって検知しうる波長以外の波長を持つ赤外線を用いても良い。
赤外線検知素子7によって検知しうる波長を持つ赤外線を補償用赤外線として用いる場合、バンドパスフィルタ82は、撮像対象と赤外線検知素子アレイ4との間に設けられるバンドパスフィルタ36(図3参照)、即ち、撮像対象からの赤外線のうち撮像したい波長の赤外線のみを透過するバンドパスフィルタと同じバンドパスフィルタを用いれば良い。この場合、補償用赤外線照射部2は、赤外線検知素子7によって検知しうる波長を持つ補償用赤外線を照射する補償用赤外線照射部である。
Here, as the compensation infrared ray, an infrared ray having a wavelength that can be detected by the infrared detection element 7 may be used as in the first embodiment described above, or as a modification of the first embodiment described above. Infrared rays having wavelengths other than those that can be detected by the infrared detecting element 7 may be used.
When infrared light having a wavelength that can be detected by the infrared detection element 7 is used as compensation infrared light, the bandpass filter 82 includes a bandpass filter 36 (see FIG. 3) provided between the imaging target and the infrared detection element array 4. In other words, the same band pass filter as the band pass filter that transmits only the infrared ray having the wavelength to be imaged among the infrared rays from the imaging target may be used. In this case, the compensating infrared irradiating unit 2 is a compensating infrared irradiating unit that emits a compensating infrared ray having a wavelength that can be detected by the infrared detecting element 7.

一方、赤外線検知素子7によって検知しうる波長以外の波長を持つ赤外線を補償用赤外線として用いる場合、バンドパスフィルタ82は、撮像対象と赤外線検知素子アレイとの間に設けられたバンドパスフィルタ36(図3参照)と異なるバンドパスフィルタ、即ち、撮像対象と赤外線検知素子アレイ4との間に設けられたバンドパスフィルタ36が透過する波長以外の波長を持つ赤外線を透過するバンドパスフィルタを用いれば良い。この場合、補償用赤外線照射部2は、赤外線検知素子7によって検知しうる波長以外の波長を持つ補償用赤外線を照射する赤外線照射部である。   On the other hand, when an infrared ray having a wavelength other than the wavelength that can be detected by the infrared detection element 7 is used as the compensation infrared ray, the bandpass filter 82 is a bandpass filter 36 (between the imaging target and the infrared detection element array). If a band-pass filter different from that shown in FIG. 3 is used, that is, a band-pass filter that transmits infrared light having a wavelength other than the wavelength transmitted by the band-pass filter 36 provided between the imaging target and the infrared detection element array 4. good. In this case, the compensating infrared irradiating unit 2 is an infrared irradiating unit that irradiates a compensating infrared ray having a wavelength other than the wavelength that can be detected by the infrared detecting element 7.

また、バンドパスフィルタ82は、温度板80、81とマイクロミラーアレイ83との間に設けられている。なお、バンドパスフィルタ82は、マイクロミラーアレイ83と赤外線検知素子アレイ4との間に設けても良い。
マイクロミラーアレイ83は、複数の赤外線検知素子7のそれぞれに対応して設けられ、温度板80、81が放射した赤外線を赤外線検知素子7へ向けて反射させる複数のマイクロミラー84を備えるものである。なお、マイクロミラーアレイ83を構成するマイクロミラー84としては、例えば特許第3512963号に開示されているものなどを用いることができる。
The band pass filter 82 is provided between the temperature plates 80 and 81 and the micromirror array 83. The band pass filter 82 may be provided between the micromirror array 83 and the infrared detection element array 4.
The micromirror array 83 is provided corresponding to each of the plurality of infrared detection elements 7, and includes a plurality of micromirrors 84 that reflect the infrared rays radiated from the temperature plates 80 and 81 toward the infrared detection elements 7. . In addition, as the micromirror 84 which comprises the micromirror array 83, what is disclosed by patent 3512963, for example can be used.

