JP5941287B2 - Heat dissipation sheet and manufacturing method thereof - Google Patents
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Description
本発明は発熱性電子部品等の発熱体とヒートシンク等の放熱冷却器の間に介在させる放熱シート及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a heat radiating sheet interposed between a heat generating element such as a heat generating electronic component and a heat radiating cooler such as a heat sink, and a method for manufacturing the same.
近年、薄型テレビ、パーソナルコンピューター、デジタルカメラ、エレクトロルミネッセンス(LED)等の電子機器は高性能化が著しく、ますます小さい搭載面積下に多数の発熱性電子部品が高密度に組み込まれるようになってきている。それに伴い、放熱部材も薄くて高い熱伝導性の要求がある。従来、基板上に実装された発熱性電子部品等の放熱冷却構造の一部に用いられる熱伝導性シートには、下記に示す低硬度型の熱伝導性シートが提案されている。
(1)発熱性電子部品と放熱体との間に圧接された際に、熱伝導性シートの圧縮荷重を低く抑えることで、チップ及び放熱体の圧縮による変形、損傷を無くする。
(2)圧接面に凹凸が有る発熱性電子部品及び放熱体との間に圧接された際に、熱伝導性シートを軟質にすることで、十分に密着し伝熱面積を確保する。
(3)基板上に実装された高さの異なる複数個の発熱性電子部品と放熱体との間に圧接された際に、熱伝導性シートを軟質にすることで、高さの異なる複数個のチップ全てに十分に密着し、且つ発熱性電子部品及び放熱体の圧縮による変形、損傷を無くする。
In recent years, electronic devices such as flat-screen TVs, personal computers, digital cameras, and electroluminescence (LEDs) have been remarkably improved in performance, and a large number of heat-generating electronic components have been incorporated at a high density in an increasingly smaller mounting area. ing. Accordingly, there is a demand for a thin heat dissipation member and high thermal conductivity. Conventionally, as a heat conductive sheet used for a part of a heat radiation cooling structure such as a heat generating electronic component mounted on a substrate, the following low hardness type heat conductive sheet has been proposed.
(1) When pressed between the heat generating electronic component and the radiator, the compression load of the heat conductive sheet is kept low, thereby eliminating deformation and damage due to compression of the chip and the radiator.
(2) When the pressure contact surface is pressed between the heat-generating electronic component and the heat radiating member, the heat conductive sheet is softened to sufficiently adhere to ensure a heat transfer area.
(3) When a plurality of heat-generating electronic components with different heights mounted on a substrate and a heat-dissipating member are pressed against each other, the heat-conductive sheet is softened to make a plurality of different heights. It adheres well to all of the chips, and eliminates deformation and damage due to compression of the heat-generating electronic components and the radiator.
熱伝導性充填剤を配合したシリコーンゴムシートの表面タック性(粘着性)を低減させる提案は、特許文献1〜3等がある。表面タック性(粘着性)が高いと、埃の付着、パーツフィーダでの粘着による故障、リペアー不良などが生じ易い。特許文献1にはシリコーンゴムの表面にシリコーンゴムの硬化剤を転写法により貼り付け、加熱硬化することにより、シリコーンゴムの表層のみをより高く硬化させる提案がされている。特許文献2〜3にはシリコーンゴムの表層に、より硬度の高いシリコーン層を積層することが提案されている。 Patent Documents 1 to 3 and the like are proposals for reducing the surface tackiness (adhesiveness) of a silicone rubber sheet containing a thermally conductive filler. If the surface tackiness (adhesiveness) is high, dust adhesion, failure due to adhesion on the parts feeder, repair failure, etc. are likely to occur. Patent Document 1 proposes that a silicone rubber curing agent is attached to the surface of a silicone rubber by a transfer method and is cured by heating, whereby only the surface layer of the silicone rubber is cured to a higher degree. Patent Documents 2 to 3 propose that a silicone layer having higher hardness is laminated on the surface layer of silicone rubber.
しかし、特許文献1は表面に転写した硬化剤がシリコーンゴム内部にまで拡散し、シリコーンゴム内部まで硬くなってしまう問題があった。特許文献2〜3は複数層のシリコーンゴムを積層するため、全体として層の厚さを薄くできないという問題があった。 However, Patent Document 1 has a problem that the curing agent transferred to the surface diffuses into the silicone rubber and hardens into the silicone rubber. In Patent Documents 2 and 3, since a plurality of layers of silicone rubber are laminated, there is a problem in that the thickness of the layers cannot be reduced as a whole.
本発明は、前記従来の問題を解決するため、厚みを薄くしてもシリコーンゴム層の柔軟性は変らず、シリコーンゴムシートの表面タック性(粘着性)を低減させることができる放熱シート及びその製造方法を提供する。 In order to solve the above-described conventional problems, the present invention does not change the flexibility of the silicone rubber layer even if the thickness is reduced, and the heat dissipation sheet that can reduce the surface tackiness (adhesiveness) of the silicone rubber sheet and its A manufacturing method is provided.
本発明の放熱シートは、内層がシリコーンゴム層であり、前記シリコーンゴム層の少なくとも一表面には非粘着層が配置されている放熱シートであって、前記非粘着層は溶媒可溶型樹脂を含む薄膜であり、厚みは1μm以上10μm未満の範囲であり、前記内層シリコーンゴム層の表面タック性を低減させていることを特徴とする。
The heat dissipating sheet of the present invention is a heat dissipating sheet in which the inner layer is a silicone rubber layer, and a non-adhesive layer is disposed on at least one surface of the silicone rubber layer, and the non-adhesive layer comprises a solvent -soluble resin. a thin film containing a range of less than the thickness Hiroyoshi 1μm or 10 [mu] m, characterized in that it reduces the surface tackiness of the inner silicone rubber layer.
本発明の放熱シートの製造方法は、内層がシリコーンゴム層であり、前記シリコーンゴム層の少なくとも一表面は非粘着層が配置されている放熱シートの製造方法であって、基材フィルムに溶媒可溶型樹脂を含む薄膜を形成しておき、前記薄膜を未硬化シリコーンゴム層の少なくとも一表面に向けて基材フィルムごと配置し、片面配置の場合は他の表面に保護フィルムを配置し、少なくとも一対のロール間を通すことにより圧延し、その後加熱して前記未硬化シリコーンゴム層を硬化することにより、シリコーンゴム層の少なくとも一表面に前記薄膜を転写し、前記シリコーンゴム層の表面タック性を低減させたことを特徴とする。
The method for manufacturing a heat dissipation sheet according to the present invention is a method for manufacturing a heat dissipation sheet in which an inner layer is a silicone rubber layer, and at least one surface of the silicone rubber layer is provided with a non-adhesive layer, and the base film can be made of a solvent. Forming a thin film containing a melt-type resin, placing the thin film together with the base film toward at least one surface of the uncured silicone rubber layer, and in the case of single-sided arrangement, arranging a protective film on the other surface, Rolling by passing between a pair of rolls, and then heating to cure the uncured silicone rubber layer, the thin film is transferred to at least one surface of the silicone rubber layer, and the surface tackiness of the silicone rubber layer is increased. It is characterized by being reduced.
