JP5879680B2 - Non-contact type electrostatic chuck - Google Patents
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- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 7
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 4
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 4
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 7
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 238000005339 levitation Methods 0.000 description 4
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
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Description
本発明は、非接触式静電チャックに関するものである。 The present invention relates to a non-contact type electrostatic chuck.
従来、ワークを非接触保持する装置について、下記特許文献1に記載の装置が知られている。この装置は、ベース面に設けられたノズルから空気を噴き出してワークを浮上させると共に、上記ベース面に設けられた電極に電圧を印加することによりワークを静電気力でベース面に引き寄せる構成となっている。この構成によれば、正確な位置にワークを非接触保持しつつ、ハンドリングすることができる。 Conventionally, an apparatus described in Patent Document 1 below is known as an apparatus for holding a workpiece in a non-contact manner. This device has a configuration in which air is blown out from a nozzle provided on the base surface to float the work, and a voltage is applied to the electrode provided on the base surface to attract the work to the base surface with electrostatic force. Yes. According to this configuration, the workpiece can be handled while being held in a non-contact manner at an accurate position.
ところで、上記従来技術の構成では、柔らかく剛性の低い薄物ワークについては適用できない虞がある。
上記従来技術は、ベース面に対し真直ぐに空気を噴き出してワークを浮上させる構成となっている。そうすると、噴き付ける空気の圧力分布が、ワークに対して不均一となり、薄物ワークの場合、空気噴き付け位置において、波打つように局所変形してしまう。このようにワークが局所変形し、姿勢が不安定になると、ハンドリングが難しく、また、ワークの一部が電極に接触してしまう場合もある。
By the way, in the structure of the said prior art, there exists a possibility that it cannot apply to a thin work with soft and low rigidity.
The above-described conventional technology has a configuration in which air is blown out straight with respect to the base surface to float the workpiece. If it does so, the pressure distribution of the air to spray will become non-uniform | heterogenous with respect to a workpiece | work, and in the case of a thin workpiece, it will deform | transform locally so that it may wave at an air spraying position. Thus, when the workpiece is locally deformed and the posture becomes unstable, handling is difficult, and a part of the workpiece may come into contact with the electrode.
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、柔らかく剛性の低い薄物ワークでも局所変形を生じさせることなく非接触保持することができる非接触式静電チャックの提供を目的とする。 The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a non-contact type electrostatic chuck that can be held in a non-contact manner without causing local deformation even with a thin workpiece having a soft and low rigidity.
上記の課題を解決するために、本発明は、ベース面に設けられたノズルから空気を噴き出してワークを浮上させると共に、上記ベース面に設けられた電極に電圧を印加することにより上記ワークを静電気力で上記ベース面に引き寄せる非接触式静電チャックであって、上記ノズルは、上記電極が設けられた領域の少なくとも一部を囲うと共に、上記囲まれた領域の内側に向けて上記ベース面に対し斜めに延びて開口しており、上記囲まれた領域において、該領域の中心を基準に多重の環状に分割した複数の領域のそれぞれについて上記静電気力を独立して調節する静電気力調節装置を有するという構成を採用する。
この構成を採用することによって、本発明は、ベース面に対して斜めに延びて開口するノズルで囲まれた領域において空気溜まりを形成し、該囲まれた領域において、ワークを大きく撓ませながら(膨らませながら)浮上させる。そして、本発明は、該囲まれた領域の中心を基準に多重の環状に分割した複数の領域における静電気力を独立して調節することで、ワークの撓みに応じた適切な引き寄せを行い、ワークの撓みを最小限にし、姿勢を安定させる。
In order to solve the above-described problems, the present invention is configured to eject air from a nozzle provided on a base surface to float the work, and apply a voltage to an electrode provided on the base surface to electrostatically charge the work. A non-contact electrostatic chuck that pulls toward the base surface with force, wherein the nozzle surrounds at least a part of the region in which the electrode is provided and faces the base surface toward the inside of the enclosed region. An electrostatic force adjustment device that extends obliquely and opens, and independently adjusts the electrostatic force for each of a plurality of regions divided into a plurality of annular shapes based on the center of the region in the enclosed region. The structure of having is adopted.
