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JP5705460B2 - Electromagnetic wave absorber, method for producing electromagnetic wave absorber, and electronic device - Google Patents
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JP5705460B2 - Electromagnetic wave absorber, method for producing electromagnetic wave absorber, and electronic device - Google Patents

Electromagnetic wave absorber, method for producing electromagnetic wave absorber, and electronic device Download PDF

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Description

本発明は、電磁波吸収体及びその製造方法、並びに電子機器に関し、特に、耐リフロー性を有する電磁波吸収体及びその製造方法、並びに当該電磁波吸収体を備える電子機器に関する。   The present invention relates to an electromagnetic wave absorber, a manufacturing method thereof, and an electronic device, and more particularly, to an electromagnetic wave absorber having reflow resistance, a manufacturing method thereof, and an electronic device including the electromagnetic wave absorber.

コンピュータ、通信機器、又はビデオカメラ等の電子機器においては、電子機器内部のプリント配線基板やケーブルから高周波ノイズ等の不要な電磁波が発生し、これにより、当該電子機器や他の電子機器が誤作動を引き起こす等、不要な電磁波が電子機器に対して影響を与える場合がある。   In electronic devices such as computers, communication devices, and video cameras, unnecessary electromagnetic waves such as high-frequency noise are generated from printed wiring boards and cables inside the electronic devices, which causes malfunctions of the electronic devices and other electronic devices. Unnecessary electromagnetic waves may affect electronic devices.

そこで、従来、金属薄膜を電磁波シールド層として用いた電磁波シールド材を、プリント配線基板やケーブルに貼り付ける技術が提案されている。電磁波シールド材は、金属薄膜と接着樹脂層とからなり、金属薄膜によって不要な電磁波を遮蔽するものである。   Therefore, conventionally, a technique has been proposed in which an electromagnetic wave shielding material using a metal thin film as an electromagnetic wave shielding layer is attached to a printed wiring board or a cable. The electromagnetic shielding material is composed of a metal thin film and an adhesive resin layer, and shields unnecessary electromagnetic waves by the metal thin film.

近年、電磁波シールド材が貼り付けられたプリント配線基板に電子部品を接続する方法として、はんだリフローが採用されている。はんだリフローは、プリント配線基板の上にはんだペーストを予め印刷しておき、その上に電子部品を実装して、260℃程度の高温雰囲気のリフロー炉内に配置してはんだを溶かすこと(リフロー処理)によってはんだ付けを行う方法である。   In recent years, solder reflow has been adopted as a method for connecting electronic components to a printed wiring board to which an electromagnetic wave shielding material is attached. In solder reflow, a solder paste is printed in advance on a printed wiring board, electronic parts are mounted on the printed circuit board, and the solder is melted by placing it in a reflow furnace at a high temperature atmosphere of about 260 ° C. (reflow treatment) ) Soldering method.

一般的に接着樹脂は耐熱性が良くないので、接着樹脂層を有する電磁波シールド材は、高温のリフロー処理には適していない。そこで、耐熱性が高く難燃性の接着樹脂層を有する電磁波シールド材が提案されている(特許文献1参照)。   In general, since an adhesive resin does not have good heat resistance, an electromagnetic wave shielding material having an adhesive resin layer is not suitable for high-temperature reflow treatment. Therefore, an electromagnetic wave shielding material having a heat-resistant and flame-retardant adhesive resin layer has been proposed (see Patent Document 1).

特許文献1に開示された電磁波シールド材は、高耐熱性で難燃性の接着樹脂層を用いることにより、リフロー処理を行うプリント配線基板等にも適用することができる。   The electromagnetic wave shielding material disclosed in Patent Document 1 can be applied to a printed wiring board or the like that performs reflow treatment by using a highly heat-resistant and flame-retardant adhesive resin layer.

また、最近では、電磁波シールド材を貼り付ける部材として、フレキシブルプリント配線基板(FPC)やフラットケーブル等のフレキシブル性(可撓性)を有する部材が採用されている。しかし、金属薄膜を用いた電磁波シールド材はフレキシブル性に劣るので、FPCとともに屈曲が繰り返されるうちに金属薄膜が裂けたり剥離したりすることがある。従って、金属薄膜を用いた電磁波シールド材では、FPC等のフレキシブル性が要求される部材に適用することは難しい。   Recently, a member having flexibility (flexibility) such as a flexible printed circuit board (FPC) or a flat cable has been adopted as a member to which the electromagnetic wave shielding material is attached. However, since the electromagnetic shielding material using a metal thin film is inferior in flexibility, the metal thin film may be torn or peeled off while being bent together with the FPC. Therefore, it is difficult to apply an electromagnetic shielding material using a metal thin film to a member that requires flexibility such as FPC.

そこで、金属薄膜を用いた電磁波シールド材とは別の手段である電磁波吸収体によって、不要な電磁波による影響を防ぐ方法も提案されている。   Therefore, a method for preventing the influence of unnecessary electromagnetic waves by an electromagnetic wave absorber which is a means different from the electromagnetic wave shielding material using a metal thin film has been proposed.

以下、従来の電磁波吸収体について、図5を参照して説明する。図5は、従来の電磁波吸収体の断面図である。   Hereinafter, a conventional electromagnetic wave absorber will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a cross-sectional view of a conventional electromagnetic wave absorber.

図5に示すように、従来の電磁波吸収体1000は、基材層100と、基材層100の上に形成された磁性粉末含有樹脂層200とを備える。磁性粉末含有樹脂層200は、樹脂に磁性粉末が含有されたものである。   As shown in FIG. 5, the conventional electromagnetic wave absorber 1000 includes a base material layer 100 and a magnetic powder-containing resin layer 200 formed on the base material layer 100. The magnetic powder-containing resin layer 200 is a resin in which magnetic powder is contained.

このように構成された電磁波吸収体1000は、接着剤によってFPC等に貼り付けられる。これにより、電子機器から発生する不要な電磁波を、磁性粉末含有樹脂層200によって吸収することができるので、不要な電磁波による影響を抑制することができる。しかも、磁性粉末含有樹脂層200は、磁性粉末と合成樹脂とからなりフレキシブル性を有するので、FPCとともに屈曲が繰り返されたとしても破断や剥離等の問題は生じない。   The electromagnetic wave absorber 1000 configured as described above is attached to an FPC or the like with an adhesive. Thereby, since unnecessary electromagnetic waves generated from the electronic device can be absorbed by the magnetic powder-containing resin layer 200, the influence of unnecessary electromagnetic waves can be suppressed. Moreover, since the magnetic powder-containing resin layer 200 is made of magnetic powder and synthetic resin and has flexibility, problems such as breakage and peeling do not occur even if bending is repeated together with the FPC.

また、この種の電磁波吸収体として、磁性粉末含有樹脂層の少なくとも一方の面に表面保護層を形成してなるノイズ抑制シートも提案されている(特許文献2参照)。このノイズ抑制シートによれば、ノイズ抑制シートと他の部材との貼り付けとの組み合わせによる問題を解消することができる。   Further, as this type of electromagnetic wave absorber, a noise suppression sheet in which a surface protective layer is formed on at least one surface of a magnetic powder-containing resin layer has also been proposed (see Patent Document 2). According to this noise suppression sheet, the problem due to the combination of the noise suppression sheet and pasting of another member can be solved.

特開2007−294918号公報JP 2007-294918 A 特開2009−158694号公報JP 2009-158694 A

しかしながら、従来の電磁波吸収体をFPC等のプリント配線基板に貼り付けて、はんだリフローを適用してリフロー処理を行うと、磁性粉末含有樹脂層が膨れ上がって電磁波吸収体に外観異常が発生するという問題がある。   However, when a conventional electromagnetic wave absorber is attached to a printed wiring board such as an FPC and a reflow process is performed by applying solder reflow, the magnetic powder-containing resin layer swells and an abnormal appearance occurs in the electromagnetic wave absorber. There's a problem.

この問題に対しては、リフロー処理を行った後に電磁波吸収体をプリント基板に貼り付けるという方法を採ることも考えられるが、生産性等を考えると、電磁波吸収体は予めプリント配線基板に貼り付けておき、これに電子部品を実装してリフロー処理を行うことが好ましい。   To solve this problem, it may be possible to apply an electromagnetic wave absorber to the printed circuit board after reflow treatment. However, considering productivity, the electromagnetic wave absorber is applied to the printed circuit board in advance. In addition, it is preferable to perform the reflow process by mounting electronic components on this.

従って、従来の電磁波吸収体が貼り付けられたプリント配線基板等に対しては、はんだリフローにおけるリフロー処理を行うことが困難であるという問題がある。   Therefore, there is a problem that it is difficult to perform reflow processing in solder reflow on a printed wiring board or the like to which a conventional electromagnetic wave absorber is attached.

本発明は、このような問題を解決するためになされたものであり、リフロー処理に耐えうる電磁波吸収体を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve such a problem, and an object thereof is to provide an electromagnetic wave absorber that can withstand a reflow process.

上記課題を解決するために、本発明に係る電磁波吸収体の一態様は、基材層と電磁波吸収層とを備える電磁波吸収体であって、前記基材層と前記電磁波吸収層との間に、リフロー処理に耐える耐熱性を有する樹脂で構成されるバインダー層が形成されているものである。   In order to solve the above problems, an aspect of the electromagnetic wave absorber according to the present invention is an electromagnetic wave absorber including a base material layer and an electromagnetic wave absorption layer, and is provided between the base material layer and the electromagnetic wave absorption layer. A binder layer made of a heat-resistant resin that can withstand reflow treatment is formed.

これにより、バインダー層によって電磁波吸収層が保護されるので、リフロー処理が施されたとしても、電磁波吸収体に膨れや剥れ等の外観異常は生じない。   Thereby, since the electromagnetic wave absorbing layer is protected by the binder layer, even if the reflow process is performed, the electromagnetic wave absorber does not have an appearance abnormality such as swelling or peeling.

さらに、本発明に係る電磁波吸収体の一態様において、前記電磁波吸収層の膜厚が、10μm以上100μm以下であることが好ましい。   Furthermore, in one aspect of the electromagnetic wave absorber according to the present invention, it is preferable that the thickness of the electromagnetic wave absorption layer is 10 μm or more and 100 μm or less.

これにより、電磁波吸収性能を好適なものとすることができる。   Thereby, electromagnetic wave absorption performance can be made suitable.

さらに、本発明に係る電磁波吸収体の一態様において、前記電磁波吸収層の表面抵抗値が、20Ω/□以上170Ω/□以下であることが好ましい。   Furthermore, in one aspect of the electromagnetic wave absorber according to the present invention, it is preferable that a surface resistance value of the electromagnetic wave absorption layer is 20Ω / □ or more and 170Ω / □ or less.

これにより、電磁波吸収性能を好適なものとすることができる。   Thereby, electromagnetic wave absorption performance can be made suitable.

さらに、本発明に係る電磁波吸収体の一態様において、前記電磁波吸収層が、カーボンブラック及び磁性金属粒子を含むことが好ましい。   Furthermore, in one aspect of the electromagnetic wave absorber according to the present invention, it is preferable that the electromagnetic wave absorption layer contains carbon black and magnetic metal particles.

これにより、所望の電磁波吸収性能を容易に得ることができる。   Thereby, desired electromagnetic wave absorption performance can be obtained easily.

さらに、本発明に係る電磁波吸収体の一態様において、前記バインダー層を構成する前記樹脂はポリエステル樹脂であることが好ましい。   Furthermore, in one embodiment of the electromagnetic wave absorber according to the present invention, the resin constituting the binder layer is preferably a polyester resin.

これにより、基材層との接着性を向上させることができるとともに耐リフロー性を有するバインダー層を容易に構成することができる。   Thereby, while being able to improve adhesiveness with a base material layer, the binder layer which has reflow resistance can be comprised easily.

さらに、本発明に係る電磁波吸収体の一態様において、前記バインダー層は架橋剤によって架橋されていることが好ましい。さらに、本発明に係る電磁波吸収体の一態様において、前記架橋剤は、イソシアネート系架橋剤であることが好ましい。   Furthermore, in one aspect of the electromagnetic wave absorber according to the present invention, the binder layer is preferably crosslinked by a crosslinking agent. Furthermore, in one aspect of the electromagnetic wave absorber according to the present invention, the cross-linking agent is preferably an isocyanate-based cross-linking agent.

これにより、バインダー層の分子構造を緻密にすることができるので、電磁波吸収体の耐熱性及び耐リフロー性を向上させることができる。また、接着強度に優れ、柔軟性及び耐衝撃性に優れた電磁波吸収体を得ることもできるので、FPC等のフレキシブル性を有するプリント配線基板等に対して好適である。   Thereby, since the molecular structure of a binder layer can be densified, the heat resistance and reflow resistance of an electromagnetic wave absorber can be improved. In addition, since an electromagnetic wave absorber excellent in adhesive strength and excellent in flexibility and impact resistance can be obtained, it is suitable for a printed wiring board having flexibility such as FPC.

さらに、本発明に係る電磁波吸収体の一態様において、前記バインダー層の膜厚が、3μm以上50μm以下であることが好ましい。   Furthermore, in one embodiment of the electromagnetic wave absorber according to the present invention, it is preferable that the thickness of the binder layer is 3 μm or more and 50 μm or less.

これにより、基材層と電磁波吸収層との間の接着性を好適なものとすることができる。   Thereby, the adhesiveness between a base material layer and an electromagnetic wave absorption layer can be made suitable.

さらに、本発明に係る電磁波吸収体の一態様において、前記架橋剤の添加量は、前記バインダー層中の前記樹脂30重量部に対して3〜16重量部であることが好ましい。   Furthermore, in one aspect of the electromagnetic wave absorber according to the present invention, the amount of the crosslinking agent added is preferably 3 to 16 parts by weight with respect to 30 parts by weight of the resin in the binder layer.

これにより、基材層と電磁波吸収層との間の接着性及びフレキシブル性を好適なものとすることができる。   Thereby, the adhesiveness and flexibility between a base material layer and an electromagnetic wave absorption layer can be made suitable.