本発明は、放熱シートの非粘着層は、溶媒可溶型樹脂を含む薄膜を転写法で形成することにより、シリコーンゴム層の厚みを薄くしても柔軟性を変化させずにシリコーンゴムシートの表面タック性(粘着性)を低減させることができる。すなわち、シリコーンゴム層の硬度や他の物性に影響を与えずに、独立して表面のみタック性(粘着性)を低減させることができる。この結果、埃の付着、パーツフィーダにおける粘着による故障、リペアー不良などを改善できる。また本発明方法は、未硬化シリコーンゴム層に転写法により樹脂薄膜層を形成し、ロールで圧延し、加熱硬化することにより、本発明の放熱シートを効率よく製造できる。
In the present invention, the non-adhesive layer of the heat dissipation sheet is formed by forming a thin film containing a solvent -soluble resin by a transfer method, so that the flexibility of the silicone rubber sheet is not changed even if the thickness of the silicone rubber layer is reduced. Surface tackiness (adhesiveness) can be reduced. That is, the tackiness (adhesiveness) can be reduced only on the surface independently without affecting the hardness and other physical properties of the silicone rubber layer. As a result, it is possible to improve dust adhesion, failure due to adhesion in the parts feeder, repair failure, and the like. The method of the present invention can efficiently produce the heat-dissipating sheet of the present invention by forming a resin thin film layer on an uncured silicone rubber layer by a transfer method, rolling with a roll, and heat-curing.
(1)非粘着層
本発明において、非粘着層である溶媒可溶型樹脂を含む薄膜は、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂、尿素系樹脂、ポリウレタン系樹脂、セルロース系樹脂、スチレンーマレイン酸系樹脂、スチレンーアクリル系樹脂、塩素化ポリオレフィン系樹脂、塩酢ビ系樹脂などを使用できる。中でもポリエステル樹脂は薄膜形成性が良好であることから好ましい。
(1) Non-adhesive layer In the present invention, the thin film containing a solvent -soluble resin that is a non-adhesive layer is a polyester resin, an acrylic resin, a melamine resin, a phenol resin, a urea resin, a polyurethane resin, or cellulose. Resin, styrene-maleic acid resin, styrene-acrylic resin, chlorinated polyolefin resin, vinyl chloride resin, and the like can be used. Of these, polyester resins are preferred because of their good thin film forming properties.
ポリエステル樹脂としては熱硬化性樹脂を使用できる。熱可塑性ポリエステル樹脂は、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、アジピン酸、セバシン酸などの二塩基酸と、エチレングリコール、1,3-トリメチレングリコール、1,4-テトラメチレングリコールなどのグリコールと、トリメシン酸、グリセリンなどの多官能成分をエステル化及び重縮合反応して得られる。別の例はL−ラクチドと、DL−ラクチドと、カプロラクトンと、重合度が2〜20程度のポリグリセリンと、開環重合触媒としてオクチル酸スズを使用してまず加熱開環反応させ、その後、減圧下で重縮合することにより得られる。これらのポリエステル樹脂は酢酸エチル、トルエン、メチルエチルケトン(MEK)などの溶媒に溶解して基材フィルムにコーティングし、乾燥する。 A thermosetting resin can be used as the polyester resin. Thermoplastic polyester resins include dibasic acids such as terephthalic acid, isophthalic acid, adipic acid, and sebacic acid, glycols such as ethylene glycol, 1,3-trimethylene glycol, and 1,4-tetramethylene glycol, and trimesic acid. It is obtained by esterification and polycondensation reaction of polyfunctional components such as glycerin. Another example is L-lactide, DL-lactide, caprolactone, polyglycerin having a degree of polymerization of about 2 to 20 and tin octylate as a ring-opening polymerization catalyst, followed by heat-opening reaction, It can be obtained by polycondensation under reduced pressure. These polyester resins are dissolved in a solvent such as ethyl acetate, toluene, methyl ethyl ketone (MEK), coated on a base film, and dried.
基材フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、ポリプロピレン(PP)フィルムなどを使用できる。基材フィルムへのコーティング方法は、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、コンマコーター、バーコーター、エアドクターコーターなどの塗工機を用いた一般的なコーティング方法が挙げられる。 As the base film, a polyethylene terephthalate (PET) film, a polypropylene (PP) film, or the like can be used. Examples of the coating method on the base film include a general coating method using a coating machine such as a reverse roll coater, a gravure coater, a micro gravure coater, a comma coater, a bar coater, and an air doctor coater.
非粘着層の厚みは1μm以上10μm未満の範囲が好ましい。この範囲の厚さであれば、内部のシンコーンゴム層の柔軟性を損なわずに好ましい表面タック性を付与できる。 The thickness of the non-adhesive layer is preferably in the range of 1 μm or more and less than 10 μm. If it is the thickness of this range, the preferable surface tack property can be provided, without impairing the softness | flexibility of an internal thin cone rubber layer.
基材フィルムに非粘着層を形成する前に、離型層を形成しておいてもよい。離型層は例えばカルナバワックス、カスターワックス、キャンデリアワックス、モンタンワックスなどの植物系ワックス、蜜蝋などの動物系ワックス、天然パラフィンなどの炭化水素系ワックス、ステアリン酸などの脂肪酸系ワックス類、ステアリン酸アミド、パルミチン酸アミド、メチレンビスステアロアミド、エチレンビスステアロアミド、オレイン酸アミド、エシル酸アミドなどの脂肪酸アミド系ワックス、脂肪酸の低級アルコールエステル、脂肪酸の多価アルコールエステル、脂肪酸ポリグリコールエステルなどのエステル系ワックス、セチルアルコール、ステアリルアルコールなどの高級アルコール系ワックス、炭素数12〜30の脂肪酸から誘導される金属石鹸類などが挙げられる。離型層の膜厚は、0.01μm〜2.0μmが好ましく、さらに好ましくは0.1〜1.0μmである。離型層も非粘着層と同様の方法で形成できる。 A release layer may be formed before the non-adhesive layer is formed on the base film. The release layer includes, for example, plant waxes such as carnauba wax, caster wax, canderia wax, and montan wax, animal waxes such as beeswax, hydrocarbon waxes such as natural paraffin, fatty acid waxes such as stearic acid, stearic acid Fatty acid amide waxes such as amide, palmitic acid amide, methylene bisstearamide, ethylene bisstearamide, oleic acid amide, esylic acid amide, fatty acid lower alcohol ester, fatty acid polyhydric alcohol ester, fatty acid polyglycol ester, etc. Ester waxes, higher alcohol waxes such as cetyl alcohol and stearyl alcohol, and metal soaps derived from fatty acids having 12 to 30 carbon atoms. The thickness of the release layer is preferably 0.01 μm to 2.0 μm, more preferably 0.1 to 1.0 μm. The release layer can also be formed by the same method as the non-adhesive layer.
(2)シリコーンゴム原料
シリコーンゴム層は次の原料を使用するのが好ましい。
(a) 1分子中に平均2個以上のケイ素原子に結合したアルケニル基を含有するオルガノポリシロキサン:100質量部
(b) 1分子中に平均2個以上のケイ素原子に結合した水素原子を含有するオルガノポリシロキサン:(a)成分中のケイ素原子結合アルケニル基1モルに対して、ケイ素原子結合水素原子が0.1〜10モルとなる量
(c) 白金系金属触媒:(a)成分に対して質量単位で0.01〜1000ppmとなる量
(d) 熱伝導性粒子:シリコーンゴム成分100質量部に対して100〜3000質量部
(e) シリコーンゴム成分に対してさらにアルキルトリアルコキシシランを添加しても良い。
(2) Silicone rubber raw material It is preferable to use the following raw materials for the silicone rubber layer.
(a) Organopolysiloxane containing an alkenyl group bonded to two or more silicon atoms on average in one molecule: 100 parts by mass
(b) Organopolysiloxane containing hydrogen atoms bonded to two or more silicon atoms on average in one molecule: 0 moles of silicon-bonded hydrogen atoms per mole of silicon-bonded alkenyl groups in component (a) .1 to 10 mol
(c) Platinum-based metal catalyst: an amount that is 0.01 to 1000 ppm by mass with respect to component (a)
(d) Thermally conductive particles: 100 to 3000 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the silicone rubber component
(e) An alkyltrialkoxysilane may be further added to the silicone rubber component.