By adopting this configuration, the present invention forms an air reservoir in a region surrounded by a nozzle that extends obliquely with respect to the base surface and opens, and the workpiece is greatly bent in the enclosed region ( Let it rise). Then, the present invention independently adjusts the electrostatic force in a plurality of regions divided into a plurality of annular shapes based on the center of the enclosed region, thereby performing appropriate drawing according to the bending of the workpiece, Minimizes the deflection of the body and stabilizes the posture.
また、本発明においては、上記静電気力調節装置は、上記中心に向かうにつれて、上記静電気力が大きくなるように、上記複数の領域の上記静電気力を独立して調節するという構成を採用する。
この構成を採用することによって、本発明では、ノズルにより囲まれた領域の中心に向かうにつれて、静電気力が大きくなるように、上記複数の領域の静電気力を独立して調節することで、ワークの撓みに応じた適切な引き寄せを行う。
In the present invention, the electrostatic force adjusting device employs a configuration in which the electrostatic forces in the plurality of regions are independently adjusted so that the electrostatic force increases toward the center.
By adopting this configuration, in the present invention, the electrostatic force of the plurality of regions is independently adjusted so that the electrostatic force becomes larger toward the center of the region surrounded by the nozzles. Appropriate pulling according to the bending.
また、本発明においては、上記複数の領域のうち少なくとも一つに設けられ、上記ワークと上記ベース面との間の距離を計測する距離計を有し、上記静電気力調節装置は、上記距離計の計測結果に基づいて、上記複数の領域の上記静電気力を独立して調節するという構成を採用する。
この構成を採用することによって、本発明は、上記複数の領域のうち少なくとも一つのワークとベース面との間の実際の距離に基づいて、上記複数の領域における静電気力を独立して調節し、上記複数の領域におけるワークの引き寄せを適正化する。
Further, in the present invention, a distance meter is provided in at least one of the plurality of regions and measures a distance between the workpiece and the base surface, and the electrostatic force adjusting device includes the distance meter. Based on the measurement result, a configuration is adopted in which the electrostatic forces in the plurality of regions are independently adjusted.
By adopting this configuration, the present invention independently adjusts electrostatic force in the plurality of regions based on an actual distance between at least one workpiece and the base surface among the plurality of regions, Optimize work drawing in the multiple areas.
また、本発明においては、上記複数の領域のうち、隣り合う領域における電極の延在方向は、互いに交差する方向であるという構成を採用する。
この構成を採用することによって、本発明は、上記複数の領域のうち、隣り合う領域における電極の延在方向を互いに交差させることで、ワークのベース面に沿う方向の意図しない滑りを抑制する。
Moreover, in this invention, the structure that the extending direction of the electrode in an adjacent area | region is a direction which mutually cross | intersects among said several area | regions is employ | adopted.
By adopting this configuration, the present invention suppresses unintentional slip in the direction along the base surface of the workpiece by intersecting the extending directions of the electrodes in adjacent regions among the plurality of regions.
また、本発明においては、上記複数の領域のうち少なくとも一つに設けられ、上記ワークと上記ベース面との間における空気の吸入あるいは空気の噴射を行う第2のノズルと、
上記第2のノズルと連通するチャンバーを備えて、該チャンバーの圧力を、上記ワークを上記ベース面に対し所定距離で浮上させるときの圧力に調節する圧力調節装置と、を有するという構成を採用する。
この構成を採用することによって、本発明は、ワークとベース面との間における空気の吸入あるいは空気の噴射を行い、ワークを浮上させる空気量を適正化する。
In the present invention, provided in at least one of the plurality of regions, and a second nozzle performing suction or injection of air in the air in between the workpiece and the base surface,
A structure is provided that includes a chamber that communicates with the second nozzle, and a pressure adjusting device that adjusts the pressure of the chamber to a pressure when the workpiece is floated at a predetermined distance from the base surface. .
By adopting this configuration, the present invention performs air suction or air injection between the workpiece and the base surface to optimize the amount of air that causes the workpiece to float.
