JP5935975B2 - 光学部材位置調整装置、投影光学系及びその調整方法、並びに露光装置 - Google Patents

Description

本発明は、光学部材の位置を調整する位置調整装置、光学部材の位置調整装置を備える投影光学系及びその調整方法、投影光学系を備える露光装置、並びに露光装置を使用するデバイス製造方法に関する。

液晶ディスプレイ、有機ＥＬ(Electro-Luminescence)ディスプレイ、及びプラズマディスプレイ等の薄型ディスプレイ装置の製造工程中で、ガラスプレート等のパネル状の感光性基板にマスクパターンの像を露光するために、マスクと感光性基板とを投影光学系に対して同期移動して感光性基板を走査露光する露光装置（以下、パネル露光装置という。）が使用されている。

従来、パネル露光装置は、投影光学系の大型化を抑制して大面積のパターンを効率的に露光するために、複数の部分投影光学系から構成されるマルチレンズ型の投影光学系を備えている（例えば、特許文献１参照）。

特開２００１−３３０９６４号公報

近年のテレビ、高機能携帯電話、及びいわゆるタブレット型端末等における薄型ディスプレイ装置に対する高精細化の要求はますます高まっており、これに応じて、パネル露光装置では投影光学系の収差等の光学性能の一層の向上が求められている。
一般に、光学系では組み立てた後で、目標とする光学性能が得られるように、鏡筒等に対する複数の光学部材の位置関係（位置及び角度）を調整する必要がある。しかしながら、例えばマルチレンズ型投影光学系の場合には、複数の部分投影光学系が近接して配置されているため、個々の部分投影光学系中の光学部材の位置を効率的に調整することが困難であり、調整時間が長いとともに、目標とする光学性能がさらに高くなると、調整が困難になる恐れがあった。

さらに、複数の部分投影光学系の光学性能間のばらつきは露光むらの一要因になりえるため、複数の部分投影光学系の光学性能のばらつきを小さくする必要がある。ところが、特に部分投影光学系の数が多いと、光学性能のばらつきを小さくするための調整が困難であった。
本発明の態様は、このような事情に鑑み、光学系中の光学部材の位置を容易に効率的に調整できるようにすることを目的とする。

本発明の第１の態様によれば、光学部材の位置を調整する装置が提供される。この光学部材位置調整装置は、その光学部材を支持する支持部を有する第１環状部と、その第１環状部とは異なる第２環状部と、その第２環状部とは異なる第３環状部と、第１の方向に関する２つの位置で、その第１環状部とその第２環状部とを連結する第１の弾性ヒンジ部と、その第１の方向と交差した第２の方向に関する２つの位置で、その第２環状部とその第３環状部とを連結する第２の弾性ヒンジ部と、を備え、その第２の弾性ヒンジ部は、その第１の弾性ヒンジ部が配置される、その光学部材の光軸に垂直な平面内に設けられるものである。

また、第２の態様によれば、光学部材の位置を調整する装置が提供される。この光学部材位置調整装置は、その光学部材を支持する支持部を有する第１環状部と、その第１環状部とは異なるとともに環状にかつ傾斜可能に配置された第１及び第２の傾斜可能部と、その第１環状部とは異なるとともにその傾斜可能部に連結された第２環状部と、第１の方向に関する位置で、その第１環状部とその第１の傾斜可能部とを連結する第１の弾性ヒンジ部と、その第１の方向と交差した第２の方向に関する位置で、その第１環状部とその第２の傾斜可能部とを連結する第２の弾性ヒンジ部と、その第２環状部に対してその第１の傾斜可能部をその第１の方向に対して傾くように傾斜させる第１駆動部と、その第２環状部に対してその第２の傾斜可能部をその第２の方向に対して傾くように傾斜させる第２駆動部と、を備えるものである。

また、第３の態様によれば、第１面のパターンの像を第２面に形成する投影光学系が提供される。この投影光学系は、光軸に沿って配列された複数の光学部材と、その複数の光学部材のうちの調整対象の光学部材を支持するための第１又は第２の態様の光学部材位置調整装置と、その光学部材位置調整装置の第３環状部又は第２環状部が固定される鏡筒と、を備えるものである。

また、第４の態様によれば、第１面のパターンの像を第２面に形成する投影光学系が提供される。この投影光学系は、光軸に沿って配列された複数の光学部材と、その複数の光学部材のうちの調整対象の第１の光学部材を支持するための第１の態様の光学部材位置調整装置（ただし、その第１環状部、その第２環状部、及びその第３環状部は、その光学部材の光軸に沿って配列されている）と、その複数の光学部材のうちの調整対象の第２の光学部材を支持するための第１の態様の光学部材位置調整装置（ただし、その第１環状部、その第２環状部、及びその第３環状部は、その光学部材の光軸を中心として同心円状に配列されている）と、その第１及び第２の光学部材位置調整装置のその第３環状部が固定される鏡筒と、を備えるものである。

また、第５の態様によれば、第４の態様による投影光学系の調整方法であって、その第１の光学部材位置調整装置を用いてその第１の光学部材を調整してその投影光学系の結像特性の粗調整を行い、その第２の光学部材位置調整装置を用いてその第２の光学部材を調整してその結像特性の微調整を行う投影光学系の調整方法が提供される。
また、第６の態様によれば、露光光でマスクのパターンを介して基板を露光する露光装置が提供される。この露光装置は、そのマスクを移動するマスクステージと、第３又は第４の態様の投影光学系と、その基板を移動する基板ステージと、を備えるものである。

また、第７の態様によれば、第６の態様の露光装置を用いて感光性基板を露光することと、その露光された感光性基板を処理することと、を含むデバイス製造方法が提供される。

本発明の第１の態様によれば、軸回りに光学部材を容易にかつ正確に回転できる。

実施形態の一例に係る露光装置の概略構成を示す斜視図である。 図１中の投影システムＰＳを示す斜視図である。 図２中の一つの部分投影光学系を示す断面図である。 図３中の第１のレンズ支持部材を示す斜視図である。 （Ａ）は図３中の第１の調整装置を示す第１の駆動機構に沿った断面図、（Ｂ）は第１の調整装置を示す第２の駆動機構に沿った断面図である。 （Ａ）は図３中の第２のレンズ支持部材を示す正面図、（Ｂ）は図６（Ａ）中の連結用の板ばねを示す拡大図である。 （Ａ）は図３中の第２の調整装置を示す第１の駆動機構に沿った断面図、（Ｂ）は第２の調整装置を示す第２の駆動機構に沿った断面図である。 投影システムの調整方法の一例を示すフローチャートである。 第２のレンズ支持部材の変形例を示す正面図である。 他の実施形態のレンズ支持部材を示す斜視図である。 （Ａ）は図１０の第１の弾性ヒンジ部を示す図、（Ｂ）は図１０の第３の弾性ヒンジ部を示す図、（Ｃ）は図１１（Ａ）のレンズの駆動機構を示す要部の断面図である。 （Ａ）はレンズ支持部材の変形例を示す正面図、（Ｂ）は図１２（Ａ）のレンズ支持部材を示す断面図である。 液晶表示素子の製造工程の一例を示すフローチャートである。

本発明の実施形態の一例につき図１〜図８を参照して説明する。図１は、本実施形態に係る露光装置ＥＸの概略構成を示す。露光装置ＥＸは、一例として、液晶ディスプレイ又は有機ＥＬディスプレイ等の薄型ディスプレイパネルに使用されるフォトレジストが塗布されたパネル状の平板ガラスよりなるプレートＰＴ（感光性基板）にマスクＭのパターンの像を露光するマルチレンズ型で走査露光方式のパネル露光装置である。以下、プレートＰＴの合焦時の表面に垂直にＺ軸を取り、その表面に平行な平面内で走査露光時のマスクＭ及びプレートＰＴの走査方向に沿ってＸ軸を、Ｘ軸に直交する方向（非走査方向）に沿ってＹ軸を取って説明する。

図１において、露光装置ＥＸは、露光用の照明光ＥＬ（露光光）を発生する例えば超高圧水銀ランプからなる光源１０と、照明光ＥＬでマスクＭのパターン面の複数の台形状の照明領域ＩＲＡ等を均一な照度分布で照明する照明系ＩＳと、マスクＭをマスクホルダ（不図示）を介してＸＹ平面に平行に保持して移動するマスクステージ２１と、マスクＭのパターンの像をプレートＰＴの表面の複数の台形状の露光領域ＰＲＡ等に形成するマルチレンズ型投影光学系よりなる投影システムＰＳ（投影光学系）と、プレートＰＴを保持して移動するプレートステージ２２と、を備えている。さらに、露光装置ＥＸは、マスクステージ２１の位置情報を計測する複数軸のレーザ干渉計２３Ａと、プレートステージ２２の位置情報を計測する複数軸のレーザ干渉計２３Ｂと、レーザ干渉計２３Ａ，２３Ｂの計測結果に基づいてマスクステージ２１及びプレートステージ２２を同期して駆動するリニアモータ等を含む駆動系（不図示）と、プレートステージ２２に設けられて投影システムＰＳの波面収差を計測する例えばシアリング干渉方式の波面収差計測装置２４と、装置全体の動作を統括的に制御する主制御装置（不図示）と、を備えている。