ここでは、マイクロミラーアレイ83は、マイクロミラーアレイ83を構成する各マイクロミラー84と、赤外線検知素子アレイ4を構成する各赤外線検知素子7とが一対一に対応するように、マイクロミラーアレイ83と赤外線検知素子アレイ4とは同一の配置構成になっている。
また、マイクロミラーアレイ83には、これを駆動する駆動回路(図示せず)が接続されている。そして、制御演算部3からの制御信号に基づいて駆動回路によってマイクロミラーアレイ83を駆動することで、各赤外線検知素子7に照射する補償用赤外線の強度を制御することができるようになっている。
Here, the micromirror array 83 includes a micromirror array 83 such that each micromirror 84 constituting the micromirror array 83 and each infrared detection element 7 constituting the infrared detection element array 4 correspond one-to-one. The infrared detecting element array 4 has the same arrangement configuration.
The micromirror array 83 is connected to a drive circuit (not shown) for driving it. Then, by driving the micromirror array 83 by the drive circuit based on the control signal from the control calculation unit 3, the intensity of the compensating infrared ray irradiated to each infrared detection element 7 can be controlled. .

ここでは、制御演算部3からの制御信号に基づいて駆動回路によって、図18(A)に示すように、マイクロミラーアレイ83を構成する各マイクロミラー84の向きを、低温の温度板80側及び高温の温度板81側のいずれかに切り替えることで、各赤外線検知素子7に照射する補償用赤外線の強度を制御するようになっている。これにより、検知期間内に複数の赤外線検知素子7のそれぞれに入射する赤外線の総光量が同一になるようにしている。   Here, as shown in FIG. 18A, the direction of each of the micromirrors 84 constituting the micromirror array 83 is changed to the low temperature plate 80 side and the drive circuit based on the control signal from the control calculation unit 3. By switching to either one of the high temperature plate 81 side, the intensity of the compensating infrared rays irradiated to each infrared detecting element 7 is controlled. Thereby, the total amount of infrared rays incident on each of the plurality of infrared detection elements 7 within the detection period is made the same.

具体的には、駆動回路は、マイクロミラー84毎にPWM回路を備える。そして、PWM回路から出力されるパルス信号のオン・オフに応じてマイクロミラー84の向きが切り替わるようにし、制御演算部3で設定される補償用赤外線強度設定値に基づいて、PWM回路から出力されるパルス信号の幅を調整するようにしている。
ここで、図18(B)は、ある画素に対して検知期間(フレーム)毎に設定される補償用赤外線強度設定値を示しており、図18(C)は、駆動回路のPWM回路から、ある画素に対応するマイクロミラーに出力される制御信号(パルス信号)を示している。ここでは、パルス信号がオンの場合にマイクロミラー84が高温の温度板81側を向くようになっている。このため、パルス信号がオンになっている合計時間がマイクロミラー84が高温の温度板81側を向いている時間である。
Specifically, the drive circuit includes a PWM circuit for each micromirror 84. Then, the direction of the micromirror 84 is switched according to the on / off state of the pulse signal output from the PWM circuit, and is output from the PWM circuit based on the compensation infrared intensity setting value set by the control calculation unit 3. The width of the pulse signal is adjusted.
Here, FIG. 18B shows a compensation infrared intensity setting value set for each detection period (frame) with respect to a certain pixel, and FIG. 18C shows from the PWM circuit of the drive circuit, The control signal (pulse signal) output to the micromirror corresponding to a certain pixel is shown. Here, when the pulse signal is on, the micromirror 84 faces the high temperature plate 81 side. Therefore, the total time during which the pulse signal is on is the time during which the micromirror 84 faces the high temperature plate 81 side.