本発明によれば、ベース面に設けられたノズルから空気を噴き出してワークを浮上させると共に、上記ベース面に設けられた電極に電圧を印加することにより上記ワークを静電気力で上記ベース面に引き寄せる非接触式静電チャックであって、上記ノズルは、上記電極が設けられた領域の少なくとも一部を囲うと共に、上記囲まれた領域の内側に向けて上記ベース面に対し斜めに延びて開口しており、上記囲まれた領域において、該領域の中心を基準に多重の環状に分割した複数の領域のそれぞれについて上記静電気力を独立して調節する静電気力調節装置を有するという構成を採用することによって、ベース面に対して斜めに延びて開口するノズルで囲まれた領域において空気溜まりを形成し、該囲まれた領域において、ワークを大きく撓ませながら(膨らませながら)浮上させる。そして、本発明は、該囲まれた領域の中心を基準に多重の環状に分割した複数の領域における静電気力を独立して調節することで、ワークの撓みに応じた適切な引き寄せを行い、ワークの撓みを最小限にし、姿勢を安定させる。
したがって、本発明では、柔らかく剛性の低い薄物ワークでも局所変形を生じさせることなく非接触保持することができる。
According to the present invention, air is blown out from a nozzle provided on the base surface to float the work, and a voltage is applied to the electrode provided on the base surface to attract the work to the base surface with electrostatic force. In the non-contact electrostatic chuck, the nozzle surrounds at least a part of a region where the electrode is provided and opens obliquely with respect to the base surface toward the inside of the surrounded region. In the enclosed area, a configuration is adopted in which an electrostatic force adjusting device that independently adjusts the electrostatic force is provided for each of a plurality of areas divided into a plurality of annular shapes based on the center of the area. As a result, an air reservoir is formed in the area surrounded by the nozzle that extends obliquely with respect to the base surface, and the workpiece is greatly bent in the enclosed area. Not while (inflated while) to float. Then, the present invention independently adjusts the electrostatic force in a plurality of regions divided into a plurality of annular shapes based on the center of the enclosed region, thereby performing appropriate drawing according to the bending of the workpiece, Minimizes the deflection of the body and stabilizes the posture.
Therefore, in the present invention, even a thin workpiece with soft and low rigidity can be held without contact without causing local deformation.
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
(第1実施形態)
図1は、本発明の第1実施形態における非接触式静電チャック1の構成を示す平面図である。図2は、図1における矢視A−A断面図である。なお、図1においては、視認性を向上させるため、ベース面2aに設けられた電極3には、ハッチを付して示している。
本実施形態の非接触式静電チャック1は、例えば、厚さ10μm〜20μm程度の薄物のワークWを非接触支持しつつハンドリングする装置である。
(First embodiment)
FIG. 1 is a plan view showing a configuration of a non-contact electrostatic chuck 1 according to the first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. In FIG. 1, in order to improve visibility, the
The non-contact type electrostatic chuck 1 of the present embodiment is a device that handles a thin workpiece W having a thickness of about 10 μm to 20 μm while supporting it in a non-contact manner.
非接触式静電チャック1は、ベース面2aに設けられたノズル4から空気を噴きだしてワークW(図2参照)を浮上させる構成となっている。ベース面2aは、ベース部2の天部を構成する。図1に示すように、ノズル4は、電極3が設けられた領域の少なくとも一部を囲うように設けられている。本実施形態のノズル4は、平面視で矩形枠形状となって、ベース面2aに対して開口している。以下、ノズル4により囲まれた領域を、領域Xと称する。なお、ノズル4よりも外側の領域を、領域Yと称する。
The non-contact type electrostatic chuck 1 has a configuration in which air is ejected from a
ノズル4は、図2に示すように、領域Xの内側に向けてベース面2aに対し斜めに延びて開口している。したがって、ノズル4は、領域Xに向けて四方から斜めに空気を噴き出し可能な構成となっている。ノズル流路4aは、ベース部2に形成されている。本実施形態のノズル流路4aは、隙間をあけて凹部材5に凸部材6を挿入することにより形成される。ノズル流路4aは、ベース部2の裏面側に接続されたチャンバー7内に連通している。なお、チャンバー7内には、不図示の空気供給源(ファン、ブロワ等)から空気が圧送されてくる構成となっている。
As shown in FIG. 2, the
非接触式静電チャック1は、ベース面2aに設けられた電極3に電圧を印加することにより、空気浮上したワークWを静電気力でベース面2aに引き寄せ、ワークWの姿勢を水平にして保持する構成となっている。具体的に、非接触式静電チャック1は、領域Xに設けられた電極3に電圧を印加し、ワークWを誘導帯電させ、静電気力で引き寄せを行う構成となっている。なお、領域Yに設けられた電極3は、ワークWの端に電気的な反発力を与えて、ワークWの位置保持(位置復元)を行う構成となっている。
The non-contact type electrostatic chuck 1 applies a voltage to the
図1に示すように、領域Xは、その中心から距離に応じて複数の領域に分割されている。以下、領域Xの中心を含む中心部の領域を分割領域X1と称し、分割領域X1を環状に囲う領域を分割領域X2と称し、分割領域X2を環状に囲う領域を分割領域X3と称し、分割領域X3を環状に囲う領域を分割領域X4と称する。 As shown in FIG. 1, the region X is divided into a plurality of regions according to the distance from the center. Hereinafter, a central region including the center of the region X is referred to as a divided region X1, a region surrounding the divided region X1 is referred to as a divided region X2, and a region surrounding the divided region X2 is referred to as a divided region X3. A region surrounding the region X3 in a ring shape is referred to as a divided region X4.