そして、光源１０から射出された照明光ＥＬは、楕円鏡、ミラー、シャッター（不図示）、及び波長選択フィルター（不図示）を介して集光光学系１１に入射する。波長選択フィルターでは、一例としてｉ線（波長３６５ｎｍ）、ｇ線（波長４３６ｎｍ）、及びｈ線（波長４０５ｎｍ）から一つ又は複数の波長の光が選択される。集光光学系１１を通過した照明光ＥＬは、分岐光学系１３の入射端１２に入射し、分岐光学系１３の投影システムＰＳを構成する部分投影光学系ＰＬＡ〜ＰＬＧと同じ数（本実施形態では７つ）の射出端１４Ａ〜１４Ｇから射出された照明光ＥＬは、それぞれ対応する部分照明系ＩＬＡ〜ＩＬＧを介して照明領域ＩＲＡ〜ＩＲＧを照明する。部分照明系ＩＬＡ〜ＩＬＧは、それぞれコリメートレンズ、フライアイインテグレータ（オプティカルインテグレータ）、及びコンデンサーレンズ等を有する。集光光学系１１から部分照明系ＩＬＡ〜ＩＬＧまでの光学部材を含んで照明系ＩＳが構成されている。台形状の照明領域ＩＲＡ〜ＩＲＧは、図２に示すように、後述の部分投影光学系ＰＬＡ〜ＰＬＧの配列に合わせて、Ｙ方向に配列された第１列の３個の照明領域ＩＲＡ，ＩＲＢ，ＩＲＣと、それから−Ｘ方向に離れるとともに、Ｙ方向に半周期ずれて配列された第２列の４個の照明領域ＩＲＤ，ＩＲＥ，ＩＲＦ，ＩＲＧとに分かれている。

図１において、マスクＭの照明領域ＩＲＡ〜ＩＲＧからの照明光は、各照明領域に対応するようにＹ方向に沿って２列に配列された複数（本実施形態では７つ）の部分投影光学系ＰＬＡ〜ＰＬＧからなる投影システムＰＳに入射する。部分投影光学系ＰＬＡ〜ＰＬＧは照明領域ＩＲＡ〜ＩＲＧ中のパターンの像を対応する露光領域ＰＲＡ等に形成する。図１では、各部分投影光学系ＰＬＡ〜ＰＬＧは、鏡筒内部の光学系の概略構成を示している。部分投影光学系ＰＬＡ〜ＰＬＧは、互いに同一構成で一例としてＺ方向に配列された２段の反射屈折系を有するほぼ両側にテレセントリックで高精細な結像光学系であり、それぞれ一例として等倍の正立正像を形成し、開口数は例えば０．１程度である。

この場合、Ｘ方向に向かって全部の照明領域ＩＲＡ〜ＩＲＧを見ると、照明領域ＩＲＡ〜ＩＲＧはＹ方向に隙間なく配置されている。そこで、照明領域ＩＲＡ〜ＩＲＧのパターンの投影システムＰＳによる像でプレートＰＴを露光しつつ、マスクステージ２１によって照明領域ＩＲＡ〜ＩＲＧに対してマスクＭを＋Ｘ方向（又は−Ｘ方向）に移動することと、プレートステージ２２によって露光領域ＰＲＡ等に対してプレートＰＴを＋Ｘ方向（又は−Ｘ方向）に移動することとを同期して行うことで、マスクＭの全面のパターンを１回の走査露光でプレートＰＴの一つのパターン形成領域（区画領域）に露光できる。

図２に示すように、部分投影光学系ＰＬＡ〜ＰＬＧは、Ｙ方向に配置された第１列の３個の部分投影光学系ＰＬＡ，ＰＬＢ，ＰＬＣと、それらに対向するように−Ｘ方向に配置されるとともに、Ｙ方向に半周期ずれて配置された第２列の４個の部分投影光学系ＰＬＤ，ＰＬＥ，ＰＬＦ，ＰＬＧとに分かれて、２点鎖線で示す平板状で照明光を通す開口が形成された光学系フレーム２６に支持されている。光学系フレーム２６は、プレートステージ２２が移動可能に載置されたベース部材（不図示）に支持されている。なお、投影システムＰＳを構成する部分投影光学系ＰＬＡ〜ＰＬＧの数及び配列は任意である。

第１〜第７の部分投影光学系ＰＬＡ〜ＰＬＧの構成は互いに同一であり、以下では、図３を参照して、第１の部分投影光学系ＰＬＡの構成につき説明する。図３において、部分投影光学系ＰＬＡは、マスクＭの照明領域ＩＲＡ内のパターンの一次像Ｉ１を形成する第１反射屈折系Ｇ１Ｐと、一次像Ｉ１の近傍に配置された視野絞り（不図示）と、第１反射屈折系Ｇ１Ｐを収容する第１（上部）鏡筒５０と、その一次像Ｉ１の二次像Ｉ２をプレートＰＴ上の露光領域ＰＲＡに形成する第２反射屈折系Ｇ２Ｐと、第２反射屈折系Ｇ２Ｐを収容する第２（下部）鏡筒５２と、を有する。また、第１反射屈折系Ｇ１Ｐは、マスクＭから−Ｚ方向に入射する光をシフトする像シフタ２８Ａ（例えば複数の平行平面板）等と、その光を＋Ｘ方向に反射する第１直角プリズム３０Ａと、第１直角プリズム３０Ａ側から順に＋Ｘ方向に配列されたレンズ３２Ａ、レンズ３４Ａ、レンズ３６Ａ、レンズ３８Ａ、及びレンズ４０Ａと、直角プリズム３０Ａの第１反射面で反射されてレンズ３２Ａ〜４０Ａを通過した光を−Ｘ方向に反射する第１凹面鏡４２Ａと、を備えている。レンズ３２Ａ〜４０Ａ及び第１凹面鏡４２Ａよりなる光学系の光軸をＡＸ１とする。第１凹面鏡４２Ａで反射された光は、レンズ４０Ａ〜３２Ａを通過し、直角プリズム３０Ａの第２反射面で−Ｚ方向に反射されて一次像Ｉ１を形成する。

また、第１鏡筒５０は、角柱状で像シフタ２８Ａ及び直角プリズム３０Ａを支持する第１鏡筒部５０ａと、円筒状でレンズ３２Ａ，３４Ａを支持する第２鏡筒部５０ｂと、円筒状でレンズ３６Ａ，３８Ａ，４０Ａを収容する第３鏡筒部５０ｃと、他端部が閉じられた短い円筒状で第１凹面鏡４２Ａを支持する第４鏡筒部５０ｄとをボルトＢ７等（図７（Ａ）参照）によって連結したものである。第１鏡筒５０は光学系フレーム２６の上面に固定されている。

第２反射屈折系Ｇ２Ｐの構成は第１反射屈折系Ｇ１Ｐとほぼ同様である。すなわち、第２反射屈折系Ｇ２Ｐは、一次像Ｉ１から−Ｚ方向に入射する光を＋Ｘ方向に反射する第２直角プリズム３０Ｂと、第２直角プリズム３０Ｂで反射された光の光路に配置されたレンズ３２Ｂ，３４Ｂ，３６Ｂ，３８Ｂ，４０Ｂと、レンズ４０Ｂを通過した光を−Ｘ方向に反射する第２凹面鏡４２Ｂと、第２凹面鏡４２Ｂで反射されてレンズ４０Ｂ〜３２Ｂを通過し、直角プリズム３０Ｂで−Ｚ方向に反射された光をシフトする像シフタ２８Ｂ等と、を備えている。レンズ３２Ｂ〜４０Ｂ及び第２凹面鏡４２Ｂよりなる光学系の光軸をＡＸ２とする。像シフタ２８Ｂを通過した光によって露光領域ＰＲＡに二次像Ｉ２が形成される。第２鏡筒５２も、像シフタ２８Ｂ及び直角プリズム３０Ｂを支持する第１鏡筒部５２ａと、レンズ３２Ｂ，３４Ｂを支持する第２鏡筒部５２ｂと、レンズ３６Ｂ，３８Ｂ，４０Ｂを収容する第３鏡筒部５２ｃと、第２凹面鏡４２Ｂを支持する第４鏡筒部５２ｄとを連結したものである。第２鏡筒５２は光学系フレーム２６の底面に固定されている。