図18(B)、図18(C)に示すように、補償用赤外線強度設定値が大きい値である場合、即ち、赤外線検知素子7に照射する補償用赤外線の強度が大きい場合は、マイクロミラー84が高温の温度板81側に向く時間が長くなるようにパルス信号の幅を広く設定すれば良い。逆に、補償用赤外線強度設定値が小さい値である場合、即ち、赤外線検知素子7に照射する補償用赤外線の強度が小さい場合は、マイクロミラー84が低温の温度板80側に向く時間が長くなるようにパルス信号の幅を狭く設定すれば良い。   As shown in FIGS. 18 (B) and 18 (C), when the compensation infrared intensity setting value is a large value, that is, when the intensity of the compensation infrared light applied to the infrared detection element 7 is large, the micromirror What is necessary is just to set the width | variety of a pulse signal so that the time for 84 to face the high temperature board 81 side may become long. Conversely, when the compensation infrared intensity setting value is a small value, that is, when the intensity of the compensation infrared ray applied to the infrared detection element 7 is small, it takes a long time for the micromirror 84 to face the low temperature plate 80 side. The width of the pulse signal may be set narrow so that

これにより、各赤外線検知素子7に照射する補償用赤外線の強度を制御することができる。
このため、駆動回路には、制御演算部3からの制御信号として、制御演算部3に含まれるタイミング制御回路65から画素の選択信号が入力されるとともに、制御演算部3に含まれるメモリ回路63から読み出された各画素7の補償用赤外線強度設定値が入力されるようになっている。そして、駆動回路は、選択された画素に接続されているPWM回路から出力されるパルス信号のオン・オフ及びパルス幅を調整し、これに基づいて、各マイクロミラー84を駆動するようになっている。
Thereby, the intensity | strength of the infrared rays for compensation irradiated to each infrared rays detection element 7 is controllable.
Therefore, a pixel selection signal is input from the timing control circuit 65 included in the control calculation unit 3 as a control signal from the control calculation unit 3 to the drive circuit, and the memory circuit 63 included in the control calculation unit 3. The compensation infrared intensity setting value of each pixel 7 read out from is input. The drive circuit adjusts the on / off and pulse width of the pulse signal output from the PWM circuit connected to the selected pixel, and drives each micromirror 84 based on this. Yes.

この場合、補償用赤外線が照射されることによって検知期間内に各赤外線検知素子7に入射する赤外線の総光量は、低温の温度板80からの補償用赤外線の総光量と、高温の温度板81からの補償用赤外線の総光量とを合わせたものとなる。このため、マイクロミラーアレイ83を構成する各マイクロミラー84が低温の温度板80側を向いている時間と高温の温度板81側を向いている時間との比率を調整することで、補償用赤外線が照射されることによって検知期間内に各赤外線検知素子7に入射する赤外線の総光量を調整することができる。これにより、図17に示すように、撮像対象からの赤外線が入射することによって検知期間内に各赤外線検知素子7に入射する赤外線の総光量にばらつきがある場合であっても、検知期間内に複数の赤外線検知素子7のそれぞれに入射する赤外線の総光量を同一にすることができる。   In this case, the total amount of infrared light incident on each infrared detection element 7 within the detection period when irradiated with the compensation infrared rays is the total amount of infrared light for compensation from the low temperature plate 80 and the high temperature plate 81. The total amount of infrared light for compensation from is combined. Therefore, by adjusting the ratio of the time that each micromirror 84 constituting the micromirror array 83 faces the low temperature plate 80 side and the time that the micromirror 84 faces the high temperature plate 81 side, the compensating infrared ray Can adjust the total amount of infrared light incident on each infrared detection element 7 within the detection period. As a result, as shown in FIG. 17, even if there is a variation in the total amount of infrared light incident on each infrared detection element 7 within the detection period due to the incidence of infrared light from the imaging target, within the detection period. The total amount of infrared light incident on each of the plurality of infrared detection elements 7 can be made the same.