電極3は、ベース面2aの面方向に沿って所定ピッチのストライプ状となって直線的に延在している。複数の領域(X1、X2、X3、X4)のうち、隣り合う領域における電極3の延在方向は、互いに交差する方向となっている。本実施形態では、複数の領域(X1、X2、X3、X4)のうち、隣り合う領域における電極3の延在方向は、互いに直交する方向となっている。この構成によれば、電極3の配置が交差しているので、静電気力の作用時、ベース面2aに沿う方向の意図しないワークWの滑りを抑制することができる。
The
非接触式静電チャック1は、複数の領域(X1、X2、X3、X4)のそれぞれについて静電気力を独立して調節する静電気力調節装置9を有する。静電気力調節装置9は、複数の領域(X1、X2、X3、X4)毎に、対応する不図示の電源装置を備え、各領域における電極3に印加する電圧を可変制御する構成となっている。なお、複数の領域毎に静電気力が均一となれば、複数の領域毎に電極3を直列に配線しても並列に配線しても、また、電極3の一つ一つに独立して電流を流す構成としても良い。
The non-contact electrostatic chuck 1 includes an electrostatic force adjusting device 9 that independently adjusts electrostatic force for each of a plurality of regions (X1, X2, X3, X4). The electrostatic force adjusting device 9 includes a corresponding power supply device (not shown) for each of a plurality of regions (X1, X2, X3, X4), and is configured to variably control the voltage applied to the
複数の領域(X1、X2、X3、X4)のそれぞれには、ワークWとベース面2aとの間の距離を計測する距離計8が設けられている。距離計8は、例えば非接触式のレーザーアセンブリセンサを用いることができる。静電気力調節装置9は、距離計8と電気的に接続されており、各領域における計測結果が入力される構成となっている。そして、静電気力調節装置9は、該計測結果に基づいて、複数の領域(X1、X2、X3、X4)の静電気力を独立して調節する構成となっている。
A
続いて、上記構成の非接触式静電チャック1の具体的な動作について説明する。
先ず、不図示の空気供給源から空気を圧送し、チャンバー7内を昇圧する。チャンバー7内が昇圧すると、空気がノズル流路4aに導入される。ノズル流路4aに導入された空気は、領域Xに向かう内向き流れとなって、各ノズル4からベース面2aに噴き出る。各ノズル4からベース面2aに噴き出た空気は、領域XとワークWとの間に、空気溜まりGを形成する。空気溜まりGは、ワークWをベース面2aに対し浮上させる。
Subsequently, a specific operation of the non-contact electrostatic chuck 1 having the above-described configuration will be described.
