JP5844520B2 - Method for producing hydrolyzable silicon-containing compound - Google Patents
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Description
本発明は、加水分解性含ケイ素化合物の製造方法に関する。また、本発明は、上記の製造方法によって製造される、ハロゲン化水素又はハロゲン化アシルを実質的に含まない加水分解性含ケイ素化合物にも関する。 The present invention relates to a method for producing a hydrolyzable silicon-containing compound. The present invention also relates to a hydrolyzable silicon-containing compound which is produced by the production method described above and substantially does not contain hydrogen halide or acyl halide.
アルコール又は酢酸(又は無水酢酸)をクロロシランと反応させてオルガノオキシシランを製造することが知られている。例えば、特開平8−41077号公報には≡Si−Cl+ROH=SiOR+HCl(Rは一価炭化水素基)の反応によるアルコキシシランの製造が記載されている。また、特開2000−63390号公報には、酢酸及び無水酢酸をクロロシランと反応させてアセトキシシランを製造することが記載されている。更に、特開平10−168083号公報には、アルコール及び無水酢酸をクロロシランと反応させてジアセトキシジアルコキシシランを製造することが記載されている。また、ドイツ国特許(DE19670906)には、トリクロロシランとメタノールをキシレン溶媒下で、直接反応させることにより、トリメトキシシランが得られることが記載されている。一方、J. Org. Chem., Vol. 42, No. 23, 1977には、ヨードトリメチルシランとアルキルエーテルを、室温、無触媒で反応させることにより、アルキルエーテルに対応したトリメチルシリル化されたアルコールが得られることが記載されている。また、J. C. S. Chem Commun, P. 874-875, 1978には、トリメチルクロロシランとヨウ化ナトリウムとエステル類等を用いて、エステル類等に対応したトリメチルシリル化された反応物が得られることが記載されている。 It is known to produce organooxysilane by reacting alcohol or acetic acid (or acetic anhydride) with chlorosilane. For example, JP-A-8-41077 describes the production of alkoxysilane by the reaction of ≡Si—Cl + ROH = SiOR + HCl (R is a monovalent hydrocarbon group). Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-63390 describes that acetoxysilane is produced by reacting acetic acid and acetic anhydride with chlorosilane. Further, JP-A-10-168083 describes that diacetoxy dialkoxysilane is produced by reacting alcohol and acetic anhydride with chlorosilane. In addition, a German patent (DE19670906) describes that trimethoxysilane can be obtained by directly reacting trichlorosilane and methanol in a xylene solvent. On the other hand, in J. Org. Chem., Vol. 42, No. 23, 1977, a trimethylsilylated alcohol corresponding to an alkyl ether is obtained by reacting iodotrimethylsilane and an alkyl ether at room temperature without using a catalyst. It is described that it is obtained. JCS Chem Commun, P. 874-875, 1978 describes that trimethylsilylated reactants corresponding to esters etc. can be obtained using trimethylchlorosilane, sodium iodide, esters, etc. Yes.
しかし、アルコールとクロロシランとによるオルガノオキシシランの生成反応では、反応中に放出される塩化水素が出発物質及び生成物と反応して不所望な副生成物を生成するため、生成物の収率が低下する問題がある。例えば、放出された塩化水素はアルコールと反応して塩化物と水を生成する。この反応によりかなりのアルコールの損失が生じる。また、この副反応で生成した水はクロロシラン又はオルガノオキシシランを加水分解して不所望なポリシロキサンを生成し、またより多くの塩化水素を発生する。また、塩化水素はそれ単独で又はアルコールと共に、クロロシランに存在する他の官能基と反応することがある。特に、アルコールとクロロシランとによるオルガノオキシシランの生成反応によるジオルガノジアルコシキシラン又はトリオルガノアルコキシシランの製造は極端に収率が低下するか、全く生成しない結果となる。 However, in the production reaction of organooxysilane with alcohol and chlorosilane, the hydrogen chloride released during the reaction reacts with the starting materials and products to produce unwanted by-products. There is a problem that decreases. For example, the released hydrogen chloride reacts with alcohol to produce chloride and water. This reaction results in considerable alcohol loss. In addition, the water produced by this side reaction hydrolyzes chlorosilane or organooxysilane to produce an undesired polysiloxane and generates more hydrogen chloride. Hydrogen chloride may also react with other functional groups present in chlorosilane, either alone or with alcohol. In particular, the production of diorganodialkoxysilane or triorganoalkoxysilane by the formation reaction of organooxysilane with alcohol and chlorosilane results in extremely low yield or no formation at all.
また、無水酢酸とクロロシランとによるオルガノオキシシランの生成反応においても上記と同様の問題があり、塩化アセチルは可燃性・刺激性である。また、水と塩化アセチルを反応して塩化水素を再発生させるために、安全性の確保のために、特別な処理を行って除去する必要があり、当該反応は水との発熱反応であり、甚だしく危険である。このような処理の実施は上記の生成反応によるオルガノオキシシランの製造を困難とし、また、製造コスト面でも不利である。更に、ヨードトリメチルシランを原料とする製造方法においては、ヨードトリメチルシランは光や水分に対して極めて反応性が高く、空気中の湿気で容易に分解して、有毒かつ刺激性のヨウ化水素を発生するため、その取扱いが困難であり、工業上の大量生産を行う方法として採用し難いという問題があった。同様に、ヨウ化ナトリウムを用いる反応では、クロロシランをヨウ化ナトリウムにより変換する際に、大量のヨウ化ナトリウムが反応で消費されてヨウ化された炭化水素等も発生する。この結果、多量の廃棄物が発生するため、環境負荷が大きいという問題がある。 In addition, there is a problem similar to the above in the formation reaction of organooxysilane by acetic anhydride and chlorosilane, and acetyl chloride is flammable and irritating. In addition, in order to react water and acetyl chloride to regenerate hydrogen chloride, it is necessary to remove by performing a special treatment to ensure safety, and the reaction is an exothermic reaction with water, It is extremely dangerous. Implementation of such treatment makes it difficult to produce organooxysilane by the above production reaction, and is disadvantageous in terms of production cost. Furthermore, in the production method using iodotrimethylsilane as a raw material, iodotrimethylsilane is extremely reactive to light and moisture, and is easily decomposed by moisture in the air to produce toxic and irritating hydrogen iodide. Therefore, there is a problem that it is difficult to handle and difficult to adopt as a method for industrial mass production. Similarly, in the reaction using sodium iodide, when chlorosilane is converted with sodium iodide, a large amount of sodium iodide is consumed in the reaction to generate iodinated hydrocarbons and the like. As a result, since a large amount of waste is generated, there is a problem that the environmental load is large.
本発明は、このような従来技術の現状に鑑みて為されたものであり、オルガノオキシシラン等の加水分解性含ケイ素化合物を優れた収率にて、また、安全且つ安価に製造する手法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the current state of the prior art, and a method for producing a hydrolyzable silicon-containing compound such as organooxysilane in an excellent yield and safely and inexpensively. The purpose is to provide.
本発明者らは上記目的を達成するため鋭意検討した結果、本発明に到達した。すなわち、本発明の目的は、
(A)一般式:
R1−O−R2
(式中、
R1は炭素数4〜30の、置換又は非置換の、第3級アルキル基又はアラルキル基を表し、
R2は炭素数1〜30の、置換若しくは非置換の、一価炭化水素基又はアシル基を表す)
で表される化合物、及び、
(B)一般式:
R3 mSiX4−m
(式中、
R3は、独立して、水素原子、又は、炭素数1〜30の、置換若しくは非置換の、一価炭化水素基を表し、
Xは、独立して、臭素又は塩素であり、
mは0〜3の整数を表す)で表されるハロシラン
をルイス酸触媒存在下で反応させる、加水分解性含ケイ素化合物の製造方法によって達成される。
As a result of intensive studies aimed at achieving the above object, the present inventors have reached the present invention. That is, the object of the present invention is to
(A) General formula:
R 1 —O—R 2
(Where
R 1 represents a substituted or unsubstituted tertiary alkyl group or aralkyl group having 4 to 30 carbon atoms,
R 2 represents a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group or acyl group having 1 to 30 carbon atoms)
And a compound represented by:
(B) General formula:
R 3 m SiX 4-m
(Where
R 3 independently represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms,
X is independently bromine or chlorine;
m represents an integer of 0 to 3) and is achieved by a method for producing a hydrolyzable silicon-containing compound, in which a halosilane represented by the formula (1) is reacted in the presence of a Lewis acid catalyst.
ルイス酸触媒は、金属を含有するルイス酸であることができる。金属を含有するルイス酸の種類は、上記反応を促進する限り、特に限定されるものではないが、金属ハロゲン化物、金属酸化物及び金属硫酸塩からなる群から選択される1種類以上のルイス酸であることが好ましい。具体的には、塩化ガリウム(III)、臭化ガリウム(III)、塩化インジウム(III)、臭化インジウム(III)、塩化ビスマス(III)、塩化アルミニウム(III)、塩化鉄(II)、塩化鉄(III)、臭化鉄(II)、臭化鉄(III)、塩化ニッケル(II)、酸化カドミウム(II)、酸化クロム(III)、酸化モリブデン(VI)、酸化鉄(III)、硫酸鉄(II)及び硫酸鉄(III)からなる群から選択される1種類以上のルイス酸が例示できる。特に、塩化ビスマス(III)、塩化アルミニウム(III)、及び塩化鉄(III) から選択される1種類以上のルイス酸が好ましい。 The Lewis acid catalyst can be a Lewis acid containing a metal. The kind of Lewis acid containing a metal is not particularly limited as long as it promotes the above reaction, but one or more Lewis acids selected from the group consisting of metal halides, metal oxides and metal sulfates. It is preferable that Specifically, gallium chloride (III), gallium bromide (III), indium chloride (III), indium bromide (III), bismuth chloride (III), aluminum chloride (III), iron chloride (II), chloride Iron (III), iron bromide (II), iron bromide (III), nickel chloride (II), cadmium (II) oxide, chromium oxide (III), molybdenum oxide (VI), iron (III) oxide, sulfuric acid Examples thereof include one or more Lewis acids selected from the group consisting of iron (II) and iron (III) sulfate. In particular, one or more Lewis acids selected from bismuth chloride (III), aluminum chloride (III), and iron chloride (III) are preferred.
前記(A)化合物はエーテルであることができる。前記エーテルとしては、メチルtert−ブチルエーテル、エチルtert−ブチルエーテル、メチル−ジフェニルメチルエーテル及びメチルトリフェニルメチルエーテルから選ばれる1以上のエーテルが好ましい。 The compound (A) may be an ether. The ether is preferably one or more ethers selected from methyl tert-butyl ether, ethyl tert-butyl ether, methyl-diphenylmethyl ether and methyltriphenylmethyl ether.
前記(A)化合物はエステルであることもできる。前記エステルとしては酢酸tert−ブチル又は酢酸ジフェニルメチルが好ましい。 The compound (A) may be an ester. The ester is preferably tert-butyl acetate or diphenylmethyl acetate.