さらに、本発明に係る電磁波吸収体の一態様において、前記バインダー層に難燃剤が添加されていることが好ましい。また、本発明に係る電磁波吸収体の一態様において、前記電磁波吸収層の前記バインダー層が形成されている側とは反対側の面に、所定の合成樹脂に難燃剤が添加された難燃層が形成されていることが好ましい。   Furthermore, in one aspect of the electromagnetic wave absorber according to the present invention, it is preferable that a flame retardant is added to the binder layer. Further, in one aspect of the electromagnetic wave absorber according to the present invention, a flame retardant layer in which a flame retardant is added to a predetermined synthetic resin on a surface of the electromagnetic wave absorption layer opposite to the side on which the binder layer is formed. Is preferably formed.

これにより、電磁波吸収層の難燃性を向上させることができる。   Thereby, the flame retardance of an electromagnetic wave absorption layer can be improved.

さらに、本発明に係る電磁波吸収体の一態様において、前記電磁波吸収層の上に接着剤層が形成されていることが好ましい。   Furthermore, in one aspect of the electromagnetic wave absorber according to the present invention, an adhesive layer is preferably formed on the electromagnetic wave absorption layer.

これにより、電磁波吸収体をFPC等の電磁波発生部材に容易に貼り付けることができる。   Thereby, an electromagnetic wave absorber can be easily affixed to electromagnetic wave generating members, such as FPC.

また、本発明に係る電子機器の一態様は、上記の電磁波吸収体の一態様が積層されたプリント配線基板を備えるものである。   One embodiment of an electronic device according to the present invention includes a printed wiring board on which one embodiment of the electromagnetic wave absorber is stacked.

これにより、電磁波吸収体によって電子機器内の不要な電磁波を吸収することができる。   Thereby, the electromagnetic wave absorber can absorb unnecessary electromagnetic waves in the electronic device.

また、本発明に係る電磁波吸収体の製造方法の一態様は、離型シート上に、金属が含有された第1の樹脂溶液を塗布する第1の樹脂溶液塗布工程と、前記第1の樹脂溶液に熱処理を施して電磁波吸収層を形成する電磁波吸収層形成工程と、前記電磁波吸収層の上に、リフロー処理に耐える耐熱性を有する樹脂を含む第2の樹脂溶液を塗布する第2の樹脂溶液塗布工程と、前記第2の樹脂溶液に熱処理を施してバインダー層を形成するバインダー層形成工程と、前記バインダー層の上に基材層を配置して、前記電磁波吸収層と前記基材層とをバインダー層によって貼り合わせる基材層貼り合わせ工程と、前記電磁波吸収層から前記離型シートを剥離する離型シート剥離工程と、を含むものである。   Moreover, the one aspect | mode of the manufacturing method of the electromagnetic wave absorber which concerns on this invention is the 1st resin solution application | coating process which apply | coats the 1st resin solution containing the metal on the release sheet, and said 1st resin. An electromagnetic wave absorbing layer forming step of forming an electromagnetic wave absorbing layer by subjecting the solution to heat treatment; and a second resin that coats a second resin solution containing a heat resistant resin that can withstand reflow treatment on the electromagnetic wave absorbing layer A solution coating step, a binder layer forming step of forming a binder layer by subjecting the second resin solution to a heat treatment, a base material layer disposed on the binder layer, and the electromagnetic wave absorbing layer and the base material layer And a base material layer laminating step for laminating them with a binder layer, and a release sheet peeling step for peeling the release sheet from the electromagnetic wave absorbing layer.

これにより、耐リフロー性及びフレキシブル性を有する電磁波吸収体を製造することができる。   Thereby, the electromagnetic wave absorber which has reflow resistance and flexibility can be manufactured.

本発明に係る電磁波吸収体によれば、基材層と電磁波吸収層との間に、リフロー処理に耐える耐熱性を有する樹脂で構成されるバインダー層が形成されているので、リフロー処理が施されたとしても電磁波吸収体における外観異常の問題は生じない。従って、耐リフロー性及びフレキブル性を有する電磁波吸収体を提供することができる。   According to the electromagnetic wave absorber according to the present invention, since the binder layer made of a heat-resistant resin that can withstand the reflow treatment is formed between the base material layer and the electromagnetic wave absorption layer, the reflow treatment is performed. Even if it does, the problem of the appearance abnormality in an electromagnetic wave absorber does not arise. Therefore, an electromagnetic wave absorber having reflow resistance and flexibility can be provided.

また、本発明に係る電子機器によれば、耐リフロー性及びフレキシブル性を有する電磁波吸収体が積層されたプリント配線基板を有するので、当該プリント配線基板に対してはんだリフローを行うことができるとともに、当該電磁波吸収体によって電子機器内の不要な電磁波を吸収することができる。これにより、電子機器の誤作動の発生を抑制することができる。   In addition, according to the electronic device according to the present invention, since it has a printed wiring board laminated with an electromagnetic wave absorber having reflow resistance and flexibility, solder reflow can be performed on the printed wiring board, The electromagnetic wave absorber can absorb unnecessary electromagnetic waves in the electronic device. Thereby, generation | occurrence | production of malfunction of an electronic device can be suppressed.

本発明の第1の実施形態に係る電磁波吸収体の断面図Sectional drawing of the electromagnetic wave absorber which concerns on the 1st Embodiment of this invention 本発明の第1の実施形態に係る電磁波吸収体の製造方法におけるフローチャートThe flowchart in the manufacturing method of the electromagnetic wave absorber which concerns on the 1st Embodiment of this invention 本発明の第2の実施形態に係る電磁波吸収体の断面図Sectional drawing of the electromagnetic wave absorber which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施形態に係る電磁波吸収体の断面図Sectional drawing of the electromagnetic wave absorber which concerns on the 3rd Embodiment of this invention. 従来の電磁波吸収体の断面図Sectional view of conventional electromagnetic wave absorber

以下、本発明の実施形態に係る電磁波吸収体及びその製造方法、並びに、電子機器について、図面を参照しながら説明する。   Hereinafter, an electromagnetic wave absorber, a manufacturing method thereof, and an electronic device according to embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

(第1の実施形態)
まず、本発明の第1の実施形態に係る電磁波吸収体について、図1を参照しながら説明する。図1は、本発明の第1の実施形態に係る電磁波吸収体の断面図である。
(First embodiment)
First, an electromagnetic wave absorber according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a cross-sectional view of an electromagnetic wave absorber according to the first embodiment of the present invention.

(電磁波吸収体の全体構成)
図1に示すように、本発明の第1の実施形態に係る電磁波吸収体10は、FPC等のプリント配線基板やケーブル等に積層されるフィルム状(シート状)の電磁波吸収体であって、基材層1と、電磁波吸収層2と、基材層1と電磁波吸収層2の間に形成されたバインダー層3とを備える。
(Whole structure of electromagnetic wave absorber)
As shown in FIG. 1, the electromagnetic wave absorber 10 according to the first embodiment of the present invention is a film-like (sheet-like) electromagnetic wave absorber laminated on a printed wiring board such as an FPC or a cable, A base material layer 1, an electromagnetic wave absorption layer 2, and a binder layer 3 formed between the base material layer 1 and the electromagnetic wave absorption layer 2 are provided.

本実施形態に係る電磁波吸収体10は、各層が、高分子化合物からなる所定の合成樹脂によって構成された電磁波吸収体であり、金属蒸着層や金属箔のような金属のみからなる層は有していない。つまり、本実施形態に係る電磁波吸収体10の各層に金属や無機化合物などの材料を用いる場合、各層は、フレキシブル性を有するように、合成樹脂と金属や無機化合物とが混合されて構成される。   The electromagnetic wave absorber 10 according to the present embodiment is an electromagnetic wave absorber in which each layer is made of a predetermined synthetic resin made of a polymer compound, and has a layer made of only a metal such as a metal vapor deposition layer or a metal foil. Not. That is, when a material such as a metal or an inorganic compound is used for each layer of the electromagnetic wave absorber 10 according to the present embodiment, each layer is configured by mixing a synthetic resin and a metal or an inorganic compound so as to have flexibility. .

以下、本実施形態に係る電磁波吸収体10の各層の構成について、詳細に説明する。   Hereinafter, the configuration of each layer of the electromagnetic wave absorber 10 according to the present embodiment will be described in detail.

(基材層)
本実施形態における基材層1は、フレキシブル性及び絶縁性を有し、かつ耐熱性を有する合成樹脂からなる樹脂フィルムによって構成される。基材層1は、電磁波吸収体がFPC等のプリント配線基板やケーブルに積層されたときに、露出して外部に曝される層である。従って、電子機器の製造工程におけるリフロー処理等の各種熱処理工程に対して所定の耐熱性を有することが好ましい。
(Base material layer)
The base material layer 1 in the present embodiment is composed of a resin film made of a synthetic resin having flexibility and insulating properties and heat resistance. The base material layer 1 is a layer that is exposed to the outside when the electromagnetic wave absorber is laminated on a printed wiring board such as an FPC or a cable. Therefore, it is preferable to have predetermined heat resistance with respect to various heat treatment processes such as a reflow process in the manufacturing process of the electronic device.

本実施形態において、基材層1は、少なくともリフロー処理の温度に耐える耐熱性を有する。この場合、リフロー処理時等の温度を考慮すると、基材層1の耐熱性は、例えば、260℃の温度で2分間放置された場合において、あるいは、200℃の温度環境にて60分間放置された場合において、基材層1が溶解せず、また、縮んだり伸びたりしないような耐熱性であることが好ましい。   In this embodiment, the base material layer 1 has heat resistance that can withstand at least the temperature of the reflow treatment. In this case, considering the temperature at the time of reflow treatment, the heat resistance of the base material layer 1 is, for example, left for 2 minutes at a temperature of 260 ° C. or left for 60 minutes in a temperature environment of 200 ° C. In such a case, it is preferable that the base material layer 1 is heat resistant so that the base material layer 1 does not dissolve and does not shrink or stretch.

このような基材層1としては、具体的には、ポリプロピレンフィルム、架橋ポリエチレンフィルム、ポリエステルフィルム、ポリベンゾイミダゾールフィルム、アラミドフィルム、ポリイミドフィルム(PIフィルム)、ポリイミドアミドフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリフェニレンサルファイドフィルム(PPSフィルム)、又はポリエチレンナフタレートフィルム等が挙げられる。耐熱性の観点からは、基材層1としてはPIフィルム、ポリイミドアミドフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、PPSフィルムを用いることが好ましい。特に、PIフィルムは、極めて高耐熱性という特質を有するだけではなく、高強度であり電気絶縁性も優れているので、電磁波吸収体の基材層としては好適である。   Specifically, as such a base material layer 1, a polypropylene film, a crosslinked polyethylene film, a polyester film, a polybenzimidazole film, an aramid film, a polyimide film (PI film), a polyimide amide film, a polyetherimide film, a polyphenylene Examples thereof include a sulfide film (PPS film) and a polyethylene naphthalate film. From the viewpoint of heat resistance, it is preferable to use a PI film, a polyimide amide film, a polyetherimide film, or a PPS film as the base material layer 1. In particular, the PI film not only has the property of extremely high heat resistance, but also has high strength and excellent electrical insulation, and thus is suitable as a base material layer for an electromagnetic wave absorber.

また、基材層1の膜厚は、10μm以上、50μm以下とすることが好ましい。これは、基材層1の膜厚が10μm未満になると、基材層としての機械的強度が弱くなり、電磁波吸収体の製造工程中に基材層が裂けたりカールしたりするおそれがあるからである。一方、基材層1の膜厚が50μmを超えると、電磁波吸収体全体としてフレキシブル性が低下してしまうので、屈曲が繰り返されるようなFPCへの積層が難しくなる。さらに、基材層1の膜厚が50μmを超えた場合には、電磁波吸収体全体が嵩張ってしまい、保管性や運搬性も低下する。   Moreover, it is preferable that the film thickness of the base material layer 1 shall be 10 micrometers or more and 50 micrometers or less. This is because when the film thickness of the base material layer 1 is less than 10 μm, the mechanical strength as the base material layer becomes weak, and the base material layer may tear or curl during the manufacturing process of the electromagnetic wave absorber. It is. On the other hand, when the film thickness of the base material layer 1 exceeds 50 μm, the flexibility of the electromagnetic wave absorber as a whole is lowered, so that it is difficult to laminate the FPC so that bending is repeated. Furthermore, when the film thickness of the base material layer 1 exceeds 50 μm, the entire electromagnetic wave absorber becomes bulky, and the storability and transportability are also lowered.

すなわち、基材層1の膜厚を厚くすることにより、電磁波吸収体全体としての耐リフロー性及び耐熱性を向上させることができると考えられる。しかし、基材層1の膜厚を厚くしすぎると、電磁波吸収体全体としてのフレキシブル性がいきおい低下してしまうので、基材層1のみを厚くすることは好ましくない。   That is, it is thought that the reflow resistance and heat resistance of the entire electromagnetic wave absorber can be improved by increasing the thickness of the base material layer 1. However, if the film thickness of the base material layer 1 is too thick, the flexibility of the entire electromagnetic wave absorber is drastically deteriorated. Therefore, it is not preferable to increase the thickness of the base material layer 1 alone.

なお、基材層1のバインダー層3と接する面に対して、コロナ処理等の表面改質処理を施してもよい。コロナ処理は、処理基材に対してコロナ放電を照射させることにより処理基材の表面を改質させるものである。表面改質処理を施すことにより、基材層1のバインダー層3と接する面の接着性を向上させることができる。   In addition, you may perform surface modification processing, such as a corona treatment, with respect to the surface which contacts the binder layer 3 of the base material layer 1. FIG. In the corona treatment, the surface of the treated substrate is modified by irradiating the treated substrate with corona discharge. By performing the surface modification treatment, it is possible to improve the adhesion of the surface of the base material layer 1 in contact with the binder layer 3.