First, air is pumped from an air supply source (not shown), and the pressure in the
静電気力を作用させていない状態では、空気溜まりGは、ワークWを、領域Xにおいて大きく撓ませながら(膨ませながら)、浮上させる(図2において2点差線で示す)。すなわち、各ノズル4から噴き出た空気は、領域Xの四方から内側に向い、領域Xの中央において空気が合流するので、図2に示すように、空気浮上に伴うワークWの撓みを一体且つ単純にさせることができる。これにより、従来のような局所変形を伴うことなく、ワークWを浮上させることができる。また、空気浮上に伴うワークWの撓みを一体且つ単純にさせることで、以下説明するワークWの撓みに応じた適切な引き寄せを容易に行うことが可能となる。
In a state where no electrostatic force is applied, the air pocket G causes the workpiece W to float while being greatly bent (expanded) in the region X (indicated by a two-dot chain line in FIG. 2). That is, the air ejected from each
静電気力調節装置9は、複数の領域(X1、X2、X3、X4)のそれぞれについて静電気力を独立して調節し、ワークWをベース面2aに引き寄せ、空気浮上に伴う撓みを最小限にし、姿勢を略水平に安定させる。空気浮上に伴うワークWの撓みは、領域Xの中央部において最も大きく、端に向かうに従って徐々に小さくなる分布を有する。本実施形態の領域Xは、空気浮上に伴うワークWの撓み分布に応じて複数の領域(X1、X2、X3、X4)に分割されているので、各領域において個別に静電気力を調節することで、ワークWの姿勢を適切に安定化させることができる。
The electrostatic force adjusting device 9 adjusts the electrostatic force independently for each of the plurality of regions (X1, X2, X3, X4), draws the workpiece W to the
具体的に、静電気力調節装置9は、ワークWの撓みがもっとも大きい分割領域X1において、最も大きい静電気力を発現させ、また、分割領域X2、X3、X4の順に静電気力が小さくなるように、各領域に設けられた電極3に電圧を印加する。これにより、ワークWの撓みに応じた適切な引き寄せを行う。また、静電気力調節装置9は、距離計8から出力される計測結果の差が所定の範囲内に収まるように、複数の領域(X1、X2、X3、X4)における静電気力を独立して調節する。これにより、ワークWを、精度良く水平姿勢で保持することができる。
Specifically, the electrostatic force adjusting device 9 develops the largest electrostatic force in the divided region X1 where the deflection of the workpiece W is the largest, and the electrostatic force decreases in the order of the divided regions X2, X3, and X4. A voltage is applied to the
したがって、上述の本実施形態によれば、ベース面2aに設けられたノズル4から空気を噴き出してワークWを浮上させると共に、ベース面2aに設けられた電極3に電圧を印加することによりワークWを静電気力でベース面2aに引き寄せる非接触式静電チャック1であって、ノズル4は、電極3が設けられた領域の少なくとも一部を囲うと共に、上記囲まれた領域Xの内側に向けてベース面2aに対し斜めに延びて開口しており、上記囲まれた領域Xにおいて、該領域の中心からの距離に応じて複数の領域(X1、X2、X3、X4)に分割し、該複数の領域のそれぞれについて上記静電気力を独立して調節する静電気力調節装置9を有するという構成を採用することで、ベース面2aに対して斜めに延びて開口するノズル4で囲まれた領域Xにおいて空気溜まりGを形成し、該囲まれた領域Xにおいて、ワークWを大きく撓ませながら(膨らませながら)浮上させることができる。そして、本実施形態は、該囲まれた領域Xの中心からの距離に応じて複数の領域(X1、X2、X3、X4)に分割し、該複数の領域における静電気力を独立して調節することで、ワークWの撓みに応じた適切な引き寄せを行い、ワークWの撓みを最小限にし、姿勢を安定させることができる。
したがって、本実施形態では、柔らかく剛性の低い薄物ワークWでも局所変形を生じさせることなく非接触保持することができる。
Therefore, according to the above-described embodiment, air is blown out from the
Therefore, in this embodiment, even a thin workpiece W that is soft and has low rigidity can be held without contact without causing local deformation.
(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
図3は、本発明の第2実施形態における非接触式静電チャック1の構成を示す断面図である。
図に示すように、第2実施形態の非接触式静電チャック1は、分割領域X1に設けられ、距離計8の計測結果に基づいてワークWとベース面2aとの間における空気の吸入あるいは空気の噴射を行う第2のノズル10を備えている。
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment of the present invention will be described. In the following description, the same or equivalent components as those of the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is simplified or omitted.
FIG. 3 is a cross-sectional view showing the configuration of the non-contact electrostatic chuck 1 in the second embodiment of the present invention.