前記(B)ハロシランは、クロロシラン又はブロモシランであり、特にクロロシランが好ましい。具体的には、モノクロロシラン, ジクロロシラン,トリクロロシラン又はテトラクロロシランであることができ、珪素原子に結合した有機基を有するオルガノクロロシラン類及び珪素原子に結合した水素原子を有するヒドロクロロシラン類のいずれであってもよい。 The (B) halosilane is chlorosilane or bromosilane, and chlorosilane is particularly preferable. Specifically, it can be monochlorosilane, dichlorosilane, trichlorosilane, or tetrachlorosilane, and is any of organochlorosilanes having an organic group bonded to a silicon atom and hydrochlorosilanes having a hydrogen atom bonded to a silicon atom. There may be.
前記加水分解性含ケイ素化合物はアルコキシシラン、フェノキシシラン又はアセトキシシランであることが好ましい。 The hydrolyzable silicon-containing compound is preferably alkoxysilane, phenoxysilane or acetoxysilane.
上記の製造方法によって製造される加水分解性含ケイ素化合物はハロゲン化水素又はハロゲン化アシルを実質的に含まない。 The hydrolyzable silicon-containing compound produced by the above production method is substantially free of hydrogen halide or acyl halide.
本発明の製造方法は、比較的取扱いが容易なクロロシラン又はブロモシランを出発物質として、加水分解性含ケイ素化合物を優れた収率にて効率的に製造することができる。また、本発明の製造方法は、反応選択性が高く、副生成物が実質的に第3級ハロゲン化アルキル又はハロゲン化アラルキルのみであるので、安全に且つ低コストで実施することができる。更に、従来の製造方法において反応を完結させる目的で使用されていた中和剤の量を低減することができる。したがって、本発明の製造方法は加水分解性含ケイ素化合物を大量に合成する工業的製法として有用である。 The production method of the present invention can efficiently produce a hydrolyzable silicon-containing compound with excellent yield, starting from chlorosilane or bromosilane, which is relatively easy to handle. In addition, the production method of the present invention has high reaction selectivity, and the by-product is substantially only tertiary alkyl halide or halogenated aralkyl, so that it can be carried out safely and at low cost. Furthermore, the amount of the neutralizing agent used for the purpose of completing the reaction in the conventional production method can be reduced. Therefore, the production method of the present invention is useful as an industrial production method for synthesizing a large amount of a hydrolyzable silicon-containing compound.
前記(A)化合物としてエーテル、特にメチルtert−ブチルエーテル、エチルtert−ブチルエーテル、メチル−ジフェニルメチルエーテル又はメチルトリフェニルメチルエーテルを使用する場合には、当該化合物の安定性及び安全性が高く、また、安価であるので、アルコキシシランの製造を安全に且つ低コストで行うことができる。 When ether (especially methyl tert-butyl ether, ethyl tert-butyl ether, methyl-diphenylmethyl ether or methyltriphenylmethyl ether) is used as the compound (A), the stability and safety of the compound is high. Since it is inexpensive, alkoxysilane can be produced safely and at low cost.
前記(A)化合物としてエステル、特に酢酸tert−ブチル又は酢酸ジフェニルメチルを使用する場合には、塩化アセチルが副生することはほぼないので、これを処理する必要がない。したがって、アセトキシシランを安定且つ安価に製造することができ、工業的製法として特に有用である。 When an ester, particularly tert-butyl acetate or diphenylmethyl acetate is used as the compound (A), acetyl chloride is hardly produced as a by-product, so that it is not necessary to treat it. Therefore, acetoxysilane can be produced stably and inexpensively, and is particularly useful as an industrial production method.
前記触媒としてルイス酸触媒、特に塩化ビスマス(III)、塩化アルミニウム(III)又は塩化鉄(III)を使用する場合には、触媒の毒性が低く、環境負荷が小さいので、反応を好適に実施することができる。 When a Lewis acid catalyst, particularly bismuth (III) chloride, aluminum (III) chloride or iron (III) chloride is used as the catalyst, the reaction is suitably carried out because the toxicity of the catalyst is low and the environmental load is small. be able to.
本発明の製造方法によって得られる加水分解性含ケイ素化合物は反応性のハロゲン化水素又はハロゲン化アシルを実質的に含まないので、当該ハロゲン化水素又はハロゲン化アシルの不活化処理が不要である。したがって、加水分解性含ケイ素化合物は、例えば、太陽電池又は半導体用シリコーンの原料として、又は、建築材料等に使用されるシーラント等の各種製品の原料として好適である。 Since the hydrolyzable silicon-containing compound obtained by the production method of the present invention does not substantially contain reactive hydrogen halide or acyl halide, inactivation treatment of the hydrogen halide or acyl halide is unnecessary. Therefore, the hydrolyzable silicon-containing compound is suitable, for example, as a raw material for a solar cell or a silicone for semiconductors, or as a raw material for various products such as sealants used for building materials.
本発明の製造方法では、
(A)一般式:
R1−O−R2
(式中、
R1は炭素数4〜30の、置換又は非置換の、第3級アルキル基又はアラルキル基を表し、
R2は炭素数1〜30の、置換若しくは非置換の、一価炭化水素基又はアシル基を表す)
で表される化合物、及び、
(B)一般式:
R3 mSiX4−m
(式中、
R3は、独立して、水素原子、又は、炭素数1〜30の、置換若しくは非置換の、一価炭化水素基を表し、
Xは、独立して、臭素又は塩素であり、
mは0〜3の整数を表す)で表されるハロシラン
をルイス酸触媒存在下で反応させて、加水分解性含ケイ素化合物を調製する。
In the production method of the present invention,
(A) General formula:
R 1 —O—R 2
(Where
R 1 represents a substituted or unsubstituted tertiary alkyl group or aralkyl group having 4 to 30 carbon atoms,
R 2 represents a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group or acyl group having 1 to 30 carbon atoms)
And a compound represented by:
(B) General formula:
R 3 m SiX 4-m
(Where
R 3 independently represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms,
X is independently bromine or chlorine;
m represents an integer of 0 to 3) in the presence of a Lewis acid catalyst to prepare a hydrolyzable silicon-containing compound.
前記(A)化合物を表す上記一般式中のR1は、第3級アルキル基又はアラルキル基である。これらの第3級アルキル基又はアラルキル基は、R1−O結合の切断により生じるカチオンの安定性が高いため、本発明の反応において、高収率で加水分解性含ケイ素化合物を得ることができる。ここで、R1である第3級アルキル基は、総炭素数4〜30であって、第3級炭素原子を少なくとも1つ含む限り特に限定されるものではなく、分岐鎖状及び環状のアルキル基が好適に例示される。より具体的には、tert-ブチル基、tert-ペンチル基、tert-ヘキシル基、tert-オクチル基等の3級アルキル基、1−メチルシクロペンチル、1−メチルシクロヘキシル基等のシクロアルキル基が挙げられる。上記一般式の酸素原子に結合する炭素原子が第3級炭素原子であることが好ましく、特に、tert-ブチル基が好ましい。同様に、アラルキル基は、反応性の点から第2級又は第3級アラルキル基であることが好ましく、少なくとも1個のフェニル基が炭素原子に結合した第2級炭素原子を有することが特に好ましい。より好適には2個以上のフェニル基が炭素原子に結合した第2級又は第3級の炭素原子を有することが好ましい。このような第2級又は第3級アラルキル基として、ジフェニルメチル基(H(C6H5)2C-)、トリフェニルメチル基((C6H5)3C-)が好ましい。なお、これらのアルキル基又はアラルキル基上の水素原子は、少なくとも部分的に、フッ素等のハロゲン原子、特に塩素原子で置換されていてもよい。 R 1 in the above general formula representing the compound (A) is a tertiary alkyl group or an aralkyl group. Since these tertiary alkyl groups or aralkyl groups have high cation stability resulting from cleavage of the R 1 —O bond, a hydrolyzable silicon-containing compound can be obtained in a high yield in the reaction of the present invention. . Here, the tertiary alkyl group as R 1 is not particularly limited as long as it has 4 to 30 carbon atoms in total and contains at least one tertiary carbon atom, and includes branched and cyclic alkyl groups. The group is preferably exemplified. More specifically, tertiary alkyl groups such as tert-butyl group, tert-pentyl group, tert-hexyl group and tert-octyl group, and cycloalkyl groups such as 1-methylcyclopentyl and 1-methylcyclohexyl group can be mentioned. . The carbon atom bonded to the oxygen atom of the above general formula is preferably a tertiary carbon atom, particularly preferably a tert-butyl group. Similarly, the aralkyl group is preferably a secondary or tertiary aralkyl group from the viewpoint of reactivity, and particularly preferably has a secondary carbon atom in which at least one phenyl group is bonded to a carbon atom. . More preferably, two or more phenyl groups preferably have a secondary or tertiary carbon atom bonded to the carbon atom. As such a secondary or tertiary aralkyl group, a diphenylmethyl group (H (C 6 H 5 ) 2 C—) or a triphenylmethyl group ((C 6 H 5 ) 3 C—) is preferable. In addition, the hydrogen atom on these alkyl groups or aralkyl groups may be at least partially substituted with a halogen atom such as fluorine, particularly a chlorine atom.
前記(A)化合物を表す上記一般式中のR2は、総炭素数1〜30である一価炭化水素基又はアシル基である限り、特に限定されるものではない。 R 2 in the above general formula representing the compound (A) is not particularly limited as long as it is a monovalent hydrocarbon group or acyl group having 1 to 30 carbon atoms in total.
総炭素数1〜30である一価炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ミリスチル基、パルミチル基、ステアリル基、イソステアリル基、ベヘニル基等の炭素原子数1〜30の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素原子数3〜30のシクロアルキル基;ビニル基、アリル基、ブテニル基等の炭素数2〜30のアルケニル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、スチリル等の炭素原子数6〜30のアリール基;ベンジル基等の炭素数7〜30のアラルキル基が挙げられる。直鎖状の炭素原子数1〜6のアルキル基又はフェニル基が好ましく、メチル基又はエチル基、フェニル基が更に好ましい。 Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 30 total carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a decyl group, a dodecyl group, and a myristyl group. A linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms such as a palmityl group, a stearyl group, an isostearyl group or a behenyl group; a cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms such as a cyclopentyl group or a cyclohexyl group An alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms such as a vinyl group, an allyl group or a butenyl group; an aryl group having 6 to 30 carbon atoms such as a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a naphthyl group or a styryl; a carbon such as a benzyl group; The aralkyl group of several 7-30 is mentioned. A linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a phenyl group is preferable, and a methyl group, an ethyl group or a phenyl group is more preferable.
総炭素数1〜30であるアシル基としては、例えば、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、バレリル基、ピバロイル基、ラウロイル基、ミリストイル基、パルミトイル基、ステアロイル基等の脂肪族モノカルボン酸系アシル基、及び、ベンゾイル基、シンナモイル基等の芳香環含有アシル基が挙げられる。脂肪族モノカルボン酸系アシル基が好ましく、アセチル基が更に好ましい。 Examples of the acyl group having 1 to 30 total carbon atoms include aliphatic monocarboxylic groups such as formyl group, acetyl group, propionyl group, butyryl group, valeryl group, pivaloyl group, lauroyl group, myristoyl group, palmitoyl group, stearoyl group and the like. Examples include acid-based acyl groups and aromatic ring-containing acyl groups such as benzoyl groups and cinnamoyl groups. Aliphatic monocarboxylic acid acyl groups are preferred, and acetyl groups are more preferred.
これらの基の炭素原子に結合した水素原子は、少なくとも部分的に、フッ素等のハロゲン原子等で置換されてもよいが、非置換のものが好ましい。 The hydrogen atom bonded to the carbon atom of these groups may be at least partially substituted with a halogen atom such as fluorine, but is preferably unsubstituted.
