JP5823958B2

JP5823958B2 - 光再偏向フィルム及び該フィルムを使用したディスプレイ

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Publication number: JP5823958B2
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Inventors: ティー．アロンソンジョセフ; ジェンドウビースラー; エー．エフ．ジョンソンミッチェル; アール．カイトースコット; ディー．ファムトライ; エー．ヤペルロバート; エー．ジガルジョセフ; ジェイ．マクマンスティーブン; ディー．ソロモンソンスティーブン; エイチ．コングスティーブン; フェイルー; ティー．ボイドゲイリー
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Description

本発明は、光を再偏向するための光学フィルムに関する。本発明は、こうした光学フィルムを組み込んだディスプレイシステムなどの光学システムに更に適用可能である。

液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）などのディスプレイシステムは、例えばコンピュータのモニター、携帯情報端末（ＰＤＡ）、携帯電話、携帯音楽プレーヤー、及び薄型液晶テレビなどの様々な用途及び市販の装置において使用されている。多くのＬＣＤは、液晶パネル、及び液晶パネルに光照射するためのバックライトとしばしば呼ばれる広範囲光源を有している。バックライトは通常、１以上のランプ、並びに例えばライトガイド、ミラーフィルム、光再偏向フィルム、位相差フィルム、偏光フィルム及び拡散フィルムなどの多数の光制御フィルムを有している。拡散フィルムは通常、光学的欠陥を隠し、バックライトが放射する光の輝度の均一性を高めるために用いられる。

本発明は一般的には光再偏向フィルムに関するものである。一実施形態では、光再偏向フィルムは、第１の方向に沿って延びる複数の第１の微小構造を有する第１の主面を有する。光再偏向フィルムは更に、複数の第２の微小構造を有する、第１の主面と反対側の第２の主面を有する。第２の主面は約３％以下の光学的ヘイズ値及び約８５％以下の光学的透明度を有する。光再偏向フィルムは約１．７５以上の平均有効透過率を有する。ある場合には、複数の第１の微小構造は第１の方向に沿って延びる複数の直線プリズムを含む。ある場合には、複数の第１の微小構造のある微小構造の最大の高さは、該複数の第１の微小構造の別の微小構造の最大の高さと異なる。ある場合には、複数の第１の微小構造のある微小構造の高さは第１の方向に沿って変化する。複数の第２の微小構造は突起部及び／又は凹部を含み得る。ある場合には、複数の第２の微小構造は、第２の主面の少なくとも約８０％、又は少なくとも約８５％、又は少なくとも約９０％、又は少なくとも約９５％を覆う。複数の第２の微小構造は規則的又は不規則なパターンを形成し得る。ある場合では、第２の主面の約７％以下、又は約５％以下、又は約３％以下が約３．５°よりも大きい傾きの大きさを有する。ある場合には、第２の主面の約４％以下、又は約２％以下、又は約１％以下が約５°よりも大きい傾きの大きさを有する。ある場合には、第２の微小構造は光再偏向フィルムが含み得る粒子によって主として形成されるわけではない。ある場合には、光再偏向フィルムは約０．５μｍよりも大きい平均サイズを有する粒子を含まない。ある場合には、複数の第２の微小構造の微小構造は、約６°以下の半値半幅（ＨＷＨＭ）を有する傾き分布を有する。ある場合には、光再偏向フィルムは、互いに反対側となる第１及び第２の主面を有する基材層と、基材層の第１の主面上に配置され、光再偏向フィルムの該第１の主面を含む第１の層と、基材層の前記第２の主面上に配置され、光再偏向フィルムの該第２の主面を含む艶消し層と、を有する。ある場合には、第１の層は約１．６以上の屈折率を有する。ある場合には、艶消し層は、複数の第２の微小構造の平均サイズよりも少なくとも５倍小さい平均サイズを有する複数の粒子を有する。ある場合には、艶消し層が粒子を含む場合、艶消し層の平均の厚さは粒子の平均サイズよりも少なくとも２μｍ大きい。ある場合には、艶消し層が粒子を含む場合、艶消し層の平均の厚さは粒子の平均サイズよりも少なくとも２倍だけ大きい。

別の実施形態では、光再偏向フィルムは複数の直線状微小構造を有する第１の主面、及び、複数の第２の微小構造を有する、第１の主面と反対側の第２の主面を有する。第２の主面は約３％以下の光学的ヘイズ値及び約８５％以下の光学的透明度を有する。光再偏向フィルムの平均有効透過率は、平滑な第２の主面を有する以外は同じ構造を有する光再偏向フィルムと比較してその平均有効透過率以上、又はその平均有効透過率よりも約１．５％以下だけ小さい平均有効透過率を有する。ある場合には、複数の第２の微小構造は幾何学的対称性及び非対称的な傾きを有する。ある場合には、前記複数の第２の微小構造は幾何学的非対称性及び対称的な傾きを有する。

別の実施形態では、光学積層体は、第１の主面と反対側の第２の主面とを有する第１の光再偏向フィルムを有し、第１の主面は第１の方向に沿って延びる第１の複数の微小構造を有し、第２の主面は第２の複数の微小構造を有する。光学積層体は更に、第３の主面と反対側の第４の主面とを有する第２の光再偏向フィルムを有し、第３の主面は第１の光再偏向フィルムの第２の主面に面するとともに、第１の方向と異なる第２の方向に沿って延びる第３の複数の微小構造を有し、第４の主面は第４の複数の微小構造を有する。第２及び第４の主面のそれぞれは、約３％以下の光学的ヘイズ値及び約８５％以下の光学的透明度を有する。ある場合には、光学積層体は約２．５以下の平均有効透過率を有する。

別の実施形態では、光学積層体は、第１の主面と反対側の第２の主面とを有する第１の光再偏向フィルムを有し、第１の主面は第１の方向に沿って延びる第１の複数の微小構造を有する。光学積層体は更に、第３の主面と反対側の第４の主面とを有する第２の光再偏向フィルムを有し、第３の主面は第１の光再偏向フィルムの第２の主面に面するとともに、第１の方向と異なる第２の方向に沿って延びる第３の複数の微小構造を有する。第２及び第４の主面のそれぞれは、約３％以下の光学的ヘイズ値及び約８５％以下の光学的透明度を有する。光学積層体の平均有効透過率は、平滑な第２及び第４の主面を有する以外は同じ構造を有する光学積層体と比較してその平均有効透過率以上であるか、又はその平均有効透過率よりも約１％以下だけ小さい平均有効透過率を有する。ある場合には、光学積層体は、平滑な第２及び第４の主面を有する以外は同じ構造を有する光学積層体と比較してその平均有効透過率以上である平均有効透過率を有する。

別の実施形態では、光学フィルムは、幾何学的対称性及び非対称的な傾き分布を有する構造化主面を有する。ある場合には、光学フィルムは、約３％以下の光学的ヘイズ値及び約８５％以下の光学的透明度を有する。

別の実施形態では、光学フィルムは、幾何学的非対称性及び対称的な傾き分布を有する構造化主面を有する。ある場合には、光学フィルムは、約３％以下の光学的ヘイズ値及び約８５％以下の光学的透明度を有する。

以下の本発明の異なる実施形態の詳細な説明を添付の図面と併せて考慮することで本発明のより完全な理解及び認識を得ることが可能である。
光再偏向フィルムの概略側面図。有効透過率を測定するための光学システムの概略側面図。凹部を有する微小構造の概略側面図。突起部を有する微小構造の概略側面図。規則的に配列された微小構造の概略平面図。不規則に配列された微小構造の概略平面図。微小構造の概略側面図。表面の割合（ｆ）に対する計算された光学的ヘイズ値。表面の割合（ｆ）に対する計算された光学的透明度。光学フィルムの概略側面図。別の光学フィルムの概略側面図。切削工具システムの概略側面図。異なるカッターの概略側面図。異なるカッターの概略側面図。異なるカッターの概略側面図。異なるカッターの概略側面図。異なる微小構造化表面の光学顕微鏡写真。異なる微小構造化表面の光学顕微鏡写真。異なる微小構造化表面の光学顕微鏡写真。異なる微小構造化表面の光学顕微鏡写真。異なる微小構造化表面の光学顕微鏡写真。異なる微小構造化表面の光学顕微鏡写真。異なる倍率で示した異なる微小構造化表面のＳＥＭ像。異なる倍率で示した異なる微小構造化表面のＳＥＭ像。異なる倍率で示した異なる微小構造化表面のＳＥＭ像。異なる倍率で示した異なる微小構造化表面のＳＥＭ像。異なる倍率で示した異なる微小構造化表面のＳＥＭ像。異なる倍率で示した異なる微小構造化表面のＳＥＭ像。異なる倍率で示した異なる微小構造化表面のＳＥＭ像。異なる倍率で示した異なる微小構造化表面のＳＥＭ像。異なる倍率で示した異なる微小構造化表面のＳＥＭ像。微小構造化表面のＡＦＭによる表面プロファイル。２つの互いに直交する方向に沿った図２１の微小構造化表面の断面プロファイル。２つの互いに直交する方向に沿った図２１の微小構造化表面の断面プロファイル。２つの互いに直交する方向に沿った図２１の微小構造化表面の傾きの分布率（％）。図２１の微小構造化表面の高さの分布率（％）。図２１の微小構造化表面の傾きの大きさの分布率（％）。図２１の微小構造化表面の累積傾き分布率（％）。異なる微小構造化表面の累積傾き分布率（％）。光学積層体の概略側面図。ディスプレイシステムの概略側面図。

本明細書においては、複数の図で用いられる同じ参照符号は、同じ又は同様の性質及び機能を有する同じ又は同様の要素を示す。

本発明は、ディスプレイシステムの輝度を大幅に高めることが可能であると同時に、スクラッチなどの物理的欠陥並びにモアレ及び色ムラなどの望ましくない光学的効果をマスクし、かつ／又は防止することが可能な、光再偏向フィルムに一般的に関する。開示される再偏向フィルムは、輝度を高めるための直線状の微小構造のアレイ、及びディスプレイの美観を高めるための艶消し面を有する。艶消し面の光学的ヘイズ値は、輝度を維持するうえで充分に低く、艶消し面の光学的透明度は、欠陥をマスク及び／又は防止するうえで充分に低い。

図１は、入射光を所望の方向に再偏向するための光再偏向フィルム１００の概略側面図である。光再偏向フィルム１００は、Ｙ方向に沿って延びる複数の微小構造１５０を有する第１の主面１１０を有している。光再偏向フィルム１００は更に、第１の主面１１０の反対側に位置し、複数の微小構造１６０を有する、第２の主面１２０を有している。