(a)アルケニル基含有オルガノポリシロキサン
本発明の(a)成分は、一分子中にケイ素原子に結合したアルケニル基を2個以上含有するオルガノポリシロキサンであり、アルケニル基を2個含有するオルガノポリシロキサンは本発明のシリコーンゴム組成物における主剤(ベースポリマー成分)である。このオルガノポリシロキサンは、アルケニル基として、ビニル基、アリル基等の炭素原子数2〜8、特に2〜6の、ケイ素原子に結合したアルケニル基を一分子中に2個有する。粘度は25℃で10〜1000000mPa・s、特に100〜100000mPa・sであることが作業性、硬化性などから望ましい。
(A) Alkenyl group-containing organopolysiloxane The component (a) of the present invention is an organopolysiloxane containing two or more alkenyl groups bonded to silicon atoms in one molecule, and an organopolysiloxane containing two alkenyl groups. Siloxane is the main agent (base polymer component) in the silicone rubber composition of the present invention. This organopolysiloxane has, as an alkenyl group, two alkenyl groups bonded to a silicon atom having 2 to 8 carbon atoms, particularly 2 to 6 carbon atoms, such as vinyl group and allyl group, in one molecule. The viscosity is preferably 10 to 100000 mPa · s, particularly 100 to 100000 mPa · s at 25 ° C. from the viewpoint of workability and curability.
具体的には、下記一般式(化1)で表される分子鎖両末端のケイ素原子上にそれぞれ1個のアルケニル基を有する主鎖がアルケニル基を有さないジオルガノシロキサン単位の繰り返しからなり、分子鎖両末端がトリオルガノシロキシ基で封鎖された直鎖状オルガノポリシロキサンであって、上記の通り25℃における粘度が10〜1000000mPa・sのものが作業性、硬化性などから望ましい。なお、この直鎖状オルガノポリシロキサンは少量の分岐状構造(三官能性シロキサン単位)を分子鎖中に含有するものであってもよい。 Specifically, the main chain having one alkenyl group on each silicon atom at both ends of the molecular chain represented by the following general formula (Formula 1) is composed of repeating diorganosiloxane units having no alkenyl group. A linear organopolysiloxane having both molecular chain ends blocked with a triorganosiloxy group and having a viscosity of 10 to 100000 mPa · s at 25 ° C. is preferable from the viewpoint of workability and curability. The linear organopolysiloxane may contain a small amount of a branched structure (trifunctional siloxane unit) in the molecular chain.
式中、R1は互いに同一又は異種の脂肪族不飽和結合を有さない非置換又は置換一価炭化水素基であり、R2はアルケニル基であり、kは0又は正の整数である。 In the formula, R 1 is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group not having the same or different aliphatic unsaturated bond, R 2 is an alkenyl group, and k is 0 or a positive integer.
ここで、R1の脂肪族不飽和結合を有さない非置換又は置換の一価炭化水素基としては、例えば、炭素原子数1〜10、特に1〜6のものが好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等のアルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等のアラルキル基、並びに、これらの基の水素原子の一部又は全部をフッ素、臭素、塩素等のハロゲン原子、シアノ基等で置換したもの、例えばクロロメチル基、クロロプロピル基、ブロモエチル基、トリフロロプロピル基等のハロゲン置換アルキル基、シアノエチル基等が挙げられる。R2のアルケニル基としては、例えば炭素原子数2〜6、特に2〜3のものが好ましく、具体的にはビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、ヘキセニル基、シクロヘキセニル基等が挙げられ、好ましくはビニル基である。 Here, as the unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having no aliphatic unsaturated bond of R 1 , for example, those having 1 to 10 carbon atoms, particularly 1 to 6 carbon atoms are preferable, specifically Alkyl group such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, neopentyl group, hexyl group, cyclohexyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, phenyl Group, tolyl group, xylyl group, aryl group such as naphthyl group, aralkyl group such as benzyl group, phenylethyl group, phenylpropyl group, and part or all of hydrogen atoms of these groups are fluorine, bromine, chlorine, etc. Substituted with a halogen atom, a cyano group, etc., such as a halogen atom such as chloromethyl group, chloropropyl group, bromoethyl group, trifluoropropyl group, etc. Alkyl group, cyanoethyl group and the like. As the alkenyl group for R 2 , for example, an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, particularly 2 to 3 carbon atoms is preferable, and specifically, a vinyl group, allyl group, propenyl group, isopropenyl group, butenyl group, isobutenyl group, hexenyl group. And a cyclohexenyl group, and a vinyl group is preferable.
一般式(1)において、kは、一般的には0≦k≦10000を満足する0又は正の整数であり、好ましくは5≦k≦2000、より好ましくは10≦k≦1200を満足する整数である。 In general formula (1), k is generally 0 or a positive integer that satisfies 0 ≦ k ≦ 10000, preferably 5 ≦ k ≦ 2000, more preferably 10 ≦ k ≦ 1200. It is.
(a)成分のオルガノポリシロキサンとしては一分子中に例えばビニル基、アリル基等の炭素原子数2〜8、特に2〜6のケイ素原子に結合したアルケニル基を3個以上、通常、3〜30個、好ましくは、3〜20個程度有するオルガノポリシロキサンを併用しても良い。分子構造は直鎖状、環状、分岐状、三次元網状のいずれの分子構造のものであってもよい。好ましくは、主鎖がジオルガノシロキサン単位の繰り返しからなり、分子鎖両末端がトリオルガノシロキシ基で封鎖された、25℃での粘度が10〜1000000mPa・s、特に100〜100000mPa・sの直鎖状オルガノポリシロキサンである。 As the organopolysiloxane of component (a), for example, 3 or more alkenyl groups bonded to silicon atoms having 2 to 8 carbon atoms, particularly 2 to 6 carbon atoms such as vinyl groups and allyl groups in one molecule, usually 3 to You may use together the organopolysiloxane which has 30 pieces, Preferably about 3-20 pieces. The molecular structure may be any of linear, cyclic, branched, and three-dimensional network structures. Preferably, the main chain is composed of repeating diorganosiloxane units, both ends of the molecular chain are blocked with triorganosiloxy groups, and the viscosity at 25 ° C. is 10 to 100000 mPa · s, particularly 100 to 100,000 mPa · s. An organopolysiloxane.
アルケニル基は分子鎖末端のケイ素原子に結合していても、分子鎖非末端(分子鎖途中)のケイ素原子に結合していても、これら両方のタイプのアルケニル基が一分子中に混在していてもよい。なかでも下記一般式(化2)で表される分子鎖両末端のケイ素原子上にそれぞれ1〜3個のアルケニル基を有し(但し、この分子鎖末端のケイ素原子に結合したアルケニル基が、両末端合計で3個未満である場合には、分子鎖非末端(分子鎖途中)のケイ素原子に結合したアルケニル基を、(例えばジオルガノシロキサン単位中の置換基として)、少なくとも1個有する直鎖状オルガノポリシロキサンであって、上記でも述べた通り25℃における粘度が10〜1,000,000mPa・sのものが作業性、硬化性などから望ましい。なお、この直鎖状オルガノポリシロキサンは少量の分岐状構造(三官能性シロキサン単位)を分子鎖中に含有するものであってもよい。 Even if the alkenyl group is bonded to the silicon atom at the end of the molecular chain or bonded to the silicon atom at the non-end of the molecular chain (in the middle of the molecular chain), both types of alkenyl groups are mixed in one molecule. May be. Among them, each having 1 to 3 alkenyl groups on the silicon atoms at both ends of the molecular chain represented by the following general formula (Chemical Formula 2) (provided that the alkenyl group bonded to the silicon atom at the molecular chain end is When the total number of both ends is less than 3, the alkenyl group bonded to the silicon atom at the non-end of the molecular chain (in the middle of the molecular chain) (for example, as a substituent in the diorganosiloxane unit) has at least one As described above, a linear organopolysiloxane having a viscosity of 10 to 1,000,000 mPa · s at 25 ° C. is desirable from the viewpoint of workability, curability, etc. Note that this linear organopolysiloxane has a small amount of branching. It may also contain a structure (trifunctional siloxane unit) in the molecular chain.