特に、R2は、第1級アルキル基、第2級アルキル基、アリール基又はアシル基であることが好ましい。 In particular, R 2 is preferably a primary alkyl group, a secondary alkyl group, an aryl group or an acyl group.
したがって、前記(A)化合物としてはエーテル又はエステルを好適に使用することができる。エーテルとしては、例えば、メチルtert−ブチルエーテル、エチルtert−ブチルエーテル、プロピルtert−ブチルエーテル、メチルtert−ペンチルエーテル、エチルtert−ペンチルエーテル、プロピルtert−ペンチルエーテル、メチルtert−ヘキシルエーテル、エチルtert−ヘキシルエーテル、プロピルtert−ヘキシルエーテル、メチルtert−オクチルエーテル、エチルtert−オクチルエーテル、プロピルtert−オクチルエーテル、メチル(ジフェニルメチル)エーテル(H(C6H5)2C-O-CH3)、メチル(トリフェニルメチル)エーテル((C6H5)3C-O-CH3)、ベンジルメチルエーテル、ベンジルフェニルエーテル等が挙げられる。特に、メチルtert−ブチルエーテル、エチルtert−ブチルエーテルメチル(ジフェニルメチル)エーテル、及び、メチル(トリフェニルメチル)エーテルが好ましい。エステルとしては、蟻酸tert−ブチル、酢酸tert−ブチル、プロピオン酸tert−ブチル、蟻酸tert−ペンチル、酢酸tert−ペンチル、プロピオン酸tert−ペンチル、蟻酸tert−ヘキシル、酢酸tert−ヘキシル、プロピオン酸tert−ヘキシル、蟻酸tert−オクチル、酢酸tert−オクチル、プロピオン酸tert−オクチル、ラウリル酸tert−ブチル、酢酸ジフェニルメチル等が挙げられる。特に、酢酸tert−ブチル又は酢酸ジフェニルメチルが好ましい。また、これらのエーテル又はエステルは2種類以上の異なるものを併用しても良い。 Therefore, ether or ester can be suitably used as the compound (A). Examples of the ether include methyl tert-butyl ether, ethyl tert-butyl ether, propyl tert-butyl ether, methyl tert-pentyl ether, ethyl tert-pentyl ether, propyl tert-pentyl ether, methyl tert-hexyl ether, and ethyl tert-hexyl ether. , propyl tert- hexyl ether, methyl tert- octyl ether, ethyl tert- octyl ether, propyl tert- octyl ether, methyl (diphenylmethyl) ether (H (C 6 H 5) 2 CO-CH 3), methyl (triphenyl Methyl) ether ((C 6 H 5 ) 3 CO—CH 3 ), benzyl methyl ether, benzyl phenyl ether and the like. In particular, methyl tert-butyl ether, ethyl tert-butyl ether methyl (diphenylmethyl) ether, and methyl (triphenylmethyl) ether are preferable. Esters include tert-butyl formate, tert-butyl acetate, tert-butyl propionate, tert-pentyl formate, tert-pentyl acetate, tert-pentyl propionate, tert-hexyl formate, tert-hexyl acetate, tert-propionate Examples include hexyl, tert-octyl formate, tert-octyl acetate, tert-octyl propionate, tert-butyl laurate, and diphenylmethyl acetate. In particular, tert-butyl acetate or diphenylmethyl acetate is preferred. These ethers or esters may be used in combination of two or more different types.
前記(B)成分は、一般式:
R3 mSiX4−m
(式中、
R3は、独立して、水素原子、又は、炭素数1〜30の、置換若しくは非置換の、一価炭化水素基を表し、
Xは、独立して、臭素又は塩素であり、
mは0〜3の整数を表す)で表されるハロシランである。ここで、上記一価炭化水素基とは既述のとおりであるが、ハロシランに含まれる一価炭化水素基の炭素原子に結合した水素原子は、少なくとも部分的に、フッ素等のハロゲン原子、又は、アシル基、カルボキシル基、アミノ基、メタクリロキシ基、アクリロキシ基、ウレイド基、ポリスルフィド基、メルカプト基、イソシアネート基等を含む有機基で置換されてもよい。
The component (B) has the general formula:
R 3 m SiX 4-m
(Where
R 3 independently represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms,
X is independently bromine or chlorine;
m represents an integer of 0 to 3). Here, the monovalent hydrocarbon group is as described above, but the hydrogen atom bonded to the carbon atom of the monovalent hydrocarbon group contained in the halosilane is at least partially a halogen atom such as fluorine, or , An acyl group, a carboxyl group, an amino group, a methacryloxy group, an acryloxy group, a ureido group, a polysulfide group, a mercapto group, an isocyanate group and the like, may be substituted.
前記(B)ハロシランは、上記のXが塩素であるクロロシランであることが好ましく、珪素原子に結合した有機基を有するオルガノクロロシラン類及び珪素原子に結合した水素原子を有するヒドロクロロシラン類のいずれであってもよい。例えば、ジクロロシラン(H2SiCl2)、トリクロロシラン(HSiCl3)、テトラクロロシラン、メチルジクロロシラン、ジメチルモノクロロシラン((CH3)2H2SiCl2)、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、エチルジクロロシラン、ビニルトリクロロシラン、メチルビニルジクロロシラン、フェニルジクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、シクロヘキシルメチルジクロロシラン、(クロロプロピル)トリクロロシラン、ビス(3,3,3−トリフルオロプロピル)ジクロロシラン、トリス(3,3,3−トリフルオロプロピル)クロロシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジクロロシラン、3-メタクリロキシプロピルトリクロロラン、3-アクリロキシプロピルトリクロロシラン、3-アミノプロピルトリクロロシラン、3-メルカプトプロピルメチルジクロロシラン、3-メルカプトプロピルトリクロロシラン等が挙げられる。また、(B)ハロシランは上記のXが臭素であるブロモシランでもよい。(B)成分であるブロモシランは、上記のクロロシラン中の塩素原子の一部又は全部が臭素原子であるものを特に制限なく用いることができる。 The (B) halosilane is preferably a chlorosilane in which X is chlorine, and is either an organochlorosilane having an organic group bonded to a silicon atom or a hydrochlorosilane having a hydrogen atom bonded to a silicon atom. May be. For example, dichlorosilane (H 2 SiCl 2 ), trichlorosilane (HSiCl 3 ), tetrachlorosilane, methyldichlorosilane, dimethylmonochlorosilane ((CH 3 ) 2 H 2 SiCl 2 ), dimethyldichlorosilane, trimethylchlorosilane, ethyldichlorosilane , Vinyltrichlorosilane, methylvinyldichlorosilane, phenyldichlorosilane, phenyltrichlorosilane, diphenyldichlorosilane, cyclohexylmethyldichlorosilane, (chloropropyl) trichlorosilane, bis (3,3,3-trifluoropropyl) dichlorosilane, tris (3,3,3-trifluoropropyl) chlorosilane, 3-methacryloxypropylmethyldichlorosilane, 3-methacryloxypropyltrichlorolane, 3-acryloxy Propyl trichlorosilane, 3-aminopropyl trichlorosilane, 3-mercaptopropyl methyl dichlorosilane, 3-mercaptopropyl trichlorosilane, and the like. Further, (B) halosilane may be bromosilane in which X is bromine. As the bromosilane as the component (B), those in which some or all of the chlorine atoms in the chlorosilane are bromine atoms can be used without particular limitation.
加水分解性含ケイ素化合物が得られる限り、前記(A)化合物と前記(B)ハロシランの使用量は限定されるものではないが、例えば、前記(A)化合物/前記(B)ハロシランのモル比は化学量論的等量(stoichiometric equivalence)の50〜300%の範囲内とすることができる。前記モル比は0.75〜2の範囲が好ましく、0.95〜1.3の範囲がより好ましく、1.1〜1.3の範囲が更により好ましい。化学量論的等量とは、反応系に添加される前記(B)ハロシラン中のケイ素に結合したハロゲン原子の1モルに対して、前記(A)化合物1モルとして定義される。 As long as a hydrolyzable silicon-containing compound is obtained, the amount of the (A) compound and the (B) halosilane used is not limited. For example, the molar ratio of the (A) compound / (B) halosilane Can be in the range of 50-300% of stoichiometric equivalence. The molar ratio is preferably in the range of 0.75 to 2, more preferably in the range of 0.95 to 1.3, and still more preferably in the range of 1.1 to 1.3. The stoichiometric equivalent is defined as 1 mol of the compound (A) with respect to 1 mol of the halogen atom bonded to silicon in the (B) halosilane added to the reaction system.
前記(A)化合物と前記(B)ハロシランの反応はルイス酸触媒の存在下で実施される。上記反応を促進する限り、ルイス酸触媒の種類は限定されるものではないが、金属を含むルイス酸触媒が好ましい。 The reaction between the compound (A) and the halosilane (B) is carried out in the presence of a Lewis acid catalyst. As long as the reaction is promoted, the type of Lewis acid catalyst is not limited, but a Lewis acid catalyst containing a metal is preferable.
本発明の製造方法において、金属を含むルイス酸触媒として、金属ハロゲン化物、金属酸化物及び金属硫酸塩が例示される。金属ハロゲン化物は、例えば、塩化リチウム、塩化ビスマス(III)、塩化アルミニウム(III)、塩化鉄(II)、塩化鉄(III)、臭化鉄(II)、臭化鉄(III)、塩化亜鉛(II)、塩化ベリリウム(II)、塩化アンチモン(III)、塩化アンチモン(V)、塩化ホウ素、塩化セシウム、塩化コバルト(II)、塩化コバルト(III)、塩化ニッケル(II)、塩化チタン(III)、塩化チタン(IV)、塩化スズ(II)、塩化スズ(IV)、塩化ロジウム(III)、塩化カドニウム(II)、塩化ゲルマニウム(IV)、塩化ガリウム(III)、臭化ガリウム(III)、塩化インジウム(III)、臭化インジウム(III)、塩化鉛(II)、塩化マンガン(II)、塩化パラジウム(II)が挙げられる。金属酸化物は、例えば、酸化ベリリウム(II)、酸化バナジウム(V)、酸化クロム(III)、酸化鉄(II)、酸化鉄(III)、酸化コバルト(III)、酸化カドミウム(II)、酸化モリブデン(VI)が挙げられる。金属硫酸塩は、例えば、硫酸鉄(II)及び硫酸鉄(III)が挙げられる。 In the production method of the present invention, examples of the Lewis acid catalyst containing metal include metal halides, metal oxides, and metal sulfates. Metal halides include, for example, lithium chloride, bismuth (III) chloride, aluminum (III) chloride, iron (II) chloride, iron (III) chloride, iron (II) bromide, iron (III) bromide, zinc chloride (II), beryllium chloride (II), antimony chloride (III), antimony chloride (V), boron chloride, cesium chloride, cobalt chloride (II), cobalt chloride (III), nickel chloride (II), titanium chloride (III ), Titanium chloride (IV), tin chloride (II), tin chloride (IV), rhodium (III) chloride, cadmium chloride (II), germanium chloride (IV), gallium chloride (III), gallium bromide (III) Indium (III) chloride, indium (III) bromide, lead (II) chloride, manganese (II) chloride, and palladium (II) chloride. Examples of metal oxides include beryllium oxide (II), vanadium oxide (V), chromium oxide (III), iron oxide (II), iron oxide (III), cobalt oxide (III), cadmium oxide (II), and oxide. Molybdenum (VI) is mentioned. Examples of the metal sulfate include iron (II) sulfate and iron (III) sulfate.