光再偏向フィルム１００は更に、第１の主面１１０と第２の主面１２０それぞれとの間に配置され、第１の主面１７２及び反対側の第２の主面１７４を有する基材層１７０を有している。光再偏向フィルム１００は更に、基材層の第１の主面１７２上に配置され、光再偏向フィルムの第１の主面１１０を含むプリズム層１３０と、基材層の第２の主面１７４上に配置され、光再偏向フィルムの第２の主面１２０を含む艶消し層１４０と、を有している。艶消し層は主面１２０の反対側に主面１４２を有している。

例示的な光再偏向フィルム１００は、３つの層１３０、１７０及び１４０を有している。一般的に光再偏向フィルムは１つ以上の層を有し得る。例えば、ある場合には、光再偏向フィルムは第１の主面１１０及び第２の主面１２０それぞれを有する単一の層を有し得る。別の例では、ある場合において、光再偏向フィルムは多くの層を有し得る。例えばこうした場合では基材１７０が複数の層を有し得る。

微小構造１５０は、光再偏向フィルムの主面１２０に入射する光を、例えば正のＺ軸方向などの所望の方向に沿って再偏向するように主として設計されている。例示的な光再偏向フィルム１００では、微小構造１５０はプリズム状の直線状構造である。一般的に、微小構造１５０は、入射光のある部分を回折させ、入射光の異なる部分を回収することによって光を再偏向させることが可能なものであればいずれの種類の微小構造であってよい。例えば、微小構造１５０の断面形状は湾曲かつ／又は区分的に直線状の部分とするか、これを含んだものとすることができる。例えば、ある場合には、微小構造１５０を、Ｙ方向に沿って延びる直線状の円筒形レンズとすることができる。

直線状のプリズム状微小構造１５０のそれぞれは、頂角１５２、及び例えば主平面１７２のような共通の基準平面から測定した高さ１５４を有している。光再偏向フィルムの光学的結合又はウェットアウトを低減し、かつ／又は耐久性を高めることが望ましい場合のような、ある場合には、プリズム状微小構造１５０の高さがＹ方向に沿って変化してもよい。例えば、プリズム状の直線状微小構造１５１のプリズムの高さをＹ方向に沿って変化させる。こうした場合では、プリズム状微小構造１５１は、Ｙ方向に沿って変化する局所的高さ、最大高さ１５５、及び平均高さを有する。ある場合には、直線状微小構造１５３のようなプリズム状の直線状微小構造は、Ｙ方向に沿って一定の高さを有する。こうした場合では、微小構造は、最大高さ及び平均高さに等しい一定の局所的高さを有する。

光学的結合及びウェットアウトを低減させることが望ましい場合のような、ある場合には、直線状微小構造の一部のものがより短く、直線状微小構造の一部のものがより大きな高さを有する。例えば、直線状微小構造１５３の高さ１５６は直線状微小構造１５７の高さ１５８よりも小さい。

頂角すなわち二面角１５２は、ある用途において望ましい任意の値を有し得る。例えばある場合には、頂角１５２は、約７０°〜約１１０°、又は約８０°〜約１００°、又は約８５°〜約９５°の範囲であってよい。ある場合には、微小構造１５０は、例えば９０°などの、約８８°又は８９°〜約９２°又は約９１°の範囲であり得る等しい頂角を有する。

プリズム層１３０は、ある用途において望ましい任意の屈折率を有し得る。例えばある場合には、プリズム層の屈折率は、約１．４〜約１．８、又は約１．５〜約１．８、又は約１．５〜約１．７の範囲である。ある場合には、プリズム層の屈折率は約１．５以上、又は約１．５５以上、又は約１．６以上、又は約１．６５以上、又は約１．７以上である。

光再偏向フィルム１００が液晶ディスプレイシステムで使用される場合のような、ある場合には、光再偏向フィルム１００は、ディスプレイの輝度を増大又は向上させ得る。こうした場合では、光再偏向フィルムは、１よりも大きな有効透過率又は相対利得を有する。本明細書で用いるところの有効透過率とは、フィルムが所定位置にないディスプレイの輝度に対する、フィルムがディスプレイシステムの定位置に配されたディスプレイシステムの輝度の比のことである。

有効透過率（ＥＴ）は、図２に概略側面図で示すような光学システム２００を使用して測定することができる。光学システム２００は光軸２５０を中心として配置され、放射又は出射面２１２、直線光吸収偏光子２２０、及び光検出器２３０を通るランベルト光２１５を放射する中空のランベルト光箱を有している。光箱２１０は、光ファイバー２７０によって光箱の内部２８０と接続された安定化された広帯域光源２６０によって光照射される。光学システムによってＥＴを測定しようとする試験試料は、光箱と吸収直線偏光子との間に置かれる。

光再偏向フィルム１００のＥＴは、直線プリズム１５０が光検出器に面し、微小構造１６０が光箱に面するようにして光再偏向フィルムを位置２４０に配置することによって測定することができる。次に、スペクトル重み付けされた軸方向輝度Ｉ_１（光軸２５０に沿った輝度）を、直線吸収偏光子を通じ、光検出器によって測定する。次に、光再偏向フィルムを取り外し、光再偏向フィルムが位置２４０に配置されていない状態でスペクトル重み付けされた輝度Ｉ_２を測定する。ＥＴは、Ｉ_１／Ｉ_２の比である。ＥＴ０は、直線プリズム１５０が直線吸収偏光子２２０の偏光軸に対して平行な方向に沿って延びている場合の有効透過率であり、ＥＴ９０は、直線プリズム１５０が直線吸収偏光子の偏光軸に対して垂直な方向に沿って延びている場合の有効透過率である。平均有効透過率（ＥＴＡ）は、ＥＴ０とＥＴ９０との平均である。

本明細書で開示する有効透過率の値は、光検出器２３０としてＳｐｅｃｔｒａＳｃａｎ（商標）ＰＲ−６５０Ｓｐｅｃｔｒａ熱量計（フォト・リサーチ社（Photo Research, Inc.）（カリフォルニア州チャツワース）より販売）を使用して測定したものである。光箱２１０は、全反射率が約８５％であるテフロン（登録商標）製キューブであった。

光再偏向フィルム１００がディスプレイシステムにおいて輝度を高めるために使用され、直線プリズムが約１．６よりも大きな屈折率を有するような、ある場合には、光再偏向フィルムの平均有効透過率（ＥＴＡ）は約１．５以上、又は約１．５５以上、又は約１．６以上、又は約１．６５以上、又は約１．７以上、又は約１．７５以上、又は約１．８以上、又は約１．８５以上である。

艶消し層１４０の微小構造１６０は、望ましくない物理的欠陥（例えばスクラッチなど）及び／又は光学的欠陥（例えばディスプレイ又は照明システム内のランプからの不要に明るい、すなわち「ホット」スポットなど）を隠すように主として設計されており、その際、光再偏向フィルムが光を再偏向して輝度を高める性能に与える悪影響はまったくないかあるいはごくわずかである。このような場合では、第２の主面１２０は、約５％以下、又は約４．５％以下、又は約４％以下、又は約３．５％以下、又は約３％以下、又は約２．５％以下、又は約２％以下、又は約％１．５以下、又は約１％以下の光学的ヘイズ値、及び約８５％以下、又は約８０％以下、又は約７５％以下、又は約７０％以下、又は約６５％以下、又は約％６０以下の光学的透明度を有する。

本明細書で用いるところの光学的ヘイズ値とは、垂直方向から４°よりも大きく逸れた透過光の、全透過光に対する比として定義される。本明細書で開示するヘイズ値は、ＡＳＴＭＤ１００３に述べられる方法にしたがって、Ｈａｚｅ−ＧａｒｄＰｌｕｓヘイズ計（ビー・ワイ・ケー・ガーディナー社（BYK-Gardiner）メリーランド州シルバースプリング）を使用して測定されたものである。本明細書で用いるところの光学的透明度とは、Ｔ_１が垂直方向から１．６〜２°だけ逸れた透過光、Ｔ_２が垂直方向から０〜０．７°の間にある透過光であるものとしての、（Ｔ_１−Ｔ_２）／（Ｔ_１＋Ｔ_２）の比のことを指す。本明細書で開示する透明度値は、ビー・ワイ・ケー・ガーディナー社（BYK-Gardiner）より販売されるＨａｚｅ−ＧａｒｄＰｌｕｓヘイズ計を使用して測定されたものである。

微小構造１６０は、ある用途において望ましい任意の種類の微小構造であってよい。ある場合には、微小構造１６０は凹部であってよい。例えば図３Ａは、陥凹した微小構造３２０を有し、艶消し層１４０と同様の艶消し層３１０の概略側面図である。ある場合には、微小構造１６０は突起部であってもよい。例えば図３Ｂは、突出した微小構造３４０を有し、艶消し層１４０と同様の艶消し層３３０の概略側面図である。

ある場合には、微小構造１６０は規則的なパターンを形成する。例えば図４Ａは、主面４１５内に規則的なパターンを形成し、微小構造１６０と同様の微小構造４１０の概略平面図である。ある場合には、微小構造１６０は不規則なパターンを形成する。例えば図４Ｂは、不規則なパターンを形成し、微小構造１６０と同様の微小構造４２０の概略平面図である。ある場合には、微小構造１６０はランダムに見える疑似ランダムパターンを形成する。

一般的に、微小構造１６０は任意の高さ及び任意の高さの分布を有し得る。ある場合には、微小構造１６０の平均の高さ（すなわち、平均の最大高さから平均の最小高さを引いたもの）は、約５μｍ以下、又は約４μｍ以下、又は約３μｍ以下、又は約２μｍ以下、又は約１μｍ以下、又は約０．９μｍ以下、又は約０．８μｍ以下、又は約０．７μｍ以下である。

図５は、艶消し層１４０の一部の概略側面図である。詳細には図５は、主面１２０内の微小構造１６０及び対向する主面１４２を示している。微小構造１６０は、微小構造の表面全体にわたった傾き分布を有している。例えば微小構造は、θが、位置５１０において微小構造表面と直交する（α＝９０°）垂線５２０と、同じ位置において微小構造表面と接する接線５３０との間の角度であるものとして、位置５１０において傾きθを有する。傾きθは、接線５３０と艶消し層の主面１４２との間の角度でもある。