なお、その他の詳細は、上述の第1実施形態と同様であるため、ここでは、その説明を省略する。
したがって、本実施形態にかかる赤外線撮像装置によれば、上述の第1実施形態の場合と同様に、赤外線イメージセンサ1の各画素7を構成する赤外線検知素子間で温度差が生じてしまうことによってS/N比が低下してしまうのを防止できるという利点がある。また、各画素7が微細になった高解像度の赤外線撮像装置を高いS/N比を維持したまま実現することができる。
Since other details are the same as those in the first embodiment, the description thereof is omitted here.
Therefore, according to the infrared imaging device according to the present embodiment, as in the case of the first embodiment described above, a temperature difference is generated between the infrared detection elements constituting each pixel 7 of the infrared image sensor 1. There is an advantage that it is possible to prevent the S / N ratio from being lowered. In addition, a high-resolution infrared imaging device in which each pixel 7 is fine can be realized while maintaining a high S / N ratio.

特に、本実施形態では、上述の第1実施形態のように各赤外線検知素子7に対応して個別に補償用赤外線源を設ける場合と比較して、補償用赤外線照射部2が相対的に大きくなる。一方、全ての赤外線検知素子7に対して同一の温度板80、81からの赤外線が照射されることになるため、補償用赤外線の強度のばらつきによってS/N比が低下してしまうのを防止することができる。   In particular, in the present embodiment, the compensation infrared irradiation unit 2 is relatively large as compared with the case where the compensation infrared source is individually provided corresponding to each infrared detection element 7 as in the first embodiment. Become. On the other hand, since infrared rays from the same temperature plates 80 and 81 are irradiated to all infrared detecting elements 7, it is possible to prevent the S / N ratio from being lowered due to variations in the intensity of the compensating infrared rays. can do.

なお、上述の実施形態では、温度板として2つの温度板80、81を用いているが、これに限られるものではなく、例えば、温度板として1つの温度板を用いても良い。この場合、温度板は、赤外線検知素子の温度よりも高い温度になっている温度板とする。そして、上述の実施形態の2つの温度板の代わりに、この温度板と、温度板よりも低い温度になっている装置内の領域とを用いれば良い。   In the above-described embodiment, the two temperature plates 80 and 81 are used as the temperature plate. However, the present invention is not limited to this. For example, one temperature plate may be used as the temperature plate. In this case, the temperature plate is a temperature plate having a temperature higher than the temperature of the infrared detection element. Then, instead of the two temperature plates of the above-described embodiment, this temperature plate and a region in the apparatus that is at a lower temperature than the temperature plate may be used.

また、上述の実施形態では、マイクロミラー84をPWM回路によって駆動するようにし、マイクロミラー84の向きが低温の温度板80側と高温の温度板81側とで交互に連続的に切り替えられるようにしているが、これに限られるものではない。例えば、検知期間内のある期間にマイクロミラーの向きが低温の温度板側になり、残りの期間に高温の温度板側になるように、マイクロミラーを駆動するようにしても良い。   In the above-described embodiment, the micromirror 84 is driven by a PWM circuit so that the orientation of the micromirror 84 can be alternately switched alternately between the low temperature plate 80 side and the high temperature plate 81 side. However, it is not limited to this. For example, the micromirror may be driven so that the micromirror is oriented toward the low temperature plate during a certain period within the detection period and the high temperature plate during the remaining period.

また、上述の実施形態では、赤外線を放射する温度板を用いているが、これに限られるものではなく、この温度板に代えて、図20に示すように、赤外線ランプ90を用いても良い。この場合、補償用赤外線照射部2は、赤外線ランプ90と、バンドパスフィルタ82と、複数のマイクロミラー84を備えるマイクロミラーアレイ83とを含むものとなる。具体的には、補償用赤外線照射部2は、赤外線ランプ90と、バンドパスフィルタ82と、マイクロミラーアレイ83と、楕円レンズ91と、複眼レンズ構造92と、コリメートレンズ93とを備えるものとして構成するのが好ましい。   In the above-described embodiment, the temperature plate that emits infrared rays is used. However, the present invention is not limited to this, and an infrared lamp 90 may be used instead of this temperature plate as shown in FIG. . In this case, the compensating infrared irradiation unit 2 includes an infrared lamp 90, a bandpass filter 82, and a micromirror array 83 including a plurality of micromirrors 84. Specifically, the compensating infrared irradiation unit 2 includes an infrared lamp 90, a bandpass filter 82, a micromirror array 83, an elliptical lens 91, a compound eye lens structure 92, and a collimating lens 93. It is preferable to do this.