As shown in the drawing, the non-contact type electrostatic chuck 1 of the second embodiment is provided in the divided region X1, and based on the measurement result of the
第2のノズル10は、分割領域X1において、ベース面2aに対し垂直に延びて開口している。第2のノズル10は、領域Xの中心に対応する位置に設けられている。第2のノズル流路10aは、ベース部2及びチャンバー7を貫通して設けられた管部材12により形成される。管部材12は、圧力調節装置13に接続されている。本実施形態の圧力調節装置13は、第2のノズル流路10aが連通する不図示のチャンバーを備え、該チャンバー内の圧力を可変制御する構成となっている。圧力調節装置13は、距離計8と電気的に接続され、該計測結果に基づいて、チャンバー内の圧力を制御し、第2のノズル10からの吸引あるいは噴射を行う構成となっている。
The
続いて、上記構成の非接触式静電チャック1の具体的な動作について説明する。
ワークWは、ベース面2aに対し常に一定距離を保つことが好ましいが、実際には若干の変動(振動)が生じてしまう。これは、ワークWが薄物であること、及び、ノズル4からの空気量が、空気供給源(ファン、ブロワ等)の機械的振動の影響を受けることに起因する。そこで、第2実施形態では、ワークWとベース面2aとの間の距離に基づいて、第2のノズル10からワークWとベース面との間における空気の吸入あるいは空気の噴射を行い、ワークWを浮上させる空気量を適正化させる。
Subsequently, a specific operation of the non-contact electrostatic chuck 1 having the above-described configuration will be described.
Although it is preferable that the workpiece W always maintain a constant distance with respect to the
具体的には、圧力調節装置13により不図示のチャンバー内及び第2のノズル流路10a内を所定の圧力に保つ。この所定の圧力は、ワークWをベース面2aに対し所定距離で浮上させるときの空気溜まりGの理想的な圧力となるように設定する。この構成によれば、上記変動により、ノズル4からの空気量が下がり、空気溜まりGの圧力が、設定した圧力よりも低下すると、圧力差で第2のノズル10から空気が噴射・供給される。一方、上記変動により、ノズル4からの空気量が上がり、空気溜まりGの圧力が、設定した圧力よりも増加すると、圧力差で第2のノズル10に空気が吸入される。このように、第2実施形態では、第2のノズル10によって、ワークWを浮上させる空気量を適正化させることで、ワークWの変動を低減させることができる。したがって、ワークWの精度の良い保持が可能となる。
Specifically, the inside of the chamber (not shown) and the inside of the
以上、図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。上述した実施形態において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。 As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described referring drawings, this invention is not limited to the said embodiment. Various shapes, combinations, and the like of the constituent members shown in the above-described embodiments are examples, and various modifications can be made based on design requirements and the like without departing from the gist of the present invention.
例えば、上記実施形態では、領域Xを中心からの距離に応じて4つの領域(X1、X2、X3、X4)に分割して、静電気力を調節する構成について説明したが、本発明はこの構成に限定されるものではなく、分割する領域数は2つ以上あればよい。 For example, in the above embodiment, the configuration in which the electrostatic force is adjusted by dividing the region X into four regions (X1, X2, X3, and X4) according to the distance from the center has been described. However, the number of areas to be divided may be two or more.
また、例えば、上記実施形態では、距離計8を、複数の領域(X1、X2、X3、X4)のそれぞれに設けたが、本発明はこの構成に限定されるものではなく、上記複数の領域のうち少なくとも一つに設ける構成であってもよい。
For example, in the above embodiment, the
また、例えば、上記実施形態では、ノズル4は、領域Xを平面視で矩形にして囲う構成について説明したが、本発明はこの構成に限定されるものではなく、例えば、円形あるいは他の多角形にして囲う構成であってもよい。
Further, for example, in the above embodiment, the
また、例えば、上記実施形態では、第2のノズル10を分割領域X1に設けた構成について説明したが、本発明はこの構成に限定されるものではなく、複数の領域(X1、X2、X3、X4)のうち少なくとも一つに設ける構成であってもよい。
For example, in the above-described embodiment, the configuration in which the
1…非接触式静電チャック、2a…ベース面、3…電極、4…ノズル、8…距離計、9…静電気力調節装置、10…第2のノズル、W…ワーク、X…領域(囲まれた領域)、X1,X2,X3,X4…分割領域(複数の領域) DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Non-contact type electrostatic chuck, 2a ... Base surface, 3 ... Electrode, 4 ... Nozzle, 8 ... Distance meter, 9 ... Electrostatic force adjusting device, 10 ... Second nozzle, W ... Workpiece, X ... Area (enclosed) Area), X1, X2, X3, X4... Divided area (multiple areas)
Claims (4)
前記ノズルは、前記電極が設けられた領域の少なくとも一部を囲うと共に、該囲まれた領域の内側に向けて前記ベース面に対し斜めに延びて開口しており、
前記囲まれた領域において、該領域の中心を基準に多重の環状に分割した複数の領域のそれぞれについて前記静電気力を独立して調節する静電気力調節装置を有し、
前記静電気力調節装置は、前記中心に向かうにつれて、前記静電気力が大きくなるように、前記複数の領域の前記静電気力を独立して調節することを特徴とする非接触式静電チャック。 A non-contact electrostatic chuck that blows air from a nozzle provided on a base surface to float the work and applies a voltage to an electrode provided on the base surface to attract the work to the base surface by electrostatic force Because
The nozzle surrounds at least a part of a region where the electrode is provided, and opens obliquely with respect to the base surface toward the inside of the surrounded region,
In the enclosed area, it possesses an electrostatic force adjusting device for adjusting independently the electrostatic force for each of the plurality of regions divided into multiple ring around the center of the region,
The non-contact type electrostatic chuck, wherein the electrostatic force adjusting device independently adjusts the electrostatic force in the plurality of regions so that the electrostatic force increases toward the center .