式中、R3は互いに同一又は異種の非置換又は置換一価炭化水素基であって、少なくとも1個がアルケニル基である。R4は互いに同一又は異種の脂肪族不飽和結合を有さない非置換又は置換一価炭化水素基であり、R5はアルケニル基であり、l,mは0又は正の整数である。 In the formula, R 3 is the same or different unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, and at least one is an alkenyl group. R 4 is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group which does not have the same or different aliphatic unsaturated bond, R 5 is an alkenyl group, and l and m are 0 or a positive integer.
ここで、R3の一価炭化水素基としては、炭素原子数1〜10、特に1〜6のものが好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等のアルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等のアラルキル基、ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基、シクロヘキセニル基、オクテニル基等のアルケニル基や、これらの基の水素原子の一部又は全部をフッ素、臭素、塩素等のハロゲン原子、シアノ基等で置換したもの、例えばクロロメチル基、クロロプロピル基、ブロモエチル基、トリフロロプロピル基等のハロゲン置換アルキル基やシアノエチル基等が挙げられる。 Here, as the monovalent hydrocarbon group of R 3 , those having 1 to 10 carbon atoms, particularly 1 to 6 carbon atoms are preferable, and specifically, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, Alkyl group such as isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, neopentyl group, hexyl group, cyclohexyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, aryl group such as phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group, benzyl Group, aralkyl group such as phenylethyl group, phenylpropyl group, etc., alkenyl group such as vinyl group, allyl group, propenyl group, isopropenyl group, butenyl group, hexenyl group, cyclohexenyl group, octenyl group, and hydrogen of these groups Some or all of the atoms are substituted with halogen atoms such as fluorine, bromine and chlorine, cyano groups, etc., for example, chloromethyl , Chloropropyl group, bromoethyl group, and a halogen-substituted alkyl group or cyanoethyl group such trifluoropropyl group.
また、R4の一価炭化水素基としても、炭素原子数1〜10、特に1〜6のものが好ましく、上記R1の具体例と同様のものが例示できるが、但しアルケニル基は含まない。 Also, as the monovalent hydrocarbon group for R 4 , those having 1 to 10 carbon atoms, particularly 1 to 6 carbon atoms are preferable, and the same examples as the specific examples of R 1 can be exemplified, but an alkenyl group is not included. .
R5のアルケニル基としては、例えば炭素数2〜6、特に炭素数2〜3のものが好ましく、具体的には前記式(化1)のR2と同じものが例示され、好ましくはビニル基である。 As the alkenyl group for R 5 , for example, those having 2 to 6 carbon atoms, particularly those having 2 to 3 carbon atoms are preferable, and specifically the same as R 2 in the above formula (Chemical Formula 1) are exemplified, preferably vinyl group It is.
l,mは、一般的には0<l+m≦10000を満足する0又は正の整数であり、好ましくは5≦l+m≦2000、より好ましくは10≦l+m≦1200で、かつ0<l/(l+m)≦0.2、好ましくは、0.0011≦l/(l+m)≦0.1を満足する整数である。 l and m are generally 0 or a positive integer satisfying 0 <l + m ≦ 10000, preferably 5 ≦ l + m ≦ 2000, more preferably 10 ≦ l + m ≦ 1200, and 0 <l / (l + m ) ≦ 0.2, preferably an integer satisfying 0.0011 ≦ l / (l + m) ≦ 0.1.
(b)オルガノハイドロジェンポリシロキサン
本発明の(b)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンは架橋剤として作用するものであり、この成分中のSiH基と(a)成分中のアルケニル基とが付加反応(ヒドロシリル化)することにより硬化物を形成するものである。かかるオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、一分子中にケイ素原子に結合した水素原子(即ち、SiH基)を2個以上有するものであればいずれのものでもよく、このオルガノハイドロジェンポリシロキサンの分子構造は、直鎖状、環状、分岐状、三次元網状構造のいずれであってもよいが、一分子中のケイ素原子の数(即ち、重合度)は2〜1000、特に2〜300程度のものを使用することができる。
(B) Organohydrogenpolysiloxane The organohydrogenpolysiloxane of component (b) of the present invention acts as a cross-linking agent, and the SiH group in this component and the alkenyl group in component (a) undergo an addition reaction. A cured product is formed by (hydrosilylation). The organohydrogenpolysiloxane may be any organohydrogenpolysiloxane as long as it has two or more hydrogen atoms (that is, SiH groups) bonded to silicon atoms in one molecule. Any of linear, cyclic, branched, and three-dimensional network structures may be used, but the number of silicon atoms in one molecule (that is, the degree of polymerization) is about 2 to 1000, particularly about 2 to 300. Can be used.
水素原子が結合するケイ素原子の位置は特に制約はなく、分子鎖の末端でも非末端(途中)でもよい。また、水素原子以外のケイ素原子に結合した有機基としては、前記一般式(化1)のR1と同様の脂肪族不飽和結合を有さない非置換又は置換一価炭化水素基が挙げられる。 The position of the silicon atom to which the hydrogen atom is bonded is not particularly limited, and may be at the end of the molecular chain or at the non-terminal (midway). The organic groups bonded to silicon atoms other than hydrogen atom, a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group that does not have the same aliphatic unsaturation and R 1 in the general formula (Formula 1) .
(b)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンとしては下記構造のハイドロジェンオルガノシロキサンが例示できる。 Examples of the organohydrogenpolysiloxane of component (b) include hydrogenorganosiloxanes having the following structure.
上記の式中、Phはフェニル基、エポキシ基、アクリロイル基、メタアクリロイル基、アルコキシ基の少なくとも1種を含む有機基である。Lは0〜1,000の整数、特には0〜300の整数であり、Mは1〜200の整数である。) In the above formula, Ph is an organic group containing at least one of a phenyl group, an epoxy group, an acryloyl group, a methacryloyl group, and an alkoxy group. L is an integer of 0 to 1,000, particularly an integer of 0 to 300, and M is an integer of 1 to 200. )
このようなオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、周知の方法により、例えば、R5SiHCl2、(R5)3SiCl、(R5)2SiCl2、(R5)2SiHCl(式中、R5は、メチル基、エチル基等のアルキル基又はフェニル基等のアリール基である)のようなクロロシランを加水分解縮合するか、加水分解して得られたシロキサンを平衡化することにより得ることができる。 Such an organohydrogenpolysiloxane can be obtained by a known method, for example, R 5 SiHCl 2 , (R 5 ) 3 SiCl, (R 5 ) 2 SiCl 2 , (R 5 ) 2 SiHCl (wherein R 5 is A chlorosilane such as a methyl group, an alkyl group such as an ethyl group, or an aryl group such as a phenyl group, or by equilibrating a siloxane obtained by hydrolysis.