ここで、複眼レンズ構造92は、赤外線ランプ90から放射された赤外線の強度を均一にするためのものであり、プロジェクションレンズ素子群と、コンデンサレンズ素子群とを対向させて配置した構造になっている。例えば光技術情報誌「ライトエッジ」No.15(1998)pp.7−45の図2−13、図2−15参照。
コリメートレンズ93は、赤外線ランプ90からの赤外線を平行光にするためのものである。
Here, the compound eye lens structure 92 is for uniformizing the intensity of infrared rays emitted from the infrared lamp 90, and has a structure in which a projection lens element group and a condenser lens element group are arranged to face each other. Yes. For example, optical technology information magazine “Light Edge” No. 15 (1998) p. See FIGS. 2-13 and 2-15 of 7-45.
The collimating lens 93 is for making infrared rays from the infrared lamp 90 into parallel light.

このように構成される補償用赤外線照射部2を用いる場合、赤外線ランプ90が放射した赤外線は、楕円レンズ91で、バンドパスフィルタ82を介して、複眼レンズ構造92に集光され、複眼レンズ構造92で均一な強度にされた後、コリメートレンズ93で平行光にされて、マイクロミラーアレイ83へ導かれることになる。
[その他]
なお、本発明は、上述した各実施形態及び変形例に記載した構成に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変形することが可能である。
In the case of using the compensating infrared irradiating unit 2 configured in this way, the infrared rays emitted from the infrared lamp 90 are condensed by the elliptical lens 91 via the bandpass filter 82 onto the compound eye lens structure 92 to obtain the compound eye lens structure. After the intensity is made uniform at 92, the light is collimated by the collimator lens 93 and guided to the micromirror array 83.
[Others]
Note that the present invention is not limited to the configurations described in the above-described embodiments and modifications, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