これらのうち、塩化ガリウム(III)、臭化ガリウム(III)、塩化インジウム(III)、臭化インジウム(III)、塩化ビスマス(III)、塩化アルミニウム(III)、塩化鉄(II)、塩化鉄(III)、臭化鉄(II)、臭化鉄(III)、塩化ニッケル(II)、酸化カドミウム(II)、酸化クロム(III)、酸化モリブデン(VI)、酸化鉄(III)、硫酸鉄(II)及び硫酸鉄(III)が、本発明において好適なルイス酸触媒であり、特に、塩化ビスマス(III)、塩化アルミニウム(III)、塩化鉄(III)が好ましく用いられる。金属ハロゲン化物は、無水又は含水塩のいずれであっても用いることができるが、系中に水が存在すると、原料であるクロロシラン又はブロモシランとの加水分解反応の原因となり、生成したシラノール基が重合反応を起こす場合があるので、無水塩であることが好ましい。なお、反応スケールによっては、結晶水の影響は殆ど無視できる場合もある。 Of these, gallium chloride (III), gallium bromide (III), indium chloride (III), indium bromide (III), bismuth chloride (III), aluminum chloride (III), iron chloride (II), iron chloride (III), iron (II) bromide, iron (III) bromide, nickel (II) chloride, cadmium (II) oxide, chromium (III) oxide, molybdenum (VI) oxide, iron (III) oxide, iron sulfate (II) and iron (III) sulfate are suitable Lewis acid catalysts in the present invention, and bismuth (III) chloride, aluminum (III) chloride, and iron (III) chloride are particularly preferably used. The metal halide can be used in either anhydrous or hydrated salt, but if water is present in the system, it causes hydrolysis reaction with the raw material chlorosilane or bromosilane, and the generated silanol group is polymerized. An anhydrous salt is preferred because it may cause a reaction. Depending on the reaction scale, the influence of crystal water may be almost negligible.
ルイス酸触媒の使用量は、例えば、(B)ハロシラン1モルに対して0.0001〜1.0モルであり、0.05〜0.5モルが好ましく、0.03〜0.1モルがより好ましく、0.01〜0.05モルが更により好ましい。ルイス酸触媒が少なすぎると反応が遅くなったり、途中で反応が停止してしまう場合があり、また、多すぎると(B)ハロシランが、Si−C結合の開裂等の好ましくない反応を起こしてしまう恐れがある。 The amount of the Lewis acid catalyst used is, for example, 0.0001 to 1.0 mol, preferably 0.05 to 0.5 mol, and 0.03 to 0.1 mol, per mol of (B) halosilane. More preferably, 0.01 to 0.05 mol is even more preferable. If the amount of the Lewis acid catalyst is too small, the reaction may be slowed or stopped in the middle of the reaction. If the amount is too large, (B) the halosilane may cause an undesirable reaction such as cleavage of the Si-C bond. There is a risk.
前記(A)化合物と前記(B)ハロシランの反応は、上記ルイス酸触媒が(B)成分に溶解するかに応じて、均一系でも不均一系でも行うことができる。塩化ビスマスのように、(B)成分への溶解性が低いルイス酸触媒を用いる場合には、(B)成分にルイス酸触媒を添加し、次いで、前記(A)化合物を加えて撹拌することによって行うことができる。この場合、反応完了の時点で、系中に触媒由来の残滓(塩化ビスマスにおいては黒色タール状物質)が反応混合物底部に沈降するため、必要に応じて、反応生成物から遠心分離等の公知の手段を用いて分離することができる。一方、塩化鉄(III)のように、(B)成分への溶解性が高いルイス酸触媒を用いる場合には、前記(B)ハロシランに触媒を溶解し、次いで前記(A)化合物を加えて撹拌することによって行うことができる。この場合、反応溶液全体として透明かつ均一であり、反応完了の時点で、触媒由来の残滓が分離沈降しないことから、設備の配管に当該残滓が蓄積し、配管が閉塞する問題を容易に回避できる利点がある。なお、ルイス酸触媒が、前記(A)化合物に溶解しやすい場合には、(A)成分中に触媒を溶解し、次いで前記(B)ハロシランを加えてもよい。 The reaction between the compound (A) and the halosilane (B) can be performed in a homogeneous system or a heterogeneous system depending on whether the Lewis acid catalyst is dissolved in the component (B). When using a Lewis acid catalyst having low solubility in the component (B), such as bismuth chloride, the Lewis acid catalyst is added to the component (B), and then the compound (A) is added and stirred. Can be done by. In this case, the catalyst-derived residue (black tar-like substance in bismuth chloride) settles at the bottom of the reaction mixture at the time of completion of the reaction. It can be separated using means. On the other hand, when using a Lewis acid catalyst having high solubility in the component (B) such as iron (III) chloride, the catalyst is dissolved in the (B) halosilane, and then the compound (A) is added. This can be done by stirring. In this case, the reaction solution as a whole is transparent and uniform, and the catalyst-derived residue does not separate and settle at the time of completion of the reaction. Therefore, it is possible to easily avoid the problem that the residue accumulates in the equipment piping and the piping is blocked. There are advantages. When the Lewis acid catalyst is easily dissolved in the compound (A), the catalyst may be dissolved in the component (A), and then the halosilane (B) may be added.
上記反応の温度は0〜150℃が好ましく、1気圧下では、0〜90℃、特に20〜40℃がより好ましく、いわゆる室温(25℃)で反応させることが特に好適である。一方、触媒及び原料の選択によっては、50〜90℃の高温条件を選択して、反応を促進することもできる。なお、加圧下では、より高温条件を選択できることは言うまでもない。反応温度が低すぎると反応速度が遅くなってしまい、長い反応時間を必要とする場合があり、一方、反応温度が高すぎる場合には、生成した加水分解性含ケイ素化合物が好ましくない反応を起こしてしまうおそれがある。また、上記反応の時間は、反応のスケール及び温度に応じて変わるが、例えば、10分〜1週間、好ましくは1〜40時間とすることができる。特に、塩化ビスマス又は塩化鉄(III)をルイス酸触媒に用いた場合、室温(25℃)、1気圧下では、4〜36時間とすることが好ましい。 The temperature of the above reaction is preferably 0 to 150 ° C., and under 1 atmosphere, 0 to 90 ° C., more preferably 20 to 40 ° C. is more preferable, and the reaction is particularly preferably performed at a so-called room temperature (25 ° C.). On the other hand, depending on the selection of the catalyst and the raw material, the reaction can be promoted by selecting high temperature conditions of 50 to 90 ° C. Needless to say, a higher temperature condition can be selected under pressure. If the reaction temperature is too low, the reaction rate becomes slow and a long reaction time may be required. On the other hand, if the reaction temperature is too high, the hydrolyzable silicon-containing compound produced causes an undesirable reaction. There is a risk that. The reaction time varies depending on the reaction scale and temperature, and can be, for example, 10 minutes to 1 week, preferably 1 to 40 hours. In particular, when bismuth chloride or iron (III) chloride is used as the Lewis acid catalyst, it is preferably 4 to 36 hours at room temperature (25 ° C.) and 1 atmosphere.
上記反応は不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましく、不活性ガスとしては、窒素、アルゴンなどが挙げられる。上記反応は減圧下、常圧、加圧下で行うことができるが、操作性の点では、常圧下で行うことが好ましい。 The above reaction is preferably performed in an inert gas atmosphere, and examples of the inert gas include nitrogen and argon. The above reaction can be performed under reduced pressure, normal pressure, or increased pressure, but it is preferably performed under normal pressure in terms of operability.
前記(A)化合物と前記(B)ハロシランとの反応は溶媒中で行われてもよい。使用される溶媒としては、前記(A)化合物及び/又は前記(B)ハロシランと反応しない溶媒を用いることが好ましく、常温・大気圧下で液体であり150℃以下の沸点を持つ不活性な溶媒が好ましい。そのような溶媒としては、トルエン、キシレン、ヘキサン、ノナン、ペンタン、オクタン等の炭化水素系溶剤;四塩化水素、メチレンクロライド、ジクロロエタン、ジクロロエチレン、1,1,1−トリクロロエタン、トリクロロエチレン、ペルクロロエチレン、テトラクロロエタン等の塩素化炭化水素系溶剤、アセトニトリルが挙げられる。 The reaction between the compound (A) and the (B) halosilane may be performed in a solvent. The solvent used is preferably a solvent that does not react with the compound (A) and / or the (B) halosilane, and is an inert solvent that is liquid at room temperature and atmospheric pressure and has a boiling point of 150 ° C. or lower. Is preferred. Examples of such solvents include hydrocarbon solvents such as toluene, xylene, hexane, nonane, pentane, and octane; hydrogen tetrachloride, methylene chloride, dichloroethane, dichloroethylene, 1,1,1-trichloroethane, trichloroethylene, perchloroethylene, Examples include chlorinated hydrocarbon solvents such as tetrachloroethane, and acetonitrile.
前記(A)化合物と前記(B)ハロシランの反応は、バッチ式又は連続式で実施することができる。連続式で反応を実施する場合は、前記(A)化合物と前記(B)ハロシランを反応させ、反応が平衡に達した後に、系内を減圧にして、生成した加水分解性含ケイ素化合物を反応系から抜き出しながら進めてもよく、また、副生成物である、第3級アルキル基又はアラルキル基に由来するハロゲン化炭化水素を反応系から抜き出しながら更に反応を進めてもよい。上記反応では、副生成物としてハロゲン化炭化水素以外の物質は殆ど生成しないので、反応選択性が高い。そして、上記反応では塩化水素等のハロゲン化水素が殆ど副生しないので安全であり、ハロゲン化水素の中和剤としてのアミン等の塩基を添加する必要が殆どないので、低コストで実施することができる。更に、上記反応では可燃性・刺激性の塩化アセチル等のハロゲン化アシルは殆ど生成しないので、環境負荷が低く、且つ、安全に反応を実施することができる。 The reaction of the compound (A) and the (B) halosilane can be carried out batchwise or continuously. When the reaction is carried out continuously, the compound (A) and the (B) halosilane are reacted, and after the reaction reaches equilibrium, the system is reduced in pressure to react with the hydrolyzable silicon-containing compound produced. The reaction may be performed while being extracted from the system, or the reaction may be further performed while the halogenated hydrocarbon derived from the tertiary alkyl group or aralkyl group, which is a by-product, is extracted from the reaction system. In the above reaction, a substance other than the halogenated hydrocarbon is hardly generated as a by-product, so that the reaction selectivity is high. In the above reaction, hydrogen halide such as hydrogen chloride is hardly produced as a by-product, so it is safe, and it is hardly necessary to add a base such as an amine as a neutralizing agent for hydrogen halide. Can do. Further, in the above reaction, flammable / stimulant acyl halides such as acetyl chloride are hardly generated, so that the environmental load is low and the reaction can be carried out safely.