(c)白金族金属系触媒
本発明の(c)成分の白金族金属系触媒は、本発明の組成物に付加硬化反応を生じさせるために配合されるものであり、所謂ヒドロシリル化反応の触媒として公知であるものはいずれも使用することができる。この触媒としては、白金系、パラジウム系、ロジウム系のものがあるが、コスト等の見地から白金、白金黒、塩化白金酸などの白金系のもの、例えば、H2PtCl6・mH2O,K2PtCl6,KHPtCl6・mH2O,K2PtCl4,K2PtCl4・mH2O,PtO2・mH2O(mは、正の整数)等の白金化合物、これらの白金化合物とオレフィン等の炭化水素、アルコール又はビニル基含有オルガノポリシロキサンとの錯体等を例示することができる。これらは一種単独でも2種以上の組み合わせでも使用することができる。
(C) Platinum group metal-based catalyst The platinum group metal-based catalyst of component (c) of the present invention is blended to cause an addition curing reaction in the composition of the present invention, and is a so-called hydrosilylation catalyst. Any of those known as can be used. Examples of the catalyst include platinum-based, palladium-based, and rhodium-based catalysts. From the viewpoint of cost and the like, platinum-based catalysts such as platinum, platinum black, and chloroplatinic acid such as H 2 PtCl 6 · mH 2 O, Platinum compounds such as K 2 PtCl 6 , KHPtCl 6 · mH 2 O, K 2 PtCl 4 , K 2 PtCl 4 · mH 2 O, PtO 2 · mH 2 O (m is a positive integer), and these platinum compounds Examples thereof include hydrocarbons such as olefins, alcohols, and complexes with vinyl group-containing organopolysiloxanes. These can be used alone or in combination of two or more.
(d)熱伝導性粒子
本発明の(d)成分は、シリコーンゴム層100質量部に対して、100〜3000質量部添加するのが好ましい。これにより放熱シートの熱伝導率を0.3〜20W/mKの範囲とすることができる。熱伝導粒子としては、アルミナ,酸化亜鉛,酸化マグネシウム及びシリカから選ばれる少なくとも一つであることが好ましい。形状は球状,鱗片状,多面体状等様々なものを使用できる。熱伝導性粒子の比表面積は0.06〜20m2/gの範囲が好ましい。比表面積はBET比表面積であり、測定方法はJIS R1626にしたがう。平均粒子径を用いる場合は、0.1〜50μmの範囲が好ましい。粒子径の測定はレーザー回折光散乱法により、50%粒子径を測定する。この測定器は例えば堀場製作所製社製のレーザー回折/散乱式粒子分布測定装置LA−950S2がある。
(D) Thermally conductive particles The component (d) of the present invention is preferably added in an amount of 100 to 3000 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the silicone rubber layer. Thereby, the heat conductivity of a thermal radiation sheet can be made into the range of 0.3-20 W / mK. The heat conductive particles are preferably at least one selected from alumina, zinc oxide, magnesium oxide and silica. Various shapes such as a spherical shape, a scale shape, and a polyhedral shape can be used. The specific surface area of the heat conductive particles is preferably in the range of 0.06 to 20 m 2 / g. The specific surface area is a BET specific surface area, and the measuring method is in accordance with JIS R1626. When using an average particle diameter, the range of 0.1-50 micrometers is preferable. The particle diameter is measured by 50% particle diameter by a laser diffraction light scattering method. An example of this measuring instrument is a laser diffraction / scattering particle distribution measuring apparatus LA-950S2 manufactured by Horiba.
熱伝導性無機粉体はR(CH3)aSi(OR’)3-a(Rは炭素数6〜20の非置換または置換有機基、R’は炭素数1〜4のアルキル基、aは0もしくは1)のシラン、もしくはその部分加水分解物で表面処理しても良い。R(CH3)aSi(OR’)3-a(Rは炭素数6〜20の非置換または置換有機基、R’は炭素数1〜4のアルキル基、aは0もしくは1)で示されるシラン化合物(以下単に「シラン」という。)は、一例としてヘキシルトリメトキシラン,ヘキシルトリエトキシシラン,オクチルトリメトキシシラン,オクチルトリエトキシラン,デシルトリメトキシシラン,デシルトリエトキシシラン,ドデシルトリメトキシシラン,ドデシルトリエトキシシラン,ヘキサドデシルトリメトキシシラン,ヘキサドデシルトリエトキシシシラン,オクタデシルトリメトキシシラン,オクタデシルトリエトキシシシラン等がある。前記シラン化合物は、一種又は二種以上混合して使用することができる。ここでいう表面処理とは共有結合のほか吸着なども含む。 The thermally conductive inorganic powder is R (CH 3 ) a Si (OR ′) 3-a (R is an unsubstituted or substituted organic group having 6 to 20 carbon atoms, R ′ is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a May be surface-treated with 0 or 1) silane, or a partial hydrolyzate thereof. R (CH 3 ) a Si (OR ′) 3-a (wherein R is an unsubstituted or substituted organic group having 6 to 20 carbon atoms, R ′ is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a is 0 or 1) Examples of silane compounds (hereinafter simply referred to as “silane”) include hexyltrimethoxysilane, hexyltriethoxysilane, octyltrimethoxysilane, octyltriethoxysilane, decyltrimethoxysilane, decyltriethoxysilane, and dodecyltrimethoxysilane. , Dodecyltriethoxysilane, hexadodecyltrimethoxysilane, hexadodecyltriethoxysilane, octadecyltrimethoxysilane, octadecyltriethoxysilane. The said silane compound can be used 1 type or in mixture of 2 or more types. Surface treatment here includes adsorption in addition to covalent bonds.
(e)その他の成分
本発明の組成物には、必要に応じて(a)〜(d)成分以外の成分を配合することができる。例えばベンガラなどの無機顔料、フィラーの表面処理等の目的でアルキルトリアルコキシシランなどを添加してもよい。
(e) Other components Components other than the components (a) to (d) can be blended in the composition of the present invention as necessary. For example, an inorganic trial pigment such as Bengala, an alkyltrialkoxysilane or the like may be added for the purpose of surface treatment of the filler.
(3)シリコーンゴム原料のシート成形
前記(a)〜(d)成分、場合によりこれに(e)成分を加えて混合し、未硬化シリコーンゴムコンパウンドとし、シート状に成形する。シート成形は2枚の保護フィルム間で圧延することにより行う。保護フィルムは例えばPETフィルム、PPフィルムなどを使用する。未硬化シリコーンゴムのシート成形後、一枚は前記非粘着層を形成した基材フィルムを使用し、もう一枚はPETフィルム、PPフィルムなどの保護フィルムを使用して圧延する。これにより1面が非粘着面のシリコーンゴムが得られる。2面とも非粘着面にするには2枚とも前記非粘着層を形成した基材フィルムを使用して圧延する。この際に、非粘着層を未硬化シリコーンゴムコンパウンド面に向けて配置する。圧延は、少なくとも一対のロール間を通すことにより行う。
(3) Sheet molding of silicone rubber raw material The above components (a) to (d), and optionally (e) component, are added and mixed to form an uncured silicone rubber compound and molded into a sheet. Sheet molding is performed by rolling between two protective films. For example, a PET film or a PP film is used as the protective film. After the uncured silicone rubber sheet is formed, one sheet is rolled using a base film on which the non-adhesive layer is formed, and the other sheet is rolled using a protective film such as a PET film or a PP film. Thereby, a silicone rubber having a non-adhesive surface is obtained. In order to make both surfaces non-adhesive, both are rolled using the base film on which the non-adhesive layer is formed. At this time, the non-adhesive layer is disposed toward the uncured silicone rubber compound surface. Rolling is performed by passing between at least a pair of rolls.