1 赤外線イメージセンサ
2 補償用赤外線照射部
3 制御演算部
4 赤外線検知素子アレイ
5 読出回路チップ
6 バンプ電極
7 赤外線検知素子(画素)
8 GaAs基板
9 n−GaAs下側コンタクト層
10 AlGaAs/GaAs多重量子井戸(MQW)層
11 n−GaAs上側コンタクト層
12 分離溝
13 i−Al0.3Ga0.7As層
14 i−GaAs層
15 駆動回路
16 切替回路
17 読出回路
18 ADコンバータ
19 キャパシタ(積分容量)
20、21 スイッチ(トランジスタ)
22 出力端子
23 ソースフォロワトランジスタ
24 行選択トランジスタ
25 行線
26 列線
27 列選択トランジスタ
28 読み出し線
29 負荷トランジスタ
30 増幅器(インピーダンス変換回路)
31 垂直走査シフトレジスタ
32 水平走査シフトレジスタ
33 真空容器
33A 窓
34 コールドシールド
35 冷却系
36 バンドパスフィルタ
37 レンズ
38 発光素子アレイ(LEDアレイ)
39 発光素子(LED)
40 アレイ駆動回路チップ
41 レンズ
42 ハーフミラー
43 化合物半導体基板
44 化合物半導体積層構造
45 分離溝
46、47 バンプ電極
48 Si基板
49 アレイ駆動回路
50 PWM回路
51 PWM変換回路
52 LED駆動回路
60 モニタ
61 出力換算回路
62 補償用赤外線強度決定回路
63 メモリ回路
64 表示回路
65 タイミング制御回路
70 発熱抵抗素子アレイ
71 バンドパスフィルタ
72 発熱抵抗素子
73 Si基板
74 アレイ駆動回路
75 PWM回路
80 低温の温度板
81 高温の温度板
82 バンドパスフィルタ
83 マイクロミラーアレイ
84 マイクロミラー
85 ヒータ
86 温度センサ
87 温度制御回路
90 赤外線ランプ
91 楕円レンズ
92 複眼レンズ構造
93 コリメートレンズ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Infrared image sensor 2 Compensation infrared irradiation part 3 Control operation part 4 Infrared sensing element array 5 Reading circuit chip 6 Bump electrode 7 Infrared sensing element (pixel)
8 GaAs substrate 9 n-GaAs lower contact layer 10 AlGaAs / GaAs multiple quantum well (MQW) layer 11 n-GaAs upper contact layer 12 separation groove 13 i-Al 0.3 Ga 0.7 As layer 14 i-GaAs layer DESCRIPTION OF SYMBOLS 15 Drive circuit 16 Switching circuit 17 Reading circuit 18 AD converter 19 Capacitor (integral capacity)
20, 21 Switch (transistor)
22 output terminal 23 source follower transistor 24 row selection transistor 25 row line 26 column line 27 column selection transistor 28 readout line 29 load transistor 30 amplifier (impedance conversion circuit)
31 Vertical Scan Shift Register 32 Horizontal Scan Shift Register 33 Vacuum Container 33A Window 34 Cold Shield 35 Cooling System 36 Band Pass Filter 37 Lens 38 Light Emitting Element Array (LED Array)
39 Light Emitting Element (LED)
40 Array drive circuit chip 41 Lens 42 Half mirror 43 Compound semiconductor substrate 44 Compound semiconductor laminated structure 45 Separation groove 46, 47 Bump electrode 48 Si substrate 49 Array drive circuit 50 PWM circuit 51 PWM conversion circuit 52 LED drive circuit 60 Monitor 61 Output conversion Circuit 62 Compensation infrared intensity determination circuit 63 Memory circuit 64 Display circuit 65 Timing control circuit 70 Heating resistance element array 71 Band pass filter 72 Heating resistance element 73 Si substrate 74 Array drive circuit 75 PWM circuit 80 Low temperature plate 81 High temperature Plate 82 Bandpass filter 83 Micromirror array 84 Micromirror 85 Heater 86 Temperature sensor 87 Temperature control circuit 90 Infrared lamp 91 Ellipse lens 92 Compound eye lens structure 93 Collimating lens

Claims (8)