(バインダー層)
図1に示すように、本実施形態におけるバインダー層3は、基材層1と電磁波吸収層2とに挟まれている。本実施形態におけるバインダー層3は、リフロー処理に耐える耐熱性を有する合成樹脂によって構成されている。このように、基材層1と電磁波吸収層2の間に、耐リフロー性を有する樹脂で構成されたバインダー層3を挿入することにより、リフロー処理が施されたとしても電磁波吸収層2が膨れ上がる等の不具合が生じなくなる。すなわち、バインダー層3は、基材層1と電磁波吸収層2とを結着させる結着剤として機能するとともに、電磁波吸収層2を保護して電磁波吸収層2の熱による変形等を防止する機能を有する。
(Binder layer)
As shown in FIG. 1, the binder layer 3 in this embodiment is sandwiched between a base material layer 1 and an electromagnetic wave absorption layer 2. The binder layer 3 in the present embodiment is made of a synthetic resin having heat resistance that can withstand a reflow process. In this way, by inserting the binder layer 3 made of a resin having reflow resistance between the base material layer 1 and the electromagnetic wave absorbing layer 2, the electromagnetic wave absorbing layer 2 swells even if reflow treatment is performed. There will be no problems such as going up. That is, the binder layer 3 functions as a binder that binds the base material layer 1 and the electromagnetic wave absorption layer 2 and also functions to protect the electromagnetic wave absorption layer 2 and prevent deformation of the electromagnetic wave absorption layer 2 due to heat. Have

具体的には、バインダー層3によって、後述するリフロー試験後において、電磁波吸収体10に膨れや剥れが発生せず、また、FPC等のプリント配線基板上に合成樹脂が流れ出す等の外観変化も生じないものをいう。なお、リフロー試験中にバインダー層3が軟化したり一部溶融したりした場合であっても、試験後(冷却後)において、電磁波吸収体に膨れや剥れがなく、また、合成樹脂の滲み出しがなければリフロー処理に耐える耐熱性を有するものである。   Specifically, the binder layer 3 does not cause swelling or peeling of the electromagnetic wave absorber 10 after a reflow test to be described later, and changes in appearance such as a synthetic resin flowing out on a printed wiring board such as an FPC. It does not occur. Even when the binder layer 3 is softened or partially melted during the reflow test, the electromagnetic wave absorber does not swell or peel off after the test (after cooling), and the synthetic resin bleeds. If it is not taken out, it has heat resistance to withstand reflow treatment.

また、通常リフロー処理は、260℃前後の温度で数分行われるが、リフロー処理前において、プリント配線基板と電磁波吸収体とを接着するために、150〜200℃の温度で加圧プレスして150℃前後の温度で1時間程度の熱処理を施す工程がある。従って、バインダー層3の材料としては、200℃の温度環境で60分間放置されたときにおいても外観変化しないような耐熱性を有することが好ましい。   In general, the reflow process is performed at a temperature of about 260 ° C. for several minutes. Before the reflow process, in order to bond the printed wiring board and the electromagnetic wave absorber, a pressure press is performed at a temperature of 150 to 200 ° C. to 150 ° C. There is a step of performing a heat treatment for about 1 hour at a temperature around 1C. Therefore, it is preferable that the material of the binder layer 3 has heat resistance that does not change the appearance even when left in a temperature environment of 200 ° C. for 60 minutes.

また、基材層1と電磁波吸収層2との間にバインダー層3を挿入しても電磁波吸収体10全体としてのフレキシブル性を維持させる必要があるので、バインダー層3としても一定のフレキシブル性を有するように材料及び膜厚等を調整することが好ましい。   Moreover, even if the binder layer 3 is inserted between the base material layer 1 and the electromagnetic wave absorbing layer 2, it is necessary to maintain the flexibility of the entire electromagnetic wave absorber 10, so that the binder layer 3 has a certain flexibility. It is preferable to adjust the material, film thickness, and the like so as to have them.

このようなバインダー層3の材料としては、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂、又はアクリル樹脂等の合成樹脂が挙げられる。   Examples of the material for the binder layer 3 include synthetic resins such as polyester resin, epoxy resin, phenol resin, urethane resin, and acrylic resin.

これらの合成樹脂のうちバインダー層3のより好ましい材料としては、高耐熱性を有する材料であって、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、又はエポキシ樹脂である。なお、耐熱性だけではなく基材層1との接着性を考慮すると、ポリエステル樹脂、特に、飽和ポリエステル樹脂を用いることが好ましい。また、耐熱性及び熱収縮性の観点からは、エポキシ樹脂を用いることが好ましい。但し、エポキシ樹脂は保管時の温度管理等が煩雑であるので、生産管理の観点からは、エポキシ樹脂よりもポリエステル樹脂の方がより好ましい。   Among these synthetic resins, a more preferable material for the binder layer 3 is a material having high heat resistance, and is an acrylic resin, a polyester resin, or an epoxy resin. In consideration of not only heat resistance but also adhesion to the base material layer 1, it is preferable to use a polyester resin, particularly a saturated polyester resin. Moreover, it is preferable to use an epoxy resin from a heat resistant and heat shrinkable viewpoint. However, since the temperature management at the time of storage etc. is complicated, the epoxy resin is more preferable than the epoxy resin from the viewpoint of production management.

また、本実施形態において、バインダー層3の合成樹脂には架橋剤を添加し、当該合成樹脂を架橋させてバインダー層3を構成することが好ましい。さらには、バインダー層3としては、熱可塑性樹脂を用いて、これに架橋剤を添加して得られる合成樹脂、すなわち、熱可塑性であり、かつ熱硬化性の合成樹脂とすることが好ましい。このように、合成樹脂を架橋させてバインダー層3を構成することにより、バインダー層3の分子構造を緻密なものとすることができるので、バインダー層3の耐熱性を向上させることができる。これにより、電磁波吸収層2の耐リフロー性を向上させることができる。しかも、合成樹脂を架橋させて構成したバインダー層3を用いることにより、耐熱性及び耐リフロー性を向上することができるだけではなく、接着強度に優れ、柔軟性及び耐衝撃性に優れた電磁波吸収体を得ることができる。   Moreover, in this embodiment, it is preferable that a crosslinking agent is added to the synthetic resin of the binder layer 3, and the said synthetic resin is bridge | crosslinked and the binder layer 3 is comprised. Furthermore, the binder layer 3 is preferably a synthetic resin obtained by adding a crosslinking agent to a thermoplastic resin, that is, a thermoplastic and thermosetting synthetic resin. In this way, by forming the binder layer 3 by cross-linking the synthetic resin, the molecular structure of the binder layer 3 can be made dense, so that the heat resistance of the binder layer 3 can be improved. Thereby, the reflow resistance of the electromagnetic wave absorption layer 2 can be improved. Moreover, by using the binder layer 3 formed by crosslinking a synthetic resin, not only can heat resistance and reflow resistance be improved, but also an electromagnetic wave absorber excellent in adhesive strength, flexibility and impact resistance. Can be obtained.

バインダー層3に用いられる架橋剤としては、バインダー層3を構成する樹脂がポリエステル樹脂である場合は、イソシアネート系架橋剤を用いることが好ましい。特に、多官能タイプのイソシアネート系架橋剤を用いることにより、バインダー層3の耐熱性及び接着性をより向上させることができる。イソシアネート系架橋剤としては、コロネートHL(日本ポリウレタン工業社(株)製)、アクアネートAQ200(日本ポリウレタン工業(株)製)、バーノックDN955(DIC(株)製)などが挙げられる。特に、多官能タイプの中でも、無黄変型のイソシアネート系架橋剤を用いることが好ましい。   As a crosslinking agent used for the binder layer 3, when the resin which comprises the binder layer 3 is a polyester resin, it is preferable to use an isocyanate type crosslinking agent. In particular, the heat resistance and adhesiveness of the binder layer 3 can be further improved by using a polyfunctional type isocyanate-based crosslinking agent. Examples of the isocyanate-based crosslinking agent include Coronate HL (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.), Aquanate AQ200 (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.), Barnock DN955 (manufactured by DIC Corporation), and the like. In particular, among the polyfunctional types, it is preferable to use a non-yellowing type isocyanate crosslinking agent.

但し、バインダー層3に架橋剤を用いる場合、ポリエステル樹脂については、不飽和ポリエステル樹脂ではなく、飽和ポリエステル樹脂を用いることが好ましい。これは、不飽和ポリエステル樹脂を用いてイソシアネート系架橋剤にて架橋させると、熱処理による収縮が大きく、内部応力が残ってしまうおそれがあるからである。   However, when a crosslinking agent is used for the binder layer 3, it is preferable to use a saturated polyester resin instead of an unsaturated polyester resin. This is because if an unsaturated polyester resin is used to crosslink with an isocyanate-based cross-linking agent, shrinkage due to heat treatment is large and internal stress may remain.

このように、本実施形態では、電磁波吸収体10を構成する材料として、リフロー処理の温度を考慮すると一般的には使用が難しいと考えられるポリエステル樹脂を用いた場合であっても、リフロー処理に耐え得る電磁波吸収体10を得ることができる。   Thus, in this embodiment, even if it is a case where the polyester resin considered that it is generally difficult to use is considered as a material which comprises the electromagnetic wave absorber 10, when the temperature of reflow processing is considered, it is used for reflow processing. A tolerable electromagnetic wave absorber 10 can be obtained.

また、その他に、バインダー層3を構成する合成樹脂に用いられる架橋剤としては、アルミキレート架橋剤を用いることもできる。この場合、バインダー層3の材料としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、又はエポキシ樹脂を用いることができ、これらの樹脂にアルミキレート架橋剤を配合してバインダー層3を得ることができる。また、エポキシ系架橋剤も用いることができる。   In addition, an aluminum chelate crosslinking agent can also be used as a crosslinking agent used for the synthetic resin constituting the binder layer 3. In this case, an acrylic resin, a polyester resin, or an epoxy resin can be used as the material of the binder layer 3, and the binder layer 3 can be obtained by blending an aluminum chelate crosslinking agent into these resins. Epoxy crosslinking agents can also be used.

架橋剤を用いてバインダー層3を構成する場合、当該架橋剤の添加量としては、バインダー層3の合成樹脂30重量部に対して3〜16重量部程度とすることが好ましい。これは、架橋剤の添加量が当該合成樹脂30重量部に対して3重量部を下まわると、得られるバインダー層3の耐熱性が低下するとともに、基材層1と電磁波吸収層2との間の接着性(結着性)が不十分となるおそれがあるからである。一方、架橋剤の添加量が当該合成樹脂30重量部に対して16重量部を超えると、得られる電磁波吸収体10が硬くなりすぎて、電磁波吸収体全体としてのフレキシブル性が低下するおそれがある。   When the binder layer 3 is formed using a crosslinking agent, the amount of the crosslinking agent added is preferably about 3 to 16 parts by weight with respect to 30 parts by weight of the synthetic resin of the binder layer 3. This is because when the addition amount of the crosslinking agent is less than 3 parts by weight with respect to 30 parts by weight of the synthetic resin, the heat resistance of the obtained binder layer 3 is reduced, and the base material layer 1 and the electromagnetic wave absorption layer 2 This is because the adhesiveness (binding property) between them may be insufficient. On the other hand, when the addition amount of the crosslinking agent exceeds 16 parts by weight with respect to 30 parts by weight of the synthetic resin, the obtained electromagnetic wave absorber 10 becomes too hard and the flexibility of the entire electromagnetic wave absorber may be reduced. .

さらに、架橋剤を用いてバインダー層3を構成する合成樹脂を架橋する場合は、触媒を用いることが好ましい。触媒としては、アミン系触媒、スズ系触媒、有機アンチモン系触媒、又は有機ビスマス系触媒等が挙げられる。また、これらの触媒は適宜配合して用いることもできる。架橋の際の触媒としては、特に、アミン系触媒を用いることが好ましく、具体的には、トリエチレンテトラミン、ジエチルアミノプロピルアミン、ポリアミド樹脂、イミダゾール類、メタフェニレンジアミン、ポリチオエーテルなどが挙げられる。アミン系触媒を用いて架橋することにより、架橋密度が上がり、得られるバインダー層3の軟化点を上昇させることができ、バインダー層3の耐熱性をさらに向上させることができる。このようなバインダー層の軟化点としては260℃以上とすることが好ましい。   Furthermore, it is preferable to use a catalyst when the synthetic resin constituting the binder layer 3 is crosslinked using a crosslinking agent. Examples of the catalyst include amine-based catalysts, tin-based catalysts, organic antimony-based catalysts, and organic bismuth-based catalysts. Moreover, these catalysts can also be mix | blended suitably and can be used. As the catalyst for crosslinking, an amine catalyst is particularly preferably used, and specific examples include triethylenetetramine, diethylaminopropylamine, polyamide resin, imidazoles, metaphenylenediamine, and polythioether. By crosslinking using an amine catalyst, the crosslinking density is increased, the softening point of the resulting binder layer 3 can be increased, and the heat resistance of the binder layer 3 can be further improved. The softening point of such a binder layer is preferably 260 ° C. or higher.

触媒を用いてバインダー層3を架橋する場合、当該触媒の添加量としては、架橋剤100重量部に対して4〜25重量部程度とすることが好ましい。これは、触媒の添加量が架橋剤100重量部に対して4重量部を下まわると、バインダー層3が硬化する速度が遅くなりすぎるおそれがあるからである。一方、触媒の添加量が架橋剤100重量部に対して25重量部を超えると、逆に反応が早くなりすぎて樹脂溶液のポットライフ(可使時間)が短くなりすぎるおそれがある。   When the binder layer 3 is crosslinked using a catalyst, the amount of the catalyst added is preferably about 4 to 25 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the crosslinking agent. This is because if the added amount of the catalyst is less than 4 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the crosslinking agent, the speed at which the binder layer 3 is cured may be too slow. On the other hand, when the addition amount of the catalyst exceeds 25 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the cross-linking agent, the reaction becomes too fast and the pot life (pot life) of the resin solution may be too short.

また、バインダー層3の膜厚は、3μm以上50μm以下とすることが好ましい。これは、バインダー層3の膜厚が3μm未満であると、基材層1と電磁波吸収層2との接着性(結着性)が低下して、得られる電磁波吸収体10がリフロー処理に耐えられなくなるおそれがあるからである。一方、バインダー層3の膜厚を50μmよりも厚くしても、基材層1と電磁波吸収層2との接着性はあまり向上しないばかりか、バインダー層3の中に溶剤が残留し、これがリフロー処理時に気化してボイド(気孔)となって、かえってバインダー層3の接着性が低下するおそれがある。   Moreover, it is preferable that the film thickness of the binder layer 3 shall be 3 micrometers or more and 50 micrometers or less. This is because when the film thickness of the binder layer 3 is less than 3 μm, the adhesiveness (binding property) between the base material layer 1 and the electromagnetic wave absorbing layer 2 is lowered, and the obtained electromagnetic wave absorber 10 can withstand reflow treatment. This is because there is a risk of being lost. On the other hand, even if the thickness of the binder layer 3 is larger than 50 μm, not only the adhesion between the base material layer 1 and the electromagnetic wave absorbing layer 2 is improved, but also a solvent remains in the binder layer 3, which is reflowed. There is a possibility that the adhesiveness of the binder layer 3 may be deteriorated by vaporizing during processing to form voids (pores).