また、部分投影光学系ＰＬＡは、第３鏡筒部５０ｃ，５２ｃに対するレンズ３６Ａ，３６Ｂの位置関係を調整して結像特性の粗調整を行う第１の調整装置８Ａ及び第３の調整装置８Ｃと、第３鏡筒部５０ｃ，５２ｃに対するレンズ４０Ａ，４０Ｂの位置関係を調整して結像特性の微調整を行う第２の調整装置８Ｂ及び第４の調整装置８Ｄと、を有する。本実施形態では、互いに同じ構成の第１及び第３の調整装置８Ａ，８Ｃは、それぞれレンズ３６Ａ，３６Ｂを保持する金属製の円筒状のレンズ支持部材５４Ａ，５４Ｂと、光軸ＡＸ１，ＡＸ２に垂直な平面内の直交する２つの方向の回りでレンズ３６Ａ，３６Ｂの回転角（チルト角）を調整して、偏芯コマ収差を粗調整する第１の駆動機構５６Ａ，５６Ｂ及び第２の駆動機構５７Ａ，５７Ｂと、を有する。レンズ支持部材５４Ａ，５４Ｂはそれぞれ４箇所で連結板５８Ａ，５８Ｂ及びボルトＢ１（図５（Ａ）参照）によって第３鏡筒部５０ｃ内の−Ｘ方向の端面５０ｃ３等に固定されている。第３鏡筒部５０ｃの側面上方（Ｚ軸をＸ軸の回りに±４５°回転した方向）には、駆動機構５６Ａ，５７Ａのレバー５６Ａ１，５７Ａ１の端部を外面に突き出すためのスリット部５０ｃ１，５０ｃ２が形成されている。第２鏡筒５２の第３鏡筒部５２ｃの側面下方にも、スリット部５０ｃ１，５０ｃ２と対称に駆動機構５６Ｂ，５７Ｂのレバーの端部を外面に突き出すためのスリット部５２ｃ１，５２ｃ２が形成されている。

同様に、互いに同じ構成の第２及び第４の調整装置８Ｂ，８Ｄは、それぞれレンズ４０Ａ，４０Ｂを保持し、レンズ支持部材５４Ａ，５４Ｂより短い金属製の円筒状（外径は、レンズ支持部材５４Ａ，５４Ｂより大きい環状）のレンズ支持部材６０Ａ，６０Ｂと、光軸ＡＸ１，ＡＸ２に垂直な平面内の直交する２つの方向の回りでレンズ４０Ａ，４０Ｂの回転角（チルト角）を調整して、偏芯コマ収差を微調整する第１の駆動機構６２Ａ，６２Ｂ及び第２の駆動機構６３Ａ，６３Ｂと、を有する。レンズ支持部材６０Ａ，６０Ｂの外周部はそれぞれボルトＢ１１によって第３鏡筒部５０ｃ，５２ｃ内の＋Ｘ方向の端面５０ｃ４，５２ｃ４に固定されている。第３鏡筒部５０ｃ，５２ｃの端面５０ｃ５，５２ｃ５に第４鏡筒部５０ｄ，５２ｄのフランジ部がボルトＢ７によって固定され、第４鏡筒部５０ｄ，５２ｄのフランジ部には、駆動機構６２Ａ，６３Ａ，６２Ｂ，６３Ｂの連結用の板ばね６４Ａ，６５Ａ等の端部を外面に突き出すためのスリット部５０ｄ１，５０ｄ２等が形成されている。偏芯コマ収差は、波面収差としては、例えば７次及び８次のツェルニケ(Zernike) 係数（Ｚ７，Ｚ８）で表される。なお、図３において、第３鏡筒部５０ｃ，５２ｃ及び第４鏡筒部５０ｄ，５２ｄの断面図は、それぞれＸＺ面を光軸ＡＸ１，ＡＸ２の回りに４５°回転した面に沿った断面を表している。

以下、図４〜図５（Ｂ）を参照して図３中の第１の調整装置８Ａにつき説明する。図４は、調整装置８Ａの一部のレンズ支持部材５４Ａを示す。図４において、レンズ支持部材５４Ａは、レンズ３６Ａの外縁部を収容する収容部５４Ａ１ａ（図５（Ａ）参照）を有する環状の第１支持部５４Ａ１と、第１支持部５４Ａ１に対して、１対のスリットＢ４Ａ，Ｂ４Ｂを隔てて配置された環状の第２支持部５４Ａ２と、第２支持部５４Ａ２に対して、ほぼスリットＢ４Ａ，Ｂ４Ｂを光軸ＡＸ１の回りに９０°回転させた形状の１対のスリットＢ３Ａ，Ｂ３Ｂを隔てて配置された第３支持部５４Ａ３と、を一体的に形成したものである。
なお、一対のスリットＢ４Ａ，Ｂ４Ｂは、後述する弾性ヒンジ部５５Ａ，５５Ｂを残すように、光軸ＡＸ１の回りに対して、対称にかつ１８０°より小さい角度で形成される。
また、スリットＢ４Ａ，Ｂ４Ｂの端部、即ち、弾性ヒンジ部５５Ａ，５５Ｂの近傍は、＋Ｘ方向に折れ曲がった折り曲げ部を有する形状である。

また、一対のスリットＢ３Ａ，Ｂ３Ｂは、後述する弾性ヒンジ部５５Ｃ，５５Ｄを残すように、光軸ＡＸ１の回りに対して、対称にかつ１８０°より小さい角度で形成される。また、スリットＢ３Ａ，Ｂ３Ｂの端部、即ち、弾性ヒンジ部５５Ｃ，５５Ｄの近傍は、−Ｘ方向に折れ曲がった折り曲げ部を有する形状である。
レンズ３６Ａの外縁部は第１支持部５４Ａ１内の収容部５４Ａ１ａ（支持部）に環状の押さえ部材Ｂ２（図５（Ａ）参照）によって固定され、第３支持部５４Ａ３の側面の４箇所の平坦部に設けた連結板５８Ａによって、第３支持部５４Ａ３が図３の第３鏡筒部５０ｃに固定されている。スリットＢ４Ａ，Ｂ４Ｂ等の折れ曲げ部及び端部は可撓性を増すために円形に形成されている。スリットＢ４Ａ，Ｂ４Ｂ，Ｂ３Ａ，Ｂ３Ｂの折り曲げ部等の形状等は、例えばワイヤカット放電加工機等で加工できる。

スリットＢ４Ａ，Ｂ４Ｂの１対の間隔部分が、光軸ＡＸ１に垂直な平面内でＺ軸を時計回りに４５°回転した第１方向Ｒ１に沿って対向するように配置された第１及び第２の弾性ヒンジ部５５Ａ，５５Ｂである。スリットＢ３Ａ，Ｂ３Ｂの１対の間隔部分が、光軸ＡＸ１に垂直な平面内でＺ軸を反時計回りに４５°回転した第２方向Ｒ２に沿って対向するように配置された第３及び第４の弾性ヒンジ部５５Ｃ，５５Ｄである。スリットＢ４Ａ，Ｂ４Ｂの端部と、スリットＢ３Ａ，Ｂ３Ｂの端部とは光軸ＡＸ１に垂直な同じ平面上にあるため、弾性ヒンジ部５５Ａ，５５Ｂの中心を通る回転軸Ｂ５と弾性ヒンジ部５５Ｃ，５５Ｄの中心を通る回転軸Ｂ６とは光軸ＡＸ１で直交している。

図５（Ａ）は図４の回転軸Ｂ５に沿った方向の断面図であり、図５（Ｂ）は図４の回転軸Ｂ６に沿った方向の断面図である。第２支持部５４Ａ２に対して第１支持部５４Ａ１（レンズ３６Ａ）は、弾性ヒンジ部５５Ａ，５５Ｂを介して第１方向Ｒ１に沿った回転軸Ｂ５の回りに、第１の駆動機構５６Ａによって図５（Ｂ）の点線の位置Ｄ２で示すように回転駆動される。図５（Ｂ）に示すように、第１の駆動機構５６Ａは、第１支持部５４Ａ１の弾性ヒンジ部５５Ｃの近傍に固定されたレバー５６Ａ１と、第３鏡筒部５０ｃの外面に固定されてレバー５６Ａ１の先端部をＸ方向に押し引きするマイクロメータ５６Ａ２と、レバー５６Ａ１の第３鏡筒部５０ｃのスリット部５０ｃ１を通して突き出た先端部とマイクロメータ５６Ａ２の支持部とを連結する引っ張りコイルばね５６Ａ３とを有する。また、レバー５６Ａ１の先端部は＋Ｘ方向に折れ曲がっており、マイクロメータ５６Ａ２の先端（相対的に滑りやすいように、半球面に加工されている）とレバー５６Ａ１の平坦な先端部との接触部は、弾性ヒンジ部５５Ａ，５５Ｂの中心を通り光軸ＡＸ１に垂直な平面上にある。このため、駆動機構５６Ａによって第１支持部５４Ａ１（レンズ３６Ａ）を弾性ヒンジ部５５Ａ，５５Ｂの中心を通る軸の回りに容易にかつ正確に回転できる。