複数の赤外線検知素子を備える赤外線検知素子アレイと、
前記複数の赤外線検知素子のそれぞれに、前記赤外線検知素子によって検知しうる波長を持つ補償用赤外線を照射する補償用赤外線照射部と、
前記赤外線検知素子に流れる電流を検知する検知期間内に前記複数の赤外線検知素子のそれぞれに入射する撮像対象からの赤外線と前記補償用赤外線の総光量が同一になるように、前記補償用赤外線照射部によって前記複数の赤外線検知素子のそれぞれに照射する補償用赤外線の強度を制御するとともに、前記複数の赤外線検知素子のそれぞれによって検知された赤外線の強度及び前記補償用赤外線照射部によって前記複数の赤外線検知素子のそれぞれに照射した補償用赤外線の強度に基づいて、撮像対象から前記複数の赤外線検知素子のそれぞれに入射した赤外線の強度を求める制御演算部とを備えることを特徴とする赤外線撮像装置。
An infrared detection element array comprising a plurality of infrared detection elements;
A compensation infrared irradiation unit that irradiates each of the plurality of infrared detection elements with a compensation infrared having a wavelength that can be detected by the infrared detection element;
The compensation infrared irradiation so that the total light quantity of the infrared ray from the imaging target incident on each of the plurality of infrared detection elements and the compensation infrared ray is the same within a detection period in which a current flowing through the infrared detection element is detected. And controlling the intensity of the compensation infrared rays irradiated to each of the plurality of infrared detection elements by the unit, and the intensity of the infrared rays detected by each of the plurality of infrared detection elements and the plurality of infrared rays by the compensation infrared irradiation unit An infrared imaging apparatus, comprising: a control calculation unit that obtains the intensity of infrared rays incident on each of the plurality of infrared detection elements from an imaging target based on the intensity of compensation infrared rays applied to each of the detection elements.
複数の赤外線検知素子を備える赤外線検知素子アレイと、
前記複数の赤外線検知素子のそれぞれに、前記赤外線検知素子によって検知しうる波長以外の波長を持つ補償用赤外線を照射する補償用赤外線照射部と、
前記赤外線検知素子に流れる電流を検知する検知期間内に前記複数の赤外線検知素子のそれぞれに入射する撮像対象からの赤外線と前記補償用赤外線の総光量が同一になるように、前記補償用赤外線照射部によって前記複数の赤外線検知素子のそれぞれに照射する補償用赤外線の強度を制御する制御演算部とを備えることを特徴とする赤外線撮像装置。
An infrared detection element array comprising a plurality of infrared detection elements;
A compensation infrared irradiation unit that irradiates each of the plurality of infrared detection elements with a compensation infrared having a wavelength other than the wavelength that can be detected by the infrared detection element;
The compensation infrared irradiation so that the total light quantity of the infrared ray from the imaging target incident on each of the plurality of infrared detection elements and the compensation infrared ray is the same within a detection period in which a current flowing through the infrared detection element is detected. An infrared imaging device comprising: a control calculation unit that controls the intensity of the compensating infrared ray irradiated to each of the plurality of infrared detection elements by the unit.
複数の赤外線検知素子を備える赤外線検知素子アレイと、
前記複数の赤外線検知素子のそれぞれに、前記赤外線検知素子によって検知しうる波長を持つ補償用赤外線を照射する補償用赤外線照射部と、
前記赤外線検知素子に流れる電流を検知する検知期間内に前記複数の赤外線検知素子のそれぞれに流れる総電流量が同一になるように、前記補償用赤外線照射部によって前記複数の赤外線検知素子のそれぞれに照射する補償用赤外線の強度を制御するとともに、前記複数の赤外線検知素子のそれぞれによって検知された赤外線の強度及び前記補償用赤外線照射部によって前記複数の赤外線検知素子のそれぞれに照射した補償用赤外線の強度に基づいて、撮像対象から前記複数の赤外線検知素子のそれぞれに入射した赤外線の強度を求める制御演算部とを備えることを特徴とする赤外線撮像装置。
An infrared detection element array comprising a plurality of infrared detection elements;
A compensation infrared irradiation unit that irradiates each of the plurality of infrared detection elements with a compensation infrared having a wavelength that can be detected by the infrared detection element;
Each of the plurality of infrared detection elements is arranged by the compensating infrared irradiation unit so that the total amount of current flowing through each of the plurality of infrared detection elements is the same within a detection period for detecting the current flowing through the infrared detection element. The intensity of the compensating infrared ray to be irradiated is controlled, the intensity of the infrared ray detected by each of the plurality of infrared detecting elements and the amount of the compensating infrared ray irradiated to each of the plurality of infrared detecting elements by the compensating infrared ray irradiating unit. An infrared imaging apparatus, comprising: a control calculation unit that obtains the intensity of infrared light incident on each of the plurality of infrared detection elements from an imaging target based on intensity.