艶消し層１４０の光学的ヘイズ値及び透明度を、例えばＴｒａｃｅＰｒｏ（ラムダ・リサーチ社（Lambda Research Corp.）（マサチューセッツ州リトルトン）より販売）などの市販のレイトレーシングプログラムと同様のプログラムを使用して計算した。計算を行うにあたり、各微小構造が、σに等しい半値反幅（ＨＷＨＭ）を有するガウス傾き分布を有するものと仮定した。更に、艶消し層の屈折率が１．５に等しいものと仮定した。計算結果を図６及び７に示す。図６は、ｆを微小構造１６０によって覆われた主面１２０の面積の割合（％）であるものとして、９個の異なるσの値について表面の割合「ｆ」に対する計算された光学的ヘイズ値を示したものである。図７は、ｆに対する計算された光学的透明度を示したものである。微小構造１６０が、輝度をまったく又はほとんど低下させることなく物理的及び／又は光学的欠陥を効果的に隠す場合のような、ある場合には、複数の微小構造１６０が第２の主面１２０の少なくとも約７０％、又は少なくとも７５約％、又は少なくとも約８０％、又は少なくとも約８５％、又は少なくとも約９０％、又は少なくとも約９５％を覆う。微小構造がガウスすなわち正規傾き分布を有する場合のような、ある場合には、分布のＨＷＨＭ（σ）は、約４．５°以下、又は約４°以下、又は約３．５°以下、又は約３°以下、又は約２．５°以下、又は約２°以下である。

上記に開示したような例示的な計算法においては、微小構造１６０はＨＷＨＭがσに等しいガウス傾き分布を有するものと仮定した。一般的に微小構造はある用途において望ましい任意の分布を有し得る。例えば微小構造が球状部分であるような、ある場合には、微小構造は２つの限定角度の間の均一な分布を有し得る。他の例示的な傾きの分布としては、ローレンツ分布、放物線状分布、及びガウス分布などの異なる分布の組み合わせが挙げられる。例えばある場合には、微小構造はより小さいＨＷＨＭ（σ_１）を有する第１のガウス分布が、より大きなＨＷＨＭ（σ_２）を有する第２のガウス分布と加え合わされるか、又は合成された分布を有し得る。ある場合には、微小構造は非対称的な傾き分布を有し得る。ある場合には、微小構造は対称的な分布を有し得る。

図８は、基材１７０と同様の基材８５０上に配置された艶消し層８６０を有する光学フィルム８００の概略側面図である。艶消し層８６０は、基材８５０に付属する第１の主面８１０、第１の主面の反対側の第２の主面８２０、及び結合剤８４０中に分散された複数の粒子８３０を有している。第２の主面８２０は、複数の微小構造８７０を有している。微小構造８７０の相当の部分、例えば少なくとも約５０％、又は少なくとも約６０％、又は少なくとも約７０％、又は少なくとも約８０％、又は少なくとも約９０％は、粒子８３０上に配置され、主として粒子８３０に起因して形成されている。換言すれば、粒子８３０は微小構造８７０が形成される主要因となっている。こうした場合では、粒子８３０は、約０．２５μｍよりも大きい、又は約０．５μｍよりも大きい、又は約０．７５μｍよりも大きい、又は約１μｍよりも大きい、又は約１．２５μｍよりも大きい、又は約１．５μｍよりも大きい、又は約１．７５μｍよりも大きい、又は約２μｍよりも大きい平均サイズを有する。

ある場合には、艶消し層１４０を艶消し層８６０と同様なものとし、第２の主面１２０に微小構造１６０の形成の主要因となる複数の粒子を含ませることができる。

粒子８３０は、ある用途において望ましい任意の種類の粒子であってよい。例えば、粒子８３０はポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリスチレン（ＰＳ）、又はある用途において望ましい他の任意の材料で形成することができる。一般的に、粒子８３０の屈折率は結合剤８４０の屈折率とは異なっているが、ある場合には、これらは同じ屈折率を有してもよい。例えば、粒子８３０は、約１．３５、又は約１．４８、又は約１．４９、又は約１．５０の屈折率を有してよく、結合剤８４０は、約１．４８、又は約１．４９、又は約１．５０の屈折率を有してよい。

ある場合には、艶消し層１４０は粒子を含まない。ある場合には、艶消し層１４０は粒子を含むが、粒子は微小構造１６０の形成の主要因とはなっていない。例えば、図９は、基材１７０と同様の基材９５０上に配置された、艶消し層１４０と同様の艶消し層９６０を有する光学フィルム９００の概略側面図である。艶消し層９６０は、基材９５０に付属する第１の主面９１０、第１の主面の反対側の第２の主面９２０、及び結合剤９４０中に分散された複数の粒子９３０を有している。第２の主面９７０は、複数の微小構造９７０を有している。艶消し層９６０は粒子９３０を含んではいるが、粒子は微小構造９７０の形成の主要因とはなっていない。例えばある場合には、粒子は微小構造の平均のサイズよりも大幅に小さい。こうした場合では、微小構造は例えば構造化工具を微小複製することによって形成することができる。こうした場合では、粒子９３０の平均サイズは、約０．５μｍ未満、又は約０．４μｍ未満、又は約０．３μｍ未満、又は約０．２μｍ未満、又は約０．１μｍ未満である。こうした場合では、微小構造９７０の相当の割合、例えば少なくとも約５０％、又は少なくとも約６０％、又は少なくとも約７０％、又は少なくとも約８０％、又は少なくとも約９０％が、約０．５μｍよりも大きい、又は約０．７５μｍよりも大きい、又は約１μｍよりも大きい、又は約１．２５μｍよりも大きい、又は約１．５μｍよりも大きい、又は約１．７５μｍよりも大きい、又は約２μｍよりも大きい平均サイズを有する粒子上には配置されない。ある場合には、粒子９３０の平均サイズは、微小構造９３０の平均サイズよりも少なくとも約２倍、少なくとも約３倍、少なくとも約４倍、少なくとも約５倍、少なくとも約６倍、少なくとも約７倍、少なくとも約８倍、少なくとも約９倍、少なくとも約１０倍小さい。ある場合には、艶消し層９６０が粒子９３０を含む場合、艶消し層９６０は、粒子の平均サイズよりも少なくとも約０．５μｍ、又は少なくとも１μｍ、又は少なくとも１．５μｍ、又は少なくとも２μｍ、又は少なくとも２．５μｍ、又は少なくとも３μｍ大きい平均の厚さ「ｔ」を有する。ある場合には、艶消し層が複数の粒子を含む場合、艶消し層の平均の厚さは、粒子の平均の厚さよりも、少なくとも約２倍、又は少なくとも約３倍、又は少なくとも約４倍、又は少なくとも約５倍、又は少なくとも約６倍、又は少なくとも約７倍、又は少なくとも約８倍、又は少なくとも約９倍、又は少なくとも約１０倍大きい。

再び図１を参照すると、ある場合には、光再偏向フィルム１００は、プリズム層１３０、基材層１７０、又は艶消し層１４０などの層の少なくとも一部において層の屈折率を高めるための小粒子を有している。例えば、光再偏向フィルム１００の１つ以上の層が、例えば米国特許第７，０７４，４６３号（ジョーンズ（Jones）ら）及び米国特許出願公開第２００６／０２１０７２６号に述べられるシリカ又はジルコニアナノ粒子などの無機ナノ粒子を含んでもよい。ある場合には、光再偏向フィルム１００は約２μｍ、又は約１．５μｍ、又は約１μｍ、又は約０．７５μｍ、又は約０．５μｍ、又は約０．２５μｍ、又は約０．２μｍ、又は約０．１５μｍ、又は約０．１μｍよりも大きな平均サイズを有する一切の粒子を含まない。

微小構造１６０は、ある用途において望ましい任意の製造方法を使用することによって形成することができる。例えば、微小構造は、工具から微小複製の使用によって製造することが可能であり、こうした工具は彫刻又はダイヤモンド旋盤の使用などの任意の利用可能な製造方法によって製造することができる。例示的なダイヤモンド旋盤システム及び方法は、例えばそれらの開示内容をその全容にわたって本明細書に援用する、国際特許出願公開第ＷＯ００／４８０３７号、並びに米国特許第７，３５０，４４２号及び同第７，３２８，６３８号に述べられるような高速工具サーボ装置（ＦＳＴ）を含み、かつこれを利用したものであってよい。

図１０は、微小構造１６０及び艶消し層１４０を作製するために微小複製可能な工具を切削するために使用することが可能な切削工具システム１０００の概略側面図である。切削工具システム１０００はねじ切り旋盤回転プロセスを用いたものであり、駆動装置１０３０によって中心軸１０２０を中心として回転かつ／又は中心軸１０２０に沿って移動可能なロール１０１０と、ロール材料を切削するためのカッター１０４０と、を有している。カッターはサーボ１０５０に取り付けられ、駆動装置１０６０によってＸ方向に沿ってロールの内部へと、かつ／又はロールに沿って動かすことができる。一般的にカッター１０４０は、ロール及び中心軸１０２０に対して垂直に取り付けられ、ロールが中心軸を中心として回転する際にロール１０１０の彫刻可能な材料の内部へと送り込まれる。次いでカッターは中心軸に平行に送られてねじ切りが作製される。カッター１０４０は、高周波数かつ低変位量で同時に作動させることにより、微小複製されることで微小構造１６０を形成する形成部がロールに作製される。

サーボ１０５０は高速工具サーボ装置（ＦＴＳ）であり、しばしばＰＺＴスタックと呼ばれる、カッター１０４０の位置を速やかに調節する固体圧電（ＰＺＴ）素子を有している。ＦＴＳ１０５０は、カッター１０４０のＸ、Ｙ、及びＺ方向、又は軸外方向への高精度かつ高速の運動を可能とする。サーボ１０５０は、静止位置に対して制御された運動を生じさせることが可能な任意の高品質変位サーボであってよい。ある場合には、サーボ１０５０は、０〜約２０μｍの範囲の変位を、約０．１μｍ又はこれよりも高い分解能で高い信頼性で、かつ繰り返し与えることが可能である。

駆動装置１０６０は、カッター１０４０をＸ方向に沿って中心軸１０２０と平行に動かすことができる。ある場合には、駆動装置１０６０の変位分解能は約０．１ミクロンよりも高く、又は０．０１μｍよりも高い。駆動装置１０３０によって生ずる回転運動が駆動装置１０６０によって生ずる並進運動と同期することによって、得られる微小構造１６０の形状が正確に制御される。