また、第３支持部５４Ａ３（第３鏡筒部５０ｃ）に対して第２支持部５４Ａ２（第１支持部５４Ａ１及びレンズ３６Ａ）は、弾性ヒンジ部５５Ｃ，５５Ｄを介して第２方向Ｒ２に沿った回転軸Ｂ６の回りに、第２の駆動機構５７Ａによって図５（Ａ）の点線の位置Ｄ１で示すように回転駆動される。図５（Ａ）に示すように、駆動機構５７Ａは、第１支持部５４Ａ１（又は第２支持部５４Ａ２でもよい）の弾性ヒンジ部５５Ａの近傍に固定されたレバー５７Ａ１と、第３鏡筒部５０ｃの外面に固定されてレバー５７Ａ１の先端部をＸ方向に押し引きするマイクロメータ５７Ａ２と、レバー５７Ａ１の第３鏡筒部５０ｃのスリット部５０ｃ２を通して突き出た先端部とマイクロメータ５７Ａ２の支持部とを連結する引っ張りコイルばね５７Ａ３とを有する。また、レバー５７Ａ１の先端部は＋Ｘ方向に折れ曲がっており、マイクロメータ５７Ａ２の先端（相対的に滑りやすいように、半球面に加工されている）とレバー５７Ａ１の平坦な先端部との接触部は、弾性ヒンジ部５５Ｃ，５５Ｄの中心を通り光軸ＡＸ１に垂直な平面上にある。このため、駆動機構５７Ａによって第２支持部５４Ａ２（レンズ３６Ａ）を弾性ヒンジ部５５Ｃ，５５Ｄの中心を通る軸の回りに容易にかつ正確に回転できる。

次に、図６（Ａ）〜図７（Ｂ）を参照して図３中の第２の調整装置８Ｂにつき説明する。図６（Ａ）は、調整装置８Ｂの一部のレンズ支持部材６０Ａを示す。図６（Ａ）において、レンズ支持部材６０Ａは、レンズ４０Ａを収容する収容部６０Ａ１ａ（図７（Ａ）参照）を有する環状の第１支持部６０Ａ１と、第１支持部６０Ａ１に対して、１対のスリットＢ１３，Ｂ１４を隔てて同心円状に配置された環状の第２支持部６０Ａ２と、第２支持部６０Ａ２に対して１対のスリットＢ１５，Ｂ１６を隔てて同心円状に配置された第３支持部６０Ａ３と、を一体的に形成したものである。
なお、１対のスリットＢ１３，Ｂ１４は、後述する弾性ヒンジ部６１Ａ，６１Ｂを残すように、光軸ＡＸ１の回りにほぼ対称にほぼ１８０°の角度で形成され、かつ端部に半径方向に折り曲げられた折り曲げ部を有する形状である。

また、１対のスリットＢ１５，Ｂ１６は、後述する弾性ヒンジ部６１Ｃ，６１Ｄを残すように、ほぼスリットＢ１３，Ｂ１４を半径方向に広げた形状で、かつこの形状を光軸ＡＸ１の回りに９０°回転した形状である。ただし、スリットＢ１３，Ｂ１４の中央部は光軸ＡＸ１の方向に向かう凹の折り曲げ部を有し、スリットＢ１５，Ｂ１６の中央部は光軸ＡＸ１に対して半径方向に向かう凸の折り曲げ部を有する。
レンズ４０Ａの外縁部は第１支持部６０Ａ１内の収容部６０Ａ１ａ（支持部）に環状の押さえ部材Ｂ１２（図７（Ａ）参照）によって固定され、第３支持部６０Ａ３の外周部が複数のボルトＢ１１によって第３鏡筒部５０ｃ内の端面５０ｃ４に固定されている。スリットＢ１３〜Ｂ１６の端部は可撓性を増すために円形に形成されている。スリットＢ１３〜Ｂ１６の折り曲げ部等の形状は、例えばワイヤカット放電加工機等で加工できる。

スリットＢ１３，Ｂ１４の１対の半径方向の間隔部分が、光軸ＡＸ１に垂直な平面内でＺ軸を時計回りに４５°回転した第１方向Ｒ１に沿って対向するように配置された第１及び第２の弾性ヒンジ部６１Ａ，６１Ｂである。スリットＢ１５，Ｂ１６の１対の半径方向の間隔部分が、光軸ＡＸ１に垂直な平面内でＺ軸を反時計回りに４５°回転した第２方向Ｒ２に沿って対向するように配置された第３及び第４の弾性ヒンジ部６１Ｃ，６１Ｄである。弾性ヒンジ部６１Ａ〜６１Ｄは、可撓性を増すために、Ｘ方向の厚さがレンズ支持部材６０Ａの外形の厚さよりもかなり薄く形成されている（図７（Ａ）、（Ｂ）参照）。スリットＢ１３〜Ｂ１６には、弾性ヒンジ部６１Ｄ，６１Ｃ，６１Ａ，６１Ｂとの機械的な干渉を避けるための凹部又は凸部が設けられている。弾性ヒンジ部６１Ａ，６１Ｂの中心を通る回転軸Ｂ１７と弾性ヒンジ部６１Ｃ，６１Ｄの中心を通る回転軸Ｂ１８とは光軸ＡＸ１で直交している。

図７（Ａ）は図６（Ａ）の回転軸Ｂ１８に沿った方向の断面図であり、図７（Ｂ）は図６（Ａ）の回転軸Ｂ１７に沿った方向の断面図である。第２支持部６０Ａ２に対して第１支持部６０Ａ１（レンズ４０Ａ）は、弾性ヒンジ部６１Ａ，６１Ｂを介して第１方向Ｒ１に沿った回転軸Ｂ１７の回りに第１の駆動機構６２Ａによって回転駆動される。図７（Ａ）に示すように、第１の駆動機構６２Ａは、第１支持部６０Ａ１の弾性ヒンジ部６１Ｃの近傍に一端部が固定された連結用の板ばね６４Ａと、第４鏡筒部５０ｄの外面にボルト６２Ａ２で固定されてスリット部５０ｄ１を通過した板ばね６４Ａの他端部がボルト等で固定された支持部６２Ａ１と、支持部６２Ａ１と第４鏡筒部５０ｄの外面との間に設置された厚さが調整可能なワッシャ６２Ａ３と、を有する。ワッシャ６２Ａ３は種々の厚さの多数のワッシャの中から選択されたものであり、ワッシャ６２Ａ３の厚さを調節することによって、板ばね６４Ａの他端部をＸ方向に押し引きすることができる。このように板ばね６４Ａの他端部をＸ方向に押し引きすることで、点線の位置Ｄ３で示すように、第１支持部６０Ａ１（レンズ４０Ａ）を回転できる。

なお、板ばね６４Ａには第２の駆動機構６２Ｂによる変位等によって横方向の応力が加わるため、その応力を逃がすために、図６（Ｂ）に示すように２箇所のフレクシャ部６４Ａａ，６４Ａｂが形成されている。
また、図６（Ａ）において、第３支持部６０Ａ３（第３鏡筒部５０ｃ）に対して第２支持部６０Ａ２（第１支持部６０Ａ１及びレンズ４０Ａ）は、弾性ヒンジ部６１Ｃ，６１Ｄを介して第２方向Ｒ２に沿った回転軸Ｂ１８の回りに第２の駆動機構６３Ａによって回転駆動される。図７（Ｂ）に示すように、第２の駆動機構６３Ａは、第２支持部６０Ａ２（又は第１支持部６０Ａ１でもよい）の弾性ヒンジ部６１Ａの近傍に一端部が固定された連結用の板ばね６５Ａと、第４鏡筒部５０ｄの外面にボルト６３Ａ２で固定されてスリット部５０ｄ２を通過した板ばね６４Ａの他端部がボルト等で固定された支持部６３Ａ１と、支持部６３Ａ１と第４鏡筒部５０ｄの外面との間に設置された厚さが調整可能なワッシャ６３Ａ３と、を有する。ワッシャ６３Ａ３の厚さを調節して、板ばね６５Ａの他端部をＸ方向に押し引きすることで、点線の位置Ｄ４で示すように、第２支持部６０Ａ２（ひいてはレンズ４０Ａ）を回転できる。板ばね６５Ａにも板ばね６４Ａと同様に図６（Ｂ）に示すように２箇所（又は１箇所でもよい）のフレクシャ部が形成されている。

なお、駆動機構６２Ａ，６３Ａとしても、駆動機構５６Ａ，５７Ａと同様にマイクロメータ方式の押し引き機構を使用してもよい。また、駆動機構５６Ａ，６２Ａ等として、電動マイクロメータ、超音波モータ、又はピエゾ素子等の駆動素子を用いる自動的な押し引き機構を使用してもよい。
次に、本実施形態の投影システムＰＳの光学特性又は結像特性の調整方法の一例につき図８のフローチャートを参照して説明する。まず、図８のステップ１０２で、投影システムＰＳの複数の部分投影光学系ＰＬＡ〜ＰＬＧの各部材の製造、各部材の組立調整、及び光学系フレーム２６に対する装着が行われる。次のステップ１０４で、各部分投影光学系ＰＬＡ〜ＰＬＧの第１の調整装置８Ａを使用して図３の第１鏡筒５０内の第１反射屈折系Ｇ１Ｐの粗調整を行い、第３の調整装置８Ｃを使用して第２鏡筒５２内の第２反射屈折系Ｇ２Ｐの粗調整を行う。次のステップ１０６で、例えば波面収差計測装置（不図示）等を用いて波面収差を計測しながら、各部分投影光学系ＰＬＡ〜ＰＬＧの第２の調整装置８Ｂを使用して第１反射屈折系Ｇ１Ｐの微調整を行い、第４の調整装置８Ｄを使用して第２反射屈折系Ｇ２Ｐの微調整を行う。これらの調整に際して、調整装置８Ａ〜８Ｄの操作部（マイクロメータ５６Ａ２及びワッシャ６２Ａ３等）は第１鏡筒５０及び第２鏡筒５２の外面に出ているため、マルチレンズ型の投影システムＰＳであっても結像特性（波面収差）の調整をきわめて容易に効率的に行うことができる。