なお、バインダー層3に用いられる合成樹脂としては、重量平均分子量が5万以下の架橋密度形成型の合成樹脂を用いることが好ましい。また、架橋剤を用いてバインダー層3を構成する場合は、架橋剤にて架橋させる前における重量平均分子量が5万以下の架橋密度形成型の合成樹脂を用いることが好ましい。なお、架橋密度形成型とは、上述の多官能型のイソシアネート系架橋剤と三次元架橋するタイプのものをいう。   In addition, as a synthetic resin used for the binder layer 3, it is preferable to use the crosslink density formation type synthetic resin whose weight average molecular weight is 50,000 or less. When the binder layer 3 is formed using a crosslinking agent, it is preferable to use a crosslinking density forming type synthetic resin having a weight average molecular weight of 50,000 or less before crosslinking with the crosslinking agent. The crosslink density forming type refers to a type that is three-dimensionally cross-linked with the polyfunctional isocyanate-based cross-linking agent described above.

(電磁波吸収層)
本実施形態における電磁波吸収層2は、電磁波、特に電波を吸収することができる機能を有し、合成樹脂と電磁波吸収材とで構成される。
(Electromagnetic wave absorbing layer)
The electromagnetic wave absorbing layer 2 in the present embodiment has a function of absorbing electromagnetic waves, particularly radio waves, and is composed of a synthetic resin and an electromagnetic wave absorbing material.

電磁波吸収層2を構成する合成樹脂としては、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、エチレン樹脂、スチレンブタジエン樹脂、ニトリルブタジエン樹脂、又はエポキシ樹脂等が挙げられる。電磁波吸収性能の安定性を考慮すると、電磁波吸収層2の合成樹脂としては、ウレタン樹脂を用いることが好ましい。   Examples of the synthetic resin constituting the electromagnetic wave absorbing layer 2 include polyurethane resin, acrylic resin, polyester resin, polyamide resin, silicone resin, fluorine resin, ethylene resin, styrene butadiene resin, nitrile butadiene resin, or epoxy resin. Considering the stability of the electromagnetic wave absorption performance, it is preferable to use a urethane resin as the synthetic resin of the electromagnetic wave absorption layer 2.

また、電磁波吸収層2を構成する電磁波吸収材としては、カーボンブラック及び磁性金属が用いられる。   Moreover, as the electromagnetic wave absorbing material constituting the electromagnetic wave absorbing layer 2, carbon black and magnetic metal are used.

カーボンブラックとしては、粒子径が10nm〜300μmのものを用いることが好ましい。特に、電磁波吸収性能の観点からは、粒子径が1μm〜300μm程度である大径粒子と粒子径が1μm未満の小径微粒子とを配合してなるカーボンブラックを用いることが好ましい。また、粒子径が1μm〜300μm程度の鱗片状粒子(鱗片状粒子の長径)は、広い表面積を有することから電磁波吸収性能に優れ、かつ、その形状によって薄い電磁波吸収層2を形成することができる。なお、粒子径は、電子顕微鏡にて観察することにより確認することができる。   Carbon black having a particle size of 10 nm to 300 μm is preferably used. In particular, from the viewpoint of electromagnetic wave absorption performance, it is preferable to use carbon black obtained by blending large particles having a particle size of about 1 μm to 300 μm and small particles having a particle size of less than 1 μm. Moreover, since the scaly particles having a particle diameter of about 1 μm to 300 μm (the long diameter of the scaly particles) have a wide surface area, they have excellent electromagnetic wave absorbing performance and can form the thin electromagnetic wave absorbing layer 2 depending on the shape thereof. . The particle diameter can be confirmed by observing with an electron microscope.

また、磁性金属の材料としては、鉄珪素合金、鉄アルミ珪素合金、鉄ニッケル合金、マグネタイト等の磁性金属粒子(磁性金属粉末)を用いることができる。なお、磁性金属の形状は、鱗片状、棒状、針状、球状、不定形等のいかなる形態であってもよいが、電磁波吸収性能の観点からは、鱗片状の磁性金属を用いることが好ましい。   As the magnetic metal material, magnetic metal particles (magnetic metal powder) such as iron silicon alloy, iron aluminum silicon alloy, iron nickel alloy, and magnetite can be used. The shape of the magnetic metal may be any shape such as a scale shape, a rod shape, a needle shape, a spherical shape, and an indeterminate shape, but it is preferable to use a scale-like magnetic metal from the viewpoint of electromagnetic wave absorption performance.

磁性金属粒子の粒子径は、0.01μm〜300μmであることが好ましく、特に、0.2μm〜100μmであることが好ましい。なお、磁性金属粒子の粒子径とは、磁性金属粒子の形状が球状以外の場合、例えば鱗片状の場合は、最も長い対角線の長さ(長径)をいう。   The particle diameter of the magnetic metal particles is preferably 0.01 μm to 300 μm, and particularly preferably 0.2 μm to 100 μm. The particle diameter of the magnetic metal particles refers to the length of the longest diagonal line (major diameter) when the shape of the magnetic metal particles is other than a sphere, for example, when the shape is a scale.

電磁波吸収層2におけるカーボンブラックと磁性金属のそれぞれの含有量は、電磁波吸収層2を構成する合成樹脂100重量部に対して、カーボンブラックの含有量は50〜200重量部とし、また、磁性金属の含有量は50〜100重量部として、配合することが好ましい。カーボンブラックの含有量が、当該合成樹脂100重量部に対して50重量部未満であると十分な電磁波吸収性能を得ることができず、また、当該合成樹脂100重量部に対して200重量部を超えると電磁波シールドとしての性能(電磁波反射性能)が強くなり電磁波吸収性能を得ることができなくなるおそれがあるからである。また、カーボンブラックの含有量が、当該合成樹脂100重量部に対して200重量部を超えると、磁性金属の含有量との兼ね合いもあるが、電磁波吸収層2自体が脆くなるおそれがある。一方、磁性金属の含有量が、電磁波吸収層2の合成樹脂100重量部に対して50重量部未満であると、十分な電磁波吸収性能を得ることができないおそれがあり、また、当該合成樹脂100重量部に対して100重量部を超えたとしても電磁波吸収性能はそれほど向上せずコスト的に不利であるとともに、電磁波吸収層2のフレキシブル性が低下してしまうおそれがある。   The content of carbon black and magnetic metal in the electromagnetic wave absorbing layer 2 is 50 to 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the synthetic resin constituting the electromagnetic wave absorbing layer 2, and the magnetic metal The content of is preferably 50 to 100 parts by weight. If the carbon black content is less than 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the synthetic resin, sufficient electromagnetic wave absorption performance cannot be obtained, and 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the synthetic resin. This is because if it exceeds, the performance as an electromagnetic wave shield (electromagnetic wave reflection performance) becomes strong, and the electromagnetic wave absorption performance may not be obtained. On the other hand, when the carbon black content exceeds 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the synthetic resin, there is a balance with the magnetic metal content, but the electromagnetic wave absorbing layer 2 itself may become brittle. On the other hand, when the content of the magnetic metal is less than 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the synthetic resin of the electromagnetic wave absorbing layer 2, there is a possibility that sufficient electromagnetic wave absorbing performance cannot be obtained. Even if it exceeds 100 parts by weight with respect to parts by weight, the electromagnetic wave absorption performance is not improved so much, which is disadvantageous in terms of cost, and the flexibility of the electromagnetic wave absorption layer 2 may be reduced.

また、本実施形態において、電磁波吸収層2には必要に応じて架橋剤を添加し、合成樹脂を架橋させて電磁波吸収層2を構成しても構わない。このような架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤を用いることが好ましく、特に、バインダー層3と同様に、多官能タイプのイソシアネート系架橋剤を用いることが好ましい。これにより、電磁波吸収層2の耐熱性及び接着性を向上させることができる。なお、イソシアネート系架橋剤としては、コロネートHL(日本ポリウレタン工業(株)製)、アクアネートAQ200(日本ポリウレタン工業(株)製)、バーノックDN955(DIC(株)製)などが挙げられる。特に、多官能タイプの中でも、無黄変型のイソシアネート系架橋剤を用いることが好ましい。   In the present embodiment, the electromagnetic wave absorbing layer 2 may be configured by adding a cross-linking agent as necessary and crosslinking the synthetic resin. As such a crosslinking agent, for example, an isocyanate-based crosslinking agent is preferably used, and in particular, a polyfunctional type isocyanate-based crosslinking agent is preferably used in the same manner as the binder layer 3. Thereby, the heat resistance and adhesiveness of the electromagnetic wave absorption layer 2 can be improved. Examples of the isocyanate-based crosslinking agent include Coronate HL (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.), Aquanate AQ200 (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.), Barnock DN955 (manufactured by DIC Corporation), and the like. In particular, among the polyfunctional types, it is preferable to use a non-yellowing type isocyanate crosslinking agent.

なお、架橋剤を用いて電磁波吸収層2を構成する場合、架橋剤の添加部数は、ウレタン樹脂100重量部に対して1〜20重量部程度添加することが好ましい。   In addition, when comprising the electromagnetic wave absorption layer 2 using a crosslinking agent, it is preferable that the addition part number of a crosslinking agent adds about 1-20 weight part with respect to 100 weight part of urethane resins.

また、本実施形態において、電磁波吸収層2は、表面抵抗値が10Ω/□以上、200Ω/□以下であることが好ましい。電磁波吸収層2の表面抵抗値が10Ω/□未満であると電磁波シールド性能が強くなり電磁波を吸収するのではなく電磁波を反射してしまい、反射した電磁波によって電子機器の誤作動が発生するおそれがある。また、電磁波吸収層2の表面抵抗値が200Ω/□を超えると、十分な電磁波吸収性能を得ることができず、電磁波吸収不足によって電子機器の誤作動が発生するおそれがある。なお、電磁波吸収層2のより好ましい表面抵抗値は、20Ω/□以上、170Ω/□以下である。   In the present embodiment, the electromagnetic wave absorbing layer 2 preferably has a surface resistance value of 10Ω / □ or more and 200Ω / □ or less. If the surface resistance value of the electromagnetic wave absorbing layer 2 is less than 10Ω / □, the electromagnetic wave shielding performance is enhanced and the electromagnetic wave is reflected instead of absorbing the electromagnetic wave, and the reflected electromagnetic wave may cause malfunction of the electronic device. is there. Moreover, when the surface resistance value of the electromagnetic wave absorption layer 2 exceeds 200 Ω / □, sufficient electromagnetic wave absorption performance cannot be obtained, and malfunction of electronic equipment may occur due to insufficient electromagnetic wave absorption. In addition, the more preferable surface resistance value of the electromagnetic wave absorption layer 2 is 20Ω / □ or more and 170Ω / □ or less.

また、本実施形態において、電磁波吸収層2の膜厚は、5μm以上、100μm以下であることが好ましい。電磁波吸収層2の膜厚が5μm未満であると十分な電磁波吸収性能を得ることができないおそれがある。また、電磁波吸収層2の膜厚が100μmを超えても電磁波吸収性能はそれ以上あまり向上せず、コスト的に好ましくない。電磁波吸収層2のより好ましい膜厚は、10μm以上、50μm以下である。   Moreover, in this embodiment, it is preferable that the film thickness of the electromagnetic wave absorption layer 2 is 5 micrometers or more and 100 micrometers or less. If the film thickness of the electromagnetic wave absorbing layer 2 is less than 5 μm, sufficient electromagnetic wave absorbing performance may not be obtained. Moreover, even if the film thickness of the electromagnetic wave absorption layer 2 exceeds 100 μm, the electromagnetic wave absorption performance is not improved so much, which is not preferable in terms of cost. A more preferable film thickness of the electromagnetic wave absorbing layer 2 is 10 μm or more and 50 μm or less.

なお、本実施形態に係る電磁波吸収層2の電磁波吸収性能としては、FPC等に電磁波吸収体10を積層した際、300〜800MHz帯において、未積層品に対して、発生する電磁波が少なくとも1〜2dB程度低下するような効果であればよい。また、電磁波吸収性能としては、電磁波が2dB以上低下するようなものであってもよい。   In addition, as electromagnetic wave absorption performance of the electromagnetic wave absorption layer 2 according to the present embodiment, when the electromagnetic wave absorber 10 is laminated on an FPC or the like, at least 1 to 1 electromagnetic waves are generated with respect to an unlaminated product in a 300 to 800 MHz band. Any effect that reduces about 2 dB may be used. The electromagnetic wave absorbing performance may be such that the electromagnetic wave is reduced by 2 dB or more.

なお、本実施形態において、電磁波吸収体10の電磁波吸収性能は、IEC−62333に準じ電波吸収性能測定S21方式、キーコム型近傍界用電波吸収測定装置を用いて測定することができる。   In the present embodiment, the electromagnetic wave absorption performance of the electromagnetic wave absorber 10 can be measured using a radio wave absorption performance measurement S21 method and a Keycom-type near-field radio wave absorption measurement device according to IEC-62333.

(電磁波吸収体の作用効果)
以上、本発明の第1の実施形態に係る電磁波吸収体10は、基材層1と電磁波吸収層2との間に、リフロー処理に耐える耐熱性を有する樹脂で構成されたバインダー層3を備えている。これにより、電磁波吸収体10に対してリフロー処理が施されたとしても、電磁波吸収体10に膨れや剥れ等の外観異常は見られない。従って、リフロー処理に耐えることのできる柔軟性を有する電磁波吸収体10を提供することができる。
(Effect of electromagnetic wave absorber)
As described above, the electromagnetic wave absorber 10 according to the first embodiment of the present invention includes the binder layer 3 made of a heat-resistant resin that can withstand reflow treatment, between the base material layer 1 and the electromagnetic wave absorption layer 2. ing. Thereby, even if the reflow process is performed on the electromagnetic wave absorber 10, no abnormal appearance such as swelling or peeling is observed in the electromagnetic wave absorber 10. Therefore, the electromagnetic wave absorber 10 having flexibility that can withstand the reflow treatment can be provided.