ロール１０１０の彫刻可能な材料は、カッター１０４０によって彫刻可能な任意の材料であってよい。例示的なロール材料としては、銅などの金属、各種ポリマー及び各種ガラス材料が挙げられる。

カッター１０４０は任意の種類のカッターでよく、ある用途において望ましい任意の形状を有し得る。例えば図１１Ａは、半径「Ｒ」の円弧状の切削チップ１１１５を有するカッター１１１０の概略側面図である。ある場合には、切削チップ１１１５の半径Ｒは少なくとも約１００μｍ、又は少なくとも約１５０μｍ、又は少なくとも約２００μｍ、又は少なくとも約３００μｍ、又は少なくとも約４００μｍ、又は少なくとも約５００μｍ、又は少なくとも約１０００μｍ、又は少なくとも約１５００μｍ、又は少なくとも約２０００μｍ、又は少なくとも約２５００μｍ、又は少なくとも約３０００μｍである。

別の例として、図１１Ｂは、頂角βを有するＶ字状切削チップ１１２５を有するカッター１１２０の概略側面図である。ある場合には、切削チップ１１２５の頂角βは少なくとも約１００°、又は少なくとも約１１０°、又は少なくとも約１２０°、又は少なくとも約１３０°、又は少なくとも約１４０°、又は少なくとも約１５０°、又は少なくとも約１６０°、又は少なくとも約１７０°である。更に他の例として、図１１Ｃは、区分直線からなる切削チップ１１３５を有するカッター１１３０の概略側面図であり、図１１Ｄは、湾曲した切削チップ１１４５を有するカッター１１４０の概略側面図である。

再び図１０を参照すると、ロールの材料を切削する際の中心軸１０２０に沿ったロール１０１０の回転及びＸ方向に沿ったカッター１０４０の運動によって、中心軸に沿ってピッチＰ_１を有するロールの周りにねじ切り経路を画定する。カッターがロール表面に垂直な方向に沿って動いてロール材料を切削するにしたがって、カッターによって切削される材料の幅はカッターが移動又は出し入れされる際に変化する。例えば図１１Ａを参照すると、カッターによる最大の貫通深さは、カッターにより切削される最大幅Ｐ_２に対応している。光再偏向フィルム１００の微小構造１６０が幾何学的に対称であり、輝度をまったくあるいはほとんど低減させることなく物理的及び／又は光学的欠陥を隠す、又はマスクすることが充分可能であるような、ある場合には、Ｐ_２／Ｐ_１の比は約１．５〜約６、又は約２〜約５、又は約２．５〜約４の範囲にある。

切削工具システム１０００と同様の切削工具システムを用いてパターン形成されたロールを作製した後、該パターン形成された工具を微小複製することによって艶消し層１４０と同様の艶消し層を作製することにより、微小構造１６０と同様の微小構造を有する幾つかの試料を作製した。図１２は、切削チップ１１１５の半径が約４８０μｍであるカッター１１１０と同様のカッターを用いて作製した試料の平面光学顕微鏡写真である。試料は幾何学的に対称であり、対称的な傾き分布を有していた。ただし、幾何学的に対称であるとは、例えばＸ方向のような１つの方向に沿った平均の微小構造のサイズが、例えばＹ方向のような直交する方向に沿った平均の微小構造のサイズとほぼ同じであることを意味する。詳細には、試料は、Ｘ方向に沿って約１．１８°の平均の傾きの大きさと、Ｙ方向に沿って約１．２２°の平均の傾きの大きさを有していた。図１３は、切削チップ１１１５の半径が約４８０μｍであるカッター１１１０と同様のカッターを用いて作製した試料の平面光学顕微鏡写真である。試料は幾何学的に対称であり、非対称的な傾き分布を有していた。詳細には、試料は、Ｘ方向に沿って約０．７２°の平均の傾きの大きさと、Ｙ方向に沿って約１．１１°の平均の傾きの大きさを有していた。図１４は、切削チップ１１１５の半径が約３３００μｍであるカッター１１１０と同様のカッターを用いて作製した試料の平面光学顕微鏡写真である。試料は幾何学的に非対称であり、非対称的な傾き分布を有していた。詳細には、試料は、Ｘ方向に沿って約０．０７°の平均の傾きの大きさと、Ｙ方向に沿って約１．４８°の平均の傾きの大きさを有していた。図１５は、切削チップ１１１５の半径が約３３００μｍであるカッター１１１０と同様のカッターを用いて作製した試料の平面光学顕微鏡写真である。試料は幾何学的に非対称であり、非対称的な傾き分布を有していた。詳細には、試料は、Ｘ方向に沿って約０．１８°の平均の傾きの大きさと、Ｙ方向に沿って約０．８５°の平均の傾きの大きさを有していた。図１６は、切削チップ１１２５の頂角が約１７６°であるカッター１１２０と同様のカッターを用いて作製した試料の平面光学顕微鏡写真である。試料は幾何学的に対称であり、対称的な傾き分布を有していた。詳細には、試料は、Ｘ方向に沿って約２．００°の平均の傾きの大きさと、Ｙ方向に沿って約１．９２°の平均の傾きの大きさを有していた。図１７は、切削チップ１１２５の頂角が約１７５°であるカッター１１２０と同様のカッターを用いて作製した試料の平面光学顕微鏡写真である。試料は幾何学的に非対称であり、対称的な傾き分布を有していた。詳細には、試料は、Ｘ方向に沿って約２．５０°の平均の傾きの大きさと、Ｙ方向に沿って約２．５４°の平均の傾きの大きさを有していた。

図１８Ａ〜１８Ｃは、３つの異なる倍率で示した試料の平面走査電子鏡写真（ＳＥＭ）である。試料は、切削チップ１１２５の頂角が約１７６°であるカッター１１２０と同様のカッターを用いて作製した。試料は幾何学的に対称であった。共焦点顕微鏡法により、微小構造の平均高さは約２．６７μｍと測定された。図１９Ａ〜１９Ｃは、３つの異なる倍率での試料の平面ＳＥＭである。試料は、切削チップ１１１５の半径が約４８０μｍであるカッター１１１０と同様のカッターを用いて作製した。試料は幾何学的に対称であった。共焦点顕微鏡法により、微小構造の平均高さは約２．５６μｍと測定された。図２０Ａ〜２０Ｃは、３つの異なる倍率で示した試料の平面ＳＥＭである。試料は、切削チップ１１１５の半径が約３３００μｍであるカッター１１１０と同様のカッターを用いて作製した。試料は幾何学的に非対称であった。共焦点顕微鏡法により、微小構造の平均高さは約１．４６μｍと測定された。

上記に概略を述べたプロセスによって作製した多数の試料の表面について、原子間力顕微鏡法（ＡＦＭ）によって、約２００μｍ×約２００μｍの面積で特性評価を行った。図２１は、こうした試料の１つの例示的なＡＦＭ表面プロファイルであり、この試料を試料Ａとした。試料は、約９４．９％の光学的透過率、約１．７３％の光学的ヘイズ値、及び約７９．５％の光学的透明度を有していた。図２２Ａ及び２２Ｂは、それぞれＸ及びＹ方向に沿った試料Ａの例示的な断面プロファイルである。図２３は、試料ＡについてＸ及びＹ方向に沿った傾きの分布率（％）を示したものである。Ｘ及びＹ方向にそれぞれ沿った傾きＳ_ｘ及びＳ_ｙを以下の２つの式より計算した。

ただし、Ｈ（ｘ，ｙ）は表面プロファイルである。傾きＳ_ｘ及びＳ_ｙは、０．５°の傾きのビンサイズを使用して計算した。図２３より明らかなように、試料ＡはＸ及びＹ方向の両方に沿って対称的な傾き分布を有していた。試料Ａは、Ｘ方向に沿ってより広い傾き分布を有し、Ｙ方向に沿ってより狭い傾き分布を有していた。図２４は、試料Ａについて分析した表面にわたった高さの分布率（％）を示したものである。図２４から明らかなように、試料は約４．７μｍの試料のピーク高さに対してほぼ対称的な高さ分布を有していた。図２５は、試料Ａの傾きの大きさ（％）を示したものであり、傾きの大きさＳ_ｍは下式より計算した。

図２６は、試料Ａについて累積傾き分布率（％）Ｓ_ｃ（θ）を示したものであり、Ｓ_ｃ（θ）は下式より計算した。

図２６より明らかなように、試料Ａの表面の約１００％が約３．５°未満の傾きの大きさを有していた。更に、分析した表面の約５２％が約１°未満の傾きの大きさを有し、分析した表面の約７２％が約１．５°未満の傾きの大きさを有していた。

Ｂ、Ｃ、Ｄとした試料Ａと似た３個の更なる試料について上記に概略を述べたようにして特性評価を行った。４個の試料Ａ〜Ｄはいずれも微小構造１６０と同様の微小構造を有し、切削工具システム１０００と同様の切削工具システムを用い、カッター１１２０と同様のカッターを用いてパターン形成されたロールを作製した後、該パターン形成された工具を微小複製して艶消し層１４０と同様の艶消し層を形成することによって作製した。試料Ｂは約９５．２％の光学的透過率、約３．２８％の光学的ヘイズ値、及び約７８％の光学的透明度を有し、試料Ｃは約９４．９％の光学的透過率、約２．１２％の光学的ヘイズ値、及び約８６．１％の光学的透明度を有し、試料Ｄは約９４．６％の光学的透過率、約１．７１％の光学的ヘイズ値、及び約８４．８％の光学的透明度を有していた。更に、Ｒ１〜Ｒ６とした６個の比較用試料の特性評価を行った。試料Ｒ１〜Ｒ３は艶消し層８６０と同様のものであり、結合剤中に分散された複数の大きなビーズを含み、艶消し面は主としてこのビーズの故に形成されたものである。試料Ｒ１は約１７．８％の光学的ヘイズ値及び約４８．５％の光学的透明度を有し、試料Ｒ２（大日本印刷株式会社より販売）は約３２．２％の光学的ヘイズ値及び約６７．２％の光学的透明度を有し、試料Ｒ３は約４．７％の光学的ヘイズ値及び約７３．３％の光学的透明度を有していた。試料Ｒ４はエンボス加工されたポリカーボネートフィルムであり（恵和株式会社（大阪）より販売）、約２３．２％の光学的ヘイズ値及び約３９．５％の光学的透明度を有していた。