補強層を入れる場合は、未硬化シリコーンゴムコンパウンドシート成形時に挿入する。補強層は、リコーンゴム層の片面表層部であってかつ非粘着層の下に埋設する。補強層はシート状又は網目状のものを使用できる。例えば合成繊維及び天然繊維から選ばれる少なくとも一つの繊維を用いた網目状構造体、ネット、布帛などが好ましい。合成繊維としては、ポリエステル繊維、耐熱ナイロン繊維、アラミド繊維、ポリオレフィン繊維、ビニロン繊維等があり、天然繊維としては、木綿、麻繊維などを使用できる。 When a reinforcing layer is to be inserted, it is inserted during molding of the uncured silicone rubber compound sheet. The reinforcing layer is embedded on the one-side surface layer portion of the ricone rubber layer and below the non-adhesive layer. The reinforcing layer can be a sheet or a mesh. For example, a network structure, a net, a fabric, or the like using at least one fiber selected from synthetic fibers and natural fibers is preferable. Synthetic fibers include polyester fibers, heat resistant nylon fibers, aramid fibers, polyolefin fibers, vinylon fibers, and the like, and natural fibers such as cotton and hemp fibers can be used.
(4)シリコーンゴムシートの硬化
その後、加熱して前記未硬化シリコーンゴム層を硬化する。これにより、シリコーンゴム層の少なくとも一表面に前記非粘着層を転写し、シリコーンゴム層の表面タック性を低減させる。硬化のための加熱温度は20〜150℃、加熱硬化時間は5〜120分の範囲が好ましい。このようにして放熱シートを得る。放熱シートの好ましい厚みは0.1〜10mmの範囲であり、0.5〜5mmの範囲がより好ましい。
(4) Curing of silicone rubber sheet Thereafter, the uncured silicone rubber layer is cured by heating. Thereby, the said non-adhesion layer is transcribe | transferred to at least one surface of a silicone rubber layer, and the surface tack property of a silicone rubber layer is reduced. The heating temperature for curing is preferably 20 to 150 ° C., and the heating and curing time is preferably in the range of 5 to 120 minutes. In this way, a heat dissipation sheet is obtained. The preferable thickness of the heat dissipation sheet is in the range of 0.1 to 10 mm, and more preferably in the range of 0.5 to 5 mm.
次に図面を用いて説明する。図1A-Dは本発明の一実施例における放熱シートの製造工程を示す模式的断面図である。図1Aは基材フィルム1の表面に離型層2と非粘着層3がこの順番に形成された転写シート4である。図1Bは保護フィルム5の表面に未硬化のシリコーンゴム層6が形成されており、未硬化のシリコーンゴム層6の表面に非粘着層3を向けて転写シート4を押し付ける状態を示している。図1Cはシリコーンゴム層6の表面に転写シート4をロール加圧し、その後に加熱処理することによりシリコーンゴム層6を硬化させた状態を示している。非粘着層3はシリコーンゴム層6に転写されている。熱伝導性シリコーンゴム製品はこの状態とすることもできし、保護フィルム5及び又は基材フィルム1を貼り替えても良い。図1Dは保護フィルム5及び基材フィルム1を剥いだ状態を示している。7aは放熱シートである。この状態で両面に保護シートを貼り付けて製品とすることができる。図1Eはシリコーンゴム層6の上下面に転写シート4を配置し、保護フィルム5を剥いだ状態を示している。離型層2は基材フィルムとともに除去してもよいし、非粘着層3に残っていてもよい。7bは放熱シートである。この状態で両面に保護シートを貼り付けて製品とすることもできる。
Next, it demonstrates using drawing. 1A to 1D are schematic cross-sectional views showing a manufacturing process of a heat dissipation sheet in one embodiment of the present invention. FIG. 1A shows a transfer sheet 4 in which a release layer 2 and a non-adhesive layer 3 are formed in this order on the surface of a base film 1. FIG. 1B shows a state where an uncured
図2は本発明の別の実施例における補強層入り放熱シートの模式的断面図である。シリコーンゴム層6の片面表層部であってかつ非粘着層3の下に、さらにシート状又は網目状の補強層8を埋設した例である。9は補強層入り放熱シートである。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a heat-dissipating sheet with a reinforcing layer in another embodiment of the present invention. This is an example in which a sheet-like or mesh-like reinforcing
以下実施例により、本発明をさらに具体的に説明する。なお、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. In addition, this invention is not limited to the following Example.
<測定方法>
(1)熱伝導率:ホットディスク法(京都電子工業株式会社)熱物性測定装置TPA−501(製品名)を使用して測定した。測定試料は以下のように作成した。シートを大きさ縦25mm×横25mmにカットしこれを4枚重ね合わせて1つのブロックとした。これを2個用意した。直径7mmのセンサ−を、用意したブロックで上下に挟み、冶具にセットした。冶具を挟むトルクは30N・cmでおこなった。なお自己粘着性のないシートも重ね合わせて1つのブロックとした。測定方法は、冶具にセットしたら風があたらないよう冶具付属の覆いをし、15分間安定化させ、その後測定した。
(2)ゴム硬度:JIS K 7312に従った。
(3)表面タック性:40mm×100mmのソルダーガラスの面に50mm×100mmの試料を貼り合せて1kgの重りをのせ1分間放置する。放置後に試料を貼り付けた面を下にしてガラス板を高さ130mm以上の固定台に乗せ、試料が落下するまでの時間を測定する。
(4)圧縮荷重:卓上荷重測定器(アイコーエンジニアリング株式会社) MODEL−1310NW(製品名)、ロードセルCAPACITY200kgfを使用して測定した。測定試料は以下のように作成した。1.0mmの厚みのシートを大きさ縦25mm×横25mmにカットし、縦27mm×横27mm×厚み4mmのアルミニウムプレート(表面アルマイト処理)2枚に挟み、測定器にセットし、0.2mm圧縮し測定した。
(5)引張り強さ、伸び:JIS K 6251(2号)/ASTM D 412
(6)裂き強さ:JIS K 6252(アングル)/ASTM D 624
<Measurement method>
(1) Thermal conductivity: It measured using the hot disk method (Kyoto Electronics Industrial Co., Ltd.) thermophysical property measuring apparatus TPA-501 (product name). The measurement sample was prepared as follows. The sheet was cut into a size of 25 mm in length × 25 mm in width, and four of them were overlapped to form one block. Two of these were prepared. A sensor having a diameter of 7 mm was sandwiched between prepared blocks and set on a jig. The torque between the jigs was 30 N · cm. A sheet without self-adhesiveness was also stacked to form one block. As for the measurement method, the cover attached to the jig was covered so as not to be exposed to wind when set on the jig, stabilized for 15 minutes, and then measured.
(2) Rubber hardness: According to JIS K 7312.
(3) Surface tackiness: A 50 mm × 100 mm sample is bonded to the surface of a 40 mm × 100 mm solder glass, and a 1 kg weight is placed on it and left for 1 minute. After leaving, the glass plate is placed on a fixed table having a height of 130 mm or more with the surface to which the sample is attached facing down, and the time until the sample falls is measured.
(4) Compressive load: Measured using a desktop load measuring instrument (Iko Engineering Co., Ltd.) MODEL-1310NW (product name) and load cell CAPACITY 200 kgf. The measurement sample was prepared as follows. Cut a sheet with a thickness of 1.0 mm into a size 25 mm long x 25 mm wide, sandwiched between two aluminum plates (surface anodized) 27 mm long x 27 mm wide x 4 mm thick, set in a measuring instrument, and compressed by 0.2 mm did.