このように、本実施形態に係る電磁波吸収体10は耐リフロー性を有するものであるので、電磁波吸収層2としては、リフロー処理における260℃以上の軟化点が必要であると考えられる。しかしながら、本実施形態では上記バインダー層3を備えており、当該バインダー層3が電磁波吸収層2を保護しているので、電磁波吸収層2の合成樹脂材料として一般的に用いられている170〜180℃程度の耐熱性を有するものを用いたとしても、電磁波吸収体の外観異常は発生しない。   Thus, since the electromagnetic wave absorber 10 according to the present embodiment has reflow resistance, the electromagnetic wave absorbing layer 2 is considered to require a softening point of 260 ° C. or higher in the reflow treatment. However, in the present embodiment, the binder layer 3 is provided, and the binder layer 3 protects the electromagnetic wave absorption layer 2. Therefore, the synthetic resin material of the electromagnetic wave absorption layer 2 is generally used as 170 to 180. Even if one having a heat resistance of about 0 ° C. is used, the appearance abnormality of the electromagnetic wave absorber does not occur.

なお、リフロー処理中にバインダー層3や電磁波吸収層2が軟化したり一部溶融したりした場合においても、リフロー処理後(冷却後)において、これらの合成樹脂が膨れたり剥れたり、また滲み出したりしなければよい。従って、バインダー層3や電磁波吸収層2に用いられる樹脂としては、熱可塑性樹脂であっても構わない。より好ましくは、熱可塑性であり、かつ熱硬化性の合成樹脂を用いることが好ましい。特に、バインダー層3と電磁波吸収層2の両方の樹脂が、ともに熱可塑性であり、かつ熱硬化性の合成樹脂を用いることにより、互いに接着強度に優れ、柔軟性、耐衝撃性及び耐熱性に優れた電磁波吸収体を得ることができる。   Even when the binder layer 3 or the electromagnetic wave absorption layer 2 is softened or partially melted during the reflow process, these synthetic resins swell or peel off or bleed after the reflow process (after cooling). If you do not put out. Therefore, the resin used for the binder layer 3 and the electromagnetic wave absorption layer 2 may be a thermoplastic resin. More preferably, it is preferable to use a thermoplastic and thermosetting synthetic resin. In particular, both the resin of the binder layer 3 and the electromagnetic wave absorbing layer 2 are both thermoplastic, and by using a thermosetting synthetic resin, they have excellent adhesive strength, flexibility, impact resistance and heat resistance. An excellent electromagnetic wave absorber can be obtained.

また、本実施形態に係る電磁波吸収体10におけるバインダー層3はフレキシブル性を有するので、バインダー層3が挿入されても電磁波吸収体10全体のフレキシブル性を従来と同様に維持することができる。従って、本実施形態に係る電磁波吸収体10において、電磁波吸収層2に接着剤を塗布して基材層1が露出面となるように当該電磁波吸収体10をフレキシブル性のあるFPCやケーブルに貼り付けることにより、柔軟で、かつ発生電磁波を抑制することのできるプリント配線基板又はフラット配線ケーブルを得ることができる。しかも、本実施形態に係る電磁波吸収体10は、上述のように耐リフロー性を有するので、当該プリント配線基板に対してはんだリフローを適用しても、電磁波吸収体10に膨れや剥れが生じたりプリント配線基板上に合成樹脂が流れ出したり等の不具合は生じない。すなわち、本実施形態に係る電磁波吸収体10は、フレキシブル性を維持させながら耐リフロー性を発揮するように構成された電磁波吸収体である。   Moreover, since the binder layer 3 in the electromagnetic wave absorber 10 according to the present embodiment has flexibility, the flexibility of the entire electromagnetic wave absorber 10 can be maintained in the same manner as before even when the binder layer 3 is inserted. Therefore, in the electromagnetic wave absorber 10 according to the present embodiment, an adhesive is applied to the electromagnetic wave absorption layer 2 and the electromagnetic wave absorber 10 is attached to a flexible FPC or cable so that the base material layer 1 becomes an exposed surface. By attaching, a printed wiring board or a flat wiring cable that is flexible and can suppress generated electromagnetic waves can be obtained. Moreover, since the electromagnetic wave absorber 10 according to this embodiment has reflow resistance as described above, even if solder reflow is applied to the printed wiring board, the electromagnetic wave absorber 10 is swollen or peeled off. And no problems such as the synthetic resin flowing out on the printed wiring board. That is, the electromagnetic wave absorber 10 according to the present embodiment is an electromagnetic wave absorber configured to exhibit reflow resistance while maintaining flexibility.

そして、本実施形態に係る電磁波吸収体10が積層されたプリント配線基板等を電子機器内に設けることによって、当該電磁波吸収体10によって電子機器内の不要な電磁波を吸収することができるので、電子機器の誤作動の発生を抑制することができる。   And by providing the printed wiring board etc. in which the electromagnetic wave absorber 10 which concerns on this embodiment was laminated | stacked in an electronic device, since the said electromagnetic wave absorber 10 can absorb the unnecessary electromagnetic wave in an electronic device, electronic Occurrence of malfunction of equipment can be suppressed.

(電磁波吸収体の製造方法)
次に、本発明の第1の実施形態に係る電磁波吸収体10の製造方法について、図2を用いて説明する。図2は、本発明の第1の実施形態に係る電磁波吸収体の製造方法のフローチャートである。
(Method for producing electromagnetic wave absorber)
Next, the manufacturing method of the electromagnetic wave absorber 10 according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a flowchart of the manufacturing method of the electromagnetic wave absorber according to the first embodiment of the present invention.

図2に示すように、まず、離型シート上に、電磁波吸収層2を形成するための樹脂溶液である第1の樹脂溶液(電磁波吸収層用樹脂溶液)を塗布する(第1の樹脂溶液塗布工程:S11)。ここで、離型シートとは、合成樹脂が他の部材と接着しないように表面処理が施されたシートのことであり、より具体的には離型紙や離型フィルムである。   As shown in FIG. 2, first, a first resin solution (resin solution for electromagnetic wave absorbing layer), which is a resin solution for forming the electromagnetic wave absorbing layer 2, is applied on the release sheet (first resin solution). Application process: S11). Here, the release sheet is a sheet that has been surface-treated so that the synthetic resin does not adhere to other members, and more specifically, release paper or release film.

第1の樹脂溶液としては、上述した電磁波吸収層2の合成樹脂を、ジメチルホルムアミド、メチルエチルケトン、トルエン、キシレンなどの有機溶媒や水などによって、溶解、分散、乳化させたものを用いる。また、溶媒を用いないで、ホットメルト型樹脂を加熱溶解した樹脂溶液を用いることもできる。   As the first resin solution, a solution obtained by dissolving, dispersing, or emulsifying the above-described synthetic resin of the electromagnetic wave absorbing layer 2 with an organic solvent such as dimethylformamide, methyl ethyl ketone, toluene, xylene, or water is used. Further, a resin solution in which a hot melt resin is dissolved by heating without using a solvent can also be used.

第1の樹脂溶液には、必要に応じて、上述の架橋剤を添加する。また、架橋剤の他に、触媒や顔料、難燃剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等を添加してもよい。但し、電磁波吸収層2の電磁波吸収性能を阻害したり軟化点を大きく低下させたりしない程度に調整することが好ましい。   The above-mentioned crosslinking agent is added to the first resin solution as necessary. In addition to the crosslinking agent, a catalyst, a pigment, a flame retardant, an antioxidant, an ultraviolet absorber, and the like may be added. However, it is preferable to adjust to such an extent that the electromagnetic wave absorbing performance of the electromagnetic wave absorbing layer 2 is not hindered or the softening point is not greatly lowered.

また、第1の樹脂溶液の離型シート上への塗布方法は、ナイフコータ、パイプコータ、又は押し出しコータ等を用いることができる。なお、塗布の際のスリット間隔は、目的とする電磁波吸収層2の厚みを勘案し設定すればよい。   Moreover, the coating method of the 1st resin solution on a mold release sheet can use a knife coater, a pipe coater, or an extrusion coater. In addition, what is necessary is just to set the slit space | interval in the case of application | coating considering the thickness of the target electromagnetic wave absorption layer 2. FIG.

次に、離型シート上に塗布した第1の樹脂溶液に対して熱処理を施して電磁波吸収層2を成膜する(電磁波吸収層形成工程:S12)。   Next, the first resin solution applied on the release sheet is heat-treated to form the electromagnetic wave absorption layer 2 (electromagnetic wave absorption layer forming step: S12).

このとき、第1の樹脂溶液に溶媒を用いた場合は、オーブン等を用いて、50〜130℃の温度で30秒〜5分程度乾燥することにより、電磁波吸収層2を成膜する。また、架橋剤を用いた場合は、合成樹脂を架橋させるために、130℃〜200℃の温度で10秒〜5分程度の加熱処理を施す。   At this time, when a solvent is used for the first resin solution, the electromagnetic wave absorbing layer 2 is formed by drying at a temperature of 50 to 130 ° C. for about 30 seconds to 5 minutes using an oven or the like. Moreover, when using a crosslinking agent, in order to bridge | crosslink a synthetic resin, the heat processing for about 10 second-about 5 minutes are performed at the temperature of 130 to 200 degreeC.

一方、第1の樹脂溶液に溶媒を用いなかった場合は、そのまま冷却して電磁波吸収層2を成膜する。また、架橋剤を用いた場合は、合成樹脂を架橋させるために、上記の加熱処理や加湿処理を施す。   On the other hand, when no solvent is used for the first resin solution, the electromagnetic wave absorbing layer 2 is formed by cooling as it is. When a crosslinking agent is used, the above heat treatment or humidification treatment is performed in order to crosslink the synthetic resin.

次に、離型シート上に成膜した電磁波吸収層2上に、バインダー層3を形成するための樹脂溶液である第2の樹脂溶液(バインダー層用樹脂溶液)を塗布する(第2の樹脂溶液塗布工程:S13)。   Next, a second resin solution (binder layer resin solution) that is a resin solution for forming the binder layer 3 is applied on the electromagnetic wave absorbing layer 2 formed on the release sheet (second resin). Solution coating step: S13).

第2の樹脂溶液としては、上述したバインダー層3の合成樹脂に対して、第1の樹脂溶液と同様の方法を施すことにより得ることができる。また、第1の樹脂溶液と同様に、必要に応じて、架橋剤、触媒、又は顔料等の添加剤を用いてもよい。   As a 2nd resin solution, it can obtain by performing the method similar to a 1st resin solution with respect to the synthetic resin of the binder layer 3 mentioned above. Moreover, you may use additives, such as a crosslinking agent, a catalyst, or a pigment, as needed similarly to the 1st resin solution.

次に、電磁波吸収層2上に塗布した第2の樹脂溶液に対して熱処理を施してバインダー層3を成膜する(バインダー層形成工程:S14)。   Next, the second resin solution applied on the electromagnetic wave absorption layer 2 is subjected to heat treatment to form the binder layer 3 (binder layer forming step: S14).

第2の樹脂溶液の熱処理等については、第1の樹脂溶液の熱処理等と同様の方法によって行うことができる。   The heat treatment of the second resin solution can be performed by the same method as the heat treatment of the first resin solution.

次に、成膜したバインダー層3の上に基材層1を重ね合わせることにより、バインダー層3を介して基材層1と電磁波吸収層2とを貼り合わせる(基材層貼り合わせ工程:S15)。   Next, the base material layer 1 is superposed on the formed binder layer 3 so that the base material layer 1 and the electromagnetic wave absorption layer 2 are bonded together via the binder layer 3 (base material layer bonding step: S15). ).

貼り合わせの条件としては、バインダー層3を構成する合成樹脂の特性に合わせればよく、例えば、室温(10℃ないし25℃)〜200℃の温度で0.01MPa〜10MPa程度の圧力で貼り合わせることができる。これにより、離型シート上に、基材層1、バインダー層3及び電磁波吸収層2がこの順で積層された積層構造体を得ることができる。   The bonding conditions may be matched to the characteristics of the synthetic resin constituting the binder layer 3. For example, the bonding is performed at a temperature of room temperature (10 ° C. to 25 ° C.) to 200 ° C. and a pressure of about 0.01 MPa to 10 MPa. Can do. Thereby, the laminated structure by which the base material layer 1, the binder layer 3, and the electromagnetic wave absorption layer 2 were laminated | stacked in this order on the release sheet can be obtained.

なお、その後、必要に応じて、電磁波吸収層2又はバインダー層3における合成樹脂の架橋を促進させるために、50℃〜90℃程度の温度で12時間〜100時間程度のエージングを行ってもよい。   In addition, in order to accelerate | stimulate the bridge | crosslinking of the synthetic resin in the electromagnetic wave absorption layer 2 or the binder layer 3 after that, you may perform aging for about 12 to 100 hours at the temperature of about 50 to 90 degreeC as needed. .

最後に、基材層1、バインダー層3及び電磁波吸収層2の積層構造体から離型シートを剥離する(離型シート剥離工程:S16)。   Finally, a release sheet is peeled from the laminated structure of the base material layer 1, the binder layer 3, and the electromagnetic wave absorption layer 2 (release sheet peeling step: S16).

以上により、基材層1と電磁波吸収層2との間にバインダー層3が形成された電磁波吸収体10を得ることができる。   By the above, the electromagnetic wave absorber 10 in which the binder layer 3 is formed between the base material layer 1 and the electromagnetic wave absorbing layer 2 can be obtained.

(第2の実施形態)
次に、本発明の第2の実施形態に係る電磁波吸収体20について、図3を用いて説明する。図3は、本発明の第2の実施形態に係る電磁波吸収体の断面図である。
(Second Embodiment)
Next, an electromagnetic wave absorber 20 according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a cross-sectional view of an electromagnetic wave absorber according to the second embodiment of the present invention.