図２７は、試料Ａ〜Ｄ及びＲ１〜Ｒ４の累積傾き分布率（％）Ｓ_ｃ（θ）である。試料Ａ〜Ｄのそれぞれが艶消し層１４０と同様であり、構造化主面１２０と同様の構造化主面を有していた。図２７から明らかなように、試料Ａ〜Ｄのすべて、又は少なくとも一部の構造化主面の約７％、又は約６．５％、又は約６％、又は約５．５％、又は約５％、又は約４．５％、又は約４％、又は約３．５％、又は約３％以下が約３．５°よりも大きな傾きの大きさを有していた。更に、試料Ａ〜Ｄのすべて、又は少なくとも一部の構造化主面の約４％、又は約３．５％、又は約３％、又は約２．５％、又は約２％、又は約１．５％、又は約１％、又は約０．９％、又は約０．８％以下が約５°よりも大きな累積の傾きの大きさを有していた。

再び図１を参照すると、液晶ディスプレイにおけるような光学システムで使用される場合、光再偏向フィルム１００はディスプレイの光学的及び／又は物理的欠陥を隠す、あるいはマスクし、ディスプレイの輝度を高めることが可能である。ある場合には、光再偏向フィルム１００の平均有効透過率は、平滑な第２の主面１２０を有する以外は光再偏向フィルム１００と同じ構造を有する光再偏向フィルムと比較して、約２％以下、又は約１．５％以下、又は約１％以下、又は約０．７５％以下、又は約０．５％以下だけ小さい。ある場合には、光再偏向フィルムの平均有効透過率は、平滑な第２の主面を有する以外は同じ構造を有する光再偏向フィルムと比較して、約０．２％、又は約０．３％、又は約０．４％、又は約０．５％、又は約１％、又は約１．５％、又は約２％以上大きい。一例として、光再偏向フィルム１００と同様の光再偏向フィルムを作製した。直線プリズム１５０は約２４μｍのピッチ、約９０°の頂角１５２、及び約１．６５の屈折率を有していた。第２の主面１２０は、約１．５％の光学的ヘイズ値及び約８３％の光学的透明度を有していた。光再偏向フィルムは約１．８０３の平均有効透過率を有していた。比較として、平滑な第２の主面を有する以外は同じ構造（材料組成を含む）を有する同様の光再偏向フィルムは約１．８１３の平均有効透過率を有していた。

別の例として、光再偏向フィルム１００と同様の光再偏向フィルムを作製した。微小構造１６０を、カッターチップ１１１５の半径が約３３００μｍであるカッター１１１０と同様のカッターによって切削した工具から複製することによって形成した。直線プリズム１５０は、約２４μｍのピッチ、約９０°の頂角１５２、及び約１．５６７の屈折率を有していた。第２の主面１２０は、約１．７１％の光学的ヘイズ値及び約８４．８％の光学的透明度を有していた。光再偏向フィルムは約１．６３３の平均有効透過率を有していた。比較として、平滑な第２の主面を有する以外は同じ構造（材料組成を含む）を有する同様の光再偏向フィルムは約１．６２６の平均有効透過率を有していた。したがって、構造化された第２の主面１２０によって平均有効透過率が約０．４３％増大することにより更なる利得が与えられた。

別の例として、光再偏向フィルム１００と同様の光再偏向フィルムを作製した。微小構造１６０を、カッターチップ１１１５の半径が約４４００μｍであるカッター１１１０と同様のカッターによって切削した工具から複製することによって形成した。直線プリズム１５０は、約２４μｍのピッチ、約９０°の頂角１５２、及び約１．５６７の屈折率を有していた。第２の主面１２０は、約１．４９％の光学的ヘイズ値及び約８２．７％の光学的透明度を有していた。光再偏向フィルムは約１．５８３の平均有効透過率を有していた。比較として、平滑な第２の主面を有する以外は同じ構造（材料組成を含む）を有する同様の光再偏向フィルムは約１．５７８の平均有効透過率を有していた。したがって、構造化された第２の主面１２０によって平均有効透過率が約０．３２％増大することにより更なる利得が与えられた。

更に別の例として、光再偏向フィルム１００と同様の光再偏向フィルムを作製した。微小構造１６０を、カッターチップ１１１５の半径が約３３００μｍであるカッター１１１０と同様のカッターによって切削した工具から複製することによって作製した。直線プリズム１５０は、約２４μｍのピッチ、約９０°の頂角１５２、及び約１．５６７の屈折率を有していた。第２の主面１２０は、約１．３５％の光学的ヘイズ値及び約８５．７％の光学的透明度を有していた。光再偏向フィルムは約１．６３１の平均有効透過率を有していた。比較として、平滑な第２の主面を有する以外は同じ構造（材料組成を含む）を有する同様の光再偏向フィルムは約１．５９３の平均有効透過率を有していた。したがって、構造化された第２の主面１２０によって平均有効透過率が約２．３８％増大することにより更なる利得が与えられた。

基材層１７０は、誘電体、半導体、又は金属などのある用途に適した任意の材料であるか、あるいはこうした材料を含み得る。例えば、基材層１７０はガラス、並びにポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート、及びアクリル樹脂などのポリマーを含むか、あるいはこれらで形成することができる。基材１７０は剛性又は可撓性のものであってよい。基材１７０は、ある用途において望ましい任意の厚さ及び／又は屈折率を有してよい。例えば、ある場合には、基材層１７０はＰＥＴであってよく、約５０μｍ又は約１７５μｍの厚さを有し得る。

図２８は、第２の光再偏向フィルム２８５５上に配置された第１の光再偏向フィルム２８０５を有する光学積層体２８００の概略側面図である。これらの光再偏向フィルムの一方又は両方を光再偏向フィルム１００と同様のものとすることができる。第１の光再偏向フィルム２８０５は、第１の主面２８１０及び反対側の第２の主面２８１５を有している。第１の主面はＹ方向に沿って延びる第１の複数の微小構造２８２０を有し、第２の主面は第２の複数の微小構造２８２５を有している。第２の光再偏向フィルム２８５５は、第３の主面２８６０及び反対側の第４の主面２８６５を有している。第３の主面２８６０は第１の光再偏向フィルムの第２の主面２８１５に面し、例えばＸ方向などのＹ方向とは異なる方向に沿って延びる第３の複数の微小構造２８７０を有している。第４の主面２８６５は第４の複数の微小構造２８７５を有している。

ある場合には、第１の光再偏向フィルム２８０５は第２の主面２８１５を含む艶消し層２８８０を有する。同様にある場合には、第２の光再偏向フィルム２８５５は第４の主面２８６５を含む艶消し層２８８５を有する。

光学積層体２８００が液晶ディスプレイのバックライトに含まれる場合のような、ある場合には、直線状の微小構造２８２０及び／又は２８７０によってモアレが生じ得る。ある場合には、これら２つの光再偏向フィルム、特に上側の光再偏向フィルムによって色ムラが生じ得る。色ムラは、光再偏向フィルム１００の屈折率分散による。一次色ムラは光再偏向フィルムの視野角限界付近において通常視認され、より高次の色ムラはより大きな角度において通常視認される。主面２８１５及び２８６５が充分に低い光学的ヘイズ値及び透明度を有するような、ある場合には、光学積層体はディスプレイの輝度を大幅に低減させることなくモアレ及び色ムラを効果的にマスク又は防止することができる。このような場合では、第２及び第４の主面のそれぞれが、約５％以下、又は４．５約％以下、又は約４％以下、又は約３．５％以下、又は約３％以下、又は約２．５％以下、又は約２％以下、又は約％１．５以下、又は約１％以下の光学的ヘイズ値を有し、更に第２及び第４の主面のそれぞれが、約８５％以下、又は約８０％以下、又は約７５％以下、又は約７０％以下、又は約６５％以下、又は約％６０以下の光学的透明度を有する。

光学積層体２８００がディスプレイシステムにおいて輝度を高める目的で使用されるような、ある場合には、光学積層体の平均有効透過率（ＥＴＡ）は約２．４以上、又は約２．４５以上、又は約２．５以上、又は約２．５５以上、又は約２．６以上、又は約２．６５以上、又は約２．７以上、又は約２．７５以上、又は約２．８以上である。ある場合には、光学積層体２８００の平均有効透過率は、平滑な第２及び第４の主面を有する以外は同じ構造（材料組成を含む）を有する光学積層体と比較して、約１％、又は約０．７５％、又は約０．５％、又は約０．２５％以下、又は約０．１％以下だけ小さい。ある場合には、光学積層体２８００の平均有効透過率は、平滑な第２及び第４の主面を有する以外は同じ構造を有する光学積層体と比較してその平均有効透過率よりも低くなることはない。ある場合には、光学積層体２８００の平均有効透過率は、平滑な第２及び第４の主面を有する以外は同じ構造（材料組成を含む）を有する光学積層体と比較して、少なくとも約０．１％、又は約０．２％、又は約０．３％だけ大きい。一例として、光学積層体２８００と同様の、約２．７７３の平均有効透過率を有する、光学積層体を作製した。それぞれ第２の主面２８１５及び第４の主面２８６５はいずれも、約１．５％の光学的ヘイズ値、及び約８３％の光学的透明度を有していた。直線プリズムは約１．６５の屈折率を有していた。比較として、平滑な第２及び第４の主面を有する以外は同じ構造を有する光学積層体は、約２．７６３の平均有効透過率を有していた。したがって、構造化された下側の主面２８１５及び２８６５によって平均有効透過率が約０．３６％増大することにより更なる利得が与えられた。

別の例として、光学積層体２８００と同様の、約２．５５６の平均有効透過率を有する光学積層体を作製した。それぞれ第２主面２８１５及び第４の主面２８６５はいずれも、約１．２９％の光学的ヘイズ値、及び約８６．４％の光学的透明度を有していた。直線プリズムは約２４μｍのピッチ、約９０°の頂角１５２、及び約１．５６７の屈折率を有していた。比較として、平滑な第２及び第４の主面を有する以外は同じ構造を有する同様の光学積層体は、約２．５５２の平均有効透過率を有していた。したがって、構造化された下側の主面２８１５及び２８６５によって平均有効透過率が約０．１６％増大することにより更なる利得が与えられた。

更に別の例として、光学積層体２８００と同様の、約２．４１５の平均有効透過率を有する光学積層体を作製した。それぞれの第２の主面２８１５及び第４の主面２８６５はいずれも、約１．３２％の光学的ヘイズ値、及び約８４．８％の光学的透明度を有していた。直線プリズムは約２４μｍのピッチ、約９０°の頂角１５２、及び約１．５６７の屈折率を有していた。比較として、平滑な第２及び第４の主面を有する以外は同じ構造を有する光学積層体は、約２．４０４の平均有効透過率を有していた。したがって、構造化された下側の主面２８１５及び２８６５によって平均有効透過率が約０．４６％増大することにより更なる利得が与えられた。