その後、ステップ１０８で、単体での調整済みの投影システムＰＳが、図２に示すように、露光装置本体部のマスクステージ２１とプレートステージ２２との間に装着される。次のステップ１１０で、各部分投影光学系ＰＬＡ〜ＰＬＧの第１の調整装置８Ａを使用して第１反射屈折系Ｇ１Ｐの粗調整を行う。この際に、第１反射屈折系Ｇ１Ｐは第１鏡筒５０内に収容され、調整装置８Ａの操作部（マイクロメータ５６Ａ２，５７Ａ２）は第１鏡筒５０の斜め上部の外面に固定されているため、複数の部分投影光学系ＰＬＡ〜ＰＬＧが近接して配置されていても、各部分投影光学系ＰＬＡ〜ＰＬＧの第１反射屈折系Ｇ１Ｐの粗調整をきわめて容易に効率的に行うことができる。

次のステップ１１２で、例えば図１の波面収差計測装置２４を用いてオンボディで波面収差を計測しながら、各部分投影光学系ＰＬＡ〜ＰＬＧの第２の調整装置８Ｂを使用して第１反射屈折系Ｇ１Ｐの微調整を行う。この際にも、第１反射屈折系Ｇ１Ｐは第１鏡筒５０内に収容され、調整装置８Ｂの操作部（ワッシャ６２Ａ３，６３Ａ３）は第１鏡筒５０の横方向の外面に固定されているため、複数の部分投影光学系ＰＬＡ〜ＰＬＧが近接して配置されていても、各部分投影光学系ＰＬＡ〜ＰＬＧの第１反射屈折系Ｇ１Ｐの微調整をきわめて容易に効率的に行うことができる。また、例えば所定の部分投影光学系ＰＬＡの結像特性に対して、他の部分投影光学系ＰＬＢ〜ＰＬＧの結像特性を合わせるための調整も、調整装置８Ａ〜８Ｄを用いてきわめて容易に効率的に行うことができる。

本実施形態の効果等は以下の通りである。
本実施形態の露光装置ＥＸの投影システムＰＳ（マルチレンズ型投影光学系）は、複数の部分投影光学系ＰＬＡ〜ＰＬＧを備え、各部分投影光学系ＰＬＡ〜ＰＬＧはそれぞれ粗調用の第１の調整装置８Ａ及び微調用の第２の調整装置８Ｂを備えている。
そして、部分投影光学系ＰＬＡ等の第１反射屈折系Ｇ１Ｐ内のレンズ３６Ａの第１鏡筒５０に関する位置関係を調整する第１の調整装置８Ａは、レンズ３６Ａを支持する環状の第１支持部５４Ａ１と、第１支持部５４Ａ１に対して、光軸ＡＸ１に垂直な第１方向Ｒ１に沿って対向するように配置された１対の弾性ヒンジ部５５Ａ，５５Ｂを介して連結された環状の第２支持部５４Ａ２と、第２支持部５４Ａ２に対して、光軸ＡＸ１に垂直で第１方向Ｒ１に直交する第２方向Ｒ２に沿って対向するように配置された１対の弾性ヒンジ部５５Ｃ，５５Ｄを介して連結された環状の第３支持部５４Ａ３と、第３支持部５４Ａ３（第１鏡筒５０）に対して第１支持部５４Ａ１（レンズ３６Ａ）を第１方向Ｒ１の回りに回転させる第１の駆動機構５６Ａと、第３支持部５４Ａ３に対して第２支持部５４Ａ２（レンズ３６Ａ）を第２方向Ｒ２の回りに回転させる第２の駆動機構５７Ａと、を備えている。そして、第１〜第３支持部５４Ａ１〜５４Ａ３は光軸ＡＸ１に沿って全体としてほぼ円筒状に連結されている。

また、第１反射屈折系Ｇ１Ｐ内のレンズ４０Ａの第１鏡筒５０に関する位置関係を調整する第２の調整装置８Ｂは、レンズ４０Ａを支持する環状の第１支持部６０Ａ１と、第１支持部６０Ａ１に対して弾性ヒンジ部６１Ａ，６１Ｂを介して連結された環状の第２支持部６０Ａ２と、第２支持部６０Ａ２に対して弾性ヒンジ部６１Ｃ，６１Ｄを介して連結された環状の第３支持部６０Ａ３と、第３支持部６０Ａ３（第１鏡筒５０）に対して第１支持部６０Ａ１（レンズ４０Ａ）を第１方向Ｒ１の回りに回転させる第１の駆動機構６２Ａと、第３支持部６０Ａ３に対して第２支持部６０Ａ２（レンズ４０Ａ）を第２方向Ｒ２の回りに回転させる第２の駆動機構６３Ａと、を備えている。そして、第１〜第３支持部６０Ａ１〜６０Ａ３は光軸ＡＸ１を中心としてほぼ同心円状に連結されている。

本実施形態によれば、第１の駆動機構５６Ａ，６２Ａによって第３支持部５４Ａ３，６０Ａ３に対して第１支持部５４Ａ１，６０Ａ１（レンズ３６Ａ，４０Ａ）を第１の方向Ｒ１の回りに回転させ、第２の駆動機構５７Ａ，６３Ａによって第３支持部５４Ａ３，６０Ａ３に対して第２支持部５４Ａ２，６０Ａ２（第１支持部５４Ａ１，６０Ａ１及びレンズ３６Ａ，４０Ａ）を第２の方向Ｒ２の回りに回転させることで、第１反射屈折系Ｇ１Ｐ（部分投影光学系ＰＬＡ〜ＰＬＧ）中のレンズ３６Ａ，４０Ａの第１鏡筒５０（第３支持部５４Ａ３，６０Ａ３が固定された部材）に対する位置関係を容易に効率的に調整できる。

なお、第１の方向Ｒ１と第２の方向Ｒ２とは９０°以外の角度で交差していてもよい。
また、第１〜第３支持部５４Ａ１〜５４Ａ３及び第１〜第３支持部６０Ａ１〜６０Ａ３はそれぞれ一体的に形成されているため、レンズ３６Ａ，４０Ａを安定に駆動できる、なお、第１〜第３支持部５４Ａ１〜５４Ａ３及び第１〜第３支持部６０Ａ１〜６０Ａ３のうちの少なくとも一つの部分を別体の部材から形成し、この別体の部材を弾性ヒンジ機構を介して他の部分に連結してもよい。

また、投影システムＰＳは、それぞれマスクＭのパターンの一部の像をプレートＰＴ表面に形成する複数の部分投影光学系ＰＬＡ〜ＰＬＧを有するため、全体として小型の投影光学系を用いて露光領域を広くできるため、例えば１回の走査露光で、大面積のプレートＰＴに対してマスクＭのパターンの像を高精度に露光できる。
また、本実施形態の投影システムＰＳは、マスクＭのパターン面（第１面）のパターンの像をプレートＰＴの表面（第２面）に形成する投影光学系であって、その第１面とその第２面との間に順に、かつその第２面に沿って（光軸ＡＸ１，ＡＸ２がプレートＰＴの表面に沿ったＸ方向に延びるように）配列されて、それぞれ中間像を形成する第１及び第２の反射屈折光学系Ｇ１Ｐ，Ｇ２Ｐを備えている。さらに、投影システムＰＳは、第１の反射屈折光学系Ｇ１Ｐ内のレンズ３６Ａ（第１の光学部材）及びレンズ４０Ａ（第２の光学部材）を支持するための第１及び第２の調整装置８Ａ及び８Ｂと、第２の反射屈折光学系Ｇ２Ｐ内のレンズ３６Ｂ（第３の光学部材）及びレンズ４０Ｂ（第４の光学部材）を支持するための第３及び第４の調整装置８Ｃ及び８Ｄと、調整装置８Ａ〜８Ｄの第３支持部５４Ａ３，６０Ａ３等が固定される第１鏡筒５０及び第２鏡筒５２と、を備えている。