塩化ビスマスのように(B)成分への溶解性が低いルイス酸触媒を用いる場合、触媒が系に溶け出しにくいため、担持型触媒として、連続工程又は濾過を前提としたバッチ式の工程に、特に有用である。また、塩化鉄(III)のように、(B)成分に均一に溶解するルイス酸触媒にあっては、バッチ式の工程に有用である。なお、反応後の塩化鉄(III)等のルイス酸触媒は、必要に応じて、失活させ、蒸留することによって容易に生成物から単離できる。 When using a Lewis acid catalyst having low solubility in the component (B), such as bismuth chloride, the catalyst is difficult to dissolve in the system. It is particularly useful. In addition, a Lewis acid catalyst that is uniformly dissolved in the component (B), such as iron (III) chloride, is useful for batch-type processes. The Lewis acid catalyst such as iron (III) chloride after the reaction can be easily isolated from the product by deactivation and distillation as necessary.
上記反応後の溶液は、ほぼ中性を呈するため、得られた加水分解性ケイ素化合物は、そのまま蒸留等によって反応溶液から取り出すことができる。また、必要に応じて、前記(A)化合物と前記(B)ハロシランの反応後に残存するルイス酸触媒を失活させるために、少量のルイス塩基として作用する化合物を加えた後、蒸留等によって加水分解性含ケイ素化合物を反応系内から取り出すこともできる。なお、得られた加水分解性含ケイ素化合物は、単離せず、そのまま次の反応に用いてもよい。 Since the solution after the reaction is almost neutral, the obtained hydrolyzable silicon compound can be taken out of the reaction solution as it is by distillation or the like. If necessary, in order to deactivate the Lewis acid catalyst remaining after the reaction of the compound (A) and the (B) halosilane, a small amount of a compound acting as a Lewis base is added, followed by water addition by distillation or the like. The decomposable silicon-containing compound can also be taken out from the reaction system. In addition, you may use the obtained hydrolysable silicon-containing compound for next reaction as it is, without isolating.
本発明の製造方法で得られる加水分解性含ケイ素化合物は、少なくとも1つの、アルコキシ、アセトキシ基、フェノキシ基等のケイ素原子結合加水分解性基を有する。加水分解性含ケイ素化合物としては、アルコキシシラン、アセトキシシラン又はフェノキシシランが好ましい。アルコキシシランとしては、例えば、メトキシシラン、メトキシトリメチルシラン、エトキシシラン、ブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルメトキシクロロシラン、トリメトキシクロロシラン、トリメトキシシラン、テトラメトキシシラン、tert−ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、イソブチルメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、トリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、フェニルメトキシクロロシラン、トリフェニルメトキシシラン、2−フェニルプロピルメチルジメトキシシラン、メチルヘキサンジエニルジメトキシシラン、(クロロプロピル)トリメトキシシラン、(3,3,3−トリフルオロプロピル)トリメトキシシラン、ビス−(3,3,3−トリフルオロプロピル)ジメトキシシラン、トリス−(3,3,3−トリフルオロプロピル)メトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。アセトキシシランとしては、例えば、ビニルトリアセトキシシラン、トリメチルアセトキシシラン等が挙げられる。フェノキシシランとしては、メチルトリフェノキシシラン、エチルトリフェノキシシラン、ビニルトリフェノキシシラン、フェニルトリフェノキシシラン、ジメチルジフェノキシシラン、メチルビニルジフェノキシシラン、ジビニルジフェノキシシラン、メチルフェニルジフェノキシシラン、ジフェニルジフェノキシシラン等が例示される。本発明の製造方法では、このような加水分解性含ケイ素化合物を高収率で得ることができる。 The hydrolyzable silicon-containing compound obtained by the production method of the present invention has at least one silicon-bonded hydrolyzable group such as alkoxy, acetoxy group or phenoxy group. As the hydrolyzable silicon-containing compound, alkoxysilane, acetoxysilane or phenoxysilane is preferable. Examples of the alkoxysilane include methoxysilane, methoxytrimethylsilane, ethoxysilane, butoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethylmethoxychlorosilane, trimethoxychlorosilane, trimethoxysilane, tetramethoxysilane, tert-butyltrimethoxysilane, isobutyltrimethoxy. Silane, isobutylmethoxysilane, octadecyltrimethoxysilane, dodecyltrimethoxysilane, cyclohexylmethyldimethoxysilane, triethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, methylvinyldimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, phenyl Methoxychlorosilane, triphenylmethoxysilane, 2-phenylpropylmethyl Methoxysilane, methylhexanedienyldimethoxysilane, (chloropropyl) trimethoxysilane, (3,3,3-trifluoropropyl) trimethoxysilane, bis- (3,3,3-trifluoropropyl) dimethoxysilane, tris -(3,3,3-trifluoropropyl) methoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, Examples include 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane and 3-mercaptopropyltrimethoxysilane. Examples of acetoxysilane include vinyltriacetoxysilane and trimethylacetoxysilane. Phenoxysilanes include methyltriphenoxysilane, ethyltriphenoxysilane, vinyltriphenoxysilane, phenyltriphenoxysilane, dimethyldiphenoxysilane, methylvinyldiphenoxysilane, divinyldiphenoxysilane, methylphenyldiphenoxysilane, diphenyldiphenoxy Examples include silane. In the production method of the present invention, such a hydrolyzable silicon-containing compound can be obtained in a high yield.
前記(A)化合物と前記(B)ハロシランの反応では、反応性のハロゲン化水素又はハロゲン化アシルが殆ど又は全く生成しないので、本発明の製造方法で得られる加水分解性含ケイ素化合物は、ハロゲン化水素又はハロゲン化アシルを実質的に含まない。ここで、「実質的に」とは、加水分解性含ケイ素化合物の全質量(重量)の5%以下、好ましくは1%以下、より好ましくは0.1%以下、更により好ましくは0.01%以下を意味する。したがって、本発明の製造方法で得られる加水分解性含ケイ素化合物はハロゲン化水素又はハロゲン化アシルの不活化処理を行うことなく、次工程において使用することができる。 In the reaction of the compound (A) with the (B) halosilane, little or no reactive hydrogen halide or acyl halide is generated. Therefore, the hydrolyzable silicon-containing compound obtained by the production method of the present invention is a halogenated compound. Substantially free of hydrogen halide or acyl halide. Here, “substantially” means 5% or less, preferably 1% or less, more preferably 0.1% or less, and still more preferably 0.01% or less of the total mass (weight) of the hydrolyzable silicon-containing compound. % Or less. Therefore, the hydrolyzable silicon-containing compound obtained by the production method of the present invention can be used in the next step without performing inactivation treatment of hydrogen halide or acyl halide.
本発明の製造方法により得られる加水分解性含ケイ素化合物は、ハロゲン化水素又はハロゲン化アシルを殆ど又は全く含まないので、本来的に不純物が少ないものであるが、必要に応じて、蒸留、クロマトグラフィー等の公知の方法で精製を行い、更に、高純度なものとすることができる。 Since the hydrolyzable silicon-containing compound obtained by the production method of the present invention contains little or no hydrogen halide or acyl halide, it is inherently low in impurities. Purification can be carried out by a known method such as lithography, and the purity can be further increased.
本発明の製造方法で得られる加水分解性含ケイ素化合物は公知の用途に使用することができる。例えば、アルコキシシランは、シランカップリング剤、各種のオルガノポリシロキサン合成用原料等として有用であり、特に、本発明の製造方法で得られるアルコキシシランは高い純度が要求される太陽電池又は半導体用シリコーンの原料として有用である。一方、アセトキシシランは、シランカップリング剤、シリル化剤、架橋剤等として有用であり、特に、本発明の製造方法で得られるアセトキシシランは建築材料等に使用されるシーラント等の原料として有用である。同様に、上記反応では可燃性・刺激性の塩化アセチル等のハロゲン化アシルは殆ど生成しないので、高純度かつ電子材料用途に好適なシラン原料が得られる利点がある。、 The hydrolyzable silicon-containing compound obtained by the production method of the present invention can be used for known applications. For example, alkoxysilane is useful as a silane coupling agent, various organopolysiloxane synthesis raw materials, and the like. In particular, the alkoxysilane obtained by the production method of the present invention is a silicone for solar cells or semiconductors that requires high purity. It is useful as a raw material. On the other hand, acetoxysilane is useful as a silane coupling agent, silylating agent, cross-linking agent, etc., and in particular, acetoxysilane obtained by the production method of the present invention is useful as a raw material for sealants used for building materials and the like. is there. Similarly, the reaction described above hardly produces flammable / stimulating acyl halides such as acetyl chloride, and therefore has an advantage that a silane raw material having high purity and suitable for electronic materials can be obtained. ,
以下に、本発明に関して実施例を挙げて説明するが、本発明は、これらによって限定されるものではない。実施例及び比較例における生成物は、核種29Si、13C、1Hについて、NMRを用いて同定した。具体的には、日本電子社製のJEOL JNM-ECX-500をNMR測定装置に使用した。測定時には、重クロロホルム(CDCl3) を溶媒とし、5Φの測定管に、クロムアセチルアセテートを緩和促進剤として少量添加し、テトラメチルシラン (δ= 0、1H-NMR, 13C-NMR, 29Si NMR)を内部標準物質に用いて測定した。また、反応生成物の収率は、反応原料と生成物に対応するシグナルの積分値の比に基づいて決定した。 Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. The products in Examples and Comparative Examples were identified using NMR for nuclides 29 Si, 13 C, 1 H. Specifically, JEOL JNM-ECX-500 manufactured by JEOL Ltd. was used for the NMR measurement apparatus. At the time of measurement, deuterated chloroform (CDCl 3 ) is used as a solvent, a small amount of chromium acetyl acetate is added as a relaxation accelerator to a 5Φ measuring tube, tetramethylsilane (δ = 0, 1H-NMR, 13C-NMR, 29Si NMR) Was measured using as an internal standard. The yield of the reaction product was determined based on the ratio of the integral value of the signal corresponding to the reaction raw material and the product.
[実施例1]
容量30mlの2方コック付きの丸底フラスコ(シュレンク管)の内部に磁気攪拌子を設置し、0.16g(0.5mmol)の塩化ビスマス(BiCl3)を仕込み、セプタムでフラスコを密栓後、窒素置換を行った。次いで、シリンジにより、2.91g(33mmol)のメチルtert−ブチルエーテルをフラスコ内に仕込み、氷浴(0℃)につけた。氷浴(0℃)下、2.11g(10mmol)のフェニルトリクロロシランを、フラスコ内にシリンジでゆっくり滴下することにより仕込み、滴下完了後に系を室温(25℃)に戻して、マグネティックスターラーを用いて溶液を攪拌しながら一晩(15時間)反応させた。反応完結後の溶液を、29Si-NMR、13C-NMR、1H-NMRで測定し、測定結果から生成物を同定し、かつ当該生成物の収量を決定した。結果を表1に示す。なお、反応後の溶液には、少量の触媒由来の黒色沈殿が沈殿していた。
[Example 1]
Install a magnetic stir bar inside a round bottom flask (Schlenk tube) with a 30 ml capacity 2-way cock, charge 0.16 g (0.5 mmol) of bismuth chloride (BiCl 3 ), seal the flask with a septum, and replace with nitrogen. Went. Next, 2.91 g (33 mmol) of methyl tert-butyl ether was charged into the flask with a syringe and placed in an ice bath (0 ° C.). In an ice bath (0 ° C), 2.11 g (10 mmol) of phenyltrichlorosilane was slowly dropped into the flask with a syringe. After completion of the dropping, the system was returned to room temperature (25 ° C), and a magnetic stirrer was used. The solution was allowed to react overnight (15 hours) with stirring. The solution after completion of the reaction was measured by 29 Si-NMR, 13 C-NMR, and 1 H-NMR, the product was identified from the measurement result, and the yield of the product was determined. The results are shown in Table 1. In addition, a small amount of black precipitate derived from the catalyst was precipitated in the solution after the reaction.