図２９は、観測者２９９９に対して情報を表示するためのディスプレイシステム２９００の概略側面図である。ディスプレイシステムは、バックライト２９２０上に配置され、バックライト２９２０によって照明される液晶パネル２９１０を有している。液晶パネル２９１０は、直線状の光吸収偏光子２９３５と２９４０との間に配置された液晶セル２９３０を有している。ディスプレイシステム２９００が観測者２９９９に対して画像を表示する場合のような、ある場合には、液晶パネル２９１０はピクセル化することができる。

バックライト２９２０は、サイドリフレクタ２９９５内に収容されたランプ２９９０からライトガイドのエッジを通じて光を受光するライトガイド２９７０、バックリフレクタに入射する光を観測者２９９９の方向に反射するためのバックリフレクタ２９８０、ライトガイドの発光面２９７５から出射する光２９８５を均質化するための光学的ディフューザ２９６０、及び、光学的ディフューザと反射偏光子２９５０との間に配置された図２８の光学積層体２８００を有している。

光学積層体２８００は光再偏向フィルム２８０５及び２８５５を有している。ある場合には、２つの光再偏向フィルムの直線プリズムは互いに対して直角な方向に向けられる。例えば、直線プリズム２８２０がＹ方向に沿って延び、直線プリズム２８７０がＸ方向に沿った方向に向くようにすることができる。微小構造２８２５及び２８７５はライトガイド２９７０に面しており、プリズム状の微小構造２８２０及び２８７０はライトガイドから遠ざかる方向に面している。

光学積層体２８００によって、ディスプレイシステムの例えば軸上輝度などの輝度が高められる。同時に、光学積層体の第２の主面２８１５及び第４の主面２８６５はいずれも、スクラッチなどの物理的欠陥をマスクし、かつ／又はモアレ及び色ムラなどの光学的欠陥を隠すうえで充分に低い光学的透明度を有している。

反射偏光子２９５０は、２つの偏光状態が互いに直交している場合、第１の偏光状態を有する光をほぼ反射し、第２の偏光状態を有する光をほぼ透過する。例えば、可視光領域で反射偏光子によってほぼ反射される偏光状態における反射偏光子２９５０の平均反射率は、少なくとも約５０％、又は少なくとも約６０％、又は少なくとも約７０％、又は少なくとも約８０％、又は少なくとも約９０％、又は少なくとも約９５％である。別の例として、可視光領域で反射偏光子によってほぼ透過される偏光状態における反射偏光子２９５０の平均反射率は、少なくとも約５０％、又は少なくとも約６０％、又は少なくとも約７０％、又は少なくとも約８０％、又は少なくとも約９０％、又は少なくとも約９５％、又は少なくとも約９７％、又は少なくとも約９８％、又は少なくとも約９９％である。ある場合には、反射偏光子２９５０は第１の直線偏光状態（例えばＸ方向に沿った）を有する光をほぼ反射し、第２の直線偏光状態（例えばＹ方向に沿った）を有する光をほぼ透過する。

例えば多層光学フィルム（ＭＯＦ）型反射偏光子、スリー・エム社（3M Company）（ミネソタ州セントポール）より販売されるＶｉｋｕｉｔｉ（商標）ＤｉｆｆｕｓｅＲｅｆｌｅｃｔｉｖｅＰｏｌａｒｉｚｅｒフィルム（「ＤＲＰＦ」）などの連続層及び分散層を有する拡散反射性偏光フィルム（ＤＲＰＦ）、例えば米国特許第６，７１９，４２６号に述べられるワイアグリッド反射偏光子、又はコレステリック反射偏光子などの、任意の適当な種類の反射偏光子を反射偏光層２９５０において使用することが可能である。

例えばある場合には、反射偏光子２９５０は、異なるポリマー材料の交互の層で形成されたＭＯＦ反射偏光子であるか、又はこれを含んだものでよく、ただし、交互の層の組の１層は複屈折材料で形成され、異なる材料の屈折率が１つの直線偏光状態で偏光された光に対して一致させられ、直交する直線偏光状態の光に対しては一致させられていない。このような場合、一致させられた偏光状態にある入射光は反射偏光子２９５０をほぼ透過し、一致させられていない偏光状態にある入射光は反射偏光子２９５０によってほぼ反射される。ある場合には、ＭＯＦ反射偏光子２９５０は無機誘電体層の積層体を含んでもよい。

別の例として、反射偏光子２９５０は、透過状態において中間的な軸上平均反射率を有する部分反射層であるか、又はこれを含んでもよい。例えば、部分反射層は例えばＸＹ平面などの第１の平面内に偏光された可視光線に対して少なくとも約９０％の軸上平均反射率を、第１の平面に垂直な例えばＸＺ平面などの第２の平面内に偏光された可視光線に対して約２５％〜約９０％の範囲の軸上平均反射率を有し得る。このような部分反射層は、例えば米国特許出願公開第２００８／０６４１３３号に述べられており、その開示内容をその全容にわたって本明細書に援用するものである。

ある場合には、反射偏光子２９５０は円形反射偏光子であるか、又はこれを含んでもよく、時計回り又は反時計回りの方向であってよい一方向に円偏光（右又は左円偏光とも呼ばれる）された光を選択的に透過し、逆方向に偏光された光を選択的に反射する。円偏光子の１つのタイプとして、コレステリック液晶偏光子がある。

ある場合には、反射偏光子２９５０は、例えば、いずれも本明細書にその全容を援用する、２００９年１１月１９日出願の米国仮特許出願第６１／１１６１３２号、２００８年１１月１９日出願の米国仮特許出願第６１／１１６２９１号、２００８年１１月１９日出願の米国仮特許出願第６１／１１６２９４号、２００８年１１月１９日出願の米国仮特許出願第６１／１１６２９５号、２００８年１１月１９日出願の米国仮特許出願第６１／１１６２９５号、及び、２００年４月１５日出願の米国仮特許出願第６０／９３９０８５号に基づく優先権を主張する２００８年５月１９日出願の国際特許出願第ＰＣＴ／ＵＳ２００８／０６０３１１号に述べられるものなどの、光学的干渉によって光を反射又は透過する多層光学フィルムであってよい。

光学的ディフューザ２９６０は、ランプ２９９０を隠す、あるいはマスクし、ライトガイド２９７０によって放射された光２９８５を均質化するという、主たる機能を有する。光学的ディフューザ２９６０は、高い光学的ヘイズ値及び／又は高い光学的拡散反射率を有する。例えばある場合には、光学的ディフューザの光学的ヘイズ値は、約４０％以上、又は約５０％以上、又は約６０％以上、又は約７０％以上、又は約８０％以上、又は約８５％以上、又は約９０％以上、又は約９５％以上である。別の例として、光学的ディフューザの光学的拡散反射率は、約３０％以上、又は約４０％以上、又は約５０％以上、又は約６０％以上である。

光学的ディフューザ２９６０はある用途において望ましい、かつ／又は利用可能な任意の光学的ディフューザであるか、又はこれを含むものでよい。例えば光学的ディフューザ２９６０は、表面ディフューザ、容積ディフューザ、又はこれらの組み合わせであるか、又はこれらを含むものでよい。例えば光学的ディフューザ２９６０は、異なる屈折率ｎ_２を有する結合剤又はホスト媒質中に分散された第１の屈折率ｎ_１を有する複数の粒子を含んでもよく、その場合、２つの屈折率の差は少なくとも約０．０１、又は少なくとも約０．０２、又は少なくとも約０．０３、又は少なくとも約０．０４、又は少なくとも約０．０５である。

バックリフレクタ２９８０は、負のＺ方向に沿って観測者２９９９から遠ざかる方向にライトガイドによって放射される光を受光し、受光した光を観測者の方向に反射する。ランプ２９９０がライトガイドのエッジに沿って配置されたディスプレイシステム２９００のようなディスプレイシステムは、一般的にエッジライト型又はバックライト型ディスプレイ又は光学システムと呼ばれる。ある場合には、バックリフレクタは部分的に反射性かつ部分的に透過性であってよい。ある場合には、バックリフレクタは例えば構造化表面を有するように構造化することができる。

バックリフレクタ２９８０は、ある適用において望ましい、かつ／又は実用的な任意の種類のリフレクタであってよい。例えばバックリフレクタは、いずれも本明細書にその全容を援用する、２００７年５月２０日出願の米国仮特許出願第６０／９３９０８５号に基づく優先権を主張する２００８年５月１９日出願の国際特許出願第ＰＣＴ／ＵＳ２００８／０６４１１５号に開示されるような鏡面反射リフレクタ、半鏡面反射リフレクタ若しくは半拡散リフレクタ、又は拡散リフレクタであってよい。例えばリフレクタは、アルミニウム化フィルム、又は高鏡面反射リフレクタ（ＥＳＲ）フィルム（スリー・エム社（3M Company）（ミネソタ州セントポール））などの多層ポリマー反射フィルムであってよい。別の例として、バックリフレクタ２９８０は白い外観を有する拡散リフレクタとすることができる。

本明細書で使用するところの「垂直」、「水平」、「上方」、「下方」、「左」、「右」、「上側」及び「下側」、「時計回り」及び「反時計回り」などの用語、並びに他の同様の用語は、図に示される相対的な位置を示す。一般的には、物理的な実施形態は異なる向きを有し得るものであり、その場合、上記の用語は、装置の実際の向きに修正された相対位置を示すものである。例えば図１の画像が図の向きと比較して反転されたとしても、第１の主面１１０は依然、上側の主面とみなされる。

上記に引用したすべての特許、特許出願及び他の刊行物を、それらがあたかも完全に再現されたものとして本明細書に援用するものである。本発明の異なる態様の説明を助けるため、本発明の具体的な実施例を上記に詳しく述べたが、その意図するところは、本発明を実施例の細部に限定しようとするものではない点は理解されるべきである。むしろその意図するところは、添付の「特許請求の範囲」によって規定されるように、本発明の趣旨及び範囲に含まれるすべての変形例、実施形態及び代替例を網羅しようとするものである。