図3に示すように、本発明の第2の実施形態に係る電磁波吸収体20は、図1に示す本発明の第1の実施形態に係る電磁波吸収体10に対して、さらに、接着剤層4を有するものである。なお、接着剤層4以外の構成要素は、本発明の第1の実施形態に係る電磁波吸収体と同じである。従って、図3において、図1に示す構成要素と同じ構成要素については同じ符号を付しており、その詳しい説明は省略する。   As shown in FIG. 3, the electromagnetic wave absorber 20 according to the second embodiment of the present invention further includes an adhesive layer with respect to the electromagnetic wave absorber 10 according to the first embodiment of the present invention shown in FIG. 4. The components other than the adhesive layer 4 are the same as those of the electromagnetic wave absorber according to the first embodiment of the present invention. Therefore, in FIG. 3, the same components as those shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

図3に示すように、本発明の第2の実施形態に係る電磁波吸収体20は、第1の実施形態と同様にFPC等のプリント配線基板やケーブル等に積層されるフィルム状の電磁波吸収体であって、基材層1と、電磁波吸収層2と、基材層1と電磁波吸収層2の間に形成されたバインダー層3と、バインダー層3上に形成された接着剤層4とを備える。本実施形態に係る電磁波吸収体20も、各層が、高分子化合物からなる所定の合成樹脂によって構成され、フレキシブル性を有する電磁波吸収体であり、FPC等に積層して用いられる。   As shown in FIG. 3, the electromagnetic wave absorber 20 according to the second embodiment of the present invention is a film-like electromagnetic wave absorber laminated on a printed wiring board such as an FPC, a cable, etc., as in the first embodiment. A base material layer 1, an electromagnetic wave absorption layer 2, a binder layer 3 formed between the base material layer 1 and the electromagnetic wave absorption layer 2, and an adhesive layer 4 formed on the binder layer 3. Prepare. Each layer of the electromagnetic wave absorber 20 according to the present embodiment is also an electromagnetic wave absorber that has flexibility and includes a predetermined synthetic resin made of a polymer compound, and is used by being laminated on an FPC or the like.

本実施形態における接着剤層4は、FPC等の電磁波発生部材に接着させるためのものである。接着剤層4によって、電磁波吸収体20をFPC等の電磁波発生部材に容易に貼り付けることができる。   The adhesive layer 4 in this embodiment is for adhering to an electromagnetic wave generating member such as an FPC. By the adhesive layer 4, the electromagnetic wave absorber 20 can be easily attached to an electromagnetic wave generating member such as an FPC.

接着剤層4としては、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、紫外線硬化樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂などを用いることができる。本実施形態では、特に、耐熱性がより優れているエポキシ樹脂を用いることが好ましい。   As the adhesive layer 4, an epoxy resin, a phenol resin, a melamine resin, an acrylic resin, a polyester resin, an ultraviolet curable resin, a urethane resin, a silicone resin, or the like can be used. In the present embodiment, it is particularly preferable to use an epoxy resin having better heat resistance.

また、本実施形態に係る電磁波吸収体20を製造するには、図2に示す各工程を施した後に、さらに、電磁波吸収層2の上に接着剤層4を塗布形成する。すなわち、離型シートを剥離した後、露出させた電磁波吸収層2の上に、上記所定の材料からなる接着剤層4を塗布して積層する。なお、接着剤層4の塗布方法については、ナイフコータ、パイプコータ、押し出しコータ等を用いることができる。なお、塗布の際のスリット間隔は、目的とする接着剤層4の厚みを勘案し設定すればよい。   Moreover, in order to manufacture the electromagnetic wave absorber 20 according to the present embodiment, the adhesive layer 4 is further formed on the electromagnetic wave absorbing layer 2 by applying each step shown in FIG. That is, after peeling off the release sheet, the adhesive layer 4 made of the predetermined material is applied and laminated on the exposed electromagnetic wave absorbing layer 2. In addition, about the coating method of the adhesive bond layer 4, a knife coater, a pipe coater, an extrusion coater etc. can be used. In addition, what is necessary is just to set the slit space | interval in the case of application | coating considering the thickness of the target adhesive bond layer 4. FIG.

なお、接着剤層4としてエポキシ樹脂を用いる場合、エポキシ樹脂は加熱されると樹脂が硬化してしまい、FPC等と接着することができなくなるおそれがある。従って、エポキシ樹脂は、10℃以下の低温で保存することが好ましく、また、FPC等と貼り合せるまで熱をかけないようにすることが好ましい。   When an epoxy resin is used as the adhesive layer 4, the epoxy resin may be cured when heated, and may not be able to adhere to the FPC or the like. Therefore, it is preferable to store the epoxy resin at a low temperature of 10 ° C. or lower, and it is preferable not to apply heat until it is bonded to FPC or the like.

(第3の実施形態)
次に、本発明の第3の実施形態に係る電磁波吸収体30、31について、図4(a)及び図4(b)を用いて説明する。図4(a)及び図4(b)は、本発明の第3の実施形態に係る電磁波吸収体の断面図である。
(Third embodiment)
Next, electromagnetic wave absorbers 30 and 31 according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 4 (a) and 4 (b). FIG. 4A and FIG. 4B are cross-sectional views of an electromagnetic wave absorber according to the third embodiment of the present invention.

図4(a)に示すように、本発明の第3の実施形態に係る電磁波吸収体30は、図1に示す本発明の第1の実施形態に係る電磁波吸収体10のバインダー層3に難燃剤を添加させたものである。なお、図4(a)において、図1に示す構成要素と同じ構成要素については同じ符号を付しており、その詳しい説明は省略する。   As shown in FIG. 4A, the electromagnetic wave absorber 30 according to the third embodiment of the present invention is difficult for the binder layer 3 of the electromagnetic wave absorber 10 according to the first embodiment of the present invention shown in FIG. A flame retardant is added. In FIG. 4A, the same components as those shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

図4(a)に示すように、本発明の第3の実施形態に係る電磁波吸収体30は、第1の実施形態と同様にFPC等のプリント配線基板やケーブル等に積層されるフィルム状の電磁波吸収体であって、基材層1と、電磁波吸収層2と、基材層1と電磁波吸収層2の間に形成されたバインダー層35とを備える。   As shown in FIG. 4A, the electromagnetic wave absorber 30 according to the third embodiment of the present invention is in the form of a film laminated on a printed wiring board such as an FPC, a cable, or the like as in the first embodiment. It is an electromagnetic wave absorber, and includes a base material layer 1, an electromagnetic wave absorption layer 2, and a binder layer 35 formed between the base material layer 1 and the electromagnetic wave absorption layer 2.

本実施形態におけるバインダー層35は、上述のとおり、図1に示すバインダー層3に難燃剤が添加されたものである。難燃剤としては、リン系難燃剤又はハロゲン系難燃剤を用いることができる。環境の観点からは、リン系難燃剤を用いることが好ましい。   As described above, the binder layer 35 in the present embodiment is obtained by adding a flame retardant to the binder layer 3 shown in FIG. As the flame retardant, a phosphorus flame retardant or a halogen flame retardant can be used. From the environmental viewpoint, it is preferable to use a phosphorus-based flame retardant.

また、難燃剤の添加量は、バインダー層35の合成樹脂30重量部に対して40〜120重量部とすることが好ましい。難燃剤の添加量が当該合成樹脂30重量部に対して40重量部未満になると、十分な難燃性能を得ることができないおそれがある。また、難燃剤の添加量が当該合成樹脂30重量部に対して120重量部を超えると、得られるバインダー層35が脆くなるおそれがある。   The amount of the flame retardant added is preferably 40 to 120 parts by weight with respect to 30 parts by weight of the synthetic resin of the binder layer 35. When the amount of the flame retardant added is less than 40 parts by weight relative to 30 parts by weight of the synthetic resin, there is a possibility that sufficient flame retardant performance cannot be obtained. Moreover, when the addition amount of a flame retardant exceeds 120 weight part with respect to 30 weight part of the said synthetic resin, there exists a possibility that the binder layer 35 obtained may become weak.

このように、バインダー層35に難燃剤を添加することにより、バインダー層35上の電磁波吸収層2の難燃性を向上させることができる。従って、第1の実施形態に係る電磁波吸収体10に対して、難燃性に優れた電磁波吸収体30を得ることができる。   Thus, by adding a flame retardant to the binder layer 35, the flame retardancy of the electromagnetic wave absorbing layer 2 on the binder layer 35 can be improved. Therefore, the electromagnetic wave absorber 30 excellent in flame retardancy can be obtained with respect to the electromagnetic wave absorber 10 according to the first embodiment.

また、図4(a)に示す電磁波吸収体30ではバインダー層35に難燃剤を添加したが、バインダー層35に難燃剤を添加せずに、図4(b)に示すように、電磁波吸収層2上に難燃層5を形成してもよい。   Further, in the electromagnetic wave absorber 30 shown in FIG. 4A, a flame retardant is added to the binder layer 35, but without adding a flame retardant to the binder layer 35, as shown in FIG. The flame retardant layer 5 may be formed on 2.

図4(b)に示すように、本発明の他の第3の実施形態に係る電磁波吸収体31は、図1に示す本発明の第1の実施形態に係る電磁波吸収体10に対して、さらに、難燃層5が形成されたものである。なお、図4(b)において、図1に示す構成要素と同じ構成要素については同じ符号を付しており、その詳しい説明は省略する。   As shown in FIG. 4B, the electromagnetic wave absorber 31 according to the third embodiment of the present invention is different from the electromagnetic wave absorber 10 according to the first embodiment of the present invention shown in FIG. Furthermore, the flame retardant layer 5 is formed. In FIG. 4B, the same components as those shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

図4(b)に示すように、本発明の他の第3の実施形態に係る電磁波吸収体31は、基材層1、バインダー層3、及び電磁波吸収層2が順次形成され、さらに、電磁波吸収層2のバインダー層3が形成された面とは反対側の面に、合成樹脂に難燃剤が添加された難燃層5が形成されたものである。   As shown in FIG. 4B, an electromagnetic wave absorber 31 according to another third embodiment of the present invention has a base material layer 1, a binder layer 3, and an electromagnetic wave absorption layer 2 formed in this order. A flame retardant layer 5 in which a flame retardant is added to a synthetic resin is formed on the surface of the absorbent layer 2 opposite to the surface on which the binder layer 3 is formed.

難燃層5を構成する合成樹脂としては、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂、又はアクリル樹脂等を用いることができる。また、難燃剤としては上述の難燃剤を用いることができる。また、難燃剤の添加量もバインダー層35と同様とすることができる。   As the synthetic resin constituting the flame retardant layer 5, a polyester resin, an epoxy resin, a phenol resin, a urethane resin, an acrylic resin, or the like can be used. Moreover, the above-mentioned flame retardant can be used as the flame retardant. The amount of the flame retardant added can also be the same as that of the binder layer 35.

難燃層5は、成膜した電磁波吸収層2の上に、難燃層5を形成するための樹脂溶液である第3の樹脂溶液(難燃層用樹脂溶液)を塗布し、熱処理を施すことによって成膜することができる。   The flame retardant layer 5 is subjected to heat treatment by applying a third resin solution (resin solution for the flame retardant layer), which is a resin solution for forming the flame retardant layer 5, on the formed electromagnetic wave absorbing layer 2. Thus, a film can be formed.

このように、電磁波吸収層2上に難燃層5を形成することによっても、電磁波吸収層2の難燃性を向上させることができる。従って、難燃性に優れた電磁波吸収体31を得ることができる。   Thus, the flame retardance of the electromagnetic wave absorbing layer 2 can also be improved by forming the flame retardant layer 5 on the electromagnetic wave absorbing layer 2. Therefore, the electromagnetic wave absorber 31 excellent in flame retardancy can be obtained.

なお、図4(a)と図4(b)とを組み合わせて、難燃剤を添加したバインダー層35と難燃層5とによって電磁波吸収層2を挟み込む構造としても構わない。これにより、さらに、電磁波吸収層2の難燃性を向上させることができる。   4 (a) and 4 (b) may be combined to have a structure in which the electromagnetic wave absorbing layer 2 is sandwiched between the flame retardant layer 5 and the binder layer 35 to which the flame retardant is added. Thereby, the flame retardance of the electromagnetic wave absorption layer 2 can be further improved.

また、本実施形態において、図3に示すような接着剤層4を適用しても構わない。すなわち、図4(a)において、電磁波吸収層2のバインダー層35とは反対側の面に接着剤層4を形成しても構わない。また、図4(b)において、難燃層5の電磁波吸収層2とは反対側の面に接着剤層4を形成しても構わない。   Moreover, in this embodiment, you may apply the adhesive bond layer 4 as shown in FIG. That is, in FIG. 4A, the adhesive layer 4 may be formed on the surface opposite to the binder layer 35 of the electromagnetic wave absorbing layer 2. Moreover, in FIG.4 (b), you may form the adhesive bond layer 4 in the surface on the opposite side to the electromagnetic wave absorption layer 2 of the flame retardant layer 5. FIG.

以下、本発明に係る電磁波吸収体の実施例について説明する。   Examples of the electromagnetic wave absorber according to the present invention will be described below.

(試験方法)
各実施例における各種試験方法は、以下のようにして行った。
(Test method)
Various test methods in each example were performed as follows.

(リフロー試験)
作製した電磁波吸収体を、150℃の温度で2分間の加熱処理を行った後、260℃の温度で5秒間の加熱処理を行った。その後、電磁波吸収体に、膨れ、剥れ等の外観異常がないかどうか、目視にて外観の観察を行った。
(Reflow test)
The produced electromagnetic wave absorber was heat-treated at a temperature of 150 ° C. for 2 minutes, and then heat-treated at a temperature of 260 ° C. for 5 seconds. Thereafter, the external appearance of the electromagnetic wave absorber was visually observed to determine whether there was any abnormal appearance such as swelling or peeling.

(耐熱性試験)
作製した電磁波吸収体を、ギアオーブンによって200℃の温度で60分間の加熱処理を行った後、目視にて外観変化及び下記の方法で電磁波吸収性能を測定した。
(Heat resistance test)
The produced electromagnetic wave absorber was subjected to a heat treatment at a temperature of 200 ° C. for 60 minutes by a gear oven, and then visually changed in appearance and measured for electromagnetic wave absorption performance by the following method.

(碁盤目試験)
作製した電磁波吸収体の電磁波吸収層面に、カッターナイフを用いて1mm×1mm四方の碁盤目の切り傷を入れる(碁盤目の数は100個)。次に、碁盤目の切り傷を入れた所に粘着テープを強く圧着させて、粘着テープの端を約45°の角度で急速に引き剥がし、100個中残った碁盤目の数を数えた。
(Cross cut test)
A 1 mm × 1 mm square grid cut is made on the electromagnetic wave absorbing layer surface of the produced electromagnetic wave absorber (the number of grids is 100). Next, the adhesive tape was strongly pressed at the place where the cuts were made on the grid, and the ends of the adhesive tape were rapidly peeled off at an angle of about 45 °, and the number of grids remaining in 100 pieces was counted.

(評価項目)
また、各実施例における各評価項目の物性値は、以下のようにして測定した。
(Evaluation item)
Moreover, the physical property value of each evaluation item in each Example was measured as follows.