[実施例2]
フェニルトリクロロシランに代えて、同モル量(=1.70g)のテトラクロロシランを使用した以外は実施例1と同様にして反応を行った。結果を表1に示す。
[Example 2]
The reaction was performed in the same manner as in Example 1 except that the same molar amount (= 1.70 g) of tetrachlorosilane was used instead of phenyltrichlorosilane. The results are shown in Table 1.
[実施例3]
フェニルトリクロロトリシランに代えて、同モル量(=1.35g)のヒドロトリクロロシランを使用した以外は実施例1と同様にして反応を行った。結果を表1に示す。
[Example 3]
The reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that the same molar amount (= 1.35 g) of hydrotrichlorosilane was used instead of phenyltrichlorotrisilane. The results are shown in Table 1.
[実施例4]
フェニルトリクロロトリシランに代えて、同モル量(=3.04g)のドデシルトリクロロシランを使用した以外は実施例1と同様にして反応を行った。結果を表1に示す。
[Example 4]
The reaction was performed in the same manner as in Example 1 except that the same molar amount (= 3.04 g) of dodecyltrichlorosilane was used instead of phenyltrichlorotrisilane. The results are shown in Table 1.
[実施例5]
フェニルトリクロロトリシランに代えて、同モル量(=1.62g)のビニルトリクロロシランを使用した以外は実施例1と同様にして反応を行った。結果を表1に示す。
[Example 5]
The reaction was conducted in the same manner as in Example 1 except that instead of phenyltrichlorotrisilane, the same molar amount (= 1.62 g) of vinyltrichlorosilane was used. The results are shown in Table 1.
[実施例6]
メチルtert−ブチルエーテルに代えて、同モル量(=3.37g)のエチルtert−ブチルエーテルを使用した以外は実施例1と同様にして反応を行った。結果を表1に示す。
[Example 6]
The reaction was conducted in the same manner as in Example 1 except that the same molar amount (= 3.37 g) of ethyl tert-butyl ether was used instead of methyl tert-butyl ether. The results are shown in Table 1.
[実施例7]
テトラクロロシラン1モルに対してメチルtert−ブチルエーテル3モルの割合で両者を使用する以外は実施例2と同様にして反応を行った。すなわち、メチルtert−ブチルエーテルの使用量を2.64g(30mmol)とした以外は、実施例2と同様にして反応を行なった。結果を表1に示す。
[Example 7]
The reaction was carried out in the same manner as in Example 2 except that both were used at a ratio of 3 mol of methyl tert-butyl ether to 1 mol of tetrachlorosilane. That is, the reaction was performed in the same manner as in Example 2 except that the amount of methyl tert-butyl ether used was 2.64 g (30 mmol). The results are shown in Table 1.
[実施例8]
フェニルトリクロロトリシランに代えてジメチルジクロロシランを使用し、且つ、ジメチルジクロロシラン:メチルtert−ブチルエーテルのモル比を1:2.6とした以外は実施例1と同様にして反応を行った。すなわち、メチルtert−ブチルエーテルの使用量を2.29g(26mmol)とし、フェニルトリクロロトリシランに代えて1.29g(10mmol)のジメチルジクロロシランを使用した以外は実施例1と同様にして反応を行った。結果を表1に示す。
[Example 8]
The reaction was performed in the same manner as in Example 1 except that dimethyldichlorosilane was used instead of phenyltrichlorotrisilane, and the molar ratio of dimethyldichlorosilane: methyl tert-butyl ether was 1: 2.6. That is, the reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that 2.29 g (26 mmol) of methyl tert-butyl ether was used and 1.29 g (10 mmol) of dimethyldichlorosilane was used instead of phenyltrichlorotrisilane. The results are shown in Table 1.
[実施例9]
フェニルトリクロロトリシランに代えてシクロヘキシルメチルジクロロシランを使用し、シクロヘキシルメチルジクロロシラン:メチルtert−ブチルエーテルのモル比を1:2.6とし、且つ、シクロヘキシルメチルジクロロシラン:塩化ビスマスのモル比を1:0.01とした以外は実施例1と同様にして反応を行った。すなわち、容量30mlの2方コック付きの丸底フラスコの内部に磁気攪拌子を設置し、0.03g(0.1mmol)の塩化ビスマス(BiCl3)を仕込み、、セプタムでフラスコを密栓後、窒素置換を行った。次いで、2.29g(26mmol)のメチルtert−ブチルエーテル及び1.97g(10mmol)のシクロヘキシルメチルジクロロシランを、実施例1と同様にしてフラスコ内に仕込み、その後は、実施例1と同様にして反応を行なった。結果を表1に示す。
[Example 9]
Cyclohexylmethyldichlorosilane is used in place of phenyltrichlorotrisilane, the molar ratio of cyclohexylmethyldichlorosilane: methyl tert-butyl ether is 1: 2.6, and the molar ratio of cyclohexylmethyldichlorosilane: bismuth chloride is 1: The reaction was performed in the same manner as in Example 1 except that the content was 0.01. That is, a magnetic stirrer was installed inside a round bottom flask with a 30 ml capacity and a two-way cock, charged with 0.03 g (0.1 mmol) of bismuth chloride (BiCl 3 ), sealed with a septum, and purged with nitrogen. went. Next, 2.29 g (26 mmol) of methyl tert-butyl ether and 1.97 g (10 mmol) of cyclohexylmethyldichlorosilane were charged into the flask in the same manner as in Example 1, and then the reaction was carried out in the same manner as in Example 1. It was. The results are shown in Table 1.
[実施例10]
フェニルトリクロロトリシランに代えてトリメチルクロロシランを使用し、トリメチルクロロシラン:メチルtert−ブチルエーテルのモル比を1:1.3とし、且つ、トリメチルクロロシラン:塩化ビスマスのモル比を1:0.01とした以外は実施例1と同様にして反応を行った。すなわち、容量30mlの2方コック付きの丸底フラスコの内部に磁気攪拌子を設置し、0.03g(0.1mmol)の塩化ビスマス(BiCl3)を仕込み、セプタムでフラスコを密栓後、窒素置換を行った。次いで、1.15g(13mmol)のメチルtert−ブチルエーテル及び1.09g(10mmol)のトリメチルクロロシランを、実施例1と同様にしてフラスコ内に仕込み、その後は、実施例1と同様にして反応を行なった。結果を表1に示す。
[Example 10]
Other than using trimethylchlorosilane instead of phenyltrichlorotrisilane, the molar ratio of trimethylchlorosilane: methyl tert-butyl ether was 1: 1.3, and the molar ratio of trimethylchlorosilane: bismuth chloride was 1: 0.01. Was reacted in the same manner as in Example 1. In other words, a magnetic stirrer was installed inside a round bottom flask with a 30 ml capacity and a two-way cock, 0.03 g (0.1 mmol) of bismuth chloride (BiCl 3 ) was charged, the flask was sealed with a septum, and then purged with nitrogen. It was. Next, 1.15 g (13 mmol) of methyl tert-butyl ether and 1.09 g (10 mmol) of trimethylchlorosilane were charged into the flask in the same manner as in Example 1, and then the reaction was carried out in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.
[実施例11]
メチルtert−ブチルエーテルに代えて、同モル量(=3.83g)の酢酸tert−ブチルを使用する以外は実施例5と同様にして反応を行った。結果を表1に示す。なお、NMRチャートからは塩化アセチルの副生は確認できず、得られたビニルトリアセトキシシランは高純度であった。
[Example 11]
The reaction was conducted in the same manner as in Example 5 except that the same molar amount (= 3.83 g) of tert-butyl acetate was used instead of methyl tert-butyl ether. The results are shown in Table 1. From the NMR chart, no by-product of acetyl chloride was confirmed, and the obtained vinyltriacetoxysilane was highly pure.
[実施例12]
メチルtert−ブチルエーテルに代えて、同モル量(=1.51g)の酢酸tert−ブチルを使用する以外は実施例10と同様にして反応を行った。結果を表1に示す。なお、NMRチャートからは塩化アセチルの副生は確認できず、得られたトリメチルアセトキシシランは高純度であった。
[Example 12]
The reaction was carried out in the same manner as in Example 10 except that the same molar amount (= 1.51 g) of tert-butyl acetate was used instead of methyl tert-butyl ether. The results are shown in Table 1. From the NMR chart, no by-product of acetyl chloride could be confirmed, and the obtained trimethylacetoxysilane was highly pure.
[実施例13]
フェニルトリクロロトリシランに代えて、同モル量(=2.12g)のクロロプロピルトリクロロシラン使用する以外は実施例1と同様にして反応を行った。結果を表1に示す。
[Example 13]
The reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that the same molar amount (= 2.12 g) of chloropropyltrichlorosilane was used instead of phenyltrichlorotrisilane. The results are shown in Table 1.
[比較例1]
容量30mlの2方コック付きの丸底フラスコの内部に磁気攪拌子を設置し、セプタムでフラスコを密栓後、窒素置換を行った。次いで、0.70g(22mmol)のメタノール及び1.97g(10mmol)のシクロヘキシルメチルジクロロシランを、実施例1と同様にしてフラスコ内に仕込み、その後は、実施例1と同様にして反応を行なったところ、比較例1の反応溶液は、他の実施例に比べて粘性の高い液体となった。結果を表1に示す。
[Comparative Example 1]
A magnetic stirring bar was placed inside a round bottom flask with a 30 ml capacity two-way cock, and the flask was sealed with a septum, and then purged with nitrogen. Next, 0.70 g (22 mmol) of methanol and 1.97 g (10 mmol) of cyclohexylmethyldichlorosilane were charged into the flask in the same manner as in Example 1. Thereafter, the reaction was carried out in the same manner as in Example 1. The reaction solution of Comparative Example 1 became a highly viscous liquid compared to the other examples. The results are shown in Table 1.
[比較例2]
塩化ビスマス(BiCl3)を用いず、反応時間を15時間から3日間に延長したほかは、実施例2と同様にして、反応を行った。結果を表1に示す。ルイス酸触媒の存在しない条件下では、反応時間を3日間に延長しても、テトラクロロシランとメチルtert−ブチルエーテルの反応により、加水分解性ケイ素化合物が生成せず、反応前後の溶液でNMRチャートに変化が見られなかった。
[Comparative Example 2]
The reaction was performed in the same manner as in Example 2 except that the reaction time was extended from 15 hours to 3 days without using bismuth chloride (BiCl 3 ). The results are shown in Table 1. Under the condition where a Lewis acid catalyst is not present, even if the reaction time is extended to 3 days, a hydrolyzable silicon compound is not produced by the reaction of tetrachlorosilane and methyl tert-butyl ether. There was no change.
表1に示されるように、実施例1〜13の反応では高い収率で表1に示す生成物を得ることができた。 As shown in Table 1, in the reactions of Examples 1 to 13, the products shown in Table 1 could be obtained with high yield.