本開示は以下も含む。
［１］第１の方向に沿って延びる複数の第１の微小構造を有する第１の主面と、
複数の第２の微小構造を有する、第１の主面とは反対側の第２の主面であって、約３％以下の光学的ヘイズ値、及び約８５％以下の光学的透明度を有する第２の主面と、を備え、約１．７５以上の平均有効透過率を有する光再偏向フィルム。
［２］前記複数の第１の微小構造が、前記第１の方向に沿って延びる複数の直線プリズムを含む、上記［１］に記載の光再偏向フィルム。
［３］前記複数の第１の微小構造のうちのある微小構造の最大の高さが、該複数の第１の微小構造のうちの別の微小構造の最大の高さと異なる、上記［１］に記載の光再偏向フィルム。
［４］前記複数の第１の微小構造のうちの、ある微小構造の高さが前記第１の方向に沿って変化する、上記［１］に記載の光再偏向フィルム。
［５］前記複数の第２の微小構造が複数の突起部を含む、上記［１］に記載の光再偏向フィルム。
［６］前記複数の第２の微小構造が複数の凹部を含む、上記［１］に記載の光再偏向フィルム。
［７］前記複数の第２の微小構造が前記第２の主面の少なくとも約８０％を覆う、上記［１］に記載の光再偏向フィルム。
［８］前記複数の第２の微小構造が前記第２の主面の少なくとも約８５％を覆う、上記［１］に記載の光再偏向フィルム。
［９］前記複数の第２の微小構造が前記第２の主面の少なくとも約９０％を覆う、上記［１］に記載の光再偏向フィルム。
［１０］前記複数の第２の微小構造が前記第２の主面の少なくとも約９５％を覆う、上記［１］に記載の光再偏向フィルム。
［１１］前記複数の第２の微小構造が規則的なパターンを形成する、上記［１］に記載の光再偏向フィルム。
［１２］前記複数の第２の微小構造が不規則なパターンを形成する、上記［１］に記載の光再偏向フィルム。
［１３］前記第２の主面の約７％以下が、約３．５°よりも大きい傾きの大きさを有する、上記［１］に記載の光再偏向フィルム。
［１４］前記第２の主面の約５％以下が、約３．５°よりも大きい傾きの大きさを有する、上記［１］に記載の光再偏向フィルム。
［１５］前記第２の主面の約３％以下が、約３．５°よりも大きい傾きの大きさを有する、上記［１］に記載の光再偏向フィルム。
［１６］前記第２の主面の約４％以下が、約５°よりも大きい傾きの大きさを有する、上記［１］に記載の光再偏向フィルム。
［１７］前記第２の主面の約２％以下が、約５°よりも大きい傾きの大きさを有する、上記［１］に記載の光再偏向フィルム。
［１８］前記第２の主面の約１％以下が、約５°よりも大きい傾きの大きさを有する、上記［１］に記載の光再偏向フィルム。
［１９］前記第２の主面が約２．５％以下の光学的ヘイズ値を有する、上記［１］に記載の光再偏向フィルム。
［２０］前記第２の主面が約２％以下の光学的ヘイズ値を有する、上記［１］に記載の光再偏向フィルム。
［２１］前記第２の主面が約１．５％以下の光学的ヘイズ値を有する、上記［１］に記載の光再偏向フィルム。
［２２］前記第２の主面が約１％以下の光学的ヘイズ値を有する、上記［１］に記載の光再偏向フィルム。
［２３］前記第２の主面が約８０％以下の光学的透明度を有する、上記［１］に記載の光再偏向フィルム。
［２４］前記第２の主面が約７５％以下の光学的透明度を有する、上記［１］に記載の光再偏向フィルム。
［２５］前記第２の主面が約７０％以下の光学的透明度を有する、上記［１］に記載の光再偏向フィルム。
［２６］光再偏向フィルムの前記平均有効透過率が約１．８０以上である、上記［１］に記載の光再偏向フィルム。
［２７］光再偏向フィルムの前記平均有効透過率が約１．８５以上である、上記［１］に記載の光再偏向フィルム。
［２８］前記第２の微小構造の相当の割合が、約０．５μｍよりも大きい平均サイズを有する粒子上に配置されていない、上記［１］に記載の光再偏向フィルム。
［２９］約０．５μｍよりも大きい平均サイズを有する粒子を含まない、上記［１］に記載の光再偏向フィルム。
［３０］約０．２μｍ以下の平均サイズを有する複数の粒子を含む、上記［１］に記載の光再偏向フィルム。
［３１］約０．１μｍ以下の平均サイズを有する複数の粒子を含む、上記［１］に記載の光再偏向フィルム。
［３２］前記複数の第２の微小構造の平均の高さが約３μｍ以下である、上記［１］に記載の光再偏向フィルム。
［３３］前記複数の第２の微小構造の平均の高さが約２μｍ以下である、上記［１］に記載の光再偏向フィルム。
［３４］前記複数の第２の微小構造の平均の高さが約１μｍ以下である、上記［１］に記載の光再偏向フィルム。
［３５］前記複数の第２の微小構造の微小構造が、約６°以下の半値半幅（ＨＷＨＭ）を有する傾き分布を有する、上記［１］に記載の光再偏向フィルム。
［３６］前記複数の第２の微小構造の微小構造が、約５°以下の半値半幅（ＨＷＨＭ）を有する傾き分布を有する、上記［１］に記載の光再偏向フィルム。
［３７］前記複数の第２の微小構造の微小構造が、約４°以下の半値半幅（ＨＷＨＭ）を有する傾き分布を有する、上記［１］に記載の光再偏向フィルム。
［３８］互いに反対側となる第１及び第２の主面を有する基材層と、
前記基材層の前記第１の主面上に配置され、前記光再偏向フィルムの前記第１の主面を含む第１の層と、
前記基材層の前記第２の主面上に配置され、前記光再偏向フィルムの前記第２の主面を含む艶消し層と、を備える、上記［１］に記載の光再偏向フィルム。
［３９］前記第１の層が約１．５以上の屈折率を有する、上記［３８］に記載の光再偏向フィルム。
［４０］前記第１の層が約１．５５以上の屈折率を有する、上記［３８］に記載の光再偏向フィルム。
［４１］前記第１の層が約１．６以上の屈折率を有する、上記［３８］に記載の光再偏向フィルム。
［４２］前記第１の層が約１．６５以上の屈折率を有する、上記［３８］に記載の光再偏向フィルム。
［４３］前記第１の層が約１．７以上の屈折率を有する、上記［３８］に記載の光再偏向フィルム。
［４４］前記第１の層が約１．５〜約１．８の範囲の屈折率を有する、上記［３８］に記載の光再偏向フィルム。
［４５］前記艶消し層が約１．４以上の屈折率を有する、上記［３８］に記載の光再偏向フィルム。
［４６］前記艶消し層が約１．５以上の屈折率を有する、上記［３８］に記載の光再偏向フィルム。
［４７］前記艶消し層が約１．４〜約１．６の範囲の屈折率を有する、上記［３８］に記載の光再偏向フィルム。
［４８］前記艶消し層が、前記複数の第２の微小構造の平均サイズよりも少なくとも５倍小さい平均サイズを有する複数の粒子を含む、上記［３８］に記載の光再偏向フィルム。
［４９］前記複数の粒子が、前記複数の第２の微小構造の平均サイズよりも少なくとも１０倍小さい平均サイズを有する、上記［４８］に記載の光再偏向フィルム。
［５０］前記艶消し層が粒子を含む場合、前記艶消し層の平均の厚さが前記粒子の平均サイズよりも少なくとも２μｍ大きい、上記［３８］に記載の光再偏向フィルム。
［５１］前記艶消し層が粒子を含む場合、艶消し層の平均の厚さが前記粒子の平均サイズよりも少なくとも２倍大きい、上記［３８］に記載の光再偏向フィルム。
［５２］前記第２の主面が第２の主面を横切るある傾き分布を有し、該傾き分布が約４°以下の半値半幅（ＨＷＨＭ）を有する、上記［３８］に記載の光再偏向フィルム。
［５３］前記ＨＷＨＭが約３．５°以下である、上記［５２］に記載の光再偏向フィルム。
［５４］前記ＨＷＨＭが約３°以下である、上記［５２］に記載の光再偏向フィルム。
［５５］前記ＨＷＨＭが約２．５°以下である、上記［５２］に記載の光再偏向フィルム。
［５６］前記ＨＷＨＭが約２°以下である、上記［５２］に記載の光再偏向フィルム。
［５７］光源と、
前記光源からの光を受光する上記［１］に記載の第１の光再偏向フィルムと、
前記第１の光再偏向フィルム上に配置された上記［１］に記載の第２の光再偏向フィルムと、を備え、前記第１の光再偏向フィルムの前記第１の方向が前記第２の光再偏向フィルムの前記第１の方向と異なる、バックライト。
［５８］前記第１及び第２の光再偏向フィルムのそれぞれの第２の主面が前記光源に面し、前記第１及び第２の光再偏向フィルムのそれぞれの第１の主面が前記光源から遠ざかる方向に面している、上記［５７］に記載のバックライト。
［５９］光再偏向フィルムであって、
複数の直線状微小構造を有する第１の主面と、
複数の第２の微小構造を有する、前記第１の主面と反対側の第２の主面であって、約３％以下の光学的ヘイズ値及び約８５％以下の光学的透明度を有する第２の主面と、を備え、前記光再偏向フィルムの平均有効透過率が、平滑な第２の主面を有する以外は同じ構造を有する光再偏向フィルムと比較してその平均有効透過率以上であるか、又はその平均有効透過率よりも約１．５％以下だけ小さい、光再偏向フィルム。
［６０］平滑な第２の主面を有する以外は同じ構造を有する光再偏向フィルムと比較してその平均有効透過率よりも約１％以下だけ小さい平均有効透過率を有する、上記［５９］に記載の光再偏向フィルム。
［６１］前記複数の第２の微小構造が幾何学的対称性及び非対称的な傾き分布を有する、上記［５９］に記載の光再偏向フィルム。
［６２］前記複数の第２の微小構造が幾何学的非対称性及び対称的な傾き分布を有する、上記［５９］に記載の光再偏向フィルム。
［６３］光学積層体であって、
第１の主面と、反対側の第２の主面と、を有する第１の光再偏向フィルムであって、前記第１の主面が第１の方向に沿って延びる第１の複数の微小構造を有し、前記第２の主面が第２の複数の微小構造を有する、第１の光再偏向フィルムと、
第３の主面と、反対側の第４の主面と、を有する第２の光再偏向フィルムであって、前記第３の主面が前記第１の光再偏向フィルムの前記第２の主面に面するとともに前記第１の方向と異なる第２の方向に沿って延びる第３の複数の微小構造を有し、前記第４の主面が第４の複数の微小構造を有する、第２の光再偏向フィルムと、を備え、
前記第２及び第４の主面のそれぞれが、約３％以下の光学的ヘイズ値及び約８５％以下の光学的透明度を有する、光学積層体。
［６４］前記第２及び第４の主面のそれぞれが約２．５％以下の光学的ヘイズ値を有する、上記［６３］に記載の光学積層体。
［６５］前記第２及び第４の主面のそれぞれが約２％以下の光学的ヘイズ値を有する、上記［６３］に記載の光学積層体。
［６６］前記第２及び第４の主面のそれぞれが約１．５％以下の光学的ヘイズ値を有する、上記［６３］に記載の光学積層体。
［６７］前記第２及び第４の主面のそれぞれが約１％以下の光学的ヘイズ値を有する、上記［６３］に記載の光学積層体。
［６８］前記第２及び第４の主面のそれぞれが約８０％以下の光学的透明度を有する、上記［６３］に記載の光学積層体。
［６９］前記第２及び第４の主面のそれぞれが約７５％以下の光学的透明度を有する、上記［６３］に記載の光学積層体。
［７０］前記第２及び第４の主面のそれぞれが約７０％以下の光学的透明度を有する、上記［６３］に記載の光学積層体。
［７１］約２．５以上の平均有効透過率を有する、上記［６３］に記載の光学積層体。
［７２］約２．６以上の平均有効透過率を有する、上記［６３］に記載の光学積層体。
［７３］約２．７以上の平均有効透過率を有する、上記［６３］に記載の光学積層体。
［７４］光学積層体であって、
第１の主面と、反対側の第２の主面と、を有する第１の光再偏向フィルムであって、前記第１の主面が第１の方向に沿って延びる第１の複数の微小構造を有する、第１の光再偏向フィルムと、
第３の主面と、反対側の第４の主面とを有する第２の光再偏向フィルムであって、前記第３の主面が前記第１の光再偏向フィルムの前記第２の主面に面するとともに前記第１の方向と異なる第２の方向に沿って延びる第３の複数の微小構造を有する第２の光再偏向フィルムと、を備え、前記第２及び第４の主面のそれぞれが、約３％以下の光学的ヘイズ値及び約８５％以下の光学的透明度を有し、光学積層体の平均有効透過率が、平滑な第２及び第４の主面を有する以外は同じ構造を有する光学積層体と比較してその平均有効透過率以上であるか、又はその平均有効透過率よりも約１％以下だけ小さい、光学積層体。
［７５］平滑な第２及び第４の主面を有する以外は同じ構造を有する光学積層体と比較してその平均有効透過率よりも約０．５％以下だけ小さい平均有効透過率を有する、上記［７４］に記載の光学積層体。
［７６］平滑な第２及び第４の主面を有する以外は同じ構造を有する光学積層体と比較してその平均有効透過率よりも約０．２５％以下だけ小さい平均有効透過率を有する、上記［７４］に記載の光学積層体。
［７７］平滑な第２及び第４の主面を有する以外は同じ構造を有する光学積層体と比較してその平均有効透過率以上である平均有効透過率を有する、上記［７４］に記載の光学積層体。
［７８］幾何学的対称性及び非対称的な傾き分布を有する構造化主面を有する光学フィルム。
［７９］約３％以下の光学的ヘイズ値及び約８５％以下の光学的透明度を有する、上記［７８］に記載の光学フィルム。
［８０］幾何学的非対称性及び対称的な傾き分布を有する構造化主面を有する光学フィルム。
［８１］約３％以下の光学的ヘイズ値及び約８５％以下の光学的透明度を有する、上記［８０］に記載の光学フィルム。