(表面抵抗値)
作製した電磁波吸収体(接着剤層を有する場合は、接着剤層を付与する前)における電磁波吸収層面の表面抵抗値は、表面抵抗測定機ロレスターEP(三菱化学製)を用いて測定した。
(Surface resistance value)
The surface resistance value of the electromagnetic wave absorbing layer surface in the prepared electromagnetic wave absorber (when the adhesive layer is provided, before applying the adhesive layer) was measured using a surface resistance measuring instrument Lorester EP (Mitsubishi Chemical).

(電磁波吸収性)
作製した電磁波吸収体における電磁波吸収性能は、IEC−62333に準じ電波吸収性能測定S21方式で、キーコム型近傍界用電波吸収測定装置を用いて測定した。また、電磁波を1dB低下させる場合は、−1dBとして表記する。測定波長領域は、300〜1000MHzとした。
(Electromagnetic wave absorption)
The electromagnetic wave absorption performance of the produced electromagnetic wave absorber was measured by a radio wave absorption performance measurement S21 method according to IEC-62333 using a Keycom-type near-field radio wave absorption measurement device. Moreover, when reducing electromagnetic waves by 1 dB, it describes as -1 dB. The measurement wavelength region was 300 to 1000 MHz.

なお、電磁波吸収性能として、各実施例に係る電磁波吸収体は周波数が高くなるに従って右下下がり(電磁波吸収性能向上)の性能を示すので、1000MHzにて−6dB以下の性能を示す場合は、300MHz〜800MHzの全波長領域において−1dB以下の安定して優れた電磁波吸収性能を示す。また、1000MHzにて−3dB〜−6dBの性能を示す場合も、300MHz〜800MHzの全波長領域において−1dB以下であり、通常は電磁波障害を発生させないが、条件によっては電磁波障害が発生する場合がある。また、1000MHzにて−3dB以上の性能を示す場合は、300MHz〜800MHzの全波長領域において−1dB以上となる可能性が高く、電磁波障害を発生させる可能性が高い。従って、1000MHZでの電磁波吸収性能の値が、−6dB以下の場合は「○」とし、−3〜−6dBの場合は「△」とし、−3dB以上の場合は「×」とした。   In addition, as electromagnetic wave absorption performance, since the electromagnetic wave absorber according to each example shows the performance of lowering to the lower right (improving electromagnetic wave absorption performance) as the frequency increases, 300 MHz is shown when the performance is −6 dB or less at 1000 MHz. Stable and excellent electromagnetic wave absorption performance of −1 dB or less is exhibited in the entire wavelength region of ˜800 MHz. Further, even when the performance of -3 dB to -6 dB is shown at 1000 MHz, it is -1 dB or less in the entire wavelength region of 300 MHz to 800 MHz, and usually does not cause electromagnetic interference, but electromagnetic interference may occur depending on conditions. is there. Moreover, when the performance of -3 dB or more is shown at 1000 MHz, there is a high possibility that it will be -1 dB or more in the entire wavelength region of 300 MHz to 800 MHz, and there is a high possibility of causing electromagnetic interference. Therefore, when the value of the electromagnetic wave absorption performance at 1000 MHZ is −6 dB or less, it is “◯”, when it is −3 to −6 dB, “Δ”, and when it is −3 dB or more, it is “x”.

(層の膜厚)
各層の膜厚は、ダイヤルゲージ(株式会社ミツトヨ製「DIGMATIC MICROMETER APB−2C」)を用いて測定した。なお、各層の膜厚は、以下のようにして算出した。
(Layer thickness)
The film thickness of each layer was measured using a dial gauge (“DIGMATIC MICROMETER APB-2C” manufactured by Mitutoyo Corporation). The film thickness of each layer was calculated as follows.

電磁波吸収層の膜厚=離型紙付電磁波吸収層の膜厚−離型紙の厚さ
バインダー層の膜厚=電磁波吸収体(基材層+バインダー層+電磁波吸収層)の厚さ
−基材層の膜厚−電磁波吸収層の膜厚
Film thickness of electromagnetic wave absorbing layer = film thickness of electromagnetic wave absorbing layer with release paper−thickness of release paper film thickness of binder layer = thickness of electromagnetic wave absorber (base material layer + binder layer + electromagnetic wave absorbing layer)
-Film thickness of base material layer-Film thickness of electromagnetic wave absorbing layer

(難燃性)
電磁波吸収体の難燃性は、UL−94のVTM−0に準拠して試験をして、合否判定を行った。
(Flame retardance)
The flame retardancy of the electromagnetic wave absorber was tested according to UL-94 VTM-0, and a pass / fail judgment was made.

(実施例1)
まず、離型紙(リンテック(株)製)上に、下記の電磁波吸収層用樹脂溶液をバーコータにて塗布し、120℃の温度で1分間乾燥し、膜厚が30μmの電磁波吸収層を形成した。なお、本実施例の電磁波吸収層は、熱可塑性ポリウレタン樹脂を3官能型のイソシアネートにて架橋させたものであり、熱硬化性及び熱可塑性を有する。
(Example 1)
First, on a release paper (manufactured by Lintec Corporation), the following resin solution for electromagnetic wave absorption layer was applied with a bar coater and dried at 120 ° C. for 1 minute to form an electromagnetic wave absorption layer having a film thickness of 30 μm. . In addition, the electromagnetic wave absorption layer of a present Example crosslinks a thermoplastic polyurethane resin with trifunctional isocyanate, and has thermosetting property and thermoplasticity.

(電磁波吸収層用樹脂溶液)
ウレタン樹脂 10重量部
カーボンブラック粒子 10重量部
磁性金属粒子(鱗片状:鉄アルミ珪素合金) 10重量部
イソシアネート系架橋剤 1重量部
(コロネートHL:日本ポリウレタン工業(株)製)
ジメチルホルムアミド 80重量部
(Resin solution for electromagnetic wave absorbing layer)
10 parts by weight of urethane resin 10 parts by weight of carbon black particles 10 parts by weight of magnetic metal particles (scale-like: iron aluminum silicon alloy) 1 part by weight of isocyanate-based crosslinking agent
(Coronate HL: manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.)
80 parts by weight of dimethylformamide

次に、電磁波吸収層の上に、下記のバインダー層用樹脂溶液をバーコータにて塗布し、120℃の温度で30秒間乾燥し、膜厚が20μmのバインダー層を形成した。なお、本実施例のバインダー層は、熱可塑性ポリエステル樹脂を3官能型のイソシアネートにて架橋させたものであり、熱硬化性及び熱可塑性を有する。   Next, on the electromagnetic wave absorption layer, the following binder layer resin solution was applied with a bar coater and dried at a temperature of 120 ° C. for 30 seconds to form a binder layer having a thickness of 20 μm. In addition, the binder layer of a present Example crosslinks a thermoplastic polyester resin with trifunctional isocyanate, and has thermosetting property and thermoplasticity.

(バインダー層用樹脂溶液)
ポリエステル樹脂(飽和ポリエステル樹脂、分子量5万以下) 63重量部
イソシアネート系架橋剤 12重量部
(コロネートHL:日本ポリウレタン工業(株)製)
アミン系触媒 2重量部
(レザミンHI−299:大日精化工業(株)製)
酢酸エチル 37重量部
トルエン 7重量部
(Resin solution for binder layer)
Polyester resin (saturated polyester resin, molecular weight 50,000 or less) 63 parts by weight Isocyanate-based crosslinking agent 12 parts by weight
(Coronate HL: manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.)
2 parts by weight of amine catalyst
(Rezamin HI-299: manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.)
Ethyl acetate 37 parts by weight Toluene 7 parts by weight

次に、基材層としてPIフィルム(Kapton 100EN、東レ・デュポン(株)製、膜厚30μm)を用意して、PIフィルムをバインダー層に重ね合わせて、ニップロールを用いて、120℃の温度で0.4MPaの圧力にて、基材層と電磁波吸収層とをバインダー層を介して貼り合わせた。次に、70℃の温度で72時間のエージングを行った後、離型紙を剥離することにより電磁波吸収体を得た。   Next, a PI film (Kapton 100EN, manufactured by Toray DuPont Co., Ltd., film thickness 30 μm) is prepared as a base material layer, the PI film is overlaid on the binder layer, and a nip roll is used at a temperature of 120 ° C. The base material layer and the electromagnetic wave absorbing layer were bonded to each other through a binder layer at a pressure of 0.4 MPa. Next, after aging for 72 hours at a temperature of 70 ° C., an electromagnetic wave absorber was obtained by peeling the release paper.

(実施例2)
実施例1では電磁波吸収層の膜厚は30μmとしたが、実施例2では電磁波吸収層の膜厚は15μmとした。なお、電磁波吸収層の膜厚以外は、実施例1と同様にして電磁波吸収体を得た。
(Example 2)
In Example 1, the thickness of the electromagnetic wave absorption layer was 30 μm, but in Example 2, the thickness of the electromagnetic wave absorption layer was 15 μm. In addition, the electromagnetic wave absorber was obtained like Example 1 except the film thickness of the electromagnetic wave absorption layer.

(実施例3)
実施例1では、バインダー層用樹脂溶液の合成樹脂はウレタン樹脂としたが、実施例3では、バインダー層用樹脂溶液の合成樹脂をアクリル樹脂とした。すなわち、実施例3は、実施例1において、バインダー層用樹脂溶液を以下のように変更したものである。なお、バインダー層用樹脂溶液以外は、実施例1と同様にして電磁波吸収体を得た。
(Example 3)
In Example 1, the synthetic resin of the binder layer resin solution was a urethane resin, but in Example 3, the synthetic resin of the binder layer resin solution was an acrylic resin. That is, Example 3 is obtained by changing the resin solution for the binder layer in Example 1 as follows. In addition, the electromagnetic wave absorber was obtained like Example 1 except the resin solution for binder layers.

(バインダー層用樹脂溶液)
アクリル樹脂 30重量部
アルミキレート架橋剤 2重量部
(TA101K:DIC(株)製)
酢酸エチル 35重量部
トルエン 35重量部
(Resin solution for binder layer)
Acrylic resin 30 parts by weight Aluminum chelate crosslinking agent 2 parts by weight
(TA101K: manufactured by DIC Corporation)
Ethyl acetate 35 parts by weight Toluene 35 parts by weight

(実施例4)
実施例4では、実施例1で得られた電磁波吸収体における電磁波吸収層の上に、難燃層を形成した。具体的には、実施例1の電磁波吸収体における電磁波吸収層の上に、下記の難燃層用樹脂溶液をパイプコータにて塗布し、120℃の温度で30秒間乾燥し、膜厚が50μmの難燃層を成膜した。なお、難燃層以外は、実施例1と同じである。
Example 4
In Example 4, a flame retardant layer was formed on the electromagnetic wave absorbing layer in the electromagnetic wave absorber obtained in Example 1. Specifically, on the electromagnetic wave absorbing layer in the electromagnetic wave absorber of Example 1, the following flame retardant layer resin solution was applied with a pipe coater, dried at 120 ° C. for 30 seconds, and the film thickness was 50 μm. A flame retardant layer was formed. In addition, it is the same as Example 1 except a flame retardant layer.

(難燃層用樹脂溶液)
ウレタン樹脂 13重量部
難燃剤(リン系難燃剤:窒素、リン縮合物) 26重量部
顔料(ブラック) 2重量部
ジメチルホルムアミド 20重量部
メチルエチルケトン 40重量部
(Resin solution for flame retardant layer)
Urethane resin 13 parts by weight Flame retardant (phosphorous flame retardant: nitrogen, phosphorus condensate) 26 parts by weight Pigment (black) 2 parts by weight Dimethylformamide 20 parts by weight Methyl ethyl ketone 40 parts by weight

(実施例5)
実施例1では電磁波吸収層の触媒はアミン系触媒としたが、実施例5では電磁波吸収層の触媒をオクチル酸スズ(クリスボン アクセル T81、DIC(株)製)とした。つまり、実施例1において、実施例5は、電磁波吸収層の触媒をアミン系触媒からオクチルスズに変更したものである。なお、電磁波吸収層の触媒以外は、実施例1と同様にして電磁波吸収体を得た。
(Example 5)
In Example 1, the catalyst for the electromagnetic wave absorbing layer was an amine catalyst, but in Example 5, the catalyst for the electromagnetic wave absorbing layer was tin octylate (Chrisbon Accel T81, manufactured by DIC Corporation). That is, in Example 1, Example 5 changes the catalyst of an electromagnetic wave absorption layer from an amine catalyst to octyl tin. In addition, the electromagnetic wave absorber was obtained like Example 1 except the catalyst of the electromagnetic wave absorption layer.

(実施例6)
実施例1では、電磁波吸収層用樹脂溶液にイソシアネート系架橋剤を添加して電磁波吸収層を成膜したが、実施例6では、電磁波吸収層用樹脂溶液にイソシアネート系架橋剤を添加せずに電磁波吸収層を成膜した。すなわち、実施例6における電磁波吸収層は熱可塑性樹脂であるが、実施例1〜5における電磁波吸収層は、架橋剤が添加されて形成されているので熱可塑性樹脂でありかつ熱硬化性樹脂である。このとき、実施例6における電磁波吸収層の合成樹脂の耐熱性は170〜180℃程度であった。なお、電磁波吸収層用樹脂溶液の架橋剤の有無以外は、実施例1と同様にして電磁波吸収体を得た。
(Example 6)
In Example 1, an isocyanate cross-linking agent was added to the electromagnetic wave absorbing layer resin solution to form an electromagnetic wave absorbing layer, but in Example 6, an isocyanate cross-linking agent was not added to the electromagnetic wave absorbing layer resin solution. An electromagnetic wave absorbing layer was formed. That is, although the electromagnetic wave absorption layer in Example 6 is a thermoplastic resin, the electromagnetic wave absorption layer in Examples 1 to 5 is a thermoplastic resin and a thermosetting resin because it is formed by adding a crosslinking agent. is there. At this time, the heat resistance of the synthetic resin of the electromagnetic wave absorbing layer in Example 6 was about 170 to 180 ° C. In addition, the electromagnetic wave absorber was obtained like Example 1 except the presence or absence of the crosslinking agent of the resin solution for electromagnetic wave absorption layers.