複数の赤外線検知素子を備える赤外線検知素子アレイと、
前記複数の赤外線検知素子のそれぞれに、前記赤外線検知素子によって検知しうる波長以外の波長を持つ補償用赤外線を照射する補償用赤外線照射部と、
前記赤外線検知素子に流れる電流を検知する検知期間内に前記複数の赤外線検知素子のそれぞれに流れる総電流量が同一になるように、前記補償用赤外線照射部によって前記複数の赤外線検知素子のそれぞれに照射する補償用赤外線の強度を制御する制御演算部とを備えることを特徴とする赤外線撮像装置。
An infrared detection element array comprising a plurality of infrared detection elements;
A compensation infrared irradiation unit that irradiates each of the plurality of infrared detection elements with a compensation infrared having a wavelength other than the wavelength that can be detected by the infrared detection element;
Each of the plurality of infrared detection elements is arranged by the compensating infrared irradiation unit so that the total amount of current flowing through each of the plurality of infrared detection elements is the same within a detection period for detecting the current flowing through the infrared detection element. An infrared imaging apparatus comprising: a control calculation unit that controls the intensity of the compensating infrared ray to be irradiated.
前記補償用赤外線照射部は、前記複数の赤外線検知素子のそれぞれに対応して設けられた、補償用赤外線を出射する複数の発光素子を備える発光素子アレイを含むことを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の赤外線撮像装置。   2. The compensation infrared irradiating unit includes a light emitting element array provided with a plurality of light emitting elements that emit compensation infrared rays, corresponding to each of the plurality of infrared detection elements. The infrared imaging device of any one of -4. 前記補償用赤外線照射部は、
前記複数の赤外線検知素子のそれぞれに対応して設けられ、赤外線を放射する複数の発熱抵抗素子を備える発熱抵抗素子アレイと、
前記発熱抵抗素子から放射された赤外線のうち補償用赤外線の波長のみを通すバンドパスフィルタとを含むことを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の赤外線撮像装置。
The compensating infrared irradiator is
A heating resistor element array provided corresponding to each of the plurality of infrared detection elements, and comprising a plurality of heating resistor elements that emit infrared rays; and
The infrared imaging device according to any one of claims 1 to 4, further comprising a band-pass filter that allows only a wavelength of a compensating infrared ray out of the infrared rays radiated from the heating resistor element.
前記補償用赤外線照射部は、
赤外線を放射する温度板と、
前記温度板から放射された赤外線のうち補償用赤外線の波長のみを通すバンドパスフィルタと、
前記複数の赤外線検知素子のそれぞれに対応して設けられ、前記温度板が放射した赤外線を前記赤外線検知素子へ向けて反射させるマイクロミラーを備えるマイクロミラーアレイとを含むことを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の赤外線撮像装置。
The compensating infrared irradiator is
A temperature plate that emits infrared rays;
A band pass filter that passes only the wavelength of the compensating infrared ray out of the infrared ray radiated from the temperature plate;
A micromirror array including a micromirror provided corresponding to each of the plurality of infrared detection elements and configured to reflect infrared rays radiated from the temperature plate toward the infrared detection elements. The infrared imaging device according to any one of 1 to 4.
前記補償用赤外線照射部は、
赤外線を放射する赤外線ランプと、
前記赤外線ランプから放射された赤外線のうち補償用赤外線の波長のみを通すバンドパスフィルタと、
前記複数の赤外線検知素子のそれぞれに対応して設けられ、前記赤外線ランプが放射した赤外線を前記赤外線検知素子へ向けて反射させる複数のマイクロミラーを備えるマイクロミラーアレイとを含むことを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の赤外線撮像装置。
The compensating infrared irradiator is
An infrared lamp that emits infrared rays;
A band-pass filter that passes only the wavelength of the infrared ray for compensation among the infrared rays emitted from the infrared lamp;
A micromirror array including a plurality of micromirrors provided corresponding to each of the plurality of infrared detection elements and reflecting infrared rays emitted from the infrared lamp toward the infrared detection elements; The infrared imaging device according to any one of claims 1 to 4.
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