前記静電気力調節装置は、前記距離計の計測結果に基づいて、前記複数の領域の前記静電気力を独立して調節することを特徴とする請求項1に記載の非接触式静電チャック。 A distance meter that is provided in at least one of the plurality of regions and measures a distance between the workpiece and the base surface;
The non-contact electrostatic chuck according to claim 1 , wherein the electrostatic force adjusting device independently adjusts the electrostatic force in the plurality of regions based on a measurement result of the distance meter.
前記第2のノズルと連通するチャンバーを備えて、該チャンバーの圧力を、前記ワークを前記ベース面に対し所定距離で浮上させるときの圧力に調節する圧力調節装置と、を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の非接触式静電チャック。 A second nozzle that is provided in at least one of the plurality of regions and performs air suction or air injection between the workpiece and the base surface;
A pressure adjusting device that includes a chamber communicating with the second nozzle, and adjusts the pressure of the chamber to a pressure when the workpiece is floated at a predetermined distance from the base surface. The non-contact electrostatic chuck according to any one of claims 1 to 3 .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010248854A JP5879680B2 (en) | 2010-11-05 | 2010-11-05 | Non-contact type electrostatic chuck |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010248854A JP5879680B2 (en) | 2010-11-05 | 2010-11-05 | Non-contact type electrostatic chuck |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012104511A JP2012104511A (en) | 2012-05-31 |
| JP5879680B2 true JP5879680B2 (en) | 2016-03-08 |
Family
ID=46394619
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010248854A Active JP5879680B2 (en) | 2010-11-05 | 2010-11-05 | Non-contact type electrostatic chuck |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5879680B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102112273B1 (en) * | 2013-01-25 | 2020-05-19 | 삼성디스플레이 주식회사 | Apparatus for supporting substrate |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10256356A (en) * | 1997-03-17 | 1998-09-25 | Nikon Corp | Positioning apparatus and exposure apparatus having the same |
| JP2000072250A (en) * | 1998-08-31 | 2000-03-07 | Watanabe Shoko:Kk | Gas ejection structure for levitation transfer device and ejection hole forming method |
| JP2000260855A (en) * | 1999-03-10 | 2000-09-22 | Mitsubishi Electric Corp | Wafer processing equipment |
| JP2001063824A (en) * | 1999-08-30 | 2001-03-13 | Toshiro Higuchi | Pneumatically-floating electrostatic-restraint actuator |
| JP4613800B2 (en) * | 2004-12-01 | 2011-01-19 | 株式会社Ihi | Levitation device and transfer device |
| JP2006253352A (en) * | 2005-03-10 | 2006-09-21 | Seiko Epson Corp | Adsorption device |
| JP4522896B2 (en) * | 2005-03-18 | 2010-08-11 | 株式会社アルバック | Adsorption method using electrostatic adsorption device |
| JP5396695B2 (en) * | 2007-06-29 | 2014-01-22 | 株式会社Ihi | Levitation unit and levitating transfer device |
-
2010
- 2010-11-05 JP JP2010248854A patent/JP5879680B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2012104511A (en) | 2012-05-31 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
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|
| A977 | Report on retrieval |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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|
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|
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