(5) Tensile strength, elongation: JIS K 6251 (No. 2) / ASTM D 412
(6) Tear strength: JIS K 6252 (angle) / ASTM D 624
(実施例1)
<非粘着層>
L−ラクチド700質量部、DL−ラクチド300質量部、重合度10のポリグリセリン(ダイセル化学工業(株)、PGL:水酸基濃度850KOHmg/g)10質量部、開環重合触媒としてアルミニウムアセチルアセトナート1質量部を4つ口フラスコに仕込み、窒素雰囲気下、180℃で3時間加熱溶融させることにより開環反応とエステル化反応を行った。その後、残留ラクチドを減圧下留去させて重縮合反応しポリエステル樹脂を得た。得られたポリエステル樹脂は還元粘度0.55dl/g,水酸基濃度150eq/106g,ガラス転移温度48℃であった。
Example 1
<Non-adhesive layer>
700 parts by mass of L-lactide, 300 parts by mass of DL-lactide, 10 parts by mass of polyglycerol having a polymerization degree of 10 (Daicel Chemical Industries, PGL: hydroxyl group concentration 850 KOHmg / g), aluminum acetylacetonate 1 as a ring-opening polymerization catalyst A ring opening reaction and an esterification reaction were carried out by charging a mass part into a four-necked flask and heating and melting at 180 ° C. for 3 hours in a nitrogen atmosphere. Thereafter, residual lactide was distilled off under reduced pressure, and a polycondensation reaction was performed to obtain a polyester resin. The obtained polyester resin had a reduced viscosity of 0.55 dl / g, a hydroxyl group concentration of 150 eq / 10 6 g, and a glass transition temperature of 48 ° C.
厚み12μmの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、カルナバワックスをトルエンに溶解した1質量%溶液をグラビアコーターで塗布し、乾燥厚み0.1μmの離型層を形成した。次に、前記ポリエステル樹脂をメチルエチルケトン(MEK)50質量%/トルエン50質量%に溶解した。ポリエステル樹脂の濃度は20質量%とした。この溶液を前記離型層上にグラビアコーターで塗布し、乾燥厚み3.0μmとなるようにコーティングし、図1Aに示す非粘着層とした。 A 1% by mass solution of carnauba wax dissolved in toluene was applied on one side of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm with a gravure coater to form a release layer having a dry thickness of 0.1 μm. Next, the polyester resin was dissolved in 50% by mass of methyl ethyl ketone (MEK) / 50% by mass of toluene. The concentration of the polyester resin was 20% by mass. This solution was applied onto the release layer with a gravure coater and coated to a dry thickness of 3.0 μm to form a non-adhesive layer shown in FIG. 1A.
<未硬化シリコーンゴムコンパウンド>
シリコーン成分として二液室温硬化シリコーンゴム(二液RTV)はCF5036(東レダウコーニングシリコーン社製)商品名“CF5036”を使用した。なお、“CF5036”には本発明の(a)〜(c)成分が予め添加されている。(d)成分(熱伝導性粒子)としてアルミナをシリコーンゴム層100質量部に対して450質量部、水酸化アルミニウムをシリコーンゴム層100質量部に対して10質量部を混合してコンパウンドとした。
<Uncured silicone rubber compound>
As the silicone component, CF5036 (manufactured by Toray Dow Corning Silicone) “CF5036” was used as the two-component room temperature curing silicone rubber (two-component RTV). “CF5036” is pre-added with the components (a) to (c) of the present invention. As a component (d) (thermally conductive particles), 450 parts by mass of alumina with respect to 100 parts by mass of the silicone rubber layer and 10 parts by mass of aluminum hydroxide with respect to 100 parts by mass of the silicone rubber layer were mixed to obtain a compound.
<シリコーンゴム成形・硬化>
フッ素離型処理をしたPET保護フィルムに前記コンパウンドを流し込み、もう一枚の前記非粘着層を形成したフィルムで挟み、ロールで圧延して厚さ1〜3mmの未硬化シリコーンゴムシートを成形した。このとき非粘着層を未硬化シリコーンゴム層に向けて配置した。次いでフッ素離型処理をしたPET保護フィルムに金枠を置き、前記コンパウンドを流し込み、もう一枚の前記非粘着層を形成したフィルムで挟み、ロールで圧延して厚さ1〜3mmの未硬化シリコーンゴムシートを成形した。このとき非粘着層を未硬化シリコーンゴム層に向けて配置した。次いで100〜120℃、3〜10分硬化した。これにより厚さ1〜3mmのシリコーンゴムシートを成形した。
<Silicone rubber molding and curing>
The compound was poured into a PET protective film that had been subjected to a fluorine release treatment, sandwiched by another film having the non-adhesive layer formed thereon, and rolled with a roll to form an uncured silicone rubber sheet having a thickness of 1 to 3 mm. At this time, the non-adhesive layer was disposed toward the uncured silicone rubber layer. Next, a metal frame is placed on a PET protective film that has been subjected to a fluorine release treatment, the compound is poured into the film, sandwiched by another film having the non-adhesive layer formed thereon, rolled with a roll, and uncured silicone having a thickness of 1 to 3 mm. A rubber sheet was formed. At this time, the non-adhesive layer was disposed toward the uncured silicone rubber layer. Next, it was cured at 100 to 120 ° C. for 3 to 10 minutes. Thereby, a silicone rubber sheet having a thickness of 1 to 3 mm was formed.
得られたシリコーンゴムシートの熱伝導率は1.5W/m・K、ゴム硬度はASKER-C 32、表面タック性は1秒以下、圧縮荷重52N/cm2、引張り強さ0.3MPa、引裂き強さ1kN/m、伸びは100%であった。
The resulting silicone rubber sheet has a thermal conductivity of 1.5 W / m · K, a rubber hardness of ASKER-C 32, a surface tack of 1 second or less, a compressive load of 52 N / cm 2 , a tensile strength of 0.3 MPa, and a tear strength. 1kN / m, elongation was 100%.
(実施例2)
<非粘着層>
L−ラクチド240質量部、DL−ラクチド240質量部、カプロラクトン320質量部、重合度が10のポリグリセリン(ダイセル化学工業(株)、PGL:水酸基濃度850KOHmg/g)8質量部、開環重合触媒としてオクチル酸スズ0.1質量部を4口フラスコに加え、窒素雰囲気下、180℃で3時間加熱し開環反応とエステル化反応を行った。その後、残留ラクチドを減圧下留去させて重縮合反応しポリエステル樹脂を得た。得られたポリエステル樹脂は還元粘度0.57dl/g,水酸基濃度150eq/106g,ガラス転移温度-5℃であった。このポリエステル樹脂を非粘着層とするのは実施例1と同様に行った。
(Example 2)
<Non-adhesive layer>
240 parts by mass of L-lactide, 240 parts by mass of DL-lactide, 320 parts by mass of caprolactone, 8 parts by mass of polyglycerol having a polymerization degree of 10 (Daicel Chemical Industries, PGL: hydroxyl group concentration 850 KOHmg / g), ring-opening polymerization catalyst As described above, 0.1 part by mass of tin octylate was added to a four-necked flask and heated at 180 ° C. for 3 hours in a nitrogen atmosphere to perform a ring-opening reaction and an esterification reaction. Thereafter, residual lactide was distilled off under reduced pressure, and a polycondensation reaction was performed to obtain a polyester resin. The obtained polyester resin had a reduced viscosity of 0.57 dl / g, a hydroxyl group concentration of 150 eq / 10 6 g, and a glass transition temperature of -5 ° C. This polyester resin was used as the non-adhesive layer in the same manner as in Example 1.
未硬化シリコーンゴムコンパウンドの製造、シリコーンゴム成形・硬化は実施例1と同様に実施した。得られたシリコーンゴムシートの熱伝導率は1.5W/m・K、ゴム硬度はASKER-C 32、表面タック性は1秒以下、圧縮荷重52N/cm2、引張り強さ0.3MPa、引裂き強さ1kN/m、伸びは100%であった。
Production of uncured silicone rubber compound and molding / curing of silicone rubber were carried out in the same manner as in Example 1. The obtained silicone rubber sheet has a thermal conductivity of 1.5 W / m · K, a rubber hardness of ASKER-C 32, a surface tack of 1 second or less, a compressive load of 52 N / cm 2 , a tensile strength of 0.3 MPa, and tearing. The strength was 1 kN / m and the elongation was 100%.