また、本実施形態の投影システムＰＳの調整方法は、投影システムＰＳ単体の調整時に調整装置８Ｃ及び８Ｄを用いて第２の反射屈折系Ｇ２Ｐのレンズ３６Ｂ，４０Ｂの調整を行い（ステップ１０４，１０６）、投影システムＰＳを露光装置に組み込んだ状態で、調整装置８Ａ及び８Ｂを用いて第１の反射屈折光学系Ｇ１Ｐのレンズ３６Ａ，４０Ａの調整を行うものである（ステップ１１０，１１２）。この調整方法によれば、投影システムＰＳを露光装置に組み込んだ状態では、スペース的に余裕のある上方の第１鏡筒５０内の第１の反射屈折系Ｇ１Ｐの調整を行うため、投影システムＰＳの調整が容易である。

なお、調整装置８Ａ，８Ｂと同様の調整装置で凹面鏡４２Ａ等の他の光学部材の位置関係を調整してもよい。
また、本実施形態の露光装置ＥＸは、照明光ＥＬでマスクＭのパターンを介してプレートＰＴを露光する露光装置において、マスクＭを移動するマスクステージ２１と、本実施形態の投影システムＰＳ（投影光学系）と、プレートＰＴを移動するプレートステージ２２と、を備えている。露光装置ＥＸによれば、投影システムＰＳの結像特性を高精度に調整できるため、大面積のプレートＰＴに対してマスクＭのパターンの像を高精度に露光できる。

次に、上記の実施形態については以下のような変形が可能である。
まず、図６（Ａ）のレンズ支持部材６０Ａの代わりに図９の第１変形例のレンズ支持部材６０Ｃを使用してもよい。図９において、レンズ支持部材６０Ｃは、レンズ４０Ａを支持する第１支持部６０Ｃ１と、その外側の第２支持部６０Ｃ２とを連結する弾性ヒンジ部６１Ｅ，６１Ｆが単に半円状のスリットの端部間にあり、第２支持部６０Ｃ２と、その外側の第３支持部６０Ｃ３とを連結する弾性ヒンジ部６１Ｇ，６１Ｈも単に半円状のスリットの端部間にある。この単純な形状のレンズ支持部材６０Ｃを使用しても、弾性ヒンジ部６１Ｅ，６１Ｆを通る回転軸Ｂ１７及び弾性ヒンジ部６１Ｇ，６１Ｈを通る回転軸Ｂ１８の回りに板ばね６４Ａ，６５Ａを有する駆動機構によってレンズ４０Ａを回転できる。

次に、他の本実施形態につき図１０〜図１１（Ｃ）を参照して説明する。この実施形態の調整装置は、図５（Ａ）のレンズ３６Ａの調整装置８Ａの代わりに使用できる。図１０は、本実施形態の調整装置のレンズ支持部材５４Ｃを示す。図１０において、レンズ支持部材５４Ｃは、レンズ３６Ａを収容する環状の第１支持部５４Ｃ１（第１環状部）と、第１支持部５４Ｃ１に対して１対のスリットＥ１，Ｅ２を隔てて配置された環状の第２支持部５４Ｃ２と、第２支持部５４Ｃ２に対して４本のスリットＥ３，Ｅ４，Ｅ５，Ｅ６を隔てて配置された環状の第３支持部５４Ｃ３と、第３支持部５４Ｃ３に対して４本のスリットＥ７，Ｅ８，Ｅ９，Ｅ１０及び２本のスリットＥ１１，Ｅ１２を隔てて配置された環状の第４支持部５４Ｃ４（第２環状部）と、を光軸ＡＸ１方向に一体的に円筒状に連結したものである。第４支持部５４Ｃ４が連結板５８Ａを用いて図５（Ａ）の第３鏡筒部５０ｃ内の端面５０ｃ３に固定される。

なお、１対のスリットＥ１，Ｅ２は、後述する線状ヒンジ部７５Ｃｂ等を残すように、光軸ＡＸ１の回りに対称に１８０°よりもわずかに小さい角度で形成され、端部に＋Ｘ方向に折り曲げられた折り曲げ部を有する形状である。４本のスリットＥ３，Ｅ４，Ｅ５，Ｅ６は、後述する線状ヒンジ部７５Ｃａ，７５Ａｂ等を残すように、光軸ＡＸ１の回りに９０°よりもわずかに小さい角度で形成され、端部に＋Ｘ方向に折り曲げられた折り曲げ部を有する形状である。また、４本のスリットＥ７，Ｅ８，Ｅ９，Ｅ１０は、後述する線状ヒンジ部７５Ａａ等及び線状ヒンジ部７５Ｃａ等の近傍の領域を残すように、光軸ＡＸ１の回りに９０°よりもわずかに小さい角度で形成され、端部にＸ方向に折り曲げられた折り曲げ部を有する形状である。スリットＥ１１，Ｅ１２は、線状ヒンジ部７５Ｃａ等と平行に形成されている。

スリットＥ３，Ｅ４間及びスリットＥ５，Ｅ６間に第１の方向Ｒ１に平行な直線Ｅ１３に沿って対向するように１対の弾性ヒンジ部７５Ａ，７５Ｂが対称に形成され、スリットＥ１，Ｅ２間及びスリットＥ６，Ｅ３間に第１の方向Ｒ１に直交する第２の方向Ｒ２に平行な直線Ｅ１４沿って対向するように１対の弾性ヒンジ部７５Ｃ，７５Ｄが対称に形成されている。図１１（Ａ）に示すように、弾性ヒンジ部７５Ａは、スリットＥ３，Ｅ４間及びスリットＥ７，Ｅ８間に形成されて互いに平行で厚さが薄い線状ヒンジ部７５Ａａ，７５Ａｂ（平行リンク部）、及びスリットＥ３，Ｅ７間及びスリットＥ４，Ｅ８間に形成された厚さが薄い点状ヒンジ部７５Ａｃ，７５Ａｄ（点連結を行う第１弾性ヒンジ部）を有し、線状ヒンジ部７５Ａａ，７５Ａｂ間の傾斜可能な傾斜可能部５４Ｃ３１（第３支持部５４Ｃ３の一部）に、第１の駆動機構５６Ｃのレバー５６Ｃ１が固定される。弾性ヒンジ部７５Ａに対向する弾性ヒンジ部７５Ｂにも、傾斜可能部５４Ｃ３１に対向するように傾斜可能部５４Ｃ３２がある。

また、図１１（Ｂ）に示すように、弾性ヒンジ部７５Ｃは、スリットＥ１，Ｅ２間及びスリットＥ４，Ｅ５間に形成されて互いに平行で厚さが薄い線状ヒンジ部７５Ｃａ，７５Ｃｂ、及びスリットＥ１，Ｅ４間及びスリットＥ２，Ｅ４間に形成されて厚さが薄い点状ヒンジ部７５Ｃｃ，７５Ｃｄ（点連結を行う第２弾性ヒンジ部）を有し、線状ヒンジ部７５Ｃａ，７５Ｃｂ間の傾斜可能な傾斜可能部５４Ｃ３３（第３支持部５４Ｃ３の一部）に、第２の駆動機構５７Ｃのレバー５７Ｃ１が固定される。弾性ヒンジ部７５Ｃに対向する弾性ヒンジ部７５Ｄにも、傾斜可能部５４Ｃ３３に対向するように傾斜可能部５４Ｃ３４がある。駆動機構５６Ｃ及び５７Ｃは、それぞれレバー５６Ｃ１及び５７Ｃ１の先端部をＸ方向に押し引きするマイクロメータ５７Ｃ２等を有する。第１の駆動機構５６Ｃのレバー５６Ｃ１の先端部をＸ方向に押し引きするマイクロメータ（不図示）は図５（Ａ）の第３鏡筒部５０ｃの外面に固定される。一方、第２の駆動機構５７Ｃのレバー５７Ｃ１の先端部をＸ方向に押し引きするマイクロメータ５７Ｃ２は、一例として、図１１（Ｃ）に示すように、傾斜可能部５４Ｃ３３の近傍の第４支持部５４Ｃ４に固定され、マイクロメータ５７Ｃ２の支持部とレバー５７Ｃ１の先端部との間に引っ張りコイルばね５７Ｃ３が設けられている。マイクロメータ５７Ｃ２も鏡筒部５０ｃの外部で操作できる。このようにマイクロメータ５７Ｃ２を第４支持部５４Ｃ４（レンズ支持部材５４Ｃ）に固定することで、第１の駆動機構５６Ｃでレバー５６Ｃ１を駆動したときに、傾斜可能部５４Ｃ３３の傾斜角が変化しない。