Claims

第１の方向に沿って延びる複数の第１の微小構造を有する第１の主面と、
複数の第２の微小構造を有する、第１の主面とは反対側の第２の主面であって、３％以下の光学的ヘイズ値、及び８５％以下の光学的透明度を有する第２の主面と、を備え、１．７５以上の平均有効透過率を有する光再偏向フィルムであって、
前記光再偏向フィルムは、
互いに反対側となる第１及び第２の主面を有する基材層と、
前記基材層の前記第１の主面上に配置され、前記光再偏向フィルムの前記第１の主面を含む第１の層と、
前記基材層の前記第２の主面上に配置され、前記光再偏向フィルムの前記第２の主面を含む艶消し層と、を備え、
前記光学的ヘイズ値は、ＡＳＴＭＤ１００３に準拠して測定され、
前記光学的透明度は、ヘイズ計にて測定したときの、比（Ｔ₁−Ｔ₂）／（Ｔ₁＋Ｔ₂）（式中、Ｔ₁は垂直方向から１．６〜２°だけ逸れた透過光であり、Ｔ₂は垂直方向から０〜０．７°の間にある透過光である。）であり、
前記平均有効透過率は、
光軸を中心として配置され、放射又は出射面、直線光吸収偏光子、及び光検出器を通るランベルト光を放射する中空のランベルト光箱を有している光学システムを用い、
光箱を、光ファイバーによって光箱の内部と接続された安定化された広帯域光源によって光照射し、
光箱と直線光吸収偏光子との間に、前記第１の微小構造が光検出器に面し、前記第２の微小構造が光箱に面するようにして前記光再偏向フィルムを既定位置に配置して、スペクトル重み付けされた軸方向輝度Ｉ₁（光軸に沿った輝度）を、直線光吸収偏光子を通じ、光検出器によって測定し、
光再偏向フィルムを取り外し、光再偏向フィルムが前記既定位置に配置されていない状態でスペクトル重み付けされた輝度Ｉ₂を測定し、
比Ｉ₁／Ｉ₂として有効透過率（ＥＴ）を算出し、
ＥＴ０とＥＴ９０との平均（但し、ＥＴ０は前記第１の方向が直線光吸収偏光子の偏光軸に対して平行である場合の有効透過率であり、ＥＴ９０は前記第１の方向が直線光吸収偏光子の偏光軸に対して垂直である場合の有効透過率である）として前記平均有効透過率を得る
ことによって測定される、光再偏向フィルム。
光再偏向フィルムであって、
複数の直線状微小構造を有する第１の主面と、
複数の第２の微小構造を有する、前記第１の主面と反対側の第２の主面であって、３％以下の光学的ヘイズ値及び８５％以下の光学的透明度を有する第２の主面と、を備え、前記光再偏向フィルムの平均有効透過率が、平滑な第２の主面を有する以外は同じ構造を有する光再偏向フィルムの平均有効透過率よりも１．５％小さい値以上であり、
前記光再偏向フィルムは、
互いに反対側となる第１及び第２の主面を有する基材層と、
前記基材層の前記第１の主面上に配置され、前記光再偏向フィルムの前記第１の主面を含む第１の層と、
前記基材層の前記第２の主面上に配置され、前記光再偏向フィルムの前記第２の主面を含む艶消し層と、を備え、
前記光学的ヘイズ値は、ＡＳＴＭＤ１００３に準拠して測定され、
前記光学的透明度は、ヘイズ計にて測定したときの、比（Ｔ₁−Ｔ₂）／（Ｔ₁＋Ｔ₂）（式中、Ｔ₁は垂直方向から１．６〜２°だけ逸れた透過光であり、Ｔ₂は垂直方向から０〜０．７°の間にある透過光である。）であり、
前記平均有効透過率は、
光軸を中心として配置され、放射又は出射面、直線光吸収偏光子、及び光検出器を通るランベルト光を放射する中空のランベルト光箱を有している光学システムを用い、
光箱を、光ファイバーによって光箱の内部と接続された安定化された広帯域光源によって光照射し、
光箱と直線光吸収偏光子との間に、直線状微小構造が光検出器に面し、前記第２の微小構造が光箱に面するようにして前記光再偏向フィルムを既定位置に配置して、スペクトル重み付けされた軸方向輝度Ｉ₁（光軸に沿った輝度）を、直線光吸収偏光子を通じ、光検出器によって測定し、
光再偏向フィルムを取り外し、光再偏向フィルムが前記既定位置に配置されていない状態でスペクトル重み付けされた輝度Ｉ₂を測定し、
比Ｉ₁／Ｉ₂として有効透過率（ＥＴ）を算出し、
ＥＴ０とＥＴ９０との平均（但し、ＥＴ０は前記直線状微小構造が直線光吸収偏光子の偏光軸に対して平行な方向に沿って延びている場合の有効透過率であり、ＥＴ９０は前記直線状微小構造が直線光吸収偏光子の偏光軸に対して垂直な方向に沿って延びている場合の有効透過率である）として前記平均有効透過率を得る
ことによって測定される、光再偏向フィルム。
光学積層体であって、
第１の主面と、反対側の第２の主面と、を有する第１の光再偏向フィルムであって、前記第１の主面が第１の方向に沿って延びる第１の複数の微小構造を有し、前記第２の主面が第２の複数の微小構造を有する、第１の光再偏向フィルムと、
第３の主面と、反対側の第４の主面と、を有する第２の光再偏向フィルムであって、前記第３の主面が前記第１の光再偏向フィルムの前記第２の主面に面するとともに前記第１の方向と異なる第２の方向に沿って延びる第３の複数の微小構造を有し、前記第４の主面が第４の複数の微小構造を有する、第２の光再偏向フィルムと、を備え、
前記第２及び第４の主面のそれぞれが、３％以下の光学的ヘイズ値及び８５％以下の光学的透明度を有し、
前記第１の光再偏向フィルムは、
互いに反対側となる第１及び第２の主面を有する基材層と、
前記基材層の前記第１の主面上に配置され、前記光再偏向フィルムの前記第１の主面を含む第１の層と、
前記基材層の前記第２の主面上に配置され、前記光再偏向フィルムの前記第２の主面を含む艶消し層と、を備え、
前記第２の光再偏向フィルムは、
互いに反対側となる第１及び第２の主面を有する基材層と、
前記基材層の前記第１の主面上に配置され、前記光再偏向フィルムの前記第３の主面を含む第１の層と、
前記基材層の前記第２の主面上に配置され、前記光再偏向フィルムの前記第４の主面を含む艶消し層と、を備え、
前記光学的ヘイズ値は、ＡＳＴＭＤ１００３に準拠して測定され、
前記光学的透明度は、ヘイズ計にて測定したときの、比（Ｔ₁−Ｔ₂）／（Ｔ₁＋Ｔ₂）（式中、Ｔ₁は垂直方向から１．６〜２°だけ逸れた透過光であり、Ｔ₂は垂直方向から０〜０．７°の間にある透過光である。）である、光学積層体。