(比較例1)
実施例1において、非粘着層を配置しなかった以外は同様に実験した。得られたシリコーンゴムシートの熱伝導率は1.5W/m・K、ゴム硬度はASKER-C 28、表面タック性は75秒、圧縮荷重54N/cm2、引張り強さ0.3MPa、引裂き強さ1kN/m、伸びは100%であった。
(Comparative Example 1)
In Example 1, it experimented similarly except not having arrange | positioned the non-adhesion layer. The resulting silicone rubber sheet has a thermal conductivity of 1.5 W / m · K, a rubber hardness of ASKER-C 28, a surface tack of 75 seconds, a compressive load of 54 N / cm 2 , a tensile strength of 0.3 MPa, and a tear strength. The thickness was 1 kN / m and the elongation was 100 % .
(比較例2)
実施例1において、非粘着層を、ケイ素原子に結合した水素原子を1分子中に少なくとも2個含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンとして、濃度10%のRD−1:東レダウコーニングシリコーン社製(実験番号1)と、濃度30%のRD−1:東レダウコーニングシリコーン社製(実験番号2)とした以外は同様に実験した。得られた実験番号1のシリコーンゴムシートの熱伝導率は1.5W/m・K、ゴム硬度はASKER-C 34、表面タック性は5秒、圧縮荷重64N/cm2、引張り強さ0.5MPa、引裂き強さ1kN/m、伸びは80%であった。実験番号2のシリコーンゴムシートの熱伝導率は1.5W/m・K、ゴム硬度はASKER-C 41、表面タック性は1秒、圧縮荷重70N/cm2、引張り強さ0.7MPa、引裂き強さ1kN/m、伸びは70%であった。
(Comparative Example 2)
In Example 1, the non-adhesive layer is an organohydrogenpolysiloxane containing at least two hydrogen atoms bonded to silicon atoms in one molecule. RD-1 having a concentration of 10%: manufactured by Toray Dow Corning Silicone (experiment No. 1) and RD-1 having a concentration of 30%: The same experiment was conducted except that they were made by Toray Dow Corning Silicone (Experiment No. 2). The obtained silicone rubber sheet of Experiment No. 1 has a thermal conductivity of 1.5 W / m · K, a rubber hardness of ASKER-C 34, a surface tack of 5 seconds, a compressive load of 64 N / cm 2 , and a tensile strength of 0. The tensile strength was 5 MPa, the tear strength was 1 kN / m, and the elongation was 80% . The thermal conductivity of the silicone rubber sheet of Experiment No. 2 is 1.5 W / m · K, the rubber hardness is ASKER-C 41, the surface tackiness is 1 second, the compressive load is 70 N / cm 2 , the tensile strength is 0.7 MPa, and tearing The strength was 1 kN / m and the elongation was 70%.
(実施例3)
実施例1において、図2に示すようにシリコーンゴム層の片面表層部であってかつ非粘着層の下に、さらにポリエステルメッシュ織物からなる補強層を埋設した。このメッシュ織物はムーンテクノ社製製品名“ナイロンメッシュ#3050”とした。得られたシリコーンゴムシートの熱伝導率は1.5/m・K、ゴム硬度はASKER-C 51、表面タック性は1秒以下、圧縮荷重85N/cm2、引張り強さ0.5MPa、引裂き強さ2kN/m、伸びは60%であった。実施例1で得られた製品に比べて寸法安定性が高かった。
(Example 3)
In Example 1, as shown in FIG. 2, a reinforcing layer made of a polyester mesh fabric was embedded under the non-adhesive layer on one side of the silicone rubber layer. This mesh fabric was named “Nylon Mesh # 3050” manufactured by Moon Techno Co., Ltd. The resulting silicone rubber sheet has a thermal conductivity of 1.5 / m · K, a rubber hardness of ASKER-C 51, a surface tack of 1 second or less, a compressive load of 85 N / cm 2 , a tensile strength of 0.5 MPa, and tearing. The strength was 2 kN / m and the elongation was 60% . Compared to the product obtained in Example 1, the dimensional stability was high.
1 基材フィルム
2 離型層
3 非粘着層
4 転写シート
5 保護フィルム
6 シリコーンゴム層
7a,7b 放熱シート
8 補強層
9 補強層入り放熱シート
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Base film 2 Release layer 3 Non-adhesion layer 4
Claims (9)
前記非粘着層は溶媒可溶型樹脂を含む薄膜であり、厚みは1μm以上10μm未満の範囲であり、
前記内層シリコーンゴム層の表面タック性を低減させていることを特徴とする放熱シート。 The inner layer is a silicone rubber layer, and at least one surface of the silicone rubber layer is a heat dissipation sheet in which a non-adhesive layer is disposed,
The non-adhesive layer is a thin film containing a solvent-soluble resin is in the range of less than the thickness Hiroyoshi 1μm or 10 [mu] m,
A heat dissipating sheet, wherein surface tackiness of the inner silicone rubber layer is reduced.
基材フィルムに溶媒可溶型樹脂を含む薄膜を形成しておき、
前記薄膜を未硬化シリコーンゴム層の少なくとも一表面に向けて基材フィルムごと配置し、片面配置の場合は他の表面に保護フィルムを配置し、
少なくとも一対のロール間を通すことにより圧延し、その後加熱して前記未硬化シリコーンゴム層を硬化することにより、シリコーンゴム層の少なくとも一表面に前記薄膜を転写し、前記シリコーンゴム層の表面タック性を低減させたことを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の放熱シートの製造方法。 The inner layer is a silicone rubber layer, and at least one surface of the silicone rubber layer is a method for manufacturing a heat dissipation sheet in which a non-adhesive layer is disposed,
A thin film containing a solvent-soluble resin is formed on the base film,
The base film is disposed with the thin film facing at least one surface of the uncured silicone rubber layer, and in the case of single-sided arrangement, a protective film is disposed on the other surface,
Rolling by passing between at least a pair of rolls, then heating to cure the uncured silicone rubber layer, transferring the thin film to at least one surface of the silicone rubber layer, surface tackiness of the silicone rubber layer The manufacturing method of the heat-radiation sheet according to any one of claims 1 to 6, wherein
(a) 1分子中に平均2個以上のケイ素原子に結合したアルケニル基を含有するオルガノポリシロキサン:100質量部
(b) 1分子中に平均2個以上のケイ素原子に結合した水素原子を含有するオルガノポリシロキサン:(a)成分中のケイ素原子結合アルケニル基1モルに対して、ケイ素原子結合水素原子が0.1〜10モルとなる量
(c) 白金系金属触媒:(a)成分に対して質量単位で0.01〜1000ppmとなる量
(d) 熱伝導性粒子:シリコーンゴム層100質量部に対して100〜3000質量部 The method for manufacturing a heat dissipation sheet according to claim 7, wherein the uncured silicone rubber has the following composition.
(a) Organopolysiloxane containing an alkenyl group bonded to two or more silicon atoms on average in one molecule: 100 parts by mass
(b) Organopolysiloxane containing hydrogen atoms bonded to two or more silicon atoms on average in one molecule: 0 moles of silicon-bonded hydrogen atoms per mole of silicon-bonded alkenyl groups in component (a) .1 to 10 mol
(c) Platinum-based metal catalyst: an amount that is 0.01 to 1000 ppm by mass with respect to component (a)
(d) Thermally conductive particles: 100 to 3000 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the silicone rubber layer
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