(比較例1)
比較例1は、実施例1においてバインダー層を形成しないで電磁波吸収体を作製したものである。具体的には、実施例1で用いた電磁波吸収層用樹脂溶液を、実施例1で用いたPIフィルム上に塗布し、膜厚が30μmの電磁波吸収層を形成した。
(Comparative Example 1)
Comparative Example 1 is an electromagnetic wave absorber produced in Example 1 without forming a binder layer. Specifically, the electromagnetic wave absorbing layer resin solution used in Example 1 was applied on the PI film used in Example 1 to form an electromagnetic wave absorbing layer having a thickness of 30 μm.

(比較例2)
比較例2は、実施例1において、電磁波吸収層から磁性金属粒子を除いて電磁波吸収体を作成したものである。なお、磁性金属粒子の有無以外は、実施例1と同じである。
(Comparative Example 2)
In Comparative Example 2, an electromagnetic wave absorber was prepared by removing magnetic metal particles from the electromagnetic wave absorbing layer in Example 1. In addition, it is the same as Example 1 except the presence or absence of a magnetic metal particle.

以上のようにして得られた各実施例及び比較例における電磁波吸収体の性能について、以下の表1に示す。   The performance of the electromagnetic wave absorber in each Example and Comparative Example obtained as described above is shown in Table 1 below.

Figure 0005705460
Figure 0005705460

表1に示すように、バインダー層がない比較例1に係る電磁波吸収体では、リフロー試験及び耐熱試験において電磁波吸収体に膨れが発生して外観異常が見られた。これに対して、実施例1〜6に係る電磁波吸収体では、いずれもリフロー試験及び耐熱試験において外観異常は見られなかった。   As shown in Table 1, in the electromagnetic wave absorber according to Comparative Example 1 having no binder layer, the electromagnetic wave absorber was swollen in the reflow test and the heat resistance test, and an appearance abnormality was observed. On the other hand, in the electromagnetic wave absorbers according to Examples 1 to 6, no abnormal appearance was observed in the reflow test and the heat resistance test.

また、比較例1に係る電磁波吸収体では、碁盤目試験において、電磁波吸収層の残った碁盤目の数を正確に数えることはできなかったものの、100個の碁盤目のうちその大半が剥がれてしまった。これに対し、実施例1〜6に係る電磁波吸収体では、碁盤目試験において、電磁波吸収層の剥がれは全く発生せず、接着性に優れた電磁波吸収体を得ることが確認できた。   Further, in the electromagnetic wave absorber according to Comparative Example 1, although the number of grids with the electromagnetic wave absorbing layer remaining could not be accurately counted in the cross grid test, most of the 100 grids were peeled off. Oops. On the other hand, in the electromagnetic wave absorber which concerns on Examples 1-6, peeling of the electromagnetic wave absorption layer did not generate | occur | produce at all in the cross cut test, and it has confirmed that the electromagnetic wave absorber excellent in adhesiveness was obtained.

また、実施例2に係る電磁波吸収体のように電磁波吸収層の膜厚を薄くすると、電磁波吸収性能は低下するものの、リフロー試験及び耐熱試験における外観異常は見られなかった。なお、比較例2のように、バインダー層を形成することにより耐リフロー性を向上させることができたとしても、電磁波吸収層に磁性金属粒子を含有させなければ所望の電磁波吸収性能を得ることができず、そもそも電磁波吸収体として機能させることができない。   Moreover, when the film thickness of the electromagnetic wave absorption layer was reduced as in the electromagnetic wave absorber according to Example 2, the electromagnetic wave absorption performance was reduced, but no appearance abnormality was observed in the reflow test and the heat resistance test. In addition, even if reflow resistance can be improved by forming a binder layer as in Comparative Example 2, a desired electromagnetic wave absorbing performance can be obtained unless magnetic metal particles are contained in the electromagnetic wave absorbing layer. In the first place, it cannot function as an electromagnetic wave absorber.

また、実施例3に係る電磁波吸収体のようにバインダー層の合成樹脂をアクリル樹脂で構成しても、他の実施例と同様に耐リフロー性及び接着性に優れた電磁波吸収体とすることができる。   Moreover, even if it comprises the synthetic resin of a binder layer with an acrylic resin like the electromagnetic wave absorber which concerns on Example 3, it can be set as the electromagnetic wave absorber excellent in reflow resistance and adhesiveness similarly to another Example. it can.

また、実施例4に係る電磁波吸収体のように難燃層を形成することにより、優れた難燃性を有する電磁波吸収体とすることができる。   Moreover, it can be set as the electromagnetic wave absorber which has the outstanding flame retardance by forming a flame retardant layer like the electromagnetic wave absorber which concerns on Example 4. FIG.

また、実施例5に係る電磁波吸収体のように、電磁波吸収層の触媒をオクチル酸スズとしても、他の実施例と同様に耐リフロー性及び接着性に優れた電磁波吸収体とすることができる。   Further, like the electromagnetic wave absorber according to Example 5, even when tin octylate is used as the catalyst of the electromagnetic wave absorption layer, an electromagnetic wave absorber excellent in reflow resistance and adhesiveness can be obtained as in the other examples. .

また、実施例6に係る電磁波吸収体のように、架橋剤を添加しなくても他の実施例と同様に耐リフロー性及び接着性に優れた電磁波吸収体とすることができる。但し、実施例1〜5のように架橋剤を添加することにより、リフロー処理温度以上の温度での耐熱性を有する電磁波吸収体を得ることができる。   Moreover, it can be set as the electromagnetic wave absorber excellent in reflow resistance and adhesiveness similarly to another Example, without adding a crosslinking agent like the electromagnetic wave absorber which concerns on Example 6. FIG. However, the electromagnetic wave absorber which has heat resistance in the temperature more than reflow processing temperature can be obtained by adding a crosslinking agent like Examples 1-5.

以上、本発明に係る電磁波吸収体及びその製造方法について、実施形態及び実施例に基づいて説明してきたが、本発明は、上記の実施形態及び実施例に限定されるものではない。例えば、各実施形態及び実施例に対して当業者が思いつく各種変形を施して得られる形態や、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で各実施形態及び実施例における構成要素及び機能を任意に組み合わせることで実現される形態も本発明に含まれる。   As mentioned above, although the electromagnetic wave absorber which concerns on this invention, and its manufacturing method have been demonstrated based on embodiment and an Example, this invention is not limited to said embodiment and Example. For example, it is possible to arbitrarily combine the components and functions in each embodiment and example without departing from the spirit of the present invention, and forms obtained by subjecting each embodiment and example to various modifications conceived by those skilled in the art. The embodiment realized by the above is also included in the present invention.

本発明に係る電磁波吸収体は、フレキシブル性を有するプリント配線基板又はケーブル等の配線部材等、あるいは、これら配線部材等を有する電子機器等に有用である。   The electromagnetic wave absorber according to the present invention is useful for a flexible printed wiring board or a wiring member such as a cable, or an electronic device having these wiring members.

1 基材層
2 電磁波吸収層
3、35 バインダー層
4 接着剤層
5 難燃層
10、20、30、31 電磁波吸収体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Base material layer 2 Electromagnetic wave absorption layer 3, 35 Binder layer 4 Adhesive layer 5 Flame retardant layer 10, 20, 30, 31 Electromagnetic wave absorber

Claims (14)

基材層と電磁波吸収層とを備える電磁波吸収体であって、
前記基材層と前記電磁波吸収層との間に、リフロー処理における260℃以上の軟化点を有する樹脂で構成されるバインダー層が形成され
前記電磁波吸収層は、リフロー処理における260℃未満の軟化点を有する
電磁波吸収体。
An electromagnetic wave absorber comprising a base material layer and an electromagnetic wave absorption layer,
Between the base material layer and the electromagnetic wave absorption layer, a binder layer composed of a resin having a softening point of 260 ° C. or higher in the reflow process is formed ,
The electromagnetic wave absorbing layer is an electromagnetic wave absorber having a softening point of less than 260 ° C. in a reflow process .
前記電磁波吸収層の膜厚が、5μm以上100μm以下である
請求項1に記載の電磁波吸収体。
The electromagnetic wave absorber according to claim 1, wherein a film thickness of the electromagnetic wave absorbing layer is 5 μm or more and 100 μm or less.
前記電磁波吸収層の表面抵抗値が、20Ω/□以上170Ω/□以下である
請求項1又は請求項2に記載の電磁波吸収体。
The electromagnetic wave absorber according to claim 1 or 2, wherein a surface resistance value of the electromagnetic wave absorbing layer is 20Ω / □ or more and 170Ω / □ or less.
前記電磁波吸収層が、カーボンブラック及び磁性金属粒子を含む
請求項1〜3のいずれか1項に記載の電磁波吸収体。
The electromagnetic wave absorber according to claim 1, wherein the electromagnetic wave absorption layer includes carbon black and magnetic metal particles.
前記バインダー層を構成する前記樹脂は、ポリエステル樹脂であり、
前記電磁波吸収層を構成する樹脂は、ウレタン樹脂である
請求項1〜4のいずれか1項に記載の電磁波吸収体。
The resin constituting the binder layer, Ri polyester resins der,
The electromagnetic wave absorber according to any one of claims 1 to 4, wherein the resin constituting the electromagnetic wave absorption layer is a urethane resin .
前記バインダー層は、架橋剤によって架橋されている
請求項1〜5のいずれか1項に記載の電磁波吸収体。
The electromagnetic wave absorber according to claim 1, wherein the binder layer is crosslinked by a crosslinking agent.
前記架橋剤は、イソシアネート系架橋剤である
請求項6に記載の電磁波吸収体。
The electromagnetic wave absorber according to claim 6, wherein the crosslinking agent is an isocyanate-based crosslinking agent.
前記バインダー層の膜厚が、3μm以上50μm以下である
請求項1〜7のいずれか1項に記載の電磁波吸収体。
The electromagnetic wave absorber according to claim 1, wherein the binder layer has a thickness of 3 μm or more and 50 μm or less.
前記架橋剤の添加量は、前記バインダー層中の前記樹脂30重量部に対して3〜16重量部である
請求項6又は請求項7記載の電磁波吸収体。
The electromagnetic wave absorber according to claim 6 or 7, wherein an addition amount of the crosslinking agent is 3 to 16 parts by weight with respect to 30 parts by weight of the resin in the binder layer.
前記バインダー層に難燃剤が添加されている
請求項1〜9のいずれか1項に記載の電磁波吸収体。
The electromagnetic wave absorber according to any one of claims 1 to 9, wherein a flame retardant is added to the binder layer.
前記電磁波吸収層の前記バインダー層が形成されている側とは反対側の面に、所定の合成樹脂に難燃剤が添加された難燃層が形成されている
請求項1〜10のいずれか1項に記載の電磁波吸収体。
The flame retardant layer in which a flame retardant is added to a predetermined synthetic resin is formed on the surface of the electromagnetic wave absorbing layer opposite to the side on which the binder layer is formed. The electromagnetic wave absorber as described in the item.
前記電磁波吸収層の上に接着剤層が形成されている
請求項1〜11のいずれか1項に記載の電磁波吸収体。
The electromagnetic wave absorber according to claim 1, wherein an adhesive layer is formed on the electromagnetic wave absorption layer.
請求項1〜12のいずれか1項に記載の電磁波吸収体が積層されたプリント配線基板を備える
電子機器。
An electronic apparatus comprising a printed wiring board on which the electromagnetic wave absorber according to any one of claims 1 to 12 is laminated.
離型シート上に、金属が含有された第1の樹脂溶液を塗布する第1の樹脂溶液塗布工程と、
前記第1の樹脂溶液に熱処理を施して、リフロー処理における260℃未満の軟化点を有する電磁波吸収層を形成する電磁波吸収層形成工程と、
前記電磁波吸収層の上に、樹脂を含む第2の樹脂溶液を塗布する第2の樹脂溶液塗布工程と、
前記第2の樹脂溶液に熱処理を施して、リフロー処理における260℃以上の軟化点を有するバインダー層を形成するバインダー層形成工程と、
前記バインダー層の上に基材層を配置して、前記電磁波吸収層と前記基材層とをバインダー層によって貼り合わせる基材層貼り合わせ工程と、
前記電磁波吸収層から前記離型シートを剥離する離型シート剥離工程と、を含む
電磁波吸収体の製造方法。
A first resin solution application step of applying a first resin solution containing metal on a release sheet;
An electromagnetic wave absorbing layer forming step of forming an electromagnetic wave absorbing layer having a softening point of less than 260 ° C. in a reflow process by performing a heat treatment on the first resin solution;
On the electromagnetic wave absorbing layer, and a second resin solution application step of applying a second resin solution containing the tree butter,
A binder layer forming step of applying a heat treatment to the second resin solution to form a binder layer having a softening point of 260 ° C. or higher in the reflow process ;
A base material layer is disposed on the binder layer, and the electromagnetic wave absorbing layer and the base material layer are bonded together by a binder layer,
A release sheet peeling step of peeling the release sheet from the electromagnetic wave absorbing layer. A method for producing an electromagnetic wave absorber.
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
HK1248920A1 (en) * 2015-12-16 2018-10-19 华为技术有限公司 Magnetic shielding power inductor and manufacturing method for same
JP7105220B2 (en) * 2019-12-26 2022-07-22 株式会社トーキン Composite magnetic sheet and method for producing composite magnetic sheet
CN113438884B (en) * 2021-06-23 2022-08-09 浙江原邦材料科技有限公司 Water-based high-permeability wave-absorbing plate and preparation method thereof

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4360774B2 (en) * 2002-03-29 2009-11-11 タツタ電線株式会社 Reinforcing shield film and shield flexible printed wiring board
JP2004319534A (en) * 2003-04-10 2004-11-11 Sumitomo Electric Fine Polymer Inc Compound magnetic body and its manufacturing method
JP2005161752A (en) * 2003-12-04 2005-06-23 Tigers Polymer Corp Molding method of filled rubber film
JP2005191377A (en) * 2003-12-26 2005-07-14 Sumitomo Electric Fine Polymer Inc Electromagnetic wave attenuation body and its manufacturing method
JP2006245472A (en) * 2005-03-07 2006-09-14 Denki Kagaku Kogyo Kk Electromagnetic wave absorber
JP4914262B2 (en) * 2006-03-29 2012-04-11 タツタ電線株式会社 Shield film and shield printed wiring board
JP2008308592A (en) * 2007-06-15 2008-12-25 Toyo Ink Mfg Co Ltd Polyester for pressure-sensitive adhesive and pressure-sensitive adhesive composition containing the same
JP2009125974A (en) * 2007-11-20 2009-06-11 Nippon Valqua Ind Ltd Flame retardant laminated sheet

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