一方、比較例1の反応では多数種類の複雑な混合物が生成し、生成物を全て同定することはできなかった。比較例1の反応副生物である塩化水素が未反応のメタノールと反応して、MeOH+HCl→MeCl+H2Oの反応により水を生成し、これがクロロシランと更に反応してシラノールとなり、当該シラノールが重合することによって高分子量化したものと思われる。比較例1の反応系は粘性の高い液体となっており、実施例に示す加水分解性シランを高収率で得ることはできなかった。対比のため、同じシクロヘキシルメチルジクロロシランを出発物質とする実施例9と比較例1の、反応後の29Si-NMRチャートを図4に示す。 On the other hand, in the reaction of Comparative Example 1, many kinds of complicated mixtures were formed, and all the products could not be identified. Hydrogen chloride which is a reaction by-product of Comparative Example 1 reacts with unreacted methanol to generate water by the reaction of MeOH + HCl → MeCl + H 2 O, which further reacts with chlorosilane to form silanol, which is then polymerized. It seems that it became the high molecular weight by. The reaction system of Comparative Example 1 was a highly viscous liquid, and the hydrolyzable silane shown in the examples could not be obtained in high yield. For comparison, FIG. 4 shows a 29 Si-NMR chart after the reaction in Example 9 and Comparative Example 1 using the same cyclohexylmethyldichlorosilane as a starting material.
また、比較例2の反応では、テトラクロロシランとメチルtert−ブチルエーテルの反応が進行せず、実施例2との対比より、本反応には、ルイス酸触媒が必須であることが確認できた。 Further, in the reaction of Comparative Example 2, the reaction of tetrachlorosilane and methyl tert-butyl ether did not proceed. From the comparison with Example 2, it was confirmed that the Lewis acid catalyst was essential for this reaction.
Me:メチル基
Ph:フェニル基
cyc-Hex:シクロヘキシル基
tert-Bu:第3級ブチル基
Ac:アセチル基
**)反応時間は3日間であったが、反応の進行はNMR上認められなかった。。
Me: Methyl group
Ph: Phenyl group
cyc-Hex: cyclohexyl group
tert-Bu: Tertiary butyl group
Ac: acetyl group **) The reaction time was 3 days, but no progress of the reaction was observed on NMR. .
[実施例14]
容量50mlの2方コック付きの丸底フラスコ(シュレンク管)の内部に磁気攪拌子を設置し、16mg(0.1mmol)の塩化鉄(III)(FeCl3)を仕込み、セプタムでフラスコを密栓後、窒素置換を行った。次いで、2.90g(33mmol)のメチルtert−ブチルエーテル及び2.11g(10mmol)のフェニルトリクロロシランを、実施例1と同様にしてフラスコ内に仕込み、系を室温(25℃)に戻して、マグネティックスターラーを用いて溶液を攪拌しながら一晩(15時間)反応させた。
[Example 14]
Install a magnetic stir bar inside a round bottom flask (Schlenk tube) with a 50 ml capacity two-way cock, charge 16 mg (0.1 mmol) of iron (III) chloride (FeCl 3 ), seal the flask with a septum, Nitrogen replacement was performed. Next, 2.90 g (33 mmol) of methyl tert-butyl ether and 2.11 g (10 mmol) of phenyltrichlorosilane were charged into the flask in the same manner as in Example 1, the system was returned to room temperature (25 ° C.), and a magnetic stirrer was added. The solution was allowed to react overnight (15 hours) with stirring.
塩化鉄(III)を含む反応後の溶液は全体が均一であり、薄い黄色の透明溶液であった。実施例1の場合と異なり、残滓や沈殿は生じなかった。反応後の溶液の一部を分取し、29Si-NMR、13C-NMR、1H-NMRで測定し、測定結果から生成物を同定した結果、実施例1と同様に、PhSi(OMe)3が生成していることが確認できた。結果を表2に示す。 The reaction solution containing iron (III) chloride was uniform as a whole and was a pale yellow transparent solution. Unlike the case of Example 1, no residue or precipitation occurred. A part of the solution after the reaction was collected and measured by 29 Si-NMR, 13 C-NMR, and 1 H-NMR, and as a result of identifying the product from the measurement result, as in Example 1, PhSi (OMe ) It was confirmed that 3 was generated. The results are shown in Table 2.
[参考例15]
塩化鉄(III)の代わりに、同モル量(=13mg)の塩化アルミニウム(AlCl3)を使用した以外、実施例14と同様にして反応を行なった。結果を表2に示す。
[ Reference Example 15]
The reaction was carried out in the same manner as in Example 14 except that the same molar amount (= 13 mg) of aluminum chloride (AlCl 3 ) was used instead of iron (III) chloride. The results are shown in Table 2.
一晩(15時間)の反応を行った後、塩化アルミニウムを含む反応後の溶液は、全体が均一であり、乳白色の透明溶液であった。実施例1の場合と異なり、残滓や沈殿は生じなかった。反応後の溶液の一部を分取し、29Si-NMR、13C-NMR、1H-NMRで測定し、測定結果から生成物を同定した結果、PhSi(OMe)3が生成していることが確認できたが、実施例1や実施例14と異なり、15時間の反応時点では、大部分のフェニルトリクロロシランが未反応であった。 After performing the reaction overnight (15 hours), the solution after the reaction containing aluminum chloride was uniform as a whole and was a milky white transparent solution. Unlike the case of Example 1, no residue or precipitation occurred. A part of the solution after the reaction was collected and measured by 29 Si-NMR, 13 C-NMR, and 1 H-NMR. As a result of identifying the product from the measurement result, PhSi (OMe) 3 was produced. However, unlike Example 1 and Example 14, most of the phenyltrichlorosilane was unreacted at the reaction time of 15 hours.
一方、更に反応時間を伸ばし、攪拌しながら3日間(72時間)反応を継続させたところ、塩化アルミニウムを含む反応後の溶液は、全体が均一であり、薄いピンク色の透明溶液となった。反応後の溶液の一部を分取し、29Si-NMR、13C-NMR、1H-NMRで測定し、測定結果から生成物を同定した結果、実施例1同様に、PhSi(OMe)3が生成していることが確認できた。 On the other hand, when the reaction time was further extended and the reaction was continued for 3 days (72 hours) with stirring, the solution after the reaction containing aluminum chloride was uniform as a whole and became a light pink transparent solution. A part of the solution after the reaction was collected and measured by 29 Si-NMR, 13 C-NMR, and 1 H-NMR. As a result of identifying the product from the measurement results, PhSi (OMe) was obtained in the same manner as in Example 1. It was confirmed that 3 was generated.
以上の結果より、塩化ビスマス以外のルイス酸触媒である金属塩を用いた場合にも、本発明の加水分解性含ケイ素化合物を得ることができることが確認された。特に、塩化鉄(III)を用いることにより、均一な反応系において、速やかに反応が進行することが確認できた。 From the above results, it was confirmed that the hydrolyzable silicon-containing compound of the present invention can be obtained even when a metal salt which is a Lewis acid catalyst other than bismuth chloride is used. In particular, by using iron (III) chloride, it was confirmed that the reaction proceeded quickly in a uniform reaction system.
[実施例16]
容量100mlの2方コック付きの丸底フラスコ(シュレンク管)の内部に磁気攪拌子を設置し、0.24g(0.75mmol)の塩化ビスマス(BiCl3)を仕込み、セプタムでフラスコを密栓後、窒素置換を行った。次いで、21.9g(248mmol)のメチルtert−ブチルエーテル及び19.62g(75mmol)の3-メタクリロキシプロピルトリクロロシランを、実施例1と同様にしてフラスコ内に仕込み、系を室温(25℃)に戻して、アルミホイルでフラスコ全体を遮光して、マグネティックスターラーを用いて溶液を攪拌しながら3日間(72時間)反応させた。反応後の溶液には塩化ビスマスが沈殿していたため、セライト濾過により塩化ビスマスを除去した後、当該生成物の収量を決定した。結果を表2に示す。
[Example 16]
Install a magnetic stir bar inside a round bottom flask (Schlenk tube) with a 100 ml capacity 2-way cock, charge 0.24 g (0.75 mmol) of bismuth chloride (BiCl 3 ), seal the flask with a septum, and replace with nitrogen. Went. Next, 21.9 g (248 mmol) of methyl tert-butyl ether and 19.62 g (75 mmol) of 3-methacryloxypropyltrichlorosilane were charged into the flask in the same manner as in Example 1, and the system was returned to room temperature (25 ° C.). The whole flask was shielded from light with aluminum foil, and the solution was reacted for 3 days (72 hours) while stirring the solution using a magnetic stirrer. Since bismuth chloride was precipitated in the solution after the reaction, the yield of the product was determined after removing bismuth chloride by Celite filtration. The results are shown in Table 2.
上記の反応後の溶液の一部を分取し、29Si-NMR、13C-NMR、1H -NMRで測定し、測定結果から生成物を同定した結果、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(CH2=C(CH3)COOC3H6-Si(OMe)3)が生成していることが確認できた。 A part of the solution after the above reaction was collected, measured by 29 Si-NMR, 13 C-NMR, and 1 H-NMR, and as a result of identifying the product from the measurement results, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane was obtained. It was confirmed that (CH 2 = C (CH 3 ) COOC 3 H 6 -Si (OMe) 3 ) was produced.
[実施例17]
容量30mlの2方コック付きの丸底フラスコ(シュレンク管)の内部に磁気攪拌子を設置し、32mg(0.10mmol)の塩化ビスマス(BiCl3)を仕込み、セプタムでフラスコを密栓後、窒素置換を行った。次いで、4.03g(33mmol)のメチルベンジルエーテル及び2.11g(10mmol)のフェニルトリクロロシランを、実施例1と同様にしてフラスコ内に仕込み、系を80℃に加熱してマグネティックスターラーを用いて溶液を攪拌しながら一晩(15時間)反応させ、当該生成物の収量を決定した。結果を表2に示す。なお、反応後の溶液は黒く変色し、塩化ビスマスが沈殿していた。
[Example 17]
Install a magnetic stirring bar inside a round bottom flask (Schlenk tube) with a capacity of 30 ml, charge 32 mg (0.10 mmol) of bismuth chloride (BiCl 3 ), seal the flask with a septum, and replace with nitrogen. went. Next, 4.03 g (33 mmol) of methylbenzyl ether and 2.11 g (10 mmol) of phenyltrichlorosilane were charged into the flask in the same manner as in Example 1. The system was heated to 80 ° C., and the solution was prepared using a magnetic stirrer. The reaction was allowed to proceed overnight (15 hours) with stirring to determine the yield of the product. The results are shown in Table 2. The solution after the reaction turned black and bismuth chloride was precipitated.
上記の反応後の溶液の一部を分取し、29Si-NMR、13C-NMR、1H -NMRで測定し、測定結果から生成物を同定した結果、実施例1同様に、PhSi(OMe)3が生成していることが確認できた。 A part of the solution after the above reaction was collected, measured by 29 Si-NMR, 13 C-NMR, and 1 H-NMR, and as a result of identifying the product from the measurement result, as in Example 1, PhSi ( It was confirmed that OMe) 3 was formed.