図１１（Ａ）に示すように、第２の駆動機構のレバー５７Ｃ１を光軸ＡＸ１の方向（Ｘ方向）に押し引きすることで、図１１（Ｂ）の線状ヒンジ部７５Ｃａ，７５Ｃｂ間の傾斜可能部５４Ｃ３３（及びこれに対向する傾斜可能部５４Ｃ３４）が傾斜し、点状ヒンジ部７５Ｃｃ，７５Ｃｄがその傾斜角を相殺するように曲がることで、点線の位置Ｄ５に示すように、第３支持部５４Ｃ３に対して第２支持部５４Ｃ２の先端部が横方向（第２の方向Ｒ２）にシフトし、第１支持部５４Ｃ１（レンズ３６Ａ）はその方向に平行に同じ量だけシフトする。同様に、図１１（Ｂ）に示すように、第１の駆動機構のレバー５６Ｃ１を光軸ＡＸ１の方向（Ｘ方向）に押し引きすることで、図１１（Ａ）の線状ヒンジ部７５Ａａ，７５Ａｂ間の傾斜可能部５４Ｃ３１（及びこれに対向する傾斜可能部５４Ｃ３２）が傾斜し、点状ヒンジ部７５Ａｃ，７５Ａｄがその傾斜角を相殺するように曲がることで、点線の位置Ｄ６に示すように、第４支持部５４Ｃ４に対して第３支持部５４Ｃ３の先端部が横方向（第１の方向Ｒ１）にシフトし、第２支持部５４Ｃ２及び第１支持部５４Ｃ１（レンズ３６Ａ）はその方向に平行に同じ量だけシフトする。

このように本実施形態のレンズ支持部材５４Ｃ及び駆動機構５６Ｃ，５７Ｃを有する調整装置によれば、レバー５６Ｃ１の駆動によってレンズ３６Ａを第１の方向Ｒ１にシフトさせ、レバー５７Ｃ１の駆動によってレンズ３６Ａを第２の方向Ｒ２にシフトさせることができ、これによって光学系の偏芯コマ収差を補正できる。
なお、本実施形態のレンズ３６Ａの調整装置の代わりに、図１２（Ａ）、（Ｂ）に示す変形例の調整装置を使用してもよい。図１２（Ａ）は、その調整装置のレンズ支持部材５４Ｄを示す。図１２（Ａ）において、レンズ支持部材５４Ｄは、レンズ３６Ａを収容する環状の第１支持部５４Ｄ１（第１環状部）と、第１支持部５４Ｄ１に対して光軸ＡＸ１の回りに１２０°よりもわずかに小さい角度で形成された円弧状の３つのスリットＦ１，Ｆ２，Ｆ３を隔てて同心円状に配置された環状の第２支持部５４Ｃ３（第２環状部）と、第２支持部５４Ｃ３の一部に１２０°間隔で配置された３箇所の互いに同一形状の傾斜可能部５４Ｄ２Ａ，５４Ｄ２Ｂ，５４Ｄ２Ｃとを一体的に連結したものである。

第１の傾斜可能部５４Ｄ２Ａは、スリットＦ１，Ｆ２の端部近傍から半径方向に平行に延びるスリットＦ１ａ，Ｆ２ｂと、光軸ＡＸ１の円周方向にほぼ平行に形成された２つのスリットＦ４，Ｆ５とで囲まれた領域であり、第２支持部５４Ｄ２Ａ及びこの近傍に第１の弾性ヒンジ部７６Ａが設けられている。弾性ヒンジ部７６Ａは、スリットＦ４，Ｆ１ａ間及びスリットＦ５，Ｆ１ａ間に形成されて互いに平行で厚さが薄い線状ヒンジ部７６Ａａ，７６Ａｂ（第１平行リンク部）、スリットＦ４，Ｆ２ｂ間及びスリットＦ５，Ｆ２ｂ間に形成されて互いに平行で厚さが薄い線状ヒンジ部７６Ａｃ，７６Ａｄ（第２平行リンク部）、及びスリットＦ１の端部とスリットＦ２の端部との間に形成された厚さが薄い点状ヒンジ部７６Ａｅ（点連結を行う第１弾性ヒンジ部）を有し、スリットＦ４，Ｆ５間の傾斜可能部５４Ｄ２Ａに、第１の駆動機構５６Ｄのレバー５６Ｄ１が固定される。

また、図１２（Ａ）の傾斜可能部５４Ｄ２Ａの中心を通る断面図である図１２（Ｂ）に示すように、線状ヒンジ部７６Ａａ〜７６Ａｄ（第２平行リンク部）は、レンズ支持部材５４Ｄの−Ｘ方向側に位置しているのに対して、点状ヒンジ部７６Ａｅ（点連結部）はレンズ支持部材５４Ｄの＋Ｘ方向側に位置しており、第２平行リンク部と点連結部とは光軸ＡＸ１方向の位置が異なっている。

図１２（Ａ）において、第２の傾斜可能部５４Ｄ２Ｂ及びこの近傍にも２つの平行リンク部と一つの点連結部とを有する第２の弾性ヒンジ部７６Ｂが設けられ、第２の傾斜可能部Ｄ２Ｂに、第２の駆動機構５６Ｅのレバー５６Ｅ１が固定されている。また、第３の傾斜可能部５４Ｄ２Ｃ及びこの近傍にも２つの平行リンク部と一つの点連結部とを有する第３の弾性ヒンジ部７６Ｃが設けられ、第３の傾斜可能部５４Ｄ２Ｃに、第３の駆動機構５６Ｆのレバー５６Ｆ１が固定されている。

図１２（Ｂ）において、第２支持部５４Ｄ３の外周部が光学系の鏡筒７７の端面にボルト（不図示）によって固定されている。第１の駆動機構５６Ｄは、レバー５６Ｄ１の先端部をＸ方向に押し引きするために鏡筒７７の外面に固定されたマイクロメータ５６Ｄ２と、レバー５６Ｄ１の先端部とマイクロメータ５６Ｄ２の支持部とを連結する引っ張りコイルばね５６Ｄ３とを有する。他の駆動機構５６Ｅ，５６Ｆも同様に構成されている。

マイクロメータ５６Ｄ２によってレバー５６Ｄ１を光軸ＡＸ１に平行なＸ方向に押し引きすることによって、点線の位置Ｄ７で示すように、線状ヒンジ部７６Ａａ，７６Ａｃに対して線状ヒンジ部７６Ａｂ，７６ＡｄがＸ方向に移動するように第２の傾斜可能部５４Ｄ２Ａが傾斜する。この際に、他の弾性ヒンジ部７６Ｂ，７６Ｃは動かないため、点線の位置Ｄ８で示すように第１支持部５４Ｄ１（レンズ３６Ａ）はＹ軸の回りに回転（傾斜）する。また、図１２（Ａ）の第２の駆動機構５６Ｅのレバー５６Ｅ１を＋Ｘ方向に押し、第３の駆動機構５６Ｆのレバー５６Ｆ１を−Ｘ方向に引くことで、第１支持部５４Ｄ１（レンズ３６Ａ）はＺ軸の回りに回転（傾斜）する。また、３つのレバー５６Ｄ１，５６Ｅ１，５６Ｆ１を同じ量だけＸ方向に押し引きすることによって、第１支持部５４Ｄ１（レンズ３６Ａ）をＸ方向にシフトさせることができる。

このようにこの変形例によれば、３つの等角度間隔で配置された駆動機構５６Ｄ〜５６Ｆを用いることで、第１支持部５４Ｄ１（レンズ３６Ａ）を直交する２軸（Ｙ軸及びＺ軸）の回りの回転角を調整して偏芯コマ収差を補正できるとともに、第１支持部５４Ｄ１（レンズ３６Ａ）のＸ方向の位置を調整して光学系のフォーカス状態を補正できる。
また、上記の実施形態の露光装置ＥＸ又は露光方法を用いて、プレートＰＴ上に所定のパターン（回路パターン、電極パターン等）を形成することによって、電子デバイス（マイクロデバイス）としての多数の液晶ディスプレイ又は液晶表示パネル（液晶表示素子）を得ることもできる。以下、図１３のフローチャートを参照して、この製造方法の一例につき説明する。

図１３のステップＳ４０１（パターン形成工程）では、先ず、露光対象のプレート上にフォトレジストを塗布して感光基板（プレートＰＴ）を準備する塗布工程、上記の露光装置を用いて液晶表示パネル用のマスク（例えばマスクＭを含む）のパターンをその感光基板上の多数のパターン形成領域（区画領域）に転写露光する露光工程、及びその感光基板を現像する現像工程が実行される。この塗布工程、露光工程、及び現像工程を含むリソグラフィ工程によって、そのプレート上に所定のレジストパターンが形成される。このリソグラフィ工程に続いて、そのレジストパターンをマスクとしたエッチング工程、及びレジスト剥離工程等を経て、そのプレート上に多数の電極等を含む所定パターンが形成される。そのリソグラフィ工程等は、そのプレート上のレイヤ数に応じて複数回実行される。

その次のステップＳ４０２（カラーフィルタ形成工程）では、赤Ｒ、緑Ｇ、青Ｂに対応した３つの微細なフィルタの組をマトリックス状に多数配列するか、又は赤Ｒ、緑Ｇ、青Ｂの３本のストライプ状の複数のフィルタの組を水平走査線方向に配列することによってカラーフィルタを形成する。その次のステップＳ４０３（セル組立工程）では、例えばステップＳ４０１にて得られた所定パターンを有するプレートとステップＳ４０２にて得られたカラーフィルタとの間に液晶を注入して、液晶パネル（液晶セル）を製造する。

その後のステップＳ４０４（モジュール組立工程）では、そのようにして組み立てられた多数の液晶パネル（液晶セル）に表示動作を行わせるための電気回路、及びバックライト等の部品を取り付けて、液晶表示パネルとして完成させる。
上述の液晶表示パネル（液晶表示素子）の製造方法によれば、上記の実施形態の露光装置又は露光方法を用いてマスクＭのパターンを基板（プレートＰＴ）に転写する工程（ステップＳ４０１の一部）と、この工程によりそのパターンが転写されたそのプレートＰＴをそのパターンに基づいて加工（現像、エッチング等）する工程（ステップＳ４０１の他の部分）とを含んでいる。

この製造方法によれば、露光装置ＥＸの投影システムＰＳの結像特性を高精度な状態に維持できるため、液晶表示パネルを効率的にかつ高精度に製造できる。
なお、上記の実施形態のレンズを調整する調整装置８Ａ〜８Ｄは、一つの結像光学系のみからなる投影光学系にも適用できる。この場合には、照明系ＩＳは、全体として一つの照明領域を照明する一つの光学系から構成できる。

また、露光装置ＥＸは走査露光を行っているが、ステッパー型の露光装置にも調整装置８Ａ〜８Ｄ等を有する投影光学系を使用できる。
なお、上述の実施形態では、光源として超高圧水銀ランプを用いているが、これに限定されることなく、他の適当な光源を用いることができる。
なお、本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得る。

ＥＸ…露光装置、Ｍ…マスク、ＰＳ…投影システム、ＰＬＡ〜ＰＬＧ…部分投影光学系、Ｇ１Ｐ…第１反射屈折系、Ｇ２Ｐ…第２反射屈折系、ＰＴ…プレート、８Ａ〜８Ｄ…調整装置、２６…光学系フレーム、３６Ａ，３６Ｂ…レンズ、４０Ａ，４０Ｂ…レンズ、５０…上部鏡筒、５２…下部鏡筒、５４Ａ，５４Ｂ…レンズ支持部材、５６Ａ，５６Ｂ，５７Ａ，５７Ｂ…駆動機構、６０Ａ，６０Ｂ…レンズ支持部材、６２Ａ，６２Ｂ，６３Ａ，６３Ｂ…駆動機構

Claims (17)

1. 光学部材の位置を調整する装置において、
   前記光学部材を支持する支持部を有する第１環状部と、
   前記第１環状部とは異なる第２環状部と、
   前記第２環状部とは異なる第３環状部と、
   第１の方向に関する２つの位置で、前記第１環状部と前記第２環状部とを連結する第１の弾性ヒンジ部と、
   前記第１の方向と交差した第２の方向に関する２つの位置で、前記第２環状部と前記第３環状部とを連結する第２の弾性ヒンジ部と、を備え、
   前記第２の弾性ヒンジ部は、前記第１の弾性ヒンジ部が配置される、前記光学部材の光軸に垂直な平面内に設けられることを特徴とする光学部材位置調整装置。
2. 前記第１環状部、前記第２環状部、及び前記第３環状部は一体的に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の光学部材位置調整装置。
3. 前記第３環状部に対して前記第１環状部を前記第１の方向の回りに回転させる第１駆動部と、
   前記第３環状部に対して前記第２環状部を前記第２の方向の回りに回転させる第２駆動部と、をさらに備える請求項１又は２に記載の光学部材位置調整装置。
4. 前記第３環状部は、鏡筒内に固定され、
   前記第１駆動部は、前記第１環状部に固定される一端部と前記鏡筒に設けられた開口を介して前記鏡筒の外側に配置される他端部とを有する第１レバー部と、前記鏡筒に固定されて前記第１レバー部の前記他端部を変位させる変位部と、を有し、
   前記第２駆動部は、前記第２環状部又は前記第１環状部に固定される一端部と前記鏡筒に設けられた開口を介して前記鏡筒の外側に配置される他端部とを有する第２レバー部と、前記鏡筒に固定されて前記第２レバー部の前記他端部を変位させる変位部と、を有することを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の光学部材位置調整装置。
5. 前記第１環状部、前記第２環状部、及び前記第３環状部は、前記光学部材の光軸に沿って配列されることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の光学部材位置調整装置。
6. 前記第１環状部、前記第２環状部、及び前記第３環状部は、円筒状の部材の外側面と内側面とを連通するスリットによって区画され、
   前記第１の弾性ヒンジ部は、前記第１環状部と前記第２環状部との間に設けられた２つのスリットで挟まれた部分であり、前記第２の弾性ヒンジ部は、前記第２環状部と前記第３環状部との間に設けられた２つのスリットで挟まれた部分であることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の光学部材位置調整装置。
7. 前記第１環状部、前記第２環状部、及び前記第３環状部は、前記光学部材の光軸を中心として同心円状に配列されることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の光学部材位置調整装置。
8. 前記第１環状部、前記第２環状部、及び前記第３環状部は、円筒状の部材の一端面と他端面とを連通する複数のスリットによって区画され、
   前記第１の弾性ヒンジ部は、前記第１環状部と前記第２環状部との間に設けられた２つのスリットで挟まれた部分であり、前記第２の弾性ヒンジ部は、前記第２環状部と前記第３環状部との間に設けられた２つのスリットで挟まれた部分であることを特徴とする請求項１から請求項４及び請求項７のいずれか一項に記載の光学部材位置調整装置。
9. 第１面のパターンの像を第２面に形成する投影光学系において、
   光軸に沿って配列された複数の光学部材と、
   前記複数の光学部材のうちの調整対象の光学部材を支持するための請求項１〜８のいずれか一項に記載の光学部材位置調整装置と、
   前記光学部材位置調整装置の前記第３環状部又は前記第２環状部が固定される鏡筒と、
   を備えることを特徴とする投影光学系。
10. 第１面のパターンの像を第２面に形成する投影光学系において、
    光軸に沿って配列された複数の光学部材と、
    前記複数の光学部材のうちの調整対象の第１の光学部材を支持するための請求項５又は請求項６に記載の第１の光学部材位置調整装置と、
    前記複数の光学部材のうちの調整対象の第２の光学部材を支持するための請求項７又は請求項８に記載の第２の光学部材位置調整装置と、
    前記第１及び第２の光学部材位置調整装置の前記第３環状部が固定される鏡筒と、
    を備えることを特徴とする投影光学系。
11. 第１面のパターンの像を第２面に形成する投影光学系において、
    前記第１面と前記第２面との間に順に、かつ前記第２面に沿って配列されて、それぞれ中間像を形成する第１及び第２の反射屈折光学系と、
    前記第１の反射屈折光学系内の第１の光学部材を支持するための請求項５又は請求項６に記載の第１の光学部材位置調整装置と、
    前記第１の反射屈折光学系内の第２の光学部材を支持するための請求項７又は請求項８に記載の第２の光学部材位置調整装置と、
    前記第２の反射屈折光学系内の第３の光学部材を支持するための請求項５又は請求項６に記載の第３の光学部材位置調整装置と、
    前記第２の反射屈折光学系内の第４の光学部材を支持するための請求項７又は請求項８に記載の第４の光学部材位置調整装置と、
    前記第１から第４の光学部材位置調整装置の前記第３環状部が固定される鏡筒と、
    を備えることを特徴とする投影光学系。
12. 第１面のパターンの像を第２面に形成する投影光学系において、
    請求項９から請求項１１のいずれか一項に記載の投影光学系よりなる複数の部分投影光学系を備えることを特徴とする投影光学系。
13. 投影光学系の調整方法であって、
    前記投影光学系は、請求項１０に記載の投影光学系であり、
    前記第１の光学部材位置調整装置を用いて前記第１の光学部材を調整して前記投影光学系の結像特性の粗調整を行い、
    前記第２の光学部材位置調整装置を用いて前記第２の光学部材を調整して前記結像特性の微調整を行うことを特徴とする投影光学系の調整方法。
14. 投影光学系の調整方法であって、
    前記投影光学系は、請求項１１に記載の投影光学系であり、
    前記投影光学系単体の調整時に前記第３及び第４の光学部材位置調整装置を用いて前記第２の反射屈折光学系の調整を行い、
    前記投影光学系を露光装置に組み込んだ状態で、前記第１及び第２の光学部材調整装置を用いて前記第１の反射屈折光学系の調整を行うことを特徴とする投影光学系の調整方法。
15. 露光光でマスクのパターンを介して基板を露光する露光装置において、
    前記マスクを移動するマスクステージと、
    請求項９から請求項１２のいずれか一項に記載の投影光学系と、
    前記基板を移動する基板ステージと、を備えることを特徴とする露光装置。
16. 前記投影光学系に対して前記マスクステージ及び前記基板ステージを走査方向に同期移動することを特徴とする請求項１５に記載の露光装置。
17. 請求項１５又は請求項１６に記載の露光装置を用いて感光性基板を露光することと、
    前記露光された感光性基板を処理することと、を含むデバイス製造方法。
    

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