[実施例18]
攪拌器を備えた容量30mlの2方コック付きの丸底フラスコ(シュレンク管)に、32mg(0.10mmol)の塩化ビスマス(BiCl3)を仕込み、セプタムでフラスコを密栓後、窒素置換を行った。次いで、6.08g(33mmol)のフェニルベンジルエーテル及び1.50g(10mmol)のメチルトリクロロシランを、実施例1と同様にしてフラスコ内に仕込み、系を60℃に加熱して一晩(15時間)反応させ、当該生成物の収量を決定した。結果を表2に示す。なお、反応後の溶液には、塩化ビスマスが沈殿していた。
[Example 18]
32 mg (0.10 mmol) of bismuth chloride (BiCl 3 ) was charged into a 30 ml round bottom flask (Schlenk tube) equipped with a stirrer, and the flask was sealed with a septum and purged with nitrogen. Next, 6.08 g (33 mmol) of phenylbenzyl ether and 1.50 g (10 mmol) of methyltrichlorosilane were charged into the flask in the same manner as in Example 1, and the system was heated to 60 ° C. overnight (15 hours). And the yield of the product was determined. The results are shown in Table 2. In the solution after the reaction, bismuth chloride was precipitated.
上記の反応後の溶液の一部を分取し、29Si-NMR、13C-NMR、1H -NMRで測定し、測定結果から生成物を同定した結果、MeSi(OPh)3で示されるフェノキシシランが生成していることが確認できた。 A part of the solution after the above reaction was collected and measured by 29 Si-NMR, 13 C-NMR, and 1 H-NMR, and the product was identified from the measurement result. As a result, MeSi (OPh) 3 is indicated. It was confirmed that phenoxysilane was produced.
[実施例19]
攪拌器を備えた容量30mlの2方コック付きの丸底フラスコ(シュレンク管)に、32mg(0.10mmol)の塩化ビスマス(BiCl3)を仕込み、窒素置換後にセプタムでフラスコを密栓した。次いで、6.54g(33mmol)のメチル(ジフェニルメチル)エーテル(化学式:CH3-O-CH(C6H5)2)及び1.50g(10mmol)のメチルトリクロロシランを、実施例1と同様にしてフラスコ内に仕込み、系を室温(25℃)に戻して一晩(15時間)反応させ、当該生成物の収量を決定した。結果を表2に示す。なお、反応後の溶液には、塩化ビスマスが沈殿していた。
[Example 19]
32 mg (0.10 mmol) of bismuth chloride (BiCl 3 ) was charged into a 30-ml round bottom flask (Schlenk tube) equipped with a stirrer and purged with nitrogen, and the flask was sealed with a septum. Next, 6.54 g (33 mmol) of methyl (diphenylmethyl) ether (chemical formula: CH 3 —O—CH (C 6 H 5 ) 2 ) and 1.50 g (10 mmol) of methyltrichlorosilane were added in the same manner as in Example 1. The flask was charged and the system was returned to room temperature (25 ° C.) and reacted overnight (15 hours) to determine the yield of the product. The results are shown in Table 2. In the solution after the reaction, bismuth chloride was precipitated.
上記の反応後の溶液の一部を分取し、29Si-NMR、13C-NMR、1H-NMRで測定し、測定結果から生成物を同定した結果、MeSi(OMe)3が生成していることが確認できた。 A part of the solution after the above reaction was collected and measured by 29 Si-NMR, 13 C-NMR, and 1 H-NMR. As a result of identifying the product from the measurement result, MeSi (OMe) 3 was produced. It was confirmed that
Me:メチル基
Ph:フェニル基
tert-Bu:第3級ブチル基
Methacryloxypropyl:3−メタクリロキシプロピル基(CH2=C(CH3)COOC3H6- )
**)反応時間は3日間とした。
Me: Methyl group
Ph: Phenyl group
tert-Bu: Tertiary butyl group
Methacryloxypropyl: 3-methacryloxypropyl group (CH 2 = C (CH 3 ) COOC 3 H 6- )
**) The reaction time was 3 days.
各加水分解性シランの13Cの帰属は、図中に示す通りである。σ=34.5ppm付近の鋭いシグナルは、生成するtert−BuClに帰属されるシグナルであり、σ=27.0ppm付近の鋭いシグナルは、過剰量のtert−BuOMeに帰属されるシグナルである。また、図4に示す比較例1と実施例9の対比のとおり、メタノールとの直接反応においては、対応する各加水分解性シランは殆ど生成しなかった。また、図5に示すとおり、NMR上、塩化アセチルの生成は全く確認できなかった。 The attribution of 13 C of each hydrolyzable silane is as shown in the figure. A sharp signal near σ = 34.5 ppm is a signal attributed to tert-BuCl to be generated, and a sharp signal near σ = 27.0 ppm is a signal attributed to an excess amount of tert-BuOMe. Further, as shown in the comparison between Comparative Example 1 and Example 9 shown in FIG. 4, in the direct reaction with methanol, the corresponding hydrolyzable silanes were hardly generated. Moreover, as shown in FIG. 5, the production | generation of acetyl chloride was not able to be confirmed at all on NMR.
<NMRチャートの説明>
官能基の略号は以下の通りである。
Me:メチル基
Ph:フェニル基
cyc-Hex:シクロヘキシル基
Ac:アセチル基
Methacryloxypropyl:3−メタクリロキシプロピル基(CH2=C(CH3)COOC3H6-)
図1:σ=128.0-135.0ppm付近にPhSi(OMe)3のフェニル基に帰属されるシグナル、及び、σ=50.5ppm付近にPhSi(OMe)3のメトキシ基に帰属されるシグナルが存在する。
図2:σ=50.3ppm付近にcyc-HexMeSi(OMe)2のメトキシ基に帰属されるシグナル、及び、σ=24-27.96ppm付近にcyc-HexMeSi(OMe)2のシクロヘキシル基に帰属されるシグナルが存在する。
図3:図2とシグナル形が全く異なり、各シグナルを帰属できない。
図4:上段(実施例9)では、σ=-3.57ppm付近にcyc-HexMeSi(OMe)2の29Siに帰属されるシグナル、及び、下段(比較例1)では、σ=32.6ppm付近に原料のcyc-HexMeSiCl2の29Siに帰属されるシグナルが存在する。
図5:σ=140.5, 125.5, 22.5 ppm付近にCH2=CHSi(OAc)3に帰属されるシグナルが存在する一方、塩化アセチルに帰属される33.68ppm付近のシグナルは観測されなかった。
図6:図1とシグナル形はほぼ一致し、生成物は同一である。σ=128.0-134.9ppm付近にPhSi(OMe)3のフェニル基に帰属されるシグナル、及び、σ=50.8ppm付近にPhSi(OMe)3のメトキシ基に帰属されるシグナルが存在する。
図7:未反応原料のシグナルが見られるが、図1及び図6とシグナルが一致し、同一の生成物が確認できる。σ=128.0-134.9ppm付近にPhSi(OMe)3のフェニル基に帰属されるシグナル、及び、σ=50.8 ppm付近にPhSi(OMe)3のメトキシ基に帰属されるシグナルが存在する。
図8:σ=167.4, 136.6, 125.2, 66.6, 50.5, 22.2, 18.3, 5.8ppm付近にMethacryloxypropyl Si(OMe)3に帰属されるシグナルが存在する。
図9:原料以外のシグナルについては、図1とシグナル形はほぼ一致し、生成物は同一である。σ=127.6-134.8ppm付近にPhSi(OMe)3のフェニル基に帰属されるシグナル、及び、σ=50.7ppm付近にPhSi(OMe)3のメトキシ基に帰属されるシグナルが存在する。
<Explanation of NMR chart>
Abbreviations for functional groups are as follows.
Me: Methyl group
Ph: Phenyl group
cyc-Hex: cyclohexyl group
Ac: Acetyl group
Methacryloxypropyl: 3-methacryloxypropyl group (CH 2 = C (CH 3 ) COOC 3 H 6- )
Figure 1: σ = 128.0-135.0ppm signals attributable to the phenyl group of PhSi (OMe) 3 in the vicinity, and a signal attributed to methoxy groups PhSi (OMe) 3 in the vicinity of σ = 50.5ppm exists.
Figure 2: σ = 50.3ppm signal assignable to a methoxy group cyc-HexMeSi (OMe) 2 in the vicinity, and a signal attributed to a cyclohexyl group cyc-HexMeSi (OMe) 2 in the vicinity of σ = 24-27.96ppm Exists.
Fig. 3: The signal shape is completely different from Fig. 2, and each signal cannot be assigned.
FIG. 4: In the upper stage (Example 9), the signal attributed to 29 Si of cyc-HexMeSi (OMe) 2 is around σ = −3.57 ppm, and in the lower stage (Comparative Example 1) is around σ = 32.6 ppm. There is a signal attributed to 29 Si of the raw material cyc-HexMeSiCl 2 .
FIG. 5: Signals attributed to CH 2 = CHSi (OAc) 3 exist in the vicinity of σ = 140.5, 125.5, 22.5 ppm, while signals around 33.68 ppm attributed to acetyl chloride were not observed.
FIG. 6: The signal shape is almost the same as FIG. 1, and the product is the same. There is a signal attributed to the phenyl group of PhSi (OMe) 3 near σ = 128.0-134.9 ppm, and a signal attributed to the methoxy group of PhSi (OMe) 3 near σ = 50.8 ppm.
FIG. 7: Although the signal of the unreacted raw material is seen, the signals are the same as those in FIGS. There is a signal attributed to the phenyl group of PhSi (OMe) 3 around σ = 128.0-134.9 ppm, and a signal attributed to the methoxy group of PhSi (OMe) 3 around σ = 50.8 ppm.
FIG. 8: Signals attributed to Methacryloxypropyl Si (OMe) 3 are present around σ = 167.4, 136.6, 125.2, 66.6, 50.5, 22.2, 18.3, 5.8 ppm.
FIG. 9: For signals other than the raw material, the signal shape is almost the same as in FIG. 1, and the product is the same. There is a signal attributed to the phenyl group of PhSi (OMe) 3 near σ = 127.6-134.8 ppm, and a signal attributed to the methoxy group of PhSi (OMe) 3 near σ = 50.7 ppm.
Claims (6)
R1−O−R2
(式中、
R1は炭素数4〜30の、置換又は非置換の、第3級アルキル基又はアラルキル基を表し、
R2は炭素数1〜30の、置換若しくは非置換の、一価炭化水素基又はアシル基を表す)
で表される化合物、及び、
(B)一般式:
R3 mSiX4−m
(式中、
R3は、独立して、水素原子、又は、炭素数1〜30の、置換若しくは非置換の、一価炭化水素基を表し、
Xは、独立して、臭素又は塩素であり、
mは0〜3の整数を表す)で表されるハロシラン
を塩化ビスマス及び塩化鉄(III)からなる群から選択される1種以上のルイス酸触媒存在下で反応させる、ハロゲン化水素又はハロゲン化アシルを実質的に含まない、アルコキシシラン、フェノキシシラン又はアセトキシシランである加水分解性含ケイ素化合物の製造方法。 (A) General formula:
R 1 —O—R 2
(Where
R 1 represents a substituted or unsubstituted tertiary alkyl group or aralkyl group having 4 to 30 carbon atoms,
R 2 represents a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group or acyl group having 1 to 30 carbon atoms)
And a compound represented by:
(B) General formula:
R 3 m SiX 4-m
(Where
R 3 independently represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms,
X is independently bromine or chlorine;
m represents an integer of 0 to 3), and a hydrogen halide or halogenation is reacted in the presence of one or more Lewis acid catalysts selected from the group consisting of bismuth chloride and iron (III) chloride A method for producing a hydrolyzable silicon-containing compound which is an alkoxysilane, phenoxysilane or acetoxysilane substantially free of